JP2000119858A - Vaporizer for cvd device - Google Patents
Vaporizer for cvd deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、化学気相蒸着法
（ＣＶＤ法）によって反応生成物を基板上に成膜するＣ
ＶＤ装置に用いられる気化器に関するものである。The present invention relates to a method for forming a reaction product on a substrate by a chemical vapor deposition (CVD) method.
The present invention relates to a vaporizer used in a VD device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】 Ｄ
ＲＡＭなどの記憶媒体の記録層の成膜をはじめ、薄膜形
成技術には化学気相蒸着法（ＣＶＤ法）、スパッタリン
グ法、ＭＢＥ法（分子線エピキタシー法）などが知られ
ている。このような薄膜形成技術の内でも、ＣＶＤ法は
成膜速度が速く、短時間でより均一な膜を形成すること
ができる手段として注目されている。[Prior Art] D
Known techniques for forming a thin film, such as the formation of a recording layer of a storage medium such as a RAM, include a chemical vapor deposition method (CVD method), a sputtering method, and an MBE method (molecular beam epitaxy method). Among such thin film forming techniques, the CVD method has attracted attention as a means capable of forming a more uniform film in a short time with a high film forming rate.
【０００３】このＣＶＤ法は、気化器で加熱気化させた
原料ガスを、キャリアガスとともに反応チャンバ内に供
給し、該反応チャンバ内に配置した基板上に、反応ガス
とともに加熱反応させ成膜を行う手段である。ＣＶＤ装
置で用いられる気化器は、気化器内部を加熱手段によっ
て加熱し、供給された液体原料を加熱気化させている。In this CVD method, a source gas heated and vaporized by a vaporizer is supplied into a reaction chamber together with a carrier gas, and is heated and reacted with a reaction gas on a substrate arranged in the reaction chamber to form a film. Means. The vaporizer used in the CVD apparatus heats the inside of the vaporizer by a heating means to heat and vaporize the supplied liquid raw material.
【０００４】気化器内部に供給された液体原料を気化さ
せる原料加熱手段として、特表平７−５０３７５９号
に、図７に示される方法が記載されている。As a raw material heating means for vaporizing a liquid raw material supplied into a vaporizer, Japanese Patent Publication No. 7-503759 describes a method shown in FIG.
【０００５】図７において、液体原料は、フィッティン
グ５１を通じて、円筒状に形成された気化器５０内の導
管５２を通過させ、原料加熱部５４に供給される。[0005] In FIG. 7, a liquid raw material is supplied to a raw material heating section 54 through a fitting 52 through a conduit 52 in a vaporizer 50 formed in a cylindrical shape.
【０００６】原料加熱部５４は、焼結金属材料や多孔性
セラミック材料からなるフィルタ状のものであり、通過
される液体原料が気化されるのに十分な温度に加熱され
ている。液体原料は原料加熱部５４を通過することによ
って加熱気化され、気化された原料ガスは、管路５７か
ら流入され、内部容積部５５から供給されたキャリアガ
スとともにポート５６より反応チャンバに送られる。The raw material heating section 54 is in the form of a filter made of a sintered metal material or a porous ceramic material, and is heated to a temperature sufficient to vaporize the liquid raw material passing therethrough. The liquid raw material is heated and vaporized by passing through the raw material heating section 54, and the vaporized raw material gas flows into the pipe 57 and is sent to the reaction chamber through the port 56 together with the carrier gas supplied from the internal volume 55.
【０００７】この原料加熱部５４は、焼結金属材料や多
孔性セラミック材料などの多孔質材によって形成されて
おり、気化器５０に供給された液体原料との接触面積を
大きくして効率良く液体原料が気化されるようになって
おり、さらに、気化されずに残ってしまった原料を集め
る働きも有している。[0007] The raw material heating section 54 is formed of a porous material such as a sintered metal material or a porous ceramic material, and increases the contact area with the liquid raw material supplied to the vaporizer 50 to improve the liquid efficiency. The raw material is vaporized, and further has a function of collecting the raw material that has not been vaporized and remains.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、気化器の原料
加熱手段として、多孔質材からなるフィルタ状の原料加
熱部を用いた場合、気化されずに残った原料は原料加熱
部内の目詰まりの原因となり、目詰まりが起こった場
合、該原料加熱部の交換や清掃など、メンテナンスに手
間がかかるといった問題が起こる。However, when a filter-shaped raw material heating section made of a porous material is used as the raw material heating means of the vaporizer, the raw material remaining without being vaporized causes clogging in the raw material heating section. When clogging occurs as a cause, there arises a problem that maintenance is troublesome such as replacement and cleaning of the raw material heating section.
