JP2000283841A - 光スペクトル分析装置における波長校正方法およびその装置 - Google Patents
光スペクトル分析装置における波長校正方法およびその装置Info
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/28—Investigating the spectrum
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、光スペクトル分析装置に係り、特
に校正誤差の低減を図った波長校正方法及び波長校正装
置を提供する。 【解決手段】 発光ダイオードから出射された所定の波
長帯域を持つ光は、ガス吸収セルに入射する。この、ガ
ス吸収セルには、複数の吸収スペクトルを持つ気体が封
入されている。ガス吸収セルに入射した光はこの気体に
よって、複数の波長を吸収される。この時、吸収される
波長は既知のものであり、この値は光スペクトル分析部
５８内の記憶部に予め設定されている。ガス吸収セルを
透過した光は、光スペクトル分析部５８へ入射し、演算
処理され、光スペクトルが得られる。光スペクトル分析
部５８内のＣＰＵは、この光スペクトルのうち吸収量が
多い複数の波長を基準とし、予め設定されている波長と
比較し、波長誤差を算出する。そして、その波長誤差を
平均した値に基づいて校正値を決定し、光スペクトル分
析装置の波長校正を行う。
に校正誤差の低減を図った波長校正方法及び波長校正装
置を提供する。 【解決手段】 発光ダイオードから出射された所定の波
長帯域を持つ光は、ガス吸収セルに入射する。この、ガ
ス吸収セルには、複数の吸収スペクトルを持つ気体が封
入されている。ガス吸収セルに入射した光はこの気体に
よって、複数の波長を吸収される。この時、吸収される
波長は既知のものであり、この値は光スペクトル分析部
５８内の記憶部に予め設定されている。ガス吸収セルを
透過した光は、光スペクトル分析部５８へ入射し、演算
処理され、光スペクトルが得られる。光スペクトル分析
部５８内のＣＰＵは、この光スペクトルのうち吸収量が
多い複数の波長を基準とし、予め設定されている波長と
比較し、波長誤差を算出する。そして、その波長誤差を
平均した値に基づいて校正値を決定し、光スペクトル分
析装置の波長校正を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光スペクトル分析
装置に係り、特に校正誤差の低減を図った光スペクトル
分析装置における波長校正方法および波長校正装置に関
するものである。
装置に係り、特に校正誤差の低減を図った光スペクトル
分析装置における波長校正方法および波長校正装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の光スペクトル分析装置の波長校正
方法においては、まず、所定の波長帯域を持つ光が光源
から出射されると、この光はレンズにより平行光に変換
される。平行光に変換された光は、気体が封入されてい
るガス吸収セルに入射する。このガス吸収セルには、あ
る特定の波長成分のみを吸収する特性を持つ気体が封入
されている。そして、この気体によって、入射した光の
特定の波長成分が吸収される。この時吸収される波長は
既知のものであり、記憶部に基準波長として一波長のみ
予め設定されている。
方法においては、まず、所定の波長帯域を持つ光が光源
から出射されると、この光はレンズにより平行光に変換
される。平行光に変換された光は、気体が封入されてい
るガス吸収セルに入射する。このガス吸収セルには、あ
る特定の波長成分のみを吸収する特性を持つ気体が封入
されている。そして、この気体によって、入射した光の
特定の波長成分が吸収される。この時吸収される波長は
既知のものであり、記憶部に基準波長として一波長のみ
予め設定されている。
【０００３】前述したガス吸収セルを透過した光は、レ
ンズにより集光された後、光スペクトルを分析する光ス
ペクトル分析部に入射し、光のスペクトルが得られる。
そして、光スペクトル分析部で得られた光スペクトルの
情報は、校正を実行するＣＰＵ部に出力される。ＣＰＵ
部では、この光スペクトルのうち最も吸収量の多い波長
を検出する。すなわち、前述したガス吸収セルにおいて
吸収された波長成分の内の一波長のみ検出される。そし
て、検出された一波長と、予め記憶部に基準波長として
設定されている既知の波長とを比較し、波長誤差を算出
する。そして、ＣＰＵ部は、その波長誤差に基づいて校
正値を決定し、その校正値に基づいて、光スペクトル分
析装置の校正が行われる。
ンズにより集光された後、光スペクトルを分析する光ス
ペクトル分析部に入射し、光のスペクトルが得られる。
そして、光スペクトル分析部で得られた光スペクトルの
情報は、校正を実行するＣＰＵ部に出力される。ＣＰＵ
部では、この光スペクトルのうち最も吸収量の多い波長
を検出する。すなわち、前述したガス吸収セルにおいて
吸収された波長成分の内の一波長のみ検出される。そし
て、検出された一波長と、予め記憶部に基準波長として
設定されている既知の波長とを比較し、波長誤差を算出
する。そして、ＣＰＵ部は、その波長誤差に基づいて校
正値を決定し、その校正値に基づいて、光スペクトル分
析装置の校正が行われる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】光スペクトル分析装置
の測定結果は、装置の持つ特性からある範囲の変動が避
けられず、図４に示すような波長直線性（測定誤差の最
大−最小）を示す。この図に示すように、光スペクトル
分析装置の波長直線性は最大で０．０４ｎｍである。
今、仮に最も波長誤差の小さいλＡを基準波長として校
正が行われるとすると、図４における波長誤差Ｄが補正
され、校正後の各波長における測定誤差は図５のように
なり、最大で０．０４ｎｍの測定誤差が生じる。
の測定結果は、装置の持つ特性からある範囲の変動が避
けられず、図４に示すような波長直線性（測定誤差の最
大−最小）を示す。この図に示すように、光スペクトル
分析装置の波長直線性は最大で０．０４ｎｍである。
今、仮に最も波長誤差の小さいλＡを基準波長として校
正が行われるとすると、図４における波長誤差Ｄが補正
され、校正後の各波長における測定誤差は図５のように
なり、最大で０．０４ｎｍの測定誤差が生じる。
【０００５】このように、一波長のみを基準として校正
を行う従来の校正方法では、校正の基準となる波長によ
っては、最大０．０４ｎｍの波長誤差が生じてしまうと
いう欠点があった。本発明は、このような事情に鑑みて
なされたもので、光スペクトル分析装置の測定誤差をさ
らに低減することができる波長校正方法及び校正装置を
提供することを目的とする。
