JP2000230783A - Drying treatment device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明はエアーナイフによ
って被処理物に気体を噴射してこの被処理物に付着した
液体を除去する乾燥処理装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a drying apparatus for injecting a gas into an object to be processed by an air knife to remove a liquid attached to the object.
【０００２】[0002]
【従来の技術】たとえば、液晶表示装置や半導体装置の
製造工程においては、被処理物としての液晶用ガラス基
板や半導体ウエハなどの基板に回路パタ−ンを形成する
成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセ
スにおいては、上記基板をそれぞれの処理室で順次異な
る処理液で処理してから洗浄液で洗浄した後、圧縮気体
を噴射して乾燥処理するということが行われている。2. Description of the Related Art For example, in a process of manufacturing a liquid crystal display device or a semiconductor device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a substrate such as a liquid crystal glass substrate or a semiconductor wafer as an object to be processed. . In these processes, the substrates are sequentially processed in different processing chambers with different processing liquids, then washed with a cleaning liquid, and then dried by spraying compressed gas.
【０００３】上記基板の乾燥処理を行う場合、乾燥処理
装置が用いられる。乾燥処理装置は処理槽を有し、この
処理槽内には圧縮気体を噴出するエアーナイフが配置さ
れている。[0003] When the above-mentioned substrate is dried, a drying apparatus is used. The drying processing apparatus has a processing tank, in which an air knife for ejecting a compressed gas is disposed.
【０００４】そして、上記基板が処理槽内に搬送されて
くると、上記エアーナイフから上記基板に向けて噴射さ
れる気体によってその基板に付着した洗浄液が除去さ
れ、基板の乾燥処理が行われることになる。When the substrate is conveyed into the processing bath, the cleaning liquid attached to the substrate is removed by gas injected from the air knife toward the substrate, and the substrate is dried. become.
【０００５】従来、上記処理槽の底部には排液管が接続
され、側部には排気管が接続されていた。処理槽内には
基板を搬送するための搬送ローラが長手方向に沿って所
定間隔で配置されている。そのため、上記排気管は、搬
送ローラとの干渉を避けるために上記処理槽の側部の上
記搬送ローラよりも上方の位置に接続されている。Conventionally, a drain pipe is connected to the bottom of the processing tank, and an exhaust pipe is connected to the side. Transport rollers for transporting the substrates are arranged at predetermined intervals in the processing tank along the longitudinal direction. Therefore, the exhaust pipe is connected to a position above the transport roller on the side of the processing tank in order to avoid interference with the transport roller.
【０００６】このように、処理槽の側部の搬送ローラよ
りも上方、つまり処理槽内を搬送される基板よりも高い
位置に排気管が接続されていると、エアーナイフから噴
射されて基板に衝突した気体は処理槽内を上方へ舞い上
がりながら上記排気管から排出されることになる。その
結果、気体に含まれるミストが処理槽内で浮遊して乾燥
処理された基板に付着し、その基板を汚染するという虞
があった。As described above, when the exhaust pipe is connected to a position higher than the transfer roller on the side of the processing tank, that is, a position higher than the substrate transferred in the processing tank, the air is sprayed from the air knife to the substrate. The colliding gas is discharged from the exhaust pipe while rising upward in the processing tank. As a result, the mist contained in the gas may float in the processing tank and adhere to the dried substrate, thereby contaminating the substrate.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の乾
燥処理装置は、エアーナイフから被処理物に向けて噴射
された気体が処理槽内で舞い上がり、その結果、気体に
含まれるミストが被処理物に付着し、その汚染を招くと
いうことがあった。As described above, in the conventional drying processing apparatus, the gas injected from the air knife toward the object to be processed rises in the processing tank, and as a result, the mist contained in the gas is coated. In some cases, it adheres to the processed material and causes contamination.