【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、気化器に供給された液体原料が十分に気化さ
れ、仮に気化されなかった原料が気化器内に残った場合
でも、メンテナンスが容易な原料加熱部を用いたＣＶＤ
装置用気化器を提供することを目的としている。The present invention has been made in view of such circumstances, and even if the liquid raw material supplied to the vaporizer is sufficiently vaporized and the non-vaporized raw material remains in the vaporizer, the maintenance is performed. Using a raw material heating unit that is easy to use
It is intended to provide a vaporizer for an apparatus.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明は、液体原料を気化器内部で加熱気化させて
原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応
チャンバ内に供給し、該反応チャンバ内に配置された基
板上に化学気相蒸着により反応生成物を成膜するＣＶＤ
装置に用いられる気化器について、前記液体原料が通過
される前記気化器内の通路上に、該通路を横断するよう
に複数のピンを櫛状に配置してなるピン列と、該ピン列
の各ピンを加熱する加熱源とを備えたことを特徴とす
る。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for producing a raw material gas by heating and vaporizing a liquid raw material inside a vaporizer, supplying the raw material gas together with a carrier gas into a reaction chamber, CVD for forming a reaction product by chemical vapor deposition on a substrate placed in the reaction chamber
Regarding the vaporizer used in the device, a pin row in which a plurality of pins are arranged in a comb shape on a passage in the vaporizer through which the liquid raw material is passed, and the pin row, And a heating source for heating each pin.
【００１１】本発明によれば、原料加熱部として気化器
内部に供給された液体原料が通過される通路上に、加熱
源によって原料が気化されるために十分な温度に加熱さ
れた複数のピンが櫛状に、前記通路を横断するように配
置されたことにより、気化器内部に供給された液体原料
は直接ピンに接触して加熱されるため、温度ムラによる
気化されない液体原料の発生を低減することができる。According to the present invention, a plurality of pins heated to a sufficient temperature so that the raw material is vaporized by the heating source are provided on the passage through which the liquid raw material supplied into the vaporizer passes as the raw material heating section. Are arranged in a comb shape so as to traverse the passage, so that the liquid material supplied into the vaporizer is directly contacted with the pins and heated, thereby reducing the generation of the liquid material that is not vaporized due to temperature unevenness. can do.
【００１２】また、前記ピンは、液体原料が通過される
通路の壁面に形成されたピン嵌合部に、通路に対して出
入り自在に支持されていることにより、仮にピン表面に
気化されなかった液体原料が付着した場合でも、ピンを
前記通路の嵌合部から引き抜くように移動させることに
よって、ピン表面と通路の嵌合部とが擦り合わされ、ピ
ン表面の付着物を取り除くことができる。Further, since the pin is supported by a pin fitting portion formed on the wall surface of the passage through which the liquid material passes so as to be able to enter and exit the passage, the pin is not temporarily vaporized on the pin surface. Even when the liquid material adheres, the pin surface is moved so as to be pulled out from the fitting portion of the passage, whereby the pin surface and the fitting portion of the passage are rubbed, and the deposit on the pin surface can be removed.
【００１３】この櫛状に設けられたピン列は、前記通路
方向に対して複数段かつ該通路を複数方向に横断するよ
うに配置されたことにより、気化器内に供給された液体
原料とピンとの接触面積は大きくなり、液体原料は十分
に気化されるようになる。The pin row provided in a comb shape is arranged in a plurality of stages in the direction of the passage and traversing the passage in a plurality of directions, so that the liquid raw material supplied into the vaporizer and the pin Is increased, and the liquid raw material is sufficiently vaporized.