を行う従来の校正方法では、校正の基準となる波長によ
っては、最大０．０４ｎｍの波長誤差が生じてしまうと
いう欠点があった。本発明は、このような事情に鑑みて
なされたもので、光スペクトル分析装置の測定誤差をさ
らに低減することができる波長校正方法及び校正装置を
提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、所定波長帯域の光を出射
する光源から出射された光を、ガス吸収セルを通過させ
て特定波長の光を吸収させ、その吸収後の光のスペクト
ルの測定結果に基づいて波長校正を行う光スペクトル分
析装置における波長校正方法において、前記測定結果で
得られた光スペクトルのうち吸収量の多い複数の波長の
測定結果と予め設定されている基準値との誤差を検出
し、検出した誤差の平均値を算出し、該平均値に基づい
て波長校正を行うことを特徴とする。
に、請求項１に記載の発明は、所定波長帯域の光を出射
する光源から出射された光を、ガス吸収セルを通過させ
て特定波長の光を吸収させ、その吸収後の光のスペクト
ルの測定結果に基づいて波長校正を行う光スペクトル分
析装置における波長校正方法において、前記測定結果で
得られた光スペクトルのうち吸収量の多い複数の波長の
測定結果と予め設定されている基準値との誤差を検出
し、検出した誤差の平均値を算出し、該平均値に基づい
て波長校正を行うことを特徴とする。
【０００７】また、請求項２に記載の発明は、所定波長
帯域の光を出射する光源と、前記基準光源から出射され
た光のうち特定波長の光を吸収するガス吸収セルと、前
記ガス吸収セルを通過した光のスペクトルのうち吸収量
の多い複数の波長の測定結果と予め設定されている基準
値との波長誤差を検出する波長誤差検出手段と、前記波
長誤差検出手段によって検出された波長誤差の平均値を
算出する演算手段とを具備し、前記演算手段によって算
出された平均値に基づいて波長校正を行うことを特徴と
する。
帯域の光を出射する光源と、前記基準光源から出射され
た光のうち特定波長の光を吸収するガス吸収セルと、前
記ガス吸収セルを通過した光のスペクトルのうち吸収量
の多い複数の波長の測定結果と予め設定されている基準
値との波長誤差を検出する波長誤差検出手段と、前記波
長誤差検出手段によって検出された波長誤差の平均値を
算出する演算手段とを具備し、前記演算手段によって算
出された平均値に基づいて波長校正を行うことを特徴と
する。
【０００８】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
記載の光スペクトル分析装置における波長校正装置にお
いて、前記光源は、所定の波長帯域を持つ光を出射する
発光ダイオードであることを特徴とする。また、請求項
４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の光
スペクトル分析装置における波長校正装置において、前
記ガス吸収セルは複数の吸収スペクトルを有する気体が
封入されていることを特徴とする。
記載の光スペクトル分析装置における波長校正装置にお
いて、前記光源は、所定の波長帯域を持つ光を出射する
発光ダイオードであることを特徴とする。また、請求項
４に記載の発明は、請求項２または請求項３に記載の光
スペクトル分析装置における波長校正装置において、前
記ガス吸収セルは複数の吸収スペクトルを有する気体が
封入されていることを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施形態について詳細に説明する。図１は、光スペクト
ル分析装置の概略構成を示すブロック図である。図１に
おいて、５０は被測定光を入射させる光入射端である。
５２は光ファイバであり、光入射端５０と、光スイッチ
５４の間に接続されている。光スイッチ５４は、２つの
光入射端と１つの光出射端とを有し、制御部６０で制御
され、何れか一方の光入射端と光出射端とを光学的に接
続し、何れか一方の入射端から入射する光を光出射端か
ら出射させる。光スイッチ５４の光出射端には光ファイ
バ５６の一端が接続されている。また、光ファイバ５６
の他端には光スペクトル分析部５８の光入射端が接続さ
れている。
実施形態について詳細に説明する。図１は、光スペクト
ル分析装置の概略構成を示すブロック図である。図１に
おいて、５０は被測定光を入射させる光入射端である。
５２は光ファイバであり、光入射端５０と、光スイッチ
５４の間に接続されている。光スイッチ５４は、２つの
光入射端と１つの光出射端とを有し、制御部６０で制御
され、何れか一方の光入射端と光出射端とを光学的に接
続し、何れか一方の入射端から入射する光を光出射端か
ら出射させる。光スイッチ５４の光出射端には光ファイ
バ５６の一端が接続されている。また、光ファイバ５６
の他端には光スペクトル分析部５８の光入射端が接続さ
れている。
【００１０】図２は光スペクトル分析部５８の構成を示
すブロック図である。図２において１２は入射スリッ
ト、１４は凹面鏡、１６は回折格子である。入射スリッ
ト１２は、入射した光の波長帯域を制限する。凹面鏡１
４は、入射スリット１２の通過光を、平行光に変換す
る。回折格子１６は、表面に多数の溝が構成されてお
り、凹面鏡１４で変換された平行光を波長毎に空間的に
分離する。
すブロック図である。図２において１２は入射スリッ
ト、１４は凹面鏡、１６は回折格子である。入射スリッ
ト１２は、入射した光の波長帯域を制限する。凹面鏡１
４は、入射スリット１２の通過光を、平行光に変換す
る。回折格子１６は、表面に多数の溝が構成されてお
り、凹面鏡１４で変換された平行光を波長毎に空間的に
分離する。
【００１１】回折格子１６は図中符号Ｄ１が付された方
向に回動可能なステージ１７上に配されており、ステー
ジ１７の回動に合わせて符号Ｄ１が付された方向に回動
する。１８は凹面鏡であり、回折格子１６によって波長
毎に空間的に分離された光のうち、凹面鏡１８に入射し
た光のみを出射スリット２０のスリット位置に結像させ
るものである。出射スリット２０は、凹面鏡１８によっ
てスリット位置に結像された光の波長帯域を制限するた
めのものである。
向に回動可能なステージ１７上に配されており、ステー
ジ１７の回動に合わせて符号Ｄ１が付された方向に回動
する。１８は凹面鏡であり、回折格子１６によって波長
毎に空間的に分離された光のうち、凹面鏡１８に入射し
た光のみを出射スリット２０のスリット位置に結像させ
るものである。出射スリット２０は、凹面鏡１８によっ
てスリット位置に結像された光の波長帯域を制限するた
めのものである。
【００１２】上記入射スリット１２、凹面鏡１４、回折
格子１６、凹面鏡１８、および出射スリット２０はツェ
ルニ・ターナ形分散分光器と呼ばれる分光器をなす。２
