JP2000227504A - Reflection preventing film - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光学部品の表面に
形成される反射防止膜に関し、特にＴｉとＬａの混合酸
化物を用いた積層薄膜から成る反射防止膜に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an antireflection film formed on the surface of an optical component, and more particularly to an antireflection film formed of a laminated thin film using a mixed oxide of Ti and La.
【０００２】[0002]
【従来の技術】レンズやプリズム等の光学部品の表面に
真空蒸着法等によって積層薄膜を成膜して反射防止膜を
形成し、表面反射を低下させる方法が知られている。近
年、反射防止膜の高性能化が求められており、高屈折率
化を図ることができるとともに、バッチ内の膜厚ばらつ
きが少ない、ＴｉとＬａの混合酸化物を用いた積層薄膜
が用いられるようになっている。2. Description of the Related Art It is known to reduce the surface reflection by forming a laminated thin film on a surface of an optical component such as a lens or a prism by a vacuum deposition method or the like to form an antireflection film. In recent years, there has been a demand for higher performance of antireflection films, and a stacked thin film using a mixed oxide of Ti and La, which can achieve a higher refractive index and has less variation in film thickness within a batch, is used. It has become.
【０００３】従来のＴｉとＬａの混合酸化物を用いた反
射防止膜の構成は例えば図１１に示す構成になってい
る。基板側から第１層はＭｇＦ2（フッ化マグネシウ
ム、屈折率ｎ１＝１．３８５，膜厚ｄ１＝２２．１ｎ
ｍ）、第２層はＡｌ2Ｏ3（酸化アルミニウム、屈折率ｎ
２＝１．６２，膜厚ｄ２＝２２．１ｎｍ）、第３層はＴ
ｉとＬａの混合酸化物（屈折率ｎ３＝２．１，膜厚ｄ３
＝９７．６ｎｍ）、第４層はＭｇＦ2（屈折率ｎ４＝
１．３８５，膜厚ｄ４＝９２．１ｎｍ）から成ってい
る。The configuration of a conventional antireflection film using a mixed oxide of Ti and La is, for example, as shown in FIG. From the substrate side, the first layer is made of MgF 2 (magnesium fluoride, refractive index n1 = 1.385, film thickness d1 = 22.1n)
m), the second layer is made of Al 2 O 3 (aluminum oxide, refractive index n)
2 = 1.62, film thickness d2 = 22.1 nm), and the third layer is T
mixed oxide of i and La (refractive index n3 = 2.1, film thickness d3
= 97.6 nm), and the fourth layer is made of MgF 2 (refractive index n4 =
1.385, thickness d4 = 92.1 nm).
【０００４】基板の屈折率ｎｓは１．５３、設計主波長
λ0は５１０ｎｍであり、ｎｄは光学膜厚（単位ｎｍ）
を示している。このような反射防止膜の反射率は、入射
角０゜において図２６に示すような特性を有しており、
可視域のほぼ全域において低い反射率が得られるように
なっている。同図において、縦軸は反射率、横軸は波長
を示している。The refractive index ns of the substrate is 1.53, the design dominant wavelength λ 0 is 510 nm, and nd is the optical film thickness (unit: nm).
Is shown. The reflectance of such an anti-reflection film has characteristics as shown in FIG. 26 at an incident angle of 0 °.
A low reflectance is obtained in almost the entire visible range. In the figure, the vertical axis indicates the reflectance, and the horizontal axis indicates the wavelength.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、光学レ
ンズ等の場合は反射防止膜が光学レンズの裏表両面に成
膜される。このため、先に成膜した面（以下「先行面」
という。）は、後で成膜した面（以下「後行面」とい
う。）の成膜時に、基板加熱により再加熱される。この
時、先行面の表面にヤケや曇りが発生し、外観不良を生
じさせていた。上記従来例の反射防止膜の実験結果によ
ると、ヤケが１２個中８個、曇りが１２個中９個発生
し、低い歩留まりになっていた。これは、先行面のＴｉ
とＬａの混合酸化物が再加熱されることにより、蓄えら
れた酸素が流出または酸素が流入するためと考えられ
る。However, in the case of an optical lens or the like, an antireflection film is formed on both front and rear surfaces of the optical lens. For this reason, the previously deposited surface (hereinafter referred to as the "preceding surface")
That. ) Is reheated by heating the substrate at the time of film formation on a surface on which a film is formed later (hereinafter, referred to as “following surface”). At this time, scorching and fogging occurred on the surface of the preceding surface, resulting in poor appearance. According to the experimental results of the antireflection film of the above-mentioned conventional example, burns occurred in 8 out of 12 films and 9 out of 12 cloudies, resulting in a low yield. This is due to the Ti
It is considered that the stored oxygen is re-heated to cause the stored oxygen to flow out or to flow in.
【０００６】本発明は、加熱による外観不良を防止する
ことのできる、ＴｉとＬａの混合酸化物の層を有する反
射防止膜を提供することを目的とする。An object of the present invention is to provide an antireflection film having a layer of a mixed oxide of Ti and La, which can prevent appearance defects due to heating.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に請求項１に記載された発明は、基板上に複数の薄膜が
積層される反射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化
物を主成分とする層を有し、この層に対して基板側に隣
接したＡｌ2Ｏ3を主成分とする層と、基板と反対側に隣
接したＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2を主成分とする層とを設
けたことを特徴としている。According to the first aspect of the present invention, there is provided an antireflection film in which a plurality of thin films are laminated on a substrate, wherein a mixed oxide of Ti and La is mainly used. A layer mainly composed of Al 2 O 3 adjacent to the substrate side and a layer mainly composed of Al 2 O 3 or SiO 2 adjacent to the opposite side to the substrate. Are provided.
