JP2000285528A

JP2000285528A - 光情報記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JP2000285528A
Application number: JP11084707A
Authority: JP
Inventors: Toshio Ishida; 寿男石田; Tomoyoshi Itaya; 知良板谷; Koichi Kawai; 晃一河合
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1999-03-26
Filing date: 1999-03-26
Publication date: 2000-10-13

Abstract

(57)【要約】【課題】色素廃液を色素溶液として再利用した際にも記
録再生特性の再現性を確保できるようにして、製造コス
トの低廉化を効率よく実現させる。【解決手段】スピンコート装置による基板に対する色素
溶液の塗布によってスピンコート装置の例えば飛散防止
壁４０４に付着した色素を洗い落とすために、飛散防止
壁４０４を洗浄槽６０２内に漬け込んで洗浄し、洗浄槽
６０２内の色素廃液６０４の色素濃度が色素溶液の塗布
処理で回収された色素廃液４５２の色素濃度以上となっ
た段階で、これら色素廃液を混合して混合色素廃液６０
６を得、その後、混合色素廃液６０６中の色素及び退色
防止剤の含有量を定量し、混合色素廃液６０６中の色素
及び退色防止剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防
止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整して
再生色素溶液６１４として再利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ光を用いて
情報の記録及び再生を行うことができるヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、レーザ光により１回限りの情報
の記録が可能な光情報記録媒体（光ディスク）として
は、追記型ＣＤ（いわゆるＣＤ−Ｒ）やＤＶＤ−Ｒなど
があり、従来のＣＤ（コンパクトディスク）の作製に比
べて少量のＣＤを手頃な価格でしかも迅速に市場に供給
できる利点を有しており、最近のパーソナルコンピュー
タなどの普及に伴ってその需要も増している。

【０００３】ＣＤ−Ｒ型の光情報記録媒体の代表的な構
造は、厚みが約１．２ｍｍの透明な円盤状基板上に有機
色素からなる記録層、金などの金属からなる光反射層、
更に樹脂製の保護層をこの順に積層したものである（例
えば特開平６−１５０３７１号公報参照）。

【０００４】また、ＤＶＤ−Ｒ型の光情報記録媒体は、
２枚の円盤状基板（厚みが約０．６ｍｍ）を各情報記録
面をそれぞれ内側に対向させて貼り合わせた構造を有
し、記録情報量が多いという特徴を有する。

【０００５】そして、これら光情報記録媒体への情報の
書き込み（記録）は、近赤外域のレーザ光（ＣＤ−Ｒで
は通常７８０ｎｍ付近、ＤＶＤ−Ｒでは６３５ｎｍ付近
の波長のレーザ光）を照射することにより行われ、色素
記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化（例えばピットの生
成）が生じて、その光学的特性を変えることにより情報
が記録される。

【０００６】一方、情報の読み取り（再生）も、通常、
記録用のレーザ光と同じ波長のレーザ光を照射すること
により行われ、色素記録層の光学的特性が変化した部位
（ピットの生成による記録部分）と変化しない部位（未
記録部分）との反射率の違いを検出することにより情報
が再生される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な光ディスクを製造する場合にスピンコート法が使用さ
れている。このスピンコート法は、回転している基板の
内周側に溶液を滴下し、遠心力により該溶液を外周側に
流延させて塗膜を形成すると共に、その余分の溶液を基
板の外周縁部から振り切り、その周囲に放出させ、次い
で、塗膜から溶剤を乾燥除去する処理を含む薄膜形成法
の一種である。

【０００８】光ディスクを安価に提供するために、コス
トを下げて製造することが重要である。そのためには、（１）安価な原料を使用すること。（２）製造の歩留まりを上げること。（３）製造スピードを上げること。が重要となってくる。

【０００９】その中で、（１）については、原料の価格
をこれ以上安価にするのは困難な状況にあり、新しい方
法を検討する必要がある。

【００１０】そこで、着目される方法として、スピンコ
ート法による塗布処理において排出される廃液を再利用
する方法がある。即ち、スピンコート法によって実際に
基板上に塗布される量は、吐出量の約２割であり、残り
が廃液だめに溜まる。これを再利用できれば、製造コス
トを大幅に低減することができる。

【００１１】本発明はこのような課題を考慮してなされ
たものであり、色素廃液を色素溶液として再利用しても
記録再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化
を効率よく実現させることができる光情報記録媒体の製
造方法を提供することを目的とする。

【００１２】また、本発明の他の目的は、前記条件に加
えて、色素廃液の回収率を向上させることができ、生産
効率の向上を図ることができる光情報記録媒体の製造方
法を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に、レ
ーザ光の照射により情報を記録することができる色素記
録層を有するヒートモード型の光情報記録媒体の製造方
法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層
を形成するための色素溶液を前記基板上に塗布する塗布
工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する
回収工程と、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した
色素を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された
色素廃液の色素濃度が前記回収工程で回収された前記色
素溶液の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液
を混合する混合工程とを含み、前記混合工程で得られた
混合色素廃液を色素溶液として再利用することを特徴と
する。

【００１４】即ち、洗浄工程で回収された色素廃液と色
素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液（回収工程で
回収された色素廃液）とを混合して混合色素廃液とし、
この混合色素廃液を色素溶液として再利用するため、色
素廃液の回収率を大幅に増加させることができ、生産効
率の向上を図ることができる。

【００１５】特に、洗浄工程で回収された色素廃液の色
素濃度が前記回収工程で回収された前記色素溶液の色素
濃度以上となった段階で、これら色素廃液を混合するよ
うにしているため、工程内の不純物の混入を防ぐことが
でき、混合色素廃液を色素溶液として再利用しても記録
再生特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効
率よく実現させることができる。

【００１６】前記洗浄工程としては、前記基板上に色素
溶液を塗布するための装置を洗浄槽を使用して洗浄する
処理を含むようにしてもよい。この場合、漬け込み洗い
が好ましい。装置に付着した色素を洗浄槽に漬け込んで
洗浄することにより、洗浄槽内に色素廃液が溜まり、効
率よく色素廃液を得ることができる。前記洗浄槽への色
素の漬け込み時間は１０分以上がよく、好ましくは３０
分以上がよい。

【００１７】また、前記製造方法において、前記色素溶
液に色素と退色防止剤が含有する場合に、前記混合色素
廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定量する工程
と、前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の濃度
を、前記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁
以上の精度で一致するように調整する工程とを含むよう
にしてもよい。これにより、混合色素廃液を色素溶液と
して再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保する
ことができる。

【００１８】この場合、前記混合色素廃液中の色素及び
退色防止剤の定量を液体クロマトグラフィで行うことが
好ましく、前記液体クロマトグラフィでの検量精度は３
桁以上であることが好ましい。

【００１９】更に、前記混合色素廃液を光の透過しない
密閉容器で保管することが好ましい。この場合、前記混
合色素廃液の保管中でのクリーン度をクラス５０万以
下、好ましくはクラス２０万以下にするとよい。

【００２０】前記基板上に形成された前記色素溶液の塗
膜のうち、前記基板の外周縁部に対応する部分を除去す
るエッジ洗浄工程を含む場合は、エッジ洗浄時の廃液を
前記色素廃液と分離することが好ましい。

【００２１】また、前記基板上に形成された前記色素溶
液の塗膜のうち、前記基板の裏面に付着した塗膜を除去
する裏面洗浄工程を含む場合は、裏面洗浄時の廃液を前
記色素廃液と分離することが好ましい。

【００２２】エッジ洗浄時の廃液と裏面洗浄時の廃液を
色素廃液と分離することにより、工程内の不純物の混入
を防ぐことができ、混合色素廃液を色素溶液として再利
用した際にも記録再生特性の再現性を確保することがで
きる。

【００２３】また、前記色素溶液を塗布する際の排気風
速を１ｍ／ｓ以下、好ましくは０．７ｍ／ｓ以下、更に
好ましくは０．４ｍ／ｓ以下がよい。これにより、基板
上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、色素廃
液の回収率を向上させることができる。

【００２４】前記基板上に色素溶液を塗布して前記色素
記録層を形成する際に、前記色素溶液の吐出量を０．３
ｃｃ〜５ｃｃとすることが好ましく、更に好ましくは
０．５ｃｃ〜２ｃｃである。

【００２５】前記色素溶液を塗布する際の温度は１０℃
〜５０℃の範囲が適当であり、好ましくは１５℃〜３５
℃の範囲、更に好ましくは２０〜２５℃の範囲である。

【００２６】前記色素溶液を塗布する際の湿度は２５％
ＲＨ〜６５％ＲＨの範囲が適当であり、好ましくは３５
％ＲＨ〜６０％ＲＨの範囲、更に好ましくは４５％ＲＨ
〜５５％ＲＨの範囲である。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る光情報記録媒
体の製造方法を例えばＣＤ−Ｒ等の光ディスクを製造す
るシステムに適用した実施の形態例（以下、単に実施の
形態に係る製造システムと記す）を図１〜図１８を参照
しながら説明する。

