JP2000279334A - 簡易浴槽洗浄装置 - Google Patents

簡易浴槽洗浄装置

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JP2000279334A
JP2000279334A JP11089906A JP8990699A JP2000279334A JP 2000279334 A JP2000279334 A JP 2000279334A JP 11089906 A JP11089906 A JP 11089906A JP 8990699 A JP8990699 A JP 8990699A JP 2000279334 A JP2000279334 A JP 2000279334A
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JP
Japan
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water
bathtub
hot water
flow path
cleaning
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JP11089906A
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English (en)
Inventor
Tatsunori Hara
達範 原
Katsuhiro Maehata
勝弘 前畑
Tetsuji Morita
哲司 森田
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Osaka Gas Co Ltd
Original Assignee
Osaka Gas Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 比較的安価で、その施工も簡易に行うことが
できる簡易浴槽洗浄装置を提供すること。 【解決手段】 温水を生成するための給湯器2と、浴槽
6内部に温水を噴射するための散水体4とを備え、散水
体4には、温水が流れる温水流路及びこの温水流路に連
通された噴射ノズルが設けられ、浴槽を洗浄するとき、
散水体4が浴槽6の開口部に位置付けられ、給湯器2か
らの温水が散水体4の温水流路を通して噴射ノズルから
浴槽6内に噴射される。散水体4は、例えば湯水混合カ
ラン30の温水側32に接続され、湯水混合カラン30
と散水体4との間に洗浄ユニット58が設けられ、洗浄
時に散水体4に送給される温水に洗浄液が混入される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、浴槽を洗浄するた
めの簡易浴槽洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】浴槽の洗浄、すすぎ等を行う浴槽システ
ムとして、浴槽洗浄機能を備えたオートバスシステムが
提案されている。このようなオートバスシステムは、温
水を溜める浴槽と、浴槽の底部に設けられた噴射ノズル
と、浴槽及び噴射ノズルに温水を供給するための給湯器
(例えば熱源機)と、この熱源機及びそこからの温水の
供給を制御するための制御手段とを備えている。洗浄時
には、熱源機からの温水が噴射ノズルに供給され、この
噴射ノズルから噴射される温水によって浴槽内が自動的
に洗浄される。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなオートバスシステムでは、次の通りの問題が存在す
る。オートバスシステムは、浴槽及びそれに関連する構
成(例えば噴射ノズル等)、給湯器、制御手段等が組み
合わされて構成されるものであり、それ故に、このオー
トバスシステムを導入しようとすると、浴槽などを全て
新しくしなければならず、その施工が新築、浴室リフォ
ーム時に限定される。また、オートバスシステムは、上
述した組み合わせから構成されるため、システム自体が
高価であるとともに、その施工作業も容易でなく、施工
費用も高価となる。
【0004】本発明の目的は、比較的安価で、その施工
も簡易に行うことができる簡易浴槽洗浄装置を提供する
ことである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、温水を生成す
るための給湯器と、浴槽内部に温水を噴射するための散
水体とを備え、前記散水体には、温水が流れる温水流路
及びこの温水流路に連通された噴射ノズルが設けられ、
浴槽を洗浄するとき、前記散水体が前記浴槽の開口部に
位置付けられ、前記給湯器からの温水が前記散水体の前
記温水流路を通して前記噴射ノズルから前記浴槽の内面
に向けて噴射されることを特徴とする簡易浴槽洗浄装置
である。
【0006】本発明に従えば、浴槽を洗浄するとき、散
水体は浴槽の開口部に位置付けられる。そして、給湯器
からの温水が散水体に送給され、この散水体の温水流路
を通して噴射ノズルからから浴槽の内面に向けて噴射さ
れ、かくして噴射される温水によって浴槽の内面を簡単
に洗浄することができる。
【0007】また、本発明では、前記給湯器と前記散水
体との間には洗浄ユニットが配設され、前記洗浄ユニッ
トは、前記浴槽を洗浄するための洗浄液又は洗浄剤が収
