JP2000226506A - 安定性に優れたポリカーボネート組成物及び該組成物の成形品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 分解、および副生物の生成を押さえうると同
時に成形加工時の、耐熱安定性向上、色相安定性透明
性、色相安定性を要求される用途に好適な成形性、環境
安定性の良好な芳香族ポリカーボネート樹脂を提供する
ことである。 【解決手段】 溶融粘度安定性０．５％以下、且つ末端
ＯＨ基量１００ｅｑ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネ
ート１００重量部と、次式（Ａ）で表わされるラクトン
系安定剤； （式中Ｒ⁵，Ｒ⁶は水素原子及び／又は、炭素数１〜１０
のアルキル基を表し、ＡＲは置換基を有していてもよい
炭素数６〜２０の芳香族基を表わす。） ０．０００１〜５重量部とからなる芳香族ポリカーボネ
ート樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、特定の安定剤を含
有する安定性に優れたポリカーボネート樹脂組成物およ
びその製造方法に関する。さらに詳しくはレンズ、プリ
ズム、光ディスク、シート、フィルムなどの透明性、色
相安定性を要求される用途に好適な成形性、環境安定性
の良好な前記芳香族ポリカーボネート樹脂組成物ならび
に該組成物の射出成形品に関する。

【０００２】

【従来の技術】ポリカーボネート樹脂ならびに樹脂組成
物は、光学特性、電気特性、寸法安定性に優れ、しかも
自己消火性を有し、且つ耐衝撃性、破断強度などの機械
的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性などにも優れた性
質を持っており、このため広範な用途に、大量に使用さ
れている。とりわけその透明性を生かし、レンズ、プリ
ズム、光ディスク、シート、フィルム等に大量に使用さ
れている。

【０００３】特にレンズや光ディスクのような光学成形
品及び該成形品の素材樹脂ならびに樹脂組成物に於いて
は、異物を含まないこと及び優れた透明性、色相が要求
され、さらに樹脂ならびに樹脂組成物に於いては成形時
の滞留安定性が要求される。

【０００４】このため重合時、成形加工時ポリカーボネ
ート樹脂に耐熱安定剤などの各種添加剤を添加して、透
明性、及び色相安定性を高める提案が従来より多数なさ
れている。これら添加剤が、それぞれ一応の効果を有す
ることは従来良く知られた事実である。しかしながら、
かかる添加剤は透明性、及び色相安定性を高める効果は
ある程度有するが、副反応、分解反応を抑制し、副生物
に起因する異物の生成を低い水準に押さえる効果は十分
ではない。

【０００５】ポリカーボネート樹脂中のポリカーボネー
ト結合は、とりわけアルカリ金属化合物触媒を特定量以
上含有する樹脂においては、溶融重合時あるいは成形加
工時に、負荷される２４０℃〜３４０℃あるいは３８０
℃の温度条件下、自発的にあるいは、成形加工機、重合
装置の金属表面、特に重合触媒としてポリマー中に導入
される金属化合物に触媒され、分解反応を起こし、ポリ
カーボネート樹脂中ゲル状異物を生成する。該ゲル状異
物は、溶媒、例えば塩化メチレン等に不溶であることは
よく知られている。

【０００６】かかるゲル状異物が特にレンズ、光ディス
クなどの光学用途において重大な問題を引き起こすこと
は当該業者にとって容易に理解されることであり、かか
るゲル状異物を含有しない、優れた光学用樹脂を開発す
ることが長く待望されてきた。

【０００７】ポリカーボネート樹脂の熱、色相安定性、
湿熱耐久性に対し末端水酸基が悪影響を及ぼすことは例
えば特開昭６１−８７７２４号公報、特開昭６１−８７
７２５号公報に指摘されている通りである。

【０００８】ポリマー製造プロセスの特徴上、分子中に
末端水酸基数が本質的に多く存在する溶融重合法、ある
いは固相重合法においては、とりわけ熱意を持ってポリ
カーボネート樹脂末端のＯＨ基を減少せしめる方法が各
種提案されているがＯＨ末端基の減少には限界がある事
も又よく知られている。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、分
解、および副生物の生成を押さえうると同時に成形加工
時の、耐熱安定性、色相安定性に優れたポリカーボネー
ト樹脂を得ることである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】これに対し、本発明者
は、特定溶融粘度安定性を有するポリカーボネートに、
特定構造を有するラクトン系化合物を添加する事によ
り、とりわけ末端ＯＨ基濃度を極端に減少させなくて
も、ポリカーボネート樹脂の分解、および副生物の生成
を押さえうると同時に成形加工時の、耐熱安定性向上、
色相安定性を達成しうる事を発見し本発明に到達した。

【００１１】即ち本発明の樹脂は、芳香族ジヒドロキシ
化合物とカーボネート結合形成性化合物とを反応して成
る、主たる繰り返し単位が次式（１）

【００１２】

【化５】

【００１３】（Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Ｗは炭素数１〜１０のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、アリール基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。）で表わされる粘度平均分子量１３，０００〜１０
０，０００、溶融粘度安定性０．５％以下、且つ末端Ｏ
Ｈ基濃度１００ｅｑ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネ
ート１００重量部に、次式（Ａ）

【００１４】

【化６】

【００１５】（式中Ｒ⁵，Ｒ⁶は水素原子及び又は、炭素
数１〜１０のアルキル基を表し、ＡＲは置換基を有して
いてもよい炭素数６〜２０の芳香族基を表わす。）で表
わされるラクトン系安定剤を０．０００１〜５重量部存
在せしめることにより、芳香族ポリカーボネート樹脂の
分解、および副生するゲル状異物の生成を抑制すると同
時に成形加工時の色相安定性、耐熱安定性、透明性悪化
を良化させるものである。

【００１６】さらに上記芳香族ポリカーボネート樹脂に
おいて、末端水酸基濃度を少なくとも１００ｅｑ／ｔｏ
ｎ以下にすることにより安定性に優れたポリカーボネー
ト樹脂を提供することができるが、末端水酸基濃度は、
好ましくは８０ｅｑ／ｔｏｎ以下、さらに好ましくは３
〜６０ｅｑ／ｔｏｎ、特に好ましくは５〜５０ｅｑ／ｔ
ｏｎにより、さらに安定性に優れたポリカーボネート樹
脂を提供することができる。

【００１７】ポリカーボネート樹脂は熱的あるいは加水
分解反応に対し不安定であるが、ポリカーボネート樹脂
の溶融安定性を０．５％以下にしておくことが本発明の
目的を達成するために必須である。更に好ましくは０．
３％以下、更に好ましくは０．１％以下、特に好ましく
は０％である。

【００１８】特に望ましい実施態様に於いては、上記芳
香族ポリカーボネート樹脂が溶融重合法により製造され
たものであり、該芳香族ポリカーボネート溶融重合時に
使用される触媒系が塩基性エステル交換触媒であり、且
つ該塩基性エステル交換触媒が塩基性窒素化合物及び又
は塩基性リン化合物を含有し、さらにアルカリ金属化合
物をアルカリ金属元素として芳香族ジヒドロキシ化合物
１モル当たり１＊１０^-8〜５＊１０^-6当量含有すること
を特徴とし、芳香族ポリカーボネート樹脂の分解により
副生するゲル状異物の生成を抑制すると同時に成形加工
時の安定性、透明性悪化を良化させるものである。