【００２８】本実施の形態に係る製造システム１０は、
図１に示すように、例えば射出成形、圧縮成形又は射出
圧縮成形によって基板を作製する２つの成形設備（第１
及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ）と、基板の一主
面上に色素塗布液を塗布して乾燥させることにより、該
基板上に色素記録層を形成する塗布設備１４と、基板の
色素記録層上に光反射層を例えばスパッタリングにより
形成し、その後、光反射層上にＵＶ硬化液を塗布した
後、ＵＶ照射して前記光反射層上に保護層を形成する後
処理設備１６とを有して構成されている。

【００２９】第１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形、圧縮
成形又は射出圧縮成形して、一主面にトラッキング用溝
又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）が形
成された基板を作製する成形機２０と、該成形機２０か
ら取り出された基板を冷却する冷却部２２と、冷却後の
基板を段積みして保管するためのスタックポール２４が
複数本設置された集積部２６（スタックポール回転台）
とを有する。

【００３０】塗布設備１４は、３つの処理部３０、３２
及び３４から構成され、第１の処理部３０には、前記第
１及び第２の成形設備１２Ａ及び１２Ｂから搬送された
スタックポール２４を収容するためのスタックポール収
容部４０と、該スタックポール収容部４０に収容された
スタックポール２４から１枚ずつ基板を取り出して次工
程に搬送する第１の搬送機構４２と、該第１の搬送機構
４２によって搬送された１枚の基板に対して静電気の除
去を行う静電ブロー機構４４とを有する。

【００３１】第２の処理部３２は、第１の処理部３０に
おいて静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送
する第２の搬送機構４６と、該第２の搬送機構４６によ
って搬送された複数の基板に対してそれぞれ色素塗布液
を塗布する色素塗布機構４８と、色素塗布処理を終えた
基板を１枚ずつ次工程に搬送する第３の搬送機構５０と
を有する。この色素塗布機構４８は６つのスピンコート
装置５２を有して構成されている。

【００３２】第３の処理部３４は、前記第３の搬送機構
５０にて搬送された１枚の基板の裏面を洗浄する裏面洗
浄機構５４と、裏面洗浄を終えた基板を次工程に搬送す
る第４の搬送機構５６と、該第４の搬送機構５６によっ
て搬送された基板に対してロット番号等の刻印を行う番
号付与機構５８と、ロット番号等の刻印を終えた基板を
次工程に搬送する第５の搬送機構６０と、該第５の搬送
機構６０によって搬送された基板に対して欠陥の有無並
びに色素記録層の膜厚の検査を行う検査機構６２と、該
検査機構６２での検査結果に応じて基板を正常品用のス
タックポール６４あるいはＮＧ用のスタックポール６６
に選別する選別機構６８とを有する。

【００３３】第１の処理部３０と第２の処理部３２との
間に第１の仕切板７０が設置され、第２の処理部３２と
第３の処理部３４にも同様の第２の仕切板７２が設置さ
れている。第１の仕切板７０の下部には、第２の搬送機
構４６による基板の搬送経路を塞がない程度の開口（図
示せず）が形成され、第２の仕切板７２の下部には、第
３の搬送機構５０による基板の搬送経路を塞がない程度
の開口（図示せず）が形成されている。

【００３４】後処理設備１６は、塗布設備１４から搬送
された正常品用のスタックポール６４を収容するための
スタックポール収容部８０と、該スタックポール収容部
８０に収容されたスタックポール６４から１枚ずつ基板
を取り出して次工程に搬送する第６の搬送機構８２と、
該第６の搬送機構８２によって搬送された１枚の基板に
対して静電気の除去を行う第１の静電ブロー機構８４
と、静電ブロー処理を終えた基板を次工程に順次搬送す
る第７の搬送機構８６と、該第７の搬送機構８６によっ
て搬送された基板の一主面に光反射層をスパッタリング
にて形成するスパッタ機構８８と、光反射層のスパッタ
リングを終えた基板を次工程に順次搬送する第８の搬送
機構９０と、該第８の搬送機構９０によって搬送された
基板の周縁（エッジ部分）を洗浄するエッジ洗浄機構９
２とを有する。

【００３５】また、この後処理設備１６は、エッジ洗浄
を終えた基板に対して静電気の除去を行う第２の静電ブ
ロー機構９４と、静電ブロー処理を終えた基板の一主面
に対してＵＶ硬化液を塗布するＵＶ硬化液塗布機構９６
と、ＵＶ硬化液の塗布を終えた基板を高速に回転させて
基板上のＵＶ硬化液の塗布厚を均一にするスピン機構９
８と、ＵＶ硬化液の塗布及びスピン処理を終えた基板に
対して紫外線を照射することによりＵＶ硬化液を硬化さ
せて基板の一主面に保護層を形成するＵＶ照射機構１０
０と、前記基板を第２の静電ブロー機構９４、ＵＶ硬化
液塗布機構９６、スピン機構９８及びＵＶ照射機構１０
０にそれぞれ搬送する第９の搬送機構１０２と、ＵＶ照
射された基板を次工程に搬送する第１０の搬送機構１０
４と、該第１０の搬送機構１０４によって搬送された基
板に対して塗布面と保護層面の欠陥を検査するための欠
陥検査機構１０６と、基板に形成されたグルーブによる
信号特性を検査するための特性検査機構１０８と、これ
ら欠陥検査機構１０６及び特性検査機構１０８での検査
結果に応じて基板を正常品用のスタックポール１１０あ
るいはＮＧ用のスタックポール１１２に選別する選別機
構１１４とを有する。

【００３６】ここで、１つのスピンコート装置５２の構
成について図２〜図６を参照しながら説明する。

【００３７】このスピンコート装置５２は、図２及び図
３に示すように、塗布液付与装置４００、スピナーヘッ
ド装置４０２及び飛散防止壁４０４を有して構成されて
いる。塗布液付与装置４００は、塗布液が充填された加
圧タンク（図示せず）と、該加圧タンクからノズル４０
６に引き回されたパイプ（図示せず）と、ノズル４０６
から吐出される塗布液の量を調整するための吐出量調整
バルブ４０８とを有し、塗布液は前記ノズル４０６を通
してその所定量が基板２０２の表面上に滴下されるよう
になっている。この塗布液付与装置４００は、ノズル４
０６を下方に向けて支持する支持板４１０と該支持板４
１０を水平方向に旋回させるモータ４１２とを有するハ
ンドリング機構４１４によって、待機位置から基板２０
２の上方の位置に旋回移動できるように構成されてい
る。

【００３８】スピナーヘッド装置４０２は、前記塗布液
付与装置４００の下方に配置されており、着脱可能な固
定具４２０により、基板２０２が水平に保持されると共
に、駆動モータ（図示せず）により軸回転が可能とされ
ている。

【００３９】スピナーヘッド装置４０２により水平に保
持された状態で回転している基板２０２上に、上記の塗
布液付与装置４００のノズル４０６から滴下した塗布液
は、基板２０２の表面上を外周側に流延する。そして、
余分の塗布液は基板２０２の外周縁部で振り切られ、そ
の外側に放出され、次いで塗膜が乾燥されることによ
り、基板２０２の表面上に塗膜（色素記録層２０４）が
形成される。

【００４０】飛散防止壁４０４は、基板２０２の外周縁
部から外側に放出された余分の塗布液が周辺に飛散する
のを防止するために設けられており、上部に開口４２２
が形成されるようにスピナーヘッド装置４０２の周囲に
配置されている。飛散防止壁４０４を介して集められた
余分の塗布液、即ち、色素廃液はドレイン４２４を通し
て回収容器４５０に回収されるようになっている。色素
廃液の回収後の処理については後で詳述する。

【００４１】また、第２の処理部３２（図１参照）にお
ける各スピンコート装置５２の局所排気は、前記飛散防
止壁４０４の上方に形成された開口４２２から取り入れ
た空気を基板２０２の表面上に流通させた後、各スピナ
ーヘッド装置４０２の下方に取り付けられた排気管４２
６を通じて排気されるようになっている。このときの排
気風速は１ｍ／ｓ以下に設定している。

【００４２】塗布液付与装置４００のノズル４０６は、
図４及び図５に示すように、軸方向に貫通孔４３０が形
成された細長い円筒状のノズル本体４３２と、該ノズル
本体４３２を支持板４１０（図３参照）に固定するため
の取付部４３４を有する。ノズル本体４３２は、その先
端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又は内
側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表面を
有する。このフッ素化合物としては、例えばポリテトラ
フルオロエチレンやポリテトラフルオロエチレン含有物
等を使用することができる。

【００４３】この実施の形態で用いられる好ましいノズ
ル４０６の例としては、例えば、図５に示すように、ノ
ズル本体４３２の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上
の範囲をフッ素化合物を用いて形成したノズル４０６
や、図６に示すように、ノズル本体４３２の先端面４４
０及びその先端面４４０から１ｍｍ以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面４４２及び４４４をフッ素
化合物を用いて被覆したノズル４０６を挙げることがで
きる。