【００１４】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態による
ＣＶＤ装置用気化器を図面を参照して説明する。図１は
本発明のＣＶＤ装置用気化器に用いられる原料加熱部の
一実施形態を示す図であり、図２は図１のＡ−Ａ断面図
である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a vaporizer for a CVD apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a view showing one embodiment of a raw material heating section used in a vaporizer for a CVD apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【００１５】なお、図１に示す原料加熱部１は、図６に
示す原料気化システム概略図の気化器３０内に取り付け
られるようになっている。原料タンク３１に収納されて
いた液体原料は、ポンプ３２によって送られ、管路３４
を通過して気化器３０に送られる。そして図６中原料加
熱部１上方から該原料加熱部１に供給された液体原料
は、原料加熱部１を通過されることによって気化され、
キャリアガス供給部３５から供給されたキャリアガスと
ともに出口部３６を通って図示しない反応チャンバに送
られるようになっている。The raw material heating section 1 shown in FIG. 1 is mounted in a vaporizer 30 of the raw material vaporization system shown in FIG. The liquid raw material stored in the raw material tank 31 is sent by the pump 32 and
And is sent to the vaporizer 30. The liquid raw material supplied to the raw material heating unit 1 from above the raw material heating unit 1 in FIG. 6 is vaporized by passing through the raw material heating unit 1,
The carrier gas supplied from the carrier gas supply unit 35 is sent to a reaction chamber (not shown) through the outlet 36 together with the carrier gas.
【００１６】図１において、原料加熱部１は、櫛状に複
数本設けられたピン２と、ピン２を支持するための、ピ
ン第１支持部５とピン第２支持部６とからなるピン支持
部３と、基体部４とを備えている。In FIG. 1, a raw material heating unit 1 includes a plurality of pins 2 provided in a comb shape, and a pin 1 for supporting the pins 2 and a pin 1 and a pin 2 for supporting the pin 2. A support section 3 and a base section 4 are provided.
【００１７】ピン２は、図２に示すように末端が太く形
成されており、このピン２を支持するピン支持部３は、
ピン第１支持部５と、ピン第２支持部６とからなる。こ
のうち、ピン第１支持部５は、図５のようにピン第２支
持部６と係合するために断面Ｄカット形状もしくは断面
円形状で、係合用のノックピン穴が設けられている。そ
して、ピン第１支持部５を上下に貫通するように、ピン
２を係合するための係合穴がピン２の末端と同形状にな
るように複数箇所２列に設けられており、２列に配置さ
れたそれぞれのピン２は互い違いになるように配置され
ている。The pin 2 has a thick end as shown in FIG. 2, and a pin supporting portion 3 for supporting the pin 2
It comprises a first pin support 5 and a second pin support 6. The first pin support portion 5 has a D-shaped cross section or a circular cross section for engaging with the second pin support portion 6 as shown in FIG. 5, and is provided with a knock pin hole for engagement. Engagement holes for engaging the pins 2 are provided in a plurality of locations and in two rows so as to penetrate the pin first support portions 5 up and down so as to have the same shape as the ends of the pins 2. The pins 2 arranged in a row are arranged alternately.
【００１８】ピン第２支持部６はほぼ円筒状に形成され
ており、このピン第２支持部６の断面の径は、ピン第１
支持部５の断面の径より大きくなっている。また、ピン
第１支持部５と係合させるために、ピン第２支持部６の
端面にはＤカット溝もしくは、ノックピン穴が設けられ
ている。そしてピン２は、ピン第１支持部５の係合穴に
差し込まれて、ピン第１支持部５のピン２末端が面して
いる側と、ピン第２支持部６の端面とを当接させ、ねじ
７にて固定されることによって、ピン支持部３に支持さ
れる。The pin second support part 6 is formed in a substantially cylindrical shape, and the diameter of the cross section of the pin second support part 6 is
It is larger than the diameter of the cross section of the support 5. In addition, a D-cut groove or a knock pin hole is provided on an end surface of the pin second support portion 6 for engaging with the pin first support portion 5. The pin 2 is inserted into the engagement hole of the pin first support portion 5, and abuts the side of the pin first support portion 5 facing the end of the pin 2 on the end surface of the pin second support portion 6. It is supported by the pin support 3 by being fixed by the screw 7.
【００１９】基体部４は、図３に示すように、平面Ｌ字
状に形成されており、Ｌ字状の長手部分の断面形状はほ
ぼ正方形状に形成されている。また、Ｌ字状の長手部分
が交差する位置には、ほぼ正方形状に形成された、図３
中紙面垂直方向に貫通するように設けられた原料通路１
０が形成されている。As shown in FIG. 3, the base portion 4 is formed in a plane L-shape, and the cross-sectional shape of the long portion of the L-shape is formed substantially in a square shape. In addition, at the position where the L-shaped longitudinal portions intersect, a substantially square shape is formed as shown in FIG.