【００１９】溶融重合反応速度を向上させるためにアル
カリ金属元素を含有する触媒系が使用されるが、アルカ
リ金属化合物は、前述したごとくカーボネート結合を分
解する能力も又有するため、重合反応速度の触媒能をで
きうる限り保持しつつ、その使用量を押さえることが好
ましい。本目的を達成するためには塩基性エステル交換
触媒中、塩基性窒素化合物及び又は塩基性リン化合物を
併用し、アルカリ金属元素量を芳香族ジヒドロキシ化合
物１モル当たり１＊１０^-8〜５＊１０^-6当量の範囲に保
つことが必要である。

【００２０】塩基性エステル交換触媒によるポリカーボ
ネートの分解副反応を押さえつつ、実用的な重合速度を
高い状態に保つため、本触媒系においては塩基性窒素化
合物及び又は塩基性リン化合物が触媒として好ましく併
用される。

【００２１】本発明のポリカーボネート樹脂は上記
（Ａ）式で表わされるラクトン系安定剤を含有せしめる
事により、熱負荷時のポリカーボネート樹脂の分解及び
ゲル状異物の生成を抑制し、さらに成形加工時の、滞留
安定性を高い水準に保ち、色相安定性、透明性悪化を押
さえることができるという予期せぬ効果も見出した。こ
のため成形加工時の金型汚れを著しく低減させうる効果
をもあわせて発現する。

【００２２】

【発明の実施の形態】本発明の樹脂において上記（Ａ）
式で表わされるラクトン系安定剤をポリカーボネート樹
脂中に添加する方法は、従来公知の各種方法を使用し
て、好適に実施しうる。具体的には本発明の安定剤によ
り、いかなる効果を主として期待するかにより樹脂中へ
の添加時期、添加量が自ずと決定される。

【００２３】例えば、溶融重合法によるポリカーボネー
ト製造時、重合装置内部における分解反応、ゲル状物生
成反応を抑制するためには、原料の芳香族ジヒドロキシ
化合物、及び又は以下記述する炭酸ジエステルと、とも
に重合装置中に添加することは、好ましい実施態様とい
える。この際、該安定剤を一度に添加することもできる
し反応の途中で、何回かに分割して添加することも好ま
しく実施可能である。

【００２４】溶融重合反応においては反応系内を減圧状
態に保つため、本方法を採用した場合、本安定剤（Ａ）
が比較的蒸発しやすいため一度に大量の剤を添加しても
その効果は限定されたものとなるため好ましくは、何回
かに分割添加する方法が採用される。あるいは又重合反
応終了時以降の段階に置ける、各種処理の段階におい
て、各種添加剤とともに添加することも可能である。特
に成形加工時における、熱負荷による分解、副生物生成
を抑制するためには、成形加工時の直前、あるいは加工
中に添加するのも好ましい方法の一つとして例示され
る。

【００２５】本発明において使用されるラクトン系安定
剤は下記一般式（Ａ）で表わされる。

【００２６】

【化７】

【００２７】（式中Ｒ⁵，Ｒ⁶は水素原子、炭素数１〜１
０のアルキル基を、ＡＲは置換基を有していてもよい炭
素数６〜２０の芳香族基を表わす）

【００２８】これらラクトン系安定剤の使用量はポリカ
ーボネート樹脂１００重量部当たり０．０００１〜５重
量部、好ましくは０．０００５〜３重量部、さらに好ま
しくは０．００１から１重量部、特に好ましくは０．０
０１〜０．５重量部の範囲が挙げられる。

【００２９】本発明においてラクトン系安定剤は末端Ｏ
Ｈ基濃度と以下の（Ｉ）で表される関係を保つように使
用すると、単に樹脂当たりいくらとして添加されるよ
り、その効果が大きく好ましい。

【００３０】

【数１】 ｌｏｇ〔ＯＨ〕＋１０≦ｌｏｇ（ａ）≦ｌｏｇ〔ＯＨ〕＋３・・・（Ｉ） 式中〔ＯＨ〕；末端ＯＨ基濃度；ｅｑ／ｔｏｎ （ａ）；ラクトン添加量（重量ｐｐｍ）

【００３１】一般式（Ａ）で表わされるラクトン系安定
剤としては具体的には以下のごとき化合物が例示され
る。

【００３２】

【化８】

【００３３】

【化９】

【００３４】

【化１０】

【００３５】

【化１１】

【００３６】

【化１２】

【００３７】

【化１３】

【００３８】

【化１４】

【００３９】

【化１５】

【００４０】

【化１６】

【００４１】

【化１７】

【００４２】

【化１８】

【００４３】

【化１９】

【００４４】

【化２０】

【００４５】

【化２１】

【００４６】これら化合物は単独であるいは数種類混合
して使用しうる。

【００４７】本発明でいう芳香族ポリカーボネートと
は、芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネート結合形成
性化合物との反応生成物であり、主たる繰り返し単位が
次式（１）

【００４８】

【化２２】

【００４９】（Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Ｗは炭素数１〜１０のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、アリール基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。）で表わされるものであり、界面重合法等のホスゲ
ン法あるいは溶融重合法、固相重合法のいずれの方法で
も製造可能である。

【００５０】かかる芳香族ジヒドロキシ化合物としては
下記一般式（２）に示される化合物が好ましく用いられ
る。

【００５１】

【化２３】

【００５２】（Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴はそれぞれ独立に水
素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又
はアリール基であり、Ｗは炭素数１〜１０のアルキリデ
ン基、アルキレン基、シクロアルキリデン基、シクロア
ルキレン基、フェニル基置換アルキレン基、酸素原子、
硫黄原子、スルホキシド基、またはスルホン基であ
る。）

【００５３】このような芳香族ジヒドロキシ化合物
（２）としては具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチ
ルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ヘプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−
３，５−ジクロロフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパ
ン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、
４，４−ジヒドロキシフェニル−１，１−ｍ−ジイソプ
ロピルベンゼン、４，４−ジヒドロキシフェニルー９，
９−フルオレン、などのビス（４−ヒドロキシアリー
ル）アルカン類、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサン、１−メチル−１−（４−ヒド
ロキシフェニル）−４−（ジメチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）メチル−シクロヘキサン、４−［１−〔３−
（４−ヒドロキシフェニル）−４−メチルシクロヘキシ
ル〕−１−ネチルエチル］−フェノール、４，４−〔１
−メチル−４−（１−メチルエチル）−１，３−シクロ
ヘキサンジイル〕ビスフェノール、２，２，２，２−テ
トラヒドロ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１、
１−スピロビス−〔１Ｈ−インデン〕−６，６’−ジオ
ールなどのビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン
類、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス
（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）エーテ
ル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３−ジメチルフェニ
ルエーテルなどのジヒドロキシアリールエーテル類、
４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，
４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニルス
ルフィド、などのジヒドロキシジアリールスルフィド
類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニ
ルスルホキシドなどのジヒドロキシジアリールスルスル
ホキシド類、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ン、４，４−ジヒドロキシ−３，３−ジメチルジフェニ
ルスルホン、などのジヒドロキシジアリールスルホン
類、４，４’−ジヒドロキシジフェニル−３，３’−イ
サチンなどのジヒドロキシジアリールイサチン類、３，
６−ジヒドロキシ−９，９−ジメチルキサンテン、など
のジヒドロキシジアリールキサンテン類、レゾルシン、
３−メチルレソルシン、３−エチルレゾルシン、３−ブ
チルレゾルシン、３−ｔ−ブチルレゾルシン、３−フェ
ニルレゾルシン、３−クミルレゾルシンヒドロキノン、
２−メチルヒドロキノン、２−エチルヒドロキノン、２
−ブチルヒドロキノン、２−ｔ−ブチルヒドロキノン、
２−フェニルヒドロキノン、２−クミルヒドロキノン、
などのジヒドロキシベンゼン類、４，４’−ジヒドロキ
シジフェニル、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジヒド
ロキシジフェニル等ジヒドロキシジフェニル類が挙げら
れる。