容される収容容器と、前記給湯器からの温水をそのまま
前記散水体に送給するための第1の流路と、前記給湯器
からの温水に前記収容容器内の洗浄液又は洗浄剤を混入
して前記散水体に送給するための第2の流路とを備える
ことを特徴とする。
【0008】本発明に従えば、洗浄ユニットは洗浄液又
は洗浄剤を収容するための収容容器を備え、第1の流路
を通して温水を送給するときには収容容器内の洗浄液又
は洗浄剤はこの温水に混入されず、第2の流路を通して
温水を送給するときには収容容器内の洗浄液又は洗浄剤
がこの温水に混入される。それ故に、浴槽を洗浄すると
きには第2の流路を通して温水を送給することによっ
て、浴槽の内面を洗浄液又は洗浄剤を用いて洗浄するこ
とができ、また浴槽をすすぐときには第1の流路を通し
て温水を送給することによって、浴槽の内面を温水によ
ってすすぐことができる。
【0009】また、本発明では、前記洗浄ユニットは、
温水と水とを混合して前記浴槽に供給するための湯水混
合カランを介して前記給湯器に接続され、前記湯水混合
カランに送給される温水が前記洗浄ユニットを通して前
記散水体から前記浴槽の内部に噴射されることを特徴と
する。
【0010】本発明に従えば、簡易浴槽洗浄装置を施工
する際、洗浄ユニットを湯水混合カランに接続し、この
洗浄ユニットに散水体を接続すればよく、比較的簡単な
施工でもってこの装置を取り付けることができ、その取
付費用も安くすることができる。
【0011】また、本発明では、前記散水体には、洗浄
液又は洗浄剤が収容される収容部が設けられ、前記収容
部内の洗浄液又は洗浄剤が前記散水体の温水通路を流れ
る温水に混入されることを特徴とする。
【0012】本発明に従えば、散水体に収容部が設けら
れ、この収容部に充填された洗浄液又は洗浄剤が散水体
の温水通路を流れる温水に混入されるので、洗浄液又は
洗浄剤を比較的簡単に且つ容易に混入することができ
る。また、この収容部に混入される洗浄液又は洗浄剤の
量を例えば1回の洗浄に必要な量にすることによって、
最初は温水に洗浄液又は洗浄剤が混入されるが、その後
は洗浄液又は洗浄剤が混入されず、浴槽のすすぎを行う
ことができる。
【0013】また、本発明では、前記浴槽には、その内
部の水を前記給湯器との間で循環させるための循環アダ
プタが設けられ、前記循環アダプタに関連して、前記給
湯器からの温水を前記浴槽内に送給するための供給流路
と、前記供給流路から分岐する分岐流路と、前記浴槽内
の水を前記給湯器に戻すための戻り流路とがとが設けら
れ、前記散水体は前記分岐流路に接続され、前記給湯器
からの温水が前記分岐流路を通して前記散水体から前記
浴槽内部に噴射されることを特徴とする。
【0014】本発明に従えば、浴槽には循環アダプタが
設けられ、このアダプタに関連して、浴槽に接続された
供給流路と散水体に接続された分岐流路が設けられてい
る。それ故に、供給流路を通して温水を送給することに
よって、浴槽に入浴用の温水を供給することができ、ま
た分岐流路を通して温水を送給することによって、散水
体からこの温水を散水体から噴射することができ、浴槽
の内面を洗浄することができる。
【0015】更に、本発明では、前記散水体は、前記浴
槽の開口部に位置する散水位置と、前記浴槽の開口部か
ら外れる後退位置との間を旋回自在であることを特徴と
する。
【0016】本発明に従えば、散水体が散水位置と後退
位置との間を旋回自在であるので、散水体を散水位置に
位置付けることによって浴槽内を所要の通りに洗浄、す
すぎを行うことができ、また散水体を後退位置に位置付
けることによって、浴槽の開口部が開放され、この浴槽
内に入浴することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して、本発
明に従う簡易浴槽洗浄装置の実施形態について説明す
る。第1の実施形態 図1〜図6を参照して、本発明に従う簡易浴槽洗浄装置
の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明に
従う簡易浴槽洗浄装置の第1の実施形態を簡略的に示す
図であり、図2は、この簡易浴槽洗浄装置の洗浄ユニッ
トの外観を示す斜視図であり、図3は、図2の洗浄ユニ
ット内の温水の流路及びそれに関連する構成を簡略的に
示す図であり、図4は、図1の浴槽洗浄装置の使用状態
を簡略的に示す断面図であり、図5は、図1の浴槽洗浄
装置の制御系を簡略的に示すブロック図であり、図6
は、図5の制御系による制御を示すフローチャートであ
る。
【0018】図1を参照して、第1の実施形態の簡易浴
槽洗浄装置は、給湯器2及び散水体4を備えている。給
湯器2は、浴槽6に温水を供給するためのものが利用さ
れ、この実施例では、燃焼用ガスによって温水を生成す
るものが用いられている。尚、給湯器2としては、燃焼
用ガスの燃焼によって温水を生成するものに限らず、電
気を利用して温水を生成するものを用いることもでき
る。
【0019】図示の給湯器2は直方体状の装置ハウジン
グ8を備え、この装置ハウジング8内に給湯用バーナ1
0及び追焚き用バーナ12が内蔵されている。給湯用バ
ーナ10はガス供給流路14を介してガスボンベ又はガ
ス供給管の如きガス供給源(図示せず)に接続され、ま
た追焚き用バーナ12はガス分岐流路16を介して上記