【０００８】この発明は、エアーナイフから噴射された
気体が処理槽内で舞い上がることなく排気できるように
した乾燥処理装置を提供することにある。It is an object of the present invention to provide a drying apparatus in which gas injected from an air knife can be exhausted without rising in a processing tank.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、被処
理物に気体を噴射して乾燥させる乾燥処理装置におい
て、一端側に搬入口が形成され他端側に搬出口が形成さ
れた処理槽と、この処理槽内に設けられ上記搬入口から
搬入された上記被処理物を搬出口へ向けて搬送する搬送
手段と、この搬送手段によって処理槽内を搬送される上
記被処理物に向けかつ被処理物の搬送方向とほぼ逆方向
に気体を噴出するよう上記処理槽内に設けられたエアー
ナイフと、上記被処理物の搬送方向上流側となる上記処
理槽の底部に設けられ上記エアーナイフから噴出された
気体を排出する排気管とを具備したことを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a drying apparatus for drying by injecting gas into an object to be processed, wherein a carry-in port is formed at one end and a carry-out port is formed at the other end. A processing tank, a transfer means provided in the processing tank, and a transfer means for transferring the object to be transferred from the carry-in port toward the discharge port, and a transfer means for transferring the object to be processed in the processing tank by the transfer means. An air knife provided in the processing tank so as to blow gas in a direction substantially opposite to the direction of transport of the object to be processed, and an air knife provided at the bottom of the processing tank on the upstream side in the direction of transport of the object to be processed. And an exhaust pipe for discharging gas ejected from the air knife.
【００１０】それによって、エアーナイフから被処理物
に向けて噴射された気体は処理槽の底部に向って流れて
排気されるから、処理槽内で舞い上がってミストが浮遊
するのを防止することができる。[0010] Accordingly, the gas injected from the air knife toward the object to be processed flows toward the bottom of the processing tank and is exhausted, so that it is possible to prevent the mist from rising in the processing tank and floating. it can.
【００１１】請求項２の発明は、請求項１の発明におい
て、上記処理槽の底部は、上記搬出口から搬入口に向っ
て低く傾斜していて、その底部の最も低い位置には排液
管が接続され、この排液管に上記排気管が上記排液管を
流れる液体が流れ込まない状態で接続されていることを
特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the bottom of the processing tank is inclined downward from the carry-out port to the carry-in port, and a drain pipe is provided at the lowest position of the bottom. And the exhaust pipe is connected to the drain pipe in a state where the liquid flowing through the drain pipe does not flow.
【００１２】それによって、排液管と排気管とを処理槽
の底部の同じ位置に設けることができるから、排液管を
処理槽の底部に邪魔にならないように設けることができ
る。Accordingly, the drain pipe and the exhaust pipe can be provided at the same position on the bottom of the processing tank, so that the drain pipe can be provided at the bottom of the processing tank without obstruction.
【００１３】[0013]
【実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を図面を
参照して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１４】図１はこの発明の乾燥処理装置を示し、こ
の乾燥装置は処理槽１を備えている。この処理槽１は上
面が幅方向一側壁１ａから他側壁１ｂに向かって低く傾
斜していて、その上面は開閉自在な内蓋２と外蓋３とに
よって閉塞されている。さらに、図２に示すように、処
理槽１の長手方向一端面には搬入口１ｃが形成され、他
端面には搬出口１ｄが形成されている。FIG. 1 shows a drying apparatus according to the present invention. The drying apparatus includes a processing tank 1. The upper surface of the processing tank 1 is inclined downward from one side wall 1a in the width direction to the other side wall 1b, and the upper surface is closed by an inner lid 2 and an outer lid 3 that can be opened and closed. Furthermore, as shown in FIG. 2, a carry-in port 1c is formed at one longitudinal end face of the processing tank 1, and a carry-out port 1d is formed at the other end face.
【００１５】上記処理槽１の底部にはドレンパン４が設
けられ、このドレンパン４は上記処理槽１の搬入口１ｃ
側の幅方向一端部に向かって低く傾斜していて、最も低
い部分である、上記搬入口１ｃ側の幅方向一端部には排
液管５ａが接続されている。この排液管５ａには図３に
示すように排気管５ｂのほぼＬ字状に屈曲された一端部
がその開口端面を下方に向けて挿入接続されている。こ
の排気管５ｂの他端は図１に示すように排気ポンプ１０
に接続されている。A drain pan 4 is provided at the bottom of the processing tank 1, and the drain pan 4 is provided at the entrance 1 c of the processing tank 1.
A drain pipe 5a is connected to one end in the width direction on the side of the carry-in port 1c, which is the lowest part, which is inclined downward toward one end in the width direction on the side. As shown in FIG. 3, a substantially L-shaped bent end of the exhaust pipe 5b is inserted and connected to the drain pipe 5a with its open end face downward. The other end of the exhaust pipe 5b is connected to an exhaust pump 10 as shown in FIG.