【００５４】中でも２，２−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパンがモノマーとしての安定性、更にはそれ
に含まれる不純物の量が少ないものの入手が容易である
点等より好ましいものとしてあげられる。

【００５５】本発明の芳香族ポリカーボネート中には、
ガラス転移温度の制御、あるいは流動性の向上、あるい
は、屈折率のアップ、あるいは複屈折の低減等、光学的
性質の制御等を目的として各種モノマーを必要に応じ
て、一種あるいは２種以上を含有させることも可能なこ
とは言うまでもない。

【００５６】これらの具体例としては、たとえば脂肪族
ジヒドロキシ化合物類例えばエチレングリコール、１，
４−ブタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノ
ール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール、
１，１０−デカンジオール、ジエチレングリコール、テ
トラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポ
リテトラメチレングリコール等、あるいはジカルボン酸
類、たとえばコハク酸、イソフタル酸、２，６−ナフタ
レンジカウボン酸、アジピン酸、シクロヘキサンジカル
ボン酸、テレフタル酸、あるいはオキシ酸類例えば、ｐ
−ヒドロキシ安息香酸、６−ヒドロキシ−２−ナフトエ
酸、乳酸等が挙げられる。

【００５７】ホスゲン法ではカーボネート結合形成性化
合物としては、ホスゲンなどのハロゲン化カルボニル、
ハロホーメート化合物があげられる。かかるカーボネー
ト結合形成性化合物と上記（２）式で示される芳香族ジ
ヒドロキシ化合物、さらに所望により各種の末端封止剤
を加えて公知の方法で反応せしめることにより上記
（１）式であらわされる繰り返し単位構造を有するポリ
カーボネート樹脂を製造することができる。

【００５８】また溶融重合法ではカーボネート結合形成
性化合物としては芳香族炭酸エステルが、具体的にはジ
フェニルカーボネート、ジトリルカーボネート、ビス
（２−クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレシルカ
ーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（４−フェ
ニルフェニル）カーボネート等が挙げられる。其の他、
ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチ
ルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等も所
望により使用できることは当然である。

【００５９】これらの内ジフェニルカーボネートが、反
応性、得られる樹脂の着色に対する安定性、更にはコス
トの点よりも好ましいものとしてあげられる。

【００６０】かかるカーボネート結合形成性化合物と上
記（２）式で示される芳香族ジヒドロキシ化合物とを、
公知の方法で反応せしめることにより上記（１）式であ
らわされる繰り返し単位構造を有するポリカーボネート
樹脂を製造することができる。

【００６１】固相重合法では、上述のホスゲン法または
溶融重合法で製造される分子量の小さなポリカーボネー
トオリゴマーを結晶化させ、高温、（所望により減圧）
下、固体状態で重合を進める事により、上記（１）式で
示される繰り返し単位構造を有するポリカーボネート樹
脂とすることができる。

【００６２】また上記のようなポリカーボネートの製造
方法において、ホスゲン、または炭酸ジエステルととも
にジカルボン酸、ジカルボン酸ハライド、ジカルボン
酸、エステル等のジカルボン酸誘導体を使用することに
よりポリエステルカーボネートを製造できる。

【００６３】かかるジカルボン酸あるいはジカルボン酸
誘導体としてはテレフタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸クロリド、イソフタル酸クロリド、テレフタル酸ジ
フェニル、イソフタル酸ジフェニルなどの芳香族ジカル
ボン酸類、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリ
ン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカン二酸、ドデカ
ンニ酸、アジピン酸クロリド、スベリン酸クロリド、ア
ゼライン酸クロリド、セバシン酸クロリド、アゼライン
酸ジフェニル、セバシン酸ジフェニル、デカン二酸ジフ
ェニル、ドデカンニ酸ジフェニルなどの脂肪族ジカルボ
ン酸類、シクロプロパンジカルボン酸、１，２−シクロ
ブタンジカルボン酸、１，３−シクロブタンジカルボン
酸、１，２−シクロペンタンジカルボン酸、１，３−シ
クロペンタンジカルボン酸、１，２−シクロヘキサンジ
カルボン酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、
１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、シクロプロパン
ジカルボン酸クロリド、１，２−シクロブタンジカルボ
ン酸クロリド、１，３−シクロブタンジカルボン酸クロ
リド、１，２−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、
１，３−シクロペンタンジカルボン酸クロリド、１，２
−シクロヘキサンジカルボン酸クロリド、１，３−シク
ロヘキサンジカルボン酸クロリド、１，４−シクロヘキ
サンジカルボン酸クロリド、シクロプロパンジカルボン
酸ジフェニル、１，２−シクロブタンジカルボン酸ジフ
ェニル、１，３−シクロブタンジカルボン酸ジフェニ
ル、１，２−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、
１，３−シクロペンタンジカルボン酸ジフェニル、１，
２−シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、１，３−
シクロヘキサンジカルボン酸ジフェニル、１，４−シク
ロヘキサンジカルボン酸ジフェニルなどの脂環式ジカル
ボン酸類をあげることができる。

【００６４】また上記一般式（１）であらわされる繰り
返し単位構造を有するポリカーボネートを製造すると
き、上記のジヒドロキシ化合物とともに、一分子中に３
個以上の官能基を有する多官能化合物を併用することも
できる。このような多官能化合物としてはフェノール性
水酸基、カルボキシル基を有する化合物が好ましく使用
される。

【００６５】具体的にはたとえば１，１，１−トリス
（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２’，２−ト
リス（４−ヒドロキシフェニル）ジイソプロピルベンゼ
ン、α−メチル−α，α’，α−トリス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１，４−ジエチルベンゼン、α，α’，
α−トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−
トリイソプロピルベンゼン、フロログリシン、４，６ジ
メチルー２，４，６−トリス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−ヘプタン−２，１，３，５−トリス（４−ヒドロ
キシフェニル）ベンベン、２，２−ビス〔４，４−
（４，４−ジヒドロキシフェニル）−シクロヘキシル〕
−プロパン、トリメリット酸、１，３，５−ベンゼント
リカルボン酸、ピロメリット酸などがあげられる。

【００６６】これらのうち１，１，１−トリス（４−ヒ
ドロキシフェニル）エタン、α，α’，α−トリス（４
−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリイソプロピ
ルベンゼンなどが好ましく使用できる。

