JP2000206306A - Antireflection film - Google Patents
Antireflection filmInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止膜に関す
る。[0001] The present invention relates to an antireflection film.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来から、CRT(陰極線管)、液晶表
示装置、PDP(プラズマディスプレイパネル)などの
表示装置の多くは、室内外問わず、外光が表示装置の画
面上に入射するような環境下で使用されている。この入
射光が表面で反射することにより、表示が見えにくくな
ると言う問題点があった。この問題に対する対策の一手
法として、透光性基材の表面に反射防止膜を設けること
により、表示画質を向上させることが行われている。2. Description of the Related Art Conventionally, many display devices such as a CRT (cathode ray tube), a liquid crystal display device, and a PDP (plasma display panel) have external light incident on the screen of the display device regardless of whether indoors or outdoors. Used in environments. There is a problem that the display becomes difficult to see due to the reflection of the incident light on the surface. As a measure against this problem, display quality has been improved by providing an antireflection film on the surface of a light-transmitting substrate.
【0003】しかし、可視光の全波長領域に亘って十分
な反射防止効果を奏する反射防止膜は、これまで知られ
ていなかった。[0003] However, an antireflection film having a sufficient antireflection effect over the entire wavelength region of visible light has not been known so far.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、広い波長領域にわたって反射率の低い反射防止膜を
開発するべく鋭意検討した結果、反射防止膜を3層構成
とし、その第3層を屈折率の波長分散性が波長が大きく
なるにしたがい屈折率が大きくなる特性を持つ層にする
ことにより、可視光の全領域で有効な反射防止効果を得
ることができることを見出し、本発明に至った。The inventors of the present invention have made intensive studies to develop an antireflection film having a low reflectance over a wide wavelength range, and have found that the antireflection film has a three-layer structure, It has been found that by making a layer having a property such that the wavelength dispersion of the refractive index is such that the refractive index increases as the wavelength increases, an effective antireflection effect can be obtained in the entire visible light region. Reached.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
光性基材の少なくとも片面に設ける反射防止膜におい
て、該透光性基材側から空気層側へ、屈折率が1.60
〜1.80であり光学膜厚が0.20λ〜0.30λで
ある第1層と、屈折率が2.0〜2.45であり光学膜
厚が0.45λ〜0.55λである第2層と、屈折率が
1.35〜1.52であり光学膜厚が0.20λ〜0.
30λであって、波長が大きくなるにしたがい屈折率が
大きくなる物質からなる第3層とが順に積層されている
ことを特徴とする反射防止膜を提供するものである。That is, the present invention relates to an antireflection film provided on at least one surface of a light-transmitting substrate, wherein the refractive index is 1.60 from the light-transmitting substrate side to the air layer side.
A first layer having an optical thickness of 0.20λ to 0.30λ and a first layer having a refractive index of 2.0 to 2.45 and an optical thickness of 0.45λ to 0.55λ. Two layers, the refractive index is 1.35 to 1.52, and the optical film thickness is 0.20λ to 0.2.
It is an object of the present invention to provide an antireflection film characterized in that a third layer having a wavelength of 30λ and having a refractive index increasing with increasing wavelength is sequentially stacked.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる透光性基材は、その形状が板状、フ
ィルム状、シート状などのような平面状であってもよい
し、レンズなどのように曲面を有するものであってもよ
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The translucent substrate used in the present invention may have a planar shape such as a plate, a film, a sheet, or the like, or may have a curved surface such as a lens. .
【0007】かかる透光性基材は、その屈折率が例えば
1.48〜1.60であり、透光性を有するものであれ
ば特に限定されるものではなく、例えばセルロース系高
分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高
分子、ポリエステル系高分子、アクリル系高分子、ファ
ンクショナルノルボルネン系高分子、ポリサルフォン、
ポリエーテルサルホンなどの樹脂製の基材やガラス製の
基材などが挙げられる。また、偏光板、CRTなどを初
めとする表示装置用の光学フィルター、タッチパネルな
どのような光学部品であってもよい。The light-transmitting substrate has a refractive index of, for example, 1.48 to 1.60, and is not particularly limited as long as it has a light-transmitting property. Polymer, polyarylate polymer, polyester polymer, acrylic polymer, functional norbornene polymer, polysulfone,
Substrates made of resin such as polyethersulfone, and substrates made of glass are exemplified. Further, optical components such as a polarizing plate, an optical filter for a display device such as a CRT, and a touch panel may be used.
