JP2000130937A - Chemical processing apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機溶剤を気化さ
せた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で被処理物を化学処
理する処理タンクを備えた化学処理装置、具体的には、
木材などの被処理物を、メチレンクロライドなどの塩素
系有機溶剤を気化させた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気
で化学処理する処理タンクを備えた化学処理装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical treatment apparatus provided with a treatment tank for chemically treating an object to be treated with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by evaporating an organic solvent and water vapor.
The present invention relates to a chemical treatment apparatus provided with a treatment tank for chemically treating an object to be treated such as wood with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by vaporizing a chlorine-based organic solvent such as methylene chloride and steam.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来では、特開平６−１３７７５７号、
特開平７−３２３１５号、特開平７−２９２４８９号、
特開平８−１７０１０１号、特開平８−１６５５８６
号、特開平８−１３１７０５号の各公報に開示されてい
るように、メチレンクロライドなどの塩素系有機溶剤の
溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を被処理物に浸透させる
ことにより、例えば木材に浸透させる場合には、木材細
胞中の水分量を調整する調整膜であるピットを破壊し、
木材細胞内の水分を排出しやすくして、乾燥速度を向上
させるようにしたり、または、プラスチックなどの高分
子材料に前記混合蒸気を曝して該高分子材料を分解する
技術が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, Japanese Patent Laid-Open No.
JP-A-7-32315, JP-A-7-292489,
JP-A-8-170101, JP-A-8-165586
As disclosed in JP-A-8-131705, a mixed vapor of a solvent vapor of a chlorine-based organic solvent such as methylene chloride and water vapor penetrates an object to be treated, for example, to penetrate wood. In the case of destruction, the pit, which is an adjustment film that adjusts the amount of water in the wood cells, is destroyed,
There are known techniques for facilitating the drainage of water in wood cells to improve the drying rate, or decomposing the polymer material by exposing the mixed vapor to a polymer material such as plastic.
【０００３】そして、化学処理装置において前記混合蒸
気を発生させるに当たっては、従来では図３に示すよう
に、容器Ａ内に、メチレンクロライド（ＭＣ）溶液と水
とを貯留すると共に、該混合液を加熱する加熱部Ｂを配
設したガス発生器Ｃを設け、該ガス発生器Ｃにおいて、
メチレンクロライド溶液を加熱部Ｂで加熱して、メチレ
ンクロライドを気化させ、気化されたメチレンクロライ
ド蒸気を水に接触させてメチレンクロライド蒸気と水蒸
気との混合蒸気を発生させる。そして、ガス発生器Ｃで
発生させた混合蒸気を、木材が収納された密閉処理タン
ク内に注入し、収納された木材に混合蒸気を浸透させ
て、木材細胞のピットを破壊するようにしていた。In order to generate the mixed vapor in a chemical treatment apparatus, a methylene chloride (MC) solution and water are conventionally stored in a container A as shown in FIG. A gas generator C provided with a heating unit B for heating is provided. In the gas generator C,
The methylene chloride solution is heated in the heating section B to vaporize methylene chloride, and the vaporized methylene chloride vapor is brought into contact with water to generate a mixed vapor of methylene chloride vapor and water vapor. Then, the mixed steam generated by the gas generator C was injected into the closed processing tank in which the wood was stored, and the mixed steam was infiltrated into the stored wood to destroy the pits of the wood cells. .
【０００４】このガス発生器Ｃは、メチレンクロライド
溶液と水とが容器Ａ内で、比重差により下層のメチレン
クロライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離された状
態で貯留される。そして、前記加熱部Ｂを容器の底部近
くに配設することにより、下層のメチレンクロライド溶
液を直接加熱して、メチレンクロライドの気泡を発生さ
せ、該気泡を上層の水に接触させることにより反応させ
て、メチレンクロライド蒸気と水蒸気との混合蒸気を発
生させるようにしていた。In the gas generator C, a methylene chloride solution and water are stored in a container A in a state where they are separated into a lower methylene chloride solution layer D and an upper water layer E by a specific gravity difference. By disposing the heating section B near the bottom of the container, the methylene chloride solution in the lower layer is directly heated to generate bubbles of methylene chloride, and the bubbles are brought into contact with the water in the upper layer to react. Thus, a mixed vapor of methylene chloride vapor and steam is generated.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
化学処理装置では、ガス発生器Ｃでメチレンクロライド
蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させるために、容器Ａ
内に、メチレンクロライド溶液と水を貯留した状態で、
加熱部Ｂによりメチレンクロライド溶液を加熱するよう
にしていたため、以下のような不具合が生じていた。However, in the conventional chemical treatment apparatus, the gas generator C generates a mixed vapor of methylene chloride vapor and steam, so that the container A
In the state where methylene chloride solution and water are stored,
Since the methylene chloride solution was heated by the heating unit B, the following problems occurred.
【０００６】即ち、容器Ａ内では、下層のメチレンクロ
ライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離され、前記加
熱部Ｂでメチレンクロライド溶液を直接加熱するように
していたため、図３中、メチレンクロライド溶液中に点
線で示す自然対流が生ずると、容器中央部にメチレンク
ロライドの気泡が集中して発生し、水層Ｅの中心をほと
んどの気泡が通過して該メチレンクロライドの気泡が水
と接触しないままガス発生器Ｃから排出されてしまい、
安定した質の混合蒸気が得られないという不具合があっ
た。That is, in the container A, a methylene chloride solution layer D as a lower layer and a water layer E as an upper layer are separated, and the methylene chloride solution is directly heated in the heating section B. When a natural convection indicated by a dotted line occurs in the methylene chloride solution, bubbles of methylene chloride concentrate at the center of the container, and most of the bubbles pass through the center of the aqueous layer E, and the bubbles of the methylene chloride are mixed with water. It is discharged from the gas generator C without contact,
There was a problem that a stable quality of mixed steam could not be obtained.
【０００７】また、容器Ａ内では、下層のメチレンクロ
ライド溶液層Ｄと、上層の水層Ｅとに分離されて貯留さ
れるので、各液層の安定した液位制御および液量の制御
が困難となり、この点においても混合蒸気の質が安定し
ないという不具合があった。Further, in the container A, since the lower methylene chloride solution layer D and the upper aqueous layer E are separated and stored, it is difficult to stably control the liquid level and the liquid amount of each liquid layer. In this respect, the quality of the mixed steam is not stable.
【０００８】さらに、上記のガス発生器Ｃでは、容器Ａ
内において、メチレンクロライド蒸気の場所的な発生む
らや水との接触時間のむらが生じることからも、混合蒸
気の質および量の制御が細かくできないという不具合も
あった。Further, in the gas generator C, the container A
Among them, there is also a problem that the quality and quantity of the mixed steam cannot be finely controlled because of uneven generation of methylene chloride vapor and uneven contact time with water.
