JP2000266971A - プラスチック光ファイバコードの製造方法 - Google Patents
プラスチック光ファイバコードの製造方法Info
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- JP2000266971A JP2000266971A JP11067994A JP6799499A JP2000266971A JP 2000266971 A JP2000266971 A JP 2000266971A JP 11067994 A JP11067994 A JP 11067994A JP 6799499 A JP6799499 A JP 6799499A JP 2000266971 A JP2000266971 A JP 2000266971A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラスチック光ファイバ素線上への保護被覆
層の押出し塗布特性を向上する。 【解決手段】 プラスチック光ファイバ素線1上にプラ
スチックを押出し塗布装置6により押出し塗布すること
によりプラスチック光ファイバコード3を製造する場合
において、その押出し塗布前にプラスチック光ファイバ
素線1を加熱乾燥器5を通過させてその含有水分量を
0.6重量%以下とする。
層の押出し塗布特性を向上する。 【解決手段】 プラスチック光ファイバ素線1上にプラ
スチックを押出し塗布装置6により押出し塗布すること
によりプラスチック光ファイバコード3を製造する場合
において、その押出し塗布前にプラスチック光ファイバ
素線1を加熱乾燥器5を通過させてその含有水分量を
0.6重量%以下とする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラスチック光フ
ァイバコードの製造方法、特にそのプラスチック光ファ
イバ素線上にプラスチックを押出し塗布して保護被覆層
を形成するプラスチック光ファイバコードの製造方法に
関する。
ァイバコードの製造方法、特にそのプラスチック光ファ
イバ素線上にプラスチックを押出し塗布して保護被覆層
を形成するプラスチック光ファイバコードの製造方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、図2に例示するように、プラスチ
ック光ファイバコード3は、通常透明なポリメチルメタ
クリレート(以下、PMMAともいう。)からなる、中
心の高屈折率のコア層とその外周の低屈折率のクラッド
層から構成されるプラスチック光ファイバ素線1の上
に、ポリエチレンなどのプラスチックを押出し塗布して
保護被覆層2を形成することにより製造される。
ック光ファイバコード3は、通常透明なポリメチルメタ
クリレート(以下、PMMAともいう。)からなる、中
心の高屈折率のコア層とその外周の低屈折率のクラッド
層から構成されるプラスチック光ファイバ素線1の上
に、ポリエチレンなどのプラスチックを押出し塗布して
保護被覆層2を形成することにより製造される。
【0003】即ち、このプラスチック光ファイバコード
3は、図3に例示するように、プラスチック光ファイバ
素線1上に、押出塗布装置6のクロスヘッドのダイスか
ら加熱、溶融した熱可塑性のプラスチックを押出し塗布
して保護被覆層2を形成し、冷却水槽7を通過させて冷
却し、巻取りドラム8に巻き取ることにより製造され
る。
3は、図3に例示するように、プラスチック光ファイバ
素線1上に、押出塗布装置6のクロスヘッドのダイスか
ら加熱、溶融した熱可塑性のプラスチックを押出し塗布
して保護被覆層2を形成し、冷却水槽7を通過させて冷
却し、巻取りドラム8に巻き取ることにより製造され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、プラス
チック光ファイバ素線1上に、押出塗布装置6により加
熱、溶融したプラスチックを押出し塗布して保護被覆層
2を形成する場合、プラスチック光ファイバ素線1がそ
の上に押出された溶融したプラスチックと密着せず保護
被覆層を形成できなくなるという問題がある。
チック光ファイバ素線1上に、押出塗布装置6により加
熱、溶融したプラスチックを押出し塗布して保護被覆層
2を形成する場合、プラスチック光ファイバ素線1がそ
の上に押出された溶融したプラスチックと密着せず保護
被覆層を形成できなくなるという問題がある。
【0005】具体的には、押出塗布装置のダイスから押
出された溶融プラスチックはプラスチック光ファイバ素
線1上に被覆されることなく、ダイスの出口近傍で不規
則な固まりを形成して成長し一定以上の大きさになると
落下する現象が繰返され、比較的高線速において顕在化
しやすい。また、プラスチック光ファイバ素線1上に加
熱、溶融したプラスチックが被覆される場合であっても
欠損部を生ずる。このような場合は、製造したプラスチ
ック光ファイバコード3の保護被覆層2の内側表面に通
常小さ凹部が多数認められ、光損失増加の原因となる。
