JP2000284501A - 処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 - Google Patents
処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置Info
- Publication number
- JP2000284501A JP2000284501A JP8921199A JP8921199A JP2000284501A JP 2000284501 A JP2000284501 A JP 2000284501A JP 8921199 A JP8921199 A JP 8921199A JP 8921199 A JP8921199 A JP 8921199A JP 2000284501 A JP2000284501 A JP 2000284501A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- liquid
- tank
- solution
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
仕込む。 【解決手段】 自動モードでの処理液の仕込みが選択さ
れると、現像槽内が空か否かを確認し、現像槽が空であ
るときには、原液が投入された後に、希釈水の供給及び
攪拌、温調を行う。また、洗浄槽へ給水を行うと共に、
フィニッシャー槽へは、給水しながら希釈比に応じて間
欠的に原液を供給する(ステップ300〜34)。これ
に対して、現像槽への仕込みが終了し、洗浄槽及びフィ
ニッシャー槽への仕込みが行われていないときには、洗
浄槽及びフィニッシャー槽への仕込みを行い(ステップ
338)、既に仕込みが行われているときには、個々に
仕込みが終了しているか否かを確認する(ステップ34
0〜346)。
Description
に貯留した処理液によって感光材料を処理する感光材料
処理装置に係り、複数の処理槽のそれぞれで新たな処理
液となる仕込み液を調液する処理液の仕込み装置及び感
光材料処理装置に関する。
版」とする)等の感光材料は、画像露光された後に、感
光材料処理装置(以下「PS版プロセッサー」と言う)
によって処理される。このPS版プロセッサーでは、P
S版を搬送しながら現像液によって処理した後、洗浄及
び不感脂化処理を施す。
で処理槽内に貯留している処理液を用いてPS版の処理
を行う。また、PS版プロセッサーでは、それぞれの処
理槽に所定のタイミングで補充液を補充して、PS版を
一定の品質で仕上げるようにしている。
間をおいて処理液の入れ換えを行うようになっている。
この処理液の入れ換えは、古い処理液を排出した後に、
新たな処理液とする仕込み液をそれぞれの処理槽内で調
液する。
液と例えば水などの希釈液(以下「希釈水」とする)を予
め設定している一定の比率で混合させるようになってい
る。このときには、例えば、原液ポンプと給水ポンプに
よって処理液の原液と希釈水を一定の比率で供給する方
法や、手作業により一定量の処理液の原液を処理槽に投
入した後、この原液の量に応じた希釈水を投入するなど
の方法がある。このようにして、処理液の原液と希釈水
を処理槽に投入した後、処理液の原液と希釈水が均一に
混じるように攪拌し、例えば現像槽では、電導度が所定
の値となるようにしている。
み液の調液を自動的に行うようにしたものがある。例え
ば、新しい現像液の仕込みを行うときには、現像液の原
液を計量して現像槽内に投入した後、電導度が所定の値
となるように希釈水が供給されて仕込み液の調液が完了
する。
れの処理槽では、処理液の液面が所定のレベルを越える
と、処理液がオーバーフローしてしまう。
理装置には、下流側の処理槽からオーバーフローした処
理液を上流側の処理液として使用するカスケード方式を
用いたものがあり、下流側の処理槽に所定量の処理液の
原液を供給した後、希釈液を供給した場合、攪拌したと
しても充分に混合されていない処理液が上流側の処理槽
にオーバーフローしてしまい、適正な希釈比の仕込み液
を調液することができないことがある。
処理は、複数の処理槽で並行して行われるため、いずれ
か一つの処理槽でエラーが生じたために再度仕込み処理
を行うと、適正に仕込み処理が終了した処理槽でも再度
仕込み液の調液が行われてしまうことになり、不要に処
理液を消費したり、廃液を増加させてしまうと言う問題
が生じている。
あり、複数の処理槽のそれぞれで適切に仕込み液を調液
することができる処理液の仕込み装置及び感光材料処理
装置を提案することを目的とする。
複数の処理槽のそれぞれに貯留した処理液によって感光
材料を処理する感光材料処理装置に用いられ、前記処理
槽で処理液の原液を希釈液によって所定の比率で希釈し
て仕込み液を調液する処理液の仕込み装置であって、前
記処理槽に所定量の処理液の原液を供給する原液供給手
段と、前記処理槽に前記処理液の原液を予め設定される
希釈比で希釈する希釈液を供給する給液手段と、前記複
数の処理槽の中から仕込み液を調液する処理槽が選択さ
れ、前記選択された処理槽に対して設けられている前記
給液手段及び前記原液供給手段の作動を制御して処理液
の仕込みを行う仕込み制御手段と、を含むことを特徴と
する。
択されている処理槽に対応した原液供給手段ないし給液
手段を動作させる。これにより、複数の処理槽で並行し
て処理液の仕込みを行うことができると共に、任意に選
択した処理槽のみでの仕込みも可能となる。
して仕込み処理を行ったときに、何れかの処理槽で仕込
み不良が生じたときには、仕込み不良の生じた処理槽に
対してのみに再度仕込みを行うことができ、適切に処理
液が仕込まれた処理槽で、再度、仕込み処理が行われて
しまうことによる処理液の無駄や廃液の増加を抑えるこ
とができる。
手順を表示する表示手段を含み、前記仕込み制御手段
が、前記表示手段の表示に基づいて前記選択された処理
槽に対応した前記原液供給手段ないし前記給液手段の作
動を制御することが好ましい。
槽のみを適正に選択して仕込み動作を行うことができ
る。
面が所定レベルを越えたときに、該レベル以上の処理液
をオーバーフローさせて処理槽から排出するオーバーフ
ロー手段が設けられた前記処理槽に貯留した処理液によ
って感光材料を処理する感光材料処理装置に用いられ、
前記処理槽で処理液の原液を希釈液によって所定の比率
で希釈して仕込み液を調液する処理液の仕込み装置であ
って、前記処理槽に所定量の処理液の原液を供給する原
液供給手段と、前記処理槽に前記処理液の原液を予め設
定される希釈比で希釈する希釈液を供給する給液手段
と、前記原液供給手段及び前記給液手段を制御して前記
処理槽で処理液の仕込みを行うときに、原液供給手段又
は給液手段のうちの一方を連続的に作動させると共に他
方を間欠的に作動させる仕込み制御手段と、を含むこと
を特徴とする。
段によって処理槽に処理液の原液と希釈液を供給すると
きに、希釈比に基づいて原液供給手段又は給液手段の一
方を連続的に運転し、他方を間欠的に運転する。これに
より、該当する処理槽には、希釈比に応じた比率で原液
と希釈液が供給されることになり、仕込み途中でオーバ
ーフローが発生しても、この希釈比率が大きく狂ってし