【０００９】本発明は、上記問題に鑑みてなしたもので
あって、液量、液温度、液圧力の制御が容易に行えなが
ら、安定した質の混合蒸気が得られるガス発生器を備え
た化学処理装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and has a gas generator capable of easily controlling a liquid amount, a liquid temperature, and a liquid pressure while obtaining a stable quality of mixed steam. It is an object to provide a chemical treatment device.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題に鑑
みてなしたものであって、請求項１記載の発明は、有機
溶剤を気化させた溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で被処
理物を化学処理する処理タンクを備えた化学処理装置に
おいて、内部に加熱部を有し、有機溶剤液が貯留され、
該有機溶剤液を加熱部で加熱して気化させる基本液気化
容器と、該基本液気化容器と別個独立に設けられ、内部
に加熱部を有し、水である補助液が貯留され、該補助液
を加熱部で加熱し、かつ、前記基本液気化容器で気化さ
れた溶剤蒸気を補助液中に放出させて、溶剤蒸気と水蒸
気との混合蒸気を発生させる反応容器とを備えるガス発
生器を有し、該ガス発生器で発生させた混合蒸気を処理
タンクに注入するように構成したのである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the invention according to claim 1 is to be treated with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by evaporating an organic solvent and steam. In a chemical treatment apparatus equipped with a treatment tank for chemically treating a substance, the heating section is provided inside, and an organic solvent liquid is stored therein.
A basic liquid vaporization container for heating and vaporizing the organic solvent liquid by a heating unit, and a separately provided independent of the basic liquid vaporization container, having a heating unit therein, storing an auxiliary liquid as water, A gas generator comprising a reaction vessel that heats the liquid in the heating section, and releases the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel into the auxiliary liquid to generate a mixed vapor of the solvent vapor and the steam. Thus, the mixed vapor generated by the gas generator is injected into the processing tank.
【００１１】なお、本発明における有機溶剤としては、
特に塩素系有機溶剤を使用するのが好ましく、具体的に
は水よりも比重の重いもの、例えば、メチレンクロライ
ド（ＣＨ2 Ｃｌ2 ）、トリクロロエチレン（ＣＨＣｌ＝
ＣＣｌ2 ）、パークロロエチレン（ＣＣｌ2 ＝ＣＣ
ｌ2 ）、１，１，１−トリクロロエタン（ＣＨ3 ＣＣｌ
3）、フロン１１３（ＣＣｌ2 ＦＣＣｌＦ2 ）などが挙
げられる。The organic solvent in the present invention includes
Particularly, it is preferable to use a chlorine-based organic solvent. Specifically, a solvent having a specific gravity heavier than water, for example, methylene chloride (CH 2 Cl 2 ), trichloroethylene (CHCl =
CCl 2 ), perchlorethylene (CCl 2 = CC)
l 2 ), 1,1,1-trichloroethane (CH 3 CCl
3 ) and Freon 113 (CCl 2 FCClF 2 ).
【００１２】また、被処理物としては、例えば、木材、
金属、鋼材、鉄粉、生ごみなどのように、物質内部に塩
素系有機溶剤に可溶な、かつ、分解可能な物質を含んで
いるものが適用される。The object to be treated is, for example, wood,
Materials such as metals, steel materials, iron powders, garbage, and the like that contain a substance that is soluble in a chlorine-based organic solvent and that can be decomposed are used.
【００１３】請求項２記載の発明は、請求項１記載の発
明において、一端側が基本液気化容器内の蒸気層に連通
され、他端側が反応容器内に挿入される注入管を設け、
反応容器内に挿入される注入管の先端を閉鎖状にすると
共に、該注入管先端側に複数の孔を形成し、該注入管の
孔形成部を反応容器の補助液中に浸漬させて、基本液気
化容器で気化された溶剤蒸気を反応容器内の補助液中に
放出させるように構成した。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, an injection pipe is provided, one end of which is communicated with a vapor layer in the basic liquid vaporization vessel, and the other end of which is inserted into the reaction vessel.
While closing the tip of the injection pipe inserted into the reaction vessel, forming a plurality of holes on the tip side of the injection pipe, immersing the hole forming portion of the injection pipe in the auxiliary liquid of the reaction vessel, The solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization container is released into the auxiliary liquid in the reaction container.
【００１４】請求項３記載の発明は、請求項１または請
求項２に記載の発明において、反応容器内の補助液中
で、該補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上に該
溶剤蒸気を衝突させる多孔板を設ける構成とした。According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect of the present invention, the solvent is contained in the auxiliary liquid in the reaction vessel on a rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid. A configuration was provided in which a perforated plate for impinging steam was provided.
【００１５】溶剤蒸気の上昇経路上とは、たとえば、溶
剤蒸気が補助液中に放出される際の注入管の孔形成部の
上方をいう。[0015] The term "on the rising path of the solvent vapor" means, for example, above the hole forming portion of the injection pipe when the solvent vapor is released into the auxiliary liquid.
【００１６】請求項４記載の発明は、請求項１乃至請求
項３の何れかに記載の発明において、反応容器内の補助
液中に、該補助液中に放出された溶剤蒸気を通過させる
微細孔を有する微細孔形成部材を配設する構成とした。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the method according to any one of the first to third aspects, wherein the solvent vapor released in the auxiliary liquid is passed through the auxiliary liquid in the reaction vessel. The configuration is such that a microporous member having holes is provided.
【００１７】微細孔形成部材としては、メッシュの細か
い網や、細かいスリットの入った板状部材が挙げられ
る。Examples of the fine hole forming member include a fine mesh net and a plate-like member having fine slits.
【００１８】[0018]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳しく説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００１９】本発明の実施の形態の化学処理装置は、木
材の乾燥速度を速めるために、被処理物である木材を有
機溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で、化学処理するもの
であって、図１は、本発明の実施形態にかかる化学処理
装置の概略構成を示した、一部断面を含むシステム回路
図である。The chemical treatment apparatus according to the embodiment of the present invention chemically treats wood to be treated with a mixed vapor of an organic solvent vapor and steam in order to increase the drying speed of the wood. FIG. 1 is a system circuit diagram showing a schematic configuration of a chemical treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, including a partial cross section.
【００２０】図１において、本実施形態の化学処理装置
１は、被処理物Ｔが収容され、該被処理物Ｔを溶剤蒸気
と水蒸気の混合蒸気で処理する密閉状の処理タンク２
と、溶剤蒸気と水蒸気の混合蒸気を発生させるために処
理タンク２とは別個独立に設けられたガス発生器３と、
処理タンク２内に溜まった水を回収するための水回収タ
ンク４と、ガス発生器３で発生した混合蒸気のうち、凝
縮された溶剤を回収するための溶剤回収タンク５とを備
えている。Referring to FIG. 1, a chemical processing apparatus 1 of the present embodiment includes a closed processing tank 2 for accommodating an object T to be treated and treating the object T with a mixed vapor of a solvent vapor and steam.