【００４４】ノズル本体４３２の先端面及びその先端面
から１ｍｍ以上の範囲をフッ素化合物で形成する場合、
強度などを考慮すると、実用的には、例えばノズル本体
４３２をステンレススチールで形成し、その先端面及び
その先端面から最大で５ｍｍの範囲をフッ素化合物で形
成することが好ましい。

【００４５】また、図６に示すように、ノズル本体４３
２の先端面４４０及びその先端面４４０から１ｍｍ以上
の範囲の外側又は内側、あるいは両方の壁面４４２及び
４４４をフッ素化合物で被覆する場合、ノズル本体４３
２の先端面４４０から１０ｍｍ以上、更に好ましくは、
ノズル本体４３２の全領域をフッ素化合物で被覆するこ
とが好ましい。被覆する場合のその厚みは、特に制限は
ないが、５〜５００μｍの範囲が適当である。また、ノ
ズル本体４３２の材質としては、上記のように、ステン
レススチールが好ましい。ノズル本体４３２に形成され
た貫通孔４３０の径は一般に０．５〜１．０ｍｍの範囲
である。

【００４６】次に、この製造システム１０によって光デ
ィスクＤを製造する過程について図７Ａ〜図８Ｂの工程
図をも参照しながら説明する。

【００４７】まず、第１及び第２の成形設備１２Ａ及び
１２Ｂにおける成形機２０において、ポリカーボネート
などの樹脂材料が射出成形、圧縮成形又は射出圧縮成形
されて、図７Ａに示すように、一主面にトラッキング用
溝又はアドレス信号等の情報を表す凹凸（グルーブ）２
００が形成された基板２０２が作製される。

【００４８】前記基板２０２の材料としては、例えばポ
リカーボネート、ポリメタルメタクリレート等のアクリ
ル樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化
ビニル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフ
ィン及びポリエステルなどを挙げることができ、所望に
よりそれらを併用してもよい。上記の材料の中では、耐
湿性、寸法安定性及び価格などの点からポリカーボネー
トが好ましい。また、グルーブ２００の深さは、０．０
１〜０．３μｍの範囲であることが好ましく、その半値
幅は、０．２〜０．９μｍの範囲であることが好まし
い。

【００４９】成形機２０から取り出された基板２０２
は、後段の冷却部２２において冷却された後、一主面が
下側に向けられてスタックポール２４に積載される。ス
タックポール２４に所定枚数の基板２０２が積載された
段階で、スタックポール２４はこの成形設備１２Ａ及び
１２Ｂから取り出されて、次の塗布設備１４に搬送さ
れ、該塗布設備１４におけるスタックポール収容部４０
に収容される。この搬送は、台車で行ってもよいし、自
走式の自動搬送装置で行うようにしてもよい。

【００５０】スタックポール２４がスタックポール収容
部４０に収容された段階で、第１の搬送機構４２が動作
し、スタックポール２４から１枚ずつ基板２０２を取り
出して、後段の静電ブロー機構４４に搬送する。静電ブ
ロー機構４４に搬送された基板２０２は、該静電ブロー
機構４４において静電気が除去された後、第２の搬送機
構４６を介して次の色素塗布機構４８に搬送され、６つ
のスピンコート装置５２のうち、いずれか１つのスピン
コート装置５２に投入される。スピンコート装置５２に
投入された基板２０２は、その一主面上に色素塗布液が
塗布された後、高速に回転されて塗布液の厚みが均一に
された後、乾燥処理が施される。これによって、図７Ｂ
に示すように、基板２０２の一主面上に色素記録層２０
４が形成されることになる。

【００５１】即ち、スピンコート装置５２に投入された
基板２０２は、図２に示すスピナーヘッド装置４０２に
装着され、固定具４２０により水平に保持される。次
に、加圧式タンクから供給された塗布液は、吐出量調整
バルブ４０８によって所定量が調整され、基板２０２上
の内周側にノズル４０６を通して滴下される。

【００５２】このノズル４０６は、上述したように、そ
の先端面及びその先端面から１ｍｍ以上の範囲の外側又
は内側、あるいは両方の壁面がフッ素化合物からなる表
面を有しているため、塗布液の付着が生じにくく、ま
た、これが乾燥して色素の析出やその堆積物が生じにく
く、従って、塗膜を塗膜欠陥などの障害を伴うことなく
スムーズに形成させることができる。

【００５３】なお、塗布液としては色素を適当な溶剤に
溶解した色素溶液が用いられる。塗布液中の色素の濃度
は一般に０．０１〜１５重量％の範囲であり、好ましく
は０．１〜１０重量％の範囲、特に好ましくは０．５〜
５重量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３重量％の範
囲である。

【００５４】スピナーヘッド装置４０２は駆動モータに
よって高速回転が可能である。基板２０２上に滴下され
た塗布液は、スピナーヘッド装置４０２の回転により、
基板２０２の表面上を外周方向に流延し、塗膜を形成し
ながら基板２０２の外周縁部に到達する。外周縁部に達
した余分の塗布液は、更に遠心力により振り切られ、基
板２０２の縁部の周囲に飛散する。飛散した余分の塗布
液は飛散防止壁４０４に衝突し、更にその下方に設けら
れた受皿に集められた後、ドレイン４２４を通して回収
される。塗膜の乾燥はその形成過程及び塗膜形成後に行
われる。塗膜（色素記録層２０４）の厚みは、一般に２
０〜５００ｎｍの範囲であり、好ましくは５０〜３００
ｎｍの範囲に設けられる。

【００５５】色素記録層２０４に用いられる色素は特に
限定されない。使用可能な色素の例としては、シアニン
系色素、フタロシアニン系色素、イミダゾキノキサリン
系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素、アズレ
ニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなど
の金属錯塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノ
ン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリン系
色素、トリフェニルメタン系色素、メロシアニン系色
素、オキソノール系色素、アミニウム系・ジインモニウ
ム系色素及びニトロソ化合物を挙げることができる。こ
れらの色素のうちでは、シアニン系色素が好ましく、ベ
ンゾインドレニン色素がより好ましく、下記一般式
（１）で示される色素が特に好ましい。

【００５６】

【化１】

【００５７】一般式（１）のＲ¹は１価の置換基を示
す。１価の置換基としては、置換又は無置換のアルキル
基が好ましい。アルキル基は、炭素原子数１〜１８のア
ルキル基が好ましく、炭素原子数１〜１２のアルキル基
がより好ましく、炭素原子数１〜４のアルキル基が特に
好ましい。

【００５８】また、アルキル基は直鎖でも分岐でもよ
く、置換基としては、フッ素原子、塩素原子等のハロゲ
ン原子；メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基；メ
チルチオ基、メチルチオ基等のアルキルチオ基；アセチ
ル基等のアシル基；ヒドロキシ基；エトキシカルボニル
基等のアルコキシカルボニル基；ビニル基等のアルケニ
ル基；フェニル基等のアリール基等が挙げられる。

【００５９】一般式（１）のＲ²及びＲ³は、それぞれ
独立に１価の置換基を示す。１価の置換基としては、置
換又は無置換のアルキル基が好ましい。アルキル基は、
炭素原子数１〜４のアルキル基が好ましく、メチル基、
エチル基が特に好ましい。Ｒ ²とＲ³とは互いに結合し
て環を形成していてもよい。

【００６０】一般式（１）のＲ⁴は、１価の置換基を示
す。１価の置換基としては、水素原子、炭素数１〜１６
のアルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好まし
く、メチル基、エチル基及びベンジル基がより好まし
く、メチル基が特に好ましい。

【００６１】一般式（１）のＸ^n-は、陰イオンを示し、
ｎは１、２又は３を表す。陰イオンとしては、ハライド
イオン、スルホネートイオン、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、
ＳｂＦ₅ ^-、金属錯体イオン、リン酸イオンを挙げるこ
とができる。この中でも、２価の陰イオン（ｎ＝２）が
好ましく、下記一般式（２）で表される２価の陰イオン
が特に好ましい。

【００６２】

【化２】

【００６３】一般式（２）のＲ⁵〜Ｒ¹⁰は、それぞれ独
立に１価の置換基を示す。１価の置換基としては、水素
原子、アルキル基、ハロゲン原子、アラルキル基が好ま
しく、水素原子、炭素原子数８以下のアルキル基がより
好ましく、メチル基が特に好ましい。

【００６４】色素記録層２０４を形成するための塗布剤
の溶剤の例としては、酢酸ブチル、セロソルブアセテー
トなどのエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；ジクロル
メタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルムなどの
塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミドなどのアミド；
シクロヘキサンなどの炭化水素；テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサンなどのエーテル；エタノー
ル、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノ
ール、ジアセトンアルコールなどのアルコール；２，
２，３，３−テトラフロロ−１−プロパノールなどのフ
ッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、
エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル
類などを挙げることができる。