まうのを防止することができる。
運転を行う時の所定時間内の運転時間及び停止時間を前
記希釈比に基づいて設定していることを特徴とする。
所定時間内の運転時間と停止時間を希釈比に基づいて設
定している。
釈比は一定に保たれ、オーバーフローが生じてもオーバ
ーフローする下流側と上流側のいずれの処理槽内での原
液と希釈液の比率も一定に保つことができる。
た原液と希釈液を攪拌する攪拌手段を設け、この攪拌手
段によって攪拌しながら処理液の原液と希釈液の供給を
行うことがより好ましく、これにより、処理槽内の原液
と希釈液の比率をより正確な希釈比に保つことができ
る。
は、処理液の液面が所定レベルを越えたときに、該レベ
ル以上の処理液をオーバーフローさせて処理槽から排出
するオーバーフロー手段が設けられた前記処理槽に貯留
している処理液によって感光材料を処理する感光材料処
理装置であって、前記処理槽での処理液の仕込みを行う
ときにのみ、前記オーバーフロー手段による前記処理槽
からの処理液のオーバーフローを阻止する阻止手段、が
設けられたことを特徴とする。
みを行うときに、処理槽からの液のオーバーフローを阻
止する阻止手段を設けている。これにより、仕込み途中
で処理槽から処理液の原液ないし希釈液がオーバーフロ
ーしてしまうのを防止でき、原液と希釈液の比率を所定
の希釈比に保った仕込み液を調液することができる。
ローして排出される処理液が通過する配管に電磁弁等の
開閉手段を設けてもよく、又、処理槽の底部の容量を一
時的に増加する容量増加手段を用いてもよい。
の実施の形態を説明する。図1には、本実施の形態に感
光材料処理装置として適用したPS版プロセッサー10
の概略構成を示している。PS版プロセッサー10は、
図示しない画像焼付装置によって画像焼付けが行われた
感光性平版印刷版(以下「PS版12」と言う)の現像
処理を行う。
現像液によって処理するための現像部22と、PS版1
2に付着した現像液などを洗い流すと共にガム液を塗布
して不感脂化処理する第1フィニッシャー部24及び第
2フィニッシャー部26と、PS版12を乾燥させる乾
燥部28と、によって構成されている。PS版プロセッ
サー10の内部には、現像部22に現像液を貯留する現
像槽40が、第1フィニッシャー部24にガム液を回収
する第1フィニッシャー槽42が、第2フィニッシャー
部26にガム液を貯留する第2フィニッシャー槽44
が、それぞれ設けられている。
ル14には、スリット状の挿入口34及び排出口36が
それぞれ設けられている。挿入口34の外部には、挿入
台16が設けられ、PS版12を挿入口34への挿入を
案内している。
び第2フィニッシャー部26の上方を覆うカバー35に
は、現像部22と第1フィニッシャー部24との間にP
S版12を挿入するためのリエントリー用の挿入口(副
挿入口)38が設けられている。一度、現像液、ガム液
による処理及び乾燥処理が終了したPS版12の版面を
修正するために現像液を塗布することがある。副挿入口
38は、このような修正のために版面に塗布された現像
液を除いたのち、版面保護用野ガム液の塗布処理を行う
ためのPS版12の挿入口となっている。
対のゴム製搬送ローラ32が配設されており、画像が焼
付けられたPS版12は、挿入口34から、この一対の
搬送ローラ32の間に挿入されるようになっている。一
対の搬送ローラ32は、図示しない駆動手段の駆動力に
よって回転して、挿入されたPS版12を引き入れ、水
平方向に対して約15°から31°の範囲の角度で現像
部22へ送り込む。
央が下方へ向けて突出された略山形状の現像槽40内に
現像液が貯留されている。この現像部22には、PS版
12の搬送方向に沿った下側にガイド板46が、現像槽
40の底部に沿って配設されている。
(小型のローラ)48が回転軸をPS版12の搬送方向
と交わる方向にして取り付けられており、現像部22へ
送り込まれたPS版12は、このコロ48によって案内
されながらガイド板46の表面に沿って搬送される。こ
のとき、コロ48が回転するため、PS版12に摺動に
よる傷付きが発生しない。
て逆山形形状とされ、現像部22には、ガイド板46の
最低位置から下流側において、PS版12の上面に対応
する位置に、ブラシローラ60が配設されている。ま
た、現像部22には、ガイド板46の下流側先端部近傍
に、PS版12の下面に対応するようにブラシローラ6
2が配設されている。
動手段の駆動力が伝達されて、PS版12の搬送方向に
回転するようになっている。
より、露光画像に応じて不要な感光層が膨潤される。ブ
ラシローラ60、62は、現像液によって膨潤した感光
層をかき落とす役目を有しており、この機能を十分に発
揮させるためには、ブラシローラ60、62がPS版1
2の表面を所定の押圧力で押圧する必要がある。このた
め、ブラシローラ60には、ガイド板46に取り付けら
れているコロ48の一部が対応し、ブラシローラ62に
は、複数の薄形ローラが同軸的に軸支された串ローラ6
4が対応している。これにより、PS版12は、所定の
押圧力でブラシローラ60、62に接触しながら搬送さ
れ、不要となった感光層が確実に除去される。
と串ローラ64とが配設された位置よりも下流側に、P
S版12の下面に対向するように串ローラ66が配設さ
れおり、PS版12は、この串ローラ66に支持されな
がら現像液の液面へ向けて搬送される。
ム製搬送ローラ対68が配設されており、PS版12
は、現像液の液中から送り出されて搬送ローラ対68に
挟持されることにより、現像液中から引き出されなが
ら、表面に付着した現像液が絞り落とされる。なお、現
像液中には、複数のスプレーパイプ90が設けられてお
り、このスプレーパイプ90によって現像液をPS版1
2の表裏面へ向けて噴出することにより、PS版12の
現像処理を促進するようになっている。
が配置されている。この液面蓋50は、下面が現像槽4
0に貯留される現像液の液面より下方となるように配置
されている。これにより、現像槽40内の現像液の液面
が炭酸ガスを含む空気と接触する面積を狭め、炭酸ガス
による現像液の劣化と現像液中の水分の蒸発を抑えてい
る。なお、液面蓋50には、PS版12の搬送方向の上
流側及び下流側端部下面に串ローラ50A、50Bが設
けられており、これにより現像部22内を搬送されるP
S版12が液面蓋50の下面と接触して表面(主に感光
面)が損傷するのを防止している。
及び液面蓋50に、PS版12の搬送方向上流側と下流
側に、ゴム製で可撓性を有するブレード88A、88
B、88C、88Dが設けられており、これにより、現
像槽40は、上方が液面蓋50によって覆われ、挿入口
34側及び水洗部24側が、搬送ローラ32とブレード
88A、88B及び、搬送ローラ対68とブレード88
C、88Dによって空気の流れが遮断され、現像液が空
気と接触することによる劣化が防止されている。
引き出されたPS版12は、第1フィニッシャー部24
へ送り込まれる。この第1フィニッシャー部24には、
第1フィニッシャー槽42の上方に二対の搬送ローラ対
52、54が配設されている。これらの搬送ローラ対5
2、54は、PS版12の搬送路を形成しており、図示
しない駆動手段の駆動力を受けて回転し、現像部22か
ら送り込まれたPS版12を挟持搬送する。
