JP2000228164A - Particle beam system - Google Patents
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Landscapes
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、粒子ビーム・シス
テム、特に、半導体リソグラフィ又はミクロ機械加工の
ために使用されるシステムに関するものである。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to particle beam systems, and more particularly to systems used for semiconductor lithography or micromachining.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5を参照すると、米国特許第4,85
9,851号に開示されているような従来技術の電子ビ
ーム投影システムが概略的な部分的断面図で示される。
このシステムは、米国特許第4,544,846号におい
て開示された可変軸液浸レンズ(VAIL)システムを
組み込んでいる。2. Description of the Prior Art Referring to FIG.
A prior art electron beam projection system as disclosed in US Pat. No. 9,851 is shown in schematic partial cross-sectional view.
This system incorporates a variable axis immersion lens (VAIL) system disclosed in US Pat. No. 4,544,846.
【0003】図5における投影システムはその最上部に
ボックス5を有し、そのボックスは、電子のビームを発
生してそれをシステム軸101に沿って方向付けるため
の電子銃及び加速電圧手段を概略的に表す。「直記式」
システムでは、細いビーム(約0.15μmの最小特徴
サイズを持った1乃至2μm程度の寸法を持つ)がその
システムの下方部分によって操作され、例示的には半導
体ウェハである作業片59上に所望のパターンを書き出
す。一般に、ビームは、文字投影又はセル投影(米国特
許第4,213,053号参照)又は被成形ビーム(米国
特許第4,243,866号参照)を可能にするサブシス
テム、或いは米国特許第5,466,904号に示されて
いるようなサブフィールド投影システムを含み得る上流
のサブシステム5においてパターン化可能である。The projection system in FIG. 5 has at its top a box 5 which schematically represents an electron gun and accelerating voltage means for generating a beam of electrons and directing it along the system axis 101. Representation. "Direct writing"
In the system, a narrow beam (having a dimension on the order of 1-2 μm with a minimum feature size of about 0.15 μm) is operated by the lower part of the system, and the desired beam is placed on a work piece 59, illustratively a semiconductor wafer Write out the pattern. In general, the beam can be a character or cell projection (see US Pat. No. 4,213,053) or a subsystem that allows for a shaped beam (see US Pat. No. 4,243,866), or US Pat. , 466,904, which can be patterned in an upstream subsystem 5, which can include a subfield projection system.
【0004】この一般化された例では、ビームBは上流
のサブシステム及び下流のサブシステムの間で任意選択
的にフォーカスされる。下流のサブシステムは、図の左
側において参照番号47によって示されたコリメーティ
ング・レンズ及び図の左下において参照番号12によっ
て示された液浸レンズ、及び補助コンポーネントを含
む。[0004] In this generalized example, beam B is optionally focused between an upstream subsystem and a downstream subsystem. The downstream subsystem includes a collimating lens indicated by reference numeral 47 on the left side of the figure and an immersion lens indicated by reference number 12 on the lower left side of the figure, and auxiliary components.
【0005】下流のサブシステムの上部には、非ゼロ内
径の環状磁極片49及び51を持った磁気コリメーティ
ング・レンズ47、及びそのコリメーティング・レンズ
47のための励磁コイル53が配置される。レンズ47
の作用は、テレセントリック機能(システム軸に平行な
ビーム軸に沿ったビームが作業片を打つことを意味す
る)を与えるためにビームBをコリメートすることであ
る。本願において使用される用語の「レンズ」は、鉄、
フェライト、又は他の一般的な材料より成る透磁性の磁
極片を持った磁気レンズのことである。下流のサブシス
テムの下部には、非ゼロ内径の環状磁極片13及び14
並びに励磁コイル41を有する磁気投影レンズ32が配
置されている。一般に、そのような磁極を有するレンズ
は大きいインダクタンスを有し、しかも、それらの磁界
は、ビームを偏向する時の磁界湾曲を補償するための受
容し得るスループットを与えるに十分なほど速く変化す
ることができない。At the top of the downstream subsystem, a magnetic collimating lens 47 having non-zero inner diameter annular pole pieces 49 and 51 and an excitation coil 53 for the collimating lens 47 are arranged. You. Lens 47
The effect is to collimate beam B to provide a telecentric function (meaning that the beam along a beam axis parallel to the system axis hits the work piece). The term "lens" as used herein refers to iron,
A magnetic lens with magnetically permeable pole pieces made of ferrite or other common materials. At the bottom of the downstream subsystem, non-zero inner diameter annular pole pieces 13 and 14
In addition, a magnetic projection lens 32 having an exciting coil 41 is arranged. In general, lenses with such poles have a large inductance and their magnetic fields change fast enough to provide an acceptable throughput to compensate for the field curvature when deflecting the beam. Can not.
【0006】環状磁極片49における開口内には、一組
の多極静電偏向プレート72,望ましくは、12極(一
組当たり12個のプレート)の多極偏向器を含む上部ビ
ーム偏向ステージがある。環状磁極片51における開口
内及びその下には、第2組の多極静電偏向プレート7
3、望ましくは、12極(一組当たり12個のプレー
ト)の多極偏向器がある。偏向プレート72及び73は
他の場所にも設置可能であるが、ビームBの偏向を制御
するためのメイン磁界を提供する下部ビーム偏向ステー
ジ、即ち、メイン偏向ヨーク43及び45よりも前にな
ければならない。プレート72及び73は、ビームが投
影レンズ32の前焦点において軸101と交差するよう
にビームを偏向するという機能を遂行し、従って、テレ
セントリックな電気的偏向を生じさせる。Within the aperture in the annular pole piece 49 is an upper beam deflection stage including a set of multipole electrostatic deflection plates 72, preferably a 12 pole (12 plates per set) multipole deflector. is there. Within and below the opening in the annular pole piece 51, a second set of multipolar electrostatic deflection plates 7 is provided.
3, there is preferably a 12 pole (12 plates per set) multipole deflector. The deflection plates 72 and 73 can be located elsewhere, but only before the lower beam deflection stage, i.e. the main deflection yokes 43 and 45, which provide the main magnetic field for controlling the deflection of the beam B. No. The plates 72 and 73 perform the function of deflecting the beam such that it intersects the axis 101 at the front focus of the projection lens 32, thus producing a telecentric electrical deflection.