出された溶融プラスチックはプラスチック光ファイバ素
線1上に被覆されることなく、ダイスの出口近傍で不規
則な固まりを形成して成長し一定以上の大きさになると
落下する現象が繰返され、比較的高線速において顕在化
しやすい。また、プラスチック光ファイバ素線1上に加
熱、溶融したプラスチックが被覆される場合であっても
欠損部を生ずる。このような場合は、製造したプラスチ
ック光ファイバコード3の保護被覆層2の内側表面に通
常小さ凹部が多数認められ、光損失増加の原因となる。
【0006】(課題を解決するための原因の究明)発明
者等は、市販のプラスチック光ファイバ素線1を構成す
るPMMAの含有水分量を測定したところ約0.8重量
%程度あり、乾燥すると0.08重量%程度に減少する
ことから、押出し塗布時に水分がプラスチック光ファイ
バ素線から揮発し、この水分がプラスチック光ファイバ
素線1と保護被覆材の密着性を低下させて、押出し塗布
を困難にしていることを見出した。また、この水分に起
因して、プラスチック光ファイバコード3の保護被覆層
2の内側表面に前記凹部が生ずることを見出した。
者等は、市販のプラスチック光ファイバ素線1を構成す
るPMMAの含有水分量を測定したところ約0.8重量
%程度あり、乾燥すると0.08重量%程度に減少する
ことから、押出し塗布時に水分がプラスチック光ファイ
バ素線から揮発し、この水分がプラスチック光ファイバ
素線1と保護被覆材の密着性を低下させて、押出し塗布
を困難にしていることを見出した。また、この水分に起
因して、プラスチック光ファイバコード3の保護被覆層
2の内側表面に前記凹部が生ずることを見出した。
【0007】即ち、保護被覆材をプラスチック光ファイ
バ素線1上に押出し塗布する際、押出塗布装置中の溶融
樹脂温度は100℃以上であるから、これがプラスチッ
ク光ファイバ素線1と接触して、水分が揮発する。
バ素線1上に押出し塗布する際、押出塗布装置中の溶融
樹脂温度は100℃以上であるから、これがプラスチッ
ク光ファイバ素線1と接触して、水分が揮発する。
【0008】この際、揮発する水分量が一定量以上にな
ると、押出し塗布する際にプラスチック光ファイバ素線
1上に水蒸気の皮膜が形成されて、下地となるプラスチ
ック光ファイバ素線1が溶融した状態の保護被覆材料と
密着せず、これを牽引できなくなり、押出し塗布が困難
となることを突き止めた。また、プラスチック光ファイ
バ素線1上に保護被覆層が部分的に被覆された場合は、
この揮発した水分が閉じ込められて保護被覆層の内側に
凹部が生ずることを見出した。
ると、押出し塗布する際にプラスチック光ファイバ素線
1上に水蒸気の皮膜が形成されて、下地となるプラスチ
ック光ファイバ素線1が溶融した状態の保護被覆材料と
密着せず、これを牽引できなくなり、押出し塗布が困難
となることを突き止めた。また、プラスチック光ファイ
バ素線1上に保護被覆層が部分的に被覆された場合は、
この揮発した水分が閉じ込められて保護被覆層の内側に
凹部が生ずることを見出した。
【0009】一方、プラスチック光ファイバに極めて近
い技術分野であるガラスファイバの分野でも、例えば、
特開昭63−45150号公報、特開昭63−5034
6号公報等にみられるように、ガラスファイバ上に保護
被覆層を形成するために押出し装置を使用してプラスチ
ックを押出被覆する方法が提案されている。
い技術分野であるガラスファイバの分野でも、例えば、
特開昭63−45150号公報、特開昭63−5034
6号公報等にみられるように、ガラスファイバ上に保護
被覆層を形成するために押出し装置を使用してプラスチ
ックを押出被覆する方法が提案されている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を克服するため
に本発明は、プラスチック光ファイバ素線上にプラスチ
ックを押出し塗布して保護被覆層を形成することにより
プラスチック光ファイバコードを製造する場合におい
て、その保護被覆層を形成する前に前記プラスチック光
ファイバ素線を乾燥処理することによりその含有水分量
を0.6重量%以下とすることを特徴とするプラスチッ
ク光ファイバコードの製造方法である。
に本発明は、プラスチック光ファイバ素線上にプラスチ
ックを押出し塗布して保護被覆層を形成することにより
プラスチック光ファイバコードを製造する場合におい
て、その保護被覆層を形成する前に前記プラスチック光
ファイバ素線を乾燥処理することによりその含有水分量
を0.6重量%以下とすることを特徴とするプラスチッ
ク光ファイバコードの製造方法である。
【0011】また本発明は、前記乾燥処理において前記
プラスチック光ファイバ素線の温度を40℃乃至90℃
とすることを特徴とする請求項1に記載のプラスチック
光ファイバコードの製造方法でる。
プラスチック光ファイバ素線の温度を40℃乃至90℃
とすることを特徴とする請求項1に記載のプラスチック
光ファイバコードの製造方法でる。
