JP2000162977A - Anode substrate having filter and display device having substrate with filter, and manufacture thereof - Google Patents
Anode substrate having filter and display device having substrate with filter, and manufacture thereofInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、無機顔料からなる
フィルター等を有する陽極基板とフィルター付き基板を
有する表示装置及びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a display device having an anode substrate having a filter or the like made of an inorganic pigment and a display device having a filter, and a method of manufacturing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】表示品位の向上を目的とし、発光表示部
の表示機能に光学的な効果を付与するためフィルター層
を有する表示装置がある。この種のフィルター層は、単
層又は多層の金属薄膜や無機顔料からなるブラックマト
リクスと、無機顔料からなるＲ（赤色），Ｂ（青色），
Ｇ（緑色）によるカラーフィルターからなり、基板の全
面を覆うように形成されている。2. Description of the Related Art There is a display device having a filter layer for imparting an optical effect to a display function of a light-emitting display unit for the purpose of improving display quality. This type of filter layer includes a black matrix composed of a single-layer or multilayer metal thin film or inorganic pigment, and R (red), B (blue),
It is formed of a color filter of G (green) and is formed so as to cover the entire surface of the substrate.
【０００３】ところで、上記フィルター層は、粒径が数
十ｎｍの微粒子の固まりで非常にもろく、その硬度も９
Ｂ以下と低く接触しただけで剥がれるものである。この
ため、フィルター層の上に直接陽極導体を形成すること
ができない。[0003] The above-mentioned filter layer is very fragile as a mass of fine particles having a particle size of several tens of nm, and has a hardness of 9 μm.
It is peeled off only by making low contact with B or less. Therefore, the anode conductor cannot be formed directly on the filter layer.
【０００４】したがって、上記フィルター層を表示装置
の基板上に形成する場合には、フィルター層を覆い、そ
の表面を平坦化する必要があった。その際、フィルター
層は厚さが数μｍ〜１０μｍになるので、その表面を平
坦化するためには１０μｍ以上の厚さに成膜できる材料
でフィルター層を覆う必要がある。Therefore, when the above-mentioned filter layer is formed on a substrate of a display device, it is necessary to cover the filter layer and flatten its surface. At this time, the filter layer has a thickness of several μm to 10 μm. Therefore, in order to flatten the surface, it is necessary to cover the filter layer with a material that can be formed into a thickness of 10 μm or more.
【０００５】そこで、図６に示すように、基板３１上の
ブラックマトリクス３２ａとカラーフィルター３２ｂか
らなるフィルター層３２の上に例えばＰｂ系、Ｚｎ系、
Ｐｂ−Ｚｎ系、Ｂｉ系、Ｂｉ−Ｚｎ系等の低融点ガラス
からなるオーバーコートガラス層３３を平滑層としてス
クリーン印刷法により形成した後、その上に陽極導体３
４を形成していた。この低融点ガラスからなるオーバー
コートガラス層３３は、粒径が数μｍ〜数１０μｍのガ
ラスフリットを軟化→流動→冷却→固化のプロセスで作
製される。Therefore, as shown in FIG. 6, a Pb-based, Zn-based,
After forming an overcoat glass layer 33 made of a low-melting glass such as a Pb-Zn system, a Bi system, or a Bi-Zn system as a smooth layer by a screen printing method, the anode conductor 3 is formed thereon.
4 had been formed. The overcoat glass layer 33 made of the low-melting glass is produced by softening, flowing, cooling, and solidifying a glass frit having a particle size of several μm to several tens μm.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たオーバーコートガラス層３３には、ガラスフリット粒
子間の空隙によってもたらされた気泡やピンホールが多
数存在し、その上に形成される陽極導体（例えばＩＴＯ
等の透明導電膜）３４にしばしば断線不良を引き起こす
という問題があった（図６の一点鎖線で囲まれた部
分）。However, in the above-mentioned overcoat glass layer 33, there are many bubbles and pinholes caused by the gaps between the glass frit particles, and the anode conductor ( For example, ITO
There is a problem that the disconnection failure often occurs in the transparent conductive film (such as a transparent conductive film) 34 (portion surrounded by a dashed line in FIG. 6).
【０００７】ところで、上記低融点ガラス以外に、シリ
カゾル膜や透明絶縁膜を平滑層としてフィルター層を覆
うように形成することも考えられるが、いずれの平滑層
も以下に示すような問題点があった。Incidentally, in addition to the low melting point glass, a silica sol film or a transparent insulating film may be formed as a smooth layer so as to cover the filter layer. However, any of the smooth layers has the following problems. Was.
【０００８】シリカゾル膜からなる平滑層は、有機Ｓｉ
化合物からなるゾル−ゲル膜であり、その膜厚は厚くて
も１μｍ程度である。このため、数μｍの凹凸を持つ無
機顔料からなるフィルター層の表面を平滑化することが
できなかった。The smooth layer made of the silica sol film is made of organic Si
It is a sol-gel film made of a compound, and its thickness is at most about 1 μm. For this reason, it was not possible to smooth the surface of the filter layer made of an inorganic pigment having irregularities of several μm.
【０００９】例えばＳｉＯ、ＳｉＮ等の透明絶縁膜から
なる平滑層は、スパッタ法やＣＶＤ法により成膜される
が、これらの方法で成膜した透明絶縁膜による平滑層は
厚膜形成できるものの、無機顔料からなるフィルター層
の凹凸を継承してしまうため、フィルター層上に平坦な
膜を得ることができなかった。For example, a smooth layer made of a transparent insulating film such as SiO, SiN or the like is formed by a sputtering method or a CVD method. Since the unevenness of the filter layer made of an inorganic pigment is inherited, a flat film cannot be obtained on the filter layer.
