JP2000199911A - Production of liquid crystal display device and its apparatus thereof - Google Patents
Production of liquid crystal display device and its apparatus thereofInfo
- Publication number
- JP2000199911A JP2000199911A JP11001120A JP112099A JP2000199911A JP 2000199911 A JP2000199911 A JP 2000199911A JP 11001120 A JP11001120 A JP 11001120A JP 112099 A JP112099 A JP 112099A JP 2000199911 A JP2000199911 A JP 2000199911A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- liquid crystal
- pressure
- display device
- crystal display
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はワープロやパソコン
等に搭載される液晶表示装置の製造方法及び製造装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device mounted on a word processor or a personal computer.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般的に、液晶表示装置は薄膜トランジ
スタ（以下ＴＦＴという）ガラス基板とカラーフィルタ
ーガラス基板を貼り合わせ、そのガラス基板内に液晶を
充填して構成されているが、このＴＦＴガラス基板とカ
ラーフィルターガラス基板の間に液晶を注入する方法と
しては真空注入法が多く用いられている。この方法は、
ガラス基板内を０．１Ｐａ程度の減圧状態にした後、貼
り合わせたガラス基板の一辺に設けられた注入口を液晶
液面に接触させ、外気が入らないように加圧注入する方
法である。2. Description of the Related Art In general, a liquid crystal display device is constructed by laminating a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) glass substrate and a color filter glass substrate and filling the glass substrate with liquid crystal. As a method of injecting a liquid crystal between a substrate and a color filter glass substrate, a vacuum injection method is often used. This method
In this method, the inside of the glass substrate is evacuated to a pressure of about 0.1 Pa, and then an injection port provided on one side of the bonded glass substrates is brought into contact with the liquid crystal surface to perform pressure injection so that outside air does not enter.
【０００３】この液晶注入の方法において、ＴＦＴガラ
ス基板やカラーフィルターガラス基板の構成材料から減
圧時にガスが発生した場合、ガラス基板間の真空度が十
分に低下しないために液晶が十分入りきらず、ガラス基
板間に気泡を残してしまう。たとえば、ＴＦＴを付加し
たガラス基板の電極側表面に透明樹脂からなるオーバー
コートを付与したガラス基板とカラーフィルターのブラ
ックマトリックスが従来の三層クロムと異なり樹脂によ
り構成され、さらにガラス基板のブラックマトリックス
や色層の塗布面上に透明樹脂からなるオーバーコートを
付与したカラーフィルターガラス基板を用いて液晶表示
装置を作成する場合、真空チャンバーに所定のサイズに
割断したガラス基板を入れて液晶を注入すると、ＴＦＴ
を付加したガラス基板およびカラーフィルター上のオー
バーコート剤やカラーフィルターのブラックマトリック
スおよび色材からのガス発生によりガラス基板内の真空
度が十分に上がらず気泡が残る。In this method of injecting liquid crystal, when a gas is generated from the constituent materials of the TFT glass substrate and the color filter glass substrate at the time of decompression, the degree of vacuum between the glass substrates does not decrease sufficiently, so that the liquid crystal does not enter sufficiently, and Air bubbles are left between the substrates. For example, a glass substrate provided with an overcoat made of a transparent resin on the electrode side surface of a glass substrate provided with a TFT, and a black matrix of a color filter are formed of a resin unlike the conventional three-layer chromium. When producing a liquid crystal display device using a color filter glass substrate having an overcoat made of a transparent resin on the application surface of the color layer, when a glass substrate cut into a predetermined size is put into a vacuum chamber and liquid crystal is injected, TFT
The degree of vacuum in the glass substrate is not sufficiently increased due to the overcoating agent on the glass substrate and the color filter added with the gas, and the gas generation from the black matrix and the color material of the color filter, so that bubbles remain.
【０００４】このような液晶の未注入の気泡を残さない
ためにガラス基板を貼り合わせ、所定のサイズに割断し
た後、０．１Ｐａ程度の減圧状態で加熱処理する方法が
用いられており、この処理は一般的にはパネルの真空ア
ニール処理、または真空ベーキング処理と呼ばれてい
る。[0004] In order to prevent such non-injected bubbles of liquid crystal from being left, a method is used in which a glass substrate is bonded, cut into a predetermined size, and then subjected to heat treatment under reduced pressure of about 0.1 Pa. The processing is generally called vacuum annealing or vacuum baking of the panel.
【０００５】一方、液晶表示装置のＴＦＴガラス基板と
カラーフィルターガラス基板を貼り合わせた後、シール
剤を硬化させる方式としては枚葉式とスタック式があ
る。枚葉式は一組のガラス基板毎にシール硬化させるの
に対し、スタック式は多数の組のガラス基板を一度にシ
ール硬化させるものである。On the other hand, there are a single-wafer method and a stack method as a method of curing a sealant after bonding a TFT glass substrate and a color filter glass substrate of a liquid crystal display device. While the single-wafer method seals and cures a set of glass substrates, the stack method seals and cures a number of sets of glass substrates at once.
