JP2000187106A - 半透過性反射板 - Google Patents
半透過性反射板Info
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- JP2000187106A JP2000187106A JP10364584A JP36458498A JP2000187106A JP 2000187106 A JP2000187106 A JP 2000187106A JP 10364584 A JP10364584 A JP 10364584A JP 36458498 A JP36458498 A JP 36458498A JP 2000187106 A JP2000187106 A JP 2000187106A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光の利用効率が高く、半透過反射型液晶表示装
置のおいて反射モードであっても透過モードであっても
共に十分な明るさの表示を与え得る半透過反射板を提供
する。 【解決手段】 透光性基板上に、該透光性基板側から空
気層側へ順に、屈折率が２．２〜２．５であり厚みが
０．２λ〜０．３λである無機誘電体からなる第１層
と、厚み３０〜３００Åの金属からなる第２層とを有し
ていることを特徴とする半透過性反射板。
置のおいて反射モードであっても透過モードであっても
共に十分な明るさの表示を与え得る半透過反射板を提供
する。 【解決手段】 透光性基板上に、該透光性基板側から空
気層側へ順に、屈折率が２．２〜２．５であり厚みが
０．２λ〜０．３λである無機誘電体からなる第１層
と、厚み３０〜３００Åの金属からなる第２層とを有し
ていることを特徴とする半透過性反射板。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半透過性反射板に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から反射型液晶表示装置は、薄型、
低消費電力が要求される電卓、時計等の表示素子の用途
に使用されてきた。近年、画質の向上やカラー化が進
み、携帯情報末端等に用いられるようになり、反射型の
液晶表示装置の利用は急速に広がってきている。
低消費電力が要求される電卓、時計等の表示素子の用途
に使用されてきた。近年、画質の向上やカラー化が進
み、携帯情報末端等に用いられるようになり、反射型の
液晶表示装置の利用は急速に広がってきている。
【０００３】これらの反射型液晶表示装置は、外光を利
用して表示しているために、暗いところでは表示が見え
ない。外光がない場合にも表示が見えるように、反射型
液晶表示装置と透過型液晶表示装置の特徴を併せ持った
半透過反射型の液晶表示装置が利用されている。この半
透過反射型の液晶表示装置は、液晶表示素子の背面側に
半透過半反射性を有する半透過反射板を配置して液晶表
示素子の前方からの光を反射する反射モードで使用し得
るとともに、外部が暗いときには該半透過反射板の背面
側に配置されたバックライトを点灯して半透過性反射板
を透過する光により表示する透過モードでも使用し得る
ものである。
用して表示しているために、暗いところでは表示が見え
ない。外光がない場合にも表示が見えるように、反射型
液晶表示装置と透過型液晶表示装置の特徴を併せ持った
半透過反射型の液晶表示装置が利用されている。この半
透過反射型の液晶表示装置は、液晶表示素子の背面側に
半透過半反射性を有する半透過反射板を配置して液晶表
示素子の前方からの光を反射する反射モードで使用し得
るとともに、外部が暗いときには該半透過反射板の背面
側に配置されたバックライトを点灯して半透過性反射板
を透過する光により表示する透過モードでも使用し得る
ものである。
【０００４】しかしながら、かかる半透過反射型液晶表
示装置に用いられる半透過反射板の光利用効率（透過率
と反射率との和）は必ずしも１００％となるものではな
いため、反射モードおよび透過モードにおいて共に明る
い表示を得られるものであるとは言えなかった。
示装置に用いられる半透過反射板の光利用効率（透過率
と反射率との和）は必ずしも１００％となるものではな
いため、反射モードおよび透過モードにおいて共に明る
い表示を得られるものであるとは言えなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者は、
光の利用効率が高く、半透過反射型液晶表示装置のおい
て反射モードであっても透過モードであっても共に十分
な明るさの表示を与え得る半透過反射板を開発するべ
く、鋭意検討した結果、基材の表面に特定の屈折率を有
する第１層と特定の厚みの金属からなる第２層とを設け
ることにより得られる半透過反射板は光の利用効率が十
分高い半透過反射板であることを見出し、本発明に至っ
た。
光の利用効率が高く、半透過反射型液晶表示装置のおい
て反射モードであっても透過モードであっても共に十分
な明るさの表示を与え得る半透過反射板を開発するべ
く、鋭意検討した結果、基材の表面に特定の屈折率を有
する第１層と特定の厚みの金属からなる第２層とを設け
ることにより得られる半透過反射板は光の利用効率が十
分高い半透過反射板であることを見出し、本発明に至っ
た。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
光性基板上に、該透光性基板側から空気層側へ順に、屈
折率が２．２〜２．５であり厚みが０．２λ〜０．３λ
である無機誘電体からなる第１層と、厚み３０〜３００
Åの金属からなる第２層とを有していることを特徴とす
