JP2000203029A - インクジェットノズルおよびインクジェットノズルの微細製造方法 - Google Patents
インクジェットノズルおよびインクジェットノズルの微細製造方法Info
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 21
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 9
- 238000002679 ablation Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 57
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 14
- 238000000608 laser ablation Methods 0.000 description 11
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 8
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 8
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 2
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 2
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 230000005226 mechanical processes and functions Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000008093 supporting effect Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1637—Manufacturing processes molding
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/38—Removing material by boring or cutting
- B23K26/382—Removing material by boring or cutting by boring
- B23K26/384—Removing material by boring or cutting by boring of specially shaped holes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/162—Manufacturing of the nozzle plates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/16—Production of nozzles
- B41J2/1621—Manufacturing processes
- B41J2/1632—Manufacturing processes machining
- B41J2/1634—Manufacturing processes machining laser machining
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
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Abstract
ズルを提供する。 【解決手段】 上表面102と下表面とを有するノズル
板100を用意し、前記ノズル板100の上表面102
をレーザでアブレーション加工して、前記ノズル板10
0の上表面102から前記ノズル板100の下表面10
4に伸びるボア110を生成し、前記ノズル板100の
下表面104をレーザでアブレーション加工して、前記
ノズル板100の下表面104からノズル板100の外
側に伸びるリップ140を生成する。
Description
ェットノズルと濡れ防止インクジェットノズルを精密に
形成する方法に関する。方法の一つではレーザによるア
ブレーション(削磨;ablation)加工を用い、
もう一つの方法では精密射出成形を用いて、インク滴の
望ましくない偏流を防止できるリップを備えたノズルを
成形する。本発明のインクジェットノズルは、シリコン
ウェーファまたは半導体製のノズルを損傷させると知ら
れるインクに起因する損傷を回避する材料から製造でき
る。更に、本発明を用いると、広範囲の種類のインク、
例えば、高pHまたは低pH範囲の磨耗性または腐食性
のインクをインクジェットノズルに使用することが可能
となる。
る既往技術のインクジェット印刷装置1を示す。この装
置は、円環状のボア(孔;bore)3と該ボア3の軸
に直角に配向されている前端面4を備える。インクジェ
ット噴射装置1の各ボア3には、文字を記録媒体(図示
せず)に形成する目的のインク2が供給される。図1
(A)は、ボア3から現れ、記録媒体に到るインク2の
進行状態を示す。インク滴5の形成は初めボアの口部で
起こり、次第にサイズが大きくなり、次いでボアからイ
ンクが発射され、望ましい文字を記録媒体に印刷する。
このタイプのサーマルインクジェット装置は、インクジ
ェットノズルの前端面4に濡れ6が起こる時、印刷品質
が損なわれるという問題がある。このタイプの濡れが起
こると、文字の印刷が不正確になり、シミが出ることが
多くなる。
ィス3周りに付着したインク2の一部分7が非対称形に
乾燥すると、次に形成するインク滴8が、濡れ性が最も
大きい側に引付けられ、矢印9で示される方向に偏流さ
れる。既往技術のサーマルインクジェット装置では、疎
水性コーティングを前面に被覆してインクが前端面を濡
らすことを最小限に抑えることによって、これらの方向
性問題を避ける試みの一つとしている。
りに前端面濡れ現象を最小限に抑えるノズル構造を微細