【０００６】スタック式は大きな加圧力でガラス基板を
貼り合わせ、シールを硬化することができるが、処理す
るガラス基板が大きくなった場合、面内の圧力分布を均
一にすることが難しくなる。In the stack type, the glass substrates can be bonded together with a large pressing force to cure the seal. However, when the glass substrate to be processed becomes large, it becomes difficult to make the pressure distribution in the plane uniform.
【０００７】枚葉式は一組のガラス基板毎に樹脂袋にパ
ックするか、それと同様の効果が得られる減圧室に一組
のガラス基板を入れて、樹脂袋や減圧室内を減圧し、大
気との圧力差によって両ガラス基板を加圧してシールを
硬化させる。この方法はガラス基板面内の圧力分布を均
一にすることが容易であるために大きなサイズの液晶表
示装置を作成する場合に多く用いられているが、貼り合
わせの加圧力は高くない。In the single-wafer method, a set of glass substrates is packed in a resin bag, or a set of glass substrates is put in a decompression chamber where the same effect is obtained. The two glass substrates are pressurized by the pressure difference between the two substrates to harden the seal. This method is often used for producing a large-sized liquid crystal display device because it is easy to make the pressure distribution in the glass substrate uniform, but the pressure for bonding is not high.
【０００８】このようにして液晶表示装置はＴＦＴガラ
ス基板とカラーフィルターガラス基板を貼り合わせ、そ
のガラス基板内に液晶を充填し、シールして構成されて
いるのが現状である。[0008] As described above, the liquid crystal display device is currently constructed by bonding a TFT glass substrate and a color filter glass substrate, filling the glass substrate with liquid crystal, and sealing.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな製造方法、たとえば従来の真空アニール処理は、ガ
ラス基板を貼り合わせ、所定のサイズに割断した後、パ
ネルを耐圧容器からなる処理容器に入れ、処理を行って
いるため、真空にした後にパネルを加熱することは真空
状態での熱伝導性が非常に悪いために処理容器に入れた
多数のパネルを均一に加熱することが難しく、また、所
定の温度に上げるまでに長い時間を必要とする。However, in such a manufacturing method, for example, a conventional vacuum annealing treatment, a glass substrate is bonded and cut into a predetermined size, and then the panel is put into a processing container comprising a pressure-resistant container. It is difficult to heat many panels put in a processing container uniformly because the thermal conductivity in a vacuum state is very poor because heating is performed after vacuuming and heating the panels after processing. It takes a long time to raise the temperature.
【００１０】このため多く用いられる方法としては、処
理容器内のガス圧を高くして、熱の伝導性を高め、処理
容器内の多数のパネルを均一に加熱した後、処理容器内
のガス圧を低下させ、真空にして処理を行うものである
が、このような方法では、ガラス基板を貼り合わせるた
めに用いたシール剤の接着強度が温度の上昇とともに低
下するため、処理容器内の減圧速度が速すぎるとシール
が剥がれてしまうという問題があり、また、従来の枚葉
式のシール硬化方法および装置ではガラス基板を十分に
加圧することができないので、その後の工程である液晶
注入後の液晶注入口を封口する処理においてもガラス基
板を十分に加圧することができない。このためにパネル
の押圧時やパネルを撓ませた時の変形量が大きくなり表
示品位が低下する等種々の問題点があった。[0010] For this reason, a method often used is to increase the gas pressure in the processing vessel to increase the heat conductivity, uniformly heat a large number of panels in the processing vessel, and then increase the gas pressure in the processing vessel. In such a method, the bonding strength of the sealant used for bonding the glass substrates decreases with an increase in temperature. If the speed is too high, the seal may be peeled off, and the conventional substrate hardening method and apparatus cannot sufficiently pressurize the glass substrate. Even in the process of closing the injection port, the glass substrate cannot be sufficiently pressurized. For this reason, there have been various problems such as a large amount of deformation when the panel is pressed or when the panel is bent, and the display quality is reduced.
