JP2000267106A - Treatment of liquid crystal display substrate and treating device for using the same - Google Patents
Treatment of liquid crystal display substrate and treating device for using the sameInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明が属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イ基板製造工程において、代表的には、液晶分子の配向
を最適にするために行われる、ガラス基板の表面に形成
される配向膜の表面をナイロンブラシ等によるロールに
より擦過するラビング工程において発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなる静電気を除去する処
理方法と、その方法を利用した処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a liquid crystal display substrate, which is typically performed in order to optimize the alignment of liquid crystal molecules. The present invention relates to a processing method for removing static electricity generated in a rubbing step of rubbing with a roll by a brush or the like and charging a liquid crystal display substrate, and a processing apparatus using the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ基板製造工程に
おいて、液晶分子の配向を最適にするために、ガラス基
板の表面に形成される配向膜の表面をナイロンブラシ等
によるロールにより擦過するラビングが行われるが、こ
のラビング工程においては静電気が発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなるため、ラビング工程
によって配向膜の表面が傷つけられることで発生する微
細な塵埃を液晶ディスプレイ基板の表面に吸着してしま
ったり、又液晶ディスプレイ基板自体が静電気を帯びて
しまうことで、例えば、局所的に液晶ディスプレイ基板
を構成する電極間で所定の電圧差を確保することができ
ず、液晶の作動が完全に行われなくなって液晶ディスプ
レイ基板において表示ムラ等の原因となってしまうこと
がある。そこで、代表的には液晶ディスプレイ基板の製
造工程上必要不可欠なこのラビング工程により発生し、
液晶ディスプレイ基板を帯電させることとなる静電気を
除去する必要があり、そのため、ラビング工程後の液晶
ディスプレイ基板の洗浄をかねて水等の溶媒中に長時間
浸漬したり、また高温下において長時間液晶ディスプレ
イ基板を曝す等の静電気除去工程を施すことで、この液
晶ディスプレイ基板に残留、帯電する静電気を放電させ
ることが一般的に行われている。2. Description of the Related Art Conventionally, in the process of manufacturing a liquid crystal display substrate, rubbing is performed by rubbing the surface of an alignment film formed on the surface of a glass substrate with a roll using a nylon brush or the like in order to optimize the alignment of liquid crystal molecules. However, in the rubbing process, static electricity is generated and the liquid crystal display substrate is charged, so that fine dust generated by damaging the surface of the alignment film by the rubbing process is adsorbed on the surface of the liquid crystal display substrate. Or the liquid crystal display substrate itself is charged with static electricity, for example, a predetermined voltage difference cannot be secured locally between the electrodes constituting the liquid crystal display substrate, and the liquid crystal is completely operated. In some cases, the liquid crystal display substrate may become uneven and cause display unevenness or the like. Therefore, typically, this rubbing process is indispensable in the manufacturing process of the liquid crystal display substrate,
It is necessary to remove the static electricity that will charge the liquid crystal display substrate, so that the liquid crystal display substrate after the rubbing step must be immersed in a solvent such as water for a long time, It is common practice to discharge static electricity remaining and charged on the liquid crystal display substrate by performing a static electricity removing step such as exposing the substrate.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のもののように、液晶ディスプレイ基板に対するラビ
ング工程を施した後に、この液晶ディスプレイ基板に対
するラビング工程により発生し、帯電することとなる静
電気を除去するために、液晶ディスプレイ基板を洗浄も
かねて水等に長時間浸漬する場合には、液晶ディスプレ
イ基板に帯電する静電気を完全に除去するのに長時間浸
漬する必要があり、しかも水等に長時間浸漬して除去す
る場合には液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気の除
去は、液晶ディスプレイ基板の側方より引出される電極
を通してのみ行われるものであるので、液晶ディスプレ
イ基板中に帯電して液晶ディスプレイ基板の表示ムラ等
の原因となる静電気を完全に除去することは非常に困難
なことであって、微量ながらも静電気が残留してしまう
ことがあり、また液晶ディスプレイ基板を長時間浸漬し
て静電気を除去することとなる溶媒、例えば水等を使用
した場合においては液晶ディスプレイ基板の側方に導出
されることとなる電極の腐食等の原因となるので、静電
気を除去することとなる溶媒の乾燥を確実に行わなけれ
ばならず、そのため液晶ディスプレイ基板に対する熱等
の影響を考慮した上で、使用する溶媒の種類によっては
非常に乾燥作業に時間がかかるという問題点がある。However, after the rubbing process is performed on the liquid crystal display substrate as in the above-described conventional device, the rubbing process on the liquid crystal display substrate is performed to remove the static electricity generated and charged. In addition, if the liquid crystal display substrate is immersed in water for a long period of time also for washing, it is necessary to immerse the liquid crystal display substrate for a long time to completely remove the static electricity charged on the liquid crystal display substrate. When the liquid crystal display substrate is removed, the static electricity that is charged on the liquid crystal display substrate is removed only through electrodes drawn from the sides of the liquid crystal display substrate. It is very difficult to completely remove static electricity that causes unevenness, Static electricity may remain in spite of the amount, and if a solvent that removes static electricity by immersing the liquid crystal display substrate for a long time, such as water, is drawn out to the side of the liquid crystal display substrate. It is necessary to ensure that the solvent that removes static electricity is dried because it will cause corrosion of the electrodes that will cause static electricity, etc. There is a problem that the drying operation is very time-consuming depending on the type of the solvent.
【０００４】また、高温下において液晶ディスプレイ基
板を長時間曝すことによって静電気を除去しようとする
ものの場合には、水等の静電気を除去する溶媒を使用し
て静電気を除去するものに比べて、静電気を除去するこ
ととなる溶媒の乾燥不要とする点では製造工程での静電
気除去作業の時間を短縮することができるものである
が、直接液晶ディスプレイ基板を長時間高温下で曝すも
のであるので、液晶ディスプレイ基板を構成するガラス
板や配向膜において熱による変形や破損等により正常な
動作をしない表示素子を発生させてしまう欠点がある。In the case of removing static electricity by exposing the liquid crystal display substrate at high temperature for a long period of time, the static electricity is removed as compared with the case of using a solvent for removing static electricity such as water. In the point of eliminating the need for drying the solvent that will remove the elimination, it is possible to shorten the time of the static elimination work in the manufacturing process, but since the liquid crystal display substrate is directly exposed at a high temperature for a long time, There is a disadvantage that a display element that does not operate normally due to deformation or breakage due to heat in a glass plate or an alignment film constituting a liquid crystal display substrate is generated.
【０００５】そこで、この発明は被処理物である液晶デ
ィスプレイ基板において、代表的には製造工程中のラビ
ング工程において発生し、液晶ディスプレイ基板の表面
或いはその内部に帯電することとなる残留静電気をその
多少にかかわらず迅速に、且つ、完全に除去できるよう
にするものである。[0005] In view of the above, the present invention provides a liquid crystal display substrate which is an object to be processed, typically by a rubbing step in a manufacturing process, which causes residual static electricity to be charged on the surface of or inside the liquid crystal display substrate. This allows for quick and complete removal, albeit somewhat.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】そのために、液晶ディス
プレイ基板に対して、外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮
蔽でき、且つ軟Ｘ線を反射自在とする空間内において、
被照射物である液晶ディスプレイ基板に対して均等に回
転させつつ、例えば横置又は複数の液晶ディスプレイ基
板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置させた
上で軟Ｘ線を照射してなるものである。Therefore, in a space where leakage of soft X-rays to the outside can be completely shielded from the liquid crystal display substrate and soft X-rays can be freely reflected,
Soft X-rays are radiated while rotating the liquid crystal display substrate, which is the object to be irradiated, evenly, for example, horizontally or arranging a plurality of liquid crystal display substrates side by side with a fixed interval by a holder. is there.