２はフォトダイオード等の光検出器であり、出射スリッ
ト２０から出射される光の強度を電気信号に変換するた
めのものである。２４は光検出器２２から出力される電
気信号を増幅する増幅器である。２６は増幅器２４で増
幅された値をディジタル信号に変換するアナログ／ディ
ジタル変換器（以下、Ａ／Ｄコンバータと称する）であ
る。
格子１６、凹面鏡１８、および出射スリット２０はツェ
ルニ・ターナ形分散分光器と呼ばれる分光器をなす。２
２はフォトダイオード等の光検出器であり、出射スリッ
ト２０から出射される光の強度を電気信号に変換するた
めのものである。２４は光検出器２２から出力される電
気信号を増幅する増幅器である。２６は増幅器２４で増
幅された値をディジタル信号に変換するアナログ／ディ
ジタル変換器（以下、Ａ／Ｄコンバータと称する）であ
る。
【００１３】また、図中２８は回折格子１６が配された
ステージ１７を回動させるモータであり、２９はモータ
２８の回動軸である。そして、モータ２８の回動軸２９
が、符号Ｄ２が付された方向に回動することによって、
ステージ１７および回折格子１６を符号Ｄ１が付された
方向に回動させる。３０はモータ駆動回路であり、後述
するＣＰＵ３４から出力される制御信号に応じてモータ
２８の回動軸２９の回動動作を制御する。３６は、例え
ばＣＲＴ（陰極線管）、液晶等の表示装置である。４０
はタイマであり、日付時間機能を果たすものである。
ステージ１７を回動させるモータであり、２９はモータ
２８の回動軸である。そして、モータ２８の回動軸２９
が、符号Ｄ２が付された方向に回動することによって、
ステージ１７および回折格子１６を符号Ｄ１が付された
方向に回動させる。３０はモータ駆動回路であり、後述
するＣＰＵ３４から出力される制御信号に応じてモータ
２８の回動軸２９の回動動作を制御する。３６は、例え
ばＣＲＴ（陰極線管）、液晶等の表示装置である。４０
はタイマであり、日付時間機能を果たすものである。
【００１４】ＣＰＵ３４には、前述したＡ／Ｄコンバー
タ２６、モータ駆動回路３０、表示装置３６、タイマ４
０、後述の制御部６０がバスＢにより接続されている。
そして、ＣＰＵ３４は、モータ駆動回路３０を制御する
制御信号を出力するとともに、Ａ／Ｄコンバータ２６か
ら出力されるディジタル信号を演算処理し、例えばスペ
クトラム分布を表示装置３６に表示させる。また、ＣＰ
Ｕ３４は、タイマ４０から出力される日付時間信号に基
づいて、光スペクトル分析部の電源が投入されてから所
定の時間後、または操作者の所望の時間間隔（例えば１
時間間隔、１日間隔）で光スペクトル分析装置の校正を
行うためのプログラムを実行する。
タ２６、モータ駆動回路３０、表示装置３６、タイマ４
０、後述の制御部６０がバスＢにより接続されている。
そして、ＣＰＵ３４は、モータ駆動回路３０を制御する
制御信号を出力するとともに、Ａ／Ｄコンバータ２６か
ら出力されるディジタル信号を演算処理し、例えばスペ
クトラム分布を表示装置３６に表示させる。また、ＣＰ
Ｕ３４は、タイマ４０から出力される日付時間信号に基
づいて、光スペクトル分析部の電源が投入されてから所
定の時間後、または操作者の所望の時間間隔（例えば１
時間間隔、１日間隔）で光スペクトル分析装置の校正を
行うためのプログラムを実行する。
【００１５】図１に戻り、制御部６０は、光スペクトル
分析部５８から出力される制御信号に基づいて、光スイ
ッチ５４の光入射端を切り換える制御を行う。また、制
御部６０は上記制御信号に基づいて基準光源６２の動作
を制御する動作信号を出力する。
分析部５８から出力される制御信号に基づいて、光スイ
ッチ５４の光入射端を切り換える制御を行う。また、制
御部６０は上記制御信号に基づいて基準光源６２の動作
を制御する動作信号を出力する。
【００１６】基準光源６２は、例えば図３に示した構成
を有する。図３において１００は、発光ダイオードであ
る。１０２は発光ダイオード１００から出射された光を
平行光に変換するレンズである。１０４は、例えばアセ
チレンガスが封入されたガス吸収セルであり、この気体
固有の波長の光を吸収する。このガス吸収セル１０４は
周囲の環境、例えば温度変化等にかかわらず、極めて安
定している。つまり、周囲の温度が変化しても吸収する
波長の中心はほぼ一定である。１０６は、ガス吸収セル
１０４を透過した光を集束するレンズである。このレン
ズ１０６の焦点は光ファイバ１０８の一端の位置となる
ように設定されている。光ファイバ１０８は、光スイッ
チ５４の他方の光入射端に接続されている。
を有する。図３において１００は、発光ダイオードであ
る。１０２は発光ダイオード１００から出射された光を
平行光に変換するレンズである。１０４は、例えばアセ
チレンガスが封入されたガス吸収セルであり、この気体
固有の波長の光を吸収する。このガス吸収セル１０４は
周囲の環境、例えば温度変化等にかかわらず、極めて安
定している。つまり、周囲の温度が変化しても吸収する
波長の中心はほぼ一定である。１０６は、ガス吸収セル
１０４を透過した光を集束するレンズである。このレン
ズ１０６の焦点は光ファイバ１０８の一端の位置となる
ように設定されている。光ファイバ１０８は、光スイッ
チ５４の他方の光入射端に接続されている。
【００１７】上記構成において、光スペクトル分析装置
の校正方法について説明する。以下の説明においては、
光スペクトル分析部５８の電源が投入されてから所定の
時間内に校正を実行する場合について説明する。
の校正方法について説明する。以下の説明においては、
光スペクトル分析部５８の電源が投入されてから所定の
時間内に校正を実行する場合について説明する。
【００１８】まず、光スペクトル分析部５８の電源が投
入されると、光スペクトル分析部５８に設けられたＣＰ
Ｕ３４は、タイマ４０から出力される日付時間信号に基
づいて所定時間経過後、校正プログラムを実行する。校
正プログラムが実行されると、ＣＰＵ３４はまず制御部
６０に対して制御信号を出力する。この制御信号が出力
されると、制御部６０は基準光源６２に対して動作信号
を出力する。この動作信号が入力されると、基準光源６
２内に設けられた発光ダイオード１００が発光する。
入されると、光スペクトル分析部５８に設けられたＣＰ
Ｕ３４は、タイマ４０から出力される日付時間信号に基
づいて所定時間経過後、校正プログラムを実行する。校
正プログラムが実行されると、ＣＰＵ３４はまず制御部
６０に対して制御信号を出力する。この制御信号が出力
されると、制御部６０は基準光源６２に対して動作信号
を出力する。この動作信号が入力されると、基準光源６
２内に設けられた発光ダイオード１００が発光する。
【００１９】発光ダイオード１００が発光することによ