【００１０】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、無機顔料層上の表面を平滑化でき、
その上に形成される陽極導体の断線不良を低減すること
ができる表示装置の陽極基板とフィルター付基板を有す
る表示装置及びその製造方法を提供することを目的とし
ている。In view of the above, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and can smoothen the surface of an inorganic pigment layer.
An object of the present invention is to provide a display device having an anode substrate and a filter-equipped substrate of a display device capable of reducing disconnection failure of an anode conductor formed thereon, and a method of manufacturing the same.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明に係るフィルターを有する陽極基板
は、基板上に形成されたフィルターを含む無機顔料層
と、該無機顔料層の上に接着層を介して接着された平滑
な薄板ガラスと、該薄板ガラスの上に前記フィルターに
対向してパターン形成された透光性を有する陽極導体と
を備えたことを特徴とする。In order to achieve the above object, an anode substrate having a filter according to the first aspect of the present invention comprises an inorganic pigment layer including a filter formed on the substrate, and an inorganic pigment layer formed on the inorganic pigment layer. A flat glass sheet adhered to the thin glass sheet via an adhesive layer, and a light-transmitting anode conductor patterned on the thin glass sheet so as to face the filter.
【００１２】請求項２の発明は、請求項１のフィルター
を有する陽極基板において、前記接着層が低融点ガラス
又は有機Ｓｉ化合物からなることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, in the anode substrate having the filter according to the first aspect, the adhesive layer is made of a low melting point glass or an organic Si compound.
【００１３】請求項３の発明に係るフィルター付き基板
を有する表示装置は、基板上に形成されたフィルターを
含む無機顔料層と、該無機顔料層の上に接着層を介して
接着された平滑な薄板ガラスと、該薄板ガラスの上に前
記フィルターと対向してパターン形成された透光性を有
する陽極導体と、該陽極導体の上に形成された表示部
と、前記基板上に設けられて前記表示部を覆う封止部と
を備えたことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a display device having a filter-equipped substrate, comprising: an inorganic pigment layer including a filter formed on the substrate; and a smooth surface adhered on the inorganic pigment layer via an adhesive layer. A thin glass, a light-transmissive anode conductor patterned and opposed to the filter on the thin glass, a display portion formed on the anode conductor, and provided on the substrate; A sealing portion for covering the display portion.
【００１４】請求項４の発明は、請求項３のフィルター
付き基板を有する表示装置において、前記接着層が低融
点ガラス又は有機Ｓｉ化合物からなることを特徴とす
る。According to a fourth aspect of the present invention, in the display device having the substrate with a filter according to the third aspect, the adhesive layer is made of a low melting point glass or an organic Si compound.
【００１５】請求項５の発明に係るフィルター付基板を
有する表示装置の製造方法は、基板上に形成された無機
顔料層の上に接着層を形成し、該接着層の上に平滑な薄
板ガラスを載せて所定の荷重を与えた状態で焼成し、前
記薄板ガラスの上に前記フィルターに対向させて透光性
を有する陽極導体をパターン形成し、該陽極導体の上に
表示部を形成し、前記基板の上に前記表示部を覆う封止
部を被せて封着することを特徴とする。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display device having a substrate with a filter, wherein an adhesive layer is formed on an inorganic pigment layer formed on the substrate, and a flat sheet glass is formed on the adhesive layer. Is fired in a state of applying a predetermined load, and a transparent anode conductor having a pattern is formed on the thin plate glass so as to face the filter, and a display portion is formed on the anode conductor. It is characterized in that a sealing portion for covering the display portion is put on the substrate and sealed.
【００１６】請求項６の発明に係るフィルター付基板を
有する表示装置の製造方法は、基板上に形成された無機
顔料層の上に接着層を形成し、予め平滑な薄板ガラスの
上面側に前記フィルターと対向するように透光性を有す
る陽極導体をパターン形成しておき、前記接着層の上に
平滑な薄板ガラスを載せて所定の荷重を与えた状態で焼
成し、前記陽極導体の上に表示部を形成し、前記基板の
上に前記表示部を覆う封止部を被せて封着することを特
徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a display device having a substrate with a filter, wherein an adhesive layer is formed on an inorganic pigment layer formed on the substrate, and the adhesive layer is formed on an upper surface side of a smooth thin glass in advance. A light-transmissive anode conductor is formed in a pattern so as to face the filter, and a flat sheet glass is placed on the adhesive layer and baked under a predetermined load, and is baked on the anode conductor. A display portion is formed, and a sealing portion covering the display portion is put on the substrate and sealed.
【００１７】請求項７の発明は、請求項５又は６のフィ
ルター付き基板を有する表示装置の製造方法において、
前記接着層が低融点ガラス又は有機Ｓｉ化合物からなる
ことを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a display device having a substrate with a filter according to the fifth or sixth aspect,
The adhesive layer is made of low-melting glass or an organic Si compound.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】図１（ａ）〜（ｅ）は本発明の実
施の形態を示す図であり、透光性の高い低融点ガラスに
より接着層を形成するときの製造工程を示す図、図２は
無機顔料層が形成された状態を示す図、図３（ａ）〜
（ｃ）は透光性の低い低融点ガラスにより接着層を形成
するときの無機顔料層が形成された以降の製造工程を示
す図である。1 (a) to 1 (e) are views showing an embodiment of the present invention, and are views showing a manufacturing process when an adhesive layer is formed from low-melting glass having high translucency. FIG. 2 is a view showing a state in which an inorganic pigment layer is formed, and FIGS.
(C) is a view showing a manufacturing process after an inorganic pigment layer is formed when an adhesive layer is formed of a low-melting glass having low translucency.
【００１９】なお、図２（ａ）は格子状のブラックマト
リクスが形成された状態を示す部分拡大平面図、図２
（ｂ）は図２（ａ）のブラックマトリクスの矩形の領域
にカラーフィルターが形成された状態を示す部分拡大平
面図である。FIG. 2A is a partially enlarged plan view showing a state in which a lattice-like black matrix is formed.