【0007】下部の偏向ステージは一対のメイン偏向ヨ
ーク43及び45を含み、それらのヨークは、ウェハ5
9上の正しい位置にビームを向けるために、その投影さ
れたビームBを図示のように左に事前偏向する。上側の
偏向ヨーク43及び下側の偏向ヨーク45は共に環状磁
石であることが望ましい。コリメーティング・レンズ4
7の下に置かれたスチグメータ(stigmator)
71は電子ビームBの非点収差補正を行う。コリメーテ
ィング・レンズ47の磁極片にはダイナミック・フォー
カス・コイル69が設けられ、ビームが偏向された(磁
界湾曲とも呼ばれる)時にそのビームを再フォーカス
し、しかも/或いは、作業片における高さ変動を補償す
る。スチグメータ及び/又はダイナミック・フォーカス
・コイルに関しては別の場所が使用可能であることが当
業者には明らかであろう。The lower deflection stage includes a pair of main deflection yokes 43 and 45, which
9 to pre-deflect the projected beam B to the left as shown. It is desirable that both the upper deflection yoke 43 and the lower deflection yoke 45 are ring magnets. Collimating lens 4
7 stigmator placed below
Reference numeral 71 performs astigmatism correction of the electron beam B. The pole piece of the collimating lens 47 is provided with a dynamic focus coil 69, which refocuses the beam when it is deflected (also called field bending) and / or height fluctuations in the work piece To compensate. It will be apparent to those skilled in the art that other locations can be used for the stigmeter and / or dynamic focus coil.
【0008】ビームBをウェハ59上にフォーカスする
投影レンズ32は、非ゼロ内径の上側磁極片13を含む
上側磁路並びにリターン・パス・セクション19及び下
側磁極片、即ち、ゼロ内径セクション14によって形成
された下側磁路を含む。投影レンズ32における1つの
面は、上に上側磁極片13を持ち且つ下に下側磁極片1
4を持ったそのレンズ32の物体側における主平面PP
である。投影レンズ32は厚いレンズであり、従って、
それは投影レンズ32の像側における主平面も有する。
この主平面は図5に示されていない。The projection lens 32, which focuses beam B onto the wafer 59, is provided by an upper magnetic path including a non-zero inner diameter upper pole piece 13 and a return path section 19 and a lower pole piece, ie, a zero inner diameter section 14. Including the lower magnetic path formed. One surface of the projection lens 32 has an upper pole piece 13 above and a lower pole piece 1 below.
Principal plane PP on the object side of the lens 32 with
It is. The projection lens 32 is a thick lens and therefore
It also has a main plane on the image side of the projection lens 32.
This main plane is not shown in FIG.
【0009】VAILシステムはVAILアセンブリ1
2を含み、そのVAILアセンブリは投影レンズ32及
び磁気補償ヨーク11の組み合わせより成る。シールド
・レッグ18は磁性セクション及び非磁性セクションの
交互配列体を含むので、ヨーク11からの磁力線が巻線
41を貫通しないようにし、従って、望ましくない渦電
流を防ぐものである。また、シールド・レッグ18はレ
ンズの中心から漏洩する磁界の量を減少させる。投影レ
ンズ32の磁気回路がセクション19及び下側磁極片
(ゼロ内径セクション)14において形成され、最小量
のリラクタンス及びフリンジでもって磁束が下側磁極片
14に達することを可能にする。単一の磁気補償ヨーク
11は、投影レンズ32によって発生された軸方向の磁
界を軸101及び105の間の偏向距離(矢印100に
よって表される)でもって乗じた第1導関数に比例した
磁界を与え、それによって、レンズ磁界の中心を効果的
にシフトしてシステム軸101から離れた場所における
歪みを減少させる。The VAIL system is a VAIL assembly 1
2, the VAIL assembly comprising a combination of the projection lens 32 and the magnetic compensation yoke 11. The shield legs 18 include an alternating arrangement of magnetic and non-magnetic sections, thereby preventing magnetic lines of force from the yoke 11 from passing through the windings 41, thus preventing unwanted eddy currents. Also, the shield legs 18 reduce the amount of magnetic field leaking from the center of the lens. The magnetic circuit of projection lens 32 is formed in section 19 and lower pole piece (zero inner diameter section) 14 to allow magnetic flux to reach lower pole piece 14 with a minimum amount of reluctance and fringe. A single magnetic compensation yoke 11 provides a magnetic field proportional to the first derivative of the axial magnetic field generated by the projection lens 32 multiplied by the deflection distance between the axes 101 and 105 (represented by arrow 100). , Thereby effectively shifting the center of the lens field to reduce distortion away from the system axis 101.
【0010】更に、図5はターゲット保持、処理及びス
テップ手段を示す。その電子ビーム投影システムにおい
てターゲットの正確なレジストレーションを行うため
に、ターゲット59が、ウェハ・クランプ機構及びウェ
ハ・ステージ16より成るターゲット・ホルダ上に設け
られる。そのウェハ・クランプ機構及びウェハ・ステー
ジは開口21内を移動する。FIG. 5 shows target holding, processing and step means. A target 59 is provided on a target holder consisting of a wafer clamping mechanism and a wafer stage 16 for accurate registration of the target in the electron beam projection system. The wafer clamp mechanism and the wafer stage move within the opening 21.
【0011】図5のシステムでは、ダイナミック補正を
使用して非点収差及び磁界湾曲が補正される。図の右部
におけるブロック61は励磁コイル53のための電源で
ある。ブロック63は励磁コイル41のための電源であ
る。ドライバ65は、偏向ヨーク43及び45を励磁す
るためのコンピュータ制御のドライバを表す。偏向ヨー
ク43及び45は二組の磁気偏向コイルを有し、それら
のコイルは共同して通常の実施方法に従ってX方向及び
Y方向の両方に電子ビームBを偏向させる。偏向ヨーク
43及び45は、一般には、複数の環状コイルから成
る。又、ドライバ65は、一対のX及びY磁気偏向ヨー
クより成る磁気補償ヨーク11を作動する。磁気補償ヨ
ーク11は簡単なサドル・コイルより成るものでもよ
く、或いは環状ヨークであってもよい。磁気補償ヨーク
11に送られるX−Y電流は偏向ヨーク43及び45に
送られるX−Y電流に比例し、しかも同じドライバ65
によって供給されてもよい。ドライバ67は、ダイナミ
ック・フォーカス及びスチグメータ・コイルを励磁する
ためのコンピュータ制御のドライバを表す。The system of FIG. 5 uses dynamic correction to correct for astigmatism and magnetic field curvature. A block 61 in the right part of the figure is a power supply for the exciting coil 53. Block 63 is a power supply for exciting coil 41. The driver 65 represents a computer-controlled driver for exciting the deflection yokes 43 and 45. The deflection yokes 43 and 45 have two sets of magnetic deflection coils, which together deflect the electron beam B in both the X and Y directions according to the usual practice. The deflection yokes 43 and 45 generally comprise a plurality of annular coils. The driver 65 operates the magnetic compensation yoke 11 composed of a pair of X and Y magnetic deflection yokes. The magnetic compensation yoke 11 may consist of a simple saddle coil or may be an annular yoke. The XY current sent to the magnetic compensation yoke 11 is proportional to the XY current sent to the deflection yokes 43 and 45, and the same driver 65
May be supplied by Driver 67 represents a computer controlled driver for exciting the dynamic focus and stigmator coil.