A gas generator 3 provided independently of the processing tank 2 to generate a mixed vapor of solvent vapor and water vapor,
The apparatus includes a water recovery tank 4 for recovering water accumulated in the processing tank 2 and a solvent recovery tank 5 for recovering a condensed solvent of the mixed vapor generated by the gas generator 3.
【００２１】さらに、本化学処理装置１は、処理タンク
２内を真空引きするための真空ポンプ装置６１、処理タ
ンク２内の混合蒸気を一旦容器外に排出させて再度戻す
ための循環用ブロワ６２、処理タンク２から排出された
蒸気を凝縮させるための凝縮器６３、処理タンク２から
排出された蒸気を加熱する加熱器６４を備えている。Further, the chemical processing apparatus 1 has a vacuum pump device 61 for evacuating the processing tank 2 and a circulation blower 62 for once discharging the mixed vapor in the processing tank 2 out of the vessel and returning it again. A condenser 63 for condensing the steam discharged from the processing tank 2, and a heater 64 for heating the steam discharged from the processing tank 2.
【００２２】そして、処理タンク２は、配管７１，７
２，７３を介してガス発生器３と接続されており、ガス
発生器３で発生した混合蒸気を処理タンク２に注入する
ようにしている。The processing tank 2 is provided with pipes 71, 7
It is connected to the gas generator 3 via 2 and 73, and the mixed vapor generated in the gas generator 3 is injected into the processing tank 2.
【００２３】また、処理タンク２の上部に配管７４を接
続して、該配管７４から処理タンク２内の蒸気を排出す
るようにしている。この配管７４の途中には、並列で配
設される真空ポンプ装置６１と循環用ブロワ６２とを設
けており、配管７４を凝縮器６３に接続させている。該
凝縮器６３は、配管７５、トラップ６５を介して溶剤回
収タンク５に接続されている。なお、トラップ６５は、
凝縮器６３で凝縮された溶剤を一旦溜めるためのもので
ある。Further, a pipe 74 is connected to the upper part of the processing tank 2, and the steam in the processing tank 2 is discharged from the pipe 74. A vacuum pump device 61 and a circulation blower 62 arranged in parallel are provided in the middle of the pipe 74, and the pipe 74 is connected to the condenser 63. The condenser 63 is connected to the solvent recovery tank 5 via a pipe 75 and a trap 65. The trap 65 is
This is for temporarily storing the solvent condensed in the condenser 63.
【００２４】また、前記加熱器６４は、処理タンク２内
の蒸気を排出する配管７４と、ガス発生器３のガスを処
理タンク２内に注入するための配管７３との間に配管７
６を介して設けられている。さらに、前記凝縮器６３に
は、該凝縮器６３の蒸気を再度ガス発生器３に戻すため
の配管７７を配管７３に接続している。The heater 64 is provided between a pipe 74 for discharging steam in the processing tank 2 and a pipe 73 for injecting gas from the gas generator 3 into the processing tank 2.
6 are provided. Further, a pipe 77 for returning the steam of the condenser 63 to the gas generator 3 again is connected to the condenser 63.
【００２５】前記溶剤回収タンク５は、配管７８を介し
てガス発生器３と接続されており、溶剤回収タンク５内
の溶剤液を溶剤液ポンプ５１によりガス発生器３内に戻
すようにしている。The solvent recovery tank 5 is connected to the gas generator 3 via a pipe 78 so that the solvent liquid in the solvent recovery tank 5 is returned to the gas generator 3 by the solvent liquid pump 51. .
【００２６】また、処理タンク２は、該処理タンク２の
底部に接続される配管７９、トラップ６６を介して水回
収タンク４と接続されており、該処理タンク２内に溜ま
る水や樹液などを水回収タンク４に回収するようにして
いる。The processing tank 2 is connected to the water recovery tank 4 via a pipe 79 connected to the bottom of the processing tank 2 and a trap 66 so that water, sap, and the like accumulated in the processing tank 2 can be removed. The water is recovered in the water recovery tank 4.
【００２７】各機器について、さらに詳しく説明する。Each device will be described in more detail.
【００２８】処理タンク２は、蓋開閉自在で密封状に構
成され、被処理物Ｔを載置台（図示省略）に載せた状態
で収容するようになっている。処理タンク２内には、ガ
ス発生器３の混合蒸気をタンク内に注入するための配管
７３の先端部に設ける噴霧ノズル２１と、ボイラーＢの
蒸気を取り入れ、該蒸気でタンク内を加熱するための蒸
気管２２が配設されている。処理タンク２の底部に設け
た配管７９はトラップ６６の上部と接続されている。The processing tank 2 is configured so as to be capable of opening and closing a lid and is hermetically sealed so that the processing object T is accommodated in a state mounted on a mounting table (not shown). A spray nozzle 21 provided at the tip of a pipe 73 for injecting the mixed steam from the gas generator 3 into the tank, and steam from the boiler B are taken into the treatment tank 2 and the inside of the tank is heated by the steam. Steam pipe 22 is provided. A pipe 79 provided at the bottom of the processing tank 2 is connected to an upper part of the trap 66.
【００２９】トラップ６６の上部には、処理タンク２に
接続される均圧配管８１と、ボイラーＢから蒸気をトラ
ップ６６内に取り入れるための蒸気配管８２が接続され
て、トラップ６６の下部と水回収タンク４とを配管７９
で接続している。A pressure equalizing pipe 81 connected to the processing tank 2 and a steam pipe 82 for taking steam from the boiler B into the trap 66 are connected to the upper part of the trap 66. Piping 79 with tank 4
Connected with.
【００３０】水回収タンク４は、タンク内に垂下仕切り
と起立仕切りを有していて、垂下仕切りの下方を潜り起
立仕切りを越えた水を水ポンプ４１の駆動によりドラム
缶４２などに排出するようにしている。The water recovery tank 4 has a hanging partition and an upright partition in the tank, and water under the hanging partition and over the upstanding partition is discharged to a drum 42 or the like by driving a water pump 41. ing.
【００３１】加熱器６４は、配管７４から配管７６に流
れる混合蒸気を、ボイラーＢから蒸気管６４ａに導かれ
た高温蒸気と熱交換させて加熱したのち、配管７３へ送
り出すように成っている。The heater 64 heats the mixed steam flowing from the pipe 74 to the pipe 76 with high-temperature steam guided from the boiler B to the steam pipe 64a, heats the mixed steam, and then sends the mixed steam to the pipe 73.
【００３２】凝縮器６３は、配管７４を流れる混合蒸気
を、冷凍装置Ｒから冷媒管６３ａに導かれた低温冷媒と
熱交換させて冷却した後、溶媒液を配管７５へ、溶媒蒸
気を配管７７へ送り出すようになっている。なお、凝縮
器６３出口側の配管７７と加熱器６４入り口側の配管７
６の間はバイパス配管８３でバイパス接続されている。The condenser 63 cools the mixed vapor flowing through the pipe 74 by exchanging heat with the low-temperature refrigerant guided from the refrigerating device R to the refrigerant pipe 63a. To be sent out. The pipe 77 on the outlet side of the condenser 63 and the pipe 7 on the inlet side of the heater 64
A bypass pipe 83 connects between the sections 6.