FIG. 2B is a partially enlarged plan view showing a state where a color filter is formed in a rectangular area of the black matrix in FIG. 2A.
【００２０】本実施の形態による陽極基板１は、絶縁性
及び透光性を有するガラス等の方形の基板２を基部とし
ている。この基板２としては、日本電気硝子製のＯＡ−
２（熱膨張係数４７×１０-7／℃）やＯＡ−１０（熱膨
張係数３８×１０-7／℃）、コーニング製の７０５９
（熱膨張係数４６×１０-7／℃）や１７３７（熱膨張係
数３７．８×１０-7／℃）、ＮＨテクノグラス製のＮＡ
４５（熱膨張係数４６×１０-7／℃）やＮＡ３５（熱膨
張係数３７×１０-7／℃）、旭硝子製のＡＮ６３５（熱
膨張係数４８×１０-7／℃）、ショット製のＡＦ４５
（熱膨張係数４５×１０-7／℃）等を用いることができ
る。The anode substrate 1 according to the present embodiment is based on a rectangular substrate 2 made of glass or the like having an insulating property and a light transmitting property. The substrate 2 is made of OA-made by NEC Glass.
2 (thermal expansion coefficient 47 × 10 −7 / ° C.), OA-10 (thermal expansion coefficient 38 × 10 −7 / ° C.), Corning 7059
(Coefficient of thermal expansion: 46 × 10 −7 / ° C.), 1737 (coefficient of thermal expansion: 37.8 × 10 −7 / ° C.), NH Technoglass NA
45 (coefficient of thermal expansion 46 × 10 −7 / ° C.), NA35 (coefficient of thermal expansion 37 × 10 −7 / ° C.), AN635 manufactured by Asahi Glass (coefficient of thermal expansion 48 × 10 −7 / ° C.), AF45 manufactured by Shot
(Coefficient of thermal expansion 45 × 10 −7 / ° C.) or the like can be used.
【００２１】基板２の上には、単層又は多層の金属薄膜
や無機顔料からなるブラックマトリクス（以下、ＢＭと
いう）３が形成されている。このＢＭ３は、光を実質的
に通過させない光学機能を備えたものである。本例で
は、図２（ａ）に示すように、基板２の内面に所定の厚
さで格子状に形成される。On the substrate 2, a black matrix (hereinafter, referred to as BM) 3 made of a single-layer or multilayer metal thin film or inorganic pigment is formed. The BM 3 has an optical function that does not substantially transmit light. In this example, as shown in FIG. 2A, the substrate 2 is formed in a lattice shape with a predetermined thickness on the inner surface.
【００２２】格子状に形成されるＢＭ３の間の矩形の領
域３ａには、無機顔料からなるフィルターとして３色の
カラーフィルター４が形成されている。本例のカラーフ
ィルター４は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各透過
色を有する３種類のフィルターからなる。図２（ｂ）で
は、矩形の領域３ａの左上端から１列目がＢ、２列目が
Ｇ、３列目がＲといったように、Ｂ、Ｇ、Ｒの順に矩形
の領域３ａの各列にフィルターが形成される。そして、
上記ＢＭ３とカラーフィルター４により無機顔料層５を
構成している。In a rectangular region 3a between the BMs 3 formed in a lattice, three color filters 4 are formed as filters made of inorganic pigment. The color filter 4 of the present example includes three types of filters having respective transmission colors of R (red), G (green), and B (blue). In FIG. 2B, each column of the rectangular region 3a is arranged in the order of B, G, and R such that the first column from the upper left corner of the rectangular region 3a is B, the second column is G, and the third column is R. A filter is formed. And
The BM 3 and the color filter 4 constitute the inorganic pigment layer 5.
【００２３】無機顔料層５の上には接着層６が形成され
ている。接着層６は、非鉛系やＺｎ−Ｂ−Ｓｉ酸化物系
の低融点ガラス、アルコキシシラン誘導体の一種である
テトラエトキシシラン誘導体を原料とするゾル−ゲル液
（溶媒エタノール、ＩＰＡ、ＢＣ等）やペルヒドロポリ
シラザン（商品名：東燃（株）製）等の有機Ｓｉ化合物
から得られるものである。接着層６は、基板２に日本電
気硝子製のＯＡ−２基板を用いた場合、例えば日本電気
硝子製のＦ−５４ＡやＧＡ−３４等の低融点ガラスが適
している。An adhesive layer 6 is formed on the inorganic pigment layer 5. The adhesive layer 6 is made of a lead-free or Zn-B-Si oxide-based low-melting glass, or a sol-gel liquid (solvent ethanol, IPA, BC, or the like) made of a tetraethoxysilane derivative, which is a type of alkoxysilane derivative. And perhydropolysilazane (trade name: manufactured by Tonen Co., Ltd.). When an OA-2 substrate manufactured by Nippon Electric Glass is used for the substrate 2, a low-melting glass such as F-54A or GA-34 manufactured by Nippon Glass is suitable for the adhesive layer 6.
【００２４】ここで、接着層６が例えば可視域透過率９
０％以上（膜厚３０μｍ）のＦ−５４Ａのように透光性
の高い材料の場合には、カラーフィルター４を含む無機
顔料層５の全面を覆うように形成することができる。Here, the adhesive layer 6 has, for example, a visible light transmittance 9.
In the case of a material having a high light-transmitting property, such as 0% or more (thickness: 30 μm) of F-54A, it can be formed so as to cover the entire surface of the inorganic pigment layer 5 including the color filter 4.