It is connected to the.
【００１６】上記処理槽１の一側壁１ａと他側壁１ｂと
の高さ方向中途部にはそれぞれ複数の開口部６が幅方向
と直交する、長手方向に沿って所定間隔で形成されてい
る。上記処理槽１内には複数の搬送ロ−ラ７が両端部を
一対の側壁１ａ、１ｂに形成された開口部６から外部に
突出させて設けられている。つまり、複数の搬送ロ−ラ
７は、被処理物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエ
ハなどの洗浄処理された基板Ｗの搬送方向に沿って所定
間隔で配置され、後述するごとく上記搬入口１ｃから搬
入された基板Ｗを搬出口１ｄの方向へ搬送するようにな
っている。A plurality of openings 6 are formed at predetermined intervals along the longitudinal direction, which are orthogonal to the width direction, at the intermediate portion in the height direction between the one side wall 1a and the other side wall 1b of the processing tank 1. A plurality of transport rollers 7 are provided in the processing tank 1 so that both ends protrude outside through openings 6 formed in the pair of side walls 1a and 1b. In other words, the plurality of transport rollers 7 are arranged at predetermined intervals along the transport direction of a substrate W that has been subjected to a cleaning process, such as a liquid crystal glass substrate or a semiconductor wafer, as an object to be processed. The substrate W carried in from is transported in the direction of the exit 1d.
【００１７】上記処理槽１の両側壁１ａ、１ｂの外面側
には、それぞれ第１の収容室８と第２の収容室９とがほ
ぼ全長にわたって処理槽１と一体的に形成されていて、
これらの収容室８、９に上記搬送ロ−ラ７の両端部が位
置している。On the outer surfaces of both side walls 1a and 1b of the processing tank 1, a first storage chamber 8 and a second storage chamber 9 are formed integrally with the processing tank 1 over substantially the entire length, respectively.
Both ends of the transport roller 7 are located in these storage chambers 8 and 9.
【００１８】上記各収容室８、９には帯板状の支持体１
５が立設されている。支持体１５には図１に示すように
上記搬送ロ−ラ７が転がり軸受１１を介して回転自在に
支持されている。Each of the storage chambers 8 and 9 has a strip-shaped support 1.
5 are erected. As shown in FIG. 1, the transport roller 7 is rotatably supported on the support 15 via a rolling bearing 11.
【００１９】上記搬送ロ−ラ７には、上記基板Ｗを支持
するための複数の支持部１７が軸方向中心に対して左右
に対称に設けられているとともに、両端部の上記処理槽
１内に位置する部分にはそれぞれ円盤状の遮断部材１８
が外嵌固定されている。この遮断部材１８は、上記搬送
ロ−ラ７に付着した洗浄液がこの搬送ロ−ラ７の軸方向
に沿って流れるのを阻止する。それによって、遮断部材
１８は、洗浄液が上記搬送ロ−ラ７を伝わって処理槽１
の側壁１ａ、１ｂの開口部６から外部へ流出して滴下す
るのを防止するようになっている。The transfer roller 7 is provided with a plurality of support portions 17 for supporting the substrate W symmetrically to the left and right with respect to the center in the axial direction. Are located at the positions of the disk-shaped blocking members 18 respectively.
Are externally fitted and fixed. The blocking member 18 prevents the cleaning liquid adhering to the transport roller 7 from flowing along the axial direction of the transport roller 7. As a result, the shut-off member 18 causes the cleaning liquid to travel through the transport roller 7 and
Of the side walls 1a and 1b is prevented from flowing out to the outside and dripping.
【００２０】上記処理槽１の一対の側壁１ａ、１ｂに形
成された開口部６は、上端を上記側壁内面に固定した第
１のカバ−２１によって覆われている。この第１のカバ
−２１は上記搬送ロ−ラ７の上記遮断部材１８よりも軸
方向外側となる端部側に設けられている。第１のカバ−
２１よりも軸方向内方には、上記第１のカバ−２１と所
定間隔で対向した第２のカバ−２２が上端を上記側壁内
面に固定して設けられている。The opening 6 formed in the pair of side walls 1a and 1b of the processing tank 1 is covered with a first cover 21 having an upper end fixed to the inner surface of the side wall. The first cover 21 is provided on an end portion of the transport roller 7 which is axially outside the blocking member 18. First cover
A second cover 22 facing the first cover 21 at a predetermined interval is provided inward of the first cover 21 at a predetermined distance from the inside of the side wall.