【００６５】前記溶剤は使用する色素の溶解性を考慮し
て単独または二種以上を適宜併用することができる。好
ましくは、２，２，３，３−テトラフロロ−１−プロパ
ノールなどのフッ素系溶剤である。なお、塗布液中に
は、所望により退色防止剤や結合剤を添加してもよい
し、更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、そして潤滑
剤など各種の添加剤を、目的に応じて添加してもよい。

【００６６】退色防止剤の代表的な例としては、ニトロ
ソ化合物、金属錯体、ジインモニウム塩、アミニウム塩
を挙げることができる。これらの例は、例えば、特開平
２−３００２８８号、同３−２２４７９３号、及び同４
−１４６１８９号等の各公報に記載されている。

【００６７】この実施の形態においては、下記一般式
（３）で示される退色防止剤が好ましい。

【００６８】

【化３】

【００６９】一般式（３）のＲ¹¹、Ｒ¹²はそれぞれ独立
の水素原子又は１価の置換基を表す。

【００７０】Ｒ¹¹及びＲ¹²で示される置換基は、ハロゲ
ン原子、又は炭素原子、酸素原子、窒素原子又は硫黄原
子が組み合わせてなる置換基であり、具体的には、アル
キル基、アルケニル基、アラルキル基、アリール基、ヘ
テロ環基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、メルカ
プト基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルオキシ
基、アミノ基、アルキルアミノ基、アミド基、スルホン
アミド基、スルファモイルアミノ基、アルコキシカルボ
ニルアミノ基、アルコキシスルホニルアミノ基、ウレイ
ド基、チオウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニ
ル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アルキ
ルスルフィニル基、スルファモイル基、カルボキシル基
（塩を含む）、スルホ基（塩を含む）を挙げることがで
きる。これらは、更に、これらの置換基で置換されてい
てもよい。

【００７１】Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、それぞれ独立に水素原子、
炭素数１〜６のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、
炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキル
チオ基、炭素数１〜６のアミド基、炭素数１〜６のスル
ホンアミド基、炭素数１〜６のウレイド基、炭素数１〜
６のアシル基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル
基、炭素数１〜６のカルバモイル基、炭素数１〜６のア
ルキルスルホニル基、炭素数１〜６のアルキルスルフィ
ニル基が好ましく、原子炭素数４以下のアルコキシ基が
より好ましく、メトキシ基、エトキシ基が特に好まし
い。

【００７２】結合剤の例としては、ゼラチン、セルロー
ス誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機
高分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・
ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリ
ル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹
脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポ
キシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・
ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物な
どの合成有機高分子を挙げることができる。

【００７３】結合剤を使用する場合に、結合剤の使用量
は、色素１００重量部に対して、一般に２０重量部以下
であり、好ましくは１０重量部以下、更に好ましくは５
重量部以下である。

【００７４】色素記録層２０４の厚みは、一般に２０〜
５００ｎｍの範囲、好ましくは５０〜３００ｎｍの範囲
に設けられる。

【００７５】なお、色素記録層２０２が設けられる側の
基板表面には、平面性の改善、接着力の向上及び色素記
録層２０４の変質防止などの目的で、下塗層が設けられ
てもよい。

【００７６】下塗層の材料としては例えば、ポリメチル
メタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、
スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコ
ール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニ
ルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、
ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフ
ィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビ
ニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子
物質、およびシランカップリング剤などの表面改質剤を
挙げることができる。

【００７７】下塗層は、前記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調整した後、この塗布液をスピン
コート、ディップコート、エクストルージョンコートな
どの塗布法を利用して基板表面に塗布することにより形
成することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５
〜２０μｍの範囲、好ましくは０．０１〜１０μｍの範
囲に設けられる。

【００７８】色素記録層２０４が形成された基板２０２
は、第３の搬送機構５０を介して次の裏面洗浄機構５４
に搬送され、基板２０２の一主面の反対側の面（裏面）
が洗浄される。その後、基板２０２は、第４の搬送機構
５６を介して次の番号付与機構５８に搬送され、基板２
０２の一主面又は裏面に対してロット番号等の刻印が行
われる。

【００７９】その後、基板２０２は、第５の搬送機構６
０を介して次の検査機構６２に搬送され、基板２０２の
欠陥の有無や色素記録層２０４の膜厚の検査が行われ
る。この検査は、基板２０２の裏面から光を照射してそ
の光の透過状態を例えばＣＣＤカメラで画像処理するこ
とによって行われる。この検査機構６２での検査結果は
次の選別機構６８に送られる。

【００８０】上述の検査処理を終えた基板２０２は、そ
の検査結果に基づいて選別機構６８によって正常品用の
スタックポール６４か、ＮＧ用のスタックポール６６に
搬送選別される。

【００８１】正常品用のスタックポール６４に所定枚数
の基板２０２が積載された段階で、正常品用のスタック
ポール６４はこの塗布設備１４から取り出されて、次の
後処理設備１６に搬送され、該後処理設備１６のスタッ
クポール収容部８０に収容される。この搬送は、台車で
行ってもよいし、自走式の自動搬送装置で行うようにし
てもよい。

【００８２】正常品用のスタックポール６４がスタック
ポール収容部８０に収容された段階で、第６の搬送機構
８２が動作し、スタックポール６４から１枚ずつ基板２
０２を取り出して、後段の第１の静電ブロー機構８４に
搬送する。第１の静電ブロー機構８４に搬送された基板
２０２は、該第１の静電ブロー機構８４において静電気
が除去された後、第７の搬送機構８６を介して次のスパ
ッタ機構８８に搬送される。スパッタ機構８８に投入さ
れた基板２０２は、図７Ｃに示すように、その一主面
中、周縁部分（エッジ部分）２０６を除く全面に光反射
層２０８がスパッタリングによって形成される。

【００８３】光反射層２０８の材料である光反射性物質
はレーザ光に対する反射率が高い物質であり、その例と
しては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、
Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａ
ｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔ
ｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属ある
いはステンレス鋼を挙げることができる。

【００８４】これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎ
ｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼で
ある。これらの物質は単独で用いてもよいし、あるいは
二種以上を組み合わせて用いてもよい。または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｇもしくはその合金
である。

【００８５】光反射層２０８は、例えば、前記光反射性
物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティン
グすることにより記録層の上に形成することができる。
反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲、
好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好ましくは５
０〜３００ｎｍの範囲に設けられる。

【００８６】光反射層２０８が形成された基板２０２
は、第８の搬送機構９０を介して次のエッジ洗浄機構９
２に搬送され、図８Ａに示すように、基板２０２の一主
面中、エッジ部分２０６が洗浄されて、該エッジ部分２
０６に形成されていた色素記録層２０４が除去される。
その後、基板２０２は、第９の搬送機構１０２を介して
次の第２の静電ブロー機構９４に搬送され、静電気が除
去される。

【００８７】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介してＵＶ硬化液塗布機構９６に搬送
され、基板２０２の一主面の一部分にＵＶ硬化液が滴下
される。その後、基板２０２は、同じく前記第９の搬送
機構１０２を介して次のスピン機構９８に搬送され、高
速に回転されることにより、基板２０２上に滴下された
ＵＶ硬化液の塗布厚が基板全面において均一にされる。

【００８８】この実施の形態においては、前記光反射層
の成膜後から前記ＵＶ硬化液の塗布までの時間が２秒以
上、５分以内となるように時間管理されている。

【００８９】その後、基板２０２は、同じく前記第９の
搬送機構１０２を介して次のＵＶ照射機構１００に搬送
され、基板２０２上のＵＶ硬化液に対して紫外線が照射
される。これによって、図８Ｂに示すように、基板２０
２の一主面上に形成された色素記録層２０４と光反射層
２０８を覆うようにＵＶ硬化樹脂による保護層２１０が
形成されて光ディスクＤとして構成されることになる。

【００９０】保護層２１０は、色素記録層２０４などを
物理的及び化学的に保護する目的で光反射層２０８上に
設けられる。保護層２１０は、基板２０２の色素記録層
２０４が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高め
る目的で設けることもできる。保護層２１０で使用され
る材料としては、例えば、ＳｉＯ、ＳｉＯ₂、Ｍｇ
Ｆ ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄等の無機物質、及び熱可塑
性樹脂、熱硬化性樹脂、そしてＵＶ硬化性樹脂等の有機
物質を挙げることができる。

【００９１】保護層２１０は、例えば、プラスチックの
押出加工で得られたフイルムを接着剤を介して光反射層
２０８上及び／または基板２０２上にラミネートするこ
とにより形成することができる。あるいは真空蒸着、ス
パッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。
また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これら
を適当な溶剤に溶解して塗布液を調整したのち、この塗
布液を塗布し、乾燥することによっても形成することが
できる。