【００２５】これに対し、接着層６が例えば可視域透過
率５０％以下（膜厚３０μｍ）のＧＡ−３４のように透
光性の低い材料の場合には、図３に示すように、カラー
フィルター４を除く無機顔料層５を覆うように形成され
る。実際には無機顔料層５の周辺部を覆うように形成さ
れる。On the other hand, when the adhesive layer 6 is made of a material having low translucency such as GA-34 having a visible light transmittance of 50% or less (film thickness: 30 μm), as shown in FIG. It is formed so as to cover the inorganic pigment layer 5 except for the filter 4. Actually, it is formed so as to cover the peripheral portion of the inorganic pigment layer 5.
【００２６】接着層６の上には、平滑層をなす絶縁性を
有する方形の薄板ガラス７が接着されている。薄板ガラ
ス７としては、基板２と同様、日本電気硝子製のＯＡ−
２（熱膨張係数４７×１０-7／℃）やＯＡ−１０（熱膨
張係数３８×１０-7／℃）、コーニング製の７０５９
（熱膨張係数４６×１０-7／℃）や１７３７（熱膨張係
数３７．８×１０-7／℃）、ＮＨテクノグラス製のＮＡ
４５（熱膨張係数４６×１０-7／℃）やＮＡ３５（熱膨
張係数３７×１０-7／℃）、旭硝子製のＡＮ６３５（熱
膨張係数４８×１０-7／℃）、ショット製のＡＦ４５
（熱膨張係数４５×１０-7／℃）等を用いることができ
る。On the adhesive layer 6, a rectangular thin glass sheet 7 having an insulating property and serving as a smooth layer is adhered. The thin glass 7 is made of OA-
2 (thermal expansion coefficient 47 × 10 −7 / ° C.), OA-10 (thermal expansion coefficient 38 × 10 −7 / ° C.), Corning 7059
(Coefficient of thermal expansion: 46 × 10 −7 / ° C.), 1737 (coefficient of thermal expansion: 37.8 × 10 −7 / ° C.), NH Technoglass NA
45 (coefficient of thermal expansion 46 × 10 −7 / ° C.), NA35 (coefficient of thermal expansion 37 × 10 −7 / ° C.), AN635 manufactured by Asahi Glass (coefficient of thermal expansion 48 × 10 −7 / ° C.), AF45 manufactured by Shot
(Coefficient of thermal expansion 45 × 10 −7 / ° C.) or the like can be used.
【００２７】薄板ガラス７は、基板２と接着層６との熱
膨張係数の差が少ないほど好ましい。この熱膨張係数の
差が±２×１０-7／℃（常温〜３００℃）以内であれ
ば、サイズや厚さに関係なく割れるようなことがない。
例えば基板２がＯＡ−２基板の場合には、ショット製の
ＡＦ−４５が薄板ガラス７として用いられる。薄板ガラ
ス７を基板２と同一の熱膨張係数のものを用いれば、更
に好ましい。薄板ガラス７の板厚は、０．３ｍｍ以下で
あり、好ましくは０．０３〜０．０５ｍｍである。特
に、薄板ガラス７の板厚を０．０５ｍｍ以下として表示
装置を作製すれば、基板２の外側から発光を観察したと
きの視野角を左右１４０°以上、上下１６０°以上にす
ることができる。The thin glass 7 is preferably such that the difference in the coefficient of thermal expansion between the substrate 2 and the adhesive layer 6 is as small as possible. If the difference in the coefficient of thermal expansion is within ± 2 × 10 −7 / ° C. (normal temperature to 300 ° C.), there will be no cracking regardless of the size or thickness.
For example, when the substrate 2 is an OA-2 substrate, a shot AF-45 is used as the thin glass 7. It is more preferable to use the thin glass 7 having the same thermal expansion coefficient as that of the substrate 2. The thickness of the thin glass 7 is 0.3 mm or less, preferably 0.03 to 0.05 mm. In particular, if the display device is manufactured with the thickness of the thin glass 7 set to 0.05 mm or less, the viewing angle when observing light emission from the outside of the substrate 2 can be set to 140 ° or more in the left and right direction and 160 ° or more in the vertical direction.
【００２８】次に、上記のように構成された陽極基板１
の製造方法について説明する。まず、基板２にＢＭ３を
形成する（図１（ａ））。具体的には、感光性樹脂と無
機顔料とビークル等を含むペーストを基板２の表面に設
け、基板２をスピンナーによって回転させる。ペースト
が基板２の表面に所定の厚さで広がったところで、ＢＭ
３の格子状のパターン（矩形の領域３ａに対応）が形成
されたマスクを介して基板２の表面に紫外線を露光す
る。この露光による現像後、水洗によって不要部分を除
去すると、図２（ａ）に示すような格子状のＢＭ３が基
板２上に形成される。Next, the anode substrate 1 constructed as described above
A method of manufacturing the device will be described. First, the BM 3 is formed on the substrate 2 (FIG. 1A). Specifically, a paste containing a photosensitive resin, an inorganic pigment, a vehicle, and the like is provided on the surface of the substrate 2, and the substrate 2 is rotated by a spinner. When the paste spreads on the surface of the substrate 2 with a predetermined thickness, the BM
The surface of the substrate 2 is exposed to ultraviolet light through a mask in which three lattice-shaped patterns (corresponding to the rectangular regions 3a) are formed. After development by this exposure, when unnecessary portions are removed by washing with water, a lattice-shaped BM 3 as shown in FIG.
【００２９】次に、図１（ｂ）及び図２（ｂ）に示すよ
うに、格子状のＢＭ３の間の矩形の領域３ａにＲ，Ｇ，
Ｂの各色の無機顔料からなるカラーフィルター４を形成
する。例えば図２（ｂ）に示すように、矩形の領域３ａ
の左上端から１列目がＢ、２列目がＧ、３列目がＲとい
ったように、Ｂ、Ｇ、Ｒの順に矩形の領域３ａの各列に
フィルターを形成する。このカラーフィルター４の形成
は、ＢＭ３と同様の手法によって順次形成される。その
後、基板２が所定の温度（例えば５００℃）で焼成され
ると、ＢＭ３とカラーフィルター４による無機顔料層５
が基板２上に形成される。Next, as shown in FIG. 1 (b) and FIG. 2 (b), R, G,
A color filter 4 made of an inorganic pigment of each color B is formed. For example, as shown in FIG.