【０００７】即ち、液晶ディスプレイ基板の処理装置
は、外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟Ｘ
線を反射自在とするものであって、開閉自在となる扉体
を有する装置本体内において、回転自在なターンテーブ
ルを配置すると共に、この回転自在となるターンテーブ
ル上に被照射物である液晶ディスプレイ基板を横置さ
せ、又は複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより
一定の間隔を設けながら並置させて軟Ｘ線を照射してな
るものである。That is, the processing apparatus for a liquid crystal display substrate can completely block the leakage of soft X-rays to the outside, and
A rotatable turntable is disposed in an apparatus main body having a door body which can freely reflect and open and close a line, and a liquid crystal display which is an object to be irradiated on the rotatable turntable. The soft X-rays are irradiated by arranging the substrates horizontally or by arranging a plurality of liquid crystal display substrates side by side at predetermined intervals by a holder.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮
蔽でき、且つ軟Ｘ線を反射自在とする空間内において、
軟Ｘ線を照射することによりこの空間内において高密度
の空気イオンが発生することとなるので、この高密度の
空気イオンの存在によりまず液晶ディスプレイ基板表面
に帯電する微小な残留静電気が電気的に中和、除去され
ることとなると共に、液晶ディスプレイ基板の周囲に導
出される電極を介して液晶ディスプレイ基板内に帯電し
ている静電気をも中和、除去できるものである上、この
空間内で直接照射、又は反射する軟Ｘ線が液晶ディスプ
レイ基板内を透過することによっても、液晶ディスプレ
イ基板内に残留、帯電する微弱な静電気さえも電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板に帯電する静電気はその多少にかかわ
らず完全に除去することができる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a space where leakage of soft X-rays to the outside can be completely shielded and soft X-rays can be freely reflected,
By irradiating soft X-rays, high-density air ions are generated in this space, and due to the presence of the high-density air ions, small residual static electricity charged on the surface of the liquid crystal display substrate is first electrically generated. In addition to being neutralized and removed, it can also neutralize and remove static electricity charged in the liquid crystal display substrate through electrodes led out around the liquid crystal display substrate, and within this space Even if soft X-rays that are directly radiated or reflected pass through the liquid crystal display substrate, even weak static electricity remaining and charged in the liquid crystal display substrate will be electrically neutralized and removed. The static electricity charged on the liquid crystal display substrate, which is the irradiation object, can be completely removed regardless of the amount of the static electricity.
【０００９】このとき、被照射物である液晶ディスプレ
イ基板を処理装置内のターンテーブルに対して横置する
ばかりでなく、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
により一定の間隔を設けながら並置させて照射を行って
も、照射する軟Ｘ線により発生する高密度の空気イオン
により、液晶ディスプレイ基板表面の静電気のみなら
ず、液晶ディスプレイ基板の周囲に導出される電極を介
して液晶ディスプレイ基板内に帯電している静電気をも
中和、除去できると共に、複数の液晶ディスプレイ基板
が一定間隔をあけて並置されているので、軟Ｘ線が直接
液晶ディスプレイ基板中を透過することもできて、効率
よく、且つ完全に液晶ディスプレイ基板に帯電する静電
気を除去することができるものとなる。At this time, not only is the liquid crystal display substrate to be irradiated placed laterally with respect to the turntable in the processing apparatus, but also a plurality of liquid crystal display substrates are arranged side by side at predetermined intervals by a holder to perform irradiation. Even if it is performed, the high density air ions generated by the irradiating soft X-rays cause not only the static electricity on the surface of the liquid crystal display substrate, but also the charging inside the liquid crystal display substrate through the electrodes led out around the liquid crystal display substrate. Static electricity can be neutralized and removed, and a plurality of liquid crystal display substrates are juxtaposed at regular intervals, so that soft X-rays can directly pass through the liquid crystal display substrates, making it efficient and complete. Thus, the static electricity charged on the liquid crystal display substrate can be removed.
【００１０】なお、軟Ｘ線が被照射物である液晶ディス
プレイ基板中を中和することにより、液晶ディスプレイ
基板中イオンが残留してしまうことがあっても、このイ
オンは液晶ディスプレイ基板のアースに吸収されるの
で、軟Ｘ線を照射することにより新たに静電気を帯電さ
せることはない。また、帯電中和後余分となる正負の空
気イオンも、圧倒的に大きなアース電位の面積を有する
装置内部に吸収され、余分な電荷は残存しない。Note that even if ions may remain in the liquid crystal display substrate due to neutralization of the soft X-rays in the liquid crystal display substrate, which is the object to be irradiated, the ions are applied to the ground of the liquid crystal display substrate. Since it is absorbed, no new static electricity is charged by irradiating soft X-rays. In addition, extra positive and negative air ions after neutralization of charge are also absorbed into the inside of the device having an overwhelmingly large ground potential area, and no extra charge remains.
【００１１】[0011]
【実施例】この発明を図に示す実施例により更に説明す
る。（１）はこの発明の実施例である液晶ディスプレイ
基板の処理方法を具体化した液晶ディスプレイ基板の静
電気除去装置であり、この液晶ディスプレイ基板の静電
気除去装置（１）は、その内側上部略中央に軟Ｘ線（点
線で表示）の照射源（図示せず）を有すると共に、その
内壁面（５）は外部への軟Ｘ線（点線で表示）の漏洩を
完全に遮蔽でき、且つ軟Ｘ線（点線で表示）を反射自在
とする空間（３）を形成するものであって、開閉自在と
なる扉体（４）を有する静電気除去装置本体（２）と、
この静電気除去装置本体（２）の内部で、例えば被照射
物である液晶ディスプレイ基板（８）を載置した上でモ
ーター（図示せず）により回転させて、この照射源から
発生する軟Ｘ線（点線で表示）を照射させてなるターン
テーブル（６）から構成されるものである。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. (1) is an apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate which embodies a method for processing a liquid crystal display board according to an embodiment of the present invention. It has an irradiation source (not shown) for soft X-rays (indicated by a dotted line), and its inner wall surface (5) can completely block leakage of soft X-rays (indicated by a dotted line) to the outside, and also has a soft X-ray. A static electricity removing device main body (2), which forms a space (3) that can freely reflect (indicated by a dotted line) and has a door (4) that can be freely opened and closed;
Inside the static eliminator body (2), for example, a liquid crystal display substrate (8), which is an object to be irradiated, is mounted and rotated by a motor (not shown), and soft X-rays generated from this irradiation source (Shown by a dotted line).