【００９２】ＵＶ硬化性樹脂の場合には、上述したよう
に、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調
整したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化
させることによって形成することができる。これらの塗
布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤
等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層
２１０の層厚は一般には０．１〜１００μｍの範囲で設
けられる。

【００９３】その後、光ディスクＤは、第１０の搬送機
構１０４を介して次の欠陥検査機構１０６と特性検査機
構１０８に搬送され、色素記録層２０４の面と保護層２
１０の面における欠陥の有無や光ディスクＤの基板２０
２に形成されたグルーブ２００による信号特性が検査さ
れる。これらの検査は、光ディスクＤの両面に対してそ
れぞれ光を照射してその反射光を例えばＣＣＤカメラで
画像処理することによって行われる。これらの欠陥検査
機構１０６及び特性検査機構１０８での各検査結果は次
の選別機構１１４に送られる。

【００９４】上述の欠陥検査処理及び特性検査処理を終
えた光ディスクＤは、各検査結果に基づいて選別機構１
１４によって正常品用のスタックポール１１０か、ＮＧ
用のスタックポール１１２に搬送選別される。

【００９５】正常品用のスタックポール１１０に所定枚
数の光ディスクＤが積載された段階で、該スタックポー
ル１１０が後処理設備１６から取り出されて図示しない
ラベル印刷工程に投入される。

【００９６】また、本実施の形態に係る製造システム１
０は、図１に示すように、塗布設備１４の第２の処理部
３２と並行して空調システム３００が設置されると共
に、図９及び図１０に示すように、第１の処理部３０と
第３の処理部３４の各天井にそれぞれ高性能充填層フィ
ルタ（ＨＥＰＡフィルタ）７００及び７０２を介して空
調機７０４及び７０６が設置されている。

【００９７】空調機７０４及び７０６は、第１及び第３
の処理部３０及び３４に対してそれぞれ清浄な空気を送
り込むことにより、第１及び第３の処理部３０及び３４
内の温度をコントロールできるようになっている。

【００９８】塗布設備１４と並行して設けられる空調シ
ステム３００は、図９及び図１４に示すように、前記塗
布設備１４に対して清浄な空気ｃａを送り込む空気調和
機３０２と、外気ｅａを取り入れて除湿を行い、一次空
気ａ１として出力する除湿機３０４と、塗布設備１４か
らの一部の排気（局所排気）ｄａを上位の排気系統に送
る排気装置３０６（図１２参照）とを有して構成されて
いる。前記局所排気ｄａとしては、例えば塗布設備１４
の色素塗布機構４８における６つのスピンコート装置５
２からの排気が挙げられる。

【００９９】一方、前記空調システム３００は、図９及
び図１０に示すように、除湿機３０４と空気調和機３０
２との間に、除湿機３０４から出力される一次空気ａ１
を空気調和機３０２に送出するためのダクト３１０が設
けられ、図１２に示すように、塗布設備１４の色素塗布
機構４８における前記６つのスピンコート装置５２の各
排気側と排気装置３０６との間に上述した排気管４２６
が設けられている。

【０１００】空気調和機３０２と塗布設備１４との間に
は、空気調和機３０２から出力される清浄な空気ｃａを
塗布設備１４に給気させるための複数本（図示の例では
４本）の給気ダクト３２０ａ〜３２０ｄと、塗布設備１
４における前記局所排気ｄａ以外の排気ｒａを空気調和
機３０２に帰還させるための複数本（図示の例では８
本）のリターンダクト３２２が設置されている。

【０１０１】また、空気調和機３０２には、外気ｅａを
取り入れるための導入口７１０が設置され、該導入口７
１０にはプレフィルタ７１２が取り付けられている。通
常の空調制御（低湿制御でない場合）においては、この
導入口７１０から取り入れられた空気が一次空気として
空気調和機３０２に供給されるようになっている。

【０１０２】前記除湿機３０４は、低湿制御のときに使
用され、図９及び図１０に示すように、外気ｅａを取り
入れるための導入口３２４が設置され、該導入口３２４
にはプレフィルタ３２６が取り付けられている。従っ
て、導入口３２４を通じて導入された外気ｅａは、前記
プレフィルタ３２６によってほこりや塵芥等が除去され
て、除湿機３０４の内部に取り入れられ、該除湿機３０
４内において除湿処理が行われる。除湿された外気は一
次空気として後段の空気調和機３０２に供給される。

【０１０３】空気調和機３０２は、図１４に示すよう
に、除湿機３０４あるいは導入口７１０からの一次空気
ａ１と塗布設備１４からの排気（局所排気以外の排気）
ｒａを混合して混合空気ｈａとして出力する混合機３３
０と、該混合機３３０から出力される混合空気ｈａに対
して加湿処理を行って二次空気ａ２として出力する２つ
の加湿機３３２ａ及び３３２ｂと、これら２つの加湿機
３３２ａ及び３３２ｂからの二次空気ａ２を塗布設備１
４に給気する４つの送風機３３４ａ〜３３４ｄとを有し
て構成されている。

【０１０４】加湿機３３２ａ及び３３２ｂは、その内部
に、前記一次空気ａ１に対して水蒸気化した水分を加え
るための加熱板３３６を有する。この加熱板３３６には
純水が張られている。この場合の純水としては、比抵抗
が０．１５ＭΩ（室温）以上の純水が適当であり、好ま
しくは比抵抗が１．５ＭΩ（室温）以上、より好ましく
は比抵抗が１５ＭΩ（室温）以上の純水を使用するとよ
い。この実施の形態では、比抵抗が２ＭΩ（室温）の純
水を使用した。

【０１０５】前記純水を得る方法としては、例えば蒸留
やイオン交換樹脂を用いる方法などがあるが、不純物の
除去効率の点などからみてイオン交換樹脂を用いる方法
が好ましい。

【０１０６】一方、図９及び図１０に示すように、塗布
設備１４への給気経路のうち、塗布設備１４の上部には
４つの高性能充填層フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ）３４
０ａ〜３４０ｄが設置されている。また、４つの送風機
３３４ａ〜３３４ｄからそれぞれ対応する４本の給気ダ
クト３２０ａ〜３２０ｄの間には、それぞれ指向板３４
２ａ〜３４２ｄが設置されている。これらの指向板３４
２ａ〜３４２ｄのうち、図９中、最も右側に位置する第
１の送風機３３４ａに対応する第１の指向板３４２ａ
は、第２の給気ダクト３２０ｂを通じて第２の処理部３
２（図１参照）に給気される送風量が第１の処理部３０
への送風量よりも多くなるように斜め向きに設置され、
図９中、最も左側に位置する第４の送風機３３４ｄに対
応する第４の指向板３４２ｄは、第３の給気ダクト３２
０ｃを通じて第２の処理部３２に給気される送風量が第
３の処理部３４への送風量よりも多くなるように斜め向
きに設置されている。

【０１０７】また、第２の送風機３３４ｂに対応する第
２の指向板３４２ｂは、第３の給気ダクト３２０ｃを通
じて第２の処理部３２に給気される送風量が第２の給気
ダクト３２０ｂを通じて第２の処理部３２に吸気される
送風量よりも多くなるように斜め向きに設置され、第３
の送風機３３４ｃに対応する第３の指向板３４２ｃは、
第２の給気ダクト３２０ｂを通じて第２の処理部３２に
給気される送風量が第３の給気ダクト３２０ｃを通じて
第２の処理部３２に吸気される送風量よりも多くなるよ
うに斜め向きに設置されている。

【０１０８】即ち、第２及び第３の給気ダクト３２０ｂ
及び３２０ｃを通じて第２の処理部３２に給気される送
風量が、第１の給気ダクト３２０ａを通じて第１の処理
部３０に給気される送風量並びに第４の給気ダクト３２
０ｄを通じて第３の処理部３４に給気される送風量より
も多くなるように、前記第１〜第４の指向板３４２ａ〜
３４２ｄの向きが設定されている。

【０１０９】塗布設備１４の上部において、４本の給気
ダクト３２０ａ〜３２０ｄとそれぞれ対応するＨＥＰＡ
フィルタ３４０ａ〜３４０ｄとの間にも、それぞれ指向
板３４４ａ〜３４４ｄが設置されている。これらの指向
板３４４ａ〜３４４ｄのうち、図９中、最も右側に位置
する第１のＨＥＰＡフィルタ３４０ａに対応する第１の
指向板３４４ａは、第１の給気ダクト３２０ａを通じて
給気される清浄な空気ｃａが第２の処理部３２側に指向
されるように斜めに設置され、図９中、最も左側に位置
する第４のＨＥＰＡフィルタ３４０ｄに対応する第４の
指向板３４４ｄは、第４の給気ダクト３２０ｄを通じて
給気される清浄な空気ｃａが第２の処理部３２側に指向
されるように斜めに設置されている。