【００１１】本発明は、上記従来の問題点を解決したも
のであり、ガラス基板に押圧等の外圧が加わっても優れ
た表示品位を保ち得ると共に、ガスの発生しやすい構成
材料からなる部材を用いた場合でも従来に比べて短時間
に、且つ効率的にガラス基板を真空加熱処理することが
できる液晶表示装置の製造方法および製造装置を提供す
ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and can maintain excellent display quality even when an external pressure such as pressing is applied to a glass substrate, and can provide a member made of a constituent material which easily generates gas. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device that can efficiently perform vacuum heating of a glass substrate in a shorter time and more efficiently than in the conventional case.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、画素電極毎にＴＦＴを付加したガラス基板
と前記画素電極に対向する位置にＲＧＢの３色からなる
カラーフィルターがマトリックス状に配列され、その上
に透明な対向電極を形成されたガラス基板を貼り合わ
せ、ガラス基板間に液晶を入れた液晶表示装置の製造方
法であって、前記ＴＦＴを付加したガラス基板とカラー
フィルターのガラス基板を熱硬化性樹脂をシール剤とし
て用いて貼り合わせ、シールを硬化させる際、シール剤
硬化後、一対のガラス基板内の圧力を１０ｋＰａ以下に
する貼り合わせ後のシール硬化工程を備えたものであ
る。According to a method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, a glass substrate provided with a TFT for each pixel electrode and a color filter composed of three colors of RGB at a position facing the pixel electrode are arranged in a matrix. A glass substrate on which a transparent counter electrode is formed, and a liquid crystal display device in which a liquid crystal is inserted between the glass substrates. When a glass substrate is bonded by using a thermosetting resin as a sealant and a seal is hardened, a seal hardening step is performed after bonding the sealant to reduce the pressure in the pair of glass substrates to 10 kPa or less. It is.
【００１３】また、本発明の液晶表示装置の製造装置
は、室内のガス圧力および温度を変化させることの可能
な２つの室を上下に有し、２つの室が耐熱性、気密性お
よび可撓性を有するシートにより隔絶され、前記下室底
部にはガラス基板が設置可能な定盤を備えたものであ
る。Further, the apparatus for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention has two upper and lower chambers capable of changing the gas pressure and temperature in the chamber, and the two chambers are heat-resistant, airtight and flexible. The lower chamber is provided with a surface plate on which a glass substrate can be placed.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の各実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１５】（実施の形態１）図１は本発明の液晶表示
装置の製造装置の各実施の形態における概略構成を示す
断面図であり、以下本製造装置を参照しながら本実施の
形態における液晶表示装置の製造方法および製造装置に
ついて説明する。(Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing a schematic configuration of a liquid crystal display device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. A method and an apparatus for manufacturing a display device will be described.
【００１６】図中、１は恒温槽、２は上室の処理容器、
３は上室と下室を隔絶するシートであり、可撓性を有
し、耐熱性、気密性を有するものである。４はガラス基
板であり、基板サイズ４７０ｍｍ×３７０ｍｍの画素電
極毎にＴＦＴを付加したガラス基板と同サイズで、その
画素電極に対向する位置にＲＧＢの３色からなるカラー
フィルターがマトリックス状に配列されたガラス基板を
シール剤を塗布後、貼り合わせて構成されている。５は
気密性を保つためのパッキング、６は定盤、７は下室の
処理容器、８は処理容器内の加圧、減圧を行うためのガ
ス配管であり、この装置は液晶表示装置の製造方法にお
けるシール硬化工程に用いられるものである。In the figure, 1 is a thermostat, 2 is an upper processing vessel,
Reference numeral 3 denotes a sheet for separating the upper chamber and the lower chamber, which has flexibility, heat resistance, and airtightness. Reference numeral 4 denotes a glass substrate, which has the same size as a glass substrate having a TFT added to each pixel electrode of a substrate size of 470 mm × 370 mm, and color filters of three colors of RGB are arranged in a matrix at positions opposed to the pixel electrodes. A glass substrate is coated with a sealant and then bonded. 5 is a packing for maintaining airtightness, 6 is a platen, 7 is a lower processing container, 8 is a gas pipe for pressurizing and depressurizing the processing container, and this device is used for manufacturing a liquid crystal display device. It is used in the seal hardening step in the method.
【００１７】次に液晶表示装置の製造方法および製造装
置について説明する。Next, a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal display device will be described.
【００１８】最初の工程として、カラーフィルターガラ
ス基板上の所定の位置にシール剤を塗布し、球状のスペ
ーサー粒子を所定量散布した後、紫外線硬化樹脂を塗布
してＴＦＴを付加したガラス基板と貼り合わせ、貼り合
わせ位置が確定した時点で紫外線を照射して紫外線硬化
樹脂を硬化させ、これら２枚のガラス基板を仮止めして
ガラス基板４を構成する。In the first step, a sealant is applied to a predetermined position on the color filter glass substrate, a predetermined amount of spherical spacer particles are dispersed, and then an ultraviolet curable resin is applied to adhere to a glass substrate to which a TFT is added. When the bonding and bonding positions are determined, the glass substrate 4 is formed by irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin, and temporarily fixing the two glass substrates.