【0008】透光性基材はその表面に、第1層との密着
性を向上するための中間層を有していてもよい。密着性
を向上するための中間層としては、例えばアクリル系樹
脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、カルド樹脂、ポ
リシラザンなどの高分子からなる高分子膜が挙げられ
る。また、厚み30Å〜200Å程度のSiOx、Al
2O3などからなる層やCrなどからなる層を用いるこ
ともできる。[0008] The translucent substrate may have an intermediate layer on its surface for improving the adhesion to the first layer. Examples of the intermediate layer for improving adhesion include a polymer film made of a polymer such as an acrylic resin, a urethane resin, a silicon resin, a cardo resin, and polysilazane. Further, SiOx, Al having a thickness of about 30 to 200
A layer made of 2O3 or the like or a layer made of Cr or the like can also be used.
【0009】また、その表面に凹凸が設けられていて、
防眩性が付与されていてもよい。防眩性を付与するに
は、例えばシリカゲル、樹脂ビーズ、ガラスビーズなど
を樹脂に分散した層を設けてもよいし、基材表面にエッ
チング処理、マット処理などを施してもよい。In addition, the surface is provided with irregularities,
Anti-glare properties may be provided. In order to impart antiglare properties, for example, a layer in which silica gel, resin beads, glass beads, or the like are dispersed in a resin may be provided, or the surface of the base material may be subjected to an etching treatment, a mat treatment, or the like.
【0010】透光性基材はその表面に表面処理が施され
ていてもよい。表面処理としては、例えば真空中での加
熱処理、コロナ処理、イオンボンバード処理、プラズマ
処理、紫外線照射処理、電子線照射処理などが挙げられ
る。[0010] The surface of the translucent substrate may be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a heat treatment in a vacuum, a corona treatment, an ion bombardment treatment, a plasma treatment, an ultraviolet irradiation treatment, and an electron beam irradiation treatment.
【0011】第1層は、屈折率が1.60〜1.80で
あることが必要であり、好ましくは1.65〜1.75
程度である。ここで屈折率は波長550nmで測定され
る値である。また、可視光領域での透過率は、80%以
上であることが好ましい。かかる第1層としては、例え
ば無機誘電体からなる層が挙げられ、具体的には、低屈
折率材料と高屈折材料との混合物からなる層が挙げられ
る。低屈折材料としては、例えばSiO2、Al2O3
などが挙げられ、高屈折率材料としては、例えばTiO
2、Nb2O5、Ta2O5、WO3などが挙げられ
る。中でも生産性、コストなどの観点から、SiO2と
Nb2O5との混合物、 Al2O3とNb2O5との
混合物、Al2O3とTiO2との混合物などが好まし
い。The first layer needs to have a refractive index of 1.60 to 1.80, preferably 1.65 to 1.75.
It is about. Here, the refractive index is a value measured at a wavelength of 550 nm. Further, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more. As the first layer, for example, a layer made of an inorganic dielectric is mentioned, and specifically, a layer made of a mixture of a low refractive index material and a high refractive material is mentioned. As the low refraction material, for example, SiO2, Al2O3
And the like. Examples of the high refractive index material include TiO.
2, Nb2O5, Ta2O5, WO3 and the like. Among them, a mixture of SiO2 and Nb2O5, a mixture of Al2O3 and Nb2O5, a mixture of Al2O3 and TiO2, and the like are preferable from the viewpoints of productivity, cost, and the like.
【0012】第1層は、その光学膜厚が0.20λ〜
0.30λであることが必要であり、好ましくは0.2
3λ〜0.27λである。ここで、λは、設計波長であ
り、液晶表示装置を初めとする表示装置などに用いる場
合には通常、可視光の波長範囲から任意に設定され、一
般的には550nmとして設定される。The first layer has an optical thickness of 0.20λ to
0.30λ, preferably 0.20λ.