【０００８】また請求項２に記載された発明は、基板側
から順に第１、第２、第３、第４、第５層の薄膜が積層
される５層構造の反射防止膜において、第２層の主成分
をＡｌ2Ｏ3とし、第３層の主成分をＴｉとＬａの混合酸
化物とし、第４層の主成分をＡｌ2Ｏ3またはＳｉ０2に
したことを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, there is provided an antireflection film having a five-layer structure in which first, second, third, fourth, and fifth thin films are sequentially stacked from the substrate side. It is characterized in that the main component of the layer is Al 2 O 3 , the main component of the third layer is a mixed oxide of Ti and La, and the main component of the fourth layer is Al 2 O 3 or SiO 2 .
【０００９】また請求項３に記載された発明は、請求項
２に記載された反射防止膜において、第１層及び第５層
の主成分をＭｇＦ2にしたことを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the antireflection film according to the second aspect , a main component of the first layer and the fifth layer is made of MgF 2 .
【００１０】また請求項４に記載された発明は、請求項
２または請求項３に記載された反射防止膜において、第
２、第４層の屈折率及び膜厚をｎ２，ｎ４及びｄ２，ｄ
４とするとともに、設計主波長をλ0とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ２ｄ２≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ４ｄ４≦０．１３０λ0、 の関係にしたことを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the antireflection film according to the second or third aspect, the refractive indices and the thicknesses of the second and fourth layers are n2, n4 and d2, d.
4 with a, when the design dominant wavelength is λ 0, 0.020λ 0 ≦ n2d2 ≦ 0.800λ 0, which is characterized in that the 0.020λ 0 ≦ n4d4 ≦ 0.130λ 0, the relationship.
【００１１】また請求項５に記載された発明は、基板側
から順に第１、第２、第３、第４層の薄膜が積層される
４層構造の反射防止膜において、第１層の主成分をＡｌ
2Ｏ3とし、第２層の主成分をＴｉとＬａの混合酸化物と
し、第３層の主成分をＡｌ2Ｏ3またはＳｉ０2にしたこ
とを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an antireflection film having a four-layer structure in which first, second, third and fourth thin films are laminated in this order from the substrate side. Al component
2 O 3 , the main component of the second layer is a mixed oxide of Ti and La, and the main component of the third layer is Al 2 O 3 or SiO 2 .
【００１２】また請求項６に記載された発明は、請求項
５に記載された反射防止膜において、第４層の主成分を
ＭｇＦ2にしたことを特徴としている。According to a sixth aspect of the present invention, in the antireflection film according to the fifth aspect, the main component of the fourth layer is MgF 2 .
【００１３】また請求項７に記載された発明は、請求項
５または請求項６に記載された反射防止膜において、第
１、第３層の屈折率及び膜厚をｎ１，ｎ３及びｄ１，ｄ
３とするとともに、設計主波長をλ0とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１３０λ0、 の関係にしたことを特徴としている。According to a seventh aspect of the present invention, in the antireflection film according to the fifth or sixth aspect, the refractive indices and the film thicknesses of the first and third layers are n1, n3 and d1, d.
3 with a, when the design dominant wavelength is λ 0, 0.020λ 0 ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0, which is characterized in that the 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.130λ 0, the relationship.
【００１４】また請求項８に記載された発明は、基板側
から順に第１、第２、第３、第４、第５、第６層の薄膜
が積層される６層構造の反射防止膜において、第１層、
第３層及び第５層の主成分をＡｌ2Ｏ3とし、第２層及び
第４層の主成分をＴｉとＬａの混合酸化物にしたことを
特徴としている。According to the present invention, there is provided an antireflection film having a six-layer structure in which first, second, third, fourth, fifth, and sixth thin films are sequentially stacked from the substrate side. , The first layer,
The main feature of the third and fifth layers is Al 2 O 3, and the main component of the second and fourth layers is a mixed oxide of Ti and La.
【００１５】また請求項９に記載された発明は、請求項
８に記載された反射防止膜において、第６層の主成分を
ＭｇＦ2にしたことを特徴としている。According to a ninth aspect of the present invention, in the antireflection film according to the eighth aspect, the main component of the sixth layer is MgF 2 .
【００１６】また請求項１０に記載された発明は、請求
項８または請求項９に記載された反射防止膜において、
第１、第３、第５層の屈折率及び膜厚をｎ１，ｎ３，ｎ
５及びｄ１，ｄ３，ｄ５とするとともに、設計主波長を
λ0とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１８０λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ５ｄ５≦０．１７０λ0、 の関係にしたことを特徴としている。According to a tenth aspect of the present invention, there is provided the antireflection film according to the eighth or ninth aspect, wherein
The refractive indices and thicknesses of the first, third and fifth layers are n1, n3 and n
With a 5 and d1, d3, d5, when the design dominant wavelength is λ 0, 0.020λ 0 ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0, 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.180λ 0, 0.020λ 0 ≦ n5d5 ≦ 0.170λ 0 ,
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態を説明
する。第１実施形態の反射防止膜は、基板側から順に第
１、第２、第３、第４、第５層の薄膜が積層される５層
構造の反射防止膜において、第１層及び第５層の主成分
をＭｇＦ2（沸化マグネシウム）とし、第２層の主成分
をＡｌ2Ｏ3（酸化アルミニウム）とし、第３層の主成分
をＴｉ（チタン）とＬａ（ランタン）の混合酸化物と
し、第４層の主成分をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2（二酸化
珪素）にした。ここで、ＴｉとＬａの混合酸化物は、Ｔ
ｉとＬａを混合したものの酸化物であり、化学式はＴｉ
ｘＬａｙＯｚ（ｘ、ｙ、ｚは自然数）で表される。Embodiments of the present invention will be described below. The antireflection film according to the first embodiment is a five-layer antireflection film in which first, second, third, fourth, and fifth layers of thin films are stacked in this order from the substrate side. The main component of the layer is MgF 2 (magnesium fluoride), the main component of the second layer is Al 2 O 3 (aluminum oxide), and the main component of the third layer is mixed oxidation of Ti (titanium) and La (lanthanum). The main component of the fourth layer was Al 2 O 3 or SiO 2 (silicon dioxide). Here, the mixed oxide of Ti and La is T
It is an oxide of a mixture of i and La, and the chemical formula is Ti
It is represented by xLayOz (x, y, and z are natural numbers).