Raw material passage 1 provided to penetrate in the vertical direction of the paper
0 is formed.
【００２０】原料通路１０の、図３中左方及び下方に
は、原料通路１０の長手方向と垂直方向に延びるように
円筒空洞状に設けられた支持部取付部８が形成されてい
る。この支持部取付部８はピン支持部３が係合される部
分であり、ピン支持部３の形状とほぼ同じ形状になるよ
うに形成されている。そして原料通路１０壁面と支持部
取付部８端部との間には区画壁部１１が形成されてい
る。At the left and lower sides of the raw material passage 10 in FIG. 3, there is formed a support mounting portion 8 provided in a cylindrical hollow shape so as to extend in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the raw material passage 10. The support mounting portion 8 is a portion where the pin support 3 is engaged, and is formed to have substantially the same shape as the shape of the pin support 3. A partition wall 11 is formed between the wall surface of the raw material passage 10 and the end of the support mounting portion 8.
【００２１】区画壁部１１には、図３のＢ−Ｂ断面図で
ある図４に示すように、支持部取付部８端部と原料通路
１０壁面とを貫通するように、原料通路１０の長手方向
と垂直方向に延びるように形成されたピン嵌合部１３
が、ピン２の径とほぼ同じ径を有して複数２列で互い違
いに形成されている。このピン嵌合部１３のそれぞれの
配列は、ピン支持部３に連結されたピン２の配列と同じ
になるように形成されている。As shown in FIG. 4, which is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 3, the partition wall 11 is formed so as to penetrate the end of the support mounting portion 8 and the wall of the raw material passage 10. Pin fitting portion 13 formed to extend in a direction perpendicular to the longitudinal direction
Are formed alternately in a plurality of rows having a diameter substantially equal to the diameter of the pins 2. The arrangement of each of the pin fitting portions 13 is formed so as to be the same as the arrangement of the pins 2 connected to the pin support portion 3.
【００２２】そして、図１に示すように、ピン支持部３
に取り付けられたピン２は、基体部４のそれぞれの支持
部取付部８から挿入されてピン嵌合部１３に嵌合され、
ピン支持部３は、支持部取付部８に固定される。Then, as shown in FIG.
The pins 2 attached to the base member 4 are inserted from the respective support portion attaching portions 8 of the base portion 4 and fitted into the pin fitting portions 13,
The pin support 3 is fixed to the support attachment 8.
【００２３】それぞれのピン支持部３に、２列に互い違
いになるように取り付けられたピン２は、ピン２が原料
通路１０を覆うように、それぞれのピン２の先端が、原
料通路１０のもう一方の側壁に当接されるように設置さ
れる。このとき、ピン支持部３によって２方向から延び
るようにそれぞれ２列に設けられたピン２は、図１、図
２に示すようにそれぞれが互い違いに格子状になるよう
に挿入される。The pins 2 attached to the respective pin support portions 3 so as to be staggered in two rows are arranged such that the tips of the respective pins 2 cover the material passage 10 so that the pins 2 cover the material passage 10. It is installed so as to be in contact with one side wall. At this time, the pins 2 provided in two rows so as to extend from the two directions by the pin support portions 3 are inserted so that they are alternately arranged in a lattice shape as shown in FIGS.
【００２４】ピン第２支持部６の内部にはピン２の加熱
手段であるヒータが設置され、基体部４のＬ字状の長手
部分にも、外部から該長手部分を巻き付けるようにヒー
タが設置される。そしてこれらのヒータによって、原料
通路１０に配置されたピン２は加熱される。A heater serving as a heating means for the pin 2 is installed inside the pin second support portion 6, and a heater is installed around the L-shaped longitudinal portion of the base portion 4 so as to wind the longitudinal portion from the outside. Is done. The pins 2 arranged in the material passage 10 are heated by these heaters.