【0012】また本発明は、前記乾燥処理において、前
記プラスチック光ファイバ素線を減圧下で加熱し又は押
出し塗布装置の直前に設けた加熱乾燥器により加熱する
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラスチック
光ファイバコードの製造方法である。
記プラスチック光ファイバ素線を減圧下で加熱し又は押
出し塗布装置の直前に設けた加熱乾燥器により加熱する
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラスチック
光ファイバコードの製造方法である。
【0013】本発明により、プラスチック光ファイバ素
線の含有水分量を0.6重量%以下に減少させることに
より、保護被覆材料の押出し塗布時の線速を従来の3倍
以上に高めるとともに押出し塗布工程の歩留まりを改善
でき、プラスチック光ファイバコードの生産性を顕著に
向上することができる。また、保護被覆層の内側表面の
小さな凹部の発生を防止してこれに起因する光損失増加
を抑制することが可能となる。
線の含有水分量を0.6重量%以下に減少させることに
より、保護被覆材料の押出し塗布時の線速を従来の3倍
以上に高めるとともに押出し塗布工程の歩留まりを改善
でき、プラスチック光ファイバコードの生産性を顕著に
向上することができる。また、保護被覆層の内側表面の
小さな凹部の発生を防止してこれに起因する光損失増加
を抑制することが可能となる。
【0014】尚、前記公報によればガラスファイバの技
術分野においても、押出し装置を使用してガラスファイ
バ上に樹脂被覆する際、加熱又は減圧などの乾燥処理を
加える方法が提案されているが、本発明の場合はプラス
チック光ファイバ素線を防湿の対象として溶融したプラ
スチックとの付着性を高めることを目的としているのに
対し、前記公報では専らガラスファイバ上に被覆した保
護被覆層を処理の対象として樹脂被覆層の早期乾燥叉は
樹脂被覆層の表面の平滑化を目的とするものであり、目
的と効果が異なる異質の技術である。
術分野においても、押出し装置を使用してガラスファイ
バ上に樹脂被覆する際、加熱又は減圧などの乾燥処理を
加える方法が提案されているが、本発明の場合はプラス
チック光ファイバ素線を防湿の対象として溶融したプラ
スチックとの付着性を高めることを目的としているのに
対し、前記公報では専らガラスファイバ上に被覆した保
護被覆層を処理の対象として樹脂被覆層の早期乾燥叉は
樹脂被覆層の表面の平滑化を目的とするものであり、目
的と効果が異なる異質の技術である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、図1、図2及び表1に基づ
いて本発明の実施の形態を説明する。なお、同じ部位に
は同じ番号を付して重複する説明を省略する。
いて本発明の実施の形態を説明する。なお、同じ部位に
は同じ番号を付して重複する説明を省略する。
【0016】
【実施例】(光ケーブルの構造)本実施例のプラスチッ
ク光ファイバコードの横断面構造を図2に示す。1は、
PMMAからなる市販のプラスチック光ファイバ素線
(旭化成(株)製のSI−POF TB−500)であ
り、外径0.50m±m0.02mmで、中心の高屈折
率のコア部分とその外周の低屈折率のクラッド部分から
なる円柱状の線状体である。
ク光ファイバコードの横断面構造を図2に示す。1は、
PMMAからなる市販のプラスチック光ファイバ素線
(旭化成(株)製のSI−POF TB−500)であ
り、外径0.50m±m0.02mmで、中心の高屈折
率のコア部分とその外周の低屈折率のクラッド部分から
なる円柱状の線状体である。
【0017】本実施例では、前記市販のプラスチック光
ファイバ素線1を1kmの長さを単位として、水分のバ
ラツキの影響を排するためにその平均の含有水分量であ
る8重量%に含有水分量を調整して揃えたものを、比較
ケース(表1 No7 乾燥処理しないケース)とし、
これを後述の種々の方法で乾燥処理したケースを実施例
(No1乃至No6)とした。
ファイバ素線1を1kmの長さを単位として、水分のバ
ラツキの影響を排するためにその平均の含有水分量であ
る8重量%に含有水分量を調整して揃えたものを、比較
ケース(表1 No7 乾燥処理しないケース)とし、
これを後述の種々の方法で乾燥処理したケースを実施例
(No1乃至No6)とした。
【0018】即ち、各ケースに付いて1kmの長さのプ
ラスチック光ファイバ素線1を種々の方法で乾燥して含
有水分量を減少した後に保護被覆層2を押出し塗布する
ことにより、従来技術と比較した本発明の効果を明らか
にする。
ラスチック光ファイバ素線1を種々の方法で乾燥して含
有水分量を減少した後に保護被覆層2を押出し塗布する
ことにより、従来技術と比較した本発明の効果を明らか
にする。
【0019】2は、保護被覆層であり、市販のポリエチ
レン(日本ユニカ(株)製のNC9109)を後述の方
法によりプラスチック光ファイバ素線1上に外径が1.