【0012】第1の方法では、補償ヨーク11の磁界
は、レンズ32の幾何学的(対称)軸101に平行であ
るがその幾何学的軸から横に変位した線105に沿って
投影レンズ32により発生された磁界の半径方向成分を
補償する。補償ヨーク11及び投影レンズ32の磁界の
重畳に起因する半径方向の磁界成分はゼロであるので、
磁軸線105はシフトした電子光軸を定義する。この特
性を持ったレンズはその分野では可変軸レンズと呼ばれ
る。偏向されたビームが「軸上」になるようにそのシフ
トした電子光軸105の位置がスキャンされる。可変軸
レンズ・システム12における対称軸101からの光軸
105の変位は補償ヨーク11及び偏向コーク43及び
45における電流に比例する。In a first method, the magnetic field of the compensation yoke 11 is projected along a line 105 parallel to the geometric (symmetric) axis 101 of the lens 32 but laterally displaced from that geometric axis. Compensates for the radial component of the magnetic field generated by. Since the radial magnetic field component caused by the superposition of the magnetic fields of the compensation yoke 11 and the projection lens 32 is zero,
The magnetic axis 105 defines the shifted electron optical axis. A lens having this characteristic is called a variable axis lens in the field. The shifted position of the electron optical axis 105 is scanned so that the deflected beam is “on-axis”. The displacement of optical axis 105 from axis of symmetry 101 in variable axis lens system 12 is proportional to the current in compensation yoke 11 and deflection cokes 43 and 45.
【0013】静電偏向プレート72及び73に加えられ
る副磁界(sub−field)偏向信号がない場合、
即ち、プレート72及び73における電圧がゼロにセッ
トされ時、液浸レンズ12におけるビームBの位置がそ
のシフトした電子光軸105と正確に一致する。更に、
ビームBは、無限遠における物体を表す平行なコリメー
トされた光束として液浸レンズ・アセンブリ12に入
る。ビームにおける異なるエネルギの電子が異なる量だ
け偏向されることによってボケ効果(blurring
effect)の除去を生じるビームBの2つ状態は
次のようになる: (1)シフトした電子光軸105とビーム軸が一致する
(ビーム軸はビームBの最上部から最下部までのビーム
Bの中心光線である)、及び(2)物体は無限遠にあ
る。In the absence of a sub-field deflection signal applied to the electrostatic deflection plates 72 and 73,
That is, when the voltage at the plates 72 and 73 is set to zero, the position of the beam B on the immersion lens 12 exactly matches the shifted electron optical axis 105. Furthermore,
Beam B enters immersion lens assembly 12 as a collimated collimated beam representing an object at infinity. The blurring effect is caused by the fact that electrons of different energies in the beam are deflected by different amounts.
The two states of beam B that cause removal of effect are: (1) the beam axis coincides with the shifted electron optical axis 105 (the beam axis extends from the top to the bottom of beam B); And (2) the object is at infinity.
【0014】このボケ効果はその分野では横方向色収差
と呼ばれる。横方向色収差はより一般的な偏向器のパフ
ォーマンスにおける主要な制限事項であるので、この色
収差の除去は基本的に重要なことであると考えられる。This blur effect is referred to in the art as lateral chromatic aberration. Since lateral chromatic aberration is a major limitation in the performance of more common deflectors, the removal of this chromatic aberration is considered to be of fundamental importance.
【0015】副磁界偏向がプレート72及び73に加え
られる場合、即ち、プレート72及び73における電圧
が非ゼロである場合、液浸レンズ・アセンブリ12にお
けるビームBの位置は上記の理想的な状態からわずかに
ずれている。副磁界偏向は主磁界偏向における小さな摂
動と見られるので、理想的な状態からのこのずれはわず
かな影響しかなく、わずかな色収差及びボケ効果に寄与
するだけである。If a sub-field deflection is applied to plates 72 and 73, ie, if the voltages at plates 72 and 73 are non-zero, the position of beam B in immersion lens assembly 12 will deviate from the ideal situation described above. Slightly offset. Since the sub-field deflection is seen as a small perturbation in the main field deflection, this deviation from the ideal state has only a small effect and contributes only a small chromatic aberration and blurring effect.
【0016】米国特許第4,544,846号の第7欄5
4乃至68行において説明されているように、ダイナミ
ック非点収差補正コイル・アセンブリ71及びダイナミ
ック・フォーカス・コイル69はそれぞれ色収差及び磁
界の湾曲を補償する。ダイナミック非点収差補正コイル
・アセンブリは、望ましくは、ドライバ67によって駆
動される双対4重極素子である。ダイナミック・フォー
カス・コイル69は、所望の補正を生じさせるのに適し
た電流を供給するためにドライバ67の別々になった出
力によって駆動される。ドライバ67は、X及びYの主
偏向ヨーク43及び45に送られる電流に比例した入力
信号を受け、種々の素子に加えられる信号を当業者には
周知のテクニックによって発生する。US Pat. No. 4,544,846, column 7, 5
As described in lines 4-68, the dynamic astigmatism correction coil assembly 71 and the dynamic focus coil 69 compensate for chromatic aberration and magnetic field curvature, respectively. The dynamic astigmatism correction coil assembly is preferably a dual quadrupole element driven by a driver 67. The dynamic focus coil 69 is driven by a separate output of the driver 67 to supply a current suitable for producing the desired correction. Driver 67 receives an input signal proportional to the current supplied to the X and Y main deflection yokes 43 and 45 and generates signals applied to the various elements by techniques well known to those skilled in the art.
【0017】静電的な副磁界偏向のための垂直のランデ
ィング(テレセントリシティ)を維持するためには、シ
ステムは、偏向されたビームをVAILレンズ・アセン
ブリ12の後方焦点において光軸101を横切るように
与えなければならない。ビームが、例えば、軸101か
ら軸105に偏向される時、一連の焦点が存在する。そ
れらの一連の焦点は後方焦点面と呼ばれる1つの面を形
成する。偏向ステージ72及び73(図5に示された本
発明によればその可変軸偏光レンズ・システムの磁気ヨ
ークよりも前に設置される)に対する励磁電圧比は、ビ
ームがその後方焦点面の軸位置において光軸を横切るよ
うに調節可能である。その偏向されたビームは後方焦点
面において光軸を横切るので、偏向はテレセントリック
であり、従って、それは直角に、即ち、垂直な角度で作
業片上に到達するが、光軸から変位している。To maintain vertical landing (telecentricity) for electrostatic subfield deflection, the system crosses the deflected beam across optical axis 101 at the rear focus of VAIL lens assembly 12. Must be given. When the beam is deflected, for example, from axis 101 to axis 105, there is a series of focal points. These series of focal points form one plane called the back focal plane. The excitation voltage ratio for the deflection stages 72 and 73 (located before the magnetic yoke of the variable axis polarizing lens system according to the invention shown in FIG. 5) depends on the axial position of the beam in its rear focal plane. Can be adjusted to cross the optical axis. Since the deflected beam traverses the optical axis at the back focal plane, the deflection is telecentric, so that it arrives on the work piece at right angles, ie, at a perpendicular angle, but is displaced from the optical axis.
