JP2000208364A - コンデンサ用積層体の製造装置 - Google Patents
コンデンサ用積層体の製造装置Info
- Publication number
- JP2000208364A JP2000208364A JP876399A JP876399A JP2000208364A JP 2000208364 A JP2000208364 A JP 2000208364A JP 876399 A JP876399 A JP 876399A JP 876399 A JP876399 A JP 876399A JP 2000208364 A JP2000208364 A JP 2000208364A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporated
- crucible
- evaporation source
- supplied
- electron beam
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- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンデンサ用積層体の製造装置ではルツボの
湯面レベルの変化により蒸着膜厚が変動していたため長
時間安定した蒸着ができなかった。本発明はかかる問題
を解決する事を目的としたものである。 【解決手段】 ワイヤー状もしくは棒状の被蒸着材料を
速度制御し供給する装置を有し、且つ被蒸着材料の入射
角が調整できる機構とし、ルツボの輻射熱または反射電
子で溶解しながら供給する事を特徴とした真空蒸着装
置。
湯面レベルの変化により蒸着膜厚が変動していたため長
時間安定した蒸着ができなかった。本発明はかかる問題
を解決する事を目的としたものである。 【解決手段】 ワイヤー状もしくは棒状の被蒸着材料を
速度制御し供給する装置を有し、且つ被蒸着材料の入射
角が調整できる機構とし、ルツボの輻射熱または反射電
子で溶解しながら供給する事を特徴とした真空蒸着装
置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空中で誘電体と
電極となる金属薄膜電極を積層構造で形成させるコンデ
ンサ用積層体の製造装置に関するものである。
電極となる金属薄膜電極を積層構造で形成させるコンデ
ンサ用積層体の製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のフィルムコンデンサ用電極形成
は、真空中で高周波誘導加熱または、エレクトロンビー
ムによりルツボ内の被蒸発物を溶解、蒸発させ、搬送さ
れてくるウエブ状のフィルム等に連続蒸着する真空蒸着
方式が用いられている。
は、真空中で高周波誘導加熱または、エレクトロンビー
ムによりルツボ内の被蒸発物を溶解、蒸発させ、搬送さ
れてくるウエブ状のフィルム等に連続蒸着する真空蒸着
方式が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この種の真空蒸着装置
では誘電体となるサブストレートに蒸発させた金属を蒸
着させる方式が一般的である。従来の方式ではサブスト
レートに蒸着した金属膜厚を抵抗値や光透過量を測定
し、蒸着中に蒸発源の出力コントロールにより膜厚が一
定になるように制御していた。コンデンサ用積層体の製
造装置では誘電体の上に金属薄膜を形成し、それを連続
的に繰り返し積層体とするため、積層中の金属膜厚を計
測することが困難であり、ルツボからの蒸発量を長時間
一定レベルに安定化させる必要があった。長時間安定蒸
着する時、ルツボ方式の場合、蒸着開始時と終わりでの
ルツボ湯面のレベルや状態が変化するに伴い膜厚が変動
する為、膜厚を一定にするには作業者によりルツボ投入
パワーを可変させる必要があった。またルツボ方式の蒸
発源の場合、ルツボ容積により蒸着時間が規制される
為、長時間の蒸着を行なうには被蒸発物を蒸発源に供給
する必要があった。この時、固形の被蒸発物を直接ルツ
ボ内に投入すると溶解した被蒸発物の湯温と供給された
被蒸発物との温度差が大きい為、スプラッシュ等の異常
が発生していた。
では誘電体となるサブストレートに蒸発させた金属を蒸
着させる方式が一般的である。従来の方式ではサブスト
レートに蒸着した金属膜厚を抵抗値や光透過量を測定
し、蒸着中に蒸発源の出力コントロールにより膜厚が一
定になるように制御していた。コンデンサ用積層体の製
造装置では誘電体の上に金属薄膜を形成し、それを連続
的に繰り返し積層体とするため、積層中の金属膜厚を計
測することが困難であり、ルツボからの蒸発量を長時間
一定レベルに安定化させる必要があった。長時間安定蒸
着する時、ルツボ方式の場合、蒸着開始時と終わりでの