【００２５】気化器内に供給された液体原料は、原料加
熱部１の原料通路１０を図１中紙面垂直方向に通過され
る。このとき、原料通路１０内に櫛状に配置されている
ピン２は、ヒータによって液体原料を気化させるために
十分な温度に加熱されており、原料通路１０を通過した
液体原料はピン２に直接接触し加熱されるため、温度ム
ラによる気化されない液体原料の発生を低減することが
できる。The liquid raw material supplied into the vaporizer passes through the raw material passage 10 of the raw material heating section 1 in a direction perpendicular to the paper of FIG. At this time, the pins 2 arranged in a comb shape in the raw material passage 10 are heated by the heater to a temperature sufficient to vaporize the liquid raw material, and the liquid raw material that has passed through the raw material passage 10 is directly applied to the pins 2. Since contact and heating are performed, generation of a liquid material that is not vaporized due to temperature unevenness can be reduced.
【００２６】図３に示すように、気化工程が終了した
後、ピン２は、ピン支持部３ごと基体部４から取り外し
が可能となっている。このとき、ピン２表面は原料通路
１０のピン嵌合部１３に擦り合わされながら取り外され
るため、仮にピン２表面に気化されずに残った原料が付
着している場合でも、取り外し時にピン２表面に気化さ
れずに残った原料は擦り落とされ、メンテナンスを容易
にすることができる。As shown in FIG. 3, after the vaporization step is completed, the pin 2 can be removed from the base 4 together with the pin support 3. At this time, since the surface of the pin 2 is removed while being rubbed by the pin fitting portion 13 of the raw material passage 10, even if the raw material remaining without being vaporized adheres to the surface of the pin 2, the surface of the pin 2 is removed at the time of removal. Raw materials remaining without being vaporized are scraped off, and maintenance can be facilitated.
【００２７】また、この櫛状に配置されたピン２の配置
を、原料通路１０方向に対して複数段配置し、さらに原
料通路１０壁面に対して複数方向から延びるように配置
したことにより、気化器内に供給された液体原料とピン
２の接触面積を大きくすることができ、液体原料は十分
に気化されるようになる。Further, the pins 2 arranged in a comb shape are arranged in a plurality of stages in the direction of the raw material passage 10 and are further arranged so as to extend in a plurality of directions with respect to the wall surface of the raw material passage 10, thereby evaporating. The contact area between the pin 2 and the liquid material supplied into the vessel can be increased, and the liquid material is sufficiently vaporized.
【００２８】[0028]
【発明の効果】本発明のＣＶＤ装置用気化器は、以下の
ような効果を有するものである。 （１）原料加熱部として気化器内部に供給された液体原
料が通過される通路上に、加熱源によって原料が気化さ
れるために十分な温度に加熱された複数のピンが櫛状
に、前記通路を横断するように配置されたことにより、
気化器内部に供給された液体原料は直接ピンに接触して
加熱されるため、温度ムラによる気化されない液体原料
の発生を低減することができる。 （２）前記ピンは、液体原料が通過される通路の壁面に
形成されたピン嵌合部に、通路に対して出入り自在に支
持されていることにより、仮にピン表面に気化されなか
った液体原料が付着した場合でも、ピンを前記通路の嵌
合部から引き抜くように移動させることによって、ピン
表面と通路の嵌合部とが擦り合わされ、ピン表面の付着
物を取り除くことができる。 （３）櫛状に設けられたピン列は、前記通路方向に対し
て複数段かつ該通路を複数方向に横断するように配置さ
れたことにより、気化器内に供給された液体原料とピン
との接触面積は大きくなり、液体原料は十分に気化され
るようになる。The vaporizer for a CVD apparatus according to the present invention has the following effects. (1) A plurality of pins heated to a temperature sufficient to vaporize the raw material by a heating source are comb-shaped on a passage through which a liquid raw material supplied into the vaporizer is passed as a raw material heating section. By being located across the passage,
Since the liquid material supplied into the vaporizer is heated by directly contacting the pins, it is possible to reduce the generation of the liquid material that is not vaporized due to temperature unevenness. (2) Since the pin is supported by a pin fitting portion formed on the wall surface of the passage through which the liquid material passes so as to be able to freely enter and exit the passage, the liquid material that is not vaporized on the pin surface Even if is attached, by moving the pin so as to be pulled out from the fitting portion of the passage, the pin surface and the fitting portion of the passage are rubbed, and the deposit on the pin surface can be removed. (3) The pin row provided in a comb shape is arranged in a plurality of stages in the direction of the passage and traversing the passage in a plurality of directions. The contact area increases, and the liquid raw material is sufficiently vaporized.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明のＣＶＤ装置用気化器の実施形態の一例
を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of an embodiment of a vaporizer for a CVD apparatus of the present invention.