【００１８】このような反射防止膜によると、ＴｉとＬ
ａの混合酸化物の層に隣接する第２、第４層に充填密度
が高いＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2を用いることにより、Ｔ
ｉとＬａの混合酸化物の酸素の流出入を抑制し、ヤケや
曇りによる外観不良を防止することができる。According to such an antireflection film, Ti and L
By using Al 2 O 3 or SiO 2 having a high packing density for the second and fourth layers adjacent to the mixed oxide layer of
It is possible to suppress the inflow and outflow of oxygen of the mixed oxide of i and La, and to prevent poor appearance due to burn or fogging.
【００１９】更に、第１、第２、第３、第４、第５層の
屈折率及び膜厚をｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４，ｎ５及びｄ
１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５とするとともに、設計主波
長をλ0とした時に、以下の式（１）〜（２） ０．０２０λ0≦ｎ２ｄ２≦０．８００λ0 ・・（１） ０．０２０λ0≦ｎ４ｄ４≦０．１３０λ0 ・・（２） を満足していれば、可視域のほぼ全域において低い反射
率を得ることができるので望ましい。Further, the refractive indices and the film thicknesses of the first, second, third, fourth and fifth layers are defined as n1, n2, n3, n4, n5 and d.
1, d2, d3, d4, and d5, and when the design dominant wavelength is λ 0 , the following equations (1) to (2): 0.020λ 0 ≦ n2d2 ≦ 0.800λ 0 ... (1) 0 .020λ 0 ≦ n4d4 ≦ 0.130λ 0 (2) is desirable because a low reflectance can be obtained in almost the entire visible range.
【００２０】尚、第１層及び第５層の膜材料をＭｇＦ2
にしているが、充填密度の低いＭｇＦ2であっても外観
不良を生じず、外観不良に対してはＡｌ2Ｏ3またはＳｉ
Ｏ2の層により充分な効果を得られるので、屈折率、ア
ッベ数または反射率等の他の特性上有効な他の材料を使
用してもよい。The first and fifth layers are made of MgF 2.
However, even with MgF 2 having a low filling density, no appearance defect occurs, and for the appearance defect, Al 2 O 3 or Si
Since obtain a sufficient effect with a layer of O 2, the refractive index may be used Abbe number or other characteristics effective other materials, such as reflectivity.
【００２１】次に、第２実施形態の反射防止膜は、基板
側から順に第１、第２、第３、第４層の薄膜が積層され
る４層構造の反射防止膜において、第１層の主成分をＡ
ｌ2Ｏ3とし、第２層の主成分をＴｉとＬａの混合酸化物
とし、第３層の主成分をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にし、
第４層の主成分をＭｇＦ2にした。Next, the antireflection film of the second embodiment is a four-layer antireflection film in which first, second, third, and fourth thin films are laminated in this order from the substrate side. The main component of A
l 2 O 3 , the main component of the second layer is a mixed oxide of Ti and La, the main component of the third layer is Al 2 O 3 or SiO 2 ,
The main component of the fourth layer was MgF 2 .
【００２２】このような反射防止膜によると、第１実施
形態と同様に、ＴｉとＬａの混合酸化物の層に隣接する
第１、第３層に充填密度が高いＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2
を用いることにより、ＴｉとＬａの混合酸化物の酸素の
流出入を抑制し、ヤケや曇りによる外観不良を防止する
ことができる。According to such an anti-reflection film, as in the first embodiment, the first and third layers adjacent to the mixed oxide layer of Ti and La have high packing density of Al 2 O 3 or SiO 2.
By using, it is possible to suppress the inflow and outflow of oxygen of the mixed oxide of Ti and La, and to prevent poor appearance due to burn or fogging.
【００２３】更に、第１、第２、第３、第４層の屈折率
及び膜厚をｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４及びｄ１，ｄ２，ｄ
３，ｄ４とするとともに、設計主波長をλ0とした時
に、以下の式（３）〜（４） ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0 ・・（３） ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１３０λ0 ・・（４） を満足していれば、可視域のほぼ全域において低い反射
率を得ることができるので望ましい。尚、第４層の膜材
料をＭｇＦ2にしているが、第１実施形態と同様に外観
以外の特性上有効な他の材料を使用してもよい。Further, the refractive indices and the film thicknesses of the first, second, third and fourth layers are n1, n2, n3 and n4 and d1, d2 and d.
3, d4 and when the design dominant wavelength is λ 0 , the following equations (3) to (4): 0.020λ 0 ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0 (3) 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ It is desirable that 0.130λ 0 .. (4) be satisfied, since a low reflectance can be obtained in almost the entire visible range. Although the film material of the fourth layer is MgF 2 , other materials effective in characteristics other than the appearance may be used as in the first embodiment.