り、所定の波長帯域を持つ光が出射される。この出射さ
れた光はレンズ１０２によって平行光に変換されガス吸
収セル１０４に入射する。ガス吸収セル１０４に入射し
た所定の波長帯域を持つ光は、ガス吸収セル１０４内に
封入されたガス（例えば、アセチレンガス）によって、
図６に示したように、複数の波長（λ１、λ２等）にお
いて吸収される。また、この吸収される複数の波長は基
準波長として予め光スペクトル分析部５８内の記憶部
（図示略）に設定されている。
り、所定の波長帯域を持つ光が出射される。この出射さ
れた光はレンズ１０２によって平行光に変換されガス吸
収セル１０４に入射する。ガス吸収セル１０４に入射し
た所定の波長帯域を持つ光は、ガス吸収セル１０４内に
封入されたガス（例えば、アセチレンガス）によって、
図６に示したように、複数の波長（λ１、λ２等）にお
いて吸収される。また、この吸収される複数の波長は基
準波長として予め光スペクトル分析部５８内の記憶部
（図示略）に設定されている。
【００２０】前述したガス吸収セル１０４を透過した光
は、レンズ１０６によって集光され、基準光源６２の出
射端から光ファイバ１０８内へ入射する。光ファイバ１
０８へ入射した光は光ファイバ１０８内を伝搬し、光ス
イッチ５４へ入射する。この時、制御部６０は光スイッ
チ５４へ制御信号を出力し、光ファイバ１０８が接続さ
れた光入射端と光出射端とを光学的に接続する。
は、レンズ１０６によって集光され、基準光源６２の出
射端から光ファイバ１０８内へ入射する。光ファイバ１
０８へ入射した光は光ファイバ１０８内を伝搬し、光ス
イッチ５４へ入射する。この時、制御部６０は光スイッ
チ５４へ制御信号を出力し、光ファイバ１０８が接続さ
れた光入射端と光出射端とを光学的に接続する。
【００２１】以上の過程により、基準光源６２から出射
された光は光スペクトル分析部５８の入射スリット１２
へ入射する。入射スリット１２を通過した光は凹面鏡１
４によって平行光に変換され、回折格子１６に入射す
る。回折格子１６は、表面に形成された多数の溝に平行
な軸を中心として、モータ２８により一方向に回転駆動
され、平行光に対する角度が順次変化する。これによ
り、平行光と回折格子１６とのなす角度等によって決定
される波長の光のみが順次凹面鏡１８へ出射される。凹
面鏡１８は入射された波長の光を出射スリット２０のス
リット位置へ結像させる。そして、出射スリット２０の
スリット幅の範囲内となる波長成分だけが出射スリット
２０を通過する。
された光は光スペクトル分析部５８の入射スリット１２
へ入射する。入射スリット１２を通過した光は凹面鏡１
４によって平行光に変換され、回折格子１６に入射す
る。回折格子１６は、表面に形成された多数の溝に平行
な軸を中心として、モータ２８により一方向に回転駆動
され、平行光に対する角度が順次変化する。これによ
り、平行光と回折格子１６とのなす角度等によって決定
される波長の光のみが順次凹面鏡１８へ出射される。凹
面鏡１８は入射された波長の光を出射スリット２０のス
リット位置へ結像させる。そして、出射スリット２０の
スリット幅の範囲内となる波長成分だけが出射スリット
２０を通過する。
【００２２】光検出器２２は、出射スリット２０の通過
光を受光し、通過光の光強度に比例した電気信号に変換
する。増幅器２４は光検出器２２の出力をＡ／Ｄコンバ
ータ２６の入力に適した電圧まで増幅する。Ａ／Ｄコン
バータ２６は増幅器２４の出力をディジタル信号に変換
する。Ａ／Ｄコンバータ２６から出力されたディジタル
信号は、ＣＰＵ３４に入力され、ＣＰＵ３４において演
算処理されることにより光スペクトルを得ることができ
る。
光を受光し、通過光の光強度に比例した電気信号に変換
する。増幅器２４は光検出器２２の出力をＡ／Ｄコンバ
ータ２６の入力に適した電圧まで増幅する。Ａ／Ｄコン
バータ２６は増幅器２４の出力をディジタル信号に変換
する。Ａ／Ｄコンバータ２６から出力されたディジタル
信号は、ＣＰＵ３４に入力され、ＣＰＵ３４において演
算処理されることにより光スペクトルを得ることができ
る。
【００２３】ＣＰＵ３４は、この光スペクトルの中で吸
収量の多い波長（図６におけるλ１、λ２等）を測定す
る。そして、この測定結果と予め記憶部に設定されてい
る複数の基準波長とを比較する。図７に、その比較結果
として得られた波長誤差の一例（△λ１〜△λ６）を示
す。ＣＰＵ３４は、これらの波長誤差の平均値△λａｖ
ｅを式（１）により求める。 △λａｖｅ＝（△λ１＋△λ２＋…＋△λｎ）／ｎ （１）
収量の多い波長（図６におけるλ１、λ２等）を測定す
る。そして、この測定結果と予め記憶部に設定されてい
る複数の基準波長とを比較する。図７に、その比較結果
として得られた波長誤差の一例（△λ１〜△λ６）を示
す。ＣＰＵ３４は、これらの波長誤差の平均値△λａｖ
ｅを式（１）により求める。 △λａｖｅ＝（△λ１＋△λ２＋…＋△λｎ）／ｎ （１）
【００２４】次に、上記式で求められた波長誤差の平均
値を、回折格子１６の設定角度をずらすためのパルス数
に換算する。この換算は、光スペクトル分析部５８で測
定した吸収量の多い波長を予め記憶部に設定されている
基準波長に一致させるためのものである。そして、ＣＰ
Ｕ３４は、換算したパルス数に対応する制御信号をモー
タ駆動回路３０に出力する。モータ駆動回路３０はＣＰ
Ｕ３４から出力された制御信号に基づき、モータ２８を
駆動し、回折格子１６の設定角度を変化させる。
値を、回折格子１６の設定角度をずらすためのパルス数
に換算する。この換算は、光スペクトル分析部５８で測
定した吸収量の多い波長を予め記憶部に設定されている
基準波長に一致させるためのものである。そして、ＣＰ
Ｕ３４は、換算したパルス数に対応する制御信号をモー
タ駆動回路３０に出力する。モータ駆動回路３０はＣＰ
Ｕ３４から出力された制御信号に基づき、モータ２８を
駆動し、回折格子１６の設定角度を変化させる。
【００２５】以上の校正処理が終了すると、ＣＰＵ３４
は制御部６０に対して制御信号を出力し、制御部６０は
光スイッチ５４の光ファイバ５２が接続された光入射端
と光出射端とが接続されるように切り換える制御を行
う。また、基準光源６２に対し動作終了信号を出力し、
基準光源６２の動作を停止させる。
は制御部６０に対して制御信号を出力し、制御部６０は
光スイッチ５４の光ファイバ５２が接続された光入射端
と光出射端とが接続されるように切り換える制御を行
う。また、基準光源６２に対し動作終了信号を出力し、
基準光源６２の動作を停止させる。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ある特定の複数の波長成分を吸収された光を、光スペク
トル分析部５８で分析し、その光スペクトルのうち吸収