3λ to 0.27λ. Here, λ is a design wavelength, and when it is used for a display device such as a liquid crystal display device, it is usually set arbitrarily from the wavelength range of visible light, and is generally set to 550 nm.
【0013】第2層は、その屈折率が2.0〜2.45
であることが必要である。ここで屈折率は波長550n
mで測定される値である。また、その可視光の透過率は
80%以上であることが好ましい。かかる第2層として
は、例えば無機誘電体からなる層が挙げられ、このよう
な無機誘電体として具体的には、例えばNb2O5、T
iO2、Ta2O5を主成分とするものが挙げられる。The second layer has a refractive index of 2.0 to 2.45.
It is necessary to be. Here, the refractive index is 550 n
It is a value measured in m. Further, the visible light transmittance is preferably 80% or more. As the second layer, for example, a layer made of an inorganic dielectric is cited, and specific examples of such an inorganic dielectric include Nb 2 O 5, Tb
Those containing iO2 and Ta2O5 as main components are exemplified.
【0014】第2層は、その光学膜厚が0.45λ〜
0.55λであることが必要であり、好ましくは0.4
8λ〜0.52λである。The second layer has an optical thickness of 0.45λ to
0.55λ, preferably 0.45λ.
8λ to 0.52λ.
【0015】第3層は、その屈折率が1.35〜1.5
2であることが必要である。ここで屈折率は波長550
nmで測定される値である。また、可視光領域での透過
率は80%以上であることが好ましい。さらに、第3層
は、波長が大きくなるにしたがい屈折率が大きくなる特
性を持つ物質からなることが必要であるが、本願発明の
反射防止膜における第3層は、この点で、通常の反射防
止膜に用いられる物質とは異なっている。かかる第3層
としては、例えばSiO2またはMgF2と金属との混
合物からなる層が挙げられ、具体的にはSiO2または
MgF2に金属がドープされた無機誘電体を使用するこ
とができる。金属としては、Cr、Ag、Alなどが挙
げられる。金属のドープ量は屈折率が、波長が大きくな
るに従い大きくなるように選択され、通常はSiO2ま
たはMgF2と金属との合計量100モル当り5モル以
下である。5モルより大きい場合には、金属の吸収によ
り透過率が低下する。The third layer has a refractive index of 1.35 to 1.5.
It needs to be 2. Here, the refractive index is wavelength 550
It is a value measured in nm. Further, the transmittance in the visible light region is preferably 80% or more. Further, the third layer needs to be made of a substance having a property of increasing the refractive index as the wavelength increases. It is different from the material used for the barrier film. As the third layer, for example, a layer made of a mixture of SiO2 or MgF2 and a metal can be cited, and specifically, an inorganic dielectric obtained by doping SiO2 or MgF2 with a metal can be used. Examples of the metal include Cr, Ag, and Al. The doping amount of the metal is selected so that the refractive index increases as the wavelength increases, and is usually 5 mol or less per 100 mol of the total amount of SiO2 or MgF2 and the metal. If it is more than 5 moles, the transmittance will decrease due to the absorption of the metal.
【0016】第3層は、その光学膜厚が0.20λ〜
0.30λであることが必要であり、好ましくは0.2
3λ〜0.27λである。The third layer has an optical thickness of from 0.20λ to 0.20λ.
0.30λ, preferably 0.20λ.
3λ to 0.27λ.
【0017】かかる第1層、第2層および第3層は、例
えば電子ビーム蒸着法、誘導加熱方式蒸着法、抵抗加熱
蒸着法、スパッタリング法など物理気相堆積法〔PVD
(Physical Vapor Deposition)法〕のような公知の方
法を用いて透光性基材上に設けることができる。混合物
からなる層の場合には、2種類の蒸着材料を別々の蒸着
源から蒸発させて混合膜を形成する2元蒸着法や、2種
類の無機誘電体の混合材料を用いて真空蒸着法やスパッ
タリング法などの方法により透光性基材の表面に設ける
ことができる。The first, second and third layers are formed by physical vapor deposition [PVD such as electron beam evaporation, induction heating evaporation, resistance heating evaporation, sputtering, etc.
