JP2000113990A - Organic el element and organic el display device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機化合物を用い
た有機ＥＬ素子および有機ＥＬ表示装置に関する。The present invention relates to an organic EL device and an organic EL display using an organic compound.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、有機ＥＬ素子が盛んに研究されて
いる。これは、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）など
の透明電極（ホール注入電極）上にトリフェニルジアミ
ン（ＴＰＤ）などのホール輸送材料を蒸着により薄膜と
し、その上にアルミキノリノール錯体（Ａｌｑ３）など
の蛍光物質を発光層として積層し、さらにＭｇなどの仕
事関数の小さな金属電極（電子注入電極）を形成した基
本構成を有する素子で、１０Ｖ前後の電圧で数１００か
ら数１０，０００cd/m2ときわめて高い輝度が得られる
ことで注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, organic EL devices have been actively studied. In this method, a hole transport material such as triphenyldiamine (TPD) is formed into a thin film by vapor deposition on a transparent electrode (hole injection electrode) such as tin-doped indium oxide (ITO) and a fluorescent material such as aluminum quinolinol complex (Alq3) is formed thereon. An element having a basic structure in which a substance is laminated as a light emitting layer and a metal electrode (electron injection electrode) having a small work function, such as Mg, is formed. The voltage is about several hundreds to several 10,000 cd / m 2 at a voltage of about 10 V. Attention has been paid to high brightness.
【０００３】このような有機ＥＬ素子の電子注入電極と
して用いられる材料は、発光層や電子注入輸送層等へ電
子を多く注入するものが有効であると考えられている。
換言すれば、仕事関数の小さい材料ほど電子注入電極と
して適していると言える。仕事関数の小さい材料として
は種々のものがあるが、有機ＥＬ素子の電子注入電極と
して用いられるものとしては、例えば、特開平２−１５
５９５号公報には、アルカリ金属以外の複数の金属から
なり、かつ、これらの金属の少なくとも１種の金属の仕
事関数が４eV未満である電子注入電極として、例えばＭ
ｇＡｇが開示されている。As a material used as an electron injection electrode of such an organic EL device, a material that injects a large amount of electrons into a light emitting layer, an electron injection transport layer, or the like is considered to be effective.
In other words, it can be said that a material having a smaller work function is more suitable as an electron injection electrode. There are various materials having a low work function. Examples of materials used as an electron injection electrode of an organic EL device include, for example, JP-A No. 2-15 / 1990.
No. 595 discloses an electron injecting electrode comprising a plurality of metals other than alkali metals and having a work function of at least one of these metals of less than 4 eV, such as M
gAg is disclosed.
【０００４】また、仕事関数の小さいものとしてはアル
カリ金属が好ましく、米国特許第３１７３０５０号、同
３３８２３９４号明細書には、アルカリ金属として、例
えばＮａＫが記載されている。特に、電子注入電極にＬ
ｉを用いると、高輝度の有機ＥＬ素子が得られる。An alkali metal having a small work function is preferable. US Pat. Nos. 3,173,050 and 3,382,394 disclose, for example, NaK as an alkali metal. In particular, L
When i is used, a high-luminance organic EL element can be obtained.
【０００５】アルカリ金属を用いた電子注入電極とし
て、例えば、特開昭６０−１６５７７１号公報、特開平
４−２１２２８７号公報、特開平５−１２１１７２号公
報、特開平５−１５９８８２号公報に記載されているＡ
ｌＬｉ合金を用いた電子注入電極が知られている。これ
らの公報に記載されているＡｌＬｉ合金のＬｉの濃度を
挙げると、（１）特開昭６０−１６５７７１号公報で
は、Ｌｉ濃度が３．６〜９９．８at％（１〜９９wt
％）、好ましくは２９．５〜７９．１at％（１０〜５０
wt％）のＡｌＬｉ合金が記載されている。（２）特開平
４−２１２２８７号公報では、Ｌｉ濃度が６at％以上、
好ましくは６〜３０at％のＡｌＬｉ合金が記載されてい
る。（３）特開平５−１２１１７２号公報では、Ｌｉ濃
度が０．０３７７〜０．３８at％（０．０１〜０．１：
１００wt比）のＡｌＬｉ合金、また好ましくは、Ｌｉ濃
度が１５．９at％以下（５０以下：１００wt比）のＡｌ
Ｌｉ合金が記載されている。（４）特開平５−１５９８
８２号公報では、Ｌｉ濃度が５〜９０at％のＡｌＬｉ合
金が記載されている。[0005] Electron injection electrodes using an alkali metal are described, for example, in JP-A-60-165977, JP-A-4-212287, JP-A-5-121172, and JP-A-5-159882. A
An electron injection electrode using an lLi alloy is known. The Li concentration of the AlLi alloy described in these publications is as follows: (1) According to Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-165771, the Li concentration is 3.6 to 99.8 at% (1 to 99 wt%).
%), Preferably 29.5 to 79.1 at% (10 to 50%).
wt%) AlLi alloy is described. (2) In JP-A-4-212287, the Li concentration is 6 at% or more,
Preferably, an AlLi alloy of 6 to 30 at% is described. (3) In JP-A-5-121172, the Li concentration is 0.0377 to 0.38 at% (0.01 to 0.1:
AlLi alloy having a Li concentration of 15.9 at% or less (50 or less: 100 wt ratio).
Li alloys are described. (4) JP-A-5-1598
No. 82 describes an AlLi alloy having a Li concentration of 5 to 90 at%.
【０００６】さらには、特開平９−１７５７４号公報で
は、電子注入電極（層）として、アルカリ金属（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）の化合物、特に、アルカリ金属
の酸化物、過酸化物、複合酸化物、ハロゲン化物、窒化
物、アルカリ金属塩が開示されている。具体的には、Ｌ
ｉ2Ｏ、Ｌｉ2Ｏ2、ＬｉＡｌＯ2、ＬｉＢＯ3、ＬｉＣ
ｌ、Ｌｉ2ＣＯ3等が挙げられている。Furthermore, in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-17574, an alkali metal (Li,
Compounds of Na, K, Rb and Cs), in particular, oxides, peroxides, complex oxides, halides, nitrides and alkali metal salts of alkali metals are disclosed. Specifically, L
i 2 O, Li 2 O 2 , LiAlO 2 , LiBO 3 , LiC
1, Li 2 CO 3 and the like.
【０００７】また、特開平１０−７４５８６号公報で
は、電子注入電極として、アルカリフッ化物、アルカリ
土類フッ化物、具体的にはＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＭｇＣａ2
が開示されている。In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-74586, as an electron injection electrode, an alkali fluoride, an alkaline earth fluoride, specifically, LiF, MgF 2 , MgCa 2
Is disclosed.
【０００８】しかしながら、Ｌｉのように仕事関数の小
さい材料は酸素や水分に対して反応性が高く、化学的に
不安定である。Ｌｉ等アルカリ金属を含む電子注入電極
を用いた有機ＥＬ素子は、非常に高い輝度が得られる
が、駆動中に輝度が上昇していくという問題がある。こ
れは、駆動時の発熱によって電極と有機層の界面がアニ
ールされ、Ｉ（電流）−Ｖ（電圧）曲線が駆動時間とと
もに変化し、同じ印加電圧でも電流値が大きくなってし
まうためである。なお、Ｉ（電流）−Ｌ（輝度）曲線は
駆動時間によってほとんど変化しない。However, a material having a small work function, such as Li, has high reactivity to oxygen and moisture and is chemically unstable. An organic EL element using an electron injection electrode containing an alkali metal such as Li can obtain extremely high luminance, but has a problem that the luminance increases during driving. This is because the interface between the electrode and the organic layer is annealed by the heat generated during driving, the I (current) -V (voltage) curve changes with the driving time, and the current value increases even with the same applied voltage. Note that the I (current) -L (luminance) curve hardly changes with the driving time.
【０００９】また、前述のＭｇＡｇ等、アルカリ土類金
属を電子注入電極に用いた場合にも、アルカリ金属の場
合と同様、駆動中に輝度が上昇していくという問題があ
る。Also, when an alkaline earth metal such as MgAg is used for the electron injection electrode, there is a problem that the luminance increases during driving, as in the case of the alkali metal.
【００１０】ところで、有機ＥＬ素子は、水分に非常に
弱いという問題がある。水分の影響により、例えば、発
光層と電極層との間で剥離が生じたり、構成材料が変質
してしまったりして、ダークスポットと称する非発光領
域が生じたり、発光面積が縮小したりして所定の品位の
発光が維持できなくなってしまう。Incidentally, the organic EL element has a problem that it is very weak to moisture. Due to the influence of moisture, for example, separation occurs between the light-emitting layer and the electrode layer, or a constituent material is altered, a non-light-emitting region called a dark spot is generated, or a light-emitting area is reduced. As a result, light emission of a predetermined quality cannot be maintained.
【００１１】この問題を解決するための方法として、例
えば、特開平５−３６４７５号公報、同５−８９９５９
号公報、同７−１６９５６７号公報等に記載されている
ように、有機ＥＬ積層構造体部分を被う気密ケース、封
止層等を基板上に密着固定して外部と遮断する技術が知
られている。As a method for solving this problem, for example, JP-A-5-36475 and JP-A-5-89959
As described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 7-169567 and 7-169567, a technique for tightly fixing an airtight case, a sealing layer, and the like covering an organic EL layered structure portion on a substrate and shutting off the outside is known. ing.
【００１２】しかし、このような封止層等を設けたとし
ても、やはり、駆動時間の経過に伴い外部から侵入する
水分の影響によって、発光輝度が減少したり、ダークス
ポットが生じたり、これが拡大したりして発光面積が縮
小し、素子が劣化し、ひいては、発光不良が悪化して使
用不能になってしまう。However, even if such a sealing layer or the like is provided, the light emission luminance is reduced, a dark spot is formed, or the light spot is enlarged due to the influence of moisture entering from the outside as the drive time elapses. As a result, the light emitting area is reduced, the element is deteriorated, and as a result, the light emitting failure becomes worse and the device becomes unusable.