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.
【図３】ピンを基体部から取り外す状態を説明する図で
ある。FIG. 3 is a diagram illustrating a state in which a pin is removed from a base.
【図４】図３のＢ−Ｂ断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB of FIG. 3;
【図５】ピン支持部の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a pin support.
【図６】原料気化システムの概略を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating an outline of a raw material vaporization system.
【図７】従来のＣＶＤ装置用気化器を説明する図であ
る。FIG. 7 is a diagram illustrating a conventional vaporizer for a CVD apparatus.
１ 原料加熱部 ２ ピン ３ ピン支持部 ４ 基体部 ５ ピン第１支持部 ６ ピン第２支持部 ８ 支持部取付部 １０ 原料通路 １１ 区画壁部 １３ ピン嵌合部 ３０ 気化器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Raw material heating part 2 Pin 3 Pin support part 4 Base part 5 Pin first support part 6 Pin second support part 8 Support part attaching part 10 Raw material passage 11 Partition wall part 13 Pin fitting part 30 Vaporizer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 正光 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内 (72)発明者 伊藤 厚生 兵庫県朝来郡生野町口銀谷字猪野々985番 地１ 三菱マテリアル株式会社生野製作所 内 (72)発明者 片桐 学 兵庫県朝来郡生野町口銀谷字猪野々985番 地１ 三菱マテリアル株式会社生野製作所 内 Ｆターム(参考） 4K030 EA01 KA25 5F045 BB10 EE02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Masamitsu Sato 1-297 Kitabukuro-cho, Omiya-shi, Saitama Mitsubishi Materials Research Institute (72) Inventor Kosei Ito Inono, Ginya, Ikuno-cho, Asago-gun, Hyogo 985 No. 1 Mitsubishi Materials Corporation Ikuno Works (72) Inventor Manabu Katagiri Hakugo Prefecture Asago-gun Ikuno-cho Ichino-guchi character Ino 998 No. 1 Mitsubishi Materials Corporation Ikuno Works F-term (reference) 4K030 EA01 KA25 5F045 BB10 EE02
Claims (3)
原料ガスにし、該原料ガスをキャリアガスとともに反応
チャンバ内に供給し、該反応チャンバ内に配置された基
板上に化学気相蒸着により反応生成物を成膜するＣＶＤ
装置に用いられる気化器について、前記液体原料が通過
される前記気化器内の通路上に、該通路を横断するよう
に複数のピンを櫛状に配置してなるピン列と、該ピン列
の各ピンを加熱する加熱源とを備えたことを特徴とする
ＣＶＤ装置用気化器。1. A liquid raw material is heated and vaporized in a vaporizer to form a raw material gas, and the raw material gas is supplied into a reaction chamber together with a carrier gas, and is then deposited on a substrate disposed in the reaction chamber by chemical vapor deposition. CVD to deposit reaction products
Regarding the vaporizer used in the device, a pin row in which a plurality of pins are arranged in a comb shape on a passage in the vaporizer through which the liquid raw material is passed, and the pin row, A vaporizer for a CVD apparatus, comprising: a heating source for heating each pin.
ピン嵌合部に、通路に対して出入り自在に支持されてい
ることを特徴とする請求項１に記載のＣＶＤ装置用気化
器。2. The vaporizer for a CVD apparatus according to claim 1, wherein the pin is supported by a pin fitting portion formed on a wall of the passage so as to be able to enter and exit the passage.
数段かつ該通路を複数方向に横断するように形成された
ことを特徴とする請求項１または２に記載のＣＶＤ装置
用気化器。3. The vaporizer for a CVD apparatus according to claim 1, wherein the pin row is formed in a plurality of stages with respect to the passage direction and so as to cross the passage in a plurality of directions. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10288536A JP2000119858A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Vaporizer for cvd device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10288536A JP2000119858A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Vaporizer for cvd device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000119858A true JP2000119858A (en) | 2000-04-25 |
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ID=17731517
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10288536A Withdrawn JP2000119858A (en) | 1998-10-09 | 1998-10-09 | Vaporizer for cvd device |
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