【0018】光線が垂直の投影角で、即ち、軸105に
平行に作業片59に衝突することが重要である。ウェハ
の高さにおける不可避なエラーに関係なく、ターゲット
(作業片)59上にビームを命中させ得るのはこの状態
の場合だけである。ターゲットの位置的な高さは制御す
ることが難しいので、これは非常に有益である。ウェハ
は一般に平坦ではなく傾いている。It is important that the rays strike the work piece 59 at a normal projection angle, ie, parallel to the axis 105. It is only in this state that a beam can be hit on the target (workpiece) 59, regardless of unavoidable errors in the height of the wafer. This is very beneficial because the positional height of the target is difficult to control. The wafer is generally not flat but tilted.
【0019】「後方焦点面」BFPは、ビームBのすべ
てのパスに対する後方焦点を含む面であり、軸105及
び101に垂直である。後方焦点と一致するように揺動
点を得るために、上側の12磁極及び下側の12磁極に
おける電気的強度の比が調節される。これは軸105に
沿って揺動点を上下に動かす。ビームが垂直入射でター
ゲットに衝突する時、2つの点がいつ一致するかはわか
っている。傾いた基盤上の基準マーク相互間の距離を測
定することによって入射角を測定するための技法がその
分野では知られている。The "back focal plane" BFP is the plane that contains the back focal point for all passes of beam B, and is perpendicular to axes 105 and 101. To obtain a pivot point to coincide with the back focus, the ratio of the electrical intensities at the upper 12 poles and the lower 12 poles is adjusted. This moves the pivot point up and down along axis 105. When the beam hits the target at normal incidence, it is known when the two points coincide. Techniques for measuring the angle of incidence by measuring the distance between fiducial marks on a tilted substrate are known in the art.
【0020】コイル69の場合、そのコイルは名目的に
はシステム軸101に関してセンタリングされる。機械
的誤差は不可避であり、ビームとシステム軸とのアライ
ンメントは完全ではない。この結果、コイル69の励磁
時にターゲット面59におけるビーム移動が生じる。従
来技術では、調節可能な支持体等による機械的変位が使
用された。同様に、従来技術では、ターゲットにおける
ビーム移動が反復可能であるという程度までそれは較正
される。最近のシステムでは、空間が貴重であり、調節
可能な素子のための余白がないか、或いは、調節のため
にアクセスを行うことが不可能である。In the case of coil 69, the coil is nominally centered about system axis 101. Mechanical errors are inevitable, and the alignment between the beam and the system axis is not perfect. As a result, the beam moves on the target surface 59 when the coil 69 is excited. The prior art used mechanical displacement, such as with an adjustable support. Similarly, in the prior art, it is calibrated to the extent that beam movement at the target is repeatable. In modern systems, space is at a premium and there is no room for adjustable elements or no access is available for adjustment.
【0021】VAILレンズ12は大きいインダクタン
スを有するので、それの電流を素速く変化させることは
できない。ビームがウェハ59を、しかもそのシステム
の他の場所において打つ時、ビームのフォーカスを調節
するために素速く調節可能な低インダクタンスのダイナ
ミック・フォーカス・コイルが利用可能である場合、そ
れは1つの改良となるであろう。Since the VAIL lens 12 has a large inductance, its current cannot be changed quickly. When the beam hits the wafer 59, and elsewhere in the system, it is an improvement if a rapidly adjustable low inductance dynamic focus coil is available to adjust the beam focus. Will be.
【0022】[0022]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、コイ
ルの光軸を電気的に調節するダイナミック・フォーカス
・コイル使用する粒子ビーム・システムを提供すること
にある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a particle beam system using a dynamic focus coil for electrically adjusting the optical axis of the coil.
【0023】[0023]
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、x−y
平面において部分的に重畳する少なくとも2つのコイル
より成る電気的に調節可能なフォーカス・コイルの使用
である。それらの少なくとも2つのコイルはいずれもシ
ステム軸によって貫通され、それらのコイルの少なくと
も一方はシステム軸から変位している。SUMMARY OF THE INVENTION A feature of the present invention is that an xy
The use of an electrically adjustable focus coil consisting of at least two coils that partially overlap in a plane. Both of the at least two coils are penetrated by the system axis, and at least one of the coils is displaced from the system axis.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】図4を参照すると、本発明を使用
する粒子ビーム・システムが簡単な形式で示される。そ
の図の上部におけるボックス5は図5に示されたような
上流のサブシステムを表す。本発明は、直接書き、文字
投影、セル投影の成形ビーム、及び米国特許第5,46
6,904号に示された副磁界投影のような多くの種々
なタイプの粒子ビーム・システムによって使用可能であ
る。Referring to FIG. 4, a particle beam system employing the present invention is shown in simplified form. Box 5 at the top of the figure represents the upstream subsystem as shown in FIG. The present invention relates to direct writing, character projection, cell projection shaped beams, and U.S. Pat.
It can be used with many different types of particle beam systems, such as the sub-field projection shown in US Pat.
【0025】ボックス5の下には、中間面7、例えば、
投影リソグラフィ・システムの場合のレチクルにおける
ビームのフォーカスを動的に調節するための本発明によ
る可変軸フォーカス・コイル202がある。光軸に沿っ
て分布した複数のフォーカス・コイルを使用し得ること
は当業者には明らかであろう。偏光器72及びスチグメ
ータ71は図5におけるそれらの対応物と同じ機能を遂
行する。説明の便宜上、対応する素子は同じ参照番号で
もって示される。今や、ダイナミック・フォーカス・コ
イル69'は本発明に従って構成された可変軸フォーカ
ス・コイルである。Below the box 5, an intermediate surface 7, for example
There is a variable axis focus coil 202 according to the invention for dynamically adjusting the focus of the beam on the reticle in the case of a projection lithography system. It will be apparent to those skilled in the art that multiple focus coils distributed along the optical axis may be used. Polarizer 72 and stigmator 71 perform the same function as their counterparts in FIG. For convenience of explanation, corresponding elements are denoted by the same reference numerals. Now, the dynamic focus coil 69 'is a variable axis focus coil configured according to the present invention.
【0026】偏光器43及び45並びにレンズ12の補
償コイル11も従来技術におけるそれらの対応物と同じ
である。明瞭にするために、鉄心の支持体及び付勢コイ
ルは省略されている。図の下部において、ダイナミック
・フォーカス・コイル206は、作業片59の高さの変
動又は磁界湾曲による変動を補償するためにビームに関
する最終的なフォーカス調整を遂行する。本発明によれ
ば、これらのフォーカス・コイルは可変軸であり、偏光
器43及び45の下に設置可能である。フォーカス・コ
イルは、そのフォーカス・コイルの光軸が偏向されたビ
ーム軸105と整列するように偏光器と同期して付勢可
能である。The polarizers 43 and 45 and the compensation coil 11 of the lens 12 are the same as their counterparts in the prior art. For clarity, the core support and biasing coils have been omitted. At the bottom of the figure, the dynamic focus coil 206 performs the final focus adjustment on the beam to compensate for height variations of the work piece 59 or variations due to magnetic field curvature. According to the invention, these focus coils are variable axis and can be installed under polarizers 43 and 45. The focus coil can be activated synchronously with the polarizer so that the optical axis of the focus coil is aligned with the deflected beam axis 105.