【００２４】次に、第３実施形態の反射防止膜は、基板
側から順に第１、第２、第３、第４、第５、第６層の薄
膜が積層される６層構造の反射防止膜において、第１
層、第３層及び第５層の主成分をＡｌ2Ｏ3とし、第２層
及び第４層の主成分をＴｉとＬａの混合酸化物とし、第
６層の主成分をＭｇＦ2にした。Next, the antireflection film of the third embodiment has a six-layered antireflection film in which first, second, third, fourth, fifth, and sixth thin films are laminated in this order from the substrate side. In the membrane, the first
The main component of the layer, the third layer and the fifth layer was Al 2 O 3 , the main component of the second and fourth layers was a mixed oxide of Ti and La, and the main component of the sixth layer was MgF 2 . .
【００２５】このような反射防止膜によると、第１、第
２実施形態と同様に、ＴｉとＬａの混合酸化物の層に隣
接する第１、第３、第５層に充填密度が高いＡｌ2Ｏ3を
用いることにより、ＴｉとＬａの混合酸化物の酸素の流
出入を抑制し、ヤケや曇りによる外観不良を防止するこ
とができる。According to such an antireflection film, as in the first and second embodiments, the first, third, and fifth layers adjacent to the mixed oxide layer of Ti and La have a high filling density of Al. By using 2 O 3 , it is possible to suppress the inflow and outflow of oxygen of the mixed oxide of Ti and La, and to prevent appearance defects due to burns and fogging.
【００２６】更に、第１、第２、第３、第４、第５、第
６層の屈折率及び膜厚をｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４，ｎ
５，ｎ６及びｄ１，ｄ２，ｄ３，ｄ４，ｄ５，ｄ６とす
るとともに、設計主波長をλ0とした時に、以下の式
（５）〜（７） ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0 ・・（５） ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１８０λ0 ・・（６） ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１７０λ0 ・・（７） を満足していれば、可視域のほぼ全域において低い反射
率を得ることができるので望ましい。尚、第６層の膜材
料をＭｇＦ2にしているが、第１実施形態と同様に外観
以外の特性上有効な他の材料を使用してもよい。Further, the first, second, third, fourth, fifth and sixth layers have refractive indices and thicknesses of n1, n2, n3, n4 and n.
5, n6 and d1, d2, d3, d4, d5, d6, and when the design dominant wavelength is λ 0 , the following equations (5) to (7): 0.020λ 0 ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0・ ・ (5) 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.180λ 0・ ・ (6) If 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.170λ 0・ (7) is satisfied, almost all of the visible range is satisfied. This is desirable because a low reflectance can be obtained. Although the film material of the sixth layer is MgF 2 , other materials effective in characteristics other than the appearance may be used as in the first embodiment.
【００２７】[0027]
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。図１は
第１実施例の反射防止膜の構成を示している。設計主波
長λ0は５１０ｎｍである。レンズやプリズム等の光学
部品から成る基板（屈折率ｎｓ＝１．５３）の表面に、
基板側から第１層はＭｇＦ2（屈折率ｎ１＝１．３８
５，膜厚ｄ１＝２５．８ｎｍ）、第２層はＡｌ2Ｏ3（屈
折率ｎ２＝１．６２，膜厚ｄ２＝９４．４ｎｍ）、第３
層はＴｉとＬａの混合酸化物（屈折率ｎ３＝２．１，膜
厚ｄ３＝１１７．８ｎｍ）、第４層はＡｌ2Ｏ3（屈折率
ｎ４＝１．６２，膜厚ｄ４＝１５．７ｎｍ）、第５層は
ＭｇＦ2（屈折率ｎ５＝１．３８５，膜厚ｄ５＝８１ｎ
ｍ）の薄膜を形成している。Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 shows the configuration of the antireflection film of the first embodiment. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. On the surface of a substrate (refractive index ns = 1.53) composed of optical components such as lenses and prisms,
The first layer is made of MgF 2 (refractive index n1 = 1.38) from the substrate side.
5, film thickness d1 = 25.8 nm), the second layer is Al 2 O 3 (refractive index n2 = 1.62, film thickness d2 = 94.4 nm), the third layer
The layer is a mixed oxide of Ti and La (refractive index n3 = 2.1, film thickness d3 = 1117.8 nm), and the fourth layer is Al 2 O 3 (refractive index n4 = 1.62, film thickness d4 = 15. 7 nm), and the fifth layer is MgF 2 (refractive index n5 = 1.385, film thickness d5 = 81n)
m) is formed.
【００２８】図２は第２実施例の反射防止膜の構成を示
している。第１実施例に対して第４層の成分をＳｉＯ2
に変更し、略同一の光学膜厚を形成している。第１、第
２実施例は、前述の図１１に示す従来例に対して光学膜
厚ｎ４ｄ４が０．０５λ0のＡｌ2Ｏ3層またはＳｉＯ2層
を挿入した構成になっており、先行面の外観不良の検査
結果を図１５の（ａ）に示すと、ヤケ及び曇りの発生が
防止されている。そして、これらの反射防止膜の反射率
特性を計算機によってシュミレーションすると夫々図１
６、図１７に示すようになり、可視域のほぼ全域におい
て低い反射率を有している。FIG. 2 shows the structure of the antireflection film of the second embodiment. The composition of the fourth layer is SiO 2 with respect to the first embodiment.
And the same optical film thickness is formed. The first and second embodiments are different from the conventional example shown in FIG. 11 in that an Al 2 O 3 layer or an SiO 2 layer having an optical thickness n4d4 of 0.05λ 0 is inserted. FIG. 15 (a) shows the inspection result of the appearance failure of Example 1. In this case, the occurrence of burns and fogging is prevented. When the reflectance characteristics of these anti-reflection films are simulated by a computer, each of them is shown in FIG.