12の搬送路を挟んで上下に対で、スプレーパイプ56
が配設されている。スプレーパイプ56は、軸線方向が
搬送ローラ対52、54の軸線方向に沿って配置され、
PS版12の搬送路に対向する位置に、パイプ内部と連
通する複数の吐出孔が設けられている。
の搬送に同期して、第1フィニッシャー槽42から洗浄
水が供給されるようになっており、第1フィニッシャー
部24内を搬送されるPS版12は、スプレーパイプ5
6に供給されて吐出孔から吐出されるガム液が塗布され
る。このとき、スプレーパイプ56から吐出されたガム
液は、PS版12の表裏面を速やかに広がって、PS版
12の表裏両面を洗浄すると、搬送ローラ54によって
PS版12の表裏両面から若干のガム液を残して第1フ
ィニッシャー槽42内にガム液が絞り落とされる。すな
わち、第1フィニッシャー部24では、ガム液の塗布と
PS版12から現像液を除去する洗浄を行う。
られている第2フィニッシャー部26には、第2フィニ
ッシャー槽44内にガム液が貯留されている。また、第
2フィニッシャー部24には、一対の搬送ローラ対58
が設けられており、PS版12は、第1フィニッシャー
部24の搬送ローラ対54によって搬送ローラ対58の
間へ送り込まれる。
版12の搬送路の上方にスプレーパイプ70が配設され
ている。スプレーパイプ70は、軸線方向が搬送ローラ
対58の軸線方向に沿って配置され、PS版12の搬送
路側にパイプ内部と連通する複数の吐出孔が形成されて
いる。また、第2フィニッシャー部26には、PS版1
2の搬送路の下方に吐出ユニット72が配設されてい
る。この吐出ユニット72には、PS版12の幅方向
(搬送方向と直交する方向)に亘って連続するスリット
が形成されいる。
72には、PS版12の搬送に同期して、第2フィニッ
シャー槽44内のガム液が供給される。第2フィニッシ
ャー部26を搬送されるPS版12は、表面にスプレー
パイプ70に供給されたガム液が吐出孔から吐出されて
表面に広がり、裏面側が吐出ユニット72のスリット部
分に接触しながら搬送されることにより、スリットから
吐出されるガム液が付着する。これにより、PS版12
の表裏両面の全面にガム液による保護膜が形成される。
なお、吐出ユニット72に代えてスプレーパイプを配置
して、スプレーパイプからPS版12の裏面側にガム液
を吐出するようにしても良い。
されたPS版12は、搬送ローラ対58に挟持されて、
ガム液が表裏面に若干残った状態で排出口36から排出
され、第2フィニッシャー部26の下流側に配設されて
いる乾燥部28へ送られる。なお、搬送ローラ対58に
よってPS版12から絞り落とされたガム液は、第2フ
ィニッシャー槽44内に回収される。
版12を支持する支持ローラ74が配設され、また、乾
燥部28内でのPS版12の搬送路の中央部及び排出口
76の近傍に、搬送ローラ78及び搬送ローラ80が配
設されている。支持ローラ74及び中央部の搬送ローラ
78は、軸直角方向の断面が花形形状とされ、排出口7
6の近傍の搬送ローラ80と共に、図示しない駆動手段
の駆動力によって回転駆動されるようになっている。
支持ローラ74及び搬送ローラ78、80によって乾燥
部28内を搬送される。なお、排出口36には、PS版
12を処理液によって処理する第2フィニッシャー部2
6までのプロセッサ部と乾燥部28を分離するシャッタ
82が設けられている。
ーラ78との間、及び搬送ローラ78と搬送ローラ80
との間に、PS版12の搬送路を挟んで対でダクト84
A、84Bが配設されている。ダクト84A、84Bの
それぞれは、長手方向がPS版12の幅方向に沿って配
設されており、PS版12の搬送路に対向する面には、
スリット孔86が設けられている。
い乾燥風発生手段によって発生された乾燥風が、長手方
向の一端側から供給されるようになっており、ダクト8
4A、84Bのそれぞれは、供給された乾燥風をスリッ
ト孔86からPS版12の搬送路経向けて吐出する。こ
れにより、乾燥部28内を搬送されるPS版12には、
ダクト84A、84Bのスリット孔86から吐出される
乾燥風が吹き付けられ、表裏面に塗布されているガム液
が乾燥される。
管系統を示している。
が接続されており、この配管100の他端がスプレーパ
イプ90に接続されている。また、配管100の中間部
には、循環ポンプ102が設けられており、この循環ポ
ンプ102の作動によってスプレーパイプ90に現像液
が供給される。また、現像槽40内には、ヒータ104
が設けられ、配管100には、例えば水によって現像液
を冷却する熱交換器106が設けられている。
106によって現像槽40内の現像液を温調しながら攪
拌し、PS版12を最適な状態で処理できる温度に維持
している。
管108の一端が連結されており、この配管108の他
端が、スプレーパイプ56に接続されている。また、配
管108の中間部には、循環ポンプ110が設けられて
おり、この循環ポンプ110が作動することにより、第
1フィニッシャー槽42内のガム液がスプレーパイプ5
6に供給されて、PS版12へ向けて吐出される。
は、配管112の一端が接続されている。この配管11
2の他端は、スプレーパイプ70及び吐出ユニット72
に接続されており、配管112の中間部には、循環ポン
プ114が設けられている。これにより、循環ポンプ1
14が作動すると、第2フィニッシャー槽44内のガム
液が、スプレーパイプ70及び吐出ユニット72を介し
てPS版12の表面に塗布される。
像補充液の原液を貯留する原液タンク116、ガム液の
原液を貯留する原液タンク118及び水を貯留する水タ
ンク120が設けられている。水タンク120には、常
に所定量の水が貯留されるように、フロートバルブ等を
介して水道水が供給される。
に開口された配管122が接続されており、原液タンク
118には、第2フィニッシャー槽44の上部に開口さ
れた配管124が接続されている。また、水タンク12
0には、現像槽40及び第2フィニッシャー槽44の上
部に開口された配管126、130のそれぞれが接続さ
れている。
ンプ132、134が設けられており、また、配管12
6130の中間部には給水ポンプ136、140がそれ
ぞれ設けられている。
水ポンプ136が作動することにより、現像補充液の原
液とこの原液を所定の比率で希釈するための水が、現像
補充液として供給され、第2フィニッシャー槽44に
は、補充ポンプ134と給水ポンプ140が作動するこ
とにより、ガム液の原液とこの原液を所定の比率で希釈
するための水がガム液補充液として供給される。
シャー槽44とは、配管142によって接続されてお
り、ガム液補充液が第2フィニッシャー槽44へ補充さ
れることにより、余剰となって第2フィニッシャー槽4
4のオーバーフロー管43からオーバーフローしたガム
液が配管142を介して第1フィニッシャー槽42へ流
れ込むようになっている。すなわち、第1フィニッシャ
ー槽42には、所謂カスケード方式によって第2フィニ
ッシャー槽44からガム液が供給されるようになってい
る。
42には、オーバーフロー管144、146が設けられ
ており、補充によって余剰となった現像液及びガム液が
オーバーフロー管144、146からオーバーフローし
て、廃液タンク148、150内へ排出されるようにな
っている。