製造することによって濡れを最小眼に抑えることであ
る。インク濡れ問題に対するそのような解法の一つが、
従来技術を示す図2に示されている。この図は、インク
ジェットノズル10、該ノズル先の前端面11、該前端
面に直角のボア12、該ボア内を流れるインク13を示
す。インク13は、インク源(図示せず)から供給され
る。更に、図2のノズル10は、該ノズルの前端面11
上に付着する濡れを防止する役目のリップ部14を備え
ている。このノズル構造は濡れ防止に有効であるけれど
も、現在のところ高価な化学的または機械的方法で製造
されているという問題点を抱えている。
部を形成する5段階の化学プロセスを示す。最初の段階
は、ステップ(a)に示されるようにブラス(黄銅)板
15を用意し、ステップ(b)で前記ブラス板15に第
一の円筒形ホール16と第二の相対する円錐形ボア17
を穿つ。ステップ(c)では、ニッケル層18を「無電
解」法でステップ(b)のブラス板15の全表面にメッ
キする。ここで、ステップ(b)のブラス板15の全表
面には、頂面19、底面20、貫通ホール16と相対円
錐形ホール17の表面が含まれる。ステップ(d)で、
底表面21のニッケル層18とブラスの一部とを、必要
に応じて、研磨で除去する。最後に、ステップ(e)
で、円環状ボア16上にコーティングされたニッケル面
18bの周囲の表面21を選択的にエッチングして新し
い表面20’を出し、ノズルのリップ部14を生成す
る。
トノズルにリップ部を機械的に形成する別法を示す。こ
の方法では、目的はニッケル板23にパンチ22を用い
て穿孔し、ノズルをニッケル板に形成することである。
パンチ22に力Fを加えてニッケル板23を穿孔する。
この工程の最後で、ニッケル板23の一部がプラスチッ
ク片24の中に貫通する。スチール板25の支持作用と
プラスチック片24の流体的挙動によって、ギザギザが
なく所望の形状のホール26が、リップ部27を含ん
で、ニッケル板23に生成される。
てノズル板を製造することも知られている。この方法で
はレーザを用いてノズル板貫通のボア、例えば、円錐形
孔を生成する。しかし、このようなノズルも上述のイン
ク濡れ問題を抱える。図2に示されるようなリップ部が
ないからである。
は、印刷装置に用いる濡れ防止インクジェットノズルを
提供することであり、インク滴の望ましくない偏流の防
止は、インクジェットノズルのオリフィス周囲の領域の
周りにインクが非対称的に堆積することを防止すること
によって行われる。
クジェットノズルを精密製造するのに用いられる材料の
範囲を拡大することである。例えば、本発明の製造方法
を用いると、ポリマー(例えば、ポリスルフォン)、プ
ラスチック、テフロン(登録商標)、金属および/また
はその酸化物などで製造されたノズルを製造することが
できる。
のノズルを形成するに当たって、費用と時間双方ともに
効率的に行われ、インク選択制約やインク履歴欠陥に関
連する問題をなくすることができる。だから、化学的に
腐食性の激しいインク、例えば、pH3またはpH9〜
10を有するインクも用いることができる。
えば、インクジェットノズルの微細製造方法が提供され
る。本方法は、上表面と下表面とを有するノズル板を用
意するステップと、ノズル板の上表面をレーザでアブレ
ーション加工して、ノズル板の上表面からノズル板の下
表面に伸びるボアを生成するステップと、ノズル板の下
表面をレーザでアブレーション加工して、ノズル板の下
表面からノズル板の外側に伸びるリップを生成するステ
ップと、を含む。
ジェットノズルの別の微細製造方法が提供される。本方
法は、ノズル板と該ノズル板から外側に伸びて一体的に
形成されているリップとを有するインクジェットノズル
に対応する形状を規定する空間が中間に形成されている
上部金型と下部金型とを用意するステップと、前記空間
に成形材料を注入するステップと、前記上部金型と下部
金型とを取り外して、成形されたインクジェットノズル
を離型するステップと、を含む。本方法において、前記
成形材料は、ポリマー、プラスチック材料、セラミック
スまたは射出成形可能な他の材料である。更に、本方法
は、上部金型に形成することができるノズル形成ピンを
用いてインクジェットノズルのリップを形成するステッ
プを含むことができる。更に、前記ピンを上部金型と下
部金型双方に対して可動にして、異なる形状・特性を有
して対応するリップを備えたノズル板を製造することも
可能である。
と下表面とを有するノズル板と、ノズル板の下表面から
外側に伸びてノズル板と一体的に形成されるリップと、
ノズル板の上表面から下表面へ前記リップを完全に貫通
して伸びるボアと、を有するインクジェットノズルが提
供される。前記ボアは、上表面と下表面とに対してある
角度で傾斜している内部表面を有し、前記角度はノズル
板とリップ全体を通して実質的に一定である。
形でもよく、リップの下部表面がボアの内部表面に対し
て鋭角を形成しているものでもよく、ノズル板とリップ
とをインク寛容度制約やインク履歴欠陥に強い材料で製
造することもでき、前記材料をプラスチックおよび/ま
たはポリマーとすることもできる。
5(A)〜5(D)を参照して説明し、本発明の第二の
実施の形態は、図6(A)〜6(C)を参照して説明す
る。
に用いられるリップ付のインクジェットノズルをノズル
板100から微細製造することができるプロセスを示
す。このプロセスは順次プロセスで説明されるが、ステ
ップの順序を再調整したり同時に行ったりすることもで
きるのは言うまでもない。図5(A)で、適切な材料か
ら製作された厚さTpのノズル板100を用意する。こ
のノズル板は、レーザアブレーション加工に供される好
適な材料、例えば、ポリマーやプラスチックから製作で
きる。レーザアブレーション加工は、材料次第で変わる
ものであるが、一般に、技術に既知の光子誘起アブレー
ションが行われる。
面102からレーザ・アブレーション加工して、インク
ジェットオリフィス、すなわちボア110を製造する。
図5(B)に示されるように、インクジェットボア11