6. As shown in FIG. 17, the reflectance is low in almost the entire visible range.
【００２９】図３、図４は第３、第４実施例の反射防止
膜の構成を示している。設計主波長λ0は５１０ｎｍで
ある。第１、第２実施例に対して基板の屈折率ｎｓを
１．６３にするとともに、第１、第２層の膜厚を変更し
ている。また、比較のため、第４層のＡｌ2Ｏ3層または
ＳｉＯ2層を除いた構成の反射防止膜の構成を図１２に
示す。FIGS. 3 and 4 show the structure of the antireflection film of the third and fourth embodiments. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. In the first and second embodiments, the refractive index ns of the substrate is set to 1.63, and the thicknesses of the first and second layers are changed. For comparison, FIG. 12 shows the configuration of an antireflection film having a configuration excluding the fourth Al 2 O 3 layer or SiO 2 layer.
【００３０】これらの反射防止膜の先行面における外観
不良の検査結果を図１５の（ｂ）に示すと、比較例では
ヤケが１２個中７個、曇りが１２個中８個発生したのに
対し、第３、第４実施例ではヤケ及び曇りの発生が防止
されている。そして、これら第３、第４実施例の反射防
止膜の反射率特性を計算機によってシュミレーションす
ると夫々図１８、図１９に示すようになり、可視域のほ
ぼ全域において低い反射率を有している。尚、図１２の
比較例の反射率特性の計算機シュミレーション結果を図
２７に示す。FIG. 15 (b) shows the inspection result of the appearance defect on the preceding surface of the antireflection film. In the comparative example, 7 out of 12 burns and 8 out of 12 fog occurred. On the other hand, in the third and fourth embodiments, the occurrence of burns and fogging is prevented. When the reflectance characteristics of the antireflection films of the third and fourth embodiments are simulated by a computer, they are as shown in FIGS. 18 and 19, respectively. The reflectance is low in almost the entire visible region. FIG. 27 shows a computer simulation result of the reflectance characteristic of the comparative example of FIG.
【００３１】図５、図６は第５、第６実施例の反射防止
膜の構成を示している。設計主波長λ0は５１０ｎｍで
ある。第１、第２実施例に対して基板の屈折率ｎｓを
１．７３にするとともに、第１、第２層の膜厚を更に変
更している。比較のため、第４層のＡｌ2Ｏ3層またはＳ
ｉＯ2層を除いた構成の反射防止膜の構成を図１３に示
す。FIGS. 5 and 6 show the structure of the antireflection film of the fifth and sixth embodiments. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. As compared with the first and second embodiments, the refractive index ns of the substrate is set to 1.73, and the thicknesses of the first and second layers are further changed. For comparison, a fourth Al 2 O 3 layer or S 4
FIG. 13 shows the configuration of an antireflection film having a configuration excluding the iO 2 layer.
【００３２】これらの反射防止膜の先行面における外観
不良の検査結果を図１５の（ｃ）に示すと、比較例では
ヤケが１２個中１０個、曇りが１２個中８個発生したの
に対し、第５、第６実施例ではヤケ及び曇りの発生が防
止されている。そして、これら第５、第６実施例の反射
防止膜の反射率特性を計算機によってシュミレーション
すると夫々図２０、図２１に示すようになり、可視域の
ほぼ全域において低い反射率を有している。尚、図１３
の比較例の反射率特性の計算機シュミレーション結果を
図２８に示す。FIG. 15 (c) shows the inspection results of the appearance defect on the leading surface of these antireflection films. In the comparative example, 10 out of 12 burns and 8 out of 12 fog occurred. On the other hand, in the fifth and sixth embodiments, the occurrence of burns and fogging is prevented. When the reflectance characteristics of the antireflection films of the fifth and sixth embodiments are simulated by a computer, they are as shown in FIGS. 20 and 21, respectively. The reflectance is low in almost the entire visible region. Note that FIG.
FIG. 28 shows a computer simulation result of the reflectance characteristics of the comparative example.
【００３３】図７、図８は第７、第８実施例の反射防止
膜の構成を示している。設計主波長λ0は５１０ｎｍで
ある。第１実施例に対して最も基板側の層を除いた４層
構造にするとともに、基板の屈折率ｎｓを１．８１にし
ている。比較のため、第３層のＡｌ2Ｏ3層またはＳｉＯ
2層を除いた構成の反射防止膜の構成を図１４に示す。FIGS. 7 and 8 show the structure of the antireflection film of the seventh and eighth embodiments. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. As compared with the first embodiment, a four-layer structure excluding the layer closest to the substrate is used, and the refractive index ns of the substrate is set to 1.81. For comparison, a third Al 2 O 3 layer or SiO 3
FIG. 14 shows the configuration of an antireflection film having a configuration excluding two layers.
【００３４】これらの反射防止膜の先行面における外観
不良の検査結果を図１５の（ｄ）に示すと、比較例では
ヤケが１２個中８個、曇りが１２個中１０個発生したの
に対し、第７、第８実施例ではヤケ及び曇りの発生が防
止されている。そして、これら第７、第８実施例の反射
防止膜の反射率特性を計算機によってシュミレーション
すると夫々図２２、図２３に示すようになり、可視域の
ほぼ全域において低い反射率を有している。尚、図１４
の比較例の反射率特性の計算機シュミレーション結果を
図２９に示す。FIG. 15D shows the inspection results of the appearance defect on the leading surface of these antireflection films. In the comparative example, 8 out of 12 burns and 10 out of 12 clouding occurred. On the other hand, in the seventh and eighth embodiments, the occurrence of burns and fogging is prevented. When the reflectance characteristics of the antireflection films of the seventh and eighth embodiments are simulated by a computer, they are as shown in FIGS. 22 and 23, respectively. The reflectance is low in almost the entire visible region. FIG.