【００３３】凝縮器６３で液化した溶剤液は、配管７
５、トラップ６５、溶剤回収タンク５、および配管７８
を経て、ガス発生器３に回収されるように成っている。The solvent liquid liquefied in the condenser 63 is supplied to the pipe 7
5, trap 65, solvent recovery tank 5, and piping 78
Through the gas generator 3.
【００３４】トラップ６５の上部には、凝縮器６３の側
部と連結する均圧配管８４と、凝縮器６３の底部と連結
する配管７５と、ボイラーＢからの蒸気配管８５とが接
続されている。トラップ６５の下部と溶剤回収タンク５
とは配管７５を介して接続されている。At the top of the trap 65, a pressure equalizing pipe 84 connected to the side of the condenser 63, a pipe 75 connected to the bottom of the condenser 63, and a steam pipe 85 from the boiler B are connected. . Lower part of trap 65 and solvent recovery tank 5
Are connected via a pipe 75.
【００３５】溶剤回収タンク５は、配管７５から流入し
た溶剤液（水は極めて少量である。）を、冷却装置Ｃと
接続された冷水管５２内の冷水で冷却しつつ暫時貯留
し、溶剤液ポンプ５１の駆動により配管７８を経てガス
発生器３へ回収するようになっている。The solvent recovery tank 5 temporarily stores the solvent liquid (a very small amount of water) flowing from the pipe 75 while cooling it with cold water in a cold water pipe 52 connected to the cooling device C. The pump 51 is driven to collect the gas into the gas generator 3 via the pipe 78.
【００３６】クーラー５３は、溶剤回収タンク５の上部
と配管接続されており、溶剤回収タンク５からの溶剤蒸
気を、冷凍装置Ｒから冷媒管５４に導かれた低温冷媒と
熱交換させて冷却することにより凝縮させて再度溶剤回
収タンク５内に回収させて極力大気へ放出しないように
している。The cooler 53 is connected to the upper part of the solvent recovery tank 5 by piping, and cools the solvent vapor from the solvent recovery tank 5 by exchanging heat with a low-temperature refrigerant guided to the refrigerant pipe 54 from the refrigerating device R. As a result, it is condensed and collected again in the solvent recovery tank 5 so as not to be released to the atmosphere as much as possible.
【００３７】また、各配管には、制御装置（図示せず）
からの制御信号により、または手動により弁開閉する開
閉弁９がそれぞれ設けられている。A control device (not shown) is provided in each pipe.
Opening / closing valves 9 are provided to open and close the valves in response to control signals from the controller or manually.
【００３８】さらに、本化学処理装置１は、処理タンク
２内から溶媒混合蒸気を真空引きした後、処理タンク２
内部を大気に開放する前に、残存の溶剤をできるだけ排
除するために、該処理タンク２内を加圧してタンク内の
気体を水に接触させて残存溶剤を水に吸着させる噴霧タ
ンク６７を設けている。Further, the present chemical treatment apparatus 1 evacuates the mixed solvent vapor from the inside of the treatment tank 2,
In order to remove the residual solvent as much as possible before opening the inside to the atmosphere, a spray tank 67 for pressurizing the inside of the processing tank 2 to bring the gas in the tank into contact with water and adsorb the residual solvent to water is provided. ing.
【００３９】該噴霧タンク６７は、配管７１から分岐し
た配管７０を噴霧タンク６７に接続し、さらに、この配
管７０を噴霧タンク６７内の底部近傍まで延設させて、
その先端に排出ノズル６７ａを設けている。噴霧タンク
６７内の水は噴霧ポンプ６７ｂの駆動により、噴霧管６
７ｃから噴霧タンク６７内上部空間に噴霧循環され、排
出ノズル６７ａから水中にガスを排出させてガス中の溶
剤を水に吸着させ、さらに、吸着されなかった溶剤を噴
霧管６７ｃから噴霧される水で吸着させるようにしてい
る。In the spray tank 67, a pipe 70 branched from the pipe 71 is connected to the spray tank 67, and the pipe 70 is extended to near the bottom of the spray tank 67.
A discharge nozzle 67a is provided at the tip. The water in the spray tank 67 is supplied to the spray pipe 6 by the drive of the spray pump 67b.
7c is sprayed and circulated into the upper space in the spray tank 67, the gas is discharged into the water from the discharge nozzle 67a, the solvent in the gas is adsorbed on the water, and the solvent not adsorbed is sprayed from the spray pipe 67c. It is made to adsorb.
【００４０】そして、ガス発生器３は、図１および図２
に示すように、メチレンクロライド（ＭＣ）からなる有
機溶剤液を貯留する基本液気化容器３１と、該基本液気
化容器３１とは別個に設けられ、補助液となる水を貯留
する反応容器３２とを備えている。Then, the gas generator 3 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 2, a basic liquid vaporization container 31 for storing an organic solvent liquid composed of methylene chloride (MC), and a reaction container 32 provided separately from the basic liquid vaporization container 31 and storing water serving as an auxiliary liquid. It has.
【００４１】基本液気化容器３１は、水平方向に延びる
円筒状をしており、基本液気化容器３１の上部に、溶剤
蒸気を排出するための溶剤蒸気出口３１ａを設けて、該
溶剤蒸気出口３１ａに反応容器３２と連通される注入管
３３が接続される。また、基本液気化容器３１の上部に
は、容器内に溶剤液を注入するためのＭＣ注入パイプ３
１ｂと、溶剤回収タンク５の溶剤を基本液気化容器３１
に戻すための配管７８を接続している。The basic liquid vaporization vessel 31 has a cylindrical shape extending in the horizontal direction, and a solvent vapor outlet 31a for discharging solvent vapor is provided at the upper part of the basic liquid vaporization vessel 31. Is connected to an injection pipe 33 communicating with the reaction vessel 32. An MC injection pipe 3 for injecting a solvent liquid into the container is provided above the basic liquid vaporization container 31.
1b and the solvent in the solvent recovery tank 5 is
The pipe 78 for returning to the state is connected.
【００４２】基本液気化容器３１内底部には、容器内に
貯留されるメチレンクロライド液を加熱するための加熱
部３１ｃを配設しており、該加熱部３１ｃは、ボイラー
Ｂまたは冷却装置Ｃに選択的に接続される加熱管３１ｄ
からなり、該加熱管３１ｄは、容器内に蛇行状に配設さ
れている。前記冷却装置Ｃは、加熱部３１ｃの加熱温度
を調整したり、強制冷却時に用いられる。A heating unit 31c for heating the methylene chloride liquid stored in the container is disposed at the bottom of the basic liquid vaporization container 31, and the heating unit 31c is connected to the boiler B or the cooling device C. Heating tube 31d selectively connected
The heating tube 31d is arranged in a meandering shape in the container. The cooling device C is used at the time of adjusting the heating temperature of the heating unit 31c or at the time of forced cooling.