ルツボ湯面のレベルや状態が変化するに伴い膜厚が変動
する為、膜厚を一定にするには作業者によりルツボ投入
パワーを可変させる必要があった。またルツボ方式の蒸
発源の場合、ルツボ容積により蒸着時間が規制される
為、長時間の蒸着を行なうには被蒸発物を蒸発源に供給
する必要があった。この時、固形の被蒸発物を直接ルツ
ボ内に投入すると溶解した被蒸発物の湯温と供給された
被蒸発物との温度差が大きい為、スプラッシュ等の異常
が発生していた。
【０００４】湯面レベルを安定化させ、供給されてくる
被蒸発物を溶解しルツボに供給する方法としては、抵抗
加熱により加熱したボートに被蒸発物を供給し溶解さ
せ、液体化した被蒸発物を供給する方法と、エレクトロ
ンビームを被蒸発物に照射し溶解，供給する方法がある
が、抵抗加熱式の場合は長時間蒸着により設備の絶縁抵
抗が低下、スプラッシュが起き、ピンホールが発生し製
品品質に悪影響を与えていた。エレクトロンビームを使
い被蒸発物を溶解しながらルツボ内に被蒸発物を供給す
る場合は、溶解供給用として新たにエレクトロンビーム
ガンを設置する必要があるため、設備費用が増大すると
いった問題があった。また、ルツボ内に直接ワイヤー
状、もしくはインゴット状の被蒸発物を供給する方法で
は溶解した被蒸発物と供給した被蒸発物との温度差や、
供給される被蒸発物に付着した不純物の影響により湯面
が乱れたり、スプラッシュが発生し製品品質に悪影響を
与えていた。本発明の目的は、係る課題を解決するため
に鑑みたものである。
被蒸発物を溶解しルツボに供給する方法としては、抵抗
加熱により加熱したボートに被蒸発物を供給し溶解さ
せ、液体化した被蒸発物を供給する方法と、エレクトロ
ンビームを被蒸発物に照射し溶解，供給する方法がある
が、抵抗加熱式の場合は長時間蒸着により設備の絶縁抵
抗が低下、スプラッシュが起き、ピンホールが発生し製
品品質に悪影響を与えていた。エレクトロンビームを使
い被蒸発物を溶解しながらルツボ内に被蒸発物を供給す
る場合は、溶解供給用として新たにエレクトロンビーム
ガンを設置する必要があるため、設備費用が増大すると
いった問題があった。また、ルツボ内に直接ワイヤー
状、もしくはインゴット状の被蒸発物を供給する方法で
は溶解した被蒸発物と供給した被蒸発物との温度差や、
供給される被蒸発物に付着した不純物の影響により湯面
が乱れたり、スプラッシュが発生し製品品質に悪影響を
与えていた。本発明の目的は、係る課題を解決するため
に鑑みたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明は高周波もしくはエレクトロンビーム加熱方式
のルツボと、ワイヤー状の被蒸発物を供給するフィード
機構を有し、供給した被蒸発物をルツボからの輻射熱ま
たは反射電子で溶解させるため、被蒸発物の供給量を可
変できる構造とし、且つ溶解した被蒸発物がルツボ内に
溶解状態で供給できる様にルツボに対し所定の角度で被
蒸発物を供給する事を特徴としたものである。
に本発明は高周波もしくはエレクトロンビーム加熱方式
のルツボと、ワイヤー状の被蒸発物を供給するフィード
機構を有し、供給した被蒸発物をルツボからの輻射熱ま
たは反射電子で溶解させるため、被蒸発物の供給量を可
変できる構造とし、且つ溶解した被蒸発物がルツボ内に
溶解状態で供給できる様にルツボに対し所定の角度で被
蒸発物を供給する事を特徴としたものである。
【０００６】
【発明の実施の形態】かかる手段によると、ルツボにワ
イヤー状の被蒸発物を供給する際、湯面からの輻射熱ま
たは反射電子で被蒸発物が溶解する様に供給量を制御
し、溶解した被蒸発物のみがルツボ内に供給される事で
湯面レベルが安定し、且つ、スプラッシュの無い長時間
安定した蒸着を可能とする蒸発源を実現出来る。
イヤー状の被蒸発物を供給する際、湯面からの輻射熱ま
たは反射電子で被蒸発物が溶解する様に供給量を制御
し、溶解した被蒸発物のみがルツボ内に供給される事で
湯面レベルが安定し、且つ、スプラッシュの無い長時間
安定した蒸着を可能とする蒸発源を実現出来る。
【０００７】
【実施例】（実施例１）以下本発明の実施例について、
図面を参照しながら説明する。
図面を参照しながら説明する。
【０００８】図１は本発明を採用したコンデンサ用積層
体の製造装置の内部構造図である。ロール２は積層時の
熱影響を防止するため冷却されており、誘電体蒸発器１
から蒸発したり誘電体がロール２に蒸着される。ロール
２の下部には蒸発源ルツボ４を設置し、誘電体上に金属
被蒸発物が蒸着され、そして誘電体蒸着，金属被蒸発物
の蒸着を繰り返しコンデンサ用積層体が製造される。
体の製造装置の内部構造図である。ロール２は積層時の
熱影響を防止するため冷却されており、誘電体蒸発器１
から蒸発したり誘電体がロール２に蒸着される。ロール