FIG. 29 shows a computer simulation result of the reflectance characteristic of the comparative example.
【００３５】図９は第９実施例の反射防止膜の構成を示
している。設計主波長λ0は５１０ｎｍである。基板
（屈折率ｎｓ＝１．５３）の表面に、基板側から第１層
はＡｌ2Ｏ3（膜厚ｄ１＝７８．１ｎｍ）、第２層はＴｉ
とＬａの混合酸化物（膜厚ｄ２＝１１７．１ｎｍ）、第
３層はＡｌ2Ｏ3（膜厚ｄ３＝１７．９ｎｍ）、第４層は
ＭｇＦ2（膜厚ｄ４＝７９．５ｎｍ）の４層構造の薄膜
を形成している。FIG. 9 shows the structure of the antireflection film of the ninth embodiment. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. On the surface of the substrate (refractive index ns = 1.53), the first layer is Al 2 O 3 (thickness d1 = 78.1 nm) and the second layer is Ti
And a mixed oxide of La and La (thickness d2 = 117.1 nm), a third layer of Al 2 O 3 (thickness d3 = 17.9 nm), and a fourth layer of MgF 2 (thickness d4 = 79.5 nm). A thin film having a four-layer structure is formed.
【００３６】この反射防止膜においても上記と同様に、
ＴｉとＬａの混合酸化物の層と隣接する層をＡｌ2Ｏ3に
より構成しているのでヤケや曇りを防止できる。そし
て、反射率特性を計算機によってシュミレーションする
と図２４に示すようになり、可視域のほぼ全域において
低い反射率を有している。In this anti-reflection film, similarly to the above,
Since the layer adjacent to the layer of the mixed oxide of Ti and La is made of Al 2 O 3, burn and fogging can be prevented. Then, the reflectance characteristics are simulated by a computer, as shown in FIG. 24, which has a low reflectance in almost the entire visible range.
【００３７】図１０は第１０実施例の反射防止膜の構成
を示している。設計主波長λ0は５１０ｎｍである。基
板（屈折率ｎｓ＝１．５３）の表面に、基板側から第１
層はＡｌ2Ｏ3（膜厚ｄ１＝１９５．２ｎｍ）、第２層は
ＴｉとＬａの混合酸化物（膜厚ｄ２＝７．３ｎｍ）、第
３層はＡｌ2Ｏ3（膜厚ｄ３＝３４．６ｎｍ）、第４層は
ＴｉとＬａの混合酸化物（膜厚ｄ４＝１１７．８ｎ
ｍ）、第５層はＡｌ2Ｏ3（膜厚ｄ５＝１５．７ｎｍ）、
第６層はＭｇＦ2（膜厚ｄ６＝８１ｎｍ）の６層構造の
薄膜を形成している。FIG. 10 shows the structure of the antireflection film of the tenth embodiment. The design dominant wavelength λ 0 is 510 nm. The first surface is placed on the surface of the substrate (refractive index ns = 1.53) from the substrate side.
The layer is Al 2 O 3 (thickness d1 = 195.2 nm), the second layer is a mixed oxide of Ti and La (thickness d2 = 7.3 nm), and the third layer is Al 2 O 3 (thickness d3 = 34.6 nm), and the fourth layer is a mixed oxide of Ti and La (film thickness d4 = 117.8 n).
m), the fifth layer is Al 2 O 3 (film thickness d5 = 15.7 nm),
The sixth layer forms a thin film having a six-layer structure of MgF 2 (thickness d6 = 81 nm).
【００３８】この反射防止膜においても上記と同様に、
ＴｉとＬａの混合酸化物の層と隣接する層をＡｌ2Ｏ3に
より構成しているのでヤケや曇りを防止できる。そし
て、反射率特性を計算機によってシュミレーションする
と図２５に示すようになり、可視域のほぼ全域において
低い反射率を有している。In this anti-reflection film, as described above,
Since the layer adjacent to the layer of the mixed oxide of Ti and La is made of Al 2 O 3, burn and fogging can be prevented. Then, the reflectance characteristics are simulated by a computer as shown in FIG. 25, and the reflectance is low in almost the entire visible range.
【００３９】[0039]
【発明の効果】請求項１の発明によると、複数の層が積
層される反射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物
の層の基板側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対
側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることに
よって、加熱によるヤケや曇りの外観不良を防止するこ
とができる。According to the first aspect of the present invention, in the antireflection film in which a plurality of layers are stacked, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 , When the layer adjacent to the opposite side is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent the appearance defect such as burn or fogging due to heating.
【００４０】請求項２、請求項３の発明によると、５層
構造の反射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の
層の基板側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側
に隣接する層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによ
って、加熱によるヤケや曇りの外観不良を防止すること
ができる。According to the second and third aspects of the present invention, in the antireflection film having a five-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 , and is opposite to the substrate. When the layer adjacent to the side is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burn or fogging due to heating.
【００４１】請求項４の発明によると、５層構造の反射
防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の層の基板側
に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側に隣接する
層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによって、加熱
によるヤケや曇りの外観不良を防止することができる。
更に、可視域のほぼ全域で反射率を低くすることができ
る。According to the fourth aspect of the present invention, in the antireflection film having a five-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 and adjacent to the opposite side to the substrate. When the layer is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burns or clouding due to heating and poor appearance.
Further, the reflectance can be reduced in almost the entire visible range.
【００４２】請求項５、請求項６の発明によると、４層
構造の反射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の
層の基板側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側
に隣接する層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによ
って、加熱によるヤケや曇りの外観不良を防止すること
ができる。According to the fifth and sixth aspects of the present invention, in the antireflection film having a four-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 , and is opposite to the substrate. When the layer adjacent to the side is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burn or fogging due to heating.