【０１１０】また、第２のＨＥＰＡフィルタ３４０ｂに
対応する第２の指向板３４４ｂは、第２の給気ダクト３
２０ｂを通じて給気される清浄な空気ｃａが第２の処理
部３２にすべて給気されるのを抑える方向に斜め向きに
設置され、第３のＨＥＰＡフィルタ３４０ｃに対応する
第３の指向板３４４ｃは、第３の給気ダクト３２０ｃを
通じて給気される清浄な空気ｃａが第２の処理部３２に
すべて給気されるのを抑える方向に斜め向きに設置され
ている。

【０１１１】これら空気調和機３０２側の４つの指向板
３４２ａ〜３４２ｄの向きと塗布設備１４側の４つの指
向板３４４ａ〜３４４ｄの向きによって、塗布設備１４
の中央に配される第２の処理部３２に給気される送風量
がその周辺部に配される第１及び第３の処理部３０及び
３４に給気される送風量よりも多くなり、これにより、
第２の処理部３２における雰囲気中の圧力が、第１及び
第３の処理部３０及び３４における各雰囲気中の圧力よ
りも高くなる。

【０１１２】つまり、送風経路に上述のような複数の指
向板を設けることにより、空気調和機３０２で加湿され
た空気中の水分を均等にミキシングし、第２の処理部３
２における各スピンコート装置５２での湿度のばらつき
を軽減させることができ、しかも、各スピンコート装置
５２における下向きの風速に関し、各スピンコート装置
５２間での風速差をなくすことができる。

【０１１３】また、図１に示すように、第１及び第２の
処理部３０及び３２間に第１の仕切板７０を設け、第２
及び第３の処理部３２及び３４間に第２の仕切板７２を
設けるようにしているため、第１の処理部３０から第２
の処理部３２への空気の回り込み並びに第３の処理部３
４から第２の処理部３２への空気の回り込みがなくな
り、第２の処理部３２における雰囲気中の圧力が、第１
及び第３の処理部３０及び３４における各雰囲気中の圧
力よりも高い状態に維持されることになる。

【０１１４】即ち、空気調和機３０２側の４つの指向板
３４２ａ〜３４２ｄと塗布設備１４側の４つの指向板３
４４ａ〜３４４ｄ、並びに前記第１及び第２の仕切板７
０及び７２は、第２の処理部３２における雰囲気中の圧
力を第１及び第３の処理部３０及び３４における各雰囲
気中の圧力よりも高い状態にするための送風量制御手段
として機能することになる。

【０１１５】次に、排気装置３０６は、図１２及び図１
３に示すように、外筐がほぼ直方体状に形成され、内部
が気密化されたバッファボックス５００を有する。この
バッファボックス５００内には、塗布設備１４における
６つのスピンコート装置５２に対応して６つの排気ブロ
ア５０２が設けられている。

【０１１６】また、６つのスピンコート装置５２と対応
する排気ブロア５０２との間には、例えばバタフライ弁
５０４とシャッタ５０６で構成された排気量調節弁機構
５０８と、排気量を電気的に検出するための排気量セン
サ５１０が設置され、排気量の調整によって塗膜の乾燥
条件を適宜変更できるようになっている。

【０１１７】前記バッファボックス５００の後段には上
位の排気系統５２０が接続されている。この上位の排気
系統５２０は、図１２に示すように、この塗布設備１４
の排気のほか、成形設備や後処理設備、その他の各種製
造設備の排気が屋外に設置された屋外ブロア５２２を通
じて行われるようになっている。

【０１１８】上位の排気系統５２０における多数の排気
管のうち、塗布設備用に割り当てられた６本の排気管５
２４は、それぞれバッファボックス５００に接続されて
いる。そして、この実施の形態では、図１３に示すよう
に、上位の排気系統５２０から塗布設備１４に延びる６
本の排気管５２４と排気ブロア５０２から導出された６
本の排気管４２６は、バッファボックス５００内におい
てそれぞれ分離されている。なお、上位の排気系統５２
０から塗布設備１４に延びる６本の排気管５２４にはそ
れぞれバタフライ弁５２６が設置され、上位の排気系統
５２０への排気量を調整できるようになっており、ま
た、屋外ブロア５２２の前段と後段にはそれぞれバタフ
ライ弁５２８及び５３０が設置されて、屋外への排気量
を調整できるようになっている。

【０１１９】そして、本実施の形態に係る製造システム
１０においては、塗布設備１４や後処理設備１６とは別
に色素廃液の回収処理を行うための再処理室６００を有
する。この再処理室６００には、回収された色素廃液を
収容した回収容器４５０が定期的にあるいは必要なとき
に搬入されるようになっている。

【０１２０】また、この再処理室６００には、定期的に
あるいは必要なときに、例えばメンテナンスを目的とし
てスピンコート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や
飛散防止壁４０４が搬入され、該再処理室６００内に設
置されている洗浄槽６０２（図１５参照）を使用して洗
浄が行われるようになっている。

【０１２１】具体的には、図１５に示すように、洗浄槽
６０２内に入っている洗浄液にスピナーヘッド装置４０
２や飛散防止壁４０４を漬け込んで洗浄処理が行われる
（漬け込み洗い）。この洗浄処理によって、スピナーヘ
ッド装置４０２や飛散防止壁４０４に付着していた色素
が洗い流され、洗浄液中に拡散する。

【０１２２】この洗浄処理を繰り返すことによって、洗
浄液中の色素の濃度が徐々に高くなり、色素廃液６０４
として洗浄槽６０２内に溜まることになる。

【０１２３】そして、本実施の形態においては、洗浄槽
６０２内の色素廃液６０４の濃度が、回収容器４５０内
の色素廃液４５２の濃度以上になった段階で、洗浄槽６
０２内の色素廃液６０４と回収容器４５０内の色素廃液
４５２を混合して混合色素廃液６０６とする。この場
合、新たな容器６０８を使用して混合するようにしても
よく、洗浄槽６０２内に回収容器４５０内の色素廃液４
５２を入れて混合するようにしてもよい。

【０１２４】本実施の形態に係る製造システム１０にお
いては、基板２０２上に形成された色素溶液の塗膜のう
ち、基板２０２の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗
浄機構５４と、基板２０２上に形成された色素溶液の塗
膜のうち、基板２０２の外周縁部に対応する部分を除去
するエッジ洗浄機構９２とを有しているが、これらの機
構５４及び９２から排出される廃液については回収を行
うものの、前記色素廃液４５２及び６０４と分離するよ
うにしている。即ち、前記色素廃液４５２及び６０４と
混合しないようにしている。

【０１２５】前記混合色素廃液６０６は、その後、混合
色素廃液６０６中の色素及び退色防止剤の含有量を定量
する定量工程６１０と、混合色素廃液６０６中の色素及
び退色防止剤の濃度を、色素溶液中の色素及び退色防止
剤の濃度と２桁以上の精度で一致するように調整する濃
度調整工程６１２を経て再生色素溶液６１４として再利
用される。

【０１２６】定量工程６１０では、いかなる定量方法を
用いて行ってもよいが、測定時の色素及び退色防止剤の
安定性等を考慮すると、液体クロマトグラフィにより定
量するのが好ましい。

【０１２７】次に述べる色素等の濃度調整工程６１２に
おいて、色素及び退色防止剤の濃度を有効数字２桁の精
度で厳密に調整するためには、有効数字３桁以上の精度
で定量を行うことが好ましい。

【０１２８】このような高精度の定量を実現するため
に、まず、分離条件としては、分光吸収スペクトルにお
いて、色素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重
ならず、それぞれ単独のピークであることが必要であ
る。例えば色素として下記構造式（Ａ）で示されるイン
ドレニン系色素（化合物Ａ）を用い、退色防止剤として
下記構造式（Ｂ）で示される退色防止剤（化合物Ｂ）を
用いた場合の液体クロマトグラフィの３次元チャート
（各測定波長での注入後の経過時間に対する相対検出強
度を表す）を図１６に示す。

【０１２９】

【化４】

【０１３０】

【化５】

【０１３１】この場合の分離条件は、カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌＯＤＳ−８０Ｔｓカラム温度：２５℃ 溶離液：アセトニトリル／水／酢酸／トリエチルアミン
＝７５０／２５０／２／２流量：１ｍリットル／分圧力：５９ｂａｒ検出波長：２５４ｎｍ試料注入量：２０μｍである。

【０１３２】図１６からわかるように、この条件では色
素及び退色防止剤の各ピークが他のピークと重なること
なく分離されている。

【０１３３】次に、検出波長は、各化合物の検出精度が
有効数字３桁以上で担保されるように選択することが好
ましい。各化合物の定量は、検出波長で検量線を作成
し、これを基準にして検出強度から含有濃度を算出する
のが通常である。

【０１３４】従って、各化合物の検出精度を上げるため
には、検出波長での検量線の相関係数が大きいことが好
ましい。逆に言えば、このような高い相関性を示す検出
波長を選択しなければならない。