【００２１】上記処理槽１内の上記搬出口１ｄ側の端部
には、搬送ロ−ラ７によって搬送される基板Ｗの上面側
と下面側とにそれぞれ対向して上部エアーナイフ２３と
下部エアーナイフ２４が処理槽１の幅方向に沿うととも
に、基板Ｗの搬送方向に対して所定の角度で傾斜して設
けられている。An upper air knife 23 and a lower air knife are provided at an end of the processing tank 1 on the side of the carry-out port 1d so as to face the upper surface and the lower surface of the substrate W transferred by the transfer roller 7, respectively. A knife 24 is provided along the width direction of the processing bath 1 and inclined at a predetermined angle with respect to the transport direction of the substrate W.
【００２２】つまり、エアーナイフ２３，２４は、上記
排液管５ａが接続された処理槽１の幅方向一端部側に比
べて他端部側が基板Ｗの搬送方向に対して上流側に位置
するよう、水平方向に対して傾斜して配置されている。In other words, the other ends of the air knives 23 and 24 are located upstream with respect to the transport direction of the substrate W with respect to the one end in the width direction of the processing tank 1 to which the drain pipe 5a is connected. So as to be inclined with respect to the horizontal direction.
【００２３】さらに、各エアーナイフ２３，２４は処理
槽１内を搬送される基板Ｗの搬送方向と逆方向、つまり
圧縮気体が噴射される下端が搬入口１ｃ側に向けて所定
の角度となるよう垂直方向に対して傾斜して配置されて
いる。Further, each of the air knives 23 and 24 is in a direction opposite to the direction in which the substrate W is transported in the processing tank 1, that is, the lower end where the compressed gas is injected has a predetermined angle toward the loading port 1c. So that it is inclined with respect to the vertical direction.
【００２４】そして、各エアーナイフ２３，２４には図
示しない供給源から空気や不活性ガスなどの圧縮気体が
供給される。それによって、上記基板Ｗの上面と下面と
に付着した洗浄液は基板Ｗの搬送方向後方側（基板Ｗの
搬送方向と逆方向）で、処理槽１の排液管５ａが接続さ
れた幅方向一端側に圧縮気体とともに流れるから、その
上下面が乾燥処理されることになる。A compressed gas such as air or an inert gas is supplied to the air knives 23 and 24 from a supply source (not shown). As a result, the cleaning liquid adhering to the upper and lower surfaces of the substrate W is provided at one end in the width direction at the rear side in the transport direction of the substrate W (in the direction opposite to the transport direction of the substrate W) to which the drain pipe 5a of the processing tank 1 is connected. Since it flows together with the compressed gas to the side, the upper and lower surfaces thereof are dried.
【００２５】上記第１の収容室８の外側には図１に示す
ように駆動手段を構成するモ−タからなる駆動源２５が
配置されている。この駆動源２５の駆動軸２５ａには駆
動部材としての駆動スプロケット２６が嵌着されてい
る。この駆動スプロケット２６の回転はチェ−ン２７を
介して従動スプロケット２８に伝達される。なお、駆動
源２５を第１の収容室８の外部に設けることで、この収
容室８を小さくすることができる。As shown in FIG. 1, a driving source 25 composed of a motor constituting driving means is disposed outside the first storage chamber 8. A drive sprocket 26 as a drive member is fitted on a drive shaft 25a of the drive source 25. The rotation of the driving sprocket 26 is transmitted to a driven sprocket 28 via a chain 27. By providing the drive source 25 outside the first storage chamber 8, the storage chamber 8 can be made smaller.
【００２６】上記従動スプロケット２８は従動軸３１に
嵌着されている。この従動軸３１は上記第１の収容室８
の底部、つまり第１の収容室８に突出した搬送ロ−ラ７
の一端部よりも下方で、しかも軸線を上記搬送ロ−ラ７
の軸線に対して直交させて回転自在に設けられている。The driven sprocket 28 is fitted on a driven shaft 31. The driven shaft 31 is connected to the first accommodation chamber 8.
, The transfer roller 7 protruding into the first storage chamber 8
Of the transfer roller 7 below the one end of the
Are provided rotatably perpendicularly to the axis of.