【００１３】また、有機ＥＬ素子を気密ケース内に収納
し、このケース内に乾燥剤を配置することが提案されて
いる。例えば、特開平３−２６１０９１号公報には、乾
燥剤として五酸化二リン（Ｐ2Ｏ5）が開示されている。
しかし、Ｐ2Ｏ5は水分を吸収してその水に溶解（潮解）
し、リン酸となり、有機ＥＬ素子に悪影響を及ぼしてし
まう。また、Ｐ2Ｏ5の封入方法が著しく限られ、実用的
ではない。It has also been proposed that the organic EL element is housed in an airtight case and a desiccant is placed in the case. For example, JP-A-3-261091, diphosphorus pentaoxide (P 2 O 5) is disclosed as the drying agent.
However, P 2 O 5 absorbs water and dissolves in the water (deliquescence)
Then, it becomes phosphoric acid and adversely affects the organic EL element. Also, the method of enclosing P 2 O 5 is extremely limited, and is not practical.
【００１４】特開平６−１７６８６７号公報には、微粉
末固体脱水剤、具体的には、ゼオライト、活性アルミ
ナ、シリカゲル、酸化カルシウムが挙げられている。し
かし、ゼオライトのような水分を物理吸着する乾燥剤
は、有機ＥＬ素子が発光する際の熱で吸着した水分を放
出してしまうので、十分な寿命が得られない。Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 6-176867 discloses fine powder solid dehydrating agents, specifically, zeolite, activated alumina, silica gel, and calcium oxide. However, a desiccant such as zeolite that physically adsorbs moisture releases the adsorbed moisture due to heat generated when the organic EL element emits light, so that a sufficient life cannot be obtained.
【００１５】これに対し、特開平９−１４８０６６号公
報には、乾燥剤として化学的に水分を吸着するとともに
吸湿しても固体状態を維持する化合物、具体的には、ア
ルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、
金属ハロゲン化物が挙げられている。これらの化合物は
水分を化学吸着するので、水分の再放出が起こらず、素
子の寿命は長くなる。しかし、素子の寿命としてはまだ
不十分である。On the other hand, Japanese Unexamined Patent Publication No. Hei 9-148066 discloses a compound which adsorbs moisture as a drying agent and maintains a solid state even when it absorbs moisture. Earth metal oxides, sulfates,
Metal halides are mentioned. Since these compounds chemisorb water, no re-release of water occurs and the life of the device is prolonged. However, the life of the device is still insufficient.
【００１６】本発明者らは、特願平１０−１８１４５８
号において、乾燥剤として水素化カルシウムおよび／ま
たは水素化アルミニウムリチウムを用いることを提案し
ている。これらを乾燥剤に用いると、有機ＥＬ素子の寿
命が飛躍的に長くなる。しかし、このものは、従来問題
であった非発光面積の拡大による素子劣化に対しては抜
群の効果がある一方で、駆動時間とともに輝度が低下し
ていくという問題がある。これは、Ｉ（電流）−Ｖ（電
圧）曲線が駆動時間とともに変化し、同じ印加電圧でも
電流値が小さくなってしまうためである。なお、Ｉ（電
流）−Ｌ（輝度）曲線は駆動時間によってほとんど変化
しない。The present inventors have disclosed in Japanese Patent Application No. 10-181458.
Proposes to use calcium hydride and / or lithium aluminum hydride as a desiccant. When these are used as a desiccant, the life of the organic EL element is dramatically increased. However, this has a remarkable effect on the element deterioration due to the enlargement of the non-light emitting area, which has been a problem in the past, but has a problem that the luminance decreases with the driving time. This is because the I (current) -V (voltage) curve changes with the driving time, and the current value decreases even with the same applied voltage. Note that the I (current) -L (luminance) curve hardly changes with the driving time.
【００１７】[0017]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、容易
に製造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特
に非発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を
長期間維持できる長寿命の有機ＥＬ素子および有機ＥＬ
表示装置を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to make it easy to manufacture, to eliminate the influence of moisture and the like as much as possible, to reduce deterioration over time, especially to increase the non-light-emitting area, to reduce the change in luminance, and to improve the initial performance for a long time Long life organic EL device and organic EL that can be maintained
It is to provide a display device.
【００１８】[0018]
【課題を解決するための手段】このような目的は以下の
構成により達成することができる。Such an object can be achieved by the following constitution.
【００１９】（１） ホール注入電極と、電子注入電極
と、これらの電極間に設けられた１種以上の発光層を含
む有機層とを有し、前記電子注入電極がアルカリ金属の
水素化物およびアルカリ土類金属の水素化物のいずれか
１種以上を含有する有機ＥＬ素子。 （２） 前記電子注入電極の膜厚が１nm以下である上記
（１）の有機ＥＬ素子。 （３） 前記電子注入電極が水素化リチウム、水素化カ
ルシウム、水素化ストロンチウムおよび水素化バリウム
の１種以上を含有する上記（１）または（２）の有機Ｅ
Ｌ素子。 （４） 上記（１）〜（３）のいずれかの有機ＥＬ素子
が気密ケースに収納されており、前記気密ケース内に、
前記有機ＥＬ素子に非接触の状態で、乾燥剤として水素
化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウム
および水素化アルミニウムリチウムの１種以上が配置さ
れている有機ＥＬ表示装置。 （５） 前記気密ケースが、前記有機ＥＬ素子が積層さ
れている基板と、前記有機ＥＬ素子上に所定の空隙を設
けて配置された封止板と、前記封止板を前記基板に密着
する封止用接着剤とを有する上記（４）の有機ＥＬ表示
装置。 （６） 前記空隙に窒素が充填されており、前記乾燥剤
が水素化カルシウムおよび／または水素化ストロンチウ
ムである上記（５）の有機ＥＬ表示装置。(1) It has a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light-emitting layers provided between these electrodes, wherein the electron injection electrode is made of an alkali metal hydride and An organic EL device comprising at least one hydride of an alkaline earth metal. (2) The organic EL device according to (1), wherein the thickness of the electron injection electrode is 1 nm or less. (3) The organic E according to (1) or (2), wherein said electron injection electrode contains at least one of lithium hydride, calcium hydride, strontium hydride and barium hydride.
L element. (4) The organic EL element according to any one of (1) to (3) is housed in an airtight case, and
An organic EL display device in which at least one of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride, and lithium aluminum hydride is disposed as a desiccant in a non-contact state with the organic EL element. (5) The hermetic case closely adheres the substrate on which the organic EL element is laminated, a sealing plate provided with a predetermined gap on the organic EL element, and the sealing plate to the substrate. The organic EL display device according to (4), further including a sealing adhesive. (6) The organic EL display device according to (5), wherein the void is filled with nitrogen, and the desiccant is calcium hydride and / or strontium hydride.
【００２０】[0020]
【作用】本発明の有機ＥＬ素子は、ホール注入電極と、
電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１種以上
の発光層を含む有機層とを有し、前記電子注入電極がア
ルカリ金属の水素化物およびアルカリ土類金属の水素化
物のいずれか１種以上、好ましくは水素化リチウム、水
素化カルシウム、水素化ストロンチウムおよび水素化バ
リウムの１種以上を含有する。The organic EL device of the present invention comprises a hole injection electrode,
An electron injection electrode, and an organic layer including one or more light-emitting layers provided between these electrodes, wherein the electron injection electrode is one of an alkali metal hydride and an alkaline earth metal hydride. Or more, preferably one or more of lithium hydride, calcium hydride, strontium hydride and barium hydride.
【００２１】本発明では、電子注入電極がアルカリ金属
の水素化物およびアルカリ土類金属の水素化物のいずれ
か１種以上を含有することにより、高輝度が得られる。
さらには、アルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物ま
たは合金を電子注入電極に用いた従来の有機ＥＬ素子で
問題であった輝度の変動がほとんど起こらず、長時間一
定の輝度を安定して得られ、性能の経時変化が非常に小
さい。電子注入電極の膜厚は１nm以下であることが好ま
しい。また、従来の有機ＥＬ素子と比べて非発光面積の
拡大等の経時劣化も小さい。さらには、その製造も容易
である。In the present invention, high brightness is obtained by the electron injection electrode containing at least one of a hydride of an alkali metal and a hydride of an alkaline earth metal.
Furthermore, there is almost no change in luminance, which is a problem in the conventional organic EL element using an alkali metal or alkaline earth metal oxide or alloy for the electron injection electrode, and a constant luminance can be stably obtained for a long time. And the change over time in performance is very small. The thickness of the electron injection electrode is preferably 1 nm or less. In addition, deterioration over time such as expansion of a non-light-emitting area is smaller than that of a conventional organic EL element. Furthermore, its manufacture is also easy.
【００２２】そして、好ましくはこの有機ＥＬ素子は気
密ケースに収納されており、この気密ケース内に、前記
有機ＥＬ素子に非接触の状態で、乾燥剤として水素化カ
ルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウムおよ
び水素化アルミニウムリチウムの１種以上が配置されて
いる。Preferably, the organic EL element is housed in an airtight case, and calcium hydride, strontium hydride, hydride, One or more of barium and lithium aluminum hydride are disposed.
【００２３】このように気密ケース内に乾燥剤として水
素化カルシウム、水素化ストロンチウム、水素化バリウ
ムおよび水素化アルミニウムリチウムの１種以上、好ま
しくは水素化カルシウムおよび／または水素化ストロン
チウムを配置することにより、特に封止した後、侵入し
てくる水分を除去し、気密ケース内の水分濃度を下げる
ことができるので、非発光面積の拡大がさらに長時間ほ
とんど起こらず、素子の寿命が飛躍的に長くなる。As described above, by disposing one or more of calcium hydride, strontium hydride, barium hydride and lithium aluminum hydride, preferably calcium hydride and / or strontium hydride as a desiccant in the hermetic case. In particular, after sealing, the invading moisture can be removed and the moisture concentration in the hermetic case can be reduced, so that the non-light-emitting area hardly expands for a long time, and the life of the element is dramatically increased. Become.
【００２４】水素化カルシウム、水素化アルミニウムリ
チウムは、下記の化学反応式に従って水分を除去する。
水素化ストロンチウム、水素化バリウムは、下記の水素
化カルシウムの式と同様の化学反応式に従って水分を除
去する。Calcium hydride and lithium aluminum hydride remove water according to the following chemical reaction formula.
Strontium hydride and barium hydride remove water according to the same chemical reaction formula as the following formula for calcium hydride.