【００１２】そして、この発明の実施例である液晶ディ
スプレイ基板の静電気除去装置（１）においては、被照
射物である液晶ディスプレイ基板（８）を、例えば横置
又は複数の液晶ディスプレイ基板（８）を高分子プラス
チック製のホルダー（１０）内において一定の間隔を設
けながら並置させ、例えば軟Ｘ線（点線で表示）の照射
源に対してその液晶ディスプレイ基板（８）の縁辺部
（１１）を対向させた上で軟Ｘ線（点線で表示）を照射
してなるものである。In the apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate (1) according to an embodiment of the present invention, the liquid crystal display substrate (8) to be irradiated is placed, for example, horizontally or on a plurality of liquid crystal display substrates (8). Are arranged side by side in a polymer plastic holder (10) while providing a certain interval, and for example, the edge (11) of the liquid crystal display substrate (8) is irradiated to a soft X-ray (indicated by a dotted line) irradiation source. It is made by irradiating soft X-rays (indicated by dotted lines) after facing.
【００１３】なお、この液晶ディスプレイ基板の静電気
除去装置（１）において、被照射物である液晶ディスプ
レイ基板（８）に対して、軟Ｘ線（点線で表示）を照射
するに当たっては、この静電気除去装置本体（２）に付
属するタイマー（７）により、任意の時間を設定するこ
とができるものである。In the apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate (1), when the liquid crystal display substrate (8) to be irradiated is irradiated with soft X-rays (indicated by dotted lines), the static electricity is removed. An arbitrary time can be set by a timer (7) attached to the apparatus main body (2).
【００１４】この発明の実施例である液晶ディスプレイ
の静電気除去装置（１）は以上の構成を具えるので、被
照射物である液晶ディスプレイ基板（８）において帯電
する静電気を除去しようとするために、この被照射物で
ある液晶ディスプレイ基板（８）に対して、軟Ｘ線（点
線で表示）を照射すると、この静電気除去装置本体
（２）内の空間（３）内において高密度の正負全く同数
の空気イオンが発生することとなるので、この軟Ｘ線
（点線で表示）により発生する高密度の空気イオンの存
在によりまず液晶ディスプレイ基板（８）表面に帯電す
る微弱な静電気が電気的に中和、除去されるものとな
る。Since the apparatus for removing static electricity in a liquid crystal display (1) according to the embodiment of the present invention has the above-described configuration, it is necessary to remove static electricity charged on a liquid crystal display substrate (8) as an object to be irradiated. When a soft X-ray (indicated by a dotted line) is irradiated to the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be irradiated, a high-density sign is formed in a space (3) in the main body (2) of the static eliminator. Since the same number of air ions are generated, the presence of the high-density air ions generated by the soft X-rays (indicated by the dotted lines) first weakens the static electricity charged on the surface of the liquid crystal display substrate (8). It will be neutralized and removed.
【００１５】更に、液晶ディスプレイ基板（８）内に帯
電している静電気は、液晶ディスプレイ基板（８）の周
囲に導出される電極（９）を介して、静電気除去装置本
体（２）の空間（３）内に存在する、軟Ｘ線（点線で表
示）により発生する高密度の空気イオンと結合すること
により電気的に中和、除去されることになると共に、こ
の静電気除去装置本体（２）の空間（３）内で照射源か
ら直接照射、又はこの静電気除去装置本体（２）の内壁
面（５）に反射する軟Ｘ線（点線で表示）が液晶ディス
プレイ基板（８）内を透過することによっても電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板（８）に帯電する静電気はその多少に
かかわらず除去することができることとなり、また軟Ｘ
線（点線で表示）が被照射物である液晶ディスプレイ基
板（８）中を透過することによって、液晶ディスプレイ
基板（８）中にイオンが残留してしまっても、このイオ
ンは液晶ディスプレイ基板（８）のアース側に吸収され
た後、同様に液晶ディスプレイ基板（８）の周囲に導出
される電極（９）を介して、静電気除去装置本体（２）
の空間（３）内に存在する高密度の空気イオンと結合す
ることによって電気的に中和、除去されて、軟Ｘ線（点
線で表示）を照射することにより被照射物である液晶デ
ィスプレイ基板（８）が新たに静電気を帯電させること
はないものでもある。Further, the static electricity charged in the liquid crystal display substrate (8) passes through an electrode (9) led out around the liquid crystal display substrate (8) to form a space (2) in the static electricity removing device main body (2). 3), which is electrically neutralized and removed by combining with high-density air ions generated by soft X-rays (indicated by dotted lines) existing in the apparatus, and the static eliminator body (2). In the space (3), soft X-rays (indicated by dotted lines) directly irradiated from an irradiation source or reflected on the inner wall surface (5) of the static eliminator body (2) pass through the liquid crystal display substrate (8). Therefore, static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be irradiated, can be removed regardless of the degree of neutralization and soft X.
When the lines (indicated by dotted lines) pass through the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be irradiated, even if ions remain in the liquid crystal display substrate (8), the ions remain in the liquid crystal display substrate (8). ), After being absorbed by the ground side, via the electrode (9) also led out around the liquid crystal display substrate (8), the static eliminator body (2)
The liquid crystal display substrate, which is an object to be irradiated by irradiating soft X-rays (indicated by dotted lines), is electrically neutralized and removed by combining with high-density air ions existing in the space (3). (8) does not newly charge static electricity.
【００１６】この液晶ディスプレイ基板（８）に帯電す
る静電気を除去するために、液晶ディスプレイの静電気
除去装置（１）において被照射物である液晶ディスプレ
イ基板（８）に対して軟Ｘ線（点線で表示）を照射する
に当たっては、被照射物である液晶ディスプレイ基板
（８）を静電気除去装置本体（２）内のターンテーブル
（６）に対して横置するばかりでなく、複数の液晶ディ
スプレイ基板（８）をホルダー（１０）内において一定
の間隔を設けながら並置させ、例えば軟Ｘ線（点線で表
示）の照射源に対して、これら液晶ディスプレイ基板
（８）の縁辺部（１１）を対向させて照射を行っても、
照射する軟Ｘ線（点線で表示）により発生する高密度の
空気イオンにより、液晶ディスプレイ基板（８）表面の
静電気のみならず、これら液晶ディスプレイ基板（８）
の周囲に導出される電極（９）を介して液晶ディスプレ
イ基板（８）内に帯電している静電気をも電気的に中
和、除去できると共に、複数の液晶ディスプレイ基板
（８）が一定間隔をあけて並置されているので、軟Ｘ線
（点線で表示）が直接液晶ディスプレイ基板（８）内を
透過することもできて、効率よく、且つ完全に液晶ディ
スプレイ基板（８）に帯電する静電気を除去することが
できるものとなる。また、ホルダー（１０）と端面で接
する構造の液晶ディスプレイ基板（８）間に発生し易い
静電気も完全に除去することができる。In order to remove static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8), soft X-rays (indicated by dotted lines) are applied to the liquid crystal display substrate (8), which is an object to be irradiated, in the static electricity removing device (1) of the liquid crystal display. In irradiating the display, the liquid crystal display substrate (8), which is an object to be irradiated, is not only placed laterally with respect to the turntable (6) in the static eliminator body (2), but also a plurality of liquid crystal display substrates (8). 8) are arranged side by side in the holder (10) while providing a certain interval, and the edges (11) of the liquid crystal display substrate (8) are opposed to an irradiation source of, for example, soft X-rays (indicated by dotted lines). Irradiation.