る半透過性反射板を提供するものである。
光性基板上に、該透光性基板側から空気層側へ順に、屈
折率が２．２〜２．５であり厚みが０．２λ〜０．３λ
である無機誘電体からなる第１層と、厚み３０〜３００
Åの金属からなる第２層とを有していることを特徴とす
る半透過性反射板を提供するものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の半透過性反射板はに用いられる透光性基板は、
板状であってもよいし、フィルム状であってもよいし、
シート状であってもよい。透光性基板は、透光性であれ
ば特に限定されるものではなく、例えばセルロース系高
分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高
分子、ポリエステル系高分子、アクリル系高分子、ファ
ンクショナルノルボルネン系高分子、ポリサルフォン、
ポリエーテルサルホン等の樹脂製の基板やガラス製の基
板などが挙げられる。また、偏光板、バックライト用の
導光板などのような板状、フィルム状、シート上の光学
部品を基板として用いることも可能である。
本発明の半透過性反射板はに用いられる透光性基板は、
板状であってもよいし、フィルム状であってもよいし、
シート状であってもよい。透光性基板は、透光性であれ
ば特に限定されるものではなく、例えばセルロース系高
分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高
分子、ポリエステル系高分子、アクリル系高分子、ファ
ンクショナルノルボルネン系高分子、ポリサルフォン、
ポリエーテルサルホン等の樹脂製の基板やガラス製の基
板などが挙げられる。また、偏光板、バックライト用の
導光板などのような板状、フィルム状、シート上の光学
部品を基板として用いることも可能である。
【０００８】透光性基板はその表面上に、無機誘電体か
らなる第１層との密着性を向上するための中間層を有し
ていてもよい。中間層としては、例えばアクリル系樹
脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、カルド樹脂、ポ
リシラザンなどの高分子からなる高分子膜が挙げられ
る。また、厚み３０Å〜２００Å程度のＳｉＯx、Ａｌ2
Ｏ 3などの無機誘電体層やＣｒなどの金属層を用いるこ
とも可能である。透光性基板の無機誘電体層を形成する
面には、表面処理を行ってもよい。表面処理方法につい
ては特に限定されないが、真空中での加熱処理や、コロ
ナ処理、イオンボンバード処理、プラズマ処理、紫外線
照射、紫外線照射などが例示できる。
らなる第１層との密着性を向上するための中間層を有し
ていてもよい。中間層としては、例えばアクリル系樹
脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂、カルド樹脂、ポ
リシラザンなどの高分子からなる高分子膜が挙げられ
る。また、厚み３０Å〜２００Å程度のＳｉＯx、Ａｌ2
Ｏ 3などの無機誘電体層やＣｒなどの金属層を用いるこ
とも可能である。透光性基板の無機誘電体層を形成する
面には、表面処理を行ってもよい。表面処理方法につい
ては特に限定されないが、真空中での加熱処理や、コロ
ナ処理、イオンボンバード処理、プラズマ処理、紫外線
照射、紫外線照射などが例示できる。
【０００９】この半透過性反射板は、光拡散性を付与す
る目的で、その片面または両面に凹凸を有しているもの
を用いることもできる。凹凸は、例えばシリカゲル、樹
脂ビーズ、ガラスビーズなどを樹脂に分散した層を付与
する方法や、エッチング処理、マット処理などにより設
けることができる。
る目的で、その片面または両面に凹凸を有しているもの
を用いることもできる。凹凸は、例えばシリカゲル、樹
脂ビーズ、ガラスビーズなどを樹脂に分散した層を付与
する方法や、エッチング処理、マット処理などにより設
けることができる。
【００１０】無機誘電体からなる第１層を構成する無機
誘電体は、屈折率が２．２〜２．５であり、可視光で透
明である層を形成し得る無機誘電体であればよく、特に
屈折率が２．３以上であるＴｉＯ2（屈折率は２．３
３）、ＺｎＳ（屈折率は２．３７）などが好ましい。
誘電体は、屈折率が２．２〜２．５であり、可視光で透
明である層を形成し得る無機誘電体であればよく、特に
屈折率が２．３以上であるＴｉＯ2（屈折率は２．３
３）、ＺｎＳ（屈折率は２．３７）などが好ましい。
【００１１】第１層は、厚みが０．２λ〜０．３λであ
ることが必要であり、特に好ましくは０．２３〜０．２
７λである。ここでλとは、設計波長であり、液晶表示
装置に用いる場合には通常、５００ｎｍ〜６００ｎｍの
波長範囲から任意に設定され、一般的には５５０ｎｍと
して設定される。
ることが必要であり、特に好ましくは０．２３〜０．２
７λである。ここでλとは、設計波長であり、液晶表示
装置に用いる場合には通常、５００ｎｍ〜６００ｎｍの
波長範囲から任意に設定され、一般的には５５０ｎｍと
して設定される。
【００１２】金属からなる第２層を構成する金属は、着
色の少ない層を与え得る金属であることが好ましく、中
でも着色が少なく反射率の大きいＡｌ、Ａｇ、Ｃｒなど
が特に好ましく使用される。かかる第２層の厚みは、透
光性の点で、３０Å〜３００Åの範囲であることが必要
である。また、金属からなる第２層が空気により酸化し
やすい場合や接着剤層なとによって腐食され易い場合な
どには、該第２層の上に保護層を設けてもよい。保護層
としては、ＳｉＯx層などが例示される。
色の少ない層を与え得る金属であることが好ましく、中