ガス供給流路14に接続されている。ガス供給流路14
には第1ガス開閉弁18が配設され、ガス分岐流路16
には第2ガス開閉弁20が配設されている。従って、第
1ガス開閉弁18が開状態になると、ガス供給源からの
燃料用ガスがガス供給流路14を通して給湯用バーナ1
0に供給され、この給湯用バーナ10にて燃料用ガスが
燃焼される。また、第2ガス開閉弁20が開状態になる
と、ガス供給源からの燃料用ガスがガス分岐流路20を
通して追焚き用バーナ12に供給され、この追焚き用バ
ーナ12にて燃料用ガスが燃焼される。尚、燃料用ガス
として、例えば都市ガス、LPガス等が用いられる。
【0020】給湯用バーナ10の上方には第1熱交換器
22が配設され、追焚き用バーナ12の上方には第2熱
交換器24が配設されている。第1熱交換器22の入力
側には水供給流路26が接続され、この水供給流路26
は、水道の如き水供給源(図示せず)に接続されてい
る。第1熱交換器22の出力側には温水送給流路28が
接続され、この温水送給流路28は湯水混合カラン30
の温水供給側32に接続されている。また、第2熱交換
器24の入力側には温水戻り流路34が接続され、この
温水戻り流路34は浴槽6の循環アダプタ37を介して
浴槽6内に連通され、温水戻り流路34と水供給流路2
6とが水分岐流路36を介して接されている。また、温
水送給流路28と温水戻り流路34とが接続流路38を
介して接続されている。第2熱交換器24の出力側には
温水供給流路40が接続され、この温水供給流路40は
浴槽6の循環アダプタ37を介して浴槽6内に連通され
ている。更に、温水供給流路40には温水開閉弁42及
び循環ポンプ44が配設されている。
【0021】湯水混合カラン30の温水供給側32には
温水量調整弁46が設けられ、その水供給側48には水
量調整弁50が設けら、水供給側48は水分岐流路52
を介して水供給流路26に接続されている。湯水混合カ
ラン30は、更に、排出蛇口52及びシャワー54と操
作レバー56を備え、操作レバー56を操作することに
よって、湯水混合カラン30からの水又は温水の排出方
向を選択することができ、排出蛇口52又はシャワー5
4から排出することができる。
【0022】かく構成されているので、水量調整弁50
を操作することによって湯水混合カラン30の水供給側
48を通して供給される水の量を調整することができ、
水供給源(図示せず)からの水が水供給流路26及び水
分岐流路52を通して湯水混合カラン30に供給され
る。また、温水量調整弁46を操作することによって、
湯水混合カラン30の温水供給側32を通して供給され
る温水の量を調整することができ、第1熱交換器22に
て加熱された温水(給湯用バーナ10の燃焼によって第
1熱交換器22にて熱交換が行われ、これによって水供
給源からの水が加熱される)が温水送給流路28を通し
て湯水混合カラン30に供給される。従って、水量調整
弁50及び温水量調整弁46を操作することによって、
排出蛇口52及びシャワー54から排出される温水の温
度を調整することができる。また、循環ポンプ44が作
動し温水開閉弁42が開状態になると、浴槽6内の湯が
温水戻り流路34を通して第2熱交換器24に送給さ
れ、この戻り湯が第2熱交換器24にて加熱され(追焚
き用バーナ12の燃焼によって第2熱交換器24にて熱
交換が行われて加熱される)、その後温水供給流路40
を通して浴槽6内に供給され、このよにして浴槽6内の
湯が第2熱交換器24を通して循環され、浴槽6内の湯
の追焚きが行われる。
【0023】給湯器2と散水体4との間には洗浄ユニッ
ト58が設けられている。図1とともに図2及び図3を
参照して、図示の洗浄ユニット58は直方体状のユニッ
トハウジング60を備えている。この洗浄ユニット58
の正面には操作パネル62が設けられ、操作パネル62
には電源スイッチ64、設定温度上昇スイッチ66及び
設定温度下降スイッチ68が設けられているとともに、
洗浄ユニット58を通して送給される温水の設定温度を
表示する表示手段70が設けられている。各種スイッチ
64,66,68は入力手段を構成し、表示手段70は
蛍光管、液晶表示装置等から構成される。
【0024】洗浄ユニット58内には円筒状の収容容器
72が内蔵されている。収容容器72の上面には注入開
口が形成され、この注入開口はユニットハウジング60
の上面に形成された開口を通して外部に露出し、この注
入開口を通して洗浄液又は洗浄剤(以下、洗浄液として
説明するが、この洗浄液には洗浄剤も含む)が収容容器
72内に充填される。尚、この注入開口には着脱自在な
蓋体74が装着され、この蓋体74は収容容器72の注
入開口を覆っているが、洗浄液の充填時に取り外され
る。この収容容器72は、透明乃至半透明の樹脂材料か
ら形成され、このことに関連して、ユニットハウジング
60の所定部位には、収容容器72に対応した細長い窓
76が形成され、この窓76が透明な樹脂カバー78に
よって覆われている。従って、外部からこの窓76を通
して収容容器72内に残存する洗浄液の量を確認するこ
とができる。
【0025】この洗浄ユニット58には主送給流路80
と、この主送給流路80の一部をバイパスするバイパス
流路82とが設けられている。主送給流路80は、洗浄
ユニット58と湯水混合カラン30の温水供給側32と