【００４３】さらに、基本液気化容器３１内には、溶剤
液中の液面近くに、溶剤液から気化した溶剤蒸気を通過
させる微細孔を有する微細孔形成部材３１ｅを配設し
て、溶剤液の自然対流により液面が乱れるのを抑制し、
該基本液気化容器３１内から気泡のみを反応容器３２へ
と送るようにしている。微細孔形成部材３１ｅは、メッ
シュの細かい網や、細かいスリットの入った板状部材を
用いる。なお、基本液気化容器３１内には、図示してい
ないが、溶剤液の液面の位置を計測するための液面計を
設けている。Further, a micropore forming member 31e having micropores for allowing the vapor of the solvent vaporized from the solvent liquid to pass therethrough is provided in the basic liquid vaporization container 31 near the liquid surface in the solvent liquid. To prevent the liquid surface from being disturbed by natural convection
Only bubbles are sent from the basic liquid vaporization container 31 to the reaction container 32. As the fine hole forming member 31e, a mesh having a fine mesh or a plate-like member having a fine slit is used. Although not shown, a liquid level gauge for measuring the position of the liquid level of the solvent liquid is provided in the basic liquid vaporization container 31.
【００４４】反応容器３２は、図１および図２に示すよ
うに、水平方向に延びる円筒状をしており、反応容器３
２の上部に、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を排出する
ための混合蒸気出口３２ａを設けて、該混合蒸気出口３
２ａに処理タンク２へ混合蒸気を送るための配管１を接
続している。As shown in FIGS. 1 and 2, the reaction vessel 32 has a cylindrical shape extending in the horizontal direction.
2, a mixed vapor outlet 32a for discharging a mixed vapor of the solvent vapor and the steam is provided at an upper portion of the mixed vapor outlet 3a.
A pipe 1 for sending mixed steam to the processing tank 2 is connected to 2a.
【００４５】また、反応容器３２の上部には、基本液気
化容器３１と連通される注入管３３が接続されている。An injection pipe 33 communicating with the basic liquid vaporization vessel 31 is connected to the upper part of the reaction vessel 32.
【００４６】該注入管３３は、一端側が基本液気化容器
３１内の蒸気層に連通され、他端側が反応容器３２内に
挿入されており、反応容器３２内に挿入される注入管３
３の先端を閉鎖状にすると共に、該注入管３３先端側に
複数の孔３３ａを形成し、該注入管３３の孔形成部３３
ｂを反応容器３２内の補助液中に浸漬させて、基本液気
化容器３１で気化された溶剤蒸気を反応容器３２内の補
助液中に放出させるようにしている。The injection pipe 33 has one end communicating with the vapor layer in the basic liquid vaporization vessel 31, the other end inserted into the reaction vessel 32, and the injection pipe 3 inserted into the reaction vessel 32.
3 is closed, a plurality of holes 33a are formed at the tip side of the injection pipe 33, and a hole forming portion 33 of the injection pipe 33 is formed.
b is immersed in the auxiliary liquid in the reaction vessel 32 so that the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel 31 is released into the auxiliary liquid in the reaction vessel 32.
【００４７】また、反応容器３２の上部には、容器内に
水である補助液を注入するための水注入パイプ３２ｂを
接続している。A water injection pipe 32b for injecting an auxiliary liquid, which is water, into the container is connected to the upper portion of the reaction container 32.
【００４８】反応容器３２内底部で、前記注入管３３の
孔形成部３３ｂより下方には、容器内に貯留される水を
加熱するための加熱部３２ｃを配設しており、該加熱部
３２ｃは、ボイラーＢまたは冷却装置Ｃに選択的に接続
される加熱管３２ｄからなり、該加熱管３２ｄは、容器
内に蛇行状に配設されている。前記冷却装置Ｃは、加熱
部３２ｃの加熱温度を調整したり、強制冷却時に用いら
れる。At the bottom of the reaction vessel 32, below the hole forming section 33b of the injection pipe 33, a heating section 32c for heating water stored in the vessel is provided. Consists of a heating tube 32d selectively connected to the boiler B or the cooling device C, and the heating tube 32d is arranged in a meandering shape in the container. The cooling device C is used at the time of adjusting the heating temperature of the heating unit 32c or at the time of forced cooling.
【００４９】さらに、反応容器３２内の補助液中で、該
補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上に該溶剤蒸
気を衝突させる多孔板３４を設けている。該多孔板３４
は、注入管３３の孔形成部３３ｂの上方に配設してお
り、加熱部３２ｃによって生ずる自然対流を衝突させ
て、この自然対流の流れを変更させると共に、該多孔板
３４に溶剤蒸気の気泡を衝突させるようにしている。Further, in the auxiliary liquid in the reaction vessel 32, a perforated plate 34 is provided for impinging the solvent vapor on the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid. The perforated plate 34
Is disposed above the hole forming portion 33b of the injection pipe 33, and collides natural convection generated by the heating portion 32c to change the flow of the natural convection. To make it collide.
【００５０】そして、小さい気泡のみを多孔板３４の多
数の孔に通過させ、大きい気泡は、多孔板３４の下面に
溜めて、気泡の流れを容器内面に向かって変更させるこ
とにより、気泡を反応容器３２内に分散させて万遍なく
行き渡るようにし、溶剤蒸気と水との接触率を向上させ
ている。Then, only small bubbles are allowed to pass through a large number of holes of the perforated plate 34, and large bubbles are collected on the lower surface of the perforated plate 34 to change the flow of the bubbles toward the inner surface of the container, thereby causing the bubbles to react. It is dispersed in the container 32 so as to be evenly distributed, and the contact ratio between the solvent vapor and water is improved.
【００５１】反応容器３２内には、さらに、補助液中の
液面近くに、水に接触した溶剤蒸気を通過させる微細孔
を有する微細孔形成部材３２ｅを配設して、補助液の自
然対流により液面が乱れるのを抑制すると共に、溶剤蒸
気を微細孔形成部材３２ｅの微細孔に通過させてより細
かい気泡を発生させることにより、溶剤蒸気と水との接
触をさらに高めて、質の良い混合蒸気を発生させられる
ようにしている。微細孔形成部材３２ｅは、メッシュの
細かい網や、細かいスリットの入った板状部材を用い
る。In the reaction vessel 32, a micropore forming member 32e having micropores for allowing the solvent vapor in contact with water to pass therethrough is provided near the liquid surface of the auxiliary liquid, and the natural convection of the auxiliary liquid is provided. In addition to suppressing the liquid surface from being disturbed, the solvent vapor is passed through the fine holes of the fine hole forming member 32e to generate finer bubbles, thereby further increasing the contact between the solvent vapor and water, and having good quality. A mixed vapor can be generated. As the fine hole forming member 32e, a mesh having a fine mesh or a plate-like member having a fine slit is used.