【００２５】ＣａＨ2 ＋ ２Ｈ2Ｏ → Ｃａ（ＯＨ）
2 ＋ ２Ｈ2 ＡｌＬｉＨ4 ＋ ４Ｈ2Ｏ→ Ｌｉ（ＯＨ） ＋ Ａｌ
（ＯＨ）3 ＋ ４Ｈ2 CaH 2 + 2H 2 O → Ca (OH)
2 + 2H 2 AlLiH 4 + 4H 2 O → Li (OH) + Al
(OH) 3 + 4H 2
【００２６】水と反応した後の化合物（水酸化物）は安
定に存在するので、一度除去した水分の再放出が起こら
ない。しかも、上記のようなものを乾燥剤に用いること
により、水分除去に伴って水素が発生し、気密ケース内
が還元雰囲気となるので、電極、特に電子注入電極の劣
化が防止され、素子の寿命はさらに延びる。従って、特
開平９−１４８０６６号公報の化合物を用いる場合より
も長寿命である。また、上記の式に従い、水蒸気吸着時
に水素が等モル発生するので気密ケース内の内圧の変化
が極めて小さいか、なく、密封性を保つ上でも好まし
い。特開平９−１４８０６６号公報の化合物はこの点で
も不利である。Since the compound (hydroxide) after reacting with water exists stably, the once-removed water does not re-release. In addition, by using the above-described material as a desiccant, hydrogen is generated along with the removal of water, and the inside of the airtight case becomes a reducing atmosphere. Extends further. Therefore, the life is longer than when the compound disclosed in JP-A-9-148066 is used. Further, according to the above equation, since hydrogen is generated in an equimolar manner when adsorbing water vapor, the change in the internal pressure in the airtight case is extremely small or not, which is preferable in maintaining the hermeticity. The compound disclosed in JP-A-9-148066 is disadvantageous also in this respect.
【００２７】しかも、吸湿しても固体状態が保たれるの
で、有機ＥＬ素子と非接触の状態で配置すれば素子に悪
影響を及ぼすことはなく、また、気密ケース内に容易に
封入することができる。In addition, since the solid state is maintained even when moisture is absorbed, if the element is arranged in a non-contact state with the organic EL element, there is no adverse effect on the element, and the element can be easily sealed in an airtight case. it can.
【００２８】本発明の有機ＥＬ素子は、電子注入電極が
アルカリ金属の水素化物およびアルカリ土類金属の水素
化物のいずれか１種以上を含有するため、輝度の変動が
ほとんど起こらず、長時間一定の輝度を安定して得ら
れ、非発光面積の拡大も小さい。そして、好ましくは上
記のような乾燥剤を用いることで、水分を吸収・除去す
る際に水素が放出されて気密ケース内には水素が過剰に
存在し、アルカリ金属の水素化物およびアルカリ土類金
属の水素化物がより安定に存在するため、より輝度の変
動が起こらず、一定の輝度がさらに長時間得られるよう
になる。In the organic EL device of the present invention, since the electron injection electrode contains at least one of a hydride of an alkali metal and a hydride of an alkaline earth metal, the luminance hardly fluctuates and remains constant for a long time. , And the expansion of the non-light emitting area is small. And preferably, by using the desiccant as described above, hydrogen is released when water is absorbed and removed, and excess hydrogen is present in the hermetic case, and hydrides of alkaline metals and alkaline earth metals Is more stably present, so that the luminance does not fluctuate more and a constant luminance can be obtained for a longer time.
【００２９】[0029]
【発明の実施の形態】本発明の有機ＥＬ素子は、ホール
注入電極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けら
れた１種以上の発光層を含む有機層とを有し、前記電子
注入電極がアルカリ金属の水素化物およびアルカリ土類
金属の水素化物のいずれか１種以上を含有する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The organic EL device of the present invention has a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic layer including one or more light emitting layers provided between these electrodes. The injection electrode contains at least one of an alkali metal hydride and an alkaline earth metal hydride.
【００３０】電子注入電極は、アルカリ金属の水素化物
（ＬｉＨ、ＮａＨ、ＫＨ、ＲｂＨ、ＣｓＨ）、アルカリ
土類金属（ＭｇＨ2、ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2）のい
ずれか１種以上を含有する。これらは１種を用いても２
種以上を併用してもよい。中でも、ＬｉＨ、ＣａＨ2、
ＳｒＨ2、ＢａＨ2、特にＬｉＨを用いると、安定に存在
し、輝度の経時変化が非常に小さく、高輝度が得られる
ので、好ましい。なお、これらの水素化物は、通常、そ
の化学量論組成で存在するが、Ｈ量は多少偏倚していて
もよい。The electron injection electrode contains at least one of alkali metal hydrides (LiH, NaH, KH, RbH, CsH) and alkaline earth metals (MgH 2 , CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 ). I do. These are 2
More than one species may be used in combination. Among them, LiH, CaH 2 ,
It is preferable to use SrH 2 , BaH 2 , and particularly LiH, because it is stably present, has a very small change in luminance with time, and can obtain high luminance. Note that these hydrides are usually present in the stoichiometric composition, but the H amount may be slightly deviated.
【００３１】電子注入電極の厚さは１nm以下、特に０．
５nm以下が好ましい。従来は、均一に成膜するために膜
厚は４nm以上が好ましいとされていたが、一定の輝度が
長時間得られるという本発明の効果は、電子注入電極の
膜厚が１nm以下と薄い方が得られる。また、その下限値
は、通常、０．１nm程度である。電子注入電極は、膜と
して存在せず、有機層表面（界面）に島状に存在してい
てもかまわない。The thickness of the electron injecting electrode is 1 nm or less, especially 0.1 nm.
5 nm or less is preferable. Conventionally, it has been considered that the film thickness is preferably 4 nm or more in order to form a uniform film. However, the effect of the present invention that a constant luminance can be obtained for a long time is obtained when the film thickness of the electron injection electrode is 1 nm or less. Is obtained. The lower limit is usually about 0.1 nm. The electron injection electrode may not exist as a film, but may exist in an island shape on the surface (interface) of the organic layer.
【００３２】本発明の電子注入電極は、通常、アモルフ
ァス状態、または、結晶粒径が１００nm以下である。The electron injection electrode of the present invention is usually in an amorphous state or has a crystal grain size of 100 nm or less.
【００３３】電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等で成
膜される。スパッタ法としては、反応性スパッタ法を用
いることが好ましい。The electron injection electrode is formed by vapor deposition, sputtering or the like. It is preferable to use a reactive sputtering method as the sputtering method.
【００３４】電子注入電極を蒸着法で形成する場合、真
空蒸着の条件は特に限定されないが、１０-4Pa以下の真
空度とし、蒸着速度は０．０１〜１nm／sec 程度とする
ことが好ましい。蒸着源には、ＡｌＬｉ等の合金を好ま
しく用いることができる。また、反応性ガスとしてＨ2
等を用いる。When the electron injecting electrode is formed by a vapor deposition method, the conditions for vacuum vapor deposition are not particularly limited, but it is preferable that the degree of vacuum be 10 -4 Pa or less and the vapor deposition rate be about 0.01 to 1 nm / sec. . An alloy such as AlLi can be preferably used for the evaporation source. In addition, H 2 is used as a reactive gas.
And so on.
【００３５】電子注入電極をスパッタ法で形成する場
合、スパッタ時のスパッタガスの圧力は、０．１〜５Pa
の範囲が好ましい。また、成膜中にスパッタガスの圧力
を前記範囲内で変化させることにより、濃度勾配を有す
る電子注入電極を容易に得ることができる。また、成膜
ガス圧力と基板ターゲット間距離の積が２０〜６５Pa・
cmを満たす成膜条件にすることが好ましい。When the electron injection electrode is formed by the sputtering method, the pressure of the sputtering gas during the sputtering is 0.1 to 5 Pa.
Is preferable. Further, by changing the pressure of the sputtering gas within the above range during the film formation, an electron injection electrode having a concentration gradient can be easily obtained. Further, the product of the film forming gas pressure and the distance between the substrate targets is 20 to 65 Pa ·
It is preferable that the film formation conditions satisfy cm.
【００３６】スパッタガスには、通常のスパッタ装置に
使用される不活性ガスが使用できる。中でも、Ａｒ、Ｋ
ｒ、Ｘｅのいずれか、あるいは、これらの少なくとも１
種以上のガスを含む混合ガスを用いることが好ましい。
混合ガスを用いる場合、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅの分圧の合計
は５０％以上にして主スパッタガスとして用いる。As the sputtering gas, an inert gas used in a usual sputtering apparatus can be used. Above all, Ar, K
r or Xe, or at least one of these
It is preferable to use a mixed gas containing at least one kind of gas.
When a mixed gas is used, the total partial pressure of Ar, Kr, and Xe is set to 50% or more and used as a main sputtering gas.
【００３７】また、反応性スパッタを行うことが好まし
く、反応性ガスとしては、Ｈ2等が挙げられる。これら
の反応性ガスは単独で用いても、２種以上を混合して用
いてもよい。It is preferable to perform reactive sputtering, and examples of the reactive gas include H 2 . These reactive gases may be used alone or as a mixture of two or more.
【００３８】ターゲットとしては、ＬｉＨ等の電極の組
成と同じ水素化物や、ＡｌＬｉ等の合金を用いることが
できる。特に、ターゲットに合金を用いる場合は、反応
性スパッタを行うことが好ましい。As the target, a hydride having the same composition as the electrode such as LiH or an alloy such as AlLi can be used. In particular, when an alloy is used for the target, it is preferable to perform reactive sputtering.
【００３９】スパッタ法としてはＲＦ電源を用いた高周
波スパッタ法や、ＤＣスパッタ法等の中から好適なスパ
ッタ法を用いて成膜すればよい。スパッタ装置の電力と
しては、好ましくはＤＣスパッタで０．１〜１０Ｗ／cm
2、ＲＦスパッタで１〜１０Ｗ／cm2の範囲である。ま
た、成膜レートは５〜１００nm／min 、特に１０〜５０
nm／min の範囲が好ましい。As a sputtering method, a film may be formed by using a suitable sputtering method from a high frequency sputtering method using an RF power source, a DC sputtering method, and the like. The power of the sputtering apparatus is preferably 0.1 to 10 W / cm by DC sputtering.