【0027】「フォーカス・コイル」という用語は、そ
の分野では一般的であるように、螺旋ワイヤ(一巻きし
か持たなくてもよい)を呼ぶために使用される。その螺
旋ワイヤは、中心からの距離と共に増加する半径方向の
成分を持った磁界をその螺旋の中心近くで発生し、それ
によってそれを通過する電子にフォーカシング効果を与
える。「可変軸フォーカス・コイル」という用語は図1
乃至図3に示されたようなフォーカス・コイルの組み合
わせを呼ぶために使用される。The term "focus coil" is used to refer to a helical wire (which may have only one turn), as is common in the art. The helical wire generates a magnetic field near the center of the helix with a radial component that increases with distance from the center, thereby imparting a focusing effect on the electrons passing through it. The term "variable axis focus coil" is used in Figure 1.
3 is used to refer to the combination of focus coils as shown in FIG.
【0028】図2及び図3を参照すると、各々が異なる
大きさ及び方向の電流によって駆動されるという複数の
同様のコイルを持った可変軸フォーカス・コイルの簡単
な単軸バージョンが示される。概略的平面図である図2
には、2つの部分的に重畳したコイルX1及びX2が示
される。その各々は同じ量だけX軸に沿って変位してい
る。図3における概略的側面図はそれらの2つのコイル
をZ軸に沿って隣接しているものとして示す。それらの
コイルの各々はシステム軸に沿ったコイル長を有し、シ
ステム軸のうちそのコイルが沿って延びているシステム
軸の部分を意味する軸位置に位置決めされるであろう。
同じ極性又は反対極性を持った2つのコイルの磁界の組
み合わせがフォーカス磁界を生じるであろうということ
は当業者には明らかであろう。コイルX1及びX2の電
流を適当に選択することによって、それらのコイルの中
心における標識を付されたエリア内にフォーカス・コイ
ル・システムの磁軸が設定されるであろう。Referring to FIGS. 2 and 3, there is shown a simple single axis version of a variable axis focus coil having a plurality of similar coils, each driven by a current of different magnitude and direction. FIG. 2 which is a schematic plan view
Shows two partially superposed coils X1 and X2. Each is displaced along the X axis by the same amount. The schematic side view in FIG. 3 shows the two coils as being adjacent along the Z axis. Each of the coils will have a coil length along the system axis and will be positioned at an axial position which means the portion of the system axis along which the coil extends.
It will be apparent to those skilled in the art that the combination of the fields of two coils with the same or opposite polarities will produce a focusing field. By appropriate selection of the currents of coils X1 and X2, the magnetic axis of the focus coil system will be set in the marked area at the center of those coils.
【0029】次に図1を参照すると、本発明による2軸
の可変軸フォーカス・コイルの概略的平面図が示され
る。システム軸(Z軸)は紙面に対して垂直に延びてお
り、すべてのコイルを貫通している。システム軸が貫通
しているコイルはそのシステム軸の「周りに配置されて
いる」と言えるであろう。即ち、コイルはその軸の周り
に延びている。4つのコイルの各々は円として表され
る。これらのコイルの中心はコイルの幾何学的中心と呼
ばれ、2つの面(この図ではX−Z面及びY−Z面)に
おいてシステム軸から変位している。当業者には容易に
明らかであるように、コイルX1−X2及びY1−Y2
電流の大きさは、可変軸フォーカス・コイルの磁軸を
「オープン・エリア」と標識を付された陰付きエリア内
のどこかに置くようにセット可能である。Referring now to FIG. 1, there is shown a schematic plan view of a two-axis variable axis focus coil according to the present invention. The system axis (Z axis) extends perpendicular to the plane of the paper and passes through all the coils. A coil through which the system axis passes may be said to be "disposed around" the system axis. That is, the coil extends around its axis. Each of the four coils is represented as a circle. The centers of these coils are called the geometric centers of the coils and are displaced from the system axis in two planes (XZ plane and YZ plane in this figure). As will be readily apparent to those skilled in the art, coils X1-X2 and Y1-Y2
The magnitude of the current can be set to place the magnetic axis of the variable axis focus coil somewhere within the shaded area labeled "open area."
【0030】必要な場合、これらの例に対して種々の修
正を行い得ることは当業者には明らかであろう。例え
ば、一方のコイルがシステム軸上にセンターリングさ
れ、他方のコイルが片側に変位されることによって、
「片寄った」可変軸フォーカス・コイルが構成可能であ
る。It will be apparent to those skilled in the art that various modifications may be made to these examples, if necessary. For example, by centering one coil on the system axis and displacing the other coil to one side,
A "biased" variable axis focus coil is configurable.
【0031】図6を参照すると、システム軸に沿ってよ
り少ないスペースを占める本発明の別の実施例が示され
る。図6は、「混合」単軸可変軸フォーカス・コイルの
概略的断面図を示す。これらのコイルはシステム軸に沿
って重畳していると言えるであろうし、それらの軸位置
は重畳していると言えるであろう。システム軸101の
左上に変位したコイル201は、右下に変位したコイル
203の巻線と交互になった巻線を有する。この場合、
破線によって表されるように、コイルの各巻線は同じ高
さで図の面を通過し、1つの巻線から次の巻線へのステ
ップ・ダウンは紙面の外になる。Referring to FIG. 6, another embodiment of the present invention that occupies less space along the system axis is shown. FIG. 6 shows a schematic cross-sectional view of a "mixed" single axis variable axis focus coil. These coils can be said to overlap along the system axis, and their axial positions can be said to overlap. The coil 201 displaced to the upper left of the system axis 101 has windings alternating with the winding of the coil 203 displaced to the lower right. in this case,
As represented by the dashed lines, each winding of the coil passes through the plane of the figure at the same height, and the step down from one winding to the next is out of the page.
【0032】本発明を2つの実施例によって説明した経
れども、本発明がその精神の範囲において種々のバージ
ョンで実施し得るものであることは当業者には明らかで
あろう。Although the present invention has been described in terms of two embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be embodied in various versions within the spirit of the invention.
【0033】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。In summary, the following items are disclosed regarding the configuration of the present invention.