【００４３】請求項７の発明によると、４層構造の反射
防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の層の基板側
に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側に隣接する
層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによって、加熱
によるヤケや曇りの外観不良を防止することができる。
更に、可視域のほぼ全域で反射率を低くすることができ
る。According to the seventh aspect of the present invention, in the antireflection film having the four-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 and adjacent to the opposite side to the substrate. When the layer is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burns or clouding due to heating and poor appearance.
Further, the reflectance can be reduced in almost the entire visible range.
【００４４】請求項８、請求項９の発明によると、６層
構造の反射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の
層の基板側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側
に隣接する層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによ
って、加熱によるヤケや曇りの外観不良を防止すること
ができる。According to the eighth and ninth aspects of the invention, in the antireflection film having a six-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the mixed oxide layer of Ti and La is made of Al 2 O 3 , and is opposite to the substrate. When the layer adjacent to the side is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burn or fogging due to heating.
【００４５】請求項１０の発明によると、６層構造の反
射防止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物の層の基板
側に隣接する層をＡｌ2Ｏ3にし、基板と反対側に隣接す
る層をＡｌ2Ｏ3またはＳｉＯ2にすることによって、加
熱によるヤケや曇りの外観不良を防止することができ
る。更に、可視域のほぼ全域で反射率を低くすることが
できる。According to the tenth aspect of the present invention, in the antireflection film having the six-layer structure, the layer adjacent to the substrate side of the layer of the mixed oxide of Ti and La is made of Al 2 O 3 and adjacent to the opposite side to the substrate. When the layer is made of Al 2 O 3 or SiO 2 , it is possible to prevent burns or clouding due to heating and poor appearance. Further, the reflectance can be reduced in almost the entire visible range.
【図１】 本発明の第１実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a first embodiment of the present invention.
【図２】 本発明の第２実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of an antireflection film according to a second embodiment of the present invention.
【図３】 本発明の第３実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a third embodiment of the present invention.
【図４】 本発明の第４実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a fourth embodiment of the present invention.
【図５】 本発明の第５実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a fifth embodiment of the present invention.
【図６】 本発明の第６実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a sixth embodiment of the present invention.
【図７】 本発明の第７実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a seventh embodiment of the present invention.
【図８】 本発明の第８実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to an eighth embodiment of the present invention.
【図９】 本発明の第９実施例の反射防止膜の構成を
示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a ninth embodiment of the present invention.
【図１０】 本発明の第１０実施例の反射防止膜の構成
を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a configuration of an antireflection film according to a tenth embodiment of the present invention.
【図１１】 従来の反射防止膜の構成を示す図である。FIG. 11 is a view showing a configuration of a conventional antireflection film.
【図１２】 比較例の反射防止膜の構成を示す図であ
る。FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration of an antireflection film of a comparative example.
【図１３】 他の比較例の反射防止膜の構成を示す図で
ある。FIG. 13 is a diagram showing a configuration of an antireflection film of another comparative example.
【図１４】 更に他の比較例の反射防止膜の構成を示す
図である。FIG. 14 is a diagram showing a configuration of an antireflection film of still another comparative example.
【図１５】 本発明の反射防止膜の外観検査結果を示す
図である。FIG. 15 is a view showing a result of an appearance inspection of the antireflection film of the present invention.
【図１６】 本発明の第１実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 16 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the first embodiment of the present invention.
【図１７】 本発明の第２実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 17 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the second embodiment of the present invention.
【図１８】 本発明の第３実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 18 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the third embodiment of the present invention.
【図１９】 本発明の第４実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 19 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the fourth embodiment of the present invention.
【図２０】 本発明の第５実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 20 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the fifth embodiment of the present invention.
【図２１】 本発明の第６実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 21 is a characteristic diagram showing a reflectance of an antireflection film according to a sixth embodiment of the present invention.
【図２２】 本発明の第７実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 22 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the seventh embodiment of the present invention.
【図２３】 本発明の第８実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 23 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the eighth embodiment of the present invention.
【図２４】 本発明の第９実施例の反射防止膜の反射率
を示す特性図である。FIG. 24 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the ninth embodiment of the present invention.
【図２５】 本発明の第１０実施例の反射防止膜の反射
率を示す特性図である。FIG. 25 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film according to the tenth embodiment of the present invention.
【図２６】 従来の反射防止膜の反射率を示す特性図で
ある。FIG. 26 is a characteristic diagram showing the reflectance of a conventional antireflection film.
【図２７】 比較例の反射防止膜の反射率を示す特性図
である。FIG. 27 is a characteristic diagram showing the reflectance of the antireflection film of the comparative example.
【図２８】 他の比較例の反射防止膜の反射率を示す特
性図である。FIG. 28 is a characteristic diagram showing a reflectance of an antireflection film of another comparative example.
【図２９】 更に他の比較例の反射防止膜の反射率を示
す特性図である。FIG. 29 is a characteristic diagram showing a reflectance of an antireflection film of still another comparative example.