２の下部には蒸発源ルツボ４を設置し、誘電体上に金属
被蒸発物が蒸着され、そして誘電体蒸着，金属被蒸発物
の蒸着を繰り返しコンデンサ用積層体が製造される。
【０００９】図２は本発明を採用したエレクトロンビー
ム加熱方式の蒸発源の構造図である。蒸発源ルツボ４に
はワイヤー状の被蒸発物ｂを連続供給するフィード装置
５を有し蒸発源ルツボ４へ被蒸発物ｂを連続供給する構
造となっている。そして、このフィード装置５は被蒸発
物ｂを定量的にルツボ内に供給する為の速度制御機能を
有している。フィード装置５により供給された被蒸発物
ｂはルツボ周辺でルツボからの輻射熱で溶解されルツボ
湯面上に滴下する。この時、被蒸発物ｂの供給速度が速
い場合、被蒸発物ｂが溶解する前に湯面と接触する為ス
プラッシュが発生し、逆に遅い場合、過度の溶解がおこ
り溶解した被蒸発物ｂが湯面以外の所へ滴下する。
ム加熱方式の蒸発源の構造図である。蒸発源ルツボ４に
はワイヤー状の被蒸発物ｂを連続供給するフィード装置
５を有し蒸発源ルツボ４へ被蒸発物ｂを連続供給する構
造となっている。そして、このフィード装置５は被蒸発
物ｂを定量的にルツボ内に供給する為の速度制御機能を
有している。フィード装置５により供給された被蒸発物
ｂはルツボ周辺でルツボからの輻射熱で溶解されルツボ
湯面上に滴下する。この時、被蒸発物ｂの供給速度が速
い場合、被蒸発物ｂが溶解する前に湯面と接触する為ス
プラッシュが発生し、逆に遅い場合、過度の溶解がおこ
り溶解した被蒸発物ｂが湯面以外の所へ滴下する。
【００１０】これを解決するため、本発明では、フィー
ド装置５は可変速度モータ６とタコジェネレータ７及び
ドライバ８を有し、輻射熱で被蒸発物ｂが溶解するよう
に被蒸発物ｂの供給量を制御した。被蒸発物ｂがワイヤ
ー状である場合、被蒸発物ｂが溶解し滴下すると同時に
熱影響によりワイヤー状の被蒸発物ｂが変形しルツボ以
外の所に落下する問題が発生したが、被蒸発物ｂとルツ
ボとの角度θを５度以上とすることで周囲の熱により被
蒸発物ｂが変形しルツボ以外の所に落下する事を防ぎ係
る問題を解決した。またエレクトロンビーム方式の蒸発
源の場合、エレクトロンビームが湯面にあたり一部が反
射電子となり放出される。この反射電子は供給された被
蒸発部を溶解する事ができるほどエネルギーを持ってお
り、被蒸発物の供給位置を反射電子が飛ぶ方向と合致さ
せることで被蒸発物の溶解供給が可能となる。
ド装置５は可変速度モータ６とタコジェネレータ７及び
ドライバ８を有し、輻射熱で被蒸発物ｂが溶解するよう
に被蒸発物ｂの供給量を制御した。被蒸発物ｂがワイヤ
ー状である場合、被蒸発物ｂが溶解し滴下すると同時に
熱影響によりワイヤー状の被蒸発物ｂが変形しルツボ以
外の所に落下する問題が発生したが、被蒸発物ｂとルツ
ボとの角度θを５度以上とすることで周囲の熱により被
蒸発物ｂが変形しルツボ以外の所に落下する事を防ぎ係
る問題を解決した。またエレクトロンビーム方式の蒸発
源の場合、エレクトロンビームが湯面にあたり一部が反
射電子となり放出される。この反射電子は供給された被
蒸発部を溶解する事ができるほどエネルギーを持ってお
り、被蒸発物の供給位置を反射電子が飛ぶ方向と合致さ
せることで被蒸発物の溶解供給が可能となる。
【００１１】これらの実施例によりルツボ湯面が一定レ
ベルにコントロール可能であり、蒸着膜厚が安定化し蒸
着時間の延長と蒸着時におけるルツボパワー調整が簡素
化できた。本発明の実験では、積層数２０００層が限界
であった蒸発源を、ルツボ容量を変更すること無しに、
１００００層以上の安定蒸着とコンデンサ積層体製造を
実現することが確認できた。
ベルにコントロール可能であり、蒸着膜厚が安定化し蒸
着時間の延長と蒸着時におけるルツボパワー調整が簡素
化できた。本発明の実験では、積層数２０００層が限界
であった蒸発源を、ルツボ容量を変更すること無しに、
１００００層以上の安定蒸着とコンデンサ積層体製造を
実現することが確認できた。
【００１２】（実施例２）図３は蒸発源ルツボに供給さ
れる被蒸発物ｂを棒状にした場合の実施例である。この
場合の被蒸発物ｂとルツボとの角度θは被蒸発物ｂの機
械的強度がワイヤー状の物より大きい為、角度θを小さ
くでき、送り量と輻射熱の状態により被蒸発物ｂを水平
方向から供給する事も可能である。
れる被蒸発物ｂを棒状にした場合の実施例である。この
場合の被蒸発物ｂとルツボとの角度θは被蒸発物ｂの機
械的強度がワイヤー状の物より大きい為、角度θを小さ
くでき、送り量と輻射熱の状態により被蒸発物ｂを水平
方向から供給する事も可能である。
【００１３】
【発明の効果】以上のように本発明は、蒸発源ルツボに
被蒸発物を定量供給し、その被蒸発物をルツボからの輻
射熱で溶解しながら供給し常にルツボ湯面のレベルを一
定に保つことで、蒸着膜厚精度を安定化できトラブルの