【００２７】上記従動軸３１と上記搬送ロ−ラ７の一端
部とには、図２に示すように互いに噛合する歯車３３，
３４が設けられている。したがって、上記駆動源２５の
駆動軸２５ａが回転駆動されると、その回転がチェ−ン
２７を介して駆動スプロケット２６から従動スプロケッ
ト２８が設けられた従動軸３１に伝達されるから、この
従動軸３１を介して搬送ロ−ラ７が回転駆動されること
になる。それによって、搬送ロ−ラ７の支持部１７に支
持された基板Ｗが所定方向、つまり図２に矢印Ａで示す
搬入口１ｃ側から搬出口１ｄ側へ搬送されるようになっ
ている。As shown in FIG. 2, the driven shaft 31 and one end of the transport roller 7 are provided with gears 33 meshing with each other.
34 are provided. Therefore, when the drive shaft 25a of the drive source 25 is rotationally driven, the rotation is transmitted from the drive sprocket 26 to the driven shaft 31 provided with the driven sprocket 28 via the chain 27. The transport roller 7 is driven to rotate via the reference numeral 31. Thereby, the substrate W supported by the support portion 17 of the transport roller 7 is transported in a predetermined direction, that is, from the entrance 1c side shown by the arrow A in FIG.
【００２８】つぎに、上記構成の乾燥処理装置の作用に
ついて説明する。Next, the operation of the drying apparatus having the above configuration will be described.
【００２９】処理槽１の搬入口１ｃからその内部へ基板
Ｗが搬入されると、その基板Ｗは回転駆動される搬送ロ
ーラ７によって搬出口１ｄの方向へ搬送される。基板Ｗ
がエアーナイフ２３，２４に対向する位置まで搬送され
てくると、これらエアーナイフ２３，２４から基板Ｗの
上面と下面とに向けて気体が噴射される。When the substrate W is carried into the processing tank 1 from the carry-in port 1c, the substrate W is conveyed in the direction of the carry-out port 1d by the conveying roller 7 which is driven to rotate. Substrate W
Is transported to a position facing the air knives 23 and 24, gas is injected from the air knives 23 and 24 toward the upper surface and the lower surface of the substrate W.
【００３０】それによって、基板Ｗの上面と下面とに付
着した洗浄液は基板Ｗの搬送方向と逆方向で、しかも基
板Ｗの幅方向一端側に押し流されるから、基板Ｗが乾燥
処理されることになる。As a result, the cleaning liquid adhering to the upper and lower surfaces of the substrate W is flushed in a direction opposite to the transport direction of the substrate W and to one end in the width direction of the substrate W, so that the substrate W is dried. Become.
【００３１】基板Ｗから除去された洗浄液は、基板Ｗの
幅方向一端側、つまり処理槽１の幅方向一端側に位置す
る排液管５ａへ排出されることになる。また、基板Ｗに
向けて噴射された気体は基板Ｗから除去される洗浄液と
ほぼ同じ経路で上記排液管５ａを通って排気管５ｂへ排
気されることになる。つまり、排液管５ａには排気管５
ｂを介して吸引ポンプ１０の吸引力が作用するから、そ
の吸引力によって洗浄液や基板Ｗに噴射された気体が排
出されることになる。The cleaning liquid removed from the substrate W is discharged to a drain pipe 5a located at one end in the width direction of the substrate W, that is, at one end in the width direction of the processing tank 1. Further, the gas injected toward the substrate W is exhausted to the exhaust pipe 5b through the drain pipe 5a along substantially the same path as the cleaning liquid removed from the substrate W. That is, the exhaust pipe 5a is connected to the exhaust pipe 5a.
Since the suction force of the suction pump 10 acts via b, the cleaning liquid and the gas injected to the substrate W are discharged by the suction force.
【００３２】上記排気管５ｂは処理槽１の搬入口１ｂ側
の底部に排液管５ａを介して接続されているから、エア
ーナイフ２３，２４から基板Ｗの上面と下面とに噴射さ
れた気体は基板Ｗの上下面に沿って流れた後、排液管５
ａの方向、つまり下方へ向って流れ、排液管５ａを通じ
て排気管５ｂへ吸引されることになる。Since the exhaust pipe 5b is connected to the bottom of the processing tank 1 on the side of the carry-in port 1b via the drain pipe 5a, the gas injected from the air knives 23 and 24 to the upper and lower surfaces of the substrate W is provided. Flows along the upper and lower surfaces of the substrate W,
It flows in the direction of a, that is, downward, and is sucked into the exhaust pipe 5b through the drain pipe 5a.