【0034】(1)粒子のビームを作業片に向けるため
の粒子ビーム・システムにして、前記粒子ビームを発生
し且つシステム軸に沿って向けるための発生源手段と、
前記ビームを前記作業片上のターゲット位置に向けるた
めのビーム制御手段とを含み、前記粒子ビーム・システ
ムは更に前記粒子ビームをフォーカスするための少なく
とも1つの可変軸フォーカス・コイルを含み、前記可変
軸フォーカス・コイルは少なくとも2つのフォーカス・
コイルを含み、前記少なくとも2つのフォーカス・コイ
ルはいずれもビーム軸の周りに配置され、前記少なくと
も2つのフォーカス・コイルのうちの少なくとも1つは
前記システム軸に垂直な面において前記システム軸から
変位した幾何学的中心を有することを特徴とする粒子ビ
ーム・システム。 (2)前記少なくとも2つのフォーカス・コイルはいず
れも前記システム軸を通る面において前記システム軸か
ら変位した幾何学的中心を有することを特徴とする上記
(1)に記載の粒子ビーム・システム。 (3)前記少なくとも2つのフォーカス・コイルのうち
の第1コイルは第1軸位置において第1コイル長だけ前
記システム軸に沿って延びており、前記少なくとも2つ
のフォーカス・コイルのうちの第2コイルは前記第1軸
位置とは異なる第2軸位置において第2コイル長だけ前
記システム軸に沿って延びており、それによって、前記
第1及び第2コイルは前記システム軸に沿って相互に離
れていることを特徴とする上記(2)に記載の粒子ビー
ム・システム。 (4)前記少なくとも2つのフォーカス・コイルのうち
の第1コイルは第1軸位置において第1コイル長だけ前
記システム軸に沿って延びており、前記少なくとも2つ
のフォーカス・コイルのうちの第2コイルは前記第1軸
位置に重畳する第2軸位置において第2コイル長だけ前
記システム軸に沿って延びており、それによって、前記
第1及び第2コイルは前記システム軸に沿って相互に重
畳することを特徴とする上記(2)に記載の粒子ビーム
・システム。 (5)前記少なくとも2つのフォーカス・コイルのうち
の第1コイルは少なくとも2つの巻線を含み、前記少な
くとも2つのフォーカス・コイルのうちの第2コイルは
前記システム軸に沿って前記第1コイルの前記少なくと
も2つの巻線と交互になる少なくとも2つの巻線を含む
ことを特徴とする上記(4)に記載の粒子ビーム・シス
テム。 (6)前記フォーカス・コイルは少なくとも4つのフォ
ーカス・コイルを含み、前記少なくとも4つのフォーカ
ス・コイルはすべて前記システム軸の周りに配置され、
前記少なくとも4つのフォーカス・コイルのうちの第1
ペアは前記システム軸を通る第1面において前記システ
ム軸から変位した第1及び第2幾何学的中心を有し、前
記少なくとも4つのフォーカス・コイルのうちの第2ペ
アは前記システム軸を通る第2面において前記システム
軸から変位した第3及び第4幾何学的中心を有すること
を特徴とする上記(1)に記載の粒子ビーム・システ
ム。 (7)前記第1ペアの第1コイルは第1軸位置において
第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びており、
前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置とは異なる
第2軸位置において第2コイル長だけ前記システム軸に
沿って延びており、それによって、前記第1及び第2コ
イルは前記システム軸に沿って相互に離れており、前記
第2ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位置とは異
なる第3軸位置において第3コイル長だけ前記システム
軸に沿って延びており、前記第2ペアの第4コイルは前
記第1、第2及び第3軸位置とは異なる第4軸位置にお
いて第4コイル長だけ前記システム軸に沿って延びてお
り、それによって、前記第1、第2、第3及び第4コイ
ルは前記システム軸に沿って相互に離れていることを特
徴とする上記(6)に記載の粒子ビーム・システム。 (8)前記第1ペアの第1コイルは第1軸位置において
第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びており、
前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置に重畳する
第2軸位置において第2コイル長だけ前記システム軸に
沿って延びており、それによって、前記第1及び第2コ
イルは前記システム軸に沿って重畳しており、前記第2
ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位置とは異なる
第3軸位置において第3コイル長だけ前記システム軸に
沿って延びており、前記第2ペアの第4コイルは前記第
3軸位置に重畳する第4軸位置において第4コイル長だ
け前記システム軸に沿って延びており、それによって、
前記第1及び第2コイルは前記システム軸に沿って重畳
し、前記第3及び第4コイルは前記システム軸に沿って
重畳していることを特徴とする上記(6)に記載の粒子
ビーム・システム。 (9)前記第1ペアの第1コイルは第1軸位置において
第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びており、
前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置に重畳する
第2軸位置において第2コイル長だけ前記システム軸に
沿って延びており、それによって、前記第1及び第2コ
イルは前記システム軸に沿って重畳しており、前記第2
ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位置に重畳する
第3軸位置において第3コイル長だけ前記システム軸に
沿って延びており、前記第2ペアの第4コイルは前記第
3軸位置に重畳する第4軸位置において第4コイル長だ
け前記システム軸に沿って延びており、それによって、
前記第1、第2,第3及び第4コイルは前記システム軸
に沿って重畳していることを特徴とする上記(6)に記
載の粒子ビーム・システム。 (10)前記ビーム制御手段は前記ビームを第1ビーム
軸から第2ビーム軸まで偏向するための少なくとも1つ
の偏向器及び可変光軸を有し、前記第2ビーム軸に沿っ
て前記ビームを遮断するように配置された可変軸フォー
カス・コイルを含み、前記ビーム制御手段は更に前記第
2ビーム軸を遮断するために前記可変軸フォーカス・コ
イルの前記可変光軸をシフトするように適応した電流ド
ライバ手段を含み、それによって、前記可変軸フォーカ
ス・コイルは前記ビームが前記第2ビーム軸に沿って進
む時前記ビ−ムに作用することを特徴とする上記(6)
に記載の粒子ビーム・システム。(1) a particle beam system for directing a beam of particles to a work piece, source means for generating and directing the particle beam along a system axis;
Beam control means for directing the beam to a target location on the work piece, wherein the particle beam system further comprises at least one variable axis focus coil for focusing the particle beam; The coil has at least two focuses
Wherein the at least two focus coils are disposed about a beam axis, and at least one of the at least two focus coils is displaced from the system axis in a plane perpendicular to the system axis. A particle beam system having a geometric center. (2) The particle beam system according to (1), wherein each of the at least two focus coils has a geometric center displaced from the system axis in a plane passing through the system axis. (3) a first coil of the at least two focus coils extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and a second coil of the at least two focus coils; Extends along the system axis by a second coil length at a second axis position different from the first axis position, such that the first and second coils are separated from each other along the system axis. The particle beam system according to the above (2), wherein (4) a first coil of the at least two focus coils extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and a second coil of the at least two focus coils; Extends along the system axis by a second coil length at a second axis position overlapping the first axis position, such that the first and second coils overlap one another along the system axis. The particle beam system according to (2), wherein: (5) a first coil of the at least two focus coils includes at least two windings, a second coil of the at least two focus coils along the system axis of the first coil; The particle beam system of claim 4, including at least two windings alternating with the at least two windings. (6) the focus coil includes at least four focus coils, all of the at least four focus coils being arranged around the system axis;
A first of the at least four focus coils
The pair has first and second geometric centers displaced from the system axis in a first plane passing through the system axis, and a second pair of the at least four focus coils passes through the system axis. The particle beam system of claim 1, having third and fourth geometric centers displaced from the system axis in two planes. (7) the first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position;
The second coil of the first pair extends along the system axis by a second coil length at a second axis position different from the first axis position, such that the first and second coils are coupled to the system. Spaced apart from each other along an axis, the third coil of the second pair extends along the system axis by a third coil length at a third axis position different from the first and second axis positions; The fourth coil of the second pair extends along the system axis by a fourth coil length at a fourth axis position different from the first, second and third axis positions, whereby the first, The particle beam system of claim 6, wherein the second, third, and fourth coils are separated from each other along the system axis. (8) the first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position;
The second coil of the first pair extends along the system axis by a second coil length at a second axis position that overlaps the first axis position, whereby the first and second coils are coupled to the system. Superimposed along the axis, the second
The third coil of the pair extends along the system axis by a third coil length at a third axis position different from the first and second axis positions, and the fourth coil of the second pair includes the third coil position. A fourth coil length extending along the system axis at a fourth axis position overlapping the position,
The particle beam according to (6), wherein the first and second coils overlap along the system axis, and the third and fourth coils overlap along the system axis. system. (9) the first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position;
The second coil of the first pair extends along the system axis by a second coil length at a second axis position that overlaps the first axis position, whereby the first and second coils are coupled to the system. Superimposed along the axis, the second
The third coil of the pair extends along the system axis by a third coil length at a third axis position overlapping the first and second axis positions, and the fourth coil of the second pair includes the third axis. A fourth coil length extending along the system axis at a fourth axis position overlapping the position,
The particle beam system according to (6), wherein the first, second, third, and fourth coils overlap each other along the system axis. (10) The beam control means has at least one deflector and a variable optical axis for deflecting the beam from a first beam axis to a second beam axis, and intercepts the beam along the second beam axis. A current driver adapted to shift the variable optical axis of the variable axis focus coil to interrupt the second beam axis. (6), wherein the variable axis focus coil acts on the beam as the beam travels along the second beam axis.