2, in the range of 1 to 10 W / cm 2 in RF sputtering. The film formation rate is 5 to 100 nm / min, especially 10 to 50 nm.
The range of nm / min is preferred.
【００４０】また、Ｌｉ等のアルカリ金属および／また
はアルカリ土類金属を上記と同じ条件で蒸着またはスパ
ッタした後、水素化してもよい。水素化には、水素ガス
を導入したり、Ｈ放出物質、例えばＣａＨ2、ＬｉＨ、
ＡｌＬｉＨ4等を用いて、成膜したアルカリ金属および
／またはアルカリ土類金属と水素とを反応させる。Further, after an alkali metal such as Li and / or an alkaline earth metal is deposited or sputtered under the same conditions as described above, hydrogenation may be performed. For the hydrogenation, hydrogen gas is introduced or H-releasing substances such as CaH 2 , LiH,
Using AlLiH 4 or the like, the formed alkali metal and / or alkaline earth metal is reacted with hydrogen.
【００４１】次に、本発明の有機ＥＬ素子について説明
する。本発明の有機ＥＬ素子は、基板上にホール注入電
極と、電子注入電極と、これらの電極間に設けられた１
種以上の有機層とを有する。有機層は、それぞれ少なく
とも１層の電子注入層および発光層を有し、その上に電
子注入電極を有し、さらに最上層として保護電極を設け
てもよい。なお、電子注入層はなくてもよい。Next, the organic EL device of the present invention will be described. The organic EL device according to the present invention includes a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an electrode provided between these electrodes on a substrate.
And more than one kind of organic layer. The organic layer may have at least one electron injection layer and at least one light emitting layer, an electron injection electrode thereon, and a protective electrode as the uppermost layer. Note that the electron injection layer may not be provided.
【００４２】ホール注入電極としては、通常、基板側か
ら発光した光を取り出す構造であるため、透明な電極が
好ましく、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ
（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、Ｉ
ｎ2Ｏ3 等が挙げられるが、好ましくはＩＴＯ、ＩＺＯ
が好ましい。Ｉｎ2Ｏ3 に対するＳｎＯ2 の混合比は、
１〜２０wt％が好ましく、さらに好ましくは５〜１２wt
％が好ましい。Ｉｎ2Ｏ3 に対するＺｎＯの混合比は、
１〜２０wt％が好ましく、さらに好ましくは５〜１２wt
％が好ましい。その他にＳｎ、Ｔｉ、Ｐｂ等が酸化物の
形で、酸化物換算にして１wt％以下含まれていてもよ
い。As the hole injection electrode, a structure in which light emitted from the substrate side is usually taken out, a transparent electrode is preferable, and ITO (tin-doped indium oxide), IZO
(Zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , I
n 2 O 3 and the like, preferably ITO, IZO
Is preferred. The mixing ratio of SnO 2 to In 2 O 3 is:
1-20 wt% is preferable, and 5-12 wt% is more preferable.
% Is preferred. In 2 O 3 The mixing ratio of ZnO to
1-20 wt% is preferable, and 5-12 wt% is more preferable.
% Is preferred. In addition, Sn, Ti, Pb, and the like may be contained in the form of oxides in an amount of 1% by weight or less in terms of oxides.
【００４３】ホール注入電極は、蒸着法等によっても形
成できるが、スパッタ法により形成することが好まし
い。ＩＴＯ、ＩＺＯ電極の形成にスパッタ法を用いる場
合、好ましくはＩｎ2 Ｏ3 にＳｎＯ2 やＺｎＯをドープ
したターゲットを用いる。スパッタ法によりＩＴＯ透明
電極を成膜した場合、蒸着により成膜したものよりも発
光輝度の経時変化が少ない。スパッタ法としてはＤＣス
パッタが好ましく、その投入電力としては、０．１〜４
Ｗ／cm2 の範囲が好ましい。特にＤＣスパッタ装置の電
力としては、好ましくは０．１〜１０Ｗ／cm2、特に
０．２〜５Ｗ／cm2の範囲が好ましい。また、成膜レー
トは２〜１００nm／min 、特に５〜５０nm／min の範囲
が好ましい。The hole injection electrode can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method. When a sputtering method is used for forming the ITO or IZO electrode, a target in which Sn 2 or ZnO is doped into In 2 O 3 is preferably used. When the ITO transparent electrode is formed by the sputtering method, the luminescence luminance has less change with time than that formed by the vapor deposition. DC sputtering is preferable as the sputtering method, and the input power is 0.1 to 4
A range of W / cm 2 is preferred. In particular, the power of the DC sputtering apparatus is preferably in the range of 0.1 to 10 W / cm 2 , particularly preferably in the range of 0.2 to 5 W / cm 2 . Further, the film formation rate is preferably in the range of 2 to 100 nm / min, particularly preferably in the range of 5 to 50 nm / min.
【００４４】スパッタガスとしては、特に制限するもの
ではなく、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｋｒ、Ｘｅ等の不活性ガ
ス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。このよ
うなスパッタガスのスパッタ時における圧力としては、
通常０．１〜２０Pa程度でよい。The sputtering gas is not particularly limited, and an inert gas such as Ar, He, Ne, Kr, Xe, or a mixed gas thereof may be used. As the pressure at the time of sputtering such a sputtering gas,
Usually, it may be about 0.1 to 20 Pa.
【００４５】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、通常５〜５０
０nm、特に１０〜３００nmの範囲が好ましい。The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more that can sufficiently inject holes, and is usually 5 to 50.
0 nm, preferably in the range of 10 to 300 nm.
【００４６】本発明の有機ＥＬ素子は、電子注入電極の
上、つまり有機層と反対側に保護電極を設けてもよい。
保護電極を設けることにより、電子注入電極が外気や水
分等から保護され、構成薄膜の劣化が防止され、電子注
入効率が安定し、素子寿命が飛躍的に向上する。また、
この保護電極は、非常に低抵抗であり、電子注入電極の
抵抗が高い場合には配線電極としての機能も有する。こ
の保護電極は、Ａｌ、Ａｌおよび遷移金属（ただしＴｉ
を除く）、Ｔｉまたは窒化チタン（ＴｉＮ）のいずれか
１種または２種以上を含有し、これらを単独で用いた場
合、それぞれ保護電極中に少なくとも、Ａｌ：９０〜１
００at％、Ｔｉ：９０〜１００at％、ＴｉＮ：９０〜１
００ mol％程度含有されていることが好ましい。また、
２種以上用いるときの混合比は任意であるが、ＡｌとＴ
ｉの混合では、Ｔｉの含有量は１０at％以下が好まし
い。また、これらを単独で含有する層を積層してもよ
い。特にＡｌ、Ａｌおよび遷移金属は、後述の配線電極
として用いた場合、良好な効果が得られ、ＴｉＮは耐腐
食性が高く、封止膜としての効果が大きい。ＴｉＮは、
その化学量論組成から１０％程度偏倚していてもよい。
さらに、Ａｌおよび遷移金属の合金は、遷移金属、特に
Ｓｃ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｄ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｓｉ，Ｃ
ｒ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｎｉ，Ｐｄ，ＰｔおよびＷ等を、好ま
しくはこれらの総計が１０at％以下、さらに好ましくは
５at％以下、特に好ましくは２at％以下含有していても
よい。遷移金属の含有量が少ないほど、配線材として機
能させた場合の薄膜抵抗は下げられる。In the organic EL device of the present invention, a protective electrode may be provided on the electron injection electrode, that is, on the side opposite to the organic layer.
By providing the protective electrode, the electron injection electrode is protected from the outside air, moisture, and the like, the deterioration of the constituent thin film is prevented, the electron injection efficiency is stabilized, and the element life is dramatically improved. Also,
This protection electrode has a very low resistance, and also has a function as a wiring electrode when the resistance of the electron injection electrode is high. This protective electrode is made of Al, Al and a transition metal (except for Ti
), Ti or titanium nitride (TiN), and when these are used alone, at least Al: 90-1
00at%, Ti: 90-100at%, TiN: 90-1
It is preferable to contain about 00 mol%. Also,
When two or more kinds are used, the mixing ratio is arbitrary, but Al and T
In the mixing of i, the content of Ti is preferably 10 at% or less. Further, a layer containing these alone may be laminated. In particular, when Al, Al and transition metals are used as wiring electrodes described later, good effects are obtained, and TiN has high corrosion resistance and a large effect as a sealing film. TiN is
It may deviate from the stoichiometric composition by about 10%.
In addition, alloys of Al and transition metals include transition metals, especially Sc, Nb, Zr, Hf, Nd, Ta, Cu, Si, C
Preferably, the total of r, Mo, Mn, Ni, Pd, Pt, W, etc. may contain 10 at% or less, more preferably 5 at% or less, particularly preferably 2 at% or less. The smaller the content of the transition metal, the lower the thin film resistance when functioning as a wiring material.
【００４７】保護電極の厚さは、電子注入効率を確保
し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するた
め、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは５０nm以
上、さらに好ましくは１００nm以上、特に好ましくは１
００〜１０００nmの範囲が好ましい。保護電極層が薄す
ぎると、本発明の効果が得られず、また、保護電極層の
段差被覆性が低くなってしまい、端子電極との接続が十
分ではなくなる。一方、保護電極層が厚すぎると、保護
電極層の応力が大きくなるため、ダークスポットの成長
速度が速くなってしまう。なお、配線電極として機能さ
せる場合の厚さは、電子注入電極の膜厚が薄いために膜
抵抗が高く、これを補う場合には通常１００〜５００nm
程度、その他の配線電極として機能される場合には１
００〜３００nm程度である。The thickness of the protective electrode may be a certain thickness or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, in order to secure electron injection efficiency and prevent entry of moisture, oxygen or an organic solvent. Particularly preferably, 1
The range of 00 to 1000 nm is preferred. If the protective electrode layer is too thin, the effect of the present invention cannot be obtained, and the step coverage of the protective electrode layer will be low, and the connection with the terminal electrode will not be sufficient. On the other hand, if the protective electrode layer is too thick, the stress of the protective electrode layer increases, so that the growth rate of dark spots increases. The thickness when functioning as a wiring electrode is generally 100 to 500 nm when the film resistance is high because the film thickness of the electron injection electrode is small.