0mmとなるように押出し塗布して形成した。
レン(日本ユニカ(株)製のNC9109)を後述の方
法によりプラスチック光ファイバ素線1上に外径が1.
0mmとなるように押出し塗布して形成した。
【0020】プラスチック光ファイバコード3の製造
は、前記の従来法と基本的には同じであるが、押出塗布
装置6によりプラスチック光ファイバ素線1上に保護被
覆層2を押出し塗布する前に、前述のように加熱乾燥器
5その他の手段によりプラスチック光ファイバ素線1を
乾燥処理して含有水分量を減少させる点に特徴を有す
る。
は、前記の従来法と基本的には同じであるが、押出塗布
装置6によりプラスチック光ファイバ素線1上に保護被
覆層2を押出し塗布する前に、前述のように加熱乾燥器
5その他の手段によりプラスチック光ファイバ素線1を
乾燥処理して含有水分量を減少させる点に特徴を有す
る。
【0021】保護被覆層2は、スクリュー径が30mm
の押出塗布装置6に前記市販のペレット状のポリエチレ
ンを供給し、樹脂温度が165℃の条件で加熱、溶融し
てプラスチック光ファイバ素線1上に押出し塗布するこ
とにより形成した。この場合、通常溶融プラスチックの
溶融温度は少なくとも100℃以上であるのに対して、
プラスチック光ファイバ素線1を構成するPMMAにつ
いては、その軟化温度とほぼ同じ温度と考えられるガラ
ス転移点Tgは100℃程度であるので、一定以上の線
速で押出し塗布しなければPMMAからなるプラスチッ
ク光ファイバ素線1の強度が低下して断線する。このた
め、本実施例では押出し塗布時の最低の線速を従来技術
と同じ10m/分とした。
の押出塗布装置6に前記市販のペレット状のポリエチレ
ンを供給し、樹脂温度が165℃の条件で加熱、溶融し
てプラスチック光ファイバ素線1上に押出し塗布するこ
とにより形成した。この場合、通常溶融プラスチックの
溶融温度は少なくとも100℃以上であるのに対して、
プラスチック光ファイバ素線1を構成するPMMAにつ
いては、その軟化温度とほぼ同じ温度と考えられるガラ
ス転移点Tgは100℃程度であるので、一定以上の線
速で押出し塗布しなければPMMAからなるプラスチッ
ク光ファイバ素線1の強度が低下して断線する。このた
め、本実施例では押出し塗布時の最低の線速を従来技術
と同じ10m/分とした。
【0022】プラスチック光ファイバ素線1中の含有水
分量の測定試料は、各ケースについて同一条件で乾燥処
理した1kmの長さのプラスチック光ファイバ素線1を
10等分して10点の試料を採取して測定に供した。
分量の測定試料は、各ケースについて同一条件で乾燥処
理した1kmの長さのプラスチック光ファイバ素線1を
10等分して10点の試料を採取して測定に供した。
【0023】プラスチック光ファイバ素線1中の含有水
分量の測定方法は、カールフィッシャ法の内、 水分気
化付属装置を使用して、乾燥窒素気流中で試料を加熱
し、水分を含んだ窒素ガスを電解液に導入して水分を測
定する間接蒸発滴定法に従って測定した。
分量の測定方法は、カールフィッシャ法の内、 水分気
化付属装置を使用して、乾燥窒素気流中で試料を加熱
し、水分を含んだ窒素ガスを電解液に導入して水分を測
定する間接蒸発滴定法に従って測定した。
【0024】表1に、プラスチック光ファイバ素線1の
乾燥処理条件と、線速を10m/分、20m/分、30
m/分の3段階変えて、1kmのプラスチック光ファイ
バ素線1上に保護被覆層2を押出し塗布してプラスチッ
ク光ファイバコード3を製造した場合の良好な押出し塗
布の成否を示す。
乾燥処理条件と、線速を10m/分、20m/分、30
m/分の3段階変えて、1kmのプラスチック光ファイ
バ素線1上に保護被覆層2を押出し塗布してプラスチッ
ク光ファイバコード3を製造した場合の良好な押出し塗
布の成否を示す。
【0025】
【表1】
【0026】良好な押出し塗布の成否は、各ケースに付
いて製造した1kmのプラスチック光ファイバコード3
の全長に亘り目視により保護被覆層2の表面の状態を観
察することにより判定した。表1中の、○印は、良好な