The high-density air ions generated by the irradiating soft X-rays (indicated by dotted lines) cause not only static electricity on the surface of the liquid crystal display substrate (8) but also these liquid crystal display substrates (8).
Static electricity charged in the liquid crystal display substrate (8) can be electrically neutralized and removed through the electrode (9) led out around the liquid crystal display, and a plurality of liquid crystal display substrates (8) are arranged at a constant interval. Since they are juxtaposed, soft X-rays (indicated by dotted lines) can directly penetrate the liquid crystal display substrate (8), effectively and completely discharging static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8). It can be removed. In addition, static electricity easily generated between the liquid crystal display substrate (8) having a structure in which the holder (10) is in contact with the end face can be completely removed.
【００１７】[0017]
【発明の効果】以上のとおり、液晶ディスプレイの製造
工程中のラビング工程、その他の工程等により液晶ディ
スプレイ基板に帯電することとなる静電気を、軟Ｘ線を
照射することにより、この軟Ｘ線によって発生すること
となる高密度の空気イオン及び、直接軟Ｘ線が被照射物
である液晶ディスプレイ内を透過することにより電気的
に中和、除去するものとすることで、短時間に、しかも
完全に液晶ディスプレイ基板に帯電することとなる静電
気を完全に除去できるので、液晶ディスプレイ基板の製
造工程における作業性を著しく向上させると共に、帯電
する静電気による液晶ディスプレイ基板の表示ムラをな
くせるので、製品としての歩留まりの向上と同時に製造
コストの削減を図ることができる優れた効果を有するも
のである。As described above, by irradiating soft X-rays, static electricity that is charged on the liquid crystal display substrate by the rubbing step and other steps in the manufacturing process of the liquid crystal display is irradiated with the soft X-rays. The high-density air ions and the soft X-rays that are generated pass through the liquid crystal display, which is the object to be irradiated, to electrically neutralize and remove them. Static electricity that would otherwise charge the liquid crystal display substrate can be completely removed, significantly improving workability in the manufacturing process of the liquid crystal display substrate and eliminating display unevenness of the liquid crystal display substrate due to the charged static electricity. This has an excellent effect that the production cost can be reduced while improving the yield.
【図１】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置の全体斜視図である。FIG. 1 is an overall perspective view of an apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention.
【図２】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内での軟Ｘ線照射状態を示した図であ
る。FIG. 2 is a diagram showing a soft X-ray irradiation state in a device for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention.
【図３】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内で、ホルダーを使用しての軟Ｘ線照
射状態を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a soft X-ray irradiation state using a holder in a device for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention.
１ 液晶ディスプレイ基板の静電気除去装置 ２ 静電気除去装置本体 ３ 空間 ４ 扉体 ５ 内壁面 ６ ターンテーブル ７ タイマー ８ 液晶ディスプレイ基板 ９ 電極 １０ ホルダー １１ 縁辺部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Static electricity removal device of a liquid crystal display board 2 Static electricity removal device main body 3 Space 4 Door body 5 Inner wall surface 6 Turntable 7 Timer 8 Liquid crystal display substrate 9 Electrode 10 Holder 11 Edge part
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【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成１２年３月７日（２０００．３．７）[Submission date] March 7, 2000 (200.3.7)
【手続補正１】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】全文[Correction target item name] Full text
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【書類名】 明細書[Document Name] Statement
【発明の名称】 液晶ディスプレイ基板処理方法
と、その方法を利用した処理装置Patent application title: Liquid crystal display substrate processing method and processing apparatus using the method
【特許請求の範囲】[Claims]
【請求項１】 外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮蔽で
き、且つ軟Ｘ線を反射する空間内において、回転する被
照射物である液晶ディスプレイ基板に対する軟Ｘ線の照
射を、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより一
定の間隔を設けながら並置させて行ってなる液晶ディス
プレイ基板処理方法。 1. A completely shield the soft X-ray from leaking to the outside, and in a space that reflects soft X-ray, the irradiation of the soft X-ray to the liquid crystal display substrate is irradiated object which rotates, a plurality of A method for treating a liquid crystal display substrate, wherein the liquid crystal display substrates are juxtaposed with a predetermined interval provided by a holder.
【請求項２】 外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮蔽で
き、且つ軟Ｘ線を反射するものであって、開閉自在とな
る扉体を有する静電気除去装置本体内において、回転自
在なターンテーブルを配置すると共に、この回転自在と
なるターンテーブル上において被照射物である複数の液
晶ディスプレイ基板をホルダーにより一定の間隔を設け
ながら並置させて軟Ｘ線を照射してなる液晶ディスプレ
イ基板処理装置。 2. A rotatable turn inside a static eliminator body, which can completely block leakage of soft X-rays to the outside and reflects soft X-rays and has a door that can be opened and closed freely. A liquid crystal display substrate processing apparatus which arranges a table and irradiates soft X-rays by arranging a plurality of liquid crystal display substrates as objects to be irradiated side by side on a rotatable turntable with a predetermined interval by a holder. .
【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
【０００１】[0001]
【発明が属する技術分野】この発明は、液晶ディスプレ
イ基板製造工程において、代表的には、液晶分子の配向
を最適にするために行われる、ガラス基板の表面に形成
される配向膜の表面をナイロンブラシ等によるロールに
より擦過するラビング工程において発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなる静電気を除去する処
理方法と、その方法を利用した処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a process for manufacturing a liquid crystal display substrate, which is typically performed in order to optimize the alignment of liquid crystal molecules. The present invention relates to a processing method for removing static electricity generated in a rubbing step of rubbing with a roll by a brush or the like and charging a liquid crystal display substrate, and a processing apparatus using the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、液晶ディスプレイ基板製造工程に
おいて、液晶分子の配向を最適にするために、ガラス基
板の表面に形成される配向膜の表面をナイロンブラシ等
によるロールにより擦過するラビングが行われるが、こ
のラビング工程においては静電気が発生し、液晶ディス
プレイ基板を帯電させることとなるため、ラビング工程
によって配向膜の表面が傷つけられることで発生する微
細な塵埃を液晶ディスプレイ基板の表面に吸着してしま
ったり、又液晶ディスプレイ基板自体が静電気を帯びて
しまうことで、例えば、局所的に液晶ディスプレイ基板
を構成する電極間で所定の電圧差を確保することができ
ず、液晶の作動が完全に行われなくなって液晶ディスプ
レイ基板において表示ムラ等の原因となってしまうこと
がある。そこで、代表的には液晶ディスプレイ基板の製
造工程上必要不可欠なこのラビング工程により発生し、
液晶ディスプレイ基板を帯電させることとなる静電気を
除去する必要があり、そのため、ラビング工程後の液晶
ディスプレイ基板の洗浄をかねて水等の溶媒中に長時間
浸漬したり、また高温下において長時間液晶ディスプレ
イ基板を曝す等の静電気除去工程を施すことで、この液
晶ディスプレイ基板に残留、帯電する静電気を放電させ
ることが一般的に行われている。2. Description of the Related Art Conventionally, in the process of manufacturing a liquid crystal display substrate, rubbing is performed by rubbing the surface of an alignment film formed on the surface of a glass substrate with a roll using a nylon brush or the like in order to optimize the alignment of liquid crystal molecules. However, in the rubbing process, static electricity is generated and the liquid crystal display substrate is charged, so that fine dust generated by damaging the surface of the alignment film by the rubbing process is adsorbed on the surface of the liquid crystal display substrate. Or the liquid crystal display substrate itself is charged with static electricity, for example, a predetermined voltage difference cannot be secured locally between the electrodes constituting the liquid crystal display substrate, and the operation of the liquid crystal is completely performed. In some cases, the liquid crystal display substrate may become uneven and cause display unevenness or the like. Therefore, typically, this rubbing process is indispensable in the manufacturing process of the liquid crystal display substrate,