Degree, 1 when functioning as other wiring electrode
It is about 00 to 300 nm.
【００４８】電子注入電極と保護電極とを併せた全体の
厚さとしては、特に制限はないが、通常５０〜１０００
nm程度とすればよい。The total thickness of the electron injecting electrode and the protective electrode is not particularly limited, but is usually 50 to 1000.
It may be set to about nm.
【００４９】電極成膜後に、前記保護電極に加えて、Ｓ
ｉＯX 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素
重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよ
い。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の
厚さは５０〜１２００nm程度とする。保護膜は、前記の
反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着
法、ＰＥＣＶＤ法等により形成すればよい。After forming the electrode, in addition to the protective electrode, S
inorganic materials iO X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film may be formed by a general sputtering method, an evaporation method, a PECVD method, or the like, in addition to the reactive sputtering method.
【００５０】次に、本発明の有機ＥＬ素子に設けられる
有機物層について述べる。Next, the organic layer provided in the organic EL device of the present invention will be described.
【００５１】発光層は、ホール（正孔）および電子の輸
送機能、ホールと電子の再結合により励起子を生成させ
る機能を有する。発光層には、比較的電子的にニュート
ラルな化合物を用いることが好ましい。The light emitting layer has a function of transporting holes (holes) and electrons, and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. It is preferable to use a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer.
【００５２】発光層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常５〜５００nm
程度、特に１０〜３００nmとすることが好ましい。The thickness of the light emitting layer is not particularly limited, and varies depending on the forming method.
It is preferable that the thickness be in the range of 10 to 300 nm.
【００５３】有機ＥＬ素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭６３−２６４６９
２号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも１種が挙げられる。また、トリス（８
−キノリノラト）アルミニウム等の８−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、１２−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特開平８−１２６００号の
フェニルアントラセン誘導体、特開平８−１２９６９号
のテトラアリールエテン誘導体等を用いることができ
る。The light emitting layer of the organic EL device contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of such a fluorescent substance include, for example, JP-A-63-26469.
No. 2 discloses at least one compound selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Also, Tris (8
Quinolinol derivatives such as metal complex dyes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, such as (quinolinolato) aluminum; tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. Further, phenylanthracene derivatives described in JP-A-8-12600, tetraarylethene derivatives described in JP-A-8-12969, and the like can be used.
【００５４】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は０．０１〜２０wt％、さらには０．
１〜１５wt％であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。Further, it is preferable to use in combination with a host substance capable of emitting light by itself, and it is preferable to use it as a dopant. In such a case, the content of the compound in the light emitting layer is 0.01 to 20% by weight, and more preferably 0.1 to 20% by weight.
It is preferably 1 to 15% by weight. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.
【００５５】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには８−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭６３−２６４６９
２号、特開平３−２５５１９０号、特開平５−７０７３
３号、特開平５−２５８８５９号、特開平６−２１５８
７４号等に開示されているものを挙げることができる。As the host substance, a quinolinolato complex is preferable, and an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand is preferable. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7073
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.
【００５６】具体的には、まず、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム、ビス（８−キノリノラト）マグネ
シウム、ビス（ベンゾ｛ｆ｝−８−キノリノラト）亜
鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ムオキシド、トリス（８−キノリノラト）インジウム、
トリス（５−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ム、８−キノリノラトリチウム、トリス（５−クロロ−
８−キノリノラト）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−
キノリノラト）カルシウム、５，７−ジクロル−８−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−
８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム、ポリ［亜
鉛（II）−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリニル）メ
タン］等がある。Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolatoaluminum, tris (5,7-dibromo-
8-hydroxyquinolinolato) aluminum and poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane].
【００５７】また、８−キノリノールまたはその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよく、このようなものとしては、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（フェノラト）アルミニウム(III)
、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（オルト−
クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（メタークレゾラト）アルミニウム
(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ
−クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル
−８−キノリノラト）（オルト−フェニルフェノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノ
ラト）（メタ−フェニルフェノラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）（２，３−ジメチルフェノ
ラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キ
ノリノラト）（２，６−ジメチルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（３，４−ジメチルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（３，５−ジメ
チルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２，６−ジフェニルフェノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラ
ト）（２，４，６−トリフェニルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（２，３，６−トリメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（２，
３，５，６−テトラメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（１−ナ
フトラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）
（オルト−フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，
４−ジメチル−８−キノリノラト）（メタ−フェニルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジメチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチル−８
−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４−エチ
ル−８−キノリノラト）（パラ−クレゾラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−４−メトキシ−８−キ
ノリノラト）（パラ−フェニルフェノラト）アルミニウ
ム(III) 、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリ
ノラト）（オルト−クレゾラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−６−トリフルオロメチル−８−キノ
リノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(III) 等が
ある。In addition to 8-quinolinol or a derivative thereof, an aluminum complex having another ligand may be used, such as bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (phenolato) aluminum (III)
, Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-
Cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (meth-cresolate) aluminum
(III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-phenylphenolate)
Aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (meth-phenylphenolato) aluminum (II
I), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) (2,3-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,6-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(3,4-dimethylphenolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III) ), Bis (2-methyl-8)
-Quinolinolato) (2,6-diphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,4,6-triphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(2,3,6-trimethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,
3,5,6-tetramethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-naphthrat) aluminum (III), bis (2-methyl-8
-Quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (II
I), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato)
(Ortho-phenylphenolato) aluminum (III),
Bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,
4-dimethyl-8-quinolinolato) (meta-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2 4-dimethyl-8
-Quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4-ethyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl) -4-methoxy-8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) (ortho-cresolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-6-trifluoromethyl-8-quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (III);
【００５８】このほか、ビス（２−メチル−８−キノリ
ノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス
（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）アルミニウム
(III) −μ−オキソ−ビス（２，４−ジメチル−８−キ
ノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス（４−エチル−
２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −
μ−オキソ−ビス（４−エチル−２−メチル−８−キノ
リノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４
−メトキシキノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オ
キソ−ビス（２−メチル−４−メトキシキノリノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（５−シアノ−２−メチル−
８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−
ビス（５−シアノ−２−メチル−８−キノリノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−５−トリフルオ
ロメチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ
−オキソ−ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル
−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 等であっても
よい。In addition, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum
(III) -μ-oxo-bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (4-ethyl-
2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III)-
μ-oxo-bis (4-ethyl-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4
-Methoxyquinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-methyl-4-methoxyquinolinolato)
Aluminum (III), bis (5-cyano-2-methyl-
8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-
Bis (5-cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ
-Oxo-bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) and the like.
【００５９】このほかのホスト物質としては、特開平８
−１２６００号のフェニルアントラセン誘導体、特開平
８−１２９６９号のテトラアリールエテン誘導体なども
好ましい。Other host materials are disclosed in
Also preferred are a phenylanthracene derivative of No. -12600 and a tetraarylethene derivative of JP-A-8-12969.
【００６０】発光層は電子注入層を兼ねたものであって
もよく、このような場合はトリス（８−キノリノラト）
アルミニウム等を使用することが好ましい。これらの蛍
光性物質を蒸着すればよい。The light emitting layer may also serve as an electron injection layer. In such a case, tris (8-quinolinolato)
It is preferable to use aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited.
【００６１】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も１種のホール注入輸送性化合物と少なくとも１種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層におけるドーパントの含有
量は、ホール注入輸送性化合物と電子注入輸送性化合物
との合計量に対して０．０１〜２０wt％、さらには０．
１〜１５wt％とすることが好ましい。The light emitting layer is preferably a mixed layer of at least one kind of hole injecting and transporting compound and at least one kind of electron injecting and transporting compound, if necessary.
Further, it is preferable that a dopant is contained in the mixed layer. The content of the dopant in such a mixed layer is 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 20% by weight, based on the total amount of the hole injecting and transporting compound and the electron injecting and transporting compound.
It is preferable that the content be 1 to 15% by weight.
【００６２】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。In the mixed layer, a hopping conduction path of carriers is formed, so that each carrier moves in a material having a favorable polarity, and injection of carriers having the opposite polarity is less likely to occur, so that the organic compound is less likely to be damaged. This has the advantage that the element life is extended. Further, by including the above-described dopant in such a mixed layer, the emission wavelength characteristics of the mixed layer itself can be changed, the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, and the emission intensity is increased, The stability of the device can be improved.
【００６３】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物には、例えば、特開昭６３−２９５６９５号公報、特
開平２−１９１６９４号公報、特開平３−７９２号公
報、特開平５−２３４６８１号公報、特開平５−２３９
４５５号公報、特開平５−２９９１７４号公報、特開平
７−１２６２２５号公報、特開平７−１２６２２６号公
報、特開平８−１００１７２号公報、ＥＰ０６５０９５
５Ａ１等に記載されている各種有機化合物を用いること
ができる。例えば、テトラアリールベンジシン化合物
（トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン：
ＴＰＤ）、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カル
バゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリ
チオフェン等である。これらの化合物は、１種のみを用
いても、２種以上を併用してもよい。The hole injecting and transporting compounds used in the mixed layer include, for example, JP-A-63-295695, JP-A-2-191694, JP-A-3-792, and JP-A-5-234681. JP-A-5-239
455, JP-A-5-299174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100172, EP065095
Various organic compounds described in 5A1 and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine:
TPD), aromatic tertiary amines, hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, polythiophene, and the like. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
【００６４】ホール注入輸送性の化合物としては、強い
蛍光を持ったアミン誘導体、例えばトリフェニルジアミ
ン誘導体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合
環を持つアミン誘導体を用いるのが好ましい。As the compound capable of injecting and transporting holes, it is preferable to use an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.
【００６５】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム（Ａｌｑ３）を用いることが好まし
い。また、フェニルアントラセン誘導体、テトラアリー
ルエテン誘導体を用いるのも好ましい。オキサジアゾー
ル誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジ
ン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン誘導
体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることができ
る。これらの化合物は、１種のみを用いても、２種以上
を併用してもよい。As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or its derivative as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq3). It is also preferable to use a phenylanthracene derivative or a tetraarylethene derivative. An oxadiazole derivative, a perylene derivative, a pyridine derivative, a pyrimidine derivative, a quinoxaline derivative, a diphenylquinone derivative, a nitro-substituted fluorene derivative, or the like can be used. These compounds may be used alone or in combination of two or more.