を接続する第1部分80aと、この洗浄ユニット58と
散水体4とを接続する第2部分80bと、第1部分80
a及び第2部分80bを接続する第3部分80cとを有
し、かかる主送給流路80の第1〜第3部分80a,8
0b,80cが、温水を散水体4に送給するための第1
の流路を構成する。バイパス流路82は、主送給流路8
0の第3部分80c(洗浄ユニット58内に位置する)
をバイパスして設けられ、このバイパス流路82並びに
主送給流路80の第1及び第2部分80a,80bが温
水に洗浄液を混入して散水体4に送給するための第2の
流路を構成する。
【0026】主送給流路80の第3部分80cには第1
電磁開閉弁84が配設され、またバイパス流路82には
第2電磁開閉弁86が配設されている。このバイパス流
路82には、また、第2電磁開閉弁86の上流側に収容
容器72の排出口88が接続され、この排出口88の更
に上流側に逆止弁90が配設されている。このように構
成されているので、第1の電磁開閉弁84が付勢されて
開状態になると、湯水混合カラン30の温水供給側32
からの温水が主送給流路80の第1〜第3部分80a,
80b,80c、換言すると第1の流路を通して散水体
4に送給される。また、第1の電磁開閉弁84に代えて
第2の電磁開閉弁86が付勢されて開状態になると、湯
水混合カラン30の温水供給側32からの温水が主送給
流路80の第1部分80a、バイパス流路82及び主送
給流路80の第2部分80b、即ち第2の流路を通して
散水体4に送給され、この温水がバイパス流路82を通
して流れる際に収容容器72内の洗浄液がこの温水に混
入され、洗浄液が混入された温水が散水体4に送給され
る。
【0027】次に、図1とともに図4を参照して散水体
4について説明すると、散水体4は細長い矩形状の散水
本体92を備えている。散水本体92の一端部は、蝶番
の如き旋回連結体94を介して浴室96の壁98に設け
られた取付部100に旋回自在に取り付けられ、図4に
示す散水位置と図1に示すとともに図4に二点鎖線で示
す後退位置との間を旋回自在である。この散水本体92
は、上記散水位置にあるときには浴槽6の開口部に位置
し、上記後退位置にあるときには浴槽6の開口部から後
退し、浴槽6内に入浴することができる。尚、散水本体
92が上記後退位置から散水位置に自由に旋回するのを
防止するために、この散水本体92を上記後退位置に保
持するためのロック手段を設けるようにしてもよい。
【0028】散水本体92は、浴槽6の長手方向又は横
手方向にその全長に渡って延び、上記後退位置にあると
きには浴槽6の開口部にてその一端から他端まで延び、
このように構成することによって、後述する通り、浴槽
6の内面を所要の通りに洗浄、すすぎすることができ
る。この散水本体92内には、その一端部(旋回連結体
94に連結された端部)から他端部(先端部)までその
長手方向に温水流路102が形成されている。また、こ
の散水本体92の内面(浴槽6に対向する面)には、そ
の長手方向に間隔を置いて複数個(この実施形態では5
個)の噴射ノズル104が装着され、各噴射ノズル10
4は上記温水流路102に連通されている。温水流路1
02の一端側には接続パイプ106が接続され、洗浄ユ
ニット58からの主送給流路80の第2流路80bがこ
の接続パイプ106に接続される。従って、洗浄ユニッ
ト58からの温水は接続パイプ106を通して散水本体
92の温水流路102に流入し、各流入した温水が噴射
ノズル104から噴射される。この実施形態では、噴射
ノズル104を5個設けているが、浴槽6の大きさ、噴
射ノズル104の噴射領域等に応じて、それらの個数を
適宜設定することができる。
【0029】このような簡易浴槽洗浄装置では、図1に
示すように、給湯器2は例えば屋外に設置され、また散
水体4及び洗浄ユニット58は、浴槽6が設置された浴
室96に配設される。そして、簡易浴槽洗浄装置を制御
するための制御手段108(いわゆるコントローラ)
は、例えば給湯器2内に内蔵される。制御手段108
は、例えばマイクロプロセッサから構成され、給湯器4
に代えて洗浄ユニット58に内蔵するようにしてもよ
い。
【0030】次に、図1及び図5を参照して、上述した
簡易浴槽洗浄装置の制御系について説明する。洗浄ユニ
ット58の入力手段、即ち電源スイッチ64、設定温度
上昇スイッチ66及び設定温度下降スイッチ68からの
入力信号は上記制御手段108に送給され、この設定温
度上昇スイッチ66及び設定温度下降スイッチ68を操
作することによって設定された温度が表示手段70に表
示される。制御手段108は、浴槽6の洗浄パターンが
記憶された第1メモリ110、浴槽6内の水位を確認す
る間隔(T1)、洗浄を行う時間(T2)及びすすぎを
行う時間(T3)が記憶された第2メモリ112を備
え、更に計時を行うタイマ手段114を含んでいる。水
位を確認する間隔(T1)は例えば1分程度に設定さ
れ、洗浄を行う時間(T2)は例えば5分程度に設定さ
れ、またすすぎを行う時間(T3)は例えば1分程度に
設定される。これら間隔(T1)及び時間(T2,T
3)は、浴槽6の種類、大きさ、噴射ノズル104から
噴射される温水量等によって適宜設定することができ
る。 この制御手段108は、給湯器4の第1ガス開閉
弁18、第2ガス開閉弁20、温水開閉弁42及び循環