【００６７】多官能化合物を併用するとき、たとえばポ
リカーボネートの溶融粘度をあげる目的では、多官能化
合物は、芳香族ジヒドロキシ化合物に１モルに対して
０．０３モル以下、好ましくは０．００００５〜０．０
２モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．０１モル
の範囲で選択される。

【００６８】本発明におけるポリカーボネートを製造す
る方法において、前述したホスゲン法では、触媒として
３級アミン、４級アンモニウム塩、３級ホスフィン、４
級ホスホニウム塩、含窒素複素環化合物及びその塩、イ
ミノエーテルおよびその塩、アミド基を有する化合物な
どが使用される。

【００６９】このホスゲン法では反応の際生じる塩酸な
どのハロゲン化水素の捕捉剤として多量のアルカリ金属
化合物あるいはアルカリ土類金属化合物が使用されるの
で、製造後のポリマー中に、こうした不純物が残留しな
いように十分な洗浄、精製をする事が好ましい。

【００７０】溶融重合法、固相重合法では触媒系として
は、アルカリ金属化合物を含有する触媒系が好ましく使
用されるが、アルカリ金属としてのその使用量を芳香族
ジヒドロキシ化合物１モルに対し１＊１０^-8から５＊１
０^-6当量に押さえておく事が重要である。

【００７１】ポリカーボネート樹脂中の触媒系由来のア
ルカリ金属元素量をかかる量範囲において使用すること
によりポリカーボネートの製造を効率的に生産性よく実
施しうるとともに得られたポリカーボネートの物性も本
発明の目的を達成するために好ましいものとなる。

【００７２】触媒として本発明に使用されるアルカリ金
属化合物としては、たとえばアルカリ金属の水酸化物、
炭化水素化合物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、
亜硫酸塩、シアン酸塩チオシアン酸塩、ステアリン酸
塩、水素化硼素塩、安息香酸塩燐酸水素化物、ビスフェ
ノール、フェノールの塩等が挙げられる。

【００７３】具体例としては水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸
水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム、酢酸ナトリ
ウム、酢酸カリウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、
硝酸カリウム、硝酸ルビジウム、硝酸リチウム、亜硝酸
ナトリウム、亜硝酸カリウム、亜硝酸ルビジウム、亜硝
酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫
酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カリウム、
シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、チオシア
ン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、チオシアン酸セ
シウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウ
ム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸セシウム、水
素化ホウソナトリウム、水素化ホウソカリウム、水素化
ホウソリチウム、フェニル化硼素ナトリウム、安息香酸
ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸リチウム、リ
ン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジカリウム、リン酸
水素ジリチウム、ビスフェノールＡのジナトリウム塩、
ジカリウム塩、ジリチウム塩、モノナトリウム塩、モノ
カリウム塩、ナトリウムカリウム塩、ナトリウムリチウ
ム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウ
ム塩などが挙げられる。

【００７４】触媒として使用されるアルカリ金属化合物
は、芳香族ジヒドロキシ化合物１モルに対し、アルカリ
金属元素として１＊１０^-8〜５＊１０^-6当量の範囲で使
用される。上記範囲を逸脱すると、得られるポリカーボ
ネートの諸物性に悪影響及ぼしたり、またエステル交換
反応が十分に進行せず、高分子量のポリカーオネートが
得られない等の問題があり、好ましくない。

【００７５】又触媒として含窒素塩基性化合物、及び／
又は含りん塩基性化合物を併用するのが好ましい。

【００７６】これらのうち含窒素塩基性化合物の具体例
としてはたとえばテトラメチルアンモニウムヒドロキシ
ド（Ｍｅ₄ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロ
キシド（Ｅｔ₄ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒ
ドロキシド（Ｂｕ₄ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアン
モニウムヒドロキシド（φ−ＣＨ₂（Ｍｅ）₃ＮＯＨ）、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなど
のアルキル、アリール、アルキルアリール基などを有す
るアンモニウムヒドロキシド類、テトラメチルアンモニ
ウムアセテート、テトラエチルアンモニウムフェノキシ
ド、テトラブチルアンモニウム炭酸塩、ベンジルトリメ
チルアンモニウム安息香酸塩ヘキサデシルトリメチルア
ンモニウムエトキシドなどのアルキル、アリール、アル
キルアリール基などを有する塩基性アンモニウム塩、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルベンジル
アミン、ヘキサデシルジメチルアミンなどの第三級アミ
ン、あるいはテトラメチルアンモニウムボロハイドライ
ド（Ｍｅ₄ＮＢＨ₄）、テトラブチルアンモニウムボロハ
イドライド（Ｂｕ₄ＮＢＨ₄）、テトラブチルアンモニウ
ムテトラフェニルボレート（Ｂｕ₄ＮＢＰｈ₄）、テトラ
メチルアンモニウムトラフェニルボレート（Ｍｅ₄ＮＢ
Ｐｈ₄）などの塩基性塩などを挙げることができる。

【００７７】また含リン塩基性化合物の具体例としては
たとえばテトラメチルホスホニウムヒドロキシド（Ｍｅ
₄ＰＯＨ）、テトラエチルホスホニウムヒドロキシド
（Ｅｔ₄ＰＯＨ）、テトラブチルホスホニウムヒドロキ
シド（Ｂｕ₄ＰＯＨ）、ベンジルトリメチルホスホニウ
ムヒドロキシド（φ−ＣＨ₂（Ｍｅ）₃ＰＯＨ）、ヘキサ
デシルトリメチルホスホニウムヒドロキシドなどのアル
キル、アリール、アルキルアリール基などを有するホス
ホニウムヒドロキシド類、あるいはテトラメチルホスホ
ニウムボロハイドライド（Ｍｅ₄ＰＢＨ₄）、テｔラブチ
ルホスホニウムボロハイドライド（Ｂｕ₄ＰＢＨ₄）、テ
トラブチルホスホニウムテトラフェニルボレート（Ｂｕ
₄ＰＢＰｈ₄）、テトラメチルホスホニウムトラフェニル
ボレート（Ｍｅ₄ＰＢＰｈ₄）などの塩基性塩などを挙げ
ることができる。

【００７８】上記含窒素塩基性化合物及び／又は含リン
塩基性化合物は、塩基性窒素原子あるいは塩基性リン原
子が芳香族ジヒドロキシ化合物、１モルに対し、１＊１
０^-5〜５＊１０^-4当量となる割合で用いるのが好まし
い。

【００７９】より好ましい使用割合は同じ基準に対し２
＊１０^-5〜５＊１０^-4当量となる割合である。特に好ま
しい割合は同じ基準に対し５＊１０^-5〜４＊１０^-4当量
となる割合である。

【００８０】又本発明においては所望により触媒として
使用するアルカリ金属化合物として、（ア）周期律表第
１４族元素のアート錯体アルカリ金属塩又は（イ）周期
律表第１４族元素のオキソ酸のアルカリ金属塩を用いる
ことができる。ここで周期律表第１４族の元素とは、ケ
イ素、ゲルマニウム、スズのことをいう。かかるアルカ
リ金属化合物を重縮合反応の触媒として用いることによ
り、重縮合反応を迅速にかつ十分に進めることができる
利点を有する。