ｎ，ｎｓ，ｎ１〜ｎ６ 屈折率 ｄ，ｄ１〜ｄ６ 膜厚 λ0 設計主波長n, ns, n1 to n6 Refractive index d, d1 to d6 Film thickness λ 0 Design dominant wavelength
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 谷 博蔵 大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪 国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2K009 AA08 AA09 CC03 CC06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hirozo Tani 2-3-1, Azuchicho, Chuo-ku, Osaka-shi Osaka International Building Minolta Co., Ltd. F term (reference) 2K009 AA08 AA09 CC03 CC06
Claims (10)
止膜において、ＴｉとＬａの混合酸化物を主成分とする
層を有し、この層に対して基板側に隣接したＡｌ2Ｏ3を
主成分とする層と、基板と反対側に隣接したＡｌ2Ｏ3ま
たはＳｉＯ2を主成分とする層とを設けたことを特徴と
する反射防止膜。1. An anti-reflection film comprising a plurality of thin films laminated on a substrate, comprising a layer mainly composed of a mixed oxide of Ti and La, and an Al 2 O layer adjacent to the layer on the substrate side. An anti-reflection film comprising: a layer mainly composed of 3; and a layer mainly composed of Al 2 O 3 or SiO 2 adjacent to the side opposite to the substrate.
４、第５層の薄膜が積層される５層構造の反射防止膜に
おいて、第２層の主成分をＡｌ2Ｏ3とし、第３層の主成
分をＴｉとＬａの混合酸化物とし、第４層の主成分をＡ
ｌ2Ｏ3またはＳｉ０2にしたことを特徴とする反射防止
膜。2. An antireflection film having a five-layer structure in which first, second, third, fourth, and fifth thin films are laminated in this order from the substrate side, wherein the main component of the second layer is Al 2 O 3. The main component of the third layer is a mixed oxide of Ti and La, and the main component of the fourth layer is A
An anti-reflection film characterized by being made of l 2 O 3 or SiO 2 .
したことを特徴とする請求項２に記載の反射防止膜。3. The anti-reflection film according to claim 2 , wherein the main components of the first layer and the fifth layer are made of MgF 2 .
ｎ４及びｄ２，ｄ４とするとともに、設計主波長をλ0
とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ２ｄ２≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ４ｄ４≦０．１３０λ0、 の関係にしたことを特徴とする請求項２または請求項３
に記載の反射防止膜。4. The second and fourth layers have a refractive index and a thickness of n2.
n4 and d2, d4, and the design dominant wavelength is λ 0
The relationship of 0.020λ 0 ≦ n2d2 ≦ 0.800λ 0 , and 0.020λ 0 ≦ n4d4 ≦ 0.130λ 0 , wherein
2. The antireflection film according to 1.
層の薄膜が積層される４層構造の反射防止膜において、
第１層の主成分をＡｌ2Ｏ3とし、第２層の主成分をＴｉ
とＬａの混合酸化物とし、第３層の主成分をＡｌ2Ｏ3ま
たはＳｉ０2にしたことを特徴とする反射防止膜。5. A first, a second, a third, and a fourth in order from the substrate side.
In an antireflection film having a four-layer structure in which thin films of layers are stacked,
The main component of the first layer is Al 2 O 3, and the main component of the second layer is Ti
An anti-reflection film comprising a mixed oxide of La and La, wherein the main component of the third layer is Al 2 O 3 or SiO 2 .
特徴とする請求項５に記載の反射防止膜。6. The antireflection film according to claim 5, wherein the main component of the fourth layer is MgF 2 .
ｎ３及びｄ１，ｄ３とするとともに、設計主波長をλ0
とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１３０λ0、 の関係にしたことを特徴とする請求項５または請求項６
に記載の反射防止膜。7. The first and third layers have a refractive index and a film thickness of n1,
n3 and d1, d3, and the design dominant wavelength is λ 0
The relationship of 0.020λ 0 ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0 , and 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.130λ 0 , wherein:
2. The antireflection film according to 1.
４、第５、第６層の薄膜が積層される６層構造の反射防
止膜において、第１層及び第３層の主成分をＡｌ2Ｏ3と
し、第２層及び第４層の主成分をＴｉとＬａの混合酸化
物とし、第５層の主成分をＡｌ2Ｏ3またはＳｉ０2にし
たことを特徴とする反射防止膜。8. An antireflection film having a six-layer structure in which thin films of first, second, third, fourth, fifth, and sixth layers are stacked in this order from the substrate side. The main component is Al 2 O 3, the main components of the second and fourth layers are mixed oxides of Ti and La, and the main component of the fifth layer is Al 2 O 3 or SiO 2. Anti-reflection film.
特徴とする請求項８に記載の反射防止膜。9. The antireflection film according to claim 8, wherein the main component of the sixth layer is MgF 2 .
をｎ１，ｎ３，ｎ５及びｄ１，ｄ３，ｄ５とするととも
に、設計主波長をλ0とした時に、 ０．０２０λ0≦ｎ１ｄ１≦０．８００λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ３ｄ３≦０．１８０λ0、 ０．０２０λ0≦ｎ５ｄ５≦０．１７０λ0、 の関係にしたことを特徴とする請求項８または請求項９
に記載の反射防止膜。10. When the refractive indices and film thicknesses of the first, third and fifth layers are n1, n3, n5 and d1, d3, d5, and the design dominant wavelength is λ 0 , 0.020λ 0 10. The relationship of ≦ n1d1 ≦ 0.800λ 0 , 0.020λ 0 ≦ n3d3 ≦ 0.180λ 0 , and 0.020λ 0 ≦ n5d5 ≦ 0.170λ 0 .
2. The antireflection film according to 1.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP11028804A JP2000227504A (en) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | Reflection preventing film |
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| JP11028804A JP2000227504A (en) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | Reflection preventing film |
Publications (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002086579A1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges |
-
1999
- 1999-02-05 JP JP11028804A patent/JP2000227504A/en active Pending
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| WO2002086579A1 (en) * | 2001-04-23 | 2002-10-31 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges |
| US7274505B2 (en) | 2001-04-23 | 2007-09-25 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Inspection microscope for several wavelength ranges and reflection reducing layer for an inspection microscope for several wavelength ranges |
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