少ない蒸発源を得る事ができるとともに、少容量のルツ
ボでも長時間の蒸着を可能とすることができる。
被蒸発物を定量供給し、その被蒸発物をルツボからの輻
射熱で溶解しながら供給し常にルツボ湯面のレベルを一
定に保つことで、蒸着膜厚精度を安定化できトラブルの
少ない蒸発源を得る事ができるとともに、少容量のルツ
ボでも長時間の蒸着を可能とすることができる。
【図１】本発明の実施例におけるコンデンサ用積層体の
製造装置の内部構造図
製造装置の内部構造図
【図２】本発明の実施例におけるワイヤー状の被蒸発物
を供給する装置を有した蒸発源ルツボの詳細図
を供給する装置を有した蒸発源ルツボの詳細図
【図３】本発明の実施例における棒状の被蒸発物を供給
する装置を有した蒸発源ルツボの詳細図
する装置を有した蒸発源ルツボの詳細図
ａ 誘電体 ｂ 被蒸発物 １ 誘電体蒸発器 ２ ロール ３ マージン形成装置 ４ 蒸発源ルツボ ５ フィード装置 ６ モータ ７ タコジェネレータ ８ ドライバ ９ ワイヤーガイド １０ ガイドロール
フロントページの続き (72)発明者 周山 寛 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 Ｆターム(参考） 4K029 BD00 DB09 DB15 DB21 EA00 5E082 AB03 BC40 EE05 EE37 FG03 FG42 MM01 MM11 MM23 PP09 PP10
Claims (2)
- 【請求項１】 真空槽内にて誘電体を蒸発させ、その後
金属からなる被蒸発物を蒸着し、コンデンサ用の積層体
を製造する装置において、その蒸発源がエレクトロンビ
ームを用いたものであり、リールに巻かれたワイヤー状
の被蒸発物を供給させるフィード機構を有し、そのフィ
ード機構には可変速モータ等により被蒸発物の供給量を
可変し、ルツボからの輻射熱または反射電子で供給した
被蒸発物が溶解されるように被蒸発物の供給速度を可変
または自動制御し、尚且つ供給される被蒸発物はルツボ
に対し入射角度が５度から６０度に可変可能な機構を有
し、溶解した被蒸発物がルツボ上に自然落下する様にル
ツボとの間に所定の角度を設けた事を特徴とした蒸発源
を有するコンデンサ用積層体の製造装置。 - 【請求項２】 上記請求項１の蒸発源に供給される被蒸
発物が直径５ｍｍから２０ｍｍの棒状であり、その入射
角度が０度から６０度に可変可能な機構を有する事を特
徴とした積層コンデンサの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP876399A JP2000208364A (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | コンデンサ用積層体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP876399A JP2000208364A (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | コンデンサ用積層体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000208364A true JP2000208364A (ja) | 2000-07-28 |
Family
ID=11701965
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP876399A Pending JP2000208364A (ja) | 1999-01-18 | 1999-01-18 | コンデンサ用積層体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000208364A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013100581A (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-23 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法 |
-
1999
- 1999-01-18 JP JP876399A patent/JP2000208364A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013100581A (ja) * | 2011-11-09 | 2013-05-23 | Ulvac Japan Ltd | 蒸着装置及び蒸着方法 |
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