【００１９】次の工程において、この仮止めしたガラス
基板４を下室処理容器７の中の定盤６上の所定位置に設
置し、可撓性シート３を取り付けた上室処理容器２をパ
ッキング５を介して合わせ、上室処理容器と下室処理容
器を処理中に開かないように固定治具により固定する。In the next step, the temporarily fixed glass substrate 4 is set at a predetermined position on the surface plate 6 in the lower chamber processing container 7, and the upper chamber processing container 2 to which the flexible sheet 3 is attached is packed. Then, the upper processing container and the lower processing container are fixed by a fixing jig so as not to open during processing.
【００２０】次の工程において、上室、下室を合わせた
処理容器を恒温槽１内に入れ、上室および下室にそれぞ
れガス配管８を取り付け、上室を２００ｋＰａに加圧
し、下室を４０ｋＰａに減圧にすることにより上室と下
室の間にある可撓性シート３によりガラス基板４を加圧
しながら、恒温槽１の温度を１５０℃まで２０分間で昇
温し、１５０℃で１０分間保持してガラス基板シール剤
の硬化処理を行う。In the next step, the processing vessel including the upper chamber and the lower chamber is put in the thermostat 1, gas pipes 8 are attached to the upper chamber and the lower chamber, the upper chamber is pressurized to 200 kPa, and the lower chamber is pressurized. By reducing the pressure to 40 kPa, the temperature of the thermostat 1 is raised to 150 ° C. in 20 minutes while the glass substrate 4 is pressed by the flexible sheet 3 between the upper and lower chambers. The glass substrate sealing agent is cured by holding the glass substrate for one minute.
【００２１】このように、上室の加圧の圧力を高くする
ことにより、従来の大気圧（約１００ｋＰａ）を用いて
いたものに比べガラス基板４を強く加圧することができ
るので、ガラス基板４を指等で押しつけた場合でも、基
板間のギャップが変化して表示が変化するおそれはほと
んどない。すなわち、上記のように２枚のガラスの基板
を大きな加圧力で貼り合わせることにより、これが押圧
されたときのギャップの変化量を小さく押さえることが
でき、従来の液晶表示装置に比べ高い表示品位を保つこ
とができる。As described above, by increasing the pressure of the upper chamber, the glass substrate 4 can be more strongly pressurized than the conventional one using the atmospheric pressure (about 100 kPa). Is pressed by a finger or the like, there is almost no danger that the gap between the substrates changes and the display changes. That is, by bonding the two glass substrates with a large pressing force as described above, the amount of change in the gap when the two substrates are pressed can be kept small, and a higher display quality than the conventional liquid crystal display device can be obtained. Can be kept.
【００２２】次の工程において、このシール剤の硬化処
理を行った後、シール剤を完全に硬化させるために恒温
槽に入れてシールを完全に硬化させ、所定のサイズに割
断する。この場合、割断後のガラス基板は基板内のスペ
ーサービーズのために中央部が膨らんだ凸状になってい
たので、このガラス基板を真空チャンバーに入れ、液晶
を２枚のガラス基板内に注入した後、ガラス基板の両外
面をガスにより約２００ｋＰａ（≒１６０×０．８＋１
００）に加圧して余分な液晶を注入口より押し出して凸
状のガラス基板を平坦にした後、液晶の注入口に紫外線
硬化樹脂を塗布して、紫外線を照射し、液晶の注入口を
封止して液晶表示装置を作成する。In the next step, after the sealant is cured, the sealant is put into a thermostat so as to be completely cured, and the seal is completely cured and cut into a predetermined size. In this case, since the glass substrate after the cleavage had a convex shape with its central portion bulging due to spacer beads in the substrate, this glass substrate was put into a vacuum chamber, and liquid crystal was injected into the two glass substrates. Thereafter, both outer surfaces of the glass substrate were exposed to gas at about 200 kPa (≒ 160 × 0.8 + 1).
00), the excess liquid crystal is extruded from the injection port to flatten the convex glass substrate, and then the liquid crystal injection port is coated with an ultraviolet curable resin, irradiated with ultraviolet light, and the liquid crystal injection port is sealed. Stop to make a liquid crystal display.
【００２３】ここで、注入口を封止する際、ガラス基板
の両外側にかける圧力が、（数２）の値より低い場合に
は、ガラス基板の凸状の形状が十分に平坦にならず、中
央部のガラス基板間のギャップが大きくなり表示ムラを
生じる。Here, when the pressure applied to both outer sides of the glass substrate when sealing the injection port is lower than the value of (Equation 2), the convex shape of the glass substrate does not become sufficiently flat. As a result, the gap between the glass substrates at the center becomes large, causing display unevenness.