ポンプ44を作動制御するとともに、洗浄ユニット58
の第1電磁開閉弁84及び第2電磁開閉弁86を作動制
御する。尚、第1熱交換器22に関連して温水送給流路
28には、そこを流れる温水の温度を検出するための第
1温度センサ120が配設され、また第2熱交換器12
4に関連して温水供給流路40には、そこを流れる温水
の温度を検出するための第2温度センサ122が配設さ
れ、これら温度センサ120,122からの検出信号は
制御手段108に送給される。更に、浴槽6の循環アダ
プタ37には、浴槽6内の水又は湯の水位を検出するた
めの水位センサ124が配設され、かかる水位センサ1
24からの検出信号も制御手段108に送給される。
【0031】次に、図1、図5及び図6を参照して、簡
易浴槽洗浄装置による浴槽6の洗浄、すすぎ動作につい
て説明する。浴槽6を洗浄するには、まず、入浴後に浴
槽6の排水栓(図示せず)を抜き、浴槽6内の湯(水を
含めて湯として説明する)の排水を行う(ステップS−
1)。その後、洗浄ユニット58の電源スイッチ64を
閉(ON)にし(ステップS−2)、散水体4を図4に
二点鎖線で示す後退位置から図4に実線で示す散水位置
に位置付ける(ステップS−3)。このステップS−1
からステップS−3までの動作は、その順序が任意でよ
い。
【0032】次いで、ステップS−4に進み、所定間隔
(T1)、例えば1分間隔毎に浴槽6内に残る湯量を検
出する。尚、この所定時間間隔はタイマ手段114によ
って計時される。ステップS−4において温水供給流路
40の循環ポンプ44が作動され、これにより温水戻り
流路34、第2熱交換器24及び温水供給流路40を通
る温水の循環が行われる。その後、ステップS−5にお
いて浴槽6内の湯の水位が検出され、この水位の検出は
水位センサ124によって行われる。そして、浴槽6内
の水位が所定以下になるまで、例えば温水戻り流路34
の開口部位よりも低くなるまでは、上述したステップS
−4〜ステップS−6が繰り返し遂行され、浴槽6内の
水位が所定以下になると、ステップS−6からステップ
S−7に進み、浴槽6の洗浄工程が開始される。
【0033】ステップS−7においては、制御手段10
8からの信号によって第2電磁開閉弁86が作動され、
洗浄ユニット58のバイパス流路86が開放される。か
くすると、水供給流路26、第1熱交換器22、温水送
給流路28及び第2の流路(主送給流路80の第1及び
第3部分80a,80b並びにバイパス流路82)を通
して散水体4への水の供給が開始される。この水の供給
の開始によって、給湯用バーナ10が点火され、水供給
流路26から供給される水が第1熱交換器22を通して
流れる際に給湯用バーナ10の燃焼熱によって加熱さ
れ、設定温度上昇スイッチ66及び設定温度下降スイッ
チ68によって設定された温度の温水が散水体4に送給
される(ステップS−8)。この温水が第2の流路のバ
イパス流路82を流れる際、収容容器72に充填された
洗浄液がこの温水に少しずつ流入し、散水体4に送給さ
れる温水には洗浄液が混入される。このように温水が散
水体4に供給されると、送給された温水は散水本体92
の温水流路102を通して流れ、各噴射ノズル104か
ら下方に浴槽6の内面に向けて温水が噴射され、かくし
て温水によって浴槽6が洗浄される。尚、給湯用バーナ
10の燃焼時には、第1ガス開閉弁18が開状態にな
り、燃料用ガスがガス供給流路14を通して給湯用バー
ナ10に供給される。
【0034】ステップS−9においては、洗浄工程の開
始から所定の洗浄時間(T2)、例えば5分が経過した
か否かが判断される。尚、この5分はタイマ手段114
によって計時される。洗浄時間(T2)が経過するまで
浴槽6の上述した洗浄が行われる。そして、洗浄時間
(T2)が経過すると、ステップS−10に進み、第2
電磁開閉弁86の作動が終了して閉となり、第2の流路
を通しての温水(洗浄液が混入されている)の送給が停
止し、上記洗浄工程が終了する。
【0035】洗浄工程の後、すすぎ工程が遂行される。
この実施形態ではすすぎ工程を一回行うようにしている
が、2回又は3回以上行うようにしてもよく、このすす
ぎの回数を設定できるようにしてもよい。ステップS−
11においては、制御手段108からの信号によって第
1電磁開閉弁84が作動され、洗浄ユニット58の第3
流路80cが開放される。かくすると、給湯用バーナ1
0からの温水が第1の流路(主送給流路80の第1〜第
3部分80a,80b,80c)を通して散水体4に送
給され、このとき洗浄液等が混入されることなく、温水
はそのまま散水体4に送給される。かく温水が散水体4
に供給されると、上述したと同様に、送給された温水は
散水本体92の温水流路102を通して各噴射ノズル1
04から下方に浴槽6の内面に向けて噴射され、かくし
て温水によって洗浄後の浴槽6のすすぎが行われる。
【0036】ステップS−12においては、すすぎ工程
の開始から所定のすすぎ時間(T3)、例えば1分が経
過したか否かが判断される。尚、この1分はタイマ手段
114によって計時され、すすぎ時間(T3)が経過す
るまで浴槽6の上述したすすぎが行われる。そして、す
すぎ時間(T3)が経過すると、ステップS−13に進
み、第1電磁開閉弁84の作動が終了して閉となり、第
1の流路を通しての温水の送給が停止し、この温水の送