一端が接続されており、この配管152の他端は、現像
槽40の上部に開口している。また、配管152の中間
部には、現像液の仕込みに用いる水を水タンク120か
ら現像槽40へ供給するための仕込みポンプ154が設
けられている。
ー10には、マイクロコンピュータを備えたコントロー
ラ160が設けられている。このコントローラ160に
は、図示しないドライバを介して、循環ポンプ102、
110、114、補充ポンプ132、134、給水ポン
プ136、140及び仕込みポンプ154が接続されて
いる。
には、ヒータ104による空焚き防止のために、現像液
の下限の液面レベルを検出するフロートスイッチ162
が設けられ、配管100には、現像液の電導度を検出す
るACセンサ166が設けられている。また、原液タン
ク116、118及び水タンク120には、レベルセン
サ168、170、172がそれぞれ設けられ、廃液タ
ンク148、150には、レベルセン174、176が
設けられている。
0には、ヒータ104と共にフロートスイッチ162、
ACセンサ166及びレベルセンサ168〜176が接
続されている。また、コントローラ160には、操作パ
ネル178と共に、PS版12の挿入を検出する挿入セ
ンサや、PS版12を搬送するためのローラ等を駆動す
る駆動手段(いずれも図示省略)などの各種センサや電
気部品が接続されている。
像液が減少して、フロートスイッチ162がオフする
と、ヒータ104による加熱を停止する。なお、このヒ
ータ104は、図示しないサーモスイッチによってオン
・オフ制御されて、現像槽40内の現像液を所定の温度
範囲に保つようになっている。
10の外板パネル14に設けられており(図1では図示
省略)、図4に示されるように、設定操作部180と警
報表示部182に分けられている。
4、予熱制御スイッチ186、再版処理スイッチ18
8、セットスイッチ190、キャンセルスイッチ19
2、アップ/現像補充スイッチ194、ダウン/循環ポ
ンプスイッチ196及びセレクト/ローラ駆動スイッチ
198が紙面右側から順に並べられて配置されている。
転スイッチ184が押下されることにより運転状態にセ
ットされ、処理液の補充や温度調整を開始し、運転可能
状態となる。また、運転可能状態から運転スイッチ18
4が押下されることにより、停止状態にセットされる。
操作パネル178には、運転スイッチ184の上方に運
転表示LED200が設けられており、図示しないブレ
ーカがオンしてPS版プロセッサー10に運転用の電力
が供給可能な状態で例えばオレンジ色に点灯し、運転ス
イッチ184によってPS版プロセッサー10がオンさ
れることにより緑色に点灯する。
184によりオンされているときに、警報が発せられて
いない場合にのみ操作可能となり、再版処理スイッチ1
88は、PS版12を副挿入口38から挿入して、現像
液の除去およびガム液の塗布処理を行うときに用いら
れ、挿入口34からPS版12が挿入されていない状態
でのみ操作可能となっている。また、セットスイッチ1
90は、設定データ、処理の確定、実行キーとして用い
られ、キャンセルスイッチ192は、アラーム発生時の
ブザー音の停止、所定の表示のクリア、データ設定時の
設定項目、設定値、設定項目のクリアや切り換え時の操
作用となっている。
ン/循環ポンプスイッチ196は、単独で操作されると
きには、現像液の補充及び循環ポンプ102、110、
114の運転/停止操作に用いられ、データ設定モード
時などでは、アップスイッチ及びダウンスイッチとして
用いられる。
8は、単独で操作されるときには、ブラシローラ60、
62を含むローラの駆動/停止に用いられ、データ設定
モード時などのように単独操作以外では、設定項目の変
更等を行うセレクトスイッチとして用いられる。
ダウン/循環ポンプスイッチ196及びセレクト/ロー
ラ駆動スイッチ198のそれぞれの上方には、表示LE
D202、204、206が配置されており、それぞれ
のスイッチが単独操作可能となっているときに、該当す
る表示LED202、204、206が点灯する。
タイマー運転に設定されることにより点灯する表示LE
D208及びPS版12の処理が可能となることにより
点灯する表示LED210と共に、LCD表示部212
が設けられている。
の温度異常、補充レベルに関する異常、廃液タンク14
8、150に関する異常、カバー35等の開閉異常、現
像液の液温異常等を示すシンボルが表示されており、そ
れぞれのシンボルの裏側にLEDが配置されており、L
EDの点灯状態によって異常の有無を表示するようにな
っている。また、操作パネル178内には、図示しない
アラームが設けられており、LEDの点灯と警告音によ
って異常の発生が報知されるようになっている。
のスイッチ操作及び各種センサの検出結果に基づいてポ
ンプ等を制御し、PS版プロセッサー10でPS版12
が最適な状態に現像処理されるようにしている。
現像槽40、第1フィニッシャー槽42及び第2フィニ
ッシャー槽44のそれぞれへの仕込み液の調液を、LC
D表示部212の表示に沿って行うことができる。この
とき、コントローラ160は、予め設定されている順序
でメッセージをLCD表示部212に表示しながら、仕
込みポンプ154、補充ポンプ134及び給水ポンプ1
40を作動させ、所定のタイミングで循環ポンプ10
2、110、114を作動させることにより、現像槽4
0、第2フィニッシャー槽44のそれぞれで、原液と希
釈水を所定の比率で供給すると共に、供給した原液と希
釈水の攪拌を行う。
立って手動で仕込みを行うか自動で仕込みを行うかを確
認し、自動で現像槽40への仕込みを行うときには、現
像槽40に規定量の現像液の原液が投入されると、現像
槽40内に設けているフロートスイッチ162によって
液面を検出するまで仕込みポンプ154を作動させて希
釈水を供給する。これにより、フロートスイッチ162
がオンするまでに供給した希釈水の量及びフロートスイ
ッチ162がオンするまでの時間から、仕込みポンプ1
54の単位時間あたりの吐出量(給水量)を演算する
と、原液を所定の希釈比で希釈するのに必要な残りの希
釈水の量と、仕込みポンプ154の単位時間あたりの吐
出量から仕込みポンプ154の運転時間を設定し、この
設定結果に基づいて仕込みポンプ154を作動させる。
04と共に循環ポンプ102を作動させることにより、
原液と希釈水が均一に混じるように攪拌しながら、予め
設定されている温度となるように温調する。
液の仕込みを行うときには、補充ポンプ134と給水ポ
ンプ140によってガム液と希釈水を所定の希釈比とな
るように供給する。このとき、コントローラ160は、
希釈比に応じて補充ポンプ134の運転時間と停止時間
を設定し、補充ポンプ134を間欠的に作動させる。こ
れにより、第2フィニッシャー槽44から仕込み途中の
液が第1フィニッシャー槽42へオーバーフロー管43
及び配管142を介してオーバーフローしても、希釈比
が変化しないようにしている。
理を開始したときに、現像槽40に設けているフロート
スイッチ162がオンして、現像槽40内に現像液が入
っているときには、再仕込みか否かを確認し、再仕込み
であるときには、現像槽40及び第2フィニッシャー槽
44に対して個別に仕込みを行うようになっている。