【００２４】[0024]
【数２】シール剤の仮硬化処理時に加圧した圧力×０．
４＋大気圧 また、ガラス基板の両外側にかける圧力が（数３）の値
よりより高い場合には、低温時の液晶の体積減少に対し
てガラス基板間のスペーサービーズが十分に収縮しない
ために気泡を発生させる可能性が高くなる。## EQU2 ## The pressure applied during the temporary curing of the sealant × 0.
4 + atmospheric pressure When the pressure applied to both outer sides of the glass substrate is higher than the value of (Equation 3), the spacer beads between the glass substrates do not shrink sufficiently against the volume decrease of the liquid crystal at low temperature. The possibility of generating bubbles increases.
【００２５】[0025]
【数３】シール剤の仮硬化処理時に加圧した圧力×０．
９＋大気圧 このことより注入口を封止する際のガラス基板の両外側
にかける圧力は（数４）を満足する値に設定するのが好
ましい。## EQU3 ## Pressure applied during temporary curing of the sealant × 0.1.
9 + atmospheric pressure From this, it is preferable that the pressure applied to both outer sides of the glass substrate when sealing the injection port is set to a value satisfying (Equation 4).
【００２６】[0026]
【数４】シール剤の仮硬化処理時に加圧した圧力×
（０．４〜０．９）＋大気圧 このようにして作成した液晶表示装置はスペーサービー
ズが強く押さえ込まれているために従来の液晶表示装置
に比べガラス基板上への押圧に対して変形量が少なく、
このため表示の変位も少なく高い表示品位を保つことが
できた。## EQU4 ## Pressure applied during temporary curing of sealant ×
(0.4-0.9) + atmospheric pressure In the liquid crystal display device prepared in this way, since the spacer beads are strongly pressed down, the deformation amount with respect to the pressing on the glass substrate is larger than that of the conventional liquid crystal display device. Less,
Therefore, high display quality was maintained with little display displacement.
【００２７】以上のように、本実施の形態によれば、液
晶表示装置の押圧によるガラス基板の変形量を小さくす
ることができ、押圧等の圧力が液晶表示装置にかかって
も従来のもののように表示品位が低下することのない優
れた表示品位の液晶表示装置を容易に製造することがで
きる。As described above, according to the present embodiment, the amount of deformation of the glass substrate due to the pressing of the liquid crystal display device can be reduced, and even if pressure such as pressing is applied to the liquid crystal display device, it is possible to reduce the deformation as in the conventional device. A liquid crystal display device having excellent display quality without lowering the display quality can be easily manufactured.
【００２８】（実施の形態２）本実施の形態に用いられ
る製造装置は、前記実施の形態１に示したものと同様で
あるので、以下、図１を参照しながら本実施の形態にお
ける液晶表示装置の製造方法および製造装置について説
明する。(Embodiment 2) The manufacturing apparatus used in the present embodiment is the same as that shown in the above-mentioned Embodiment 1, so that the liquid crystal display according to the present embodiment will be described below with reference to FIG. An apparatus manufacturing method and an apparatus will be described.
【００２９】本実施の形態においては、ＴＦＴを付加し
たガラス基板の電極側表面に透明樹脂からなるオーバー
コートを付与したガラス基板とカラーフィルターのブラ
ックマトリックスが従来の三層クロムと異なり樹脂によ
り構成され、さらにガラス基板のブラックマトリックス
や色層の塗布面上に透明樹脂からなるオーバーコートを
付与したカラーフィルターガラス基板を用いて液晶表示
装置を作成するものである。In the present embodiment, a glass substrate having a transparent substrate and an overcoat made of a transparent resin on the electrode side surface of the glass substrate to which the TFT is added, and a black matrix of a color filter are made of a resin unlike the conventional three-layer chromium. In addition, a liquid crystal display device is produced using a color filter glass substrate provided with an overcoat made of a transparent resin on a surface of a glass substrate on which a black matrix or a color layer is applied.
【００３０】最初の工程として、前記のカラーフィルタ
ーガラス基板上の所定の位置にシール剤を塗布し、球状
のスペーサー粒子を所定量散布した後、紫外線硬化樹脂
を塗布してＴＦＴを付加した前記のガラス基板と貼り合
わせ、その貼り合わせ位置が確定した時点で紫外線を照
射して紫外線硬化樹脂を硬化させ、これら２枚のガラス
基板を仮止めしてガラス基板４を構成した。In the first step, a sealing agent is applied to a predetermined position on the color filter glass substrate, a predetermined amount of spherical spacer particles are scattered, and then an ultraviolet curing resin is applied to add a TFT. The glass substrate was bonded to the glass substrate. When the bonding position was determined, the glass substrate 4 was formed by irradiating ultraviolet rays to cure the ultraviolet curable resin, and temporarily fixing the two glass substrates.