It is necessary to remove the static electricity that will charge the liquid crystal display substrate, so that the liquid crystal display substrate after the rubbing step must be immersed in a solvent such as water for a long time, It is common practice to discharge static electricity remaining and charged on the liquid crystal display substrate by performing a static electricity removing step such as exposing the substrate.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のもののように、液晶ディスプレイ基板に対するラビ
ング工程を施した後に、この液晶ディスプレイ基板に対
するラビング工程により発生し、帯電することとなる静
電気を除去するために、液晶ディスプレイ基板を洗浄も
かねて水等に長時間浸漬する場合には、液晶ディスプレ
イ基板に帯電する静電気を完全に除去するのに長時間浸
漬する必要があり、しかも水等に長時間浸漬して除去す
る場合には液晶ディスプレイ基板に帯電する静電気の除
去は、液晶ディスプレイ基板の側方より引出される電極
を通してのみ行われるものであるので、液晶ディスプレ
イ基板中に帯電して液晶ディスプレイ基板の表示ムラ等
の原因となる静電気を完全に除去することは非常に困難
なことであって、微量ながらも静電気が残留してしまう
ことがあり、また液晶ディスプレイ基板を長時間浸漬し
て静電気を除去することとなる溶媒、例えば水等を使用
した場合においては液晶ディスプレイ基板の側方に導出
されることとなる電極の腐食等の原因となるので、静電
気を除去することとなる溶媒の乾燥を確実に行わなけれ
ばならず、そのため液晶ディスプレイ基板に対する熱等
の影響を考慮した上で、使用する溶媒の種類によっては
非常に乾燥作業に時間がかかるという問題点がある。However, after the rubbing process is performed on the liquid crystal display substrate as in the above-described conventional device, the static electricity generated by the rubbing process on the liquid crystal display substrate and becoming charged is removed. In addition, if the liquid crystal display substrate is immersed in water for a long period of time also for washing, it is necessary to immerse the liquid crystal display substrate for a long time to completely remove the static electricity charged on the liquid crystal display substrate. When the liquid crystal display substrate is removed, the static electricity that is charged on the liquid crystal display substrate is removed only through electrodes drawn out from the sides of the liquid crystal display substrate. It is very difficult to completely remove static electricity that causes unevenness, Static electricity may remain in spite of the amount, and if a solvent that removes static electricity by immersing the liquid crystal display substrate for a long time, such as water, is drawn out to the side of the liquid crystal display substrate. It is necessary to ensure that the solvent that removes static electricity is dried because it will cause corrosion of the electrodes, which will cause the electrodes to be damaged. There is a problem that the drying operation takes a very long time depending on the type of the solvent.
【０００４】また、高温下において液晶ディスプレイ基
板を長時間曝すことによって静電気を除去しようとする
ものの場合には、水等の静電気を除去する溶媒を使用し
て静電気を除去するものに比べて、静電気を除去するこ
ととなる溶媒の乾燥不要とする点では製造工程での静電
気除去作業の時間を短縮することができるものである
が、直接液晶ディスプレイ基板を長時間高温下で曝すも
のであるので、液晶ディスプレイ基板を構成するガラス
板や配向膜において熱による変形や破損等により正常な
動作をしない表示素子を発生させてしまう欠点がある。In the case of removing static electricity by exposing the liquid crystal display substrate at high temperature for a long period of time, the static electricity is removed as compared with the case of using a solvent for removing static electricity such as water. In the point of eliminating the need for drying the solvent that will remove the elimination, it is possible to shorten the time of the static elimination work in the manufacturing process, but since the liquid crystal display substrate is directly exposed at a high temperature for a long time, There is a disadvantage that a display element that does not operate normally due to deformation or breakage due to heat in a glass plate or an alignment film constituting a liquid crystal display substrate is generated.
【０００５】そこで、この発明は被処理物である液晶デ
ィスプレイ基板において、代表的には製造工程中のラビ
ング工程において発生し、液晶ディスプレイ基板の表面
或いはその内部に帯電することとなる残留静電気をその
多少にかかわらず迅速に、且つ、完全に除去できるよう
にするものである。[0005] In view of the above, the present invention provides a liquid crystal display substrate which is an object to be processed, typically by a rubbing step in a manufacturing process, which causes residual static electricity to be charged on the surface of or inside the liquid crystal display substrate. This allows for quick and complete removal, albeit somewhat.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】そのために、外部への軟
Ｘ線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟Ｘ線を反射する空
間内において、回転する被照射物である液晶ディスプレ
イ基板に対する軟Ｘ線の照射を、複数の液晶ディスプレ
イ基板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置さ
せて行ってなるものである。To SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, to fully shield soft X-rays from leaking to the outside, and in a space that reflects soft X-ray, soft against the liquid crystal display substrate is irradiated object to rotate X-ray irradiation, in which a plurality of liquid crystal display substrate comprising performed by juxtaposition while providing a predetermined distance by a holder.
【０００７】即ち、液晶ディスプレイ基板の処理装置
は、外部への軟Ｘ線の漏洩を完全に遮蔽でき、且つ軟Ｘ
線を反射するものであって、開閉自在となる扉体を有す
る装置本体内において、回転自在なターンテーブルを配
置すると共に、この回転自在となるターンテーブル上に
被照射物である複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
により一定の間隔を設けながら並置させて軟Ｘ線を照射
してなるものである。That is, the processing apparatus for a liquid crystal display substrate can completely block the leakage of soft X-rays to the outside, and
A rotatable turntable is arranged in an apparatus body that reflects a line and has a door that can be opened and closed, and a plurality of liquid crystal displays that are objects to be illuminated on the rotatable turntable. The substrate is arranged side by side with a predetermined interval by a holder and irradiated with soft X-rays.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】処理装置内のターンテーブルにお
いては、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダーにより
一定の間隔を設けながら並置させて照射を行うことで、
直接又は処理装置内で反射して間接的に照射することと
なる軟Ｘ線により発生する高密度の空気イオンにより、
液晶ディスプレイ基板表面の静電気のみならず、液晶デ
ィスプレイ基板の周囲に導出される電極を介して液晶デ
ィスプレイ基板内に帯電している静電気をも中和、除去
できると共に、特に複数の液晶ディスプレイ基板が一定
間隔をあけて並置されているので、直接照射するばかり
でなく処理装置内での反射を介してあらゆる方向から軟
Ｘ線が液晶ディスプレイ基板中を透過することにもなっ
て、効率よく、且つ完全に液晶ディスプレイ基板に帯電
する静電気を除去することができるものとなる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION you to turn the tables in the processing apparatus
In other words , by irradiating multiple liquid crystal display substrates side by side while providing a certain interval with a holder ,
And indirectly irradiated by reflected directly or processing device
The density of the air ions generated by comprising a soft X-ray,
Not only ground the LCD substrate surface, also neutralizes the static electricity on the liquid crystal display substrate through an electrode to be led out to the periphery of the liquid crystal display substrate, with possible removal, in particular a plurality of liquid crystal display substrates constant Directly irradiates because they are juxtaposed at intervals
In no through reflection in the processing device is also that the soft X-ray from any direction passes through the liquid crystal display substrate
Thus , the static electricity charged on the liquid crystal display substrate can be efficiently and completely removed.