0は、ノズル板100の上表面102からノズル板10
0の下表面104へノズル板100を完全に貫通して伸
びる。図5(B)に示されるノズル板100に対して、
技術に普通知られるフォトマスク120を下表面104
の近く、かつボア110の上に掛ける。前記フォトマス
クを適切に配置した後、ノズル板100の下表面104
にレーザーアブレーション加工操作を行う。一連の矢印
130は、レーザアブレーション加工を行うことを示
す。フォトマスク120は、ノズル板100の下表面1
04にレーザアブレーションがかからないギャップGを
作る。下表面104にレーザアブレーションを掛けた結
果、ノズル板100がアブレーション加工され、その厚
さがtに減少される。この減少された厚さtは、図5
(D)に示されている。図5(A)に示されるノズル板
100の最初の厚さTPと図5(D)に示される厚さt
との間の差は、図5(D)に示されるリップ140の厚
さTLを示す。図5(D)に示されるように、前記ボア
は、ノズル板100の上表面102からノズル板100
の下表面104へとリップ140を完全に貫通して伸び
る。また、前記ボアは、上表面102と下表面104と
に対してある角度で傾斜している内部表面112を有す
るが、前記角度はノズル板100とリップ140の厚さ
全体を通して実質的に一定である。レーザアブレーショ
ン微細加工技術を用いると、リップ140をノズル板1
00と一体に形成したものを製造することが可能であ
る。この一体構造のリップ140は、インクジェットノ
ズルのボア110周囲の領域の周りにインクが非対称的
に堆積するのを防止することができる。更に、図5
(A)〜5(D)に示されるインクジェットノズルは、
例えば、ポリマー、すなわちシリコンウェーファや半導
体とは異なる材料から製造できるので、インク寛容度制
約やインク履歴欠陥に関連する問題を回避できる。換言
すれば、レーザアブレーション加工技術を用いると、イ
ンクによる損傷に耐性のある材料を使用することが可能
となる。このような材料はインクの寛容度を増すことが
できる(すなわち、化学的に腐食性が強いインク、例え
ば、酸性(pH=3)または塩基性(pH=9)のイン
クを使用することができる)。このような腐食性の強い
インクはシリコンのようなノズル材料をエッチングした
り溶解したりする恐れがある。しかし、テフロン(登録
商標)のような材料は、化学的に極めて不活性なので、
この材料から作られたノズル板はインクの損傷に対して
耐性を有することができる。
112に対して鋭角の角度θを形成しているので、形成
された鋭いエッジ144が下表面142のインク濡れを
制御する助けになる。
(C)を参照して説明する。図6(A)〜6(C)は、
本発明のインクジェットノズルを製造するプロセスの一
つを示す。図6(A)は、上部金型202と下部金型2
04とを備える精密射出成形装置200を示す。上部金
型202の一部として成形されているのは、ノズル成形
ピン206である。ノズル成形ピン206は矢印で示さ
れているように上部金型202に対して可動にできる。
その目的は以下に説明する。
決めを適切に行い、ノズル成形ピン206を正しい位置
にセットした後、上部金型と下部金型との間でノズル成
形ピン206と下部金型204との間に形成されるギャ
ップ、すなわち空間Sに成形材料を挿入する。前記成形
材料としては、適切な成形材料ならどんな材料でも、例
えば、プラスチック、ポリマー(例えば、ポリスルフォ
ン)あるいはセラミックを使用することができる。図6
(B)は、成形材料300が成形装置200に挿入され
た後の状態を示す。
型202と下部金型204と、並びにノズル成形ピン2
06とを取り外し、成形されたインクジェットノズル3
00を離型する。インクジェットノズル300は、下表
面304を有するノズル板302を備える。リップ30
6はノズル板302とワンピースに成形され、ノズル板
302の下表面304から外側に伸びる。この実施形態
のインクジェットノズルは、図5(A)〜5(D)の実
施形態に関して上に議論した利点と同じような利点があ
る。
のノズルを示す図である。
を示す図である。
ロセス法を示す図である。
械的プロセスを示す図である。
る。
る。
ボア、4,11 前端面、5 インク滴、6 濡れ、7
インクの一部、8 次に生成するインク滴、9 矢
印、10 インクジェットノズル、12 ボア、14
リップ部、15ブラス板、16 第一円筒形ホール、1
7 第二円錐形ボア、18 ニッケル層、19 頂面、
20 底面、20’新しい底端面、21 底表面、22
パンチ、23 ニッケル板、24 プラスチック片、
25 スチール板、26 ホール、27 リップ部、1
00,302 ノズル板、102 上表面、104,3
04 下表面、110 インクジェットボア、112
内部表面、120 フォトマスク、130 レーザ・ア
ブレーション方向、140,306 リップ、142
下表面、144 鋭いエッジ、200 精密射出成形装
置、202 上部金型、204 下部金型、206 パ
ンチ、300 成形材料。
Claims (3)
- 【請求項1】 インクジェットノズルの微細製造方法で
あって、 上表面と下表面とを有するノズル板を用意するステップ
と、 前記ノズル板の上表面をレーザでアブレーション加工し
て、前記ノズル板の上表面から前記ノズル板の下表面に
伸びるボアを生成するステップと、 前記ノズル板の下表面をレーザでアブレーション加工し
て、前記ノズル板の下表面からノズル板の外側に伸びる
リップを生成するステップと、 を含むことを特徴とするインクジェットノズルの微細製
造方法。 - 【請求項2】 インクジェットノズルの微細製造方法で
あって、 ノズル板と、該ノズル板から外側に伸びて一体的に形成
されているリップと、を有するインクジェットノズルに
対応する形状を規定する空間が中間に形成されている上
部金型と下部金型とを用意するステップと、 前記空間に成形材料を注入するステップと、 前記上部金型と下部金型とを取り外して、成形されたイ