量の多い複数の波長を基準に光スペクトル分析装置の校
正を行うようにしたので、従来は最大０．０４ｎｍであ
った光スペクトル分析装置の波長誤差を最大約０．０２
ｎｍまで改善することが可能となり、その結果より正確
に測定が行えるという効果が得られる。
ある特定の複数の波長成分を吸収された光を、光スペク
トル分析部５８で分析し、その光スペクトルのうち吸収
量の多い複数の波長を基準に光スペクトル分析装置の校
正を行うようにしたので、従来は最大０．０４ｎｍであ
った光スペクトル分析装置の波長誤差を最大約０．０２
ｎｍまで改善することが可能となり、その結果より正確
に測定が行えるという効果が得られる。
【図１】 この発明の一実施形態による波長校正装置を
適用した光スペクトル分析装置の概略構成を示すブロッ
ク図である。
適用した光スペクトル分析装置の概略構成を示すブロッ
ク図である。
【図２】 同光スペクトル分析装置における光スペクト
ル分析部５８の構成を示すブロック図である。
ル分析部５８の構成を示すブロック図である。
【図３】 同光スペクトル分析装置における基準光源６
２の構成を示すブロック図である。
２の構成を示すブロック図である。
【図４】 従来の光スペクトル分析部の波長誤差を示す
図である。
図である。
【図５】 従来の校正方法で校正を行った後の光スペク
トル分析部の測定誤差を示す図である。
トル分析部の測定誤差を示す図である。
【図６】 複数の吸収量の多い波長を含む光スペクトル
を示す図である。
を示す図である。
【図７】 複数の基準波長における光スペクトル分析部
５８の波長誤差を示す図である。
５８の波長誤差を示す図である。
【図８】 この発明の一実施形態による波長校正装置で
校正を行った後の光スペクトル分析部５８の測定誤差を
示す図である。
校正を行った後の光スペクトル分析部５８の測定誤差を
示す図である。
１２…入射スリット、１４…凹面鏡、１６…回折格子、
１７…ステージ、１８…凹面鏡、２０…出射スリット、
２２…光検出器、２４…増幅器、２６…Ａ／Ｄコンバー
タ、２８…モータ、２９…回動軸、３０…モータ駆動回
路、３４…ＣＰＵ、３６…表示装置、４０…タイマ、５
０…光入射端、５２…光ファイバ、５４…光スイッチ、
５６…光ファイバ、５８…光スペクトル分析部、６０…
制御部、６２…基準光源、１００…発光ダイオード、１
０２…レンズ、１０４…ガス吸収セル、１０６…レン
ズ、１０８…光ファイバ
１７…ステージ、１８…凹面鏡、２０…出射スリット、
２２…光検出器、２４…増幅器、２６…Ａ／Ｄコンバー
タ、２８…モータ、２９…回動軸、３０…モータ駆動回
路、３４…ＣＰＵ、３６…表示装置、４０…タイマ、５
０…光入射端、５２…光ファイバ、５４…光スイッチ、
５６…光ファイバ、５８…光スペクトル分析部、６０…
制御部、６２…基準光源、１００…発光ダイオード、１
０２…レンズ、１０４…ガス吸収セル、１０６…レン
ズ、１０８…光ファイバ
Claims (4)
- 【請求項１】 所定波長帯域の光を出射する光源から出
射された光を、ガス吸収セルを通過させて特定波長の光
を吸収させ、その吸収後の光のスペクトルの測定結果に
基づいて波長校正を行う光スペクトル分析装置における
波長校正方法において、 前記測定結果で得られた光スペクトルのうち吸収量の多
い複数の波長の測定結果と予め設定されている基準値と
の誤差を検出し、 検出した誤差の平均値を算出し、 該平均値に基づいて波長校正を行うことを特徴とする光
スペクトル分析装置における波長校正方法。 - 【請求項２】 所定波長帯域の光を出射する光源と、 前記基準光源から出射された光のうち特定波長の光を吸
収するガス吸収セルと、 前記ガス吸収セルを通過した光のスペクトルのうち吸収
量の多い複数の波長の測定結果と予め設定されている基
準値との波長誤差を検出する波長誤差検出手段と、 前記波長誤差検出手段によって検出された波長誤差の平
均値を算出する演算手段と、 を具備し、前記演算手段によって算出された平均値に基
づいて波長校正を行うことを特徴とする光スペクトル分
析装置における波長校正装置。 - 【請求項３】 前記光源は、所定の波長帯域を持つ光を
出射する発光ダイオードである請求項２記載の光スペク
トル分析装置における波長校正装置。 - 【請求項４】 前記ガス吸収セルは複数の吸収スペクト
ルを有する気体が封入されていることを特徴とする請求
項２または請求項３に記載の光スペクトル分析装置にお
ける波長校正装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090204A JP2000283841A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 光スペクトル分析装置における波長校正方法およびその装置 |
| US09/537,010 US6441900B1 (en) | 1999-03-30 | 2000-03-28 | Method and apparatus for calibrating an optical spectrum analyzer in wavelength |
| EP00106726A EP1041373A3 (en) | 1999-03-30 | 2000-03-29 | Method and apparatus for calibrating an optical spectrum analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11090204A JP2000283841A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 光スペクトル分析装置における波長校正方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000283841A true JP2000283841A (ja) | 2000-10-13 |
Family
ID=13991971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11090204A Pending JP2000283841A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 光スペクトル分析装置における波長校正方法およびその装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6441900B1 (ja) |
| EP (1) | EP1041373A3 (ja) |