【００３３】そのため、エアーナイフ２３，２４から噴
射された気体は処理槽１内で上方へ舞い上がることな
く、排液管５ａが接続された下方に向って流れて排気さ
れることになるから、上記気体に含まれるミストが処理
槽１内に飛散して基板Ｗに付着するのを防止することが
できる。つまり、排出される気体に含まれるミストによ
って基板Ｗが汚染されるのを防ぐことができる。Therefore, the gas injected from the air knives 23 and 24 does not flow upward in the processing tank 1 but flows downward and is exhausted to which the drain pipe 5a is connected. The mist contained in the gas can be prevented from scattering into the processing tank 1 and adhering to the substrate W. That is, it is possible to prevent the mist contained in the discharged gas from contaminating the substrate W.
【００３４】上記排気管５ｂは、Ｌ字状に折曲された端
部が開口端面を下方に向けて排液管５ａに挿入接続され
ている。そのため、排気管５ｂには、排液管５ａから排
出される洗浄液が流れ込むことがないから、気体だけを
確実に排出することができる。つまり、処理槽１の底部
の同一箇所に排液管５ａと排気管５ｂとを、これらの機
能を損うことなく接続することができるから、別々の箇
所に接続する場合に比べて全体の構成をコンパクトにす
ることができる。The exhaust pipe 5b has an L-shaped bent end inserted and connected to the drain pipe 5a with the opening end face downward. Therefore, since the cleaning liquid discharged from the drain pipe 5a does not flow into the exhaust pipe 5b, only the gas can be reliably discharged. In other words, the drainage pipe 5a and the exhaust pipe 5b can be connected to the same location on the bottom of the processing tank 1 without impairing their functions. Can be made compact.
【００３５】さらに、エアーナイフ２３，２４を水平方
向及び垂直方向に対して所定方向に傾斜させ、これらエ
アーナイフ２３，２４から噴射される気体の流れ方向を
処理槽１内を搬送される基板Ｗの搬送方向と逆方向、つ
まり搬入口１ｃ側方向に設定するとともに、その流れ方
向に位置する搬入口１ｃ側の処理槽１の底部に排液管５
ａと排気管５ｂとを接続した。そのため、エアーナイフ
２３，２４から噴射された気体及びこの気体によって基
板Ｗから除去される洗浄液が上記排液管５ｂの方向へ流
れ易くなるから、そのことによってもエアーナイフ２
３，２４から噴射された気体を洗浄液とともに処理槽１
から円滑に排出することが可能となり、ミストを含んだ
気体が搬出口１ｄ側へは流れにくくなる。これにより、
エアーナイフ２３，２４から噴射された気体によって乾
燥処理された後の基板Ｗにはミストが付着しにくくな
る。Further, the air knives 23 and 24 are inclined in a predetermined direction with respect to the horizontal direction and the vertical direction, and the flow direction of the gas ejected from the air knives 23 and 24 is changed so that the substrate W conveyed in the processing tank 1 is moved. Is set in the direction opposite to the transfer direction, that is, in the direction of the carry-in port 1c.
a and the exhaust pipe 5b were connected. Therefore, the gas ejected from the air knives 23 and 24 and the cleaning liquid removed from the substrate W by the gas easily flow in the direction of the drain pipe 5b.
Processing tank 1 with gas injected from 3 and 24 together with cleaning liquid
, It becomes difficult for gas containing mist to flow toward the carry-out port 1d. This allows
The mist hardly adheres to the substrate W after being dried by the gas injected from the air knives 23 and 24.
【００３６】[0036]
【発明の効果】請求項１の発明によれば、被処理物の搬
送方向上流側となる上記処理槽の底部に、エアーナイフ
から噴出された気体を排出する排気管を設けるようにし
た。According to the first aspect of the present invention, an exhaust pipe for discharging gas ejected from an air knife is provided at the bottom of the processing tank on the upstream side in the transport direction of the workpiece.