でも着色が少なく反射率の大きいＡｌ、Ａｇ、Ｃｒなど
が特に好ましく使用される。かかる第２層の厚みは、透
光性の点で、３０Å〜３００Åの範囲であることが必要
である。また、金属からなる第２層が空気により酸化し
やすい場合や接着剤層なとによって腐食され易い場合な
どには、該第２層の上に保護層を設けてもよい。保護層
としては、ＳｉＯx層などが例示される。
【００１３】かかる第１層および第２層は、例えば電子
ビーム蒸着法、誘導加熱方式蒸着法、抵抗加熱蒸着法、
スパッタリング法などの方法を用いて透光性基板上に設
けることができる。第１層、２層を製造する装置として
は、透光性基板が板状、シート状である場合には、バッ
チ式、インライン式など製造装置が用いられる。透光性
基板がフィルム状である場合には、巻き取り式の真空成
膜装置を用いることもできる。
ビーム蒸着法、誘導加熱方式蒸着法、抵抗加熱蒸着法、
スパッタリング法などの方法を用いて透光性基板上に設
けることができる。第１層、２層を製造する装置として
は、透光性基板が板状、シート状である場合には、バッ
チ式、インライン式など製造装置が用いられる。透光性
基板がフィルム状である場合には、巻き取り式の真空成
膜装置を用いることもできる。
【００１４】この半透過性反射板は、必要に応じて光拡
散性を付与する目的で、光拡散層と組み合わせて、拡散
性半透過反射板として用いることもできる。組み合わせ
の方法としては、シリカゲル、樹脂ビーズ、ガラスビー
ズなどを樹脂に分散した層を半透過半反射板上に設ける
方法、シリカゲル、樹脂ビーズ、ガラスビーズなどを樹
脂に分散した層を形成したフィルムやエッチング処理、
マット処理などにより凹凸面を形成したフィルムを接着
剤層を介して半透過性反射板に積層する方法や樹脂ビー
ズ、ガラスビーズなどを分散した光拡散性粘着剤層を半
透過性反射板上に形成する方法などが挙げられる。
散性を付与する目的で、光拡散層と組み合わせて、拡散
性半透過反射板として用いることもできる。組み合わせ
の方法としては、シリカゲル、樹脂ビーズ、ガラスビー
ズなどを樹脂に分散した層を半透過半反射板上に設ける
方法、シリカゲル、樹脂ビーズ、ガラスビーズなどを樹
脂に分散した層を形成したフィルムやエッチング処理、
マット処理などにより凹凸面を形成したフィルムを接着
剤層を介して半透過性反射板に積層する方法や樹脂ビー
ズ、ガラスビーズなどを分散した光拡散性粘着剤層を半
透過性反射板上に形成する方法などが挙げられる。
【００１５】この半透過性反射板は、偏光体層と組み合
わせて半透過性反射偏光板として使用することができ
る。組み合わせ方法としては、透光性基板に偏光板を用
いてその上に半透過性反射層を形成する方法や、この半
透過性反射板を粘着層を介して偏光板と積層する方法等
がある。
わせて半透過性反射偏光板として使用することができ
る。組み合わせ方法としては、透光性基板に偏光板を用
いてその上に半透過性反射層を形成する方法や、この半
透過性反射板を粘着層を介して偏光板と積層する方法等
がある。
【００１６】
【発明の効果】本発明の半透明性反射板は、光の利用効
率が高く、半透過反射型液晶表示装置に装着したとき
に、反射モードのときも透過モードのときにも明るい表
示を得ることができる。
率が高く、半透過反射型液晶表示装置に装着したとき
に、反射モードのときも透過モードのときにも明るい表
示を得ることができる。
【００１７】
【実施例】本発明を実施例でさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００１８】なお、得られた半透過性反射膜の評価は次
の通りに行った。（株）島津製作所製、「ＵＶ−２２０
０」を用いて、反射スペクトル（絶対反射率）、透過ス
ペクトルを測定し、最も視感度の高い波長５５０ｎｍの
ときの光の利用効率（反射率Ｒと透過率Ｔの和）を評価
した。
の通りに行った。（株）島津製作所製、「ＵＶ−２２０
０」を用いて、反射スペクトル（絶対反射率）、透過ス
ペクトルを測定し、最も視感度の高い波長５５０ｎｍの
ときの光の利用効率（反射率Ｒと透過率Ｔの和）を評価
した。
【００１９】実施例１ トリアセチルセルロースフィルム（商品名 フジＴＡＣ
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚さ約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＺｎＳ層（屈折率
２．３７、厚み５８０Å）、Ａｇ層（屈折率０．０５
５、厚み２００Å）を順次形成して半透過性反射板を得
た。それぞれの層の付与は以下のような条件で行った。
透光性基板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧
２×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力１．５
ＫＷ、蒸着材料（ＺｎＳ）を用いて、真空蒸着法により
厚み５８０ÅのＺｎＳ層を形成した。続いて、電子銃出
力３．５ＫＷ、蒸着材料としてＡｇを用いて、真空蒸着
法により厚み２００ÅのＡｇ層を形成した。得られた半
透過性反射板の反射スペクトル、透過スペクトルを図１
に示す。この半透過性反射板の光の利用効率は９７％で
あった。
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚さ約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＺｎＳ層（屈折率
２．３７、厚み５８０Å）、Ａｇ層（屈折率０．０５
５、厚み２００Å）を順次形成して半透過性反射板を得