A filter is formed in each column of the rectangular area 3a in the order of B, G, and R, such that B is the first column from the upper left end, G is the second column, R is the third column, and so on. The color filters 4 are sequentially formed by the same method as that of the BM 3. Thereafter, when the substrate 2 is fired at a predetermined temperature (for example, 500 ° C.), the inorganic pigment layer 5 composed of the BM 3 and the color filter 4 is formed.
Is formed on the substrate 2.
【００３０】次に、無機顔料層５の上に低融点ガラスか
ら成る接着層６を形成し、仮焼成する。接着層６の形成
方法としては、スクリーン印刷法が適当であるが、スピ
ンコート法やブレード印刷法等でも良い。また、仮焼成
の温度は、有機バインダーが分解し、且つ低融点ガラス
が軟化しない温度である。接着層６がＦ−５４−ＡやＧ
Ａ−３４の場合には、５００〜５５０℃が適当である。Next, an adhesive layer 6 made of a low-melting glass is formed on the inorganic pigment layer 5 and calcined. As a method for forming the adhesive layer 6, a screen printing method is suitable, but a spin coating method, a blade printing method, or the like may be used. In addition, the temperature of the preliminary firing is a temperature at which the organic binder is decomposed and the low-melting glass is not softened. The adhesive layer 6 is made of F-54-A or G
In the case of A-34, 500 to 550 ° C. is appropriate.
【００３１】接着層６の形成エリアは、Ｆ５４−Ａのよ
うに透光性の高い材料の場合、図１（ｃ）に示すよう
に、カラーフィルター４を含めて無機顔料層５の全面を
覆うように形成される。ＧＡ−３４のように透光性の低
い材料の場合には、図３（ａ）に示すように、カラーフ
ィルター４を除く無機顔料層５の周辺部のみに形成され
る。In the case of a material having high translucency such as F54-A, the formation area of the adhesive layer 6 covers the entire surface of the inorganic pigment layer 5 including the color filter 4 as shown in FIG. It is formed as follows. In the case of a material having low translucency, such as GA-34, as shown in FIG. 3A, it is formed only on the peripheral portion of the inorganic pigment layer 5 except for the color filter 4.
【００３２】次に、接着層６の形成された基板２上に薄
板ガラス７を載せ、重しあるいはクリップ等で荷重を与
えた状態で、接着層６の軟化点以上の温度で焼成し、基
板２と薄板ガラス７を接着させる（図１（ｄ）又は図３
（ｂ））。Next, the thin glass 7 is placed on the substrate 2 on which the adhesive layer 6 is formed, and baked at a temperature equal to or higher than the softening point of the adhesive layer 6 while applying a load with a weight or a clip. 2 and thin glass 7 (FIG. 1 (d) or FIG.
(B)).
【００３３】なお、上記焼成工程において、焼成雰囲気
は大気焼成でも可能であるが、真空焼成が望ましい。In the firing step, the firing atmosphere may be air firing, but vacuum firing is preferable.
【００３４】続いて、ＥＢ蒸着法やスパッタ法等により
透光性材料である透明導電膜（ＩＴＯ（Indium Tin Oxi
de）等）を薄板ガラス７の上に成膜し、その膜をフォト
レジストパターンによりエッチングして所望のパターン
形状、カラーフィルターの各列の各色毎に対向するスト
ライプ状のパターンにパターンニングする（図１（ｅ）
又は図３（ｃ））。Subsequently, a transparent conductive film (ITO (Indium Tin Oxi
de) and the like are formed on the thin glass 7, and the film is etched by a photoresist pattern to pattern a desired pattern shape and a stripe-shaped pattern facing each color of each row of the color filter ( FIG. 1 (e)
Or FIG. 3 (c)).
【００３５】ところで、図１に示す製造方法において、
低融点ガラスの代わりに有機Ｓｉ化合物を用いて接着層
６を形成することもできる。図４（ａ）〜（ｃ）は低融
点ガラスに代えて有機Ｓｉ化合物により接着層６を形成
するときの無機顔料層形成以降の製造工程を示す図であ
る。なお、基板２の上に無機顔料層５を形成するまでの
工程については図１（ａ）〜（ｃ）と同一なので、その
説明及び図示を省略している。By the way, in the manufacturing method shown in FIG.
The adhesive layer 6 may be formed using an organic Si compound instead of the low melting point glass. FIGS. 4A to 4C are views showing the manufacturing steps after the formation of the inorganic pigment layer when the adhesive layer 6 is formed by using an organic Si compound instead of the low-melting glass. Since the steps up to the formation of the inorganic pigment layer 5 on the substrate 2 are the same as those shown in FIGS. 1A to 1C, the description and illustration thereof are omitted.
【００３６】図４（ａ）〜（ｃ）に基づく製造方法で
は、基板２への無機顔料層５の形成後、無機顔料層５の
上に有機Ｓｉ化合物から成るコート液をスピンナーを用
いてコートし、接着層６を形成する（図４（ａ））。コ
ート液としては、アルコキシシラン誘導体の一種である
テトラエトキシシラン誘導体を原料とするゾル−ゲル液
（溶媒エタノール、ＩＰＡ、ＢＣ等）やペルヒドロポリ
シラザン等がある。In the manufacturing method based on FIGS. 4A to 4C, after forming the inorganic pigment layer 5 on the substrate 2, a coating liquid comprising an organic Si compound is coated on the inorganic pigment layer 5 using a spinner. Then, an adhesive layer 6 is formed (FIG. 4A). Examples of the coating liquid include a sol-gel liquid (solvent ethanol, IPA, BC, and the like) using a tetraethoxysilane derivative, which is a kind of alkoxysilane derivative, as a raw material, and perhydropolysilazane.