【００３１】以下、この仮止めしたガラス基板４を製造
装置に設置し、次の条件でシール剤の仮硬化を行った。
すなわち、上室を２００ｋＰａに加圧すると共に、下室
を４０ｋＰａに減圧し、１５０℃まで２０分間で昇温し
て、１５０℃で１０分間保持し、シール剤の仮硬化を行
った。The temporarily fixed glass substrate 4 was set in a manufacturing apparatus, and the sealing agent was temporarily cured under the following conditions.
That is, the upper chamber was pressurized to 200 kPa, the lower chamber was depressurized to 40 kPa, the temperature was raised to 150 ° C. for 20 minutes, and the temperature was maintained at 150 ° C. for 10 minutes to temporarily cure the sealant.
【００３２】次の工程として、シール剤の仮硬化終了
後、上室の圧力を８０ｋＰａにまで減じ、さらに、下室
の圧力を１００Ｐａ以下にまで減じて１５分間保持し、
ガラス基板内の真空加熱処理を行った。なお、シール剤
仮硬化終了後、上室の圧力を減じたのは、１５０℃の高
温下でさらに強い圧力でガラス基板を加圧し続けた場合
に発生し易い、スペーサービーズの潰れや、そのカラー
フィルター色層への食い込み、樹脂ブラックマトリック
ス内へのシール剤に混ぜたガラスファイバーの食い込
み、ガラス基板間のギャップの減少、樹脂ブラックマト
リックスの接着強度の低下等を防ぐためである。In the next step, after the temporary curing of the sealant is completed, the pressure in the upper chamber is reduced to 80 kPa, the pressure in the lower chamber is reduced to 100 Pa or less, and the pressure is maintained for 15 minutes.
A vacuum heat treatment was performed in the glass substrate. After the temporary curing of the sealant, the pressure in the upper chamber was reduced because the spacer beads and the color of the spacer beads, which are likely to be generated when the glass substrate was continuously pressed with a stronger pressure at a high temperature of 150 ° C. This is to prevent biting into the filter color layer, biting of the glass fiber mixed with the sealing agent into the resin black matrix, reduction in the gap between the glass substrates, reduction in the adhesive strength of the resin black matrix, and the like.
【００３３】ここで、比較のために実施の形態１と同様
の処理を行ったガラス基板と、従来の耐熱性の気密性樹
脂シートで真空パックして処理したガラス基板と、本実
施の形態によるガラス基板との３種類のガラス基板を所
定のサイズに割断し、同一条件で液晶の注入を行った結
果、実施の形態１と同一のシール仮硬化処理を行った
後、ガラス基板の真空加熱処理を行った本実施の形態に
よるガラス基板による液晶表示装置には気泡の発生はな
かったが、実施の形態１と同様の処理を行った液晶表示
装置では注入口に対向する角に若干の気泡の発生が見ら
れた。また、従来の真空パックによりシール仮硬化を行
った液晶表示装置では、さらに大きな気泡が注入口に対
向する角に発生した。Here, for comparison, a glass substrate treated in the same manner as in the first embodiment, a glass substrate treated by vacuum-packing with a conventional heat-resistant airtight resin sheet, As a result of cutting three types of glass substrates with a predetermined size and injecting liquid crystal under the same conditions, the same temporary sealing treatment as in Embodiment 1 was performed, and then the glass substrate was subjected to vacuum heating. In the liquid crystal display device using the glass substrate according to the present embodiment in which the process was performed, no bubbles were generated, but in the liquid crystal display device in which the same processing as in Embodiment 1 was performed, some bubbles were generated at the corner facing the injection port. Outbreaks were seen. Further, in the liquid crystal display device in which the seal was temporarily cured by the conventional vacuum pack, even larger bubbles were generated at the corner facing the injection port.
【００３４】このように、従来のガラス基板の真空加熱
処理が圧力容器に割断したガラス基板を入れ、加圧ガス
雰囲気下でガラス基板を均一に加熱し、さらにガラス基
板を貼り合わせているシール剤が剥がれないように徐々
に時間をかけて圧力を減じ、真空加熱処理するのに対
し、本実施の形態による処理はシール仮硬化時に、これ
と並行して処理することが可能であり、また、ガラス基
板を定盤と可撓性シートで押さえているためにガラス基
板内の減圧速度が速くてもガラス基板を貼り合わせてい
るシール剤が剥がれることがなく、さらに、従来の処理
方法ではシール硬化処理で加熱したガラス基板を一旦冷
却割断後、再び加熱して処理しているのに対し、本実施
の形態による処理では一度の加熱処理でシール剤の仮硬
化とガラス基板の真空加熱処理を行うことができる。As described above, the conventional glass substrate is subjected to the vacuum heating process, the cut glass substrate is placed in a pressure vessel, the glass substrate is uniformly heated under a pressurized gas atmosphere, and the glass substrate is further sealed. The pressure is gradually reduced over time so as not to peel off, and the vacuum heat treatment is performed, whereas the treatment according to the present embodiment can be performed in parallel with the seal temporary curing, Since the glass substrate is held down by the platen and the flexible sheet, the sealing agent bonded to the glass substrate does not come off even if the decompression speed inside the glass substrate is high. While the glass substrate heated in the processing is once cooled and cleaved, and then heated again, the processing according to the present embodiment temporarily cures the sealant and removes the glass substrate by a single heat treatment. Heat treatment can be performed.
【００３５】以上のように、本実施の形態によれば、液
晶表示装置の押圧によるガラス基板の変形量を小さくす
ることが可能で、押圧等の圧力が液晶表示装置にかかっ
ても従来に比べ優れた表示品位を保たせることができる
と共に、ガスの発生しやすい構成材からなる部材を用い
た場合でも従来に比べ短時間に、且つ効率的にガラス基
板を真空加熱処理することができる。As described above, according to the present embodiment, it is possible to reduce the amount of deformation of the glass substrate due to pressing of the liquid crystal display device, and even if pressure such as pressing is applied to the liquid crystal display device, as compared with the conventional one. Excellent display quality can be maintained, and the glass substrate can be efficiently vacuum-heated in a shorter time and more efficiently than in the conventional case even when a member made of a component that easily generates gas is used.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、液晶表
示装置の押圧によるガラス基板の変形量を小さくするこ
とができると共に、押圧等の圧力が液晶表示装置にかか
っても従来に比べ優れた表示品位を保たせることがで
き、また、ガスの発生しやすい構成材からなる部材を用
いた場合でも従来に比べ短時間に、且つ効率的にガラス
基板を真空加熱処理することができるという有利な効果
が得られる。As described above, according to the present invention, the amount of deformation of the glass substrate due to the pressing of the liquid crystal display device can be reduced, and even if a pressure such as pressing is applied to the liquid crystal display device, it is possible to reduce the deformation. Excellent display quality can be maintained, and even when a member made of a component that easily generates gas is used, the glass substrate can be vacuum-heated more efficiently and in a shorter time than before. An advantageous effect is obtained.
【図１】本発明の液晶表示装置の製造装置の各実施の形
態における概略構成を示す断面図FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration in each embodiment of a manufacturing apparatus of a liquid crystal display device of the present invention.
１ 恒温層 ２ 上室の処理容器 ３ シート ４ ガラス基板 ５ パッキング ６ 定盤 ７ 下室の処理容器 ８ ガス配管 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Constant temperature layer 2 Upper processing container 3 Sheet 4 Glass substrate 5 Packing 6 Surface plate 7 Lower processing container 8 Gas piping
Claims (3)
たガラス基板と、前記画素電極に対向する位置にＲＧＢ
の３色からなるカラーフィルターがマトリックス状に配
列され、その上に透明な対向電極が形成されたカラーフ
ィルターガラス基板を貼り合わせ、これらガラス基板間
に液晶を充填した液晶表示装置の製造方法であって、前
記薄膜トランジスタを付加したガラス基板とカラーフィ
ルターのガラス基板を熱硬化性樹脂をシール剤として貼
り合わせ、このシール剤を硬化させる貼り合わせ工程を
含み、この貼り合わせ工程は、前記一対のガラス基板内
のシール剤硬化後の圧力が１０ｋＰａ以下に保持される
ように設定されていることを特徴とする液晶表示装置の
製造方法。1. A glass substrate having a thin film transistor added to each pixel electrode, and RGB at a position facing the pixel electrode.
A color filter comprising three colors is arranged in a matrix, a color filter glass substrate on which a transparent counter electrode is formed is laminated, and a liquid crystal is filled between these glass substrates. And bonding the glass substrate to which the thin film transistor is attached and the glass substrate of the color filter with a thermosetting resin as a sealant, and curing the sealant. Wherein the pressure after the curing of the sealant inside is set to 10 kPa or less.