【００５２】なお、反応容器３２内には、図示していな
いが、溶剤液の液面の位置を計測するための液面計を設
けている。Although not shown, a liquid level gauge for measuring the position of the liquid level of the solvent liquid is provided in the reaction vessel 32.
【００５３】そして、反応容器３２内で発生させた混合
蒸気を処理タンク２に配管７１，７２，７３を介して注
入するようにしている。Then, the mixed vapor generated in the reaction vessel 32 is injected into the processing tank 2 through the pipes 71, 72, 73.
【００５４】なお、本実施の形態では、塩素系有機溶剤
としてメチレンクロライドを使用している。In this embodiment, methylene chloride is used as the chlorine-based organic solvent.
【００５５】また、本化学処理装置１を構成するタンク
や容器は、何れも臭気のきつい塩素系有機溶剤を大気中
に飛散させないため、密閉容器で構成してある。Each of the tanks and containers constituting the present chemical treatment apparatus 1 is a closed container in order to prevent the odorous chlorine-based organic solvent from scattering into the atmosphere.
【００５６】続いて、化学処理装置１により被処理物Ｔ
を溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気で処理する工程につい
て説明する。Subsequently, the object T to be treated is
Of treating with a mixed vapor of a solvent vapor and steam will be described.
【００５７】この化学処理装置１では、主に、処理タン
ク一次真空引き工程、溶剤蒸気供給工程、溶剤蒸気循環
工程、処理タンク二次真空引き工程が実行される。これ
らの各工程を順次説明する。 「一次処理タンク真空引き工程」処理タンク２内に収納
された被処理物Ｔを化学処理する前に、常温で大気に開
放されていた処理タンク２内の空気などの余分な気体を
真空引きしておく工程である。In the chemical treatment apparatus 1, a primary vacuuming step of the processing tank, a solvent vapor supplying step, a solvent vapor circulating step, and a secondary vacuuming step of the processing tank are mainly performed. Each of these steps will be described sequentially. "Primary processing tank vacuuming step" Before chemical treatment of the processing object T stored in the processing tank 2, excess gas such as air in the processing tank 2 that has been opened to the atmosphere at normal temperature is evacuated. This is the step to keep.
【００５８】本工程は、処理タンク２に接続される配管
７３、および配管７９を開閉弁により閉鎖しておき、配
管７４を介して真空ポンプ装置６１により真空引きを行
うと共に、処理タンク２内の温度を溶剤蒸気の凝縮を防
ぐようにボイラーＢにより上昇させる（例えば、メチレ
ンクロライドを用いる場合には、８５℃）。In this step, the pipe 73 and the pipe 79 connected to the processing tank 2 are closed by an on-off valve, and a vacuum is pumped through the pipe 74 by the vacuum pump device 61. The temperature is increased by boiler B to prevent condensation of the solvent vapor (eg, 85 ° C. when using methylene chloride).
【００５９】このとき、同時に、ガス発生器３におい
て、基本液気化容器３１、および、反応容器３２の各加
熱部３１ｃ，３２ｃを、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気
を発生させる温度に加熱しておく（例えば、メチレンク
ロライドを用いる場合には、８０℃程度）。 「溶剤蒸気供給工程」本工程は、処理タンク２が真空引
きされると、真空ポンプ装置６１の駆動を停止し、配管
７４およびトラップ６６の出口側配管７９の開閉弁を閉
鎖して、連通を遮断すると共に、処理タンク２とガス発
生器３とを連通させる配管７１、配管７２、配管７３か
ら処理タンク２内に圧力差を利用して、混合蒸気を処理
タンク２内及びトラップ６６内に注入する工程である。At this time, simultaneously, in the gas generator 3, the heating sections 31c and 32c of the basic liquid vaporization vessel 31 and the reaction vessel 32 are heated to a temperature at which a mixed vapor of the solvent vapor and the steam is generated. (For example, when using methylene chloride, about 80 ° C.). “Solvent vapor supply step” In this step, when the processing tank 2 is evacuated, the drive of the vacuum pump device 61 is stopped, and the on-off valves of the pipe 74 and the outlet pipe 79 of the trap 66 are closed to establish communication. The mixed steam is injected into the processing tank 2 and the trap 66 by using a pressure difference from the pipe 71, the pipe 72, and the pipe 73 for shutting off and connecting the processing tank 2 and the gas generator 3 to the processing tank 2. This is the step of performing
【００６０】本工程により、処理タンク２内で、有機溶
剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を被処理物Ｔに曝露して、
該被処理物Ｔ内に混合蒸気を浸透させはじめる。 「溶剤蒸気循環工程」本工程は、循環用ブロワ６２を使
用して、処理タンク２内に注入された混合蒸気を一旦タ
ンク外に出した後、再度タンク内に戻す混合蒸気の循環
工程である。According to this step, a mixed vapor of an organic solvent vapor and water vapor is exposed to the object T in the processing tank 2,
The mixed vapor starts to penetrate into the object T. “Solvent Vapor Circulation Step” This step is a circulation step of the mixed vapor injected into the processing tank 2 once using the circulation blower 62, and then returned to the tank again. .
【００６１】本工程により、処理タンク２内の混合蒸気
を循環用ブロワ６２で取り出して、凝縮器６３または加
熱器６４で混合蒸気の加熱度または気化状態を調整した
のち配管７６、配管７７、配管７３を介して処理タンク
２内に戻される。In this step, the mixed steam in the processing tank 2 is taken out by the circulating blower 62, the degree of heating or the vaporized state of the mixed steam is adjusted by the condenser 63 or the heater 64, and then the pipe 76, the pipe 77, and the pipe It is returned to the processing tank 2 via 73.
【００６２】また、本工程は、６〜８時間程度継続して
実行され、これにより混合蒸気が被処理物Ｔの内部奥深
くまで浸透して行き、被処理物Ｔの細胞ピットが破壊さ
れていく。This process is continuously performed for about 6 to 8 hours, whereby the mixed vapor penetrates deep inside the object T, and cell pits of the object T are destroyed. .
【００６３】このとき、木材の樹液も溶け出し、処理タ
ンク２内底部から、トラップ６６に貯留される。 「処理タンク二次真空引き工程」本工程は、処理タンク
２内の溶媒蒸気を真空引きにより、溶剤回収タンク５を
介してガス発生器３に回収する工程である。At this time, the wood sap also melts out and is stored in the trap 66 from the bottom inside the processing tank 2. "Processing Tank Secondary Vacuuming Step" This step is a step of recovering the solvent vapor in the processing tank 2 to the gas generator 3 via the solvent recovery tank 5 by vacuuming.