(Physical Vapor Deposition method)], and can be provided on a light-transmitting substrate. In the case of a layer composed of a mixture, a binary evaporation method in which two kinds of evaporation materials are evaporated from separate evaporation sources to form a mixed film, a vacuum evaporation method using a mixture material of two kinds of inorganic dielectrics, It can be provided on the surface of the translucent substrate by a method such as a sputtering method.
【0018】この反射防止膜は、透光性基材の片面に設
けてもよいし、両面に設けてもよい。The anti-reflection film may be provided on one side of the translucent substrate or on both sides.
【0019】第1層、2層及び3層を製造する装置とし
ては、透光性基材が板状、シート状である場合やレンズ
である場合には、バッチ式、インライン式などの製造装
置が用いられる。透光性基材がフィルム状である場合に
は、巻き取り式の真空成膜装置を用いることもできる。The apparatus for producing the first layer, the second layer and the three layers may be a batch type, an in-line type, or the like when the light-transmitting substrate is a plate, a sheet, or a lens. Is used. When the light-transmitting substrate is in the form of a film, a roll-up type vacuum film forming apparatus can be used.
【0020】この反射防止体は、透光性基材が偏光板で
ある場合には、通常の偏光板と同様に液晶表示装置に使
用することができる。また、透光性基材が光学フィルタ
ーやタッチパネルである場合には、CRT、PDP、液
晶ディスプレイなどの各種表示装置の前面に配置して使
用することができる。偏光板、光学フィルター、および
タッチパネルなどへの該反射防止膜を設ける方法として
は、偏光板、光学フィルター、タッチパネルなどに直
接、各層を設ける方法の他に、反射防止膜を設けた透光
性基材を粘着層を介して偏光板、光学フィルター、タッ
チパネルなどに積層する方法もある。When the light-transmitting substrate is a polarizing plate, this antireflection body can be used in a liquid crystal display like a normal polarizing plate. When the light-transmitting substrate is an optical filter or a touch panel, it can be used by disposing it on the front of various display devices such as a CRT, a PDP, and a liquid crystal display. As a method of providing the antireflection film on a polarizing plate, an optical filter, a touch panel, or the like, a method of directly providing each layer on a polarizing plate, an optical filter, a touch panel, or the like, or a light-transmitting substrate provided with an antireflection film. There is also a method of laminating a material on a polarizing plate, an optical filter, a touch panel, or the like via an adhesive layer.
【0021】[0021]
【発明の効果】本発明の反射防止膜は、第3層として、
波長が大きくなるにしたがい屈折率が大きくなる特性を
持つ層にすることにより、可視光の全波長領域における
反射防止効果に優れている。According to the antireflection film of the present invention, as the third layer,
By forming a layer having a characteristic of increasing the refractive index as the wavelength increases, the layer has an excellent antireflection effect in the entire visible light wavelength region.
【0022】[0022]
【実施例】本発明を実施例でさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.
【0023】実施例1 トリアセチルセルロースフィルム(商品名 フジTAC
SH−80 富士写真フィルム(株)製)上に厚さ約
5μmのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基材として使用し、基材にAl2O3が92
%とTiO2が8%の混合物層(屈折率1.68、厚み
810Å)、Ta2O5層(屈折率2.11、厚み12
80Å)、MgF2が98%とCrが2%の混合層(屈
折率1.40、厚み970Å、波長400nmにおける
屈折率は1.386であり、波長800nmにおける屈
折率は1.404であり、波長とともに屈折率が大きく
なる。)を順次形成し得る反射防止膜の反射スペクトル
を図1に示す。Example 1 Triacetyl cellulose film (trade name: Fuji TAC)
A transparent polymer film formed by forming an acrylic resin film having a thickness of about 5 μm on a SH-80 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used as a light-transmitting base material, and the base material was made of Al2O3.