た。それぞれの層の付与は以下のような条件で行った。
透光性基板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧
２×１０-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力１．５
ＫＷ、蒸着材料（ＺｎＳ）を用いて、真空蒸着法により
厚み５８０ÅのＺｎＳ層を形成した。続いて、電子銃出
力３．５ＫＷ、蒸着材料としてＡｇを用いて、真空蒸着
法により厚み２００ÅのＡｇ層を形成した。得られた半
透過性反射板の反射スペクトル、透過スペクトルを図１
に示す。この半透過性反射板の光の利用効率は９７％で
あった。
【００２０】実施例２ トリアセチルセルロースフィルム（商品名 フジＴＡＣ
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚み約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＺｎＳ層（屈折率
２．４３、厚み５８０Å）、Ｃｒ層（屈折率２．３８、
厚み５０Å）を順次形成して半透過性反射板を得た。そ
れぞれの層の付与は以下のような条件で行った。透光性
基板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧２×１
０-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力１．５ＫＷ、
蒸着材料（ＺｎＳ）を用いて、真空蒸着法により厚み５
８０ÅのＺｎＳ層を形成した。続いて電子銃出力１．８
ＫＷ、蒸着材料としてＣｒを用いて、真空蒸着法により
厚さ５０ÅのＣｒ層を形成した。得られた半透過性反射
板の反射スペクトル、透過スペクトルを図２に示す。こ
の半透過性反射板の光の利用効率は８９％であった。
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚み約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＺｎＳ層（屈折率
２．４３、厚み５８０Å）、Ｃｒ層（屈折率２．３８、
厚み５０Å）を順次形成して半透過性反射板を得た。そ
れぞれの層の付与は以下のような条件で行った。透光性
基板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧２×１
０-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力１．５ＫＷ、
蒸着材料（ＺｎＳ）を用いて、真空蒸着法により厚み５
８０ÅのＺｎＳ層を形成した。続いて電子銃出力１．８
ＫＷ、蒸着材料としてＣｒを用いて、真空蒸着法により
厚さ５０ÅのＣｒ層を形成した。得られた半透過性反射
板の反射スペクトル、透過スペクトルを図２に示す。こ
の半透過性反射板の光の利用効率は８９％であった。
【００２１】比較例１ トリアセチルセルロースフィルム（商品名 フジＴＡＣ
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚さ約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＡｌ層（屈折率
０．７６、厚み５０Å）を一層形成して半透過性反射板
を得た。Ａｌ層の付与は以下のような条件で行った。基
板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧２×１０
-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力３．５ＫＷ、蒸
着材料としてＡｌを用いて、真空蒸着法により厚さ５０
ÅのＡｌ層を形成した。得られた半透過性反射板の反射
スペクトル、透過スペクトルを図３に示す。この半透過
性反射板の光の利用効率は８０％であった。
ＳＨ−８０ 富士写真フィルム（株）製）上に厚さ約
５μｍのアクリル系樹脂膜を形成した透明高分子フィル
ムを透光性基板として使用し、基板にＡｌ層（屈折率
０．７６、厚み５０Å）を一層形成して半透過性反射板
を得た。Ａｌ層の付与は以下のような条件で行った。基
板を真空蒸着機内のホルダーにセットし、気圧２×１０
-5Ｔｏｒｒまで排気した後、電子銃出力３．５ＫＷ、蒸
着材料としてＡｌを用いて、真空蒸着法により厚さ５０
ÅのＡｌ層を形成した。得られた半透過性反射板の反射
スペクトル、透過スペクトルを図３に示す。この半透過
性反射板の光の利用効率は８０％であった。
【図１】実施例１で得た半透過性反射板の分光反射率と
分光透過率を示すグラフである。
分光透過率を示すグラフである。
【図２】実施例２で得た半透過性反射板の分光反射率と
分光透過率を示すグラフである。
分光透過率を示すグラフである。
【図３】比較例１で得た半透過性反射板の分光反射率と
分光透過率を示すグラフである。
分光透過率を示すグラフである。
フロントページの続き (72)発明者 蔵田 信行 大阪府高槻市塚原２丁目10番１号 住友化 学工業株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA02 DA03 DA04 DA11 DA12 DA14 DA15 DA18 DA21 DB01 DC02 DE00 2H091 FA08X FA08Z FA15Z FB06 FB08 FC18 FC23 FC25 FC26 FC27 FD06 FD14 GA17 KA01 LA03
Claims (8)
- 【請求項１】透光性基板上に、該透光性基板側から空気