押出し塗布が可能であること、即ちプラスチック光ファ
イバ素線1上に保護被覆層2が形成され欠損部を生じて
いないことを示す。×印は良好な押出し塗布が不可能で
あること、即ちプラスチック光ファイバ素線1上に保護
被覆層2が形成できないか叉は保護被覆層2が形成され
た部分を有していても欠損部を含む事実を示す。
いて製造した1kmのプラスチック光ファイバコード3
の全長に亘り目視により保護被覆層2の表面の状態を観
察することにより判定した。表1中の、○印は、良好な
押出し塗布が可能であること、即ちプラスチック光ファ
イバ素線1上に保護被覆層2が形成され欠損部を生じて
いないことを示す。×印は良好な押出し塗布が不可能で
あること、即ちプラスチック光ファイバ素線1上に保護
被覆層2が形成できないか叉は保護被覆層2が形成され
た部分を有していても欠損部を含む事実を示す。
【0027】表1より、プラスチック光ファイバ素線1
の水分含有量と良好な押出し塗布の成否との間には、高
い相関が認められる。まず、No7の水分含有量が0.
8重量%の比較ケースでは、前記いづれの線速でも良好
な押出し塗布が不可能であった。具体的には、押出塗布
装置6のダイスからプラスチック光ファイバ素線1とと
もに押出された溶融状態のポリエチレンはプラスチック
光ファイバ素線1上に全く被覆されず、ダイスの出口の
近傍に付着して不規則なブロックを形成した。
の水分含有量と良好な押出し塗布の成否との間には、高
い相関が認められる。まず、No7の水分含有量が0.
8重量%の比較ケースでは、前記いづれの線速でも良好
な押出し塗布が不可能であった。具体的には、押出塗布
装置6のダイスからプラスチック光ファイバ素線1とと
もに押出された溶融状態のポリエチレンはプラスチック
光ファイバ素線1上に全く被覆されず、ダイスの出口の
近傍に付着して不規則なブロックを形成した。
【0028】これに対して、No1からNo6に示す、
No7の比較ケースのプラスチック光ファイバ素線1を
乾燥処理したケースでは、水分含有量が0.8重量%か
ら少なくとも0.6重量%以下まで減少しており、この
場合は遅くとも線速10m/分であれば良好な押出し塗
布が可能であった。以下に、詳述する。
No7の比較ケースのプラスチック光ファイバ素線1を
乾燥処理したケースでは、水分含有量が0.8重量%か
ら少なくとも0.6重量%以下まで減少しており、この
場合は遅くとも線速10m/分であれば良好な押出し塗
布が可能であった。以下に、詳述する。
【0029】(減圧加熱による乾燥)表1のNo1、N
o2のケースは、1気圧である0.1013MPaから
−0.1MPaだけ減圧して1.3×103Pa(以
下、−0.1MPaと現す。)とした状態で、40℃、
60℃で減圧加熱することによりNo7の比較ケースの
プラスチック光ファイバ素線1を乾燥処理して含有水分
量を減少させたケースである。この場合、乾燥処理後の
水分含有量はそれぞれ0.10重量%、0.08重量%
で、線速10m/分、20m/分、30m/分の各線速
について、良好な押出し塗布が可能であり、ポリエチレ
ンの保護被覆層2が欠損部を生ずることなくプラスチッ
ク光ファイバ素線1上に連続して形成できた。また製造
したプラスチック光ファイバコード3の保護被覆層2の
内側表面に、光損失増加の原因となる微少な凹部の発生
も認められなかった。
o2のケースは、1気圧である0.1013MPaから
−0.1MPaだけ減圧して1.3×103Pa(以
下、−0.1MPaと現す。)とした状態で、40℃、
60℃で減圧加熱することによりNo7の比較ケースの
プラスチック光ファイバ素線1を乾燥処理して含有水分
量を減少させたケースである。この場合、乾燥処理後の
水分含有量はそれぞれ0.10重量%、0.08重量%
で、線速10m/分、20m/分、30m/分の各線速
について、良好な押出し塗布が可能であり、ポリエチレ
ンの保護被覆層2が欠損部を生ずることなくプラスチッ
ク光ファイバ素線1上に連続して形成できた。また製造
したプラスチック光ファイバコード3の保護被覆層2の
内側表面に、光損失増加の原因となる微少な凹部の発生