【０１３５】一般に、色素の検出強度は大きく、検出精
度に問題はない。そのため、退色防止剤の検出強度があ
る程度大きくなるような検出波長を選択することが検出
精度の点で好ましい。例えば、上記の退色防止剤では図
１７に示すように、検出波長が４５０ｎｍのときに相関
係数が０．９９９と最大になるため、４５０ｎｍを検出
波長として選択することが好ましい。

【０１３６】また、再現性よく定量を行うために、試料
の注入精度が２桁以上であることが好ましく、３桁以上
であることがより好ましい。

【０１３７】次に、濃度調整工程６１２は、前記定量工
程６１０で決定された混合色素廃液６０６中の色素及び
退色防止剤の含有量に基づいて、再生色素溶液６１４の
色素及び退色防止剤の含有量を調整する。

【０１３８】調液処方の算出は、色素、退色防止剤及び
溶剤のいずれかの含有量を固定し、当初調整された色素
溶液中の色素の濃度及び退色防止剤の濃度にするため
に、不足している量を算出することにより行う。

【０１３９】そして、色素及び退色防止剤の濃度の調整
は、再生色素溶液６１４の色素及び退色防止剤の濃度
が、前記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁
以上の精度で一致するように、前記算出値に従い、不足
分の色素及び退色防止剤を補充し、溶剤で希釈すること
により行う。

【０１４０】例えば、色素溶液中の色素の濃度及び退色
防止剤の濃度がそれぞれ２．５７５重量％、０．２５７
重量％であり、混合色素廃液６０６中の色素及び退色防
止剤の濃度がそれぞれ６．１４重量％、０．２５６重量
％である場合においては、この混合色素廃液２００ｇに
含まれる色素は１２．２８４ｇであり、退色防止剤は
０．５１２ｇである。

【０１４１】色素を追加せずに、他の成分（退色防止剤
及び溶剤）を追加して、各成分を色素溶液の濃度にする
ためには、退色防止剤０．７１４ｇと溶剤２７６．３４
ｇとを正確に加える必要がある。色素及び退色防止剤以
外の成分を添加する際も、同様の精度で行うことが好ま
しい。

【０１４２】このように、本実施の形態に係る製造シス
テム１０においては、洗浄工程で回収された色素廃液６
０４と色素溶液の塗布処理にて排出された色素廃液４５
２（回収工程で回収された色素廃液）とを混合して混合
色素廃液６０６とし、この混合色素廃液６０６を再生色
素溶液６１４として再利用するため、再生色素廃液６１
４の回収率を大幅に増加させることができ、生産効率の
向上を図ることができる。

【０１４３】特に、洗浄工程で回収された色素廃液６０
４の色素濃度が前記回収工程で回収された色素廃液４５
２の色素濃度以上となった段階で、これら色素廃液４５
２及び６０４を混合するようにしているため、工程内へ
の不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液６０６
を再生色素溶液６１４として再利用した際にも記録再生
特性の再現性を確保でき、製造コストの低廉化を効率よ
く実現させることができる。

【０１４４】また、スピンコート装置５２のスピナーヘ
ッド装置４０２や飛散防止壁４０４を洗浄する方法とし
て、洗浄槽６０２での漬け込み洗いを実施するようにし
たので、洗浄槽６０２内に色素廃液６０４が溜まり、効
率よく、色素廃液６０４を得ることができる。前記洗浄
槽６０２への漬け込み時間は１０分以上がよく、好まし
くは３０分以上がよい。

【０１４５】また、混合色素廃液６０６中の色素及び退
色防止剤の含有量を定量した後に、混合色素廃液６０６
中の色素及び退色防止剤の濃度を、前記色素溶液中の色
素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の精度で一致するよ
うに調整するようにしたので、混合色素廃液６０６を再
生色素溶液６１４として再利用した際にも記録再生特性
の再現性を確保することができる。

【０１４６】この場合、上述したように、前記混合色素
廃液６０６中の色素及び退色防止剤の定量を液体クロマ
トグラフィで行うことが好ましく、前記液体クロマトグ
ラフィでの検量精度は３桁以上であることが好ましい。

【０１４７】色素廃液４５２、６０４や混合色素廃液６
０６は光の透過しない密閉容器で保管することが好まし
い。密閉容器としては、ステンレス製の缶が好ましく、
更に好ましくはステンレス製のドラム缶が望ましい。

【０１４８】色素廃液４５２、６０４や混合色素廃液６
０６の保管場所は、強烈な光や熱が当たらない場所であ
れば特に問題はないが、好ましくは館屋の中、更に好ま
しくは常温暗室がよい。また、保管場所のクリーン度
は、クラス５０万以下、好ましくはクラス２０万以下が
よい。

【０１４９】また、本実施の形態では、エッジ洗浄時の
廃液や裏面洗浄時の廃液を色素廃液４５２、６０４と分
離するようにしたので、混合色素廃液６０６への工程内
の不純物の混入を防ぐことができ、混合色素廃液６０６
を再生色素溶液６１４として再利用した際にも記録再生
特性の再現性を確保することができる。

【０１５０】また、色素溶液を塗布する際の排気風速を
１ｍ／ｓ以下、好ましくは０．７ｍ／ｓ以下、更に好ま
しくは０．４ｍ／ｓ以下がよい。これにより、基板２０
２上への色素溶液の塗布が良好に行われると共に、再生
色素溶液６１４の回収率を向上させることができる。

【０１５１】ここで、その他の条件の好ましい態様につ
いて説明する。前記基板２０２上に色素溶液を塗布する
際の色素吐出量は０．３ｃｃ〜５ｃｃであることが好ま
しく、特に好ましくは０．５ｃｃ〜２ｃｃである。色素
溶液を塗布する際の温度は１０℃〜５０℃の範囲であれ
ばよいが、好ましくは１５℃〜３５℃の範囲、更に好ま
しくは２０℃〜２５℃の範囲である。この場合の温度変
動は±８℃の範囲、好ましくは±４℃の範囲、更に好ま
しくは±２℃の範囲である。

【０１５２】色素溶液を塗布する際の湿度は２５％ＲＨ
〜６５％ＲＨの範囲であり、好ましくは３５％ＲＨ〜６
０％ＲＨの範囲、更に好ましくは４５％ＲＨ〜５５％Ｒ
Ｈの範囲である。この場合の湿度変動は±８％ＲＨの範
囲であり、好ましくは±４％ＲＨの範囲、更に好ましく
は±２％ＲＨの範囲である。

【０１５３】基板２０２に形成される色素記録層２０４
の膜厚変動は、正規の膜厚に対して±３０％の範囲であ
り、好ましくは±２０％の範囲、更に好ましくは±１５
％の範囲である。

【０１５４】また、基板２０２の保存中におけるクリー
ン度はクラス２０万以下であり、好ましくはクラス１０
万以下、更に好ましくはクラス５万以下である。この場
合、基板２０２の保存中における温度変動は±１５℃の
範囲であり、好ましくは±１０℃の範囲、更に好ましく
は±５℃の範囲である。

【０１５５】また、色素記録層２０４上に形成される光
反射層２０８は、反射率が７０％以上ある反射膜であれ
ば何でもよいが、好ましくは金あるいは銀を含有した反
射膜、その中でも主成分が銀あるいは金の反射膜が特に
好ましい。光反射層２０８の厚みは１０ｎｍ以上、８０
０ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であ
ることが好ましい。

【０１５６】

【実施例】［参考例］ステンレス製の密閉容器に上述の
インドレニン系色素（化合物Ａ）２．６５部と、退色防
止剤（化合物Ｂ）０．２６５部と、２，２，３，３−テ
トラフルオロプロパノール１００部とを混合し、超音波
振動機（１８００Ｗ）を用いて２時間かけて溶解し、色
素記録層２０４を形成するための色素溶液を調製した。

【０１５７】色素溶液中の色素濃度は２．５７５重量％
であり、退色防止剤濃度は０．２５７重量％であった。

【０１５８】この色素溶液を半日間保存した後、表面に
スパイラル状のプレグルーブ（トラックピッチ１．６μ
ｍ、プレグルーブ幅０．５２μｍ、プレグルーブの深さ
１７５ｎｍ）が射出成形により形成されたポリカーボネ
ート基板（直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ、帝人
（株）製、商品名「パンライトＡＤ５５０３」）のその
プレグルーブ側の面に、ステンレス製からなるノズル
（内径０．８μｍ）を有する塗布液付与装置４００を備
えたスピンコート装置５２を用いて、そのスピナーヘッ
ド装置４０２の回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍ
まで変化させながら塗布し、色素記録層２０４（グルー
ブ内の厚さ約２００ｎｍ）を形成した。塗布の際に飛散
した色素溶液はドレイン４２４を通して回収容器４５０
に集めた。

【０１５９】このときの色素記録層２０４の形成条件
は、雰囲気の温度、湿度：２３℃、５０％ＲＨ色素溶液の温度：２３℃ 基板２０２の温度：２３℃ 排気風速：０．８ｍ／ｓである。