層側へ順に、屈折率が２．２〜２．５である無機誘電体
からなる厚みが０．２λ〜０．３λである第１層と、金
属からなり厚み３０〜３００Åである第２層とを有して
いることを特徴とする半透過性反射板。 - 【請求項２】無機誘電体が、ＺｎＳまたはＴｉＯ2であ
る請求項１に記載の半透過性反射板。 - 【請求項３】金属からなる第２層がＡｌ、ＡｇまたはＣ
ｒからなる層である請求項１または請求項２に記載の半
透過性反射板。 - 【請求項４】透明基板は片面または両面に凹凸を有する
請求項１、請求項２または請求項３に記載の半透過反射
板。 - 【請求項５】透光性基板が偏光板である請求項１に記載
の半透過性反射板。 - 【請求項６】請求項１に記載の半透過反射板の片面また
は両面に、光拡散性物質が分散されている接着剤層を有
する拡散性半透過反射板。 - 【請求項７】請求項１に記載の半透過性反射板が偏光板
に積層されている半透過性反射偏光板。 - 【請求項８】請求項１記載の半透過性反射板が組込まれ
ている液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10364584A JP2000187106A (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | 半透過性反射板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10364584A JP2000187106A (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | 半透過性反射板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000187106A true JP2000187106A (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=18482175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10364584A Pending JP2000187106A (ja) | 1998-12-22 | 1998-12-22 | 半透過性反射板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000187106A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002169150A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kyocera Corp | 液晶表示装置 |
| JP2002214602A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Kyocera Corp | 液晶表示装置 |
| JP2006010854A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Sharp Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
| US7820252B2 (en) | 2001-07-02 | 2010-10-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Transflective film, transflective polarizer, and polarizing light source device and liquid crystal display device using the same |
-
1998
- 1998-12-22 JP JP10364584A patent/JP2000187106A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002169150A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Kyocera Corp | 液晶表示装置 |
| JP2002214602A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Kyocera Corp | 液晶表示装置 |
| US7820252B2 (en) | 2001-07-02 | 2010-10-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Transflective film, transflective polarizer, and polarizing light source device and liquid crystal display device using the same |
| JP2006010854A (ja) * | 2004-06-23 | 2006-01-12 | Sharp Corp | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
| JP4531458B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2010-08-25 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法 |
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