も認められなかった。
【0030】(乾燥後の吸湿効果)No3、No4は、
前記No2のケースで減圧加熱乾燥したプラスチック光
ファイバ素線1をそれぞれ40分、90分間放置して、
乾燥処理後に空気中において吸収する水分の効果を明ら
かにするケースである。
前記No2のケースで減圧加熱乾燥したプラスチック光
ファイバ素線1をそれぞれ40分、90分間放置して、
乾燥処理後に空気中において吸収する水分の効果を明ら
かにするケースである。
【0031】No3は、 No7の比較ケースのプラス
チック光ファイバ素線1を、60℃で、24hr減圧乾
燥後に40分間だけ20℃、相対湿度60%の空気中に
放置したケースで、乾燥直後の含有水分量が0.15重
量%増加し0.23重量%となった。この場合、線速1
0m/分、20m/分では良好な押出し塗布が可能であ
るが、線速30m/分の場合は保護被覆材料との密着性
が悪くなり、保護被覆層2に欠損部を生じた。
チック光ファイバ素線1を、60℃で、24hr減圧乾
燥後に40分間だけ20℃、相対湿度60%の空気中に
放置したケースで、乾燥直後の含有水分量が0.15重
量%増加し0.23重量%となった。この場合、線速1
0m/分、20m/分では良好な押出し塗布が可能であ
るが、線速30m/分の場合は保護被覆材料との密着性
が悪くなり、保護被覆層2に欠損部を生じた。
【0032】No4は、 No7の比較ケースのプラス
チック光ファイバ素線1を、60℃で、24hr減圧乾
燥後に90分間だけ20℃、相対湿度60%の空気中に
放置したケースで、乾燥直後の含有水分量が0.52重
量%増加し0.60重量%となったが、No7の乾燥処
理しない比較ケースよりもまだ0.2重量%だけ低い。
この場合線速10m/分では良好な押出し塗布可能であ
ったが、線速20m/分、30m/分の場合は保護被覆
材料との密着性が悪くなり、良好な押出し塗布ができな
かった。
チック光ファイバ素線1を、60℃で、24hr減圧乾
燥後に90分間だけ20℃、相対湿度60%の空気中に
放置したケースで、乾燥直後の含有水分量が0.52重
量%増加し0.60重量%となったが、No7の乾燥処
理しない比較ケースよりもまだ0.2重量%だけ低い。
この場合線速10m/分では良好な押出し塗布可能であ
ったが、線速20m/分、30m/分の場合は保護被覆
材料との密着性が悪くなり、良好な押出し塗布ができな
かった。
【0033】このNo3、No4のケースの結果は、
No2のケースの条件で減圧乾燥処理したプラスチック
光ファイバ素線1上に保護被覆層2を押出し塗布する場
合、その完了までに許容される所要時間は長くとも90
分程度であることを示す。
No2のケースの条件で減圧乾燥処理したプラスチック
光ファイバ素線1上に保護被覆層2を押出し塗布する場
合、その完了までに許容される所要時間は長くとも90
分程度であることを示す。
【0034】(オンライン乾燥)No5、No6のケー
スは、図1に例示するように、押出し塗布装置6の直前
に約1mの長さの電力制御によるニクロム線コイルを内
蔵する加熱乾燥器5を設け、No7の比較ケースのプラ
スチック光ファイバ素線1を乾燥処理して含有水分量を
減少させるケースである。
スは、図1に例示するように、押出し塗布装置6の直前
に約1mの長さの電力制御によるニクロム線コイルを内
蔵する加熱乾燥器5を設け、No7の比較ケースのプラ
スチック光ファイバ素線1を乾燥処理して含有水分量を
減少させるケースである。
【0035】前記No1乃至No4のケースの場合、押
出し塗布の開始後においてもプラスチック光ファイバ素
線1の後端部に近いほど、押出し塗布により保護被覆層
2が形成されるまでに比較的長時間空気中におかれて吸
湿の影響を大きく受けるおそれがあるが、このケースの
場合は、このような影響を受けることがなく、常に含有
水分量が一定のプラスチック光ファイバ素線1上に押出
し塗布できる点に特徴がある。また、装置が小型となる
結果、設備費が安価で、かつ押出し塗布工程と並行して
乾燥処理できるので、乾燥処理のために余分の時間を要