【０１６０】次に、色素記録層２０４上に、Ａｕをスパ
ッタして、膜厚が１５０ｎｍの光反射層２０８を形成し
た。更に、別のスピンコート装置を用いて、前記光反射
層２０８上にＵＶ硬化性樹脂（商品名「ＳＤ−３１
８」、大日本インキ化学工業（株）製）をスピナーヘッ
ド装置の回転数を３００ｒｐｍ〜５０００ｒｐｍまで変
化させながら塗布した後、紫外線を照射して樹脂を硬化
させ、層厚８μｍの保護層２１０を形成した。

【０１６１】以上の工程により、基板２０２上に、色素
記録層２０４、光反射層２０８及び保護層２１０が積層
された参考例に係る光ディスクを製造した。

【０１６２】［実施例］前記参考例において、スピンコ
ート装置５２のスピナーヘッド装置４０２や飛散防止壁
４０４を再処理室６００内に搬入して洗浄槽６０２内で
洗浄する。この洗浄処理を洗浄槽６０２内の色素廃液６
０４の濃度が回収容器４５０に集めた色素廃液４５２の
濃度以上となるまで繰り返す。

【０１６３】その後、洗浄槽６０２内の色素廃液６０４
と回収容器４５０内の色素廃液４５２を別の容器６０８
に入れて混合した。

【０１６４】前記別の容器６０８内の混合色素廃液６０
６を３６．４ｍｇサンプルびんに採り、該混合色素廃液
６０６をアセトニトリル３．００２４ｇで希釈した。一
方、前記参考例で示した色素記録層２０４を形成するた
めの色素溶液を４０５．８ｍｇサンプルびんに採り、該
色素溶液をアセトニトリル１．２０４ｇで希釈した。こ
れを液体クロマトグラフィを用いて、下記条件で測定
し、色素（化合物Ａ）と退色防止剤（化合物Ｂ）の濃度
を絶対検量線法で定量した。

【０１６５】このときの測定条件は、カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌＯＤＳ−８０Ｔｓカラム温度：２５℃ 溶離液：アセトニトリル／水／酢酸／トリエチルアミン
＝７５０／２５０／２／２流量：１ｍリットル／分圧力：５９ｂａｒ検出波長：２５４ｎｍ試料注入量：２０μｍである。

【０１６６】混合色素廃液６０６の色素濃度は６．９２
１％、退色防止剤濃度は１．１３９％であった。この結
果に基づいて、色素濃度及び退色防止剤濃度が、上記の
色素溶液中の色素濃度及び退色防止剤濃度と小数点以下
２桁まで一致するように、溶剤、色素及び退色防止剤を
追加して濃度調整し、再生色素溶液６１４を得た。

【０１６７】得られた再生色素溶液６１４を用い、前記
参考例と同様にして、基板２０２上に、色素記録層２０
４、光反射層２０８及び保護層２１０が積層された実施
例に係る光ディスクを製造した。

【０１６８】［評価］参考例に係る光ディスクと実施例
に係る光ディスクについて、パルステック社製「ＯＭＴ
−２０００」を用いて、最適パワーで記録特性を評価し
た。その結果を図１８に示す。

【０１６９】この図１８から明らかなように、本実施の
形態に係る製造システム１０、特に色素溶液の再生処理
で得られた再生色素溶液６１４を用いて作製した光ディ
スクＤは、正規の色素溶液を用いて作製した光ディスク
Ｄと記録特性において大差はなく、本実施の形態で得ら
れた再生色素溶液６１４を色素溶液の塗布工程で再利用
できることがわかる。

【０１７０】なお、この発明に係る光情報記録媒体の製
造方法は、上述の実施の形態に限らず、この発明の要旨
を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもち
ろんである。

【０１７１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る光情
報記録媒体の製造方法によれば、色素廃液を色素溶液と
して再利用した際にも記録再生特性の再現性を確保で
き、製造コストの低廉化を効率よく実現させることがで
きる。また、色素廃液の回収率を向上させることがで
き、生産効率の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本実施の形態に係る製造システムの一例を示す
構成図である。

【図２】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
構成図である。

【図３】塗布設備に設置されるスピンコート装置を示す
斜視図である。

【図４】スピンコート装置のノズルを示す平面図であ
る。

【図５】スピンコート装置のノズルの一例を示す側面図
である。

【図６】スピンコート装置のノズルの他の例を一部省略
して示す縦断面図である。

【図７】図７Ａは基板にグルーブを形成した状態を示す
工程図であり、図７Ｂは基板上に色素記録層を形成した
状態を示す工程図であり、図７Ｃは基板上に光反射層を
形成した状態を示す工程図である。

【図８】図８Ａは基板のエッジ部分を洗浄した状態を示
す工程図であり、図８Ｂは基板上に保護層を形成した状
態を示す工程図である。

【図９】空調システムを示す平面図である。

【図１０】空調システムを示す正面図である。

【図１１】空調システムを示す側面図である。

【図１２】空調システムにおける排気装置の構成を上位
の排気系統と共に示す図である。

【図１３】排気装置に設置されるバッファボックスの構
成を示す断面図である。

【図１４】空気調和機の構成を示すブロック図である。

【図１５】本実施の形態に係る製造システムの再生処理
を示す工程図である。

【図１６】インドレニン系色素と退色防止剤における液
体クロマトグラフィの３次元チャートを示す図である。

【図１７】検出波長と対応する相関係数を示す図表であ
る。

【図１８】参考例に係る光ディスクと実施例に係る光デ
ィスクの記録特性を示す図表である。

【符号の説明】

１０…製造システム１４…塗布設備４８…色素塗布機構５２…スピンコート
装置５４…裏面洗浄機構９２…エッジ洗浄機
構２０２…基板２０４…色素記録層２０６…エッジ部分３００…空調システ
ム４００…塗布液付与装置４０２…スピナーヘ
ッド装置４０４…飛散防止壁４０６…ノズル４０８…吐出量調整バルブ４２４…ドレイン４５０…回収容器４５２…色素廃液６００…再処理室６０２…洗浄槽６０４…色素廃液６０６…混合色素廃
液６０８…容器６１０…定量工程６１２…濃度調整工程６１４…再生色素溶
液Ｄ…光ディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者河合晃一東京都羽村市神明台２丁目10番地８富士マグネディスク株式会社内Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB17 AC08 BH00 EA05 4F042 AA03 AA06 BA16 CC07 CC09 CC10 CC30 5D121 AA01 EE22 EE24 EE28 EE29 GG18 GG28 GG30

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、レーザ光の照射により情報を記
録することができる色素記録層を有するヒートモード型
の光情報記録媒体の製造方法において、前記基板を回転させながら前記色素記録層を形成するた
めの色素溶液を前記基板上に塗布する塗布工程と、前記塗布工程で排出された色素廃液を回収する回収工程
と、前記色素溶液の塗布の際に周囲に付着した色素を洗浄す
る洗浄工程と、前記洗浄工程で回収された色素廃液の色素濃度が前記回
収工程で回収された前記色素溶液の色素濃度以上となっ
た段階で、これら色素廃液を混合する混合工程とを含
み、前記混合工程で得られた混合色素廃液を色素溶液として
再利用することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
【請求項２】請求項１記載の光情報記録媒体の製造方法
において、前記洗浄工程は、前記基板上に色素溶液を塗布するため
の装置を洗浄槽を使用して洗浄する処理を含むことを特
徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項３】請求項１又は２記載の光情報記録媒体の製
造方法において、前記色素溶液に色素と退色防止剤が含有する場合に、前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の含有量を定
量する工程と、前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の濃度を、前
記色素溶液中の色素及び退色防止剤の濃度と２桁以上の
精度で一致するように調整する工程とを含むことを特徴
とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項４】請求項３記載の光情報記録媒体の製造方法
において、前記混合色素廃液中の色素及び退色防止剤の定量を液体
クロマトグラフィで行うことを特徴とする光情報記録媒
体の製造方法。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記混合色素廃液の保管中でのクリーン度がクラス５０
万以下であることを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
【請求項６】請求項１〜５のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記基板上に形成された前記色素溶液の塗膜のうち、前
記基板の外周縁部に対応する部分を除去するエッジ洗浄
工程を含む場合は、エッジ洗浄時の廃液を前記色素廃液
と分離することを特徴とする光情報記録媒体の製造方
法。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記基板上に形成された前記色素溶液の塗膜のうち、前
記基板の裏面に付着した塗膜を除去する裏面洗浄工程を
含む場合は、裏面洗浄時の廃液を前記色素廃液と分離す
ることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項８】請求項１〜７のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記色素溶液を塗布する際の排気風速が１ｍ／ｓ以下で
あることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項９】請求項１〜８のいずれか１項に記載の光情
報記録媒体の製造方法において、前記基板上に色素溶液を塗布して前記色素記録層を形成
する際に、前記色素溶液の吐出量を０．３ｃｃ〜５ｃｃ
とすることを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。