【０００９】なお、軟Ｘ線が被照射物である液晶ディス
プレイ基板中を中和することにより、液晶ディスプレイ
基板中にイオンが残留してしまうことがあっても、この
イオンは液晶ディスプレイ基板のアースに吸収されるの
で、軟Ｘ線を照射することにより新たに静電気を帯電さ
せることはない。また、帯電中和後余分となる正負の空
気イオンも、圧倒的に大きなアース電位の面積を有する
装置内部に吸収され、余分な電荷は残存しない。[00 09] In addition, by the soft X-ray to neutralize the liquid crystal display in the substrate is irradiated object, even if the ions in the liquid crystal display substrate may remain, this ion in the liquid crystal display substrate Since it is absorbed by the ground, no new static electricity is charged by irradiating soft X-rays. In addition, extra positive and negative air ions after neutralization of charge are also absorbed into the inside of the device having an overwhelmingly large ground potential area, and no extra charge remains.
【００１０】[00 10 ]
【実施例】この発明を図に示す実施例により更に説明す
る。（１）はこの発明の実施例である液晶ディスプレイ
基板の処理方法を具体化した液晶ディスプレイ基板の静
電気除去装置であり、この液晶ディスプレイ基板の静電
気除去装置（１）は、その内側上部略中央に軟Ｘ線（点
線で表示）の照射源（図示せず）を有すると共に、その
内壁面（５）は外部への軟Ｘ線（点線で表示）の漏洩を
完全に遮蔽でき、且つ軟Ｘ線（点線で表示）を反射する
空間（３）を形成するものであって、開閉自在となる扉
体（４）を有する静電気除去装置本体（２）と、この静
電気除去装置本体（２）の内部で、例えば被照射物であ
る液晶ディスプレイ基板（８）を載置した上でモーター
（図示せず）により回転させて、この照射源から発生す
る軟Ｘ線（点線で表示）を照射させてなるターンテーブ
ル（６）から構成されるものである。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. (1) is an apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate which embodies a method for processing a liquid crystal display board according to an embodiment of the present invention. It has an irradiation source (not shown) for soft X-rays (indicated by a dotted line), and its inner wall surface (5) can completely block the leakage of soft X-rays (indicated by a dotted line) to the outside, and A space (3) for reflecting (indicated by a dotted line) a static electricity removing device main body (2) having a door (4) that can be opened and closed, and the inside of the static electricity removing device body (2). Then, for example, a liquid crystal display substrate (8), which is an object to be irradiated, is placed and rotated by a motor (not shown) to irradiate soft X-rays (indicated by dotted lines) generated from this irradiation source. Consists of a turntable (6) It is intended.
【００１１】そして、この発明の実施例である液晶ディ
スプレイ基板の静電気除去装置（１）においては、被照
射物である複数の液晶ディスプレイ基板（８）を高分子
プラスチック製のホルダー（１０）内において一定の間
隔を設けながら並置させ、軟Ｘ線（点線で表示）の照射
源に対してその液晶ディスプレイ基板（８）の縁辺部
（１１）を対向させた上で軟Ｘ線（点線で表示）を照射
してなるものである。[001 1] In the static eliminator of a liquid crystal display substrate of an embodiment of the present invention (1), in a plurality of liquid crystal display substrate as an object to be irradiated (8) made of a polymer plastic holder (10) The liquid crystal display substrate (8) is arranged so that the edge (11) of the liquid crystal display substrate (8) is opposed to an irradiation source of soft X-rays (indicated by a dotted line). ).
【００１２】なお、この液晶ディスプレイ基板の静電気
除去装置（１）において、被照射物である液晶ディスプ
レイ基板（８）に対して、軟Ｘ線（点線で表示）を照射
するに当たっては、この静電気除去装置本体（２）に付
属するタイマー（７）により、任意の時間を設定するこ
とができるものである。[001 2] In addition, the static eliminator of a liquid crystal display substrate (1), the liquid crystal display substrate as an object to be irradiated (8), when irradiated soft X-rays (indicated by a dotted line), the static electricity An arbitrary time can be set by a timer (7) attached to the removing device main body (2).
【００１３】この発明の実施例である液晶ディスプレイ
の静電気除去装置（１）は以上の構成を具えるので、被
照射物である液晶ディスプレイ基板（８）において帯電
する静電気を除去しようとするために、この高分子プラ
スチック製のホルダー（１０）内において一定の間隔を
設けながら並置させる被照射物である液晶ディスプレイ
基板（８）に対して、軟Ｘ線（点線で表示）を照射する
と、この静電気除去装置本体（２）内の空間（３）内に
おいて高密度の正負全く同数の空気イオンが発生するこ
ととなるので、この軟Ｘ線（点線で表示）により発生す
る高密度の空気イオンの存在によりまず液晶ディスプレ
イ基板（８）表面に帯電する微弱な静電気が電気的に中
和、除去されるものとなる。[001 3] Since the static eliminator of a liquid crystal display which is an embodiment of the invention (1) comprises the above-described configuration, to try to remove the static electricity charged in the liquid crystal display substrate as an object to be irradiated (8) In addition, this polymer plastic
Keep a certain distance in the stick holder (10)
When a soft X-ray (indicated by a dotted line) is applied to the liquid crystal display substrate (8), which is an object to be illuminated and arranged side by side , a high-density space is formed in the space (3) in the main body (2) of the static eliminator. Since exactly the same number of positive and negative air ions are generated, the presence of the high density air ions generated by the soft X-rays (indicated by the dotted line) first causes the weak static electricity charged on the surface of the liquid crystal display substrate (8) to generate electricity. Neutralized and removed.