【００６６】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物／電子注入輸送性化合物の重量
比が、１／９９〜９９／１、さらに好ましくは１０／９
０〜９０／１０、特に好ましくは２０／８０〜８０／２
０程度となるようにすることが好ましい。The mixing ratio in this case depends on the respective carrier mobility and carrier concentration. In general, the weight ratio of the compound of the hole injection / transport compound / the electron injection / transport compound is from 1/99 to 99/99. 1, more preferably 10/9
0 to 90/10, particularly preferably 20/80 to 80/2
It is preferable to set the value to about 0.
【００６７】また、混合層の厚さは、分子層一層に相当
する厚み以上で、有機化合物層の膜厚未満とすることが
好ましい。具体的には１〜８５nmとすることが好まし
く、さらには５〜６０nm、特には５〜５０nmとすること
が好ましい。The thickness of the mixed layer is preferably not less than the thickness corresponding to one molecular layer and less than the thickness of the organic compound layer. Specifically, the thickness is preferably 1 to 85 nm, more preferably 5 to 60 nm, particularly preferably 5 to 50 nm.
【００６８】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧（蒸
発温度）が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。As a method of forming the mixed layer, co-evaporation in which evaporation is performed from different evaporation sources is preferable. However, when the vapor pressures (evaporation temperatures) are approximately the same or very close, they are mixed in advance in the same evaporation board. Alternatively, it can be deposited. In the mixed layer, it is preferable that the compounds are uniformly mixed, but in some cases, the compounds may exist in an island shape. The light-emitting layer is generally formed to a predetermined thickness by vapor-depositing an organic fluorescent substance or by dispersing and coating the resin in a resin binder.
【００６９】特に発光層として好ましいものに、８−キ
ノリノールまたはその誘導体を配位子とするアルミニウ
ム錯体と、テトラアリールベンジシン化合物に、ルブレ
ン、クマリン等の蛍光物質をドープした混合層が挙げら
れる。８−キノリノールまたはその誘導体を配位子とす
るアルミニウム錯体と、テトラアリールベンジシン化合
物との混合比は上記の範囲内であることが好ましい。ル
ブレン等のドーピング蛍光物質は、この混合層に対し、
０．０１〜２０mol％であることが好ましい。Particularly preferred as the light-emitting layer are an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, and a mixed layer in which a tetraarylbendicine compound is doped with a fluorescent substance such as rubrene or coumarin. The mixing ratio of the aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand and the tetraarylbendicine compound is preferably in the above range. The doping fluorescent substance such as rubrene,
Preferably it is 0.01 to 20 mol%.
【００７０】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入層は、電子注入電極からの電子の注入を容易に
する機能、電子を安定に輸送する機能およびホールを妨
げる機能を有するものである。これらの層は、発光層に
注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再結合
領域を最適化させ、発光効率を改善する。The hole injecting and transporting layer has a function of facilitating the injection of holes from the hole injecting electrode, a function of stably transporting holes, and a function of preventing electrons.
The electron injection layer has a function of facilitating injection of electrons from the electron injection electrode, a function of stably transporting electrons, and a function of preventing holes. These layers increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve luminous efficiency.
【００７１】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、特に制限されるものではなく、形成方法によ
っても異なるが、通常５〜５００nm程度、特に１０〜３
００nmとすることが好ましい。The thickness of the hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting layer are not particularly limited and vary depending on the forming method, but are usually about 5 to 500 nm, especially about 10 to 3 nm.
It is preferably set to 00 nm.
【００７２】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入層
の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光層の
厚さと同程度または１／１０〜１０倍程度とすればよ
い。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分け
る場合は、注入層は１nm以上、輸送層は１nm以上とする
のが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上限
は、通常、注入層で５００nm程度、輸送層で５００nm程
度である。このような膜厚については、注入輸送層を２
層設けるときも同じである。The thickness of the hole injecting / transporting layer and the thickness of the electron injecting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. When the hole or electron injection layer and the transport layer are separated from each other, it is preferable that the injection layer has a thickness of 1 nm or more and the transport layer has a thickness of 1 nm or more. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 500 nm for the injection layer and about 500 nm for the transport layer. For such a film thickness, the injection / transport layer is
The same applies when providing layers.
【００７３】また、ホール注入輸送層には、例えば、特
開昭６３−２９５６９５号公報、特開平２−１９１６９
４号公報、特開平３−７９２号公報、特開平５−２３４
６８１号公報、特開平５−２３９４５５号公報、特開平
５−２９９１７４号公報、特開平７−１２６２２５号公
報、特開平７−１２６２２６号公報、特開平８−１００
１７２号公報、ＥＰ０６５０９５５Ａ１等に記載されて
いる各種有機化合物を用いることができる。例えば、テ
トラアリールベンジシン化合物（トリアリールジアミン
ないしトリフェニルジアミン：ＴＰＤ）、芳香族三級ア
ミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリア
ゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有する
オキサジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。こ
れらの化合物は、１種のみを用いても、２種以上を併用
してもよい。２種以上を併用するときは、別層にして積
層したり、混合したりすればよい。The hole injecting and transporting layer is described in, for example, JP-A-63-295695 and JP-A-2-19169.
4, JP-A-3-792, JP-A-5-234
681, JP-A-5-239455, JP-A-5-299174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100
Various organic compounds described in JP-A-172, EP0650955A1, and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine, a hydrazone derivative, a carbazole derivative, a triazole derivative, an imidazole derivative, an oxadiazole derivative having an amino group, polythiophene, etc. . These compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.
【００７４】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて設層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極（ＩＴＯ等）側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を２層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので１〜１０nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。When the hole injecting and transporting layer is provided separately for the hole injecting and transporting layers, a preferable combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to laminate the compounds in order from the hole injecting electrode (ITO or the like) with the smallest ionization potential. Further, it is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the hole injection electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In addition, in the case of forming an element, since a thin film of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used,
Even if a compound having a small ionization potential and having absorption in the visible region is used for the hole injection layer, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color and a decrease in efficiency due to reabsorption. The hole injecting and transporting layer can be formed by vapor deposition of the above compound in the same manner as the light emitting layer and the like.
【００７５】また、必要に応じて設けられる電子注入層
には、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌ
ｑ３）等の８−キノリノールまたはその誘導体を配位子
とする有機金属錯体などのキノリン誘導体、オキサジア
ゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリ
ミジン誘導体、キノキサリン誘導体、ジフェニルキノン
誘導体、ニトロ置換フルオレン誘導体等を用いることが
できる。電子注入層は発光層を兼ねたものであってもよ
く、このような場合はトリス（８−キノリノラト）アル
ミニウム等を使用することが好ましい。電子注入層の形
成は、発光層と同様に、蒸着等によればよい。The electron injection layer provided as necessary may include tris (8-quinolinolato) aluminum (Al
q3) and other quinoline derivatives such as organometallic complexes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, oxadiazole derivatives, perylene derivatives, pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, nitro-substituted fluorene derivatives, etc. Can be used. The electron injection layer may also serve as a light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The electron injection layer may be formed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.
【００７６】電子注入層は２層に分けて積層してもよ
く、その場合には、電子注入層用の化合物の中から好ま
しい組み合わせを選択して用いることができる。このと
き、電子注入電極側から電子親和力の値の大きい化合物
の順に積層することが好ましい。このような積層順につ
いては、電子注入層を２層以上設けるときも同様であ
る。The electron injection layer may be laminated in two layers, and in that case, a preferable combination can be selected and used from compounds for the electron injection layer. At this time, it is preferable to stack the compounds in descending order of the electron affinity value from the electron injection electrode side. Such a stacking order is the same when two or more electron injection layers are provided.
【００７７】本発明の有機ＥＬ素子では、電子注入電極
に接する有機層少なくとも１層にアルカリ金属（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃ
ａ、Ｓｒ、Ｂａ）のいずれか１種以上を含有する含有す
ることが好ましい。特に、Ｌｉを含有すると高輝度が得
られるので、好ましい。このように電子注入電極に接す
る有機層に仕事関数の小さな金属をドープし、有機物と
相互作用（配位）させることで高輝度が得られる。アル
カリ金属および／またはアルカリ土類金属を含有する有
機層は、通常、電子注入層および／または発光層、好ま
しくは電子注入層である。In the organic EL device of the present invention, at least one organic layer in contact with the electron injection electrode has an alkali metal (Li,
Na, K, Rb, Cs), alkaline earth metals (Mg, C
a, Sr, and Ba). In particular, it is preferable to contain Li because high luminance can be obtained. As described above, a high brightness can be obtained by doping a metal having a small work function into an organic layer in contact with the electron injection electrode and interacting (coordinating) with an organic substance. The organic layer containing an alkali metal and / or an alkaline earth metal is usually an electron injection layer and / or a light emitting layer, preferably an electron injection layer.
【００７８】電子注入層に含有されるアルカリ金属およ
び／またはアルカリ土類金属の含有量は０．１〜１０wt
％、特に１〜３wt％が好ましい。含有量がこれより多く
ても少なくても輝度が変動しやすくなる。また、含有量
が少ないと高輝度が得られない。The content of the alkali metal and / or alkaline earth metal contained in the electron injection layer is 0.1 to 10 wt.
%, Particularly preferably 1 to 3% by weight. If the content is more or less than this, the luminance tends to fluctuate. On the other hand, if the content is small, high luminance cannot be obtained.
【００７９】アルカリ金属および／またはアルカリ土類
金属の濃度は均一であってもよいが、電子注入電極側に
存在すればよく、濃度勾配を有していてもよい。特に、
電子注入電極の界面から０〜５０nmの範囲に１〜３wt％
含有することが好ましい。The concentration of the alkali metal and / or the alkaline earth metal may be uniform, but may be present on the electron injection electrode side, and may have a concentration gradient. In particular,
1-3 wt% in the range of 0-50 nm from the interface of the electron injection electrode
It is preferred to contain.
【００８０】有機層中のアルカリ金属および／またはア
ルカリ土類金属は、通常、原子状で存在するが、数原子
のクラスターを形成していてもよい。The alkali metal and / or alkaline earth metal in the organic layer usually exists in an atomic state, but may form a cluster of several atoms.
【００８１】アルカリ金属および／またはアルカリ土類
金属を含有する有機層は、有機物とアルカリ金属および
／またはアルカリ土類金属とを共蒸着することによって
形成できる。The organic layer containing an alkali metal and / or an alkaline earth metal can be formed by co-evaporation of an organic substance and an alkali metal and / or an alkaline earth metal.
【００８２】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が０．１μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が０．１μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、電荷の注入効率も著しく
低下する。For forming the hole injection transport layer, the light emitting layer and the electron injection transport layer, a uniform thin film can be formed.
It is preferable to use a vacuum deposition method. When vacuum deposition is used, the amorphous state or the crystal grain size is 0.1 μm
The following homogeneous thin film is obtained. If the crystal grain size exceeds 0.1 μm, the light emission becomes non-uniform, the driving voltage of the device must be increased, and the charge injection efficiency is significantly reduced.
【００８３】真空蒸着の条件は特に限定されないが、１
０-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は０．０１〜１nm／
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの成長・発生を抑えたりするこ
とができる。The conditions for vacuum deposition are not particularly limited.
The degree of vacuum is 0 -4 Pa or less, and the deposition rate is 0.01 to 1 nm /
It is preferable to set it to about sec. Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained. Further, the driving voltage of the element can be reduced, and the growth and generation of dark spots can be suppressed.
【００８４】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、１層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。In the case where a plurality of compounds are contained in one layer when a vacuum evaporation method is used for forming each of these layers, it is preferable to co-deposit each boat containing the compounds by individually controlling the temperature.
【００８５】次に、本発明の有機ＥＬ素子を用いた有機
ＥＬ表示装置について説明する。有機ＥＬ表示装置は、
上記のような本発明の有機ＥＬ素子が気密ケースに収納
されており、この気密ケース内に、有機ＥＬ素子に非接
触の状態で、乾燥剤として、水素化カルシウム、水素化
ストロンチウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニ
ウムリチウムの１種以上が配置されている。具体的に
は、基板上に有機ＥＬ素子が積層されており、この有機
ＥＬ素子の上に所定の空隙を有するように配置される封
止板と、この封止板の接続部に配置され、封止板を基板
から所定の距離に維持するスペーサーと、封止板を固定
し、有機ＥＬ素子を密閉するための封止用接着剤とを有
する。そして、その密閉空間内に、乾燥剤が有機ＥＬ素
子に非接触の状態で配置されており、封止ガスが封入さ
れている。乾燥剤の水素化カルシウム（ＣａＨ2）、水
素化ストロンチウム（ＳｒＨ2）、水素化バリウム（Ｂ
ａＨ2）、水素化アルミニウムリチウム（ＡｌＬｉＨ4）
の当初の組成は、化学量論組成から多少偏倚していても
よい。これらは、できるだけ大気中の水分と接触しない
ようにしてケース内に封入する。Next, an organic EL display device using the organic EL element of the present invention will be described. Organic EL display devices
The organic EL element of the present invention as described above is housed in an airtight case. In this airtight case, calcium hydride, strontium hydride, barium hydride is used as a desiccant without contacting the organic EL element. And at least one of lithium aluminum hydride. Specifically, an organic EL element is stacked on a substrate, and a sealing plate arranged so as to have a predetermined gap on the organic EL element, and a sealing plate disposed at a connection portion of the sealing plate, It has a spacer for maintaining the sealing plate at a predetermined distance from the substrate, and a sealing adhesive for fixing the sealing plate and sealing the organic EL element. A desiccant is placed in the sealed space in a state of not contacting the organic EL element, and a sealing gas is sealed. Desiccant calcium hydride (CaH 2 ), strontium hydride (SrH 2 ), barium hydride (B
aH 2 ), lithium aluminum hydride (AlLiH 4 )
May have some deviation from the stoichiometric composition. These are sealed in a case so as not to come into contact with atmospheric moisture as much as possible.
【００８６】乾燥剤にＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、Ａ
ｌＬｉＨ4のいずれを用いても同様の効果が得られる
が、反応性の高いＡｌＬｉＨ4は気密ケース内の封止ガ
スにＡｒを用いなければならない場合もあるので、Ｎ2
を用いることができるＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2の方
が好ましい。また、ＢａＨ2は安定性が劣るので、特に
ＣａＨ2、ＳｒＨ2を乾燥剤として用いることが好まし
い。CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , A
Although the same effect can be obtained by using any of lLiH 4 , since highly reactive AlLiH 4 may require the use of Ar as the sealing gas in the hermetic case, N 2
CaH 2 , SrH 2 , and BaH 2 are more preferable. Since BaH 2 has poor stability, it is particularly preferable to use CaH 2 and SrH 2 as drying agents.
【００８７】ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4
は、気密ケース内に、気密ケース内の空間１mm3当たり
０．０００１〜０．５mg程度配置することが好ましい。
配置するＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4がこ
れより少ないと、水分の除去が十分にはできなくなって
くる。ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4は多い
ほど水分が除去されて素子の寿命は延びるが、有機ＥＬ
素子に接触すると、逆に悪影響が生じる。通常、配置で
きる量の上限は、１mg／mm3程度である。ＣａＨ2、Ｓｒ
Ｈ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4を併用する場合でも、その
合計量が前記の範囲内であることが好ましい。CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Is in air-tight case, it is preferable to arrange the order of the space 1 mm 3 per 0.0001~0.5mg in airtight case.
If the amount of CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 to be arranged is less than this, the water cannot be sufficiently removed. The higher the content of CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4, the more water is removed and the life of the device is extended.
Contact with the device adversely affects the device. Usually, the upper limit of the amount that can be arranged is about 1 mg / mm 3 . CaH 2 , Sr
Even when H 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are used together, the total amount is preferably within the above range.
【００８８】ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4
は粒子として用いてもよく、その際の平均粒径は、０．
０１〜１０μm 程度が好ましい。粒径がこれより大きい
と、表面積が減少してくるので、吸水性が低下してく
る。これより小さいと、吸水性を維持したままでの保管
と取り扱いが困難になってくる。CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
May be used as particles, and the average particle size at that time is 0.1.
It is preferably about 01 to 10 μm. If the particle size is larger than this, the surface area decreases, and the water absorption decreases. If it is smaller than this, storage and handling while maintaining the water absorption becomes difficult.
【００８９】ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4
は、気密ケース内に、悪影響を避けるために有機ＥＬ素
子に接触しないように配置する。配置方法は特に限定さ
れず、例えば、ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉ
Ｈ4を成形体として気密ケース内に固定する方法、多孔
質テフロン等の通気性を有する袋や容器にＣａＨ2、Ｓ
ｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4を入れてケース内に固定
する方法、基板や封止板に窪みや仕切りを設けてそこに
ＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4を配置する方
法等がある。また、スクリーン印刷や反応性スパッタ法
等で気密ケース内に薄膜ないし厚膜として配置してもよ
い。この際、膜の厚さは０．１〜１００μm 程度が好ま
しい。CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Are arranged so as not to come into contact with the organic EL element in the airtight case to avoid adverse effects. The arrangement method is not particularly limited. For example, CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLi
A method of fixing H 4 as a molded body in an airtight case, a method using CaH 2 , S
There are a method in which rH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are put and fixed in a case, a method in which a dent or a partition is provided in a substrate or a sealing plate, and CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , and AlLiH 4 are arranged there. . Further, it may be arranged as a thin film or a thick film in an airtight case by screen printing or reactive sputtering. At this time, the thickness of the film is preferably about 0.1 to 100 μm.
【００９０】気密ケース内の封止ガスは、Ａｒ、Ｈｅ、
Ｎ2等の不活性ガスが用いられる。ただし、乾燥剤にＣ
ａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2を用いる場合はＮ2が好ましい
が、乾燥剤にＡｌＬｉＨ4を用いる場合、高温になると
封止ガスにＮ2を用いることができないので、Ａｒを用
いることが好ましい。この封止ガスの水分含有量は、１
００ppm以下、さらには１０ppm以下、特に１ppm以下で
あることが好ましい。この水分含有量に下限値は特にな
いが、通常０．１ppm程度である。このような封止ガス
を用いることにより、有機ＥＬ素子のホール注入電極、
有機層、電子注入電極、または、これらの界面と水分等
との化学反応等による劣化が抑制され、初期性能が長期
間維持できる。The sealing gas in the airtight case is Ar, He,
Inert gas such as N 2 is used. However, C desiccant
When aH 2 , SrH 2 , or BaH 2 is used, N 2 is preferable. However, when AlLiH 4 is used as a desiccant, N 2 cannot be used as a sealing gas at a high temperature. Therefore, it is preferable to use Ar. The moisture content of this sealing gas is 1
It is preferably at most 00 ppm, more preferably at most 10 ppm, particularly preferably at most 1 ppm. Although there is no particular lower limit for this water content, it is usually about 0.1 ppm. By using such a sealing gas, a hole injection electrode of an organic EL element,
Deterioration due to a chemical reaction between the organic layer, the electron injection electrode, or their interface and moisture or the like is suppressed, and the initial performance can be maintained for a long time.
【００９１】封止板の材料としては、ガラスや石英、樹
脂等の透明ないし半透明材料が挙げられるが、より好ま
しくはガラスが好ましい。このようなガラス材として、
例えば、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラス、ホウケ
イ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカガラス等の
ガラス組成のものが好ましい。また、封止板は、平板状
であることが好ましい。封止板にほりこみ等を設け、そ
こに乾燥剤を配置してもよいが、ほりこみを設けるのは
コストアップになるので、安価な平板ガラスを用いるこ
とが好ましい。その製板方法としては、ロールアウト
法、ダウンロード法、フュージョン法、フロート法等が
好ましい。ガラス材の表面処理法としては、研磨加工処
理、ＳｉＯ2バリヤーコート処理等が好ましい。これら
の中でも、フロート法で製板されたソーダ石灰ガラス
で、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、好まし
い。封止板としては、ガラス板以外にも、金属板、プラ
スチック板等を用いることもできる。Examples of the material of the sealing plate include transparent or translucent materials such as glass, quartz, and resin, and more preferably glass. As such a glass material,
For example, a glass composition such as soda-lime glass, lead-alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is preferable. Further, the sealing plate is preferably flat. Dust and the like may be provided on the sealing plate, and a desiccant may be provided therein. However, since providing the dust increases costs, it is preferable to use inexpensive flat glass. As the plate making method, a roll-out method, a download method, a fusion method, a float method and the like are preferable. As a surface treatment method for the glass material, a polishing treatment, a SiO 2 barrier coat treatment, or the like is preferable. Among them, soda-lime glass produced by a float method and having no surface treatment can be used at a low cost, and is preferable. As the sealing plate, other than a glass plate, a metal plate, a plastic plate, or the like can be used.
【００９２】封止板の高さを調整する手段としては、特
に制限されるものではないが、スペーサーを用いること
が好ましい。スペーサーを用いることにより、安価で、
容易に所望の高さを得ることができる。スペーサーの材
料としては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビー
ズ、ガラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ
等が好ましい。またその厚さとしては、通常、好ましく
は１〜５００μm 、より好ましくは１〜２００μm 、特
に１〜２０μm 、または１００〜２００μm 程度ものが
好ましい。The means for adjusting the height of the sealing plate is not particularly limited, but it is preferable to use a spacer. By using spacers, it is inexpensive,
A desired height can be easily obtained. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable. Further, the thickness is usually preferably about 1 to 500 μm, more preferably about 1 to 200 μm, particularly about 1 to 20 μm, or about 100 to 200 μm.
【００９３】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、
特に１〜２０μm の範囲が好ましい。接着剤の塗布量
は、使用するスペーサーの大きさなどにより異なるが、
通常１〜１００mg／cm2 、より好ましくは１〜１０mg／
cm2 程度が好ましい。When a concave portion is formed in the sealing plate,
Spacers may or may not be used. The preferred size when used is within the above range,
Particularly, the range of 1 to 20 μm is preferable. The amount of adhesive applied depends on the size of the spacer used, etc.
Usually 1 to 100 mg / cm 2 , more preferably 1 to 10 mg / cm 2
It is preferably about cm 2 .
【００９４】スペーサーは、封止用の接着剤とともに用
いることが好ましい。封止用接着剤とともに用いること
により、スペーサーの固定と、封止とを同時に行うこと
ができる。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物で
あるが、その形状は特に限定されるものではなく、スペ
ーサーとしての機能に支障のないものであれば種々の形
状であってもよい。なお、スペーサーを接着剤自体が兼
ねても、スペーサーを封止板と一体に形成してもよい。The spacer is preferably used together with a sealing adhesive. When used together with the sealing adhesive, the fixing of the spacer and the sealing can be performed simultaneously. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited, and may be various shapes as long as it does not hinder the function as the spacer. Note that the adhesive may also serve as the spacer, or the spacer may be formed integrally with the sealing plate.
【００９５】接着剤としては、好ましくはカチオン硬化
タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いる。有
機ＥＬ積層素子部分の各層構成材料のガラス転移温度が
１４０℃以下、特に８０〜１００℃程度である。そのた
め、通常の熱硬化型の接着剤を用いると、その硬化温度
が１４０〜１８０℃程度であるので、接着剤の硬化の際
に有機ＥＬ素子が軟化してしまい、特性の劣化が生じて
しまう。一方、紫外線硬化型接着剤の場合は、このよう
な有機ＥＬ素子の軟化は生じない。しかし、現在一般に
用いられている紫外線硬化型接着剤は、アクリル系であ
るため、硬化の際に成分中のアクリルモノマーが揮発
し、それが上記有機ＥＬ素子の各構成材料に悪影響を及
ぼし、その特性を劣化させてしまう。そこで、本発明に
おいては、以上のような問題のない、あるいは極めて少
ない接着剤である、上記のカチオン硬化タイプの紫外線
硬化型エポキシ樹脂接着剤を用いることが好ましい。As the adhesive, a cationically curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesive is preferably used. The glass transition temperature of each layer constituting material of the organic EL laminated element portion is 140 ° C. or less, particularly about 80 to 100 ° C. Therefore, when a normal thermosetting adhesive is used, the curing temperature is about 140 to 180 ° C., so that the organic EL element is softened when the adhesive is cured, and the characteristics are deteriorated. . On the other hand, in the case of an ultraviolet curable adhesive, such softening of the organic EL element does not occur. However, ultraviolet curable adhesives currently generally used are acrylic, so that the acrylic monomer in the components volatilizes during curing, which adversely affects the constituent materials of the organic EL element, The characteristics will be degraded. Therefore, in the present invention, it is preferable to use the above-mentioned cationically-curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesive, which does not have the above-described problems or is an extremely small amount of adhesive.
【００９６】なお、紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤と
して市販されているものの中には、紫外線加熱硬化併用
型のエポキシ樹脂接着剤が含まれる場合がある。この場
合には、ラジカル硬化タイプのアクリル系樹脂と加熱硬
化タイプのエポキシ樹脂が混合あるいは変性してある場
合が多く、前記のアクリル系樹脂のアクリルモノマーの
揮発の問題や熱硬化型エポキシ樹脂の硬化温度の問題が
解決していないので、本発明の有機ＥＬ素子に用いる接
着剤としては好ましくない。[0096] In some cases, commercially available UV-curable epoxy resin adhesives include UV-curable epoxy resin adhesives. In this case, the radical-curing type acrylic resin and the heat-curing type epoxy resin are often mixed or modified, and the above-mentioned problem of volatilization of the acrylic monomer of the acrylic resin and curing of the thermosetting type epoxy resin. Since the problem of temperature has not been solved, it is not preferable as an adhesive used for the organic EL device of the present invention.
【００９７】カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキ
シ樹脂接着剤とは、主たる硬化剤として紫外線等の光照
射による光分解でルイス酸触媒を放出するルイス酸塩型
硬化剤を含み、光照射により発生したルイス酸が触媒と
なって主成分であるエポキシ樹脂がカチオン重合型の反
応機構により重合し、硬化するタイプの接着剤である。The cation-curing type ultraviolet-curable epoxy resin adhesive contains a Lewis acid salt type curing agent which releases a Lewis acid catalyst by photolysis by irradiation with light such as ultraviolet rays as a main curing agent, and is generated by light irradiation. This type of adhesive is a type in which an epoxy resin, the main component of which is a Lewis acid as a catalyst, is polymerized and cured by a cationic polymerization type reaction mechanism.
【００９８】上記接着剤の主成分であるエポキシ樹脂と
しては、エポキシ化オレフィン樹脂、脂環式エポキシ樹
脂、ノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。また、上
記硬化剤としては、芳香族ジアゾニウムのルイス酸塩、
ジアリルヨードニウムのルイス酸塩、トリアリルスルホ
ニウムのルイス酸塩、トリアリルセレニウムのルイス酸
塩等が挙げられる。Epoxy resins, which are the main components of the adhesive, include epoxidized olefin resins, alicyclic epoxy resins, and novolak epoxy resins. Further, as the curing agent, Lewis acid salt of aromatic diazonium,
Examples thereof include Lewis acid salts of diallyliodonium, Lewis acid salts of triallylsulfonium, Lewis acid salts of triallyl selenium, and the like.
【００９９】成膜される有機ＥＬ素子の高さは、特に制
限されるものではないが、通常１００〜１０００nm、特
に３００〜８００nmの範囲が好ましい。また、基板の有
機ＥＬ素子成膜面から封止板の下端面までの距離として
は、好ましくは２００μm 以下、特に８０〜１５０μm
程度の範囲が好ましい。The height of the organic EL element to be formed is not particularly limited, but is usually preferably 100 to 1000 nm, particularly preferably 300 to 800 nm. Further, the distance from the organic EL element deposition surface of the substrate to the lower end surface of the sealing plate is preferably 200 μm or less, particularly 80 to 150 μm.
The range of the degree is preferable.
【０１００】有機ＥＬ素子は水分に極めて弱いため、封
止板の密着固定、封止物質の封入は、乾燥Ｎ2やＡｒ、
Ｈｅ等の不活性ガス雰囲気下で行われることが好まし
い。乾燥剤のＣａＨ2、ＳｒＨ2、ＢａＨ2、ＡｌＬｉＨ4
は、水と反応しやすいので、封止空間内の水分量を減ら
すために十分に乾燥したものを用いることが好ましい。
有機ＥＬ素子の積層、乾燥剤の配置、封止までを外系に
さらすことなく、インプロセスで行うことが好ましい。Since the organic EL element is extremely weak to moisture, the sealing plate is fixed tightly and the sealing substance is sealed with dry N 2 , Ar,
It is preferable to carry out in an atmosphere of an inert gas such as He. Desiccants CaH 2 , SrH 2 , BaH 2 , AlLiH 4
Since it is easy to react with water, it is preferable to use one that is sufficiently dried to reduce the amount of water in the sealed space.
It is preferable that the steps from lamination of the organic EL element, placement of the desiccant, and sealing be performed in-process without being exposed to an external system.
【０１０１】基板材料としては、基板側から発光した光
を取り出す構成の場合、ガラスや石英、樹脂等の透明な
いし半透明材料を用いる。また、逆積層の場合には、基
板は透明でも不透明であってもよく、不透明である場合
にはセラミックス等を使用してもよい。In the case of a structure in which light emitted from the substrate side is extracted, a transparent or translucent material such as glass, quartz, or resin is used as the substrate material. In the case of reverse lamination, the substrate may be transparent or opaque, and when opaque, ceramics or the like may be used.
【０１０２】また、基板に色フィルター膜や蛍光性物質
を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を用いて発光色
をコントロールしてもよい。Further, the emission color may be controlled by using a color filter film, a color conversion film containing a fluorescent substance, or a dielectric reflection film on the substrate.
【０１０３】色フィルター膜には、液晶ディスプレイ等
で用いられているカラーフィルターを用いれば良いが、
有機ＥＬ素子の発光する光に合わせてカラーフィルター
の特性を調整し、取り出し効率・色純度を最適化すれば
よい。As the color filter film, a color filter used in a liquid crystal display or the like may be used.
The characteristics of the color filter may be adjusted in accordance with the light emitted from the organic EL element to optimize the extraction efficiency and the color purity.
【０１０４】また、ＥＬ素子材料や蛍光変換層が光吸