焼付装置等によって画像が記録されたPS版12が、挿
入台16に載置されてから、挿入口34へ挿入される。
からPS版12が挿入されると、一対の搬送ローラ32
によってこのPS版12を引き入れ、現像部22へ送り
込む。なお、PS版プロセッサー10では、挿入口34
を通過するPS版12を図示しないセンサによって検出
すると、タイマーをスタートさせる。このタイマーは、
PS版プロセッサー10でPS版12を搬送するための
駆動手段の動作と共に、第1フィニッシャー部24のス
プレーパイプ56からガム液を吐出させるタイミング
や、第2フィニッシャー部26におけるガム液の吐出タ
イミングの計測に用いる。
PS版12が水平方向に対して15°〜31°の範囲の
挿入角度で送りこまれて現像液に浸漬されながら搬送さ
れる。また、このPS版12は、17°〜31°の範囲
の排出角度で現像液中から送り出される。PS版12
は、現像部22で現像槽40内に貯留されている現像液
に浸漬されることにより、露光画像に応じて感光層が膨
潤し、膨潤した感光層が支持体から除去される。
S版12は、搬送ローラ対68によって引き出され、表
裏面に付着している現像液が絞り取られながら第1フィ
ニッシャー部24へ送られる。第1フィニッシャー部2
4では、このPS版12を搬送ローラ52、54によっ
て挟持搬送する。
記したタイマーの計測時間に基づいてスプレーパイプ5
6からガム液をを吐出する。これにより、PS版12
は、搬送ローラ52と搬送ローラ54の間を搬送される
ときに、表裏面にガム液が塗布され、搬送ローラ52、
54によってPS版12に付着して現像部22から持ち
出された現像液や現像部22で除去されずにPS版12
に付着して持ち出された膨潤して剥がれた不要な感光層
などと共に、PS版12から絞り落とされる。
したPS版12は、搬送ローラ54によって第2フィニ
ッシャー部26へ送り込まれる。第2フィニッシャー部
26では、このPS版12の表裏面にスプレーパイプ7
0及び吐出ユニット72から吐出するガム液を塗布し
て、PS版12に不感脂化処理を施す。
36を通過して、乾燥部28へ送り込まれる。なお、排
出口36に設けているシャッタ82は、PS版12の処
理開始のタイミングないしPS版12が第2フィニッシ
ャー部26から送り出されるタイミングで作動して排出
口36を開き、乾燥部28内の乾燥風が不必要に第2フ
ィニッシャー部26へ入り込んでしまうのを防止してい
る。
ローラ78、80によってPS版12を搬送しながら、
ダクト84A、84Bから乾燥風を吹き付ける。これに
より、PS版12は、塗布されているガム液によって保
護膜が形成されて排出口76から排出される。
所定のタイミング(例えば1ヶ月から3ヶ月内の所定期
間が経過するごと)で現像槽40内の現像液の入れ換え
を行う。このとき、現像槽40内の古い現像液を排出し
た後、新たな現像液を現像槽40内で仕込み液として調
液する。
がらPS版プロセッサー10での仕込み液の調製を説明
する。このフローチャートは、操作パネル178のスイ
ッチ操作によってLCD表示部212に仕込みモードが
表示された状態でセットスイッチ190を押下すること
により実行される。
処理液の仕込みに先立って現像液の希釈比と電導度及び
ガム液の希釈比が設定される。この電導度及び希釈比の
設定は、操作パネル178のスイッチ操作によって設定
モードを選択し、この設定モードでLCD表示部212
の表示にしたがって数値の入力ないし入力されている数
値の確認を行う。
されている状態で仕込み処理が選択されることにより、
最初のステップ300では、LCD表示部212にメニ
ューメッセージを表示する。このメニューメッセージ
は、図6(A)及び図6(B)に示されるように、仕込
みを自動モードで行うか手動モードで行うかの表示が、
アップスイッチ(アップ/現像補充スイッチ)194と
ダウンスイッチ(ダウン/循環ポンプスイッチ)196
によって切り換えられ、セットスイッチ190を押下す
ることにより、LCD表示部212に表示したモードが
選択される。なお、図6(C)及び図6(D)に示され
るように、ACセンサ166によって検出する電導度に
基づいて仕込みを選択するメニューを加えてもよいが、
以下では、主に電導度を用いない例で説明する。
動モードが選択されたか手動モードが選択されたかを判
断し、手動モードが選択されたときには、ステップ30
4へ移行して手動モードでの処理を行う。なお、手動モ
ードでは、従来公知の仕込み方法を用いることができ、
本実施の形態では、詳細な説明を省略する。
プ306へ移行して、図6(E)及び図6(F)に示さ
れる確認メッセージをLCD表示部212に順に表示す
る。それぞれに表示に対して、確認を示すために、セッ
トスイッチ190が操作される、ステップ308へ移行
して、現像槽40のフロートスイッチ162を確認す
る。
らず、フロートスイッチ162がオフしていることによ
り、ステップ308で肯定判定されと、PS版プロセッ
サー10では、自動モードでの仕込みを開始する。
で、LCD表示部212に、図6(G)に示すメッセー
ジを表示し、ステップ312で現像槽40に原液が投入
されたか否かを確認する。すなわち、現像槽40に規定
量の原液を投入し、図6(G)の表示がLCD表示部2
12に表示された状態で、セットスイッチ190が操作
されることにより、ステップ312で肯定判定される。
槽40の仕込み液となる現像液の原液を手作業で現像槽
40に投入するようにしているが、PS版プロセッサー
10内又は機外からポンプ等によって原液を自動的に現
像槽40へ投入するようにしてもよい。
テップ314では、仕込みポンプ154を作動させて、
現像槽40への希釈水の供給を開始する。これにより、
LCD表示部212には、図7(A)に示されるよう
に、給水を行っていることを示す表示がなされる。
ンプ134と給水ポンプ140を作動させて、フィニッ
シャー槽44へのガム液の原液と、このガム液の原液を
所定の希釈比で希釈する希釈水の供給を開始する。
プ154を作動させてからの経過時間が所定時間(例え
ば10分)に達したか否かを確認し、ステップ320で
は、現像槽40内の液量が規定のレベルに達したか否か
をフロートスイッチ162によって判断する。
液面が上昇してフロートスイッチ162がオンしたか否
かを確認し、フロートスイッチ216がオンする(ステ
ップ320で肯定判定)と、ステップ322へ移行し
て、仕込みポンプ154の単位時間あたりの吐出量を演
算し、この演算結果に基づいてさらに仕込みポンプ15
4を作動させて、原液を所定の希釈比で希釈するのに必
要な残りの希釈水の供給を行う。なお、所定時間以内に
フロートスイッチ162がオンしないときには、ステッ
プ318で肯定判定されて、ステップ324へ移行し、
「仕込み処理不可」を示すエラー表示を行うと共にアラ
ームによって報知する。
所定の比率で希釈するのに必要な量の希釈水の供給が終
了して仕込みポンプ154が停止すると、ステップ32
6では、循環ポンプ102及びヒータ104を作動させ
て、現像槽40内の仕込み液を攪拌しながら温調する。
この温調開始に合わせてLCD表示部212には、図7
(B)に示される表示がなされる。