| JP (1) | JP2000283841A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323309A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Anritsu Corp | 回折部の回転角検出装置 |
| JP2007218787A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Yokogawa Electric Corp | 波長校正方法及び波長校正装置 |
| KR101192263B1 (ko) | 2010-12-03 | 2012-10-17 | (주) 넥스트칩 | 조도 검출 장치, 및 이의 오차 검출 및 오차 보정 방법 |
Families Citing this family (54)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1172637B1 (en) | 2001-04-12 | 2003-01-15 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Device for calibrating a wavelength measuring unit |
| US20040019459A1 (en) * | 2002-07-29 | 2004-01-29 | Paul Dietz | Auto-characterization of optical devices |
| US7209230B2 (en) | 2004-06-18 | 2007-04-24 | Luckoff Display Corporation | Hand-held spectra-reflectometer |
| US7233394B2 (en) | 2005-06-20 | 2007-06-19 | Luckoff Display Corporation | Compact spectrometer |
| US9867530B2 (en) | 2006-08-14 | 2018-01-16 | Volcano Corporation | Telescopic side port catheter device with imaging system and method for accessing side branch occlusions |
| EP2178442B1 (en) | 2007-07-12 | 2017-09-06 | Volcano Corporation | Catheter for in vivo imaging |
| US10219780B2 (en) | 2007-07-12 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | OCT-IVUS catheter for concurrent luminal imaging |
| US9596993B2 (en) | 2007-07-12 | 2017-03-21 | Volcano Corporation | Automatic calibration systems and methods of use |
| US7817274B2 (en) | 2007-10-05 | 2010-10-19 | Jingyun Zhang | Compact spectrometer |
| US8345226B2 (en) | 2007-11-30 | 2013-01-01 | Jingyun Zhang | Spectrometers miniaturized for working with cellular phones and other portable electronic devices |
| US11141063B2 (en) | 2010-12-23 | 2021-10-12 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Integrated system architectures and methods of use |
| US11040140B2 (en) | 2010-12-31 | 2021-06-22 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Deep vein thrombosis therapeutic methods |
| EP2792788B8 (en) | 2011-04-28 | 2016-09-21 | ABB Schweiz AG | Process for extracting dominant spectral components from a power spectrum of noisy measurements |
| WO2013033592A1 (en) | 2011-08-31 | 2013-03-07 | Volcano Corporation | Optical-electrical rotary joint and methods of use |
| CN102788643B (zh) * | 2012-07-13 | 2014-03-12 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种空间遥感光谱仪器在轨高精度光谱定标的方法 |
| US11272845B2 (en) | 2012-10-05 | 2022-03-15 | Philips Image Guided Therapy Corporation | System and method for instant and automatic border detection |
| US10070827B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-09-11 | Volcano Corporation | Automatic image playback |
| US9324141B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-26 | Volcano Corporation | Removal of A-scan streaking artifact |
| US9307926B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-04-12 | Volcano Corporation | Automatic stent detection |
| US9367965B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-06-14 | Volcano Corporation | Systems and methods for generating images of tissue |
| US9858668B2 (en) | 2012-10-05 | 2018-01-02 | Volcano Corporation | Guidewire artifact removal in images |
| EP2904671B1 (en) | 2012-10-05 | 2022-05-04 | David Welford | Systems and methods for amplifying light |
| US10568586B2 (en) | 2012-10-05 | 2020-02-25 | Volcano Corporation | Systems for indicating parameters in an imaging data set and methods of use |
| US9286673B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-15 | Volcano Corporation | Systems for correcting distortions in a medical image and methods of use thereof |
| US9292918B2 (en) | 2012-10-05 | 2016-03-22 | Volcano Corporation | Methods and systems for transforming luminal images |
| US9840734B2 (en) | 2012-10-22 | 2017-12-12 | Raindance Technologies, Inc. | Methods for analyzing DNA |
| CA2894403A1 (en) | 2012-12-13 | 2014-06-19 | Volcano Corporation | Devices, systems, and methods for targeted cannulation |
| JP2016504589A (ja) | 2012-12-20 | 2016-02-12 | ナサニエル ジェイ． ケンプ， | 異なる撮像モード間で再構成可能な光コヒーレンストモグラフィシステム |
| US10939826B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Aspirating and removing biological material |
| US10942022B2 (en) | 2012-12-20 | 2021-03-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Manual calibration of imaging system |
| US9730613B2 (en) | 2012-12-20 | 2017-08-15 | Volcano Corporation | Locating intravascular images |
| JP6785554B2 (ja) | 2012-12-20 | 2020-11-18 | ボルケーノ コーポレイション | 平滑遷移カテーテル |
| US11406498B2 (en) | 2012-12-20 | 2022-08-09 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Implant delivery system and implants |
| US9612105B2 (en) | 2012-12-21 | 2017-04-04 | Volcano Corporation | Polarization sensitive optical coherence tomography system |
| US9486143B2 (en) | 2012-12-21 | 2016-11-08 | Volcano Corporation | Intravascular forward imaging device |
| JP2016507892A (ja) | 2012-12-21 | 2016-03-10 | デイビッド ウェルフォード， | 光の波長放出を狭幅化するためのシステムおよび方法 |
| WO2014100530A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Whiseant Chester | System and method for catheter steering and operation |
| WO2014099672A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Andrew Hancock | System and method for multipath processing of image signals |
| US10166003B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-01-01 | Volcano Corporation | Ultrasound imaging with variable line density |
| US10058284B2 (en) | 2012-12-21 | 2018-08-28 | Volcano Corporation | Simultaneous imaging, monitoring, and therapy |
| WO2014099763A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Jason Spencer | System and method for graphical processing of medical data |
| CA2896004A1 (en) | 2012-12-21 | 2014-06-26 | Nathaniel J. Kemp | Power-efficient optical buffering using optical switch |
| JP2016502884A (ja) | 2012-12-21 | 2016-02-01 | ダグラス メイヤー， | 延在カテーテル本体テレスコープを有する回転可能超音波撮像カテーテル |
| JP6243453B2 (ja) | 2013-03-07 | 2017-12-06 | ボルケーノ コーポレイション | 血管内画像におけるマルチモーダルセグメンテーション |