% And TiO2 of 8% (refractive index 1.68, thickness 810 °), Ta2O5 layer (refractive index 2.11, thickness 12)
80 °), a mixed layer of 98% MgF2 and 2% Cr (refractive index 1.40, thickness 970 °, refractive index at a wavelength of 400 nm is 1.386, refractive index at a wavelength of 800 nm is 1.404, wavelength FIG. 1 shows a reflection spectrum of an antireflection film capable of sequentially forming a refractive index.
【図1】実施例1で得る反射防止膜の分光反射率とを示
すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the spectral reflectance of an antireflection film obtained in Example 1.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 蔵田 信行 大阪府高槻市塚原2丁目10番1号 住友化 学工業株式会社内 Fターム(参考) 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA37Z FB02 FB06 FB08 FC21 FC23 FC25 FC26 FD06 KA01 2K009 AA06 AA10 CC03 CC06 CC14 FF02 5G435 AA01 BB12 DD12 FF05 GG11 HH02 HH03 KK07 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Nobuyuki Kurata 2-10-1, Tsukahara, Takatsuki-shi, Osaka Sumitomo Chemical Co., Ltd. F-term (reference) 2H091 FA08X FA08Z FA37X FA37Z FB02 FB06 FB08 FC21 FC23 FC25 FC26 FD06 KA01 2K009 AA06 AA10 CC03 CC06 CC14 FF02 5G435 AA01 BB12 DD12 FF05 GG11 HH02 HH03 KK07
Claims (5)
防止膜において、該透光性基材側から空気層側へ、屈折
率が1.60〜1.80であり光学膜厚が0.20λ〜
0.30λである第1層と、屈折率が2.0〜2.45
であり光学膜厚が0.45λ〜0.55λである第2層
と、屈折率が1.35〜1.52であり光学膜厚が0.
20λ〜0.30λであって、波長が大きくなるにした
がい屈折率が大きくなる物質からなる第3層とが順に積
層されていることを特徴とする反射防止膜。An antireflection film provided on at least one surface of a light-transmitting substrate has a refractive index of 1.60 to 1.80 and an optical thickness of 0 from the light-transmitting substrate side to the air layer side. .20λ ~
A first layer of 0.30λ and a refractive index of 2.0 to 2.45
And a second layer having an optical film thickness of 0.45λ to 0.55λ and a refractive index of 1.35 to 1.52 and an optical film thickness of 0.45λ to 0.55λ.
An anti-reflection film, which has a thickness of 20λ to 0.30λ and a third layer made of a substance whose refractive index increases as the wavelength increases.
とからなる層である請求項1に記載の反射防止膜。2. The antireflection film according to claim 1, wherein the third layer is a layer composed of SiO2 or MgF2 and a metal.
板。3. A polarizing plate provided with the antireflection film according to claim 1.
両面に設けた表示装置用の光学フィルター。4. An optical filter for a display device, wherein the antireflection film according to claim 1 is provided on one surface or both surfaces.
なる液晶表示装置。5. A liquid crystal display device incorporating the anti-reflection film according to claim 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP00755999A JP4281137B2 (en) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | Anti-reflection coating |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP00755999A JP4281137B2 (en) | 1999-01-14 | 1999-01-14 | Anti-reflection coating |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000206306A true JP2000206306A (en) | 2000-07-28 |
JP4281137B2 JP4281137B2 (en) | 2009-06-17 |
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ID=11669174
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002296405A (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | Antireflection base material with few reflection interference color and its color shading |
JP5148712B2 (en) * | 2008-09-17 | 2013-02-20 | シャープ株式会社 | Antireflection film and method for manufacturing the same |
-
1999
- 1999-01-14 JP JP00755999A patent/JP4281137B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002296405A (en) * | 2001-03-29 | 2002-10-09 | Sumitomo Chem Co Ltd | Antireflection base material with few reflection interference color and its color shading |
JP5148712B2 (en) * | 2008-09-17 | 2013-02-20 | シャープ株式会社 | Antireflection film and method for manufacturing the same |
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