【００６４】本工程では、処理タンク２内の温度を混合
蒸気中の水蒸気が凝縮する温度で、溶剤蒸気が気化状態
のままとなる温度まで下げた状態で、配管７３およびト
ラップ６６の出口側配管７９の開閉弁を閉鎖して、連通
を遮断すると共に、真空ポンプ装置６１を駆動させて処
理タンク２内およびトラップ６６内の真空引きを行う。In this step, the pipe 73 and the outlet pipe of the trap 66 are kept at a temperature at which the vapor in the mixed vapor is condensed to a temperature at which the solvent vapor remains vaporized. The on-off valve 79 is closed to shut off the communication, and the vacuum pump 61 is driven to evacuate the processing tank 2 and the trap 66.
【００６５】これにより、被処理物Ｔ内の奥部から溶
剤、温水、およびこれらに溶け込んだ樹液などの不要物
が抜き出されるのである。この場合、溶剤蒸気は配管７
４を経て凝縮器６３に達し、凝縮器６３で凝縮液化した
溶剤液は配管７５からトラップ６５に移行した後、溶剤
回収タンク５に貯留される。As a result, unnecessary substances such as solvent, hot water, and sap dissolved therein are extracted from the inner part of the object T to be treated. In this case, the solvent vapor is
After reaching the condenser 63 through 4, the solvent liquid condensed and liquefied by the condenser 63 is transferred from the pipe 75 to the trap 65, and is stored in the solvent recovery tank 5.
【００６６】溶剤回収タンク５内で溶剤液が所定液位以
上になると、溶剤液は溶剤液ポンプ５１の駆動により配
管７８を経てガス発生器３の基本液気化容器３１に回収
される。When the solvent liquid in the solvent recovery tank 5 reaches a predetermined liquid level or higher, the solvent liquid is recovered into the basic liquid vaporization container 31 of the gas generator 3 through the pipe 78 by driving the solvent liquid pump 51.
【００６７】一方、処理タンク２底部に落下した不要物
と水は配管７９からトラップ６６を介して水回収タンク
４に回収され、該水回収タンク４に回収された水がドラ
ム缶４２に貯留される。On the other hand, unnecessary substances and water that have fallen to the bottom of the processing tank 2 are recovered from the pipe 79 to the water recovery tank 4 via the trap 66, and the water recovered in the water recovery tank 4 is stored in the drum 42. .
【００６８】また、処理タンク２内の溶剤蒸気の残留を
できるだけ少なくするため、処理タンク２内のガスを真
空ポンプ装置６１の駆動により噴霧タンク６７に排出
し、ガス中に残る溶剤蒸気を水に吸着させる作業を行
う。さらに、上記した各工程で各タンクの安全弁（図示
省略）から放出された溶剤蒸気も全て噴霧タンク６７に
導かれるようになっている。In order to minimize the residual solvent vapor in the processing tank 2, the gas in the processing tank 2 is discharged to the spray tank 67 by driving the vacuum pump device 61, and the solvent vapor remaining in the gas is converted to water. Perform the work to adsorb. Further, the solvent vapor released from the safety valve (not shown) of each tank in each of the above-described steps is also guided to the spray tank 67.
【００６９】こうして、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気
による一連の化学処理が完了すると、処理タンク２内の
温度をボイラーＢにより再度上昇させて木材の乾燥処理
が行われる。この乾燥処理においては、乾燥処理の前に
溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気による化学処理を行っ
て、木材細胞のピットを破壊させているので、木材内部
からの水分の排出を良好に行えるのである。When a series of chemical treatments using the mixed vapor of the solvent vapor and the steam is completed, the temperature in the processing tank 2 is raised again by the boiler B, and the wood is dried. In this drying treatment, the pits of the wood cells are destroyed by performing a chemical treatment with a mixed steam of the solvent vapor and the steam before the drying treatment, so that the water can be discharged well from the interior of the wood. .
【００７０】[0070]
【発明の効果】請求項１記載の本発明のガス発生器は、
有機溶剤液を貯留する基本液気化容器と、補助液を貯留
する反応容器とを別個に設け、それぞれの容器内で単体
液を加熱して蒸気を発生させると共に、基本液気化容器
で気化された溶剤蒸気を補助液中に放出させて、溶剤蒸
気と水蒸気との混合蒸気を発生させるようにしているの
で、従来のように溶剤液の自然対流で補助液が攪拌され
ることがなくなり、各液の状態を安定に保つことができ
るし、単体液なので、液位制御および液量の管理が容易
に行え、質の良い混合蒸気が得られる。According to the first aspect of the present invention, there is provided a gas generator comprising:
A basic liquid vaporization container for storing the organic solvent liquid, and a reaction container for storing the auxiliary liquid are separately provided, and a single liquid is heated in each container to generate steam, and vaporized in the basic liquid vaporization container. Since the solvent vapor is released into the auxiliary liquid to generate a mixed vapor of the solvent vapor and water vapor, the auxiliary liquid is not agitated by the natural convection of the solvent liquid as in the prior art, and each liquid is not agitated. Can be maintained stably, and since it is a single liquid, liquid level control and liquid amount management can be easily performed, and a high-quality mixed vapor can be obtained.
【００７１】基本液気化容器で溶剤蒸気を発生させた
後、反応容器中の補助液中に溶剤蒸気を放出させるよう
にしているので、溶剤蒸気の反応容器への放出量の制御
も容易に行え、溶剤蒸気の水との接触反応量の場所むら
や、時間むらを少なくすることができ、安定した質の混
合蒸気が得られる。After the solvent vapor is generated in the basic liquid vaporization vessel, the solvent vapor is released into the auxiliary liquid in the reaction vessel, so that the amount of the solvent vapor released into the reaction vessel can be easily controlled. In addition, it is possible to reduce unevenness in the location and time of the contact reaction amount of the solvent vapor with water, and to obtain a mixed steam of a stable quality.
【００７２】基本液である溶剤液と補助液である水とを
別々の容器に収容させ、それぞれ別個に加熱部で加熱さ
せるようにしているので、基本液と補助液とをそれぞれ
個別に圧力および温度の条件を設定することができ、さ
らに、基本液気化容器で気化された溶剤蒸気を補助液中
に放出させる注入管に過熱器や減圧検圧器など他の調制
器を設けることにより、混合蒸気の製造温度、圧力の範
囲を拡大できる。Since the solvent liquid as the basic liquid and the water as the auxiliary liquid are accommodated in separate containers and are separately heated by the heating unit, the basic liquid and the auxiliary liquid are individually subjected to pressure and pressure. Temperature conditions can be set, and furthermore, by installing another regulator such as a superheater or a pressure reducing pressure gauge in the injection pipe for releasing the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel into the auxiliary liquid, the mixed vapor The range of manufacturing temperature and pressure can be expanded.