【００３７】なお、有機Ｓｉ化合物による接着層６の形
成は、上述したコート法に限らず、ディップ法、ロール
コート法、ブレード印刷法、スクリーン印刷法等を採用
することができる。The formation of the adhesive layer 6 using the organic Si compound is not limited to the above-described coating method, but may be a dipping method, a roll coating method, a blade printing method, a screen printing method, or the like.
【００３８】その後、前述したように、接着層６の形成
された基板１上に薄板ガラス７を載せ、重しあるいはク
リップ等で荷重を与えた状態で、５００〜６００℃程度
で焼成し、基板２と薄板ガラス７を接着させる（図４
（ｂ））。その後、ＥＢ蒸着法やスパッタ法等により透
明導電膜を薄板ガラス７の上に成膜し、所望のパターン
形状にパターンニングする。Thereafter, as described above, the thin glass 7 is placed on the substrate 1 on which the adhesive layer 6 is formed, and is baked at about 500 to 600 ° C. in a state where a load is applied with a weight or a clip. 2 and the thin glass 7 are bonded (FIG. 4
(B)). Thereafter, a transparent conductive film is formed on the thin glass 7 by an EB vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and is patterned into a desired pattern shape.
【００３９】そして、上記のようにパターンニングされ
た透明導電膜を陽極導体８とすれば、陽極基板１として
完成したことになる。この完成した陽極基板１の陽極導
体８の上にさらに蛍光体層を被着すれば、蛍光表示管な
どのように発光部に蛍光体を利用した表示装置の一部品
として利用できる。If the transparent conductive film patterned as described above is used as the anode conductor 8, the anode substrate 1 is completed. If a phosphor layer is further applied on the anode conductor 8 of the completed anode substrate 1, it can be used as one component of a display device using a phosphor in a light emitting portion, such as a fluorescent display tube.
【００４０】すなわち、完成した陽極基板１の上に制御
電極や電子源となる陰極を配設し、これら電極類を覆う
ようにガラス基板やガラスの容器からなる封止部を陽極
基板１と外周部分で封着する。そして、陽極基板１と封
止部から構成された外囲器の内部を高真空状態に排気し
て封止すれば、表示装置としての蛍光表示管が完成す
る。That is, a control electrode and a cathode serving as an electron source are arranged on the completed anode substrate 1, and a sealing portion made of a glass substrate or a glass container is formed so as to cover these electrodes with the anode substrate 1. Seal with parts. Then, if the inside of the envelope constituted by the anode substrate 1 and the sealing portion is evacuated to a high vacuum state and sealed, a fluorescent display tube as a display device is completed.
【００４１】なお、蛍光表示管の場合、陰極としては、
フィラメント状の陰極の他、電界放出陰極（Field Emis
sion Cathode：以下、ＦＥＣと略称する）で構成するこ
とができる。In the case of a fluorescent display tube, the cathode is
In addition to filament cathodes, field emission cathodes (Field Emis
sion Cathode (hereinafter abbreviated as FEC).
【００４２】図５はＦＥＣを陰極とした表示装置の部分
拡大断面図である。この図では、図１に示す製造工程に
従って作製された陽極基板１を用いており、陽極導体８
の上には蛍光体層９が被着形成されている。FIG. 5 is a partially enlarged sectional view of a display device using FEC as a cathode. In this figure, an anode substrate 1 manufactured according to the manufacturing process shown in FIG.
A phosphor layer 9 is formed thereon.
【００４３】図５に示すように、封止部をなすガラス等
の絶縁性を有する封止基板１０の蛍光体層９と対向する
面には、ＦＥＣ１１が形成されている。ＦＥＣ１１は、
封止基板１０に形成された陰極導体１２と、この陰極導
体１２の上に形成された絶縁層１３と、この絶縁層１３
の上に形成されたゲート電極１４と、ゲート電極１４と
絶縁層１３に陰極導体１２に達するように形成されたホ
ール１５と、ホール１５内の陰極導体１２上に形成され
たコーン形状のエミッタ１６とを備えて構成される。As shown in FIG. 5, an FEC 11 is formed on a surface of the sealing substrate 10 having an insulating property, such as glass, which forms a sealing portion, facing the phosphor layer 9. FEC11 is
A cathode conductor 12 formed on the sealing substrate 10; an insulating layer 13 formed on the cathode conductor 12;
A gate electrode 14 formed on the gate electrode 14, a hole 15 formed in the gate electrode 14 and the insulating layer 13 so as to reach the cathode conductor 12, and a cone-shaped emitter 16 formed on the cathode conductor 12 in the hole 15. And is provided.
【００４４】なお、図示はしないが、エミッタ１６から
の放出電流のばらつきを抑えるため、陰極導体１２と絶
縁層１３との間に抵抗層が介在して積層された構造のＦ
ＥＣもある。Although not shown, in order to suppress the variation of the emission current from the emitter 16, an F layer having a structure in which a resistive layer is interposed between the cathode conductor 12 and the insulating layer 13 is provided.
There is also EC.
【００４５】上記のように構成されるＦＥＣ１１を電子
源とする表示装置１７では、ＦＥＣ１１から放出された
電子が蛍光体層９に射突してこれを発光させる。そのと
きの蛍光体層９の発光は、透光性の陽極導体８、カラー
フィルター４を通過して基板２の外側からカラーフィル
ター４によって選択された所望の発光色として観測され
る。In the display device 17 using the FEC 11 configured as described above as an electron source, electrons emitted from the FEC 11 strike the phosphor layer 9 and emit light. The light emitted from the phosphor layer 9 at that time passes through the translucent anode conductor 8 and the color filter 4 and is observed as a desired light emission color selected from the outside of the substrate 2 by the color filter 4.