【００１４】更に、液晶ディスプレイ基板（８）内に帯
電している静電気は、液晶ディスプレイ基板（８）の周
囲に導出される電極（９）を介して、静電気除去装置本
体（２）の空間（３）内に存在する、軟Ｘ線（点線で表
示）により発生する高密度の空気イオンと結合すること
により電気的に中和、除去されることになると共に、こ
の静電気除去装置本体（２）の空間（３）内で照射源か
ら直接照射、又はこの静電気除去装置本体（２）の内壁
面（５）に反射する軟Ｘ線（点線で表示）が液晶ディス
プレイ基板（８）内を透過することによっても電気的に
中和、除去されることとなるので、被照射物である液晶
ディスプレイ基板（８）に帯電する静電気はその量の多
少にかかわらず除去することができることとなり、また
軟Ｘ線（点線で表示）が被照射物である液晶ディスプレ
イ基板（８）中を透過することによって、液晶ディスプ
レイ基板（８）中にイオンが残留してしまっても、この
イオンは液晶ディスプレイ基板（８）のアース側に吸収
された後、同様に液晶ディスプレイ基板（８）の周囲に
導出される電極（９）を介して、静電気除去装置本体
（２）の空間（３）内に存在する高密度の空気イオンと
結合することによって電気的に中和、除去されて、軟Ｘ
線（点線で表示）を照射することにより被照射物である
液晶ディスプレイ基板（８）が新たに静電気を帯電させ
ることはないものでもある。[001 4] In addition, static electricity on the liquid crystal display substrate (8) within the via electrodes (9) which is derived on the periphery of the liquid crystal display substrate (8), the space of the static electricity removing apparatus main body (2) By being combined with high-density air ions generated by soft X-rays (indicated by dotted lines) existing in (3), they are electrically neutralized and removed, and the static eliminator body (2) The soft X-rays (indicated by dotted lines) reflected directly from the irradiation source in the space (3) or reflected on the inner wall surface (5) of the static eliminator body (2) pass through the liquid crystal display substrate (8). Therefore, static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be irradiated, can be removed regardless of the amount thereof. And soft X-ray (dotted line) Is transmitted through the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be illuminated, and even if ions remain in the liquid crystal display substrate (8), these ions are grounded on the liquid crystal display substrate (8). After being absorbed by the side, the high-density air ions existing in the space (3) of the static eliminator body (2) via the electrode (9) also led out around the liquid crystal display substrate (8). Electrically neutralized and removed by combining with
The liquid crystal display substrate (8), which is an object to be irradiated, does not newly charge static electricity by irradiating a line (indicated by a dotted line).
【００１５】この液晶ディスプレイ基板（８）に帯電す
る静電気を除去するために、液晶ディスプレイの静電気
除去装置（１）において被照射物である液晶ディスプレ
イ基板（８）に対して軟Ｘ線（点線で表示）を照射する
に当たって、特に被照射物である液晶ディスプレイ基板
（８）をホルダー（１０）内において一定の間隔を設け
ながら並置させ、軟Ｘ線（点線で表示）の照射源に対し
て、これら液晶ディスプレイ基板（８）の縁辺部（１
１）を対向させて照射を行うことで、照射する軟Ｘ線
（点線で表示）により発生する高密度の空気イオンによ
り、液晶ディスプレイ基板（８）表面の静電気のみなら
ず、これら液晶ディスプレイ基板（８）の周囲に導出さ
れる電極（９）を介して液晶ディスプレイ基板（８）内
に帯電している静電気をも電気的に中和、除去できると
共に、複数の液晶ディスプレイ基板（８）が一定間隔を
あけて並置されていることで、軟Ｘ線（点線で表示）が
直接照射するばかりでなく除去装置（１）内での反射を
介してあらゆる方向から液晶ディスプレイ基板（８）内
を透過することもできて、効率よく、且つ完全に液晶デ
ィスプレイ基板（８）に帯電する静電気を除去すること
ができるものとなる。また、ホルダー（１０）と端面で
接する構造の液晶ディスプレイ基板（８）間に発生し易
い静電気も完全に除去することができる。[001 5] In order to remove static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8), soft X-ray to the liquid crystal display substrate as an object to be irradiated (8) in the static eliminator of a liquid crystal display (1) (dotted line In particular , the liquid crystal display substrate (8), which is the object to be irradiated, is juxtaposed with a certain interval in the holder (10), and is irradiated with a soft X-ray (indicated by a dotted line). , The edges (1) of these liquid crystal display substrates (8).
1) by performing irradiation by opposing, high-density air ions generated by the soft X-ray (indicated by dashed lines) to be irradiated, not only ground the liquid crystal display substrate (8) surface, these liquid crystal display substrate ( The static electricity charged in the liquid crystal display substrate (8) can be electrically neutralized and removed through the electrode (9) led out around 8), and the plurality of liquid crystal display substrates (8) can be kept constant. by being juxtaposed at intervals, soft X-ray (indicated by a dotted line) is a reflection of the direct removal device not only irradiation (1) in
The liquid crystal display substrate (8) can be transmitted through the liquid crystal display substrate (8) from all directions through the substrate, thereby efficiently and completely removing static electricity charged on the liquid crystal display substrate (8). In addition, static electricity easily generated between the liquid crystal display substrate (8) having a structure in which the holder (10) is in contact with the end face can be completely removed.
【００１６】[001 6 ]
【発明の効果】以上のとおり、液晶ディスプレイの製造
工程中のラビング工程、その他の工程等により液晶ディ
スプレイ基板に帯電することとなる静電気を、軟Ｘ線を
照射することにより、この軟Ｘ線によって発生すること
となる高密度の空気イオン及び、直接軟Ｘ線が被照射物
である液晶ディスプレイ内を透過することにより電気的
に中和、除去するものとすることで、短時間に、しかも
完全に液晶ディスプレイ基板に帯電することとなる静電
気を完全に除去できるので、液晶ディスプレイ基板の製
造工程における作業性を著しく向上させると共に、帯電
する静電気による液晶ディスプレイ基板の表示ムラをな
くせるので、製品としての歩留まりの向上と同時に製造
コストの削減を図ることができる優れた効果を有するも
のである。As described above, by irradiating soft X-rays, static electricity that is charged on the liquid crystal display substrate by the rubbing step and other steps in the manufacturing process of the liquid crystal display is irradiated with the soft X-rays. The high-density air ions and the soft X-rays that are generated pass through the liquid crystal display, which is the object to be irradiated, to electrically neutralize and remove them. Static electricity that would otherwise charge the liquid crystal display substrate can be completely removed, significantly improving workability in the manufacturing process of the liquid crystal display substrate and eliminating display unevenness of the liquid crystal display substrate due to the charged static electricity. This has an excellent effect that the production cost can be reduced while improving the yield.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置の全体斜視図である。FIG. 1 is an overall perspective view of an apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention.
【図２】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置に使用される液晶ディスプレイ基板の
斜視図である。FIG. 2 shows a liquid crystal display substrate used in an apparatus for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention;
It is a perspective view.
【図３】この発明の実施例である液晶ディスプレイ基板
の静電気除去装置内で、ホルダーを使用しての軟Ｘ線照
射状態を示した図である。FIG. 3 is a diagram showing a soft X-ray irradiation state using a holder in a device for removing static electricity from a liquid crystal display substrate according to an embodiment of the present invention.
【符号の説明】 １ 液晶ディスプレイ基板の静電気除去装置 ２ 静電気除去装置本体 ３ 空間 ４ 扉体 ５ 内壁面 ６ ターンテーブル ７ タイマー ８ 液晶ディスプレイ基板 ９ 電極 １０ ホルダー １１ 縁辺部[Description of Signs] 1 Static electricity removing device for liquid crystal display substrate 2 Static electricity removing device main body 3 Space 4 Door body 5 Inner wall surface 6 Turntable 7 Timer 8 Liquid crystal display substrate 9 Electrode 10 Holder 11 Edge
【手続補正２】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図２[Correction target item name] Figure 2
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図２】 FIG. 2
【手続補正３】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】図面[Document name to be amended] Drawing
【補正対象項目名】図３[Correction target item name] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図３】 FIG. 3
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H088 FA20 FA23 FA24 HA01 HA03 MA18 MA20 2H090 HC14 HC16 HC18 JC09 MB01 MB03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H088 FA20 FA23 FA24 HA01 HA03 MA18 MA20 2H090 HC14 HC16 HC18 JC09 MB01 MB03
Claims (3)
き、且つ軟Ｘ線を反射自在とする空間内において、被照
射物である液晶ディスプレイ基板に対して均等に回転さ
せつつ、軟Ｘ線を照射してなる液晶ディスプレイ基板処
理方法。In a space in which leakage of soft X-rays to the outside can be completely shielded and soft X-rays can be freely reflected, the soft X-rays are rotated uniformly with respect to a liquid crystal display substrate as an object to be irradiated. A method for processing a liquid crystal display substrate by irradiating X-rays.