【００７３】また、請求項２記載の発明は、請求項１記
載の発明において、一端側が基本液気化容器内の蒸気層
に連通され、他端側が反応容器内に挿入される注入管を
設け、反応容器内に挿入される注入管の先端を閉鎖状に
すると共に、該注入管先端側に複数の孔を形成し、該注
入管の孔形成部を反応容器の補助液中に浸漬させて、基
本液気化容器で気化された溶剤蒸気を反応容器内の補助
液中に放出させる構成としているので、溶剤蒸気を補助
液に確実に接触させられる。Further, according to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, an injection pipe is provided, one end of which is communicated with the vapor layer in the basic liquid vaporization vessel, and the other end of which is inserted into the reaction vessel. While closing the tip of the injection pipe inserted into the reaction vessel, forming a plurality of holes on the tip side of the injection pipe, immersing the hole forming portion of the injection pipe in the auxiliary liquid of the reaction vessel, Since the configuration is such that the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel is released into the auxiliary liquid in the reaction vessel, the solvent vapor can be reliably brought into contact with the auxiliary liquid.
【００７４】さらに、請求項３記載の発明は、請求項１
または請求項２記載の発明において、反応容器内の補助
液中で、該補助液中に放出された溶剤蒸気の上昇経路上
に該溶剤蒸気を衝突させる多孔板を設ける構成としてい
るので、反応容器の補助液中で溶剤蒸気を多孔板に衝突
させて分散させられ、溶剤蒸気の水との接触反応量の場
所むらや、時間むらをさらに少なくすることができ、さ
らに良好な質の混合蒸気が得られる。The third aspect of the present invention provides the first aspect of the present invention.
Alternatively, in the invention according to claim 2, since a perforated plate for impinging the solvent vapor on the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid in the auxiliary liquid in the reaction vessel is provided, the reaction vessel In the auxiliary liquid, the solvent vapor collides with the perforated plate and is dispersed, and the unevenness of the contact reaction amount of the solvent vapor with water and the unevenness of time can be further reduced. can get.
【００７５】しかも、請求項４記載の発明では、請求項
１乃至請求項３記載の何れかの発明において、反応容器
内の補助液中に、該補助液中に放出された溶剤蒸気を通
過させる微細孔を有する微細孔形成部材を配設する構成
としているので、該微細孔形成部材に溶剤蒸気を通過さ
せて大きな気泡の溶剤蒸気を粉砕、変形させて補助液と
の接触反応率をさらに向上させられる。Further, according to the fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, the solvent vapor released in the auxiliary liquid is passed through the auxiliary liquid in the reaction vessel. Since a micropore forming member having micropores is provided, solvent vapor is passed through the micropore forming member to crush and deform the solvent vapor of large bubbles, thereby further improving the contact reaction rate with the auxiliary liquid. Let me do.
【図１】本発明の一実施形態にかかる化学処理装置の概
略構成を示すシステム回路図である。FIG. 1 is a system circuit diagram illustrating a schematic configuration of a chemical treatment apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の化学処理装置に用いられるガス発生器
の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a gas generator used in the chemical treatment device of the present invention.
【図３】従来使用していた化学処理装置のガス発生器の
断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a gas generator of a conventional chemical treatment apparatus.
１ 化学処理装置 ２ 処理タンク ３ ガス発生器 ３１ 基本液気化容器 ３１ｃ 加熱部 ３２ 反応容器 ３２ｃ 加熱部 ３３ 注入管 ３４ 多孔板 ３１ｅ 微細孔形成部材 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Chemical treatment apparatus 2 Processing tank 3 Gas generator 31 Basic liquid vaporization container 31c Heating part 32 Reaction container 32c Heating part 33 Injection pipe 34 Perforated plate 31e Micropore forming member
Claims (4)
の混合蒸気で被処理物を化学処理する処理タンクを備え
た化学処理装置において、内部に加熱部を有し、有機溶
剤液が貯留され、該有機溶剤液を加熱部で加熱して気化
させる基本液気化容器と、該基本液気化容器と別個独立
に設けられ、内部に加熱部を有し、水である補助液が貯
留され、該補助液を加熱部で加熱し、かつ、前記基本液
気化容器で気化された溶剤蒸気を補助液中に放出させ
て、溶剤蒸気と水蒸気との混合蒸気を発生させる反応容
器とを備えるガス発生器を有し、該ガス発生器で発生さ
せた混合蒸気を処理タンクに注入するようにした化学処
理装置。1. A chemical treatment apparatus comprising a treatment tank for chemically treating an object to be treated with a mixed vapor of a solvent vapor obtained by evaporating an organic solvent and water vapor, comprising a heating section inside, and storing an organic solvent liquid. A basic liquid vaporization container that heats and vaporizes the organic solvent liquid in a heating unit, and is provided separately and independently from the basic liquid vaporization container, has a heating unit inside, and stores an auxiliary liquid that is water, A gas generating unit that heats the auxiliary liquid in a heating unit, and releases a solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporizing container into the auxiliary liquid to generate a mixed vapor of the solvent vapor and water vapor. A chemical treatment apparatus having a gas generator and injecting the mixed vapor generated by the gas generator into a treatment tank.
され、他端側が反応容器内に挿入される注入管を設け、
反応容器内に挿入される注入管の先端を閉鎖状にすると
共に、該注入管先端側に複数の孔を形成し、該注入管の
孔形成部を反応容器の補助液中に浸漬させて、基本液気
化容器で気化された溶剤蒸気を反応容器内の補助液中に
放出させるようにしている請求項１記載の化学処理装
置。2. An injection pipe having one end connected to a vapor layer in a basic liquid vaporization vessel and the other end inserted into a reaction vessel.
While closing the tip of the injection pipe inserted into the reaction vessel, forming a plurality of holes on the tip side of the injection pipe, immersing the hole forming portion of the injection pipe in the auxiliary liquid of the reaction vessel, The chemical treatment apparatus according to claim 1, wherein the solvent vapor vaporized in the basic liquid vaporization vessel is released into the auxiliary liquid in the reaction vessel.
出された溶剤蒸気の上昇経路上に該溶剤蒸気を衝突させ
る多孔板を設けている請求項１または請求項２に記載の
化学処理装置。3. The auxiliary liquid in the reaction vessel according to claim 1, wherein a perforated plate is provided for impinging the solvent vapor on the rising path of the solvent vapor released into the auxiliary liquid. Chemical processing equipment.
出された溶剤蒸気を通過させる微細孔を有する微細孔形
成部材を配設している請求項１乃至請求項３の何れかに
記載の化学処理装置。4. A microporous member having micropores through which a solvent vapor released in the auxiliary liquid passes is provided in the auxiliary liquid in the reaction vessel. The chemical treatment device according to any one of the above.
Priority Applications (1)
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| JPH05154307A (en) * | 1991-12-10 | 1993-06-22 | Toshiba Corp | Degassing device |
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| JPH07229682A (en) * | 1994-02-17 | 1995-08-29 | Mitsubishi Electric Corp | Vapor drier |
-
1998
- 1998-10-23 JP JP30236998A patent/JP3909161B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
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| JPS6042003A (en) * | 1983-08-19 | 1985-03-06 | 常盤産業株式会社 | Method of treating and working wood |
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