A particle beam system according to claim 1.
【図1】本発明による2軸ダイナミック・フォーカス・
コイルの概略的な平面図を示す。FIG. 1 shows a two-axis dynamic focus system according to the present invention.
FIG. 2 shows a schematic plan view of the coil.
【図2】単軸ダイナミック・フォーカス・コイルの概略
的な平面図を示す。FIG. 2 shows a schematic plan view of a single-axis dynamic focus coil.
【図3】単軸ダイナミック・フォーカス・コイルの概略
的な側面図を示す。FIG. 3 shows a schematic side view of a single axis dynamic focus coil.
【図4】本発明を使用するシステムを、部分的に描画形
式で及び部分的に概略形式で示す。FIG. 4 illustrates a system using the invention, partially in a drawing format and partially in a schematic format.
【図5】可変磁気レンズを使用する従来技術のシステム
を、部分的に描画形式で及び部分的に概略形式で示す。FIG. 5 illustrates a prior art system using a variable magnetic lens, partially in a drawn form and partially in a schematic form.
【図6】本発明の別の実施例を示す。FIG. 6 illustrates another embodiment of the present invention.
フロントページの続き (72)発明者 マイケル・エス・ゴードン アメリカ合衆国10540、ニューヨーク州リ ンカーンデイル、デイトン・ドライブ 7Continued on the front page (72) Inventor Michael E. Gordon 10540 United States, Dayton Drive, Lincolndale, NY 7
Claims (10)
ビーム・システムにして、 前記粒子ビームを発生し且つシステム軸に沿って向ける
ための発生源手段と、 前記ビームを前記作業片上のターゲット位置に向けるた
めのビーム制御手段とを含み、 前記粒子ビーム・システムは更に前記粒子ビームをフォ
ーカスするための少なくとも1つの可変軸フォーカス・
コイルを含み、 前記可変軸フォーカス・コイルは少なくとも2つのフォ
ーカス・コイルを含み、 前記少なくとも2つのフォーカス・コイルはいずれもビ
ーム軸の周りに配置され、 前記少なくとも2つのフォーカス・コイルのうちの少な
くとも1つは前記システム軸に垂直な面において前記シ
ステム軸から変位した幾何学的中心を有することを特徴
とする粒子ビーム・システム。1. A particle beam system for directing a beam of particles to a work piece, source means for generating and directing the particle beam along a system axis, and a target on the work piece. Beam control means for directing a position, wherein the particle beam system further comprises at least one variable axis focusing device for focusing the particle beam.
A coil, wherein the variable axis focus coil includes at least two focus coils, each of the at least two focus coils being disposed about a beam axis, and at least one of the at least two focus coils. A particle beam system having a geometric center displaced from the system axis in a plane perpendicular to the system axis.
はいずれも前記システム軸を通る面において前記システ
ム軸から変位した幾何学的中心を有することを特徴とす
る請求項1に記載の粒子ビーム・システム。2. The particle beam system according to claim 1, wherein each of said at least two focus coils has a geometric center displaced from said system axis in a plane passing through said system axis.
のうちの第1コイルは第1軸位置において第1コイル長
だけ前記システム軸に沿って延びており、前記少なくと
も2つのフォーカス・コイルのうちの第2コイルは前記
第1軸位置とは異なる第2軸位置において第2コイル長
だけ前記システム軸に沿って延びており、それによっ
て、前記第1及び第2コイルは前記システム軸に沿って
相互に離れていることを特徴とする請求項2に記載の粒
子ビーム・システム。3. A first coil of said at least two focus coils extends along said system axis by a first coil length at a first axis position, and said first coil of said at least two focus coils. The two coils extend along the system axis by a second coil length at a second axis position different from the first axis position, such that the first and second coils are mutually reciprocal along the system axis. 3. The particle beam system of claim 2, wherein the particle beam system is remote.
のうちの第1コイルは第1軸位置において第1コイル長
だけ前記システム軸に沿って延びており、前記少なくと
も2つのフォーカス・コイルのうちの第2コイルは前記
第1軸位置に重畳する第2軸位置において第2コイル長
だけ前記システム軸に沿って延びており、それによっ
て、前記第1及び第2コイルは前記システム軸に沿って
相互に重畳することを特徴とする請求項2に記載の粒子
ビーム・システム。4. A first coil of the at least two focus coils extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and a first coil of the at least two focus coils. The two coils extend along the system axis by a second coil length at a second axis position that overlaps the first axis position, such that the first and second coils are mutually connected along the system axis. 3. The particle beam system according to claim 2, wherein the particle beams overlap.
のうちの第1コイルは少なくとも2つの巻線を含み、前
記少なくとも2つのフォーカス・コイルのうちの第2コ
イルは前記システム軸に沿って前記第1コイルの前記少
なくとも2つの巻線と交互になる少なくとも2つの巻線
を含むことを特徴とする請求項4に記載の粒子ビーム・
システム。5. The first of the at least two focus coils includes at least two windings, and the second of the at least two focus coils includes a first coil along the system axis. 5. The particle beam of claim 4 including at least two windings alternating with said at least two windings of a coil.
system.