| US10226597B2 (en) | 2013-03-07 | 2019-03-12 | Volcano Corporation | Guidewire with centering mechanism |
| EP3895604A1 (en) | 2013-03-12 | 2021-10-20 | Collins, Donna | Systems and methods for diagnosing coronary microvascular disease |
| US11154313B2 (en) | 2013-03-12 | 2021-10-26 | The Volcano Corporation | Vibrating guidewire torquer and methods of use |
| US9301687B2 (en) | 2013-03-13 | 2016-04-05 | Volcano Corporation | System and method for OCT depth calibration |
| US11026591B2 (en) | 2013-03-13 | 2021-06-08 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Intravascular pressure sensor calibration |
| US10758207B2 (en) | 2013-03-13 | 2020-09-01 | Philips Image Guided Therapy Corporation | Systems and methods for producing an image from a rotational intravascular ultrasound device |
| EP2967606B1 (en) | 2013-03-14 | 2018-05-16 | Volcano Corporation | Filters with echogenic characteristics |
| US10292677B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-05-21 | Volcano Corporation | Endoluminal filter having enhanced echogenic properties |
| US10219887B2 (en) | 2013-03-14 | 2019-03-05 | Volcano Corporation | Filters with echogenic characteristics |
| CN108613740A (zh) * | 2018-05-10 | 2018-10-02 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种光谱测量仪 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5845525A (ja) | 1981-09-14 | 1983-03-16 | Seiko Instr & Electronics Ltd | 分光器の波長校正法 |
| US4779216A (en) | 1986-03-07 | 1988-10-18 | The Perkin-Elmer Corporation | System for calibrating a monochromator |
| US5268737A (en) | 1989-01-28 | 1993-12-07 | Shimidzu Corporation Of 1 | Method and apparatus for calibrating a spectrophotometer |
| JPH07260570A (ja) | 1994-03-22 | 1995-10-13 | Hitachi Ltd | 分光器の波長校正方法及び装置 |
| GB9414301D0 (en) | 1994-07-15 | 1994-09-07 | Unicam Ltd | Wavelength calibration of optical spectrometers |
| US6249343B1 (en) * | 1999-10-29 | 2001-06-19 | Agilent Technologies, Inc. | Wavelength reference standard using multiple gases |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP11090204A patent/JP2000283841A/ja active Pending
-
2000
- 2000-03-28 US US09/537,010 patent/US6441900B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-29 EP EP00106726A patent/EP1041373A3/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323309A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Anritsu Corp | 回折部の回転角検出装置 |
| JP2007218787A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Yokogawa Electric Corp | 波長校正方法及び波長校正装置 |
| US7649627B2 (en) | 2006-02-17 | 2010-01-19 | Yokogawa Electric Corporation | Wavelength calibration method and wavelength calibration apparatus |
| KR101192263B1 (ko) | 2010-12-03 | 2012-10-17 | (주) 넥스트칩 | 조도 검출 장치, 및 이의 오차 검출 및 오차 보정 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1041373A2 (en) | 2000-10-04 |
| US6441900B1 (en) | 2002-08-27 |
| EP1041373A3 (en) | 2001-04-04 |
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