しないという利点を有する。
出し塗布の開始後においてもプラスチック光ファイバ素
線1の後端部に近いほど、押出し塗布により保護被覆層
2が形成されるまでに比較的長時間空気中におかれて吸
湿の影響を大きく受けるおそれがあるが、このケースの
場合は、このような影響を受けることがなく、常に含有
水分量が一定のプラスチック光ファイバ素線1上に押出
し塗布できる点に特徴がある。また、装置が小型となる
結果、設備費が安価で、かつ押出し塗布工程と並行して
乾燥処理できるので、乾燥処理のために余分の時間を要
しないという利点を有する。
【0036】この場合、含有水分量の測定サンプルは、
測定用のプラスチック光ファイバ素線1を、対応する各
ケースと同一条件で加熱乾燥器5により加熱乾燥処理
し、通過して出てきた直後の部分を採取して測定に供し
た。
測定用のプラスチック光ファイバ素線1を、対応する各
ケースと同一条件で加熱乾燥器5により加熱乾燥処理
し、通過して出てきた直後の部分を採取して測定に供し
た。
【0037】No5は、No7と同じ比較ケースのプラ
スチック光ファイバ素線1をプラスチック光ファイバ素
線サプライ4から供給して、加熱乾燥器5によりその出
口のプラスチック光ファイバ素線1の表面温度が80℃
となるように加熱して水分を蒸発させ、0.80重量%
から0.25重量%まで減少させた状態で押出し塗布し
た。この場合、線速10m/分、20m/分で良好な押
出し塗布が可能であったが、線速30m/分になると良
好な押出し塗布ができなかった。
スチック光ファイバ素線1をプラスチック光ファイバ素
線サプライ4から供給して、加熱乾燥器5によりその出
口のプラスチック光ファイバ素線1の表面温度が80℃
となるように加熱して水分を蒸発させ、0.80重量%
から0.25重量%まで減少させた状態で押出し塗布し
た。この場合、線速10m/分、20m/分で良好な押
出し塗布が可能であったが、線速30m/分になると良
好な押出し塗布ができなかった。
【0038】No6は、加熱乾燥器5によりその出口の
プラスチック光ファイバ素線1の表面温度が90℃とな
るように加熱して水分を蒸発させ、0.80重量%から
0.20重量%まで減少させた状態で、押出し塗布し
た。この場合、線速は10m/分、20m/分、30m
/分のいづれの場合も良好な押出し塗布が可能であっ
た。
プラスチック光ファイバ素線1の表面温度が90℃とな
るように加熱して水分を蒸発させ、0.80重量%から
0.20重量%まで減少させた状態で、押出し塗布し
た。この場合、線速は10m/分、20m/分、30m
/分のいづれの場合も良好な押出し塗布が可能であっ
た。
【0039】なお、加熱乾燥器5によりその出口のプラ
スチック光ファイバ素線1の表面温度が100℃となる
ように加熱した場合は、プラスチック光ファイバ素線1
が強度低下により切断してしまい、前記いづれの線速に
おいても押出し塗布が不可能であった。尚、乾燥処理温
度の下限は、理論上はマイナスの温度でも可能である
が、乾燥処理に要する時間との関係から、40℃程度が好
適である。
スチック光ファイバ素線1の表面温度が100℃となる
ように加熱した場合は、プラスチック光ファイバ素線1
が強度低下により切断してしまい、前記いづれの線速に
おいても押出し塗布が不可能であった。尚、乾燥処理温
度の下限は、理論上はマイナスの温度でも可能である
が、乾燥処理に要する時間との関係から、40℃程度が好
適である。
【0040】(比較ケース 乾燥処理なし)No7の比
較ケースは、前述のように、市販のプラスチック光ファ
イバ素線1を使用し、かつその水分含有量のバラツキの
影響を排するために、その平均の含有水分量である0.
8重量%に揃えたプラスチック光ファイバ素線1を使用
するケースで、本発明の実施例に係る前記No1乃至N
o6の乾燥処理の効果を、従来法と比較して判定するこ
とを目的とする。
較ケースは、前述のように、市販のプラスチック光ファ
イバ素線1を使用し、かつその水分含有量のバラツキの
影響を排するために、その平均の含有水分量である0.
8重量%に揃えたプラスチック光ファイバ素線1を使用
するケースで、本発明の実施例に係る前記No1乃至N
o6の乾燥処理の効果を、従来法と比較して判定するこ
とを目的とする。
【0041】このプラスチック光ファイバ素線1を使用
した場合、10m/分、20m/分、30m/分のいづ
れの線速においても、押出した溶融状態の保護被覆材料
が全くプラスチック光ファイバ素線1上に付着せず、押
出し塗布そのものが不可能であった。
した場合、10m/分、20m/分、30m/分のいづ
れの線速においても、押出した溶融状態の保護被覆材料
が全くプラスチック光ファイバ素線1上に付着せず、押
出し塗布そのものが不可能であった。
【0042】尚、前記実施例では、常温で真空乾燥する
ケースを取上げなかったが、このケースは処理時間を要
するという問題はあるものの、本発明に利用することも
可能である。
ケースを取上げなかったが、このケースは処理時間を要
するという問題はあるものの、本発明に利用することも
可能である。
【0043】
【発明の効果】本発明により、プラスチック光ファイバ
素線の含有水分量を0.6重量%以下に抑制することに
より、プラスチック光ファイバ素線上へ押出し塗布した
溶融プラスチックの付着性を高め、保護被覆層の押出し
塗布特性を顕著に改良する。
素線の含有水分量を0.6重量%以下に抑制することに
より、プラスチック光ファイバ素線上へ押出し塗布した
溶融プラスチックの付着性を高め、保護被覆層の押出し
塗布特性を顕著に改良する。
【0044】これにより、保護被覆材料の押出し塗布時
の線速を従来の3倍以上に向上するとともに、押出し塗
布工程の歩留まりを改善できプラスチック光ファイバコ
ードの生産性を顕著に向上することができる。また、保
護被覆層の内側表面に生ずる小さな凹部の形成を防止し
てこれに起因する光損失増加を抑制することができる。
の線速を従来の3倍以上に向上するとともに、押出し塗
布工程の歩留まりを改善できプラスチック光ファイバコ
ードの生産性を顕著に向上することができる。また、保
護被覆層の内側表面に生ずる小さな凹部の形成を防止し
てこれに起因する光損失増加を抑制することができる。
【図1】本発明のプラスチック光ファイバコードの製造
方法の実施例を示す工程図である。
方法の実施例を示す工程図である。
【図2】本発明のプラスチック光ファイバコードの製造
方法の対象とする、プラスチック光ファイバコードの構
造を示す横断面図である。
方法の対象とする、プラスチック光ファイバコードの構
造を示す横断面図である。
【図3】従来のプラスチック光ファイバコードの製造方
法を示す工程図である。
法を示す工程図である。
1:プラスチック光ファイバ素線 2:保護被覆層 3:プラスチック光ファイバコード 4:プラスチック光ファイバ素線サプライ 5:加熱乾燥器 6:押出塗布装置 7:冷却水槽 8:巻取りドラム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤井 隆志 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 Fターム(参考) 2H050 AA13 BA03 BA13 BA16 BB10S
Claims (3)
- 【請求項1】 プラスチック光ファイバ素線上にプラス
チックを押出し塗布して保護被覆層を形成することによ
りプラスチック光ファイバコードを製造する場合におい
て、その保護被覆層を形成する前に前記プラスチック光
ファイバ素線を乾燥処理することによりその含有水分量
を0.6重量%以下とすることを特徴とするプラスチッ
ク光ファイバコードの製造方法。 - 【請求項2】 前記乾燥処理において前記プラスチック
光ファイバ素線の温度を40℃乃至90℃とすることを
特徴とする請求項1に記載のプラスチック光ファイバコ
ードの製造方法。 - 【請求項3】 前記乾燥処理において、前記プラスチッ
ク光ファイバ素線を減圧下で加熱し又は押出し塗布装置
の直前に設けた加熱乾燥機により加熱することを特徴と
する請求項1又は2に記載のプラスチック光ファイバコ
ードの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11067994A JP2000266971A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | プラスチック光ファイバコードの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11067994A JP2000266971A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | プラスチック光ファイバコードの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000266971A true JP2000266971A (ja) | 2000-09-29 |
Family
ID=13361039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11067994A Pending JP2000266971A (ja) | 1999-03-15 | 1999-03-15 | プラスチック光ファイバコードの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000266971A (ja) |
-
1999
- 1999-03-15 JP JP11067994A patent/JP2000266971A/ja active Pending
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