【００４６】このように、ＦＥＣ１１を陰極とした場合
には、ＦＥＣ１１の陰極導体１２とゲート電極１４をマ
トリクス状に構成し、任意の部分を直接オン・オフして
電子の放出を制御できるので、制御電極の構成を省くこ
とができる。As described above, when the FEC 11 is used as a cathode, the cathode conductor 12 and the gate electrode 14 of the FEC 11 are configured in a matrix, and the emission of electrons can be controlled by directly turning on / off an arbitrary portion. The configuration of the control electrode can be omitted.
【００４７】このように、上記各実施の形態では、平滑
層をなす薄板ガラス７を接着層６を介して無機顔料層５
の上に設けているので、無機顔料層５の表面を平滑化で
き、薄板ガラス７の上に陽極導体８を形成することによ
り、配線断線不良を数％以下に低減することができる。As described above, in each of the above embodiments, the thin glass sheet 7 serving as a smooth layer is applied to the inorganic pigment layer 5 via the adhesive layer 6.
Provided, the surface of the inorganic pigment layer 5 can be smoothed, and the formation of the anode conductor 8 on the thin glass 7 can reduce wiring disconnection defects to several percent or less.
【００４８】薄板ガラス７として、透光性に優れたも
の、例えば板材０．０５ｍｍで可視域透過率９９％のも
のを用いれば、図６に示す従来の低融点ガラスを用いた
ものよりも５〜１０％程度の透過率の向上を図ることが
できる。As the thin glass 7, a material having excellent translucency, for example, a material having a thickness of 0.05 mm and a transmittance in the visible region of 99% is used, which is 5 times larger than that using the conventional low melting point glass shown in FIG. The transmittance can be improved by about 10% to about 10%.
【００４９】なお、上記実施の形態において、ＩＴＯ配
線等のパターンによる陽極導体８が形成された薄板ガラ
ス７を用いることもできる。この場合、薄板ガラス７側
の陽極導体８と基板２側のカラーフィルター４との間が
位置合わせされた後、基板２と薄板ガラス７との間の接
着が行われる。In the above embodiment, a thin glass plate 7 having an anode conductor 8 formed by a pattern such as an ITO wiring may be used. In this case, after the position between the anode conductor 8 on the side of the thin glass 7 and the color filter 4 on the side of the substrate 2 is aligned, the bonding between the substrate 2 and the thin glass 7 is performed.
【００５０】また、上記実施の形態におけるカラーフィ
ルター４は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に限定されるものではな
く、単色やその他の色であってもよい。The color filter 4 in the above embodiment is not limited to three colors of R, G and B, but may be a single color or another color.
【００５１】さらに、上記実施の形態では、表示装置と
して蛍光表示管を例にとって説明したが、適用できる表
示装置としては蛍光表示管に限らず、例えば透明導電膜
を有する表示デバイス、プラズマディスプレイ等やメタ
ルバックを有する表示デバイス等にも適用することがで
きる。Furthermore, in the above embodiment, the fluorescent display tube has been described as an example of the display device. However, the applicable display device is not limited to the fluorescent display tube, and may be, for example, a display device having a transparent conductive film, a plasma display, or the like. The present invention can be applied to a display device having a metal back.
【００５２】[0052]
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、平滑層をなす薄板ガラスが接着層を介して無機
顔料層の上に設けられるので、無機顔料層の表面を平滑
化することができる。そして、薄板ガラスの上に陽極導
体を形成することにより、配線断線不良を数％以下に低
減することができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, since the thin glass sheet constituting the smooth layer is provided on the inorganic pigment layer via the adhesive layer, the surface of the inorganic pigment layer is smoothed. can do. By forming the anode conductor on the thin glass, wiring disconnection defects can be reduced to several percent or less.
【図１】（ａ）〜（ｅ）本発明の実施の形態を示す図で
あり、透光性の高い低融点ガラスにより接着層を形成す
るときの製造工程を示す図FIGS. 1A to 1E are diagrams showing an embodiment of the present invention, and are diagrams showing a manufacturing process when an adhesive layer is formed from a low-melting glass having high translucency.
【図２】（ａ）格子状のブラックマトリクスが形成され
た状態を示す部分拡大平面図（ｂ）（ａ）のブラックマ
トリクスの矩形の領域にカラーフィルターが形成された
状態を示す部分拡大平面図2A is a partially enlarged plan view showing a state where a lattice-shaped black matrix is formed. FIG. 2B is a partially enlarged plan view showing a state where a color filter is formed in a rectangular region of the black matrix in FIG. 2A.
【図３】（ａ）〜（ｃ）透光性の低い低融点ガラスによ
り接着層を形成するときの無機顔料層が形成された以降
の製造工程を示す図FIGS. 3A to 3C are views showing manufacturing steps after an inorganic pigment layer is formed when an adhesive layer is formed from a low-melting glass having low translucency.
【図４】（ａ）〜（ｃ）低融点ガラスに代えて有機Ｓｉ
化合物により接着層を形成するFIG. 4 (a) to (c) Organic Si instead of low melting point glass
Form adhesive layer with compound
【図５】図１の陽極基板を用い、ＦＥＣを陰極とした表
示装置の部分拡大断面図ときの無機顔料層形成以降の製
造工程を示す図FIG. 5 is a partial enlarged cross-sectional view of a display device using the anode substrate of FIG. 1 and using FEC as a cathode, showing a manufacturing process after formation of an inorganic pigment layer.
【図６】従来の陽極基板の一構成例を示す図FIG. 6 is a diagram showing a configuration example of a conventional anode substrate.