でき、且つ軟Ｘ線を反射自在とする空間内において、回
転する被照射物である液晶ディスプレイ基板に対する軟
Ｘ線の照射を、複数の液晶ディスプレイ基板をホルダー
により一定の間隔を設けながら並置させて行ってなる請
求項１記載の液晶ディスプレイ基板処理方法。2. A liquid crystal display substrate, which is a rotating object to be irradiated, is irradiated with soft X-rays in a space where leakage of soft X-rays to the outside can be completely blocked and soft X-rays can be reflected. 2. The liquid crystal display substrate processing method according to claim 1, wherein a plurality of liquid crystal display substrates are arranged side by side while providing a predetermined interval by a holder.
き、且つ軟Ｘ線を反射自在とするものであって、開閉自
在となる扉体を有する静電気除去装置本体内において、
回転自在なターンテーブルを配置すると共に、この回転
自在となるターンテーブル上において被照射物である液
晶ディスプレイ基板を横置、又は複数の液晶ディスプレ
イ基板をホルダーにより一定の間隔を設けながら並置さ
せて軟Ｘ線を照射してなる液晶ディスプレイ基板処理装
置。3. A static eliminator body having a door that can completely block leakage of soft X-rays to the outside and reflect soft X-rays freely and has a door that can be opened and closed.
A rotatable turntable is arranged, and a liquid crystal display substrate, which is an object to be irradiated, is placed sideways on the rotatable turntable, or a plurality of liquid crystal display substrates are juxtaposed side by side with a predetermined interval provided by a holder. Liquid crystal display substrate processing equipment that irradiates X-rays.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074774A JP2000267106A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Treatment of liquid crystal display substrate and treating device for using the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11074774A JP2000267106A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Treatment of liquid crystal display substrate and treating device for using the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000267106A true JP2000267106A (en) | 2000-09-29 |
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ID=13556984
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|---|---|---|---|
| JP11074774A Pending JP2000267106A (en) | 1999-03-19 | 1999-03-19 | Treatment of liquid crystal display substrate and treating device for using the same |
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|---|---|
| JP (1) | JP2000267106A (en) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1324380C (en) * | 2002-03-20 | 2007-07-04 | Lg.菲利浦Lcd株式会社 | Adhesive device for producing liquid crystal display device |
| JP2014143168A (en) * | 2012-12-27 | 2014-08-07 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | Static elimination method of electronic component, and static eliminator |
| WO2016077056A1 (en) * | 2014-11-13 | 2016-05-19 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
| US9779847B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-10-03 | Moxtek, Inc. | Spark gap X-ray source |
| US9826610B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
| US9839107B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
| US9839106B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flat-panel-display, bottom-side, electrostatic-dissipation |
| US10524341B2 (en) | 2015-05-08 | 2019-12-31 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332436A (en) * | 1976-09-07 | 1978-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heating apparatus |
| JPH01122836A (en) * | 1987-11-02 | 1989-05-16 | Nippon Banotsuku:Kk | Tag conveying device for printer |
| JPH01122836U (en) * | 1988-02-03 | 1989-08-21 | ||
| JPH06130343A (en) * | 1992-10-19 | 1994-05-13 | Ricoh Co Ltd | Manufacture of liquid crystal display element |
| JPH06222319A (en) * | 1993-01-28 | 1994-08-12 | Sanyo Electric Co Ltd | Ultrasonic washing device and production of liquid crystal display device by using the device |
| JPH06258648A (en) * | 1993-03-02 | 1994-09-16 | Sharp Corp | Method for curing sealing resin of liquid crystal panel |
| JPH07294928A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-10 | Iinuma Geeji Seisakusho:Kk | Liquid crystal orientation treatment device |
| JPH0845884A (en) * | 1994-08-04 | 1996-02-16 | Iinuma Gauge Seisakusho:Kk | Substrate washing and drying device |
| JPH09245958A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-19 | New Japan Radio Co Ltd | Thawing and heating device with microwave |
| JPH1187088A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-30 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | Invisible light irradiating device |
-
1999
- 1999-03-19 JP JP11074774A patent/JP2000267106A/en active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5332436A (en) * | 1976-09-07 | 1978-03-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | High-frequency heating apparatus |
| JPH01122836A (en) * | 1987-11-02 | 1989-05-16 | Nippon Banotsuku:Kk | Tag conveying device for printer |
| JPH01122836U (en) * | 1988-02-03 | 1989-08-21 | ||
| JPH06130343A (en) * | 1992-10-19 | 1994-05-13 | Ricoh Co Ltd | Manufacture of liquid crystal display element |
| JPH06222319A (en) * | 1993-01-28 | 1994-08-12 | Sanyo Electric Co Ltd | Ultrasonic washing device and production of liquid crystal display device by using the device |
| JPH06258648A (en) * | 1993-03-02 | 1994-09-16 | Sharp Corp | Method for curing sealing resin of liquid crystal panel |
| JPH07294928A (en) * | 1994-04-28 | 1995-11-10 | Iinuma Geeji Seisakusho:Kk | Liquid crystal orientation treatment device |
| JPH0845884A (en) * | 1994-08-04 | 1996-02-16 | Iinuma Gauge Seisakusho:Kk | Substrate washing and drying device |
| JPH09245958A (en) * | 1996-02-29 | 1997-09-19 | New Japan Radio Co Ltd | Thawing and heating device with microwave |
| JPH1187088A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-30 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | Invisible light irradiating device |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1324380C (en) * | 2002-03-20 | 2007-07-04 | Lg.菲利浦Lcd株式会社 | Adhesive device for producing liquid crystal display device |
| US7341641B2 (en) * | 2002-03-20 | 2008-03-11 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Bonding device for manufacturing liquid crystal display device |
| JP2014143168A (en) * | 2012-12-27 | 2014-08-07 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | Static elimination method of electronic component, and static eliminator |
| US9779847B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-10-03 | Moxtek, Inc. | Spark gap X-ray source |
| US9826610B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
| US9824787B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-11-21 | Moxtek, Inc. | Spark gap x-ray source |
| US9839107B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
| US9839106B2 (en) | 2014-07-23 | 2017-12-05 | Moxtek, Inc. | Flat-panel-display, bottom-side, electrostatic-dissipation |
| WO2016077056A1 (en) * | 2014-11-13 | 2016-05-19 | Moxtek, Inc. | Electrostatic-dissipation device |
| CN107114002A (en) * | 2014-11-13 | 2017-08-29 | 莫克斯泰克公司 | Electrostatic dissipation device |
| US10524341B2 (en) | 2015-05-08 | 2019-12-31 | Moxtek, Inc. | Flowing-fluid X-ray induced ionic electrostatic dissipation |
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