は、例えば、ヒータ104をオンしながら、循環ポンプ
102を所定時間(例えば18分)作動させ、図示しな
い温度センサによって検出する現像槽40内の仕込み液
の温度が所定の温度範囲(例えば25℃〜30℃程度)
に達した時点で終了する。このとき、所定時間経過して
も、仕込み液が所定の温度範囲に達しなければ、所定の
温度範囲となるまで、ヒータ104と共に継続して循環
ポンプ102を作動させながら温調を行う。
の仕込みを行うときには、所定のタイミングで、図7
(C)に示される表示を行いながらACセンサ166で
電導度を測定し、この測定結果から必要に応じて仕込み
ポンプ154を作動させて、給水を行い、電導度が所定
の範囲となるようにする。
みは、ガム液の原液に対する希釈比に基づいて、補充ポ
ンプ134の作動時間を設定する。例えば、給水ポンプ
140を連続的に運転しながら、この設定時間に基づい
て補充ポンプ134を間欠的に運転する。
の間欠運転は、原液:1に対して希釈水:N(希釈比
N)で希釈するときに、補充ポンプ134と給水ポンプ
140の吐出量が同じ場合、補充ポンプ134のオン時
間Ton、補充ポンプ134のオフ時間Toffを、 Ton=Ta*(1/N) Toff=Ta*(N−1)/N (ただし、Taは、間欠運転をするときの1サイクルの
時間)とする。例えば、希釈比N=6、Ta=60secと
したときには、Ton=10sec、Toff=50secとすれ
ばよい。なお、1回の補充ポンプ134の運転時間が短
くなった場合、吐出量に誤差が生じることがあるので、
オン時間Tonが所定時間(例えば8sec)以下となると
きには、オン時間Tonをこの時間(Ton=8sec)に設
定し、例えば、希釈比N=26としたときには、オン時
間Ton=8secとし、オフ時間Toff=Ton*(N−1)
=200secとするなど、オフ時間Toffを所定の希釈比
が得られるように長くしている。
は、時間Taごとに所定の希釈比に保たれた原液と希釈
水が供給されることになる。
ニッシャー槽44に供給した原液と希釈水の量が、循環
ポンプ114がエアーロックの生じない量に達したとき
に、循環ポンプ114を作動させて第2フィニッシャー
槽44に供給した仕込み液の攪拌を行う。このとき、補
充ポンプ134が停止するごとに、時間Tb(例えばTb
=30sec)の間、循環ポンプ114を運転するのを繰
り返す。
34を間欠的に運転することにより、第2フィニッシャ
ー槽44には、ガム液の原液と希釈水が、略希釈比率が
保ったれた状態でガム液と希釈水の供給が行われる。し
たがって、ガム液と希釈水の供給途中でオーバーフロー
レベルに達して、ガム液又は希釈水のいずれか一方のみ
が、オーバーフロー管43、配管142を介して第2フ
ィニッシャー槽44から第1フィニッシャー槽42へ流
れ込むことにより、第2フィニッシャー槽44内の仕込
み液が、設定した希釈比から大きく外れしまうのを防止
できる。すなわち、第2フィニッシャー槽44内の仕込
み液がオーバーフローしても、所定の希釈比の仕込み液
を第1フィニッシャー槽42へ送ることができる。
間欠的に作動させることにより、攪拌効果も得られるの
で、原液と希釈水を攪拌するための循環ポンプ114の
作動時間を短くでき、仕込み時間の短縮を図ることがで
きる。
ようにして、現像槽40、第1フィニッシャー槽42及
び第2フィニッシャー槽44への仕込みを行いながら、
ステップ328で現像槽40への仕込みが完了したか否
かを確認し、現像槽40への仕込みが完了すると(ステ
ップ328で肯定判定)、ステップ330で、第1フィ
ニッシャー槽42及び第2フィニッシャー槽44のそれ
ぞれで仕込み液の調液が完了したか否かを確認する。な
お、第1フィニッシャー槽42には、カスケード方式に
よって第2フィニッシャー槽44から仕込み液が供給さ
れるので、第2フィニッシャー槽44での仕込み処理
は、第1フィニッシャー槽42のガム液が規定の液面レ
ベルに達するタイミングで終了される。
いるが、第1フィニッシャー槽42及び第2フィニッシ
ャー槽44への仕込みが終了していないとき(ステップ
330で否定判定)には、ステップ332へ移行して、
図7(D)に示されるように、第1フィニッシャー槽4
2及び第2フィニッシャー槽44での仕込みを行ってい
ることを示す表示がなされる。
ッシャー槽42及び第2フィニッシャー槽44へのガム
液の仕込みが終了し、ステップ330で肯定判定される
と、ステップ334へ移行して、現在までのPS版プロ
セッサー10でのPS版12の処理量等の積算値をクリ
アして、仕込みを終了する。
槽40への現像液の仕込み処理が終了している状態で、
第1フィニッシャー槽42ないし第2フィニッシャー槽
44へのガム液の仕込み処理が必要となったときにも、
自動モードでの仕込み処理が可能となっている。
が完了しているため、フロートスイッチ162がオンし
ており、これにより、図5に示されるフローチャートで
は、ステップ308で否定判定され、ステップ336へ
移行し、現像槽40を除く第1フィニッシャー槽42と
第2フィニッシャー槽44に対して、初回の仕込みか否
かを確認する。
び第2フィニッシャー槽44内のガム液が排出されてい
る状態で、初回の仕込みと判断されるときには、ステッ
プ336で肯定判定されて、ステップ338へ移行す
る。
ップ316と同様に、給水ポンプ140を作動させなが
ら補充ポンプ134を所定の希釈比に応じて間欠的に作
動させて、第2フィニッシャー槽44へガム液の原液と
希釈水の供給を開始する。
槽40内に貯留している現像液の攪拌及び温調を開始す
る。これにより、現像槽40内の現像液が所定の温度と
なるように温調され、第1フィニッシャー槽42及び第
2フィニッシャー槽44のそれぞれへ所定量のガム液の
原液と希釈水の供給を完了することにより、仕込み処理
が終了する。
は、現像槽40、第1フィニッシャー槽42及び第2フ
ィニッシャー槽44への仕込み処理を行う場合、また
は、現像槽40を除く、カスケード方式によって接続さ
れている第1フィニッシャー槽42と第2フィニッシャ
ー槽44への仕込みの場合には、自動モードでの処理が
可能となっている。
ず、第1フィニッシャー槽42に相当する洗浄槽42又
は第2フィニッシャー槽44に相当するフィニッシャー
槽44の何れか一方の仕込みが完了しなかった場合に
は、ステップ336で否定判定されることになる。
と、このステップ340では、図7(E)に示されるよ
うに、洗浄槽42への給水が完了したかを確認する表示
がなされる。また、ステップ344では、図7(F)に
示されるように、フィニッシャー槽44への仕込みが完
了したか否かを確認する表示がなされる。さらに、ステ
ップ342及びステップ346では、オペレータがLC
D表示部212の表示を確認したかを判断している。
るが、フィニッシャー槽44への仕込みが終了していな
いときには、オペレータは、LCD表示部2512に、
図7(E)に示される表示がなされている状態で、セッ
トスイッチ190を押下することにより、ステップ34
2で肯定判定されて、ステップ344へ移行する。
してフィニッシャー槽44が選択される。
槽44へ仕込み液(ガム液の原液と所定比率で希釈する
希釈水)を投入し、図7(F)に示される表示がなされ