ル硬化工程を有し、前記シール硬化工程は一対のガラス
基板内の圧力が６０ｋＰａ以下、両ガラス基板を押さえ
る圧力が大気圧を超える圧力〜４００ｋＰａ、シール剤
硬化温度が１２０〜１６０℃でシール剤を硬化させるよ
うに設定され、さらにまた、シール硬化工程の後には前
記一対のガラス基板間への液晶注入後、前記液晶を注入
するために設けたシールの開口部を前記一対のガラス基
板を押さえながら封口する封止工程をさらに有し、前記
封止工程は封口時の前記一対のガラス基板を押さえる圧
力が次式を満足する値になるように設定されている 【数１】貼り合わせ時のガラス基板を押さえる圧力×
（０．４〜０．９）＋大気圧 ことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方
法。2. The bonding step includes a seal hardening step after bonding. In the seal hardening step, the pressure in the pair of glass substrates is 60 kPa or less, and the pressure for holding the two glass substrates exceeds the atmospheric pressure. 400 kPa, the sealant curing temperature is set to cure the sealant at 120 to 160 ° C. Further, after the seal curing step, after injecting the liquid crystal between the pair of glass substrates, in order to inject the liquid crystal. The method further includes a sealing step of closing the opening of the provided seal while holding the pair of glass substrates, and the sealing step is such that a pressure for holding the pair of glass substrates at the time of sealing satisfies the following expression. [Equation 1] Pressure for holding down the glass substrate during bonding ×
The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein (0.4 to 0.9) + atmospheric pressure.
ことが可能な２つの室を上下に有し、これら２つの室は
耐熱性、気密性および可撓性を有するシートにより隔絶
されると共に、前記下室底部にはガラス基板が設置可能
な定盤を備えたことを特徴とする液晶表示装置の製造装
置。3. There are two chambers above and below which can change the gas pressure and temperature in the chamber, and these two chambers are separated by a heat-resistant, airtight and flexible sheet, An apparatus for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a platen on which a glass substrate can be placed at the bottom of the lower chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001120A JP2000199911A (en) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | Production of liquid crystal display device and its apparatus thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11001120A JP2000199911A (en) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | Production of liquid crystal display device and its apparatus thereof |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000199911A true JP2000199911A (en) | 2000-07-18 |
Family
ID=11492608
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11001120A Pending JP2000199911A (en) | 1999-01-06 | 1999-01-06 | Production of liquid crystal display device and its apparatus thereof |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000199911A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002149079A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Method and device for controlling gap width, production method for display panel, method and device for applying pressure |
| WO2006046379A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Shin-Etsu Engineering Co., Ltd. | Adhesive chuck device |
| KR100662499B1 (en) * | 2002-11-18 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | substrates bonding device for manufacturing of liquid crystal display |
| CN108700784A (en) * | 2016-02-22 | 2018-10-23 | 富士胶片株式会社 | Plastic unit and its manufacturing method |
-
1999
- 1999-01-06 JP JP11001120A patent/JP2000199911A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002149079A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | Method and device for controlling gap width, production method for display panel, method and device for applying pressure |
| JP4485042B2 (en) * | 2000-10-30 | 2010-06-16 | エーユー オプトロニクス コーポレイション | Gap width adjusting method, gap width adjusting device and display panel manufacturing method |
| KR100662499B1 (en) * | 2002-11-18 | 2007-01-02 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | substrates bonding device for manufacturing of liquid crystal display |
| WO2006046379A1 (en) * | 2004-10-28 | 2006-05-04 | Shin-Etsu Engineering Co., Ltd. | Adhesive chuck device |
| CN100447622C (en) * | 2004-10-28 | 2008-12-31 | 信越工程株式会社 | Adhesive chuck device |
| CN108700784A (en) * | 2016-02-22 | 2018-10-23 | 富士胶片株式会社 | Plastic unit and its manufacturing method |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH034888B2 (en) | ||
| JPH10115833A (en) | Production of liquid crystal display element | |
| JPS63109413A (en) | Production of liquid crystal display | |
| JP2000199911A (en) | Production of liquid crystal display device and its apparatus thereof | |
| JPS61190313A (en) | Manufacture of liquid-crystal panel | |
| JP2004053851A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display device | |
| JPS61145586A (en) | Manufacture of liquid crystal display unit | |
| JP3632457B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal device | |
| JPH10104562A (en) | Production of liquid crystal display and apparatus for production | |
| JP3383556B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display device | |
| JPH04291320A (en) | Production of liquid crystal panel | |
| JPH04275527A (en) | Production of liquid crystal display panel | |
| JPH11174458A (en) | Press-bonding device and manufacture of liquid crystal display device using it | |
| KR970000346B1 (en) | Pressing method by air pressure of liquid crystal panel | |
| JPH07181506A (en) | Production of liquid crystal display panel | |
| JPS60175033A (en) | Production for liquid crystal display element | |
| JPWO2005036247A1 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display panel | |
| JPH11119233A (en) | Production of display device | |
| JP2023135376A (en) | Solar cell module and manufacturing method of the same | |
| JP2828796B2 (en) | Manufacturing method of liquid crystal display element | |
| JPH06175097A (en) | Liquid crystal display device and its production | |
| JPH1184401A (en) | Production of liquid crystal display device | |
| JPH04106526A (en) | Manufacture of liquid crystal display element | |
| JP2012008395A (en) | Method for manufacturing liquid crystal display panel | |
| JPH0378724A (en) | Production of liquid crystal panel |