給停止によって給湯用バーナ10が消火する(第1ガス
開閉弁18が閉になることによって、給湯用バーナ10
の燃焼が終了する)(ステップS−14)。
【0037】上述したようにしてすすぎ工程が終了する
と、ステップS−15に進み、制御手段108は例えば
ブザー(図示せず)を作動せさ、ブザーは浴槽6の洗浄
(洗浄工程及びすすぎ工程)が終了したことを知らせ
る。
【0038】この第1の実施形態では、洗浄ユニット5
8を設けて、この洗浄ユニット58にて洗浄液を混入し
ているが、このような洗浄ユニット58を設けることに
代えて、次のように構成することもできる。例えば、散
水体4に洗浄液を収容するための収容部を設け、散水体
4の温水流路102を流れる温水に洗浄液を混入するよ
うにすることもでき、この収容部は、例えば、温水流路
102の上流側部、噴射ノズル104の近傍等に設ける
ことができる。
【0039】また、第1の実施形態では、洗浄ユニット
58に第1及び第2の流路を設け、温水が第1の流路を
流れるときには洗浄液を混入せず、第2の流路を流れる
ときに洗浄液を混入しているが、このように構成するこ
とに代えて、次のとおりに構成してもよい。洗浄ユニッ
ト58に単に一つの流路を設け、この流路に洗浄液を充
填する容器を開口させ、この容器の容量を1回の洗浄工
程にて使用する容量に設定するようにしてもよい。この
場合、最初の洗浄工程においては、流路を流れる温水に
洗浄液が充填されるが、その後のすすぎ行程では洗浄液
を使用してしまっているので温水に混入されず、この流
路を通して送給される温水によって浴槽6のすすぎを行
うことができる。尚、このような構成は、散水体4に上
記収容部を設けるようにしたものにも同様に適用するこ
とができる。第2の実施形態 次に、本発明に従う簡易浴槽洗浄装置の第2の実施形態
について説明する。図7は、本発明に従う簡易浴槽洗浄
装置の第2の実施形態を簡略的に示す断面図であり、図
8は、浴槽の循環アダプタ及びその近傍を示す部分断面
図であり、図9は、図7の簡易浴槽洗浄装置の散水体を
示す斜視図であり、図10は、散水体の他の形態を示す
斜視図であり、図11は、図7の簡易浴槽洗浄装置の洗
浄動作を示すフローチャートである。
【0040】図7及び図8を参照して、この簡易浴槽洗
浄装置は、温水を生成して浴槽202に供給するための
給湯器としての熱源機204と、温水を浴槽202に向
けて噴射する散水体206とを備えている。熱源機20
4は燃焼用バーナ及び熱交換器(いずれも図示せず)等
を有し、この燃焼用バーナに燃料用ガスを供給するため
のガス供給流路208が接続され、また熱交換器に水を
供給するための水供給流路210が接続されている。従
って、燃焼用バーナによって燃料用ガスが燃焼すること
によって、水供給流路210を通して供給される水が熱
交換器にて加熱され、このようにして温水が生成され
る。
【0041】浴槽202の底部には循環アダプタ212
が配設されている。循環アダプタ212は、浴槽202
の開口部に装着されたアダプタ本体214を備え、この
アダプタ本体214に3つの流路、即ち第1〜第3流路
216,218,220が設けられている。第1流路2
16は戻り流路222を介して熱源機204に接続さ
れ、また第2流路218は供給流路224を介して熱源
機204に接続され、更に第3流路220は分岐流路2
26を介して供給流路224に接続されている。そし
て、供給流路224には第1電磁開閉弁228が設けら
れ、分岐流路226には第2電磁開閉弁230が配設さ
れている。第1電磁開閉弁228が作動して開状態にな
ると、熱源機204からの温水が供給流路224及び循
環アダプタ212の第2流路218を通して浴槽202
内に供給される。また、第2電磁開閉弁230が作動し
て開状態になると、熱源機204からの温水は供給流路
224、分岐流路226を通して循環アダプタ212の
第3流路220に送給される。尚、浴槽202内の湯
(又は水)は戻り流路222を通して熱源機204に戻
る。
【0042】散水体206は蓋状の散水本体234を備
え、浴槽202を洗浄するとき、この散水本体234が
浴槽202の開口部上面に載置され、この開口部の実質
上全域を覆う(図7参照)。この散水本体234の内部
には、幅方向中央部にてその長手方向に延びる温水流路
238と、この温水流路238から幅方向両側に延びる
分岐流路240が形成され、これら温水流路240及び
分岐流路240の適当な部位に噴射ノズル242が装着
されている。散水本体234の温水流路238の一端部
には送給ホース242の一端部が接続されている。ま
た、循環アダプタ212の上端部(浴槽202内に位置
する部位の上端部)には簡易接続部232が設けられて
おり、この簡易接続部232に送給ホース242の他端
部に装着された接続部材244が着脱自在に装着され
る。従って、上述したようにして循環アダプタ212の
第3流路220に送給された温水は、送給ホース242
を通して散水本体234の温水流路238及び分岐流路
240に送給され、各噴射ノズル234から浴槽202
の内面に向けて噴射される。
【0043】この実施形態における散水体206は蓋状
のものから構成され、洗浄時に浴槽202の開口部の実
質上全域を覆うので、洗浄時の温水の外部への飛散を防
止し、浴室246内が濡れるのを防止しているが、洗浄