ている状態で、セットスイッチ190を押下する。
いときには、LCD表示部212に図7(E)に示され
る表示がなされ、給水をする洗浄槽42が選択されてい
る状態で、洗浄槽42に規定量の水を投入した後に、操
作パネル178のセットスイッチ190を押下する。こ
れにより、ステップ342で肯定判定されて、LCD表
示部212には、図7(F)に示される表示がなされ、
ガム液の仕込みが完了していないときには、フィニッシ
ャー槽44が選択されて、例えば、手作業でフィニッシ
ャー槽44へガム液の原液と所定比率で希釈する希釈水
を投入後、図7(F)に示される表示がなされている状
態で、セットスイッチ190を押下する。
ャー槽44への仕込みが終了したことが確認されると、
ステップ334へ移行し、積算値をリセットして、仕込
み処理を終了する。
は、現像槽40、洗浄槽42及びフィニッシャー槽44
への仕込みを一括して行うことができると共に、現像槽
40を除いて、カスケード接続されている洗浄槽(第1
フィニッシャー槽)42とフィニッシャー槽(第2フィ
ニッシャー槽)44への仕込みを行うことができる。さ
らに、手作業となるが、他の処理槽経の仕込みが完了し
ていることを確認しながら、洗浄槽42又はフィニッシ
ャー槽44の何れか一方への仕込みも行うことができ
る。
必要ないのにもかかわらず、全ての処理槽経の仕込みが
行われてしまうために、処理液が無駄に排出されてしま
うのを防止できると共に、廃液量も抑えることができ
る。
では、それぞれ手作業で洗浄水の給水及びガム液の原液
と希釈水を投入したが、これに限らず給水ポンプを使っ
て洗浄水を給水し、ガム液の原液を補充ポンプ134で
補充し、希釈水を給水ポンプ140で給水するようにし
ても良い。
定するものではない。例えば、本実施の形態では、第2
フィニッシャー槽44から仕込み液がオーバーフローす
ることによりガム液の希釈比が変わるのを防止するため
に、補充ポンプ134を希釈比に応じて間欠的に運転し
たが、希釈比の変化を防止するために、ガム液の原液及
び希釈水の供給と共に、仕込み液の攪拌が終了するま
で、第2フィニッシャー槽44からのオーバーフローを
防止する阻止手段を設けてもよい。
ッサー10Aの一例を示している。このPS版プロセッ
サー10Aは、第1フィニッシャー槽42と第2フィニ
ッシャー槽44を用いた前記実施例と共通の処理タンク
を用い、現像部22、水洗部24A及びフィニッシャー
部26Aを構成するようにしている。
に代わる水洗槽42Aには、PS版12を洗浄する水洗
水が貯留されるようになっており、一端が給水タンク1
20内に挿入された配管128の他端が水洗槽42Aの
上方に開口されている。また、この配管128には、給
水ポンプ138が設けられており、この給水ポンプ13
8の作動によって水洗槽42Aへの給水が行われる。こ
のとき、管路45の上方は、蓋体47により密閉されて
水洗槽42Aとして使用できるようになっている。この
ようにすることによって、一種類の処理タンクを複数の
機種のPS版プロセッサーに使用することができ、処理
タンクの製作の手間を省くことができると共に、コスト
ダウンを図ることができる。
ニッシャー槽44に代わるフィニッシャー槽44Aで
は、余剰となったガム液が配管142Aによって廃液タ
ンク150へオーバーフローされるようになっている。
ニッシャー槽44Aからオーバーフローしたガム液を廃
液タンク150へオーバーフローさせる配管142Aに
電磁弁220を設けている。この電磁弁220は、コン
トローラ160に接続されており(図示省略)、電磁弁
220を閉状態にして配管142Aを閉塞することによ
り、フィニッシャー槽44Aを単独で使用できるように
している。
ガム液の原液に対する希釈比に基づいて、給水ポンプ1
40を連続的に運転しながら原液の補充ポンプ134を
間欠的に運転して、希釈水及びガム液を供給することに
より、ガム液の調液時間を短縮すると共に、所望の希釈
比の仕込み液を調液することができる。
々の構成が適用可能である。例えば、フィニッシャー槽
44Aの底部を蛇腹形状に形成し、仕込み液を調液する
ときにのみ、フィニッシャー槽44A内の容量が大きく
なるようにしてもよい。このような構成を用いても、フ
ィニッシャー槽44Aから仕込み途中の液がオーバーフ
ローしてしまうのを確実に防止することができ、確実に
所望の希釈比となるように仕込み液を調液することがで
きる。
0を連続的に運転しながらガム液の原液の補充ポンプ1
34を間欠的に運転してガム液を仕込むようにしたが、
これに限定されず、水とは異なる希釈液を連続的に供給
すると共に、ガム液の原液とは異なる処理液の原液を間
欠的に供給して処理液を仕込むようにしても良い。
る希釈液として水を用いたが、これに限定されず、希釈
液として水に処理原液の成分を加えたもの、水に水アカ
防止剤等の添加剤を加えたものなど、種々の液を使用す
ることができる。
を連続的に作動させ、ガム液を補充する補充ポンプ13
4を間欠的に作動させたが、これに限らず、ガム液を補
充する補充ポンプ134を連続的に作動させ、給水ポン
プ140を間欠的に作動させるようにしても良い。
感光性平版印刷版であるPS版12を処理するPS版プ
ロセッサー10を用いて説明したが、PS版12に限ら
ず、印画紙や写真フィルム等の種々の感光材料を処理す
る感光材料処理装置に適用することができる。
込みを行う処理液を任意に選択できるので、仕込みが適
正に終了している処理槽や仕込みを行わない処理槽への
仕込みが行われてしまうことによる処理液の無駄や廃液
の増加を防止することができる。また、本発明では、オ
ーバーフロー手段が設けられている処理槽内の原液と希
釈水の比率を所定の希釈比に保つことができると言う優
れた効果が得られる。
概略構成図である。
図である。
図である。
一例を示す概略構成図である。
る。
るフローチャートに沿った表示の一例を示す概略図であ
る。
るフローチャートに沿った表示の一例を示す概略図であ
る。
充ポンプと給水ポンプ及び循環ポンプの動作の概略を示
すタイミングチャートである。
サーの配管系統を示す概略構成図である。
液仕込み装置) 12 PS版(感光材料) 40 現像槽(処理槽) 42 第1フィニッシャー槽(処理槽) 44 第2フィニッシャー槽(処理槽) 102、110、114 循環ポンプ 134 補充ポンプ(原液供給手段) 140 給水ポンプ(給液手段) 142 配管(オーバーフロー手段) 154 仕込みポンプ(給液手段) 160 コントローラ(仕込み制御手段、表示手段) 178 操作パネル(表示手段) 212 LCD表示部(表示手段) 220 電磁弁(阻止手段)
Claims (5)
- 【請求項1】 複数の処理槽のそれぞれに貯留した処理
液によって感光材料を処理する感光材料処理装置に用い
られ、前記処理槽で処理液の原液を希釈液によって所定
の比率で希釈して仕込み液を調液する処理液の仕込み装
置であって、 前記処理槽に所定量の処理液の原液を供給する原液供給
手段と、 前記処理槽に前記処理液の原液を予め設定される希釈比
で希釈する希釈液を供給する給液手段と、 前記複数の処理槽の中から仕込み液を調液する処理槽が
選択され、前記選択された処理槽に対して設けられてい
る前記給液手段及び前記原液供給手段の作動を制御して