【００８１】又重縮合反応中に進行する分岐反応のよう
な好ましくない副反応を低いレベルに押さえることがで
きる。

【００８２】本発明の重縮合反応には、上記触媒といっ
しょに、必要により周期律表第１４属元素のオキソ酸、
酸化物および同元素のアルコキシド、フェノキシドより
成る群から選ばれるすくなくとも、一種の化合物を助触
媒として共存させることができる。

【００８３】これらの助触媒を特定の割合で用いること
により末端の封鎖反応、重縮合反応速度を損なうことな
く重縮合反応中に生成しやすい分岐反応、主鎖開裂反応
や、成形加工時における装置内での異物の生成、焼けと
いった好ましくない現象を効果的に抑止でき本発明の目
的に好ましい。

【００８４】本発明芳香族ポリカーボネート樹脂におい
て、末端水酸基濃度が１００ｅｑ／ｔｏｎ以下であり、
さらに溶融粘度安定性０．５％以下のものが使用され
る。溶融粘度安定性とは短期間での溶融粘度の変化率で
あり、溶融粘度の変化の絶対値を特定時間測定したとき
の１分当たりの変化率で表される。溶融粘度安定性は小
さい値ほど好ましく、好ましくは０．３％以下さらに好
ましくは０．１％以下特に好ましくは０である。

【００８５】さらに本発明の目的を達成する好ましい実
施態様においては上記芳香族ポリカーボネート樹脂にお
いて、末端水酸基濃度が少なくとも８０ｅｑ／ｔｏｎ以
下、さらに好ましくは３〜６０ｅｑ／ｔｏｎ、さらに好
ましくは５〜５０ｅｑ／ｔｏｎとすることが好ましい。

【００８６】ＯＨ末端基濃度を上記範囲内にするには、
ホスゲン法においては分子量調節剤として使用される末
端封止剤により必然的に上記範囲内に収まるが、反応プ
ロセスの特徴上、ＯＨ末端基が多く生成する溶融重合
法、あるいは固相重合法においては、特別のＯＨ末端基
減少策を講じる必要がある。

【００８７】例えば、１）重合原料仕込みモル比制御
法；重合反応仕込み時のＤＰＣ／ＢＰＡモル比を高める
ことにより、たとえば重合反応装置の特徴を考え１．０
３から１．１０の間に設定する。

【００８８】あるいは、２）重合反応収量時点において
例えば、米国特許公報５６９６２２２号記載の方法に従
い、サリチル酸エステル系化合物によりＯＨ末端基を封
止することにより達成される。

【００８９】サリチル酸エステル系化合物の使用量は封
止反応前の末端ＯＨ基、１化学当量当たり０．８〜１０
モル、より好ましくは０．８〜５モル、特に好ましくは
０．９〜２モルの範囲である。かかる量比で添加するこ
とにより、末端ＯＨ基の８０％以上を好適に封止するこ
とができる。又本封止反応を行う時、上記特許記載の触
媒を使用するのが好ましい。

【００９０】これらサリチル酸エステルとしては具体的
には；２−メトキシカルボニルフェニル−フェニルカー
ボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−２’−メ
チルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフ
ェニル−４’−エチルフェニルカーボネート、２−メト
キシカルボニルフェニル−３’−ブチルフェニルカーボ
ネート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−ドデ
シルフェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフ
ェニル−４’−ヘキサデシルフェニルカーボネート、２
−メトキシカルボニルフェニル−２’，４’−ジブチル
フェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニ
ル−ジノニルフェニルカーボネート、２−メトキシカル
ボニルフェニル−シクロヘキシルフェニルカーボネー
ト、２−メトキシカルボニルフェニル−ビフェニルカー
ボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−クミルフ
ェニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル
−２’−メトキシフェニルカーボネート、２−メトキシ
カルボニルフェニル−４’−ブトキシフェニルカーボネ
ート、２−メトキシカルボニルフェニル−４’−クミル
オキシフェニルカーボネート、ジ（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）カーボネート、２−メトキシカルボニル
フェニル−２−エトキシフェニルカーボネート、２−メ
トキシカルボニルフェニル−２’−（Ｏ−メトキシカル
ボニルフェニル）オキシクミルフェニルカーボネートの
ごとき２−メトキシカルボニルフェニルアリールカーボ
ネート類、２−メトキシカルボニルフェニル−メチルカ
ーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−ブチル
カーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−セチ
ルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル−ラ
ウリルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニル
−２’−エトキシカルボニルエチルカーボネート、２−
メトキシカルボニルフェニル−２’−（Ｏ−メトキシカ
ルボニルフェニル）オキシカルボニルエチルカーボネー
トのごとき２−メトキシカルボニルフェニル−アルキル
カーボネート類、２−エトキシカルボニルフェニル−フ
ェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル
−プロピルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボ
ニルフェニル−ヘキシルフェニルカーボネート、２−エ
トキシカルボニルフェニル−ジブチルフェニルカーボネ
ート、２−エトキシカルボニルフェニル−ジノニルフェ
ニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−
シクロヘキシルフェニルカーボネート、２−エトキシカ
ルボニルフェニル−クミルフェニルカーボネート、２−
エトキシカルボニルフェニル−４’−エトキシカルボニ
ルフェニルカーボネート、２−エトキシカルボニルフェ
ニル−４’−クミルオキシフェニルカーボネート−２−
エトキシカルボニルフェニル−カーボネート、ジ（２−
エトキシカルボニルフェニル）カーボネートのごとき２
−エトキシカルボニルフェニル−アリールカーボネート
類、２−エトキシカルボニルフェニル−メチルカーボネ
ート、２−エトキシカルボニルフェニル−オクチルカー
ボネート、２−エトキシカルボニルフェニル−２’−メ
トキシカルボニルエチルカーボネート、２−エトキシカ
ルボニルフェニル−カーボネート、２−エトキシカルボ
ニルフェニル−２−（Ｏ−エトキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニルエチルカーボネートのごとき２−
エトキシカルボニルフェニル−アルキルカーボネート
類、（２−メトキシカルボニルフェニル）ベンゾエー
ト、（２−メトキシカルボニルフェニル）−４−メチル
ベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニル）−
４−ブチルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフ
ェニル）−４−クミルベンゾエート、（２−メトキシカ
ルボニルフェニル）−４−ブトキシベンゾエート、（２
−メトキシカルボニルフェニル）−２−メトキシカルボ
ニルベンゾエート、（２−メトキシカルボニルフェニ
ル）−４−メトキシカルボニルベンゾエート、（２−メ
トキシカルボニルフェニル）−４−エトキシカルボニル
ベンゾエート、３−（Ｏ−メトキシカルボニルフェニ
ル）オキシカルボニル安息香酸（２’−メトキシカルボ
ニルフェニル）エステル、４−（Ｏ−エトキシカルボニ
ルフェニル）オキシカルボニル安息香酸（２’−メトキ
シカルボニルフェニル）エステルのごとき、芳香族カル
ボン酸の（２’−メトキシカルボニルフェニル）エステ
ル、（２−エトキシカルボニルフェニル）ベンゾエー
ト、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−メチル
ベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−
４−ブチルベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフ
ェニル）−４−ノニルベンゾエート、（２−エトキシカ
ルボニルフェニル）−４−クミルベンゾエート、（２−
エトキシカルボニルフェニル）−４−メトキシベンゾエ
ート、（２−エトキシカルボニルフェニル）−４−ノニ
ルオキシベンゾエート、（２−エトキシカルボニルフェ
ニル）−４−クミルオキシベンゾエート、（２−エトキ
シカルボニルフェニル）−４−エトキシカルボニルベン
ゾエートのごとき芳香族カルボン酸の（２’−エトキシ
カルボニルフェニル）エステル、（２−メトキシカルボ
ニルフェニル）アセテート、（２−メトキシカルボニル
フェニル）ステアレート、（２−メトキシカルボニルフ
ェニル）オレート、（２−エトキシカルボニルフェニ
ル）シクロヘキサンカルボン酸エステル、ビス（２−メ
トキシカルボニルフェニル）サクシネート、ビス（２−
メトキシカルボニルフェニル）アジペートのごとき脂肪
族カルボン酸エステルが挙げられる。

【００９１】本発明ポリカーボネートは溶融粘度安定性
０．５％以下のものが好ましく使用されるが、ポリカー
ボネートの溶融粘度安定性を０．５％以下にするために
は、重縮合反応後、より好ましくは、末端封止反応終了
後のポリカーボネート樹脂に対し溶融粘度安定剤（Ｄ）
を特定量を添加すること等により達成しうる。溶融粘度
安定性の劣ったポリカーボネート樹脂においては、成形
加工時の安定性不良に加えて、高湿条件化および成型品
の長期使用時の機械的物性の安定性不良とりわけ耐衝撃
性の悪化＝低下が著しく、実用性に耐えないものとなっ
てしまう。

【００９２】本発明で使用する溶融粘度安定剤は、特開
平８−５９９７５号公報記載のように、（Ｄ）−１のス
ルホン酸ホスホニウム塩、アンモニウム塩及び／又は
（Ｄ）−２のスルホン酸、及びあるいはスルホン酸低級
エステルが使用できる。

【００９３】かかる溶融粘度安定剤は、ホスゲン法で製
造されたポリカーボネートに対しても有効であるが、特
に溶融重合法、あるいは固相重合法で製造したポリカー
ボネートに対し、ポリカーボネート樹脂中残存する塩基
性アルカリ金属化合物、すなわち塩基性アルカリ金属化
合物触媒のアルカリ金属元素、１化学当量あたり、
（Ｄ）−１の化合物においては０．７〜１００化学当量
を好ましくは０．８〜３０化学当量を、さらに好ましく
は、０．９〜２０化学当量を、特に好ましくは０．９〜
１０化学当量を使用する。

【００９４】（Ｄ）−２の化合物においては０．７〜２
０化学当量、好ましくは０．８〜１０化学当量を、さら
に好ましくは０．９〜５化学当量使用することにより、
ポリカーボネート樹脂の溶融粘度安定性を０．５％以下
に押さえることができる。（Ｄ）−２の溶融粘度安定剤
を使用した場合、溶融粘度安定処理を施した、ポリカー
ボネート樹脂に対し減圧処理を加えるのが、好ましい。

【００９５】かくして得られるポリカーボネート樹脂
は、優れた安定性、成形加工時の滞留安定性を有し、熱
的、色相安定性がとりわけ良好で他の耐熱安定剤を添加
しなくても、耐熱安定性が良好で、たとえば金型汚れを
低減できる利点を有する。本発明ポリカーボネート樹脂
は特にレンズ、光ディスクなどの光学用に好適である。

【００９６】本発明のポリカーボネート樹脂は耐熱安定
剤他の安定剤を添加する必要はないが、本発明の目的を
損なわない限り、所望により以下のごとき通常の耐熱安
定剤を添加することができる。かかる安定剤としては具
体的には、たとえばリン系安定剤、フェノール系安定
剤、有機チオエーテル系安定剤、ヒンダードアミン系安
定剤などを挙げることができる。

【００９７】さらに本発明で使用する離型剤としては従
来公知の一般的なものが良好に使用できる。例えば脂肪
族カルボン酸とアルコールよりなる脂肪酸エステル系離
形剤が好ましく使用できる。

【００９８】本発明所望の目的を達成するため従来公知
の各種添加剤を使用できる。例えば光安定剤、紫外線吸
収剤、クエンチャー、金属不活性化剤、金属石鹸、造核
剤、帯電防止剤、難燃剤が挙げられる。また本発明の樹
脂においては所望により有機、あるいは無機の、染料、
顔料等の着色剤を使用できる。

【００９９】

【実施例】以下本発明を実施例により説明するが、本発
明は、これらの実施例に限定されるものではない。

【０１００】［分析］ １）ポリカーボネートの固有粘度［η］；塩化メチレン
中、２０℃ウベローデ粘度管にて測定した。固有粘度よ
り粘度平均分子量は字式より計算した。 〔η〕＝１．２３ＭＷ^0.83

【０１０１】２）末端基濃度；サンプル、０．０２ｇを
０．４ｍｌのクロロホルムに溶解し、２０℃で１Ｈ−Ｎ
ＭＲ（日本電子社製ＥＸ−２７０）を用いて、末端水酸
基、（Ａ）構造末端基及び末端フェニル基濃度を測定し
た。

【０１０２】３）溶融粘度安定性；レオメトリックス社
のＲＡＡ型流動解析装置を用い窒素気流下、剪断速度１
ｒａｄ／ｓｅｃ．３００℃で測定した溶融粘度の変化の
絶対値を３０分間測定し、１分当たりの変化率を求め
た。ポリカーボネート樹脂組成物の長期安定性が良好で
あるためには、この値が０．５％を超えてはならない。

【０１０３】４）湿熱耐久性；（耐衝撃性：）アイゾッ
ト衝撃強度ＡＳＴＭ Ｄ−７９０（ノッチ付き）によ
る。厚さ１／８インチの試験片を８５℃＊９０％ＲＨの
恒温、恒湿槽中、１０００ｈｒ保持後アイゾット衝撃強
度の保持率を求めた。

【０１０４】５）滞留安定性；５０ｍｍ×５０ｍｍ×５
ｍｍの平板を名機製作所（株）Ｍ５０Ｂ射出成形機によ
りシリンダー温度３５０℃成形サイクル２０秒、金型温
度７５℃、射出圧３００Ｋｇ、型締め力５０トンで成形
した、この成形品につき色相；ＹＩを測定、さらに樹脂
同温度で１５分間シリンダー内に滞留させた後成形を行
い色相ＹＩ、光透過率を測定、滞留前後のＹＩ値の変化
量ΔＹＩを求めた。

【０１０５】平板のＬ／ａ／ｂ値及びＸ，Ｙ，Ｚ値を日
本電色（株）製Ｚ−１００１ＤＰ色差計により測定し
た。ＹＩ値は次式により求めた。

【０１０６】

【数２】ＹＩ＝（１００／Ｙ）＊（１．２７７Ｘ−１．
０６０Ｚ）

【０１０７】ディスク用途（分子量＝約１５０００のも
の）で目視で黄色味をあまり感じないＹＩ値１．５以下
をＯＫとした。初期ＹＩがＯＫでもΔＹＩが大で滞留後
のＹＩが１．５を超えるものはＮＧと判定、汎用グレー
ドではＹＩ値の限界を２．０とした。

【０１０８】６）ゲル生成量；樹脂組成物１０．０ｇを
窒素ガス雰囲気下２８０℃、２４Ｈｒ保持した。該サン
プルを塩化メチレン２Ｌに溶解、得られた溶液を１０ミ
クロンフィルターで濾過、フィルター上のゲル状異物個
数（波長３６５ｎｍのブラックライトで照射で蛍光を発
したもののうち、ＦＴーＩＲでプロティン、綿糸等を除
いたもの）を測定。ゲル状異物の個数は１００個以下の
ロットをＯＫと判定した。

【０１０９】７）−ア）ディスクの成形性；金型汚れ； （ＤＶＤ基板の作成）得られたポリカーボネート組成物
ペレットを使用し、東芝機械社製ＩＳ８０ＥＰＮ、成形
機を使用し、 型締め力；５０トン、 射出速度；２５０ＣＭ³／秒、 射出圧力；１５００Ｋｇ／ＣＭ²； 金型材質；ジュラルミン２０２４； 成形温度；３８０℃、 金型温度；１１５℃ 冷却時間；５秒 キャビティ部；無電解ニッケルメッキ の条件で径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのＤＶＤ基板１
０Ｋ枚を作成した。なお成形時スプルー部とディスクが
切断され成形機内にスプルー部が残った組成物ロットは
成形性不良、と判断した。

【０１１０】金型汚れ性１０Ｋ枚成形時スタンパの汚れ
を目視、判定した。 ◎；良好汚れ認めがたし ○；良好汚れ極めて小 △；不良汚れやや認められる ×；不良汚れ明瞭に認められる

【０１１１】７）−イ） 汎用グレード品の成形性、及金型汚れ性；５０ｍｍ×５
０ｍｍ×５ｍｍの平板を名機製作所（株）Ｍ５０Ｂ射出
成形機によりシリンダー温度２８０℃成形サイクル２０
秒、金型温度７５℃、射出圧３００Ｋｇ、型締め力５０
トンで１Ｋショット成形した、この時成形品が金型より
良好に離型ロットをＯｋロットと判定した。又金型汚れ
性については１Ｋ枚成形時金型の汚れを目視判定した。 ◎；良好汚れ認めがたし ○；良好汚れ極めて小 △；不良汚れやや認められる ×；不良汚れ明瞭に認められる

【０１１２】［ポリマーの製造例１：実施例１〜３、比
較例１，２］ホスゲン吹き込み管、温度計及び攪拌機を
設けた、容量５００ｌの反応槽に、ビスフェノールＡ、
５０、２８０ｇ（２２１モル）、７．２％水酸化ナトリ
ウム水溶液、２２１Ｌ（水酸化ナトリウム４１９モル）
及び、ハイドロサルファイトナトリウム、９８ｇ（０。
５６モル）を仕込んで溶解し、攪拌下、塩化メチレン、
１２７Ｌ及び４８．５％水酸化ナトリウム水溶液、８０
７０ｇ（水酸化ナトリウム、９８モル）を加えた後、ホ
スゲン、２５、０８０ｇ（２５．３モル）を２５℃で１
８０分かけて加え、ホスゲン化反応を行った。

【０１１３】ホスゲン化終了後ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール、１７５１ｇ（１１．７モル）、及び４８．５
％水酸化ナトリウム水溶液、８、０４０ｇ（９７モル）
及び触媒としてトリエチルアミン、１８１ｍｌ（１．３
モル）を加え、３３℃に保持し、２時間攪拌して反応を
終了させた。反応混合液より、塩化メチレン層を分離
し、水洗を５回繰り返し精製して、粘度平均分子量１
５，３００のポリカーボネート樹脂を得た。該ポリカー
ボネート１００重量部中、下記表１中に記載の種類、添
加量のラクトン系安定剤及びトリス（２，４ジ−ｔ−ブ
チルフェニル）フォスファイト；５＊１０−３重量部及
びペンタエリスリチル−テトラキステアレート５＊１０
−２重量部を添加、１軸押し出し機で混練ペレット化し
た。このポリマーの物性を表１中に示す。

【０１１４】［ポリマーの製造例２：実施例４、比較例
３］ホスゲン吹き込み管、温度計及び攪拌機を設けた、
容量５００ｌの反応槽に、ビスフェノールＡ５０、２８
０ｇ（２２１モル）、７．２％水酸化ナトリウム水溶
液、２２１Ｌ（水酸化ナトリウム４１９モル）及び、ハ
イドロサルファイトナトリウム、９８ｇ（０．５６モ
ル）を仕込んで溶解し、攪拌下、塩化メチレン、１２７
Ｌ及び４８．５％水酸化ナトリウム水溶液、８、０７０
ｇ（水酸化ナトリウム９８モル）を加えた後、ホスゲ
ン、２５、０８０ｇ（２５３モル）を２５℃で１８０分
かけて加え、ホスゲン化反応を行った。

【０１１５】ホスゲン化終了後ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフ
ェノール、９３０ｇ（６．２モル）、及び４８．５％水
酸化ナトリウム水溶液、８、０４０ｇ（９７モル）及び
触媒としてトリエチルアミン、１８１ｍｌ（１．３モ
ル）を加え、３３℃に保持し２時間攪拌して反応を終了
させた。反応混合液より、塩化メチレン層を分離し、水
洗を５回繰り返し精製して、粘度平均分子量２５，１０
０のポリカーボネート樹脂を得た。該ポリカーボネート
１００重量部中、表中種類、添加量記載のラクトン系安
定剤及びトリス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）フォ
スファイト；１＊１０^-2重量部及びペンタエリスリチル
−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオネート〕５＊１０^-2重量部
を添加１軸押し出機で混練ペレット化した。このポリマ
ーの物性を表１中に示す。

【０１１６】［ポリマーの製造例３：比較例４］ポリマ
ーの製造例２において重合後、水洗を回数を３回とした
以外同様の処理を行ったところ溶融粘度安定性０．８％
のポリカーボネートが得られた。（ちなみに該ポリカー
ボネート中イオンクロマト分析の結果、ＮａイオンがＰ
Ｃ繰り返し単位１モル当たり１１＊１０^-6含有されてい
た。）

【０１１７】［ポリマーの製造例４：実施例５］ポリマ
ーの製造例４においては、上記安定剤のほかに該ポリマ
ー１００重量部当たりドデシルベンゼンスルホン酸テト
ラブチルホスホニウム塩（以下ＤＢＳＰと略称）３＊１
０^-3重量部を添加、混練ペレット化した。結果を表１中
に示す。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】ｐ−１；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイト ｆ−１；ペンタエリスリチル−テトラキス［３−（３，
５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ
オネート］ ０−１；ペンタエリスリチルテトラステアレート