【００３７】そのため、処理槽内を搬送される被処理物
に向けてエアーナイフから噴出される気体は被処理物を
乾燥処理してから処理槽の底部に接続された排気管へ排
気されるため、ミストを含んだ気体が処理槽内で舞い上
がり、そのミストが基板に付着するのを防止することが
できる。For this reason, the gas ejected from the air knife toward the object transported in the processing tank is exhausted to an exhaust pipe connected to the bottom of the processing tank after drying the object. Further, it is possible to prevent the gas containing the mist from rising in the processing tank and to adhere the mist to the substrate.
【００３８】請求項２の発明によれば、排気管を、処理
槽の底部に接続された排液管に、この排液管に流れる液
体が流れ込むことがないように接続した。それによっ
て、排気管を排液管と処理槽の同じ箇所に設けることが
できるから、排気管を処理槽の底部に接続するために専
用の接続箇所を確保しなくてすむ。According to the second aspect of the present invention, the exhaust pipe is connected to the drain pipe connected to the bottom of the processing tank so that the liquid flowing through the drain pipe does not flow. Thus, the exhaust pipe can be provided at the same position of the drain pipe and the processing tank, and it is not necessary to secure a dedicated connection point for connecting the exhaust pipe to the bottom of the processing tank.
【図１】この発明の一実施の形態の乾燥処理装置を示す
縦断面図。FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a drying apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】同じく横断面図。FIG. 2 is a transverse sectional view of the same.
【図３】同じく処理槽に接続された排液管と排気管との
接続部分の拡大断面図。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view of a connection portion between a drain pipe and an exhaust pipe connected to a processing tank.
１…処理槽 ５ｂ…排気管 ７…搬送ローラ（搬送手段） ２３，２４…エアーナイフ Ｗ…基板（被処理物） DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Processing tank 5b ... Exhaust pipe 7 ... Conveying roller (conveying means) 23, 24 ... Air knife W ... Substrate (workpiece)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 金子 勝則 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１ 芝 浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 (72)発明者 山崎 貴弘 神奈川県横浜市栄区笠間町1000番地１ 芝 浦メカトロニクス株式会社横浜事業所内 Ｆターム(参考） 3L113 AA03 AB02 AB09 AC25 AC28 AC31 AC46 AC48 AC67 BA34 DA13 DA14 DA24 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Katsunori Kaneko 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Shibaura Mechatronics Co., Ltd. Yokohama Office (72) Inventor Takahiro Yamazaki 1000-1, Kasama-cho, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Shiba U-Mechatronics Co., Ltd. Yokohama Office F-term (reference) 3L113 AA03 AB02 AB09 AC25 AC28 AC31 AC46 AC48 AC67 BA34 DA13 DA14 DA24
Claims (2)
燥処理装置において、 一端側に搬入口が形成され他端側に搬出口が形成された
処理槽と、 この処理槽内に設けられ上記搬入口から搬入された上記
被処理物を搬出口へ向けて搬送する搬送手段と、 この搬送手段によって処理槽内を搬送される上記被処理
物に向けかつ被処理物の搬送方向とほぼ逆方向に気体を
噴出するよう上記処理槽内に設けられたエアーナイフ
と、 上記被処理物の搬送方向上流側となる上記処理槽の底部
に設けられ上記エアーナイフから噴出された気体を排出
する排気管とを具備したことを特徴とする乾燥処理装
置。1. A drying apparatus for injecting gas into an object to be dried and drying the processing object, comprising: a processing tank having a carry-in port formed at one end and a carry-out port formed at the other end; Transport means for transporting the workpiece loaded from the loading port toward the transport outlet; and a transport direction of the workpiece directed toward the workpiece transported in the processing tank by the transport means. An air knife provided in the processing tank so as to eject gas in a direction; and an exhaust provided at the bottom of the processing tank which is located on the upstream side in the transport direction of the object to be ejected from the air knife. A drying treatment device comprising a tube.
入口に向って低く傾斜していて、その底部の最も低い位
置には排液管が接続され、この排液管に上記排気管が上
記排液管を流れる液体が流れ込まない状態で接続されて
いることを特徴とする請求項１記載の乾燥処理装置。2. The bottom of the processing tank is inclined downward from the carry-out port to the carry-in port, and a drain pipe is connected to the lowest position of the bottom, and the exhaust pipe is connected to the drain pipe. 2. The drying processing apparatus according to claim 1, wherein the connection is made in a state where the liquid flowing through the drain pipe does not flow.
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