時の温水の飛散が問題とならない場合、例えば図10に
示す散水体206Aを用いることもできる。図10を参
照して、この変形形態では、散水体206Aは浴槽20
2の長手方向に延びる第1部材252と、この第1部材
252の長手方向に間隔を置いて設けられた複数個(こ
の形態では3個)の第2部材254から構成され、第1
部材252には送給ホース242に接続された温水流路
(図示せず)が形成され、第2部材254には分岐流路
(図示せず)が形成されている。各分岐流路は温水流路
に接続され、温水流路及び分岐流路には適宜の間隔を置
いて噴射ノズル256が設けられている。このような散
水体206Aを用いても、送給ホース242を通して温
水が散水体206Aに送給されると、かく送給された温
水は温水流路及び分岐流路を通して各噴射ノズル256
から噴射され、浴槽202の内面を洗浄することができ
る。図9及び図10から理解される通り、図9に示す散
水体206は浴槽202の開口部を覆うので、浴槽20
2の蓋体としても利用することができるが、図10の散
水体206Aは蓋体として利用することができず、別個
に専用の蓋体が必要となる。尚、図9又は図10に示す
散水体206,206Aを上記第1の実施形態における
散水体として用いることもできる。
【0044】図7に示すように、浴槽202は浴室24
6内に設置され、熱源機204は例えば屋外に設置さ
れ、この熱源機204を作動制御するためのリモコン2
60は浴室246内に設置される。このリモコン246
には、図示していないが、電源スイッチ、洗浄スイッチ
等の各種入力スイッチが設けられている。
【0045】次に、図7とともに図11を参照して、第
2の実施形態の簡易浴槽洗浄装置の洗浄動作について説
明する。入浴後に浴槽202を洗浄するには、まず、散
水体206に接続された送給ホース242の接続部材2
44を浴槽206の循環アダプタ214の簡易接続部2
32に着脱自在に接続する(ステップS−21)。そし
て、浴槽202の排水栓(図示せず)を抜いて浴槽20
2内の湯を排水し(ステップS−22)、その後散水体
206を浴槽202の開口部に載置してこの開口部を覆
う。このとき、噴射ノズル242が浴槽202の内面に
対向するように散水体206を載置する(ステップS−
23)。
【0046】次いで、リモコン260の洗浄スイッチ
(図示せず)を操作する(ステップS−24)。かくす
ると、ステップS−25に進み、浴槽202に残る湯の
水位の検出が行われ、この水位の検出は熱源機204内
の水位センサ(図示せず)によって行われる。そして、
浴槽202内の水位が所定水位以下に下がる、例えば循
環アダプタ212の第1流路216の開口(図8参照)
よりも低くなると、ステップS−26からステップS−
27に進み、第2電磁開閉弁230が作動して開状態と
なり、供給流路224及び分岐流路220及び送給ホー
ス242を通して温水が散水体206に送給される。
尚、このとき、燃焼用バーナに燃焼用ガスが供給され、
燃焼用バーナの燃焼によって水が加熱され、生成された
温水が熱源機204から供給流路224を通して供給さ
れる。散水体206に供給された温水は、温水流路23
8及び分岐流路240を通して流れ、各噴射ノズル24
2から浴槽202の内面に向けて噴射され、浴槽202
の洗浄が行われる。
【0047】その後、ステップS−28に進み、洗浄時
間(例えば5分程度に設定される)が経過したか否かが
判断され、洗浄時間が経過するまで噴射ノズル242か
ら温水が噴射され、上述した浴槽202の洗浄が行われ
る。そして、洗浄時間が経過すると、ステップS−29
に進み、第2電磁開閉弁230の作動が停止して閉状態
になり、温水の散水体206への供給が停止する。この
とき、温水の供給が停止するので、熱源機204への燃
料用ガスの供給も停止し、燃焼用バーナが消火する。上
述したようにして洗浄が終了すると、ステップS−30
に進み、例えばブザー(図示せず)が作動し、洗浄が終
了したことを知らせる。
【0048】この第2の実施形態では、熱源機204か
らの温水を散水体206に導いているが、熱源機204
と浴槽202の循環アダプタ214との間、又はこの循
環アダプタ214と散水体206との間に、第1の実施
形態の洗浄ユニット58を設け、洗浄時に散水体206
に送給する温水に洗浄液を混入し、すすぎ時に温水をそ
のまま散水体206に送給するようにしてもよい。
【0049】以上、本発明に従う簡易浴槽洗浄装置の実
施形態について説明したが、本発明はこれら実施形態に
限定されるものではなく、本発明の範囲を逸脱すること
なく種々の変形乃至修正が可能である。
【0050】
【発明の効果】本発明の請求項1の簡易浴槽洗浄装置に
よれば、給湯器からの温水が散水体に送給され、この散
水体の温水流路を通して噴射ノズルからから浴槽の内面
に向けて噴射され、かくして温水によって浴槽を簡単に
洗浄することができる。
【0051】また、本発明の請求項2の簡易浴槽洗浄装
置によれば、浴槽を洗浄するときにはこの温水に洗浄液
又は洗浄剤が混入され、浴槽を洗浄液又は洗浄剤を用い
て洗浄することができる。また、浴槽をすすぐときに
は、温水には洗浄液又は洗浄剤が混入されず、浴槽を温
水によってすすぐことができる。
【0052】また、本発明の請求項3の簡易浴槽洗浄装
置によれば、簡易浴槽洗浄装置を施工する際、洗浄ユニ
ットを湯水混合カランに接続し、この洗浄ユニットに散
水体を接続すればよく、比較的簡単な施工でもってこの
装置を取り付けることができ、その取付費用も安くする
ことができる。また、本発明の請求項4の簡易浴槽洗浄
装置によれば、散水体を流れる温水に洗浄液又は洗浄剤
を混入することができる。
【0053】また、本発明の請求項5の簡易浴槽洗浄装
置によれば、供給流路を通して温水を送給することによ
って、浴槽に入浴用の温水を供給することができ、また
分岐流路を通して温水を送給することによって、散水体
からこの温水を噴射することができ、浴槽の内面を洗浄
することができる。
【0054】更に、本発明の請求項6の簡易浴槽洗浄装
置によれば、散水体が散水位置と後退位置との間を旋回
自在であるので、散水体を散水位置に位置付けることに
よって浴槽内を所要の通りに洗浄、すすぎを行うことが
でき、また散水体を後退位置に位置付けることによっ
て、浴槽内に入浴することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従う簡易浴槽洗浄装置の第1の実施形
態を簡略的に示す図である。
【図2】図1の簡易浴槽洗浄装置の洗浄ユニットの外観
を示す斜視図である。
【図3】図2の洗浄ユニット内の温水の流路及びそれに
関連する構成を簡略的に示す図である。
【図4】図1の浴槽洗浄装置の使用状態を簡略的に示す
断面図である。
【図5】図1の浴槽洗浄装置の制御系を簡略的に示すブ
ロック図である。
【図6】図5の制御系による制御を示すフローチャート
である。
【図7】本発明に従う簡易浴槽洗浄装置の第2の実施形
態を簡略的に示す断面図である。
【図8】浴槽の循環アダプタ及びその近傍を示す部分断
面図である。
【図9】図7の簡易浴槽洗浄装置の散水体を示す斜視図
である。
【図10】散水体の他の形態を示す斜視図である。
【図11】図7の簡易浴槽洗浄装置の洗浄動作を示すフ
ローチャートである。
【符号の説明】
2 給湯器 4,206,206A 散水体 6,202 浴槽 10 給湯用バーナ 12 追焚き用バーナ 30 湯水混合カラン 36,212 循環アダプタ 58 洗浄ユニット 80 主送給流路 82 バイパス流路 84 第1電磁開閉弁 86 第2電磁開閉弁 104,242 噴射ノズル 108 制御手段 204 熱源機(給湯器) 224 供給流路 226 分岐流路 242 送給ホース 260 リモコン

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 温水を生成するための給湯器と、浴槽内
    部に温水を噴射するための散水体とを備え、 前記散水体には、温水が流れる温水流路及びこの温水流
    路に連通された噴射ノズルが設けられ、 浴槽を洗浄するとき、前記散水体が前記浴槽の開口部に
    位置付けられ、前記給湯器からの温水が前記散水体の前
    記温水流路を通して前記噴射ノズルから前記浴槽の内面
    に向けて噴射されることを特徴とする簡易浴槽洗浄装
    置。
  2. 【請求項2】 前記給湯器と前記散水体との間には洗浄
    ユニットが配設され、前記洗浄ユニットは、前記浴槽を
    洗浄するための洗浄液又は洗浄剤が収容される収容容器
    と、前記給湯器からの温水をそのまま前記散水体に送給
    するための第1の流路と、前記給湯器からの温水に前記
    収容容器内の洗浄液又は洗浄剤を混入して前記散水体に
    送給するための第2の流路とを備えることを特徴とする
    請求項1記載の簡易浴槽洗浄装置。
  3. 【請求項3】 前記洗浄ユニットは、温水と水とを混合
    して前記浴槽に供給するための湯水混合カランを介して
    前記給湯器に接続され、前記湯水混合カランに送給され
    る温水が前記洗浄ユニットを通して前記散水体から前記
    浴槽の内部に噴射されることを特徴とする請求項2記載
    の簡易浴槽洗浄装置。
  4. 【請求項4】 前記散水体には、洗浄液又は洗浄剤が収
    容される収容部が設けられ、前記収容部内の洗浄液又は
    洗浄剤が前記散水体の温水通路を流れる温水に混入され
    ることを特徴とする請求項1記載の簡易浴槽洗浄装置。
  5. 【請求項5】 前記浴槽には、その内部の水を前記給湯
    器との間で循環させるための循環アダプタが設けられ、
    前記循環アダプタに関連して、前記給湯器からの温水を
    前記浴槽内に送給するための供給流路と、前記供給流路
    から分岐する分岐流路と、前記浴槽内の水を前記給湯器
    に戻すための戻り流路とがとが設けられ、前記散水体は
    前記分岐流路に接続され、前記給湯器からの温水が前記
    分岐流路を通して前記散水体から前記浴槽内部に噴射さ
    れることを特徴とする請求項1、2又は4記載の簡易浴
    槽洗浄装置。
  6. 【請求項6】 前記散水体は、前記浴槽の開口部に位置
    する散水位置と、前記浴槽の開口部から外れる後退位置
    との間を旋回自在であることを特徴とする請求項1〜5
    のいずれかに記載の簡易浴槽洗浄装置。
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