【０１２０】［ポリマーの製造例５、６：実施例６〜１
３、比較例５〜１０］ビスフェノールＡ２２．８Ｋｇ，
ジフェニルカーボネート２２．０Ｋｇと重合触媒として
ＮａＯＨ；０．００４ｇ、テトラメチルアンモニウムヒ
ドロキシド；０．９１ｇを攪拌装置，蒸留塔及及び、減
圧装置を備えた反応槽に仕込み、窒素置換した後、１４
０℃で溶解した。３０分間攪拌後、内温を１８０℃に昇
温し，内圧１００ｍｍＨｇで３０分間反応させ、生成す
るフェノールを溜去した。

【０１２１】ついで内温を２００℃に昇温しつつ徐々に
減圧し５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを溜去しつつ
反応させた。さらに２２０℃、３０ｍｍＨｇまで徐々に
昇温、減圧し、同温度、同圧力条件下で３０分間反応さ
せ、この時点で反応系にポリマー１００重量部当たり表
２、３中記載の所定量のラクトン系安定剤を添加した。

【０１２２】さらに２４０℃、１０ｍｍＨｇ、２６０
℃、１ｍｍＨｇ、２６０℃、１ｍｍＨｇ以下にまで上記
と同じ手順で昇温、減圧を繰り返し反応を続行した。

【０１２３】最終的に同温、同圧で重合反応を継続し重
合反応装置の攪拌電力より判断し、ポリカーボネートの
粘度平均分子量が１５３００（ポリマーの製造例５）、
あるいは２５１００（ポリマーの製造例６）に成った時
点で、ポリマーの一部を採取し粘度平均分子量、末端水
酸基濃度を測定しつつ粘度平均分子量１５３００（ＯＨ
末端基濃度１１０ｅｑ／ｔｏｎｎ）、２５１００の（Ｏ
Ｈ末端基濃度７０ｅｑ／ｔｏｎｎ）樹脂を製造した。前
者はディスク成形用途に、後者は一般成形品用として、
評価した。

【０１２４】［末端封止反応、触媒不活性化］該ポリカ
ーボネート１００重量部当たり表中記載量の末端封止剤
（２−メトキシカルボニルフェニル−フェニル−カーボ
ネート；以下ＳＡＭ−ＤＰＣと略称する。）を常圧下２
７０℃で添加した。その後２７０℃、１ｍｍＨｇ以下で
５分間末端封止反応を継続した。その後表中の溶融粘度
安定化剤ＤＢＳＰ；３．４＊１０^-4重量部（Ｎａ触媒の
１．５倍当量）を添加し．同温，同圧にて１０分間混合
攪拌し，触媒を失活、不活性化した。得られたポリカー
ボネートの粘度平均分子量、末端水酸基濃度、溶融粘度
安定性を表２、３中に示す。

【０１２５】［安定剤の添加］上記ポリマー１００重量
部当たりポリマーの製造例５においては、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、５＊１
０^-3重量部及びペンタエリスリチルテトラステアレー
ト、５＊１０−２重量部を、又参考例６においてはトリ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイ
ト；１＊１０^-2重量部及びペンタエリスリチル−テトラ
キス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート〕、５＊１０^-2重量部を添加
し２軸ルーダーで押し出しチップ化した。

【０１２６】［ポリマーの製造例７、８：実施例１４］
ポリマーの製造例５においてＤＢＳＰを使用しないもの
をポリマーの製造例７、又ポリマーの製造例６において
ＮａＯＨを０．０２８ｇ（７＊１０^-6ｅｑ／１モル芳香
族ジヒドロキシ化合物）使用したものをポリマーの製造
例８とした。なおこの時ＤＢＳＰ使用量は、ポリカーボ
ネート１００重量部当たり２．４＊１０^-3重量部（Ｎａ
触媒の１．５倍化学当量）を使用した。ポリマーの粘度
平均分子量は２５１００、末端ＯＨ基濃度は７５ｅｑ／
ｔｏｎｎであった。

【０１２７】

【表２】

【０１２８】ｐ−１；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイト ０−１；ペンタエリスリチルテトラステアレート

【０１２９】

【表３】

【０１３０】ｐ−１；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチル
フェニル）フォスファイト ０−１；ペンタエリスリチルテトラステアレート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 影山 裕一 山口県岩国市日の出町２番１号 帝人株式 会社岩国研究センター内 (72)発明者 佐々木 勝司 山口県岩国市日の出町２番１号 帝人株式 会社岩国研究センター内 Ｆターム(参考） 4J002 CG011 CG021 CG031 EL076 FD036 GP01

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネー
   ト結合形成性化合物とを重合反応して成る、主たる繰り
   返し単位が次式（１） 【化１】 （Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、炭素
   数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又はアリール基
   であり、Ｗは炭素数１〜１０のアルキリデン基、アルキ
   レン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、
   アリール基置換アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ス
   ルホキシド基、またはスルホン基である。）で表わされ
   る粘度平均分子量１３，０００〜１００，０００、溶融
   粘度安定性０．５％以下、且つ末端ＯＨ基量１００ｅｑ
   ／ｔｏｎ以下の芳香族ポリカーボネート１００重量部
   と、次式（Ａ）で表わされるラクトン系安定剤； 【化２】 （式中Ｒ⁵，Ｒ⁶は水素原子及び／又は、炭素数１〜１０
   のアルキル基を表し、ＡＲは置換基を有していてもよい
   炭素数６〜２０の芳香族基を表わす。） ０．０００１〜５重量部とからなることを特徴とする安
   定性に優れた芳香族ポリカーボネート組成物。
2. 【請求項２】 上記芳香族ポリカーボネートが、塩基性
   エステル交換触媒により溶融重縮合されたものであり、
   該塩基性エステル交換触媒が、塩基性窒素化合物及び／
   又は塩基性リン化合物とアルカリ金属化合物とを含有
   し、該アルカリ金属化合物を、アルカリ金属元素とし
   て、芳香族ジヒドロキシ化合物１モル当たり１＊１０^-8
   〜５＊１０^-6当量含有することを特徴とする請求項１記
   載の安定性に優れた芳香族ポリカーボネート組成物。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の上記芳香族ポ
   リカーボネート組成物の射出成形品。
4. 【請求項４】 芳香族ジヒドロキシ化合物とカーボネー
   ト結合形成性化合物とを重合反応して成る、主たる繰り
   返し単位が次式（１） 【化３】 （Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³，Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子、炭素
   数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又はアリール基
   であり、Ｗは炭素数１〜１０のアルキリデン基、アルキ
   レン基、シクロアルキリデン基、シクロアルキレン基、
   アリール基置換アルキレン基、酸素原子、硫黄原子、ス
   ルホキシド基、またはスルホン基である。）で表わされ
   る芳香族ポリカーボネート１００重量部と、次式（Ａ）
   で表わされるラクトン系安定剤； 【化４】 （式中Ｒ⁵，Ｒ⁶は水素原子及び／又は、炭素数１〜１０
   のアルキル基を表し、ＡＲは置換基を有していてもよい
   炭素数６〜２０の芳香族基を表わす。） ０．０００１〜５重量部との芳香族ポリカーボネート組
   成物の製造方法であって、該芳香族ポリカーボネートの
   重合反応中に、上記ラクトン系安定剤を添加することを
   特徴とする芳香族ポリカーボネート組成物の製造方法。