１…陽極基板、２…基板、３…ＢＭ（ブラックマトリク
ス）、４…カラーフィルター、５…無機顔料層、６…接
着層、７…薄板ガラス、８…陽極導体、９…蛍光体層、
１０…封止基板（封止部）、１１…電界放出陰極、１７
…表示装置。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Anode substrate, 2 ... Substrate, 3 ... BM (black matrix), 4 ... Color filter, 5 ... Inorganic pigment layer, 6 ... Adhesive layer, 7 ... Thin glass, 8 ... Anode conductor, 9 ... Phosphor layer,
10: sealing substrate (sealing portion), 11: field emission cathode, 17
... display device.
フロントページの続き (72)発明者 内藤 康之 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB13 AC01 AD01 FA03 FA14 FA29 2H048 AA09 BA45 BA48 BB28 5G435 AA00 BB03 CC09 CC12 EE33 FF13 GG12 HH06 HH12 KK05Continued on the front page (72) Inventor Yasuyuki Naito 629 Oshiba, Mobara-shi, Chiba Futaba Electronics Co., Ltd.F-term (reference) 2H025 AA00 AB13 AC01 AD01 FA03 FA14 FA29 2H048 AA09 BA45 BA48 BB28 5G435 AA00 BB03 CC09 CC12 EE33 FF13 GG12 HH06 HH12 KK05
Claims (7)
機顔料層と、 該無機顔料層の上に接着層を介して接着された平滑な薄
板ガラスと、 該薄板ガラスの上に前記フィルターに対向してパターン
形成された透光性を有する陽極導体とを備えたことを特
徴とするフィルターを有する陽極基板。1. An inorganic pigment layer including a filter formed on a substrate, a flat sheet glass adhered on the inorganic pigment layer via an adhesive layer, and a filter opposed to the filter on the sheet glass. An anode substrate having a filter, comprising: a light-transmitting anode conductor formed by patterning.
化合物からなる請求項１記載のフィルターを有する陽極
基板。2. The method according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of low melting point glass or organic Si.
An anode substrate having the filter according to claim 1, which is made of a compound.
機顔料層と、 該無機顔料層の上に接着層を介して接着された平滑な薄
板ガラスと、 該薄板ガラスの上に前記フィルターと対向してパターン
形成された透光性を有する陽極導体と、 該陽極導体の上に形成された表示部と、 前記基板上に設けられて前記表示部を覆う封止部とを備
えたことを特徴とするフィルター付き基板を有する表示
装置。3. An inorganic pigment layer including a filter formed on a substrate, a smooth thin glass adhered on the inorganic pigment layer via an adhesive layer, and facing the filter on the thin glass. A light-transmitting anode conductor formed by patterning, a display unit formed on the anode conductor, and a sealing unit provided on the substrate and covering the display unit. A display device having a substrate with a filter.
化合物からなる請求項３記載のフィルター付き基板を有
する表示装置。4. The method according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of low melting point glass or organic Si.
A display device comprising the substrate with a filter according to claim 3, comprising a compound.
着層を形成し、該接着層の上に平滑な薄板ガラスを載せ
て所定の荷重を与えた状態で焼成し、前記薄板ガラスの
上に前記フィルターに対向させて透光性を有する陽極導
体をパターン形成し、該陽極導体の上に表示部を形成
し、前記基板の上に前記表示部を覆う封止部を被せて封
着することを特徴とするフィルター付基板を有する表示
装置の製造方法。5. An adhesive layer is formed on an inorganic pigment layer formed on a substrate, and a smooth thin glass is placed on the adhesive layer and baked under a predetermined load, and the thin glass is fired. A light-transmitting anode conductor is formed in a pattern opposite to the filter, a display portion is formed on the anode conductor, and a sealing portion covering the display portion is placed on the substrate and sealed. A method for manufacturing a display device having a substrate with a filter, wherein the substrate is provided with a filter.
着層を形成し、予め平滑な薄板ガラスの上面側に前記フ
ィルターと対向するように透光性を有する陽極導体をパ
ターン形成しておき、前記接着層の上に平滑な薄板ガラ
スを載せて所定の荷重を与えた状態で焼成し、前記陽極
導体の上に表示部を形成し、前記基板の上に前記表示部
を覆う封止部を被せて封着することを特徴とするフィル
ター付基板を有する表示装置の製造方法。6. An adhesive layer is formed on an inorganic pigment layer formed on a substrate, and an anode conductor having a light-transmitting property is formed on an upper surface side of a flat thin glass in advance so as to face the filter. In advance, a smooth thin glass sheet is placed on the adhesive layer and baked under a predetermined load to form a display section on the anode conductor, and a sealing cover for covering the display section on the substrate. A method for manufacturing a display device having a substrate with a filter, wherein the display device is sealed by covering a stopper.
化合物からなる請求項５又は６記載のフィルター付き基
板を有する表示装置の製造方法。7. The method according to claim 1, wherein the adhesive layer is made of low melting point glass or organic Si.
A method for manufacturing a display device having a substrate with a filter according to claim 5, comprising a compound.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33418598A JP2000162977A (en) | 1998-11-25 | 1998-11-25 | Anode substrate having filter and display device having substrate with filter, and manufacture thereof |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111054A1 (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-04 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Display panel |
| CN102681067A (en) * | 2011-12-15 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | Color filter and preparation method thereof |
-
1998
- 1998-11-25 JP JP33418598A patent/JP2000162977A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007111054A1 (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-04 | Nippon Electric Glass Co., Ltd. | Display panel |
| JP2007294395A (en) * | 2006-03-29 | 2007-11-08 | Nippon Electric Glass Co Ltd | Display panel |
| CN102681067A (en) * | 2011-12-15 | 2012-09-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | Color filter and preparation method thereof |
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