ンクジェットノズルを離型するステップと、 を含むことを特徴とするインクジェットノズルの微細製
造方法。 - 【請求項3】 インクジェットノズルであって、 上表面と下表面とを有するノズル板と、 前記ノズル板の前記下表面から外側に伸びて一体的に形
成されているリップと、 前記ノズル板の前記上表面から前記下表面へ前記リップ
を完全に貫通して伸びるボアと、を備え、 前記ボアは前記上表面と下表面とに対してある角度で傾
斜している内部表面を有し、 前記角度は、前記ノズル板と前記リップの厚さ全体を通
して実質的に一定であることを特徴とするインクジェッ
トノズル。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US09/232456 | 1999-01-19 | ||
US09/232,456 US6507001B1 (en) | 1999-01-19 | 1999-01-19 | Nozzles for ink jet devices and laser ablating or precision injection molding methods for microfabrication of the nozzles |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000203029A true JP2000203029A (ja) | 2000-07-25 |
JP4375865B2 JP4375865B2 (ja) | 2009-12-02 |
Family
ID=22873192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000007783A Expired - Fee Related JP4375865B2 (ja) | 1999-01-19 | 2000-01-17 | インクジェットノズルの微細製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6507001B1 (ja) |
JP (1) | JP4375865B2 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US7708383B2 (en) | 2004-03-12 | 2010-05-04 | Fujifilm Corporation | Ink jet head and ink jet recording apparatus |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20030155328A1 (en) * | 2002-02-15 | 2003-08-21 | Huth Mark C. | Laser micromachining and methods and systems of same |
US6955417B2 (en) * | 2002-03-28 | 2005-10-18 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inkjet recording head and inkjet printer |
JP4296893B2 (ja) * | 2003-09-30 | 2009-07-15 | ブラザー工業株式会社 | ノズルプレートの製造方法 |
US8205969B2 (en) * | 2007-11-14 | 2012-06-26 | Xerox Corporation | Jet stack with precision port holes for ink jet printer and associated method |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3048259A1 (de) * | 1980-12-20 | 1982-07-29 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "duese fuer tintenstrahldrucker" |
US5045142A (en) | 1989-11-22 | 1991-09-03 | Xerox Corporation | Stand-off structure for flipped chip butting |
US4961821A (en) | 1989-11-22 | 1990-10-09 | Xerox Corporation | Ode through holes and butt edges without edge dicing |
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1999
- 1999-01-19 US US09/232,456 patent/US6507001B1/en not_active Expired - Lifetime
-
2000
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7708383B2 (en) | 2004-03-12 | 2010-05-04 | Fujifilm Corporation | Ink jet head and ink jet recording apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6507001B1 (en) | 2003-01-14 |
JP4375865B2 (ja) | 2009-12-02 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A02 | Decision of refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
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