のフォーカス・コイルを含み、 前記少なくとも4つのフォーカス・コイルはすべて前記
システム軸の周りに配置され、 前記少なくとも4つのフォーカス・コイルのうちの第1
ペアは前記システム軸を通る第1面において前記システ
ム軸から変位した第1及び第2幾何学的中心を有し、 前記少なくとも4つのフォーカス・コイルのうちの第2
ペアは前記システム軸を通る第2面において前記システ
ム軸から変位した第3及び第4幾何学的中心を有するこ
とを特徴とする請求項1に記載の粒子ビーム・システ
ム。6. The focus coil includes at least four focus coils, wherein the at least four focus coils are all disposed about the system axis, and wherein the first of the at least four focus coils is
The pair has first and second geometric centers displaced from the system axis in a first plane passing through the system axis, and a second of the at least four focus coils.
The particle beam system according to claim 1, wherein the pair has third and fourth geometric centers displaced from the system axis in a second plane passing through the system axis.
おいて第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びて
おり、前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置とは
異なる第2軸位置において第2コイル長だけ前記システ
ム軸に沿って延びており、それによって、前記第1及び
第2コイルは前記システム軸に沿って相互に離れてお
り、前記第2ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位
置とは異なる第3軸位置において第3コイル長だけ前記
システム軸に沿って延びており、前記第2ペアの第4コ
イルは前記第1、第2及び第3軸位置とは異なる第4軸
位置において第4コイル長だけ前記システム軸に沿って
延びており、それによって、前記第1、第2、第3及び
第4コイルは前記システム軸に沿って相互に離れている
ことを特徴とする請求項6に記載の粒子ビーム・システ
ム。7. The first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and the second coil of the first pair is located at a first axis position relative to the first axis position. Extending along the system axis by a second coil length at a different second axis position, such that the first and second coils are separated from each other along the system axis, and the second and third coils of the second pair The three coils extend along the system axis by a third coil length at a third axis position different from the first and second axis positions, and the fourth coil of the second pair includes the first, second, and third coils. A fourth coil position extending along the system axis at a fourth axis position different than the third axis position, such that the first, second, third and fourth coils extend along the system axis. A contract characterized by being separated from each other Particle beam system according to claim 6.
おいて第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びて
おり、前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置に重
畳する第2軸位置において第2コイル長だけ前記システ
ム軸に沿って延びており、それによって、前記第1及び
第2コイルは前記システム軸に沿って重畳しており、前
記第2ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位置とは
異なる第3軸位置において第3コイル長だけ前記システ
ム軸に沿って延びており、前記第2ペアの第4コイルは
前記第3軸位置に重畳する第4軸位置において第4コイ
ル長だけ前記システム軸に沿って延びており、それによ
って、前記第1及び第2コイルは前記システム軸に沿っ
て重畳し、前記第3及び第4コイルは前記システム軸に
沿って重畳していることを特徴とする請求項6に記載の
粒子ビーム・システム。8. The first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and the second coil of the first pair overlaps the first axis position. Extending along the system axis by a second coil length at a second axis position where the first and second coils overlap along the system axis and the third pair of third pairs of the second pair. A coil extends along the system axis by a third coil length at a third axis position different from the first and second axis positions, and the fourth coil of the second pair overlaps the third axis position. A fourth coil length extends along the system axis at a fourth axis position, whereby the first and second coils overlap along the system axis, and the third and fourth coils overlap the system axis. Superimposed along the axis Particle beam system of claim 6, characterized in that.
おいて第1コイル長だけ前記システム軸に沿って延びて
おり、前記第1ペアの第2コイルは前記第1軸位置に重
畳する第2軸位置において第2コイル長だけ前記システ
ム軸に沿って延びており、それによって、前記第1及び
第2コイルは前記システム軸に沿って重畳しており、前
記第2ペアの第3コイルは前記第1及び第2軸位置に重
畳する第3軸位置において第3コイル長だけ前記システ
ム軸に沿って延びており、前記第2ペアの第4コイルは
前記第3軸位置に重畳する第4軸位置において第4コイ
ル長だけ前記システム軸に沿って延びており、それによ
って、前記第1、第2,第3及び第4コイルは前記シス
テム軸に沿って重畳していることを特徴とする請求項6
に記載の粒子ビーム・システム。9. The first coil of the first pair extends along the system axis by a first coil length at a first axis position, and the second coil of the first pair overlaps the first axis position. Extending along the system axis by a second coil length at a second axis position where the first and second coils overlap along the system axis and the third pair of third pairs of the second pair. A coil extends along the system axis by a third coil length at a third axis position overlapping the first and second axis positions, and the fourth coil of the second pair overlaps the third axis position. A fourth axial position extends along the system axis by a fourth coil length, whereby the first, second, third and fourth coils overlap along the system axis. Claim 6
A particle beam system according to claim 1.
ビーム軸から第2ビーム軸まで偏向するための少なくと
も1つの偏向器及び可変光軸を有し、前記第2ビーム軸
に沿って前記ビームを遮断するように配置された可変軸
フォーカス・コイルを含み、 前記ビーム制御手段は更に前記第2ビーム軸を遮断する
ために前記可変軸フォーカス・コイルの前記可変光軸を
シフトするように適応した電流ドライバ手段を含み、そ
れによって、前記可変軸フォーカス・コイルは前記ビー
ムが前記第2ビーム軸に沿って進む時前記ビ−ムに作用
することを特徴とする請求項6に記載の粒子ビーム・シ
ステム。10. The beam control means controls the beam to a first beam.
At least one deflector for deflecting from a beam axis to a second beam axis and a variable axis focus coil having a variable optical axis and arranged to block the beam along the second beam axis. The beam control means further includes current driver means adapted to shift the variable optical axis of the variable axis focus coil to block the second beam axis, whereby the variable axis focus coil 7. The particle beam system of claim 6, wherein said beam acts on said beam as said beam travels along said second beam axis.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US22533899A | 1999-01-05 | 1999-01-05 | |
US09/225338 | 1999-01-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000228164A true JP2000228164A (en) | 2000-08-15 |
Family
ID=22844491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000000508A Pending JP2000228164A (en) | 1999-01-05 | 2000-01-05 | Particle beam system |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000228164A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106340339A (en) * | 2016-11-23 | 2017-01-18 | 桂林狮达机电技术工程有限公司 | Automatic setting method and system for focusing currents on workpiece surface of electron beam processing equipment |
-
2000
- 2000-01-05 JP JP2000000508A patent/JP2000228164A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106340339A (en) * | 2016-11-23 | 2017-01-18 | 桂林狮达机电技术工程有限公司 | Automatic setting method and system for focusing currents on workpiece surface of electron beam processing equipment |
CN106340339B (en) * | 2016-11-23 | 2017-10-20 | 桂林狮达机电技术工程有限公司 | Electron beam process equipment workpiece surface focus current automatic setting method and system |
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RD14 | Notification of resignation of power of sub attorney |
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A02 | Decision of refusal |
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