処理液の仕込みを行う仕込み制御手段と、 を含むことを特徴とする処理液の仕込み装置。 - 【請求項2】 処理液の仕込みの手順を表示する表示手
段を含み、前記仕込み制御手段が、前記表示手段の表示
に基づいて前記選択された処理槽に対応した前記原液供
給手段ないし前記給液手段の作動を制御することを特徴
とする請求項1に記載の処理液の仕込み装置。 - 【請求項3】 処理液の液面が所定レベルを越えたとき
に、該レベル以上の処理液をオーバーフローさせて処理
槽から排出するオーバーフロー手段が設けられた前記処
理槽に貯留した処理液によって感光材料を処理する感光
材料処理装置に用いられ、前記処理槽で処理液の原液を
希釈液によって所定の比率で希釈して仕込み液を調液す
る処理液の仕込み装置であって、 前記処理槽に所定量の処理液の原液を供給する原液供給
手段と、 前記処理槽に前記処理液の原液を予め設定される希釈比
で希釈する希釈液を供給する給液手段と、 前記原液供給手段及び前記給液手段を制御して前記処理
槽で処理液の仕込みを行うときに、原液供給手段又は給
液手段のうちの一方を連続的に作動させると共に他方を
間欠的に作動させる仕込み制御手段と、 を含むことを特徴とする処理液の仕込み装置。 - 【請求項4】 前記間欠運転を行う時の所定時間内の運
転時間及び停止時間を前記希釈比に基づいて設定してい
ることを特徴とする請求項3に記載の処理液の仕込み装
置。 - 【請求項5】 処理液の液面が所定レベルを越えたとき
に、該レベル以上の処理液をオーバーフローさせて処理
槽から排出するオーバーフロー手段が設けられた前記処
理槽に貯留している処理液によって感光材料を処理する
感光材料処理装置であって、 前記処理槽での処理液の仕込みを行うときにのみ、前記
オーバーフロー手段による前記処理槽からの処理液のオ
ーバーフローを阻止する阻止手段、が設けられたことを
特徴とする感光材料処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8921199A JP2000284501A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8921199A JP2000284501A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000284501A true JP2000284501A (ja) | 2000-10-13 |
Family
ID=13964396
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8921199A Pending JP2000284501A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000284501A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015016892A (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-29 | 富士電機株式会社 | 飲料供給装置 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP8921199A patent/JP2000284501A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015016892A (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-29 | 富士電機株式会社 | 飲料供給装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000284501A (ja) | 処理液の仕込み装置及び感光材料処理装置 | |
US5579076A (en) | Method and apparatus for processing photosensitive material | |
JP2003197508A (ja) | 現像装置及び現像方法 | |
JP2000105465A (ja) | 処理液感度補正装置 | |
JP4359403B2 (ja) | 処理液の調整方法及び感光材料処理装置 | |
JP2000284500A (ja) | 感光材料処理装置及び処理液の調液方法 | |
JP3467132B2 (ja) | 給排水装置 | |
JP2000284499A (ja) | 感光材料処理装置 | |
JPH0728220A (ja) | 感光材料処理装置の補充液補充方法 | |
JP2003270766A (ja) | 自動現像装置 | |
JPH0252352A (ja) | 感光性平版印刷版現像処理方法および装置 | |
JPH0437756A (ja) | 感光材料処理装置の処理液供給装置 | |
JP2002278345A (ja) | 定着装置 | |
JP3725674B2 (ja) | 感光材料処理液補充装置 | |
JP3529564B2 (ja) | 処理剤補給装置 | |
JP2003280155A (ja) | 自動現像装置 | |
JP2005099282A (ja) | 製版システム | |
JPH07219284A (ja) | 電子写真平版印刷版処理装置 | |
JPH0387837A (ja) | 感光材料処理装置 | |
JP2001281883A (ja) | 感光材料処理装置のフィニッシング液管理システム | |
JP2002351035A (ja) | 写真処理装置 | |
JPH05100501A (ja) | 電子写真平版印刷版処理装置 | |
JPH0437753A (ja) | 感光材料処理装置の処理液供給装置 | |
JPH07295236A (ja) | 印刷版処理システム | |
JPH06194807A (ja) | 感光材料の処理方法及び感光材料処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040819 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20061207 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 |
|
A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20070831 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070911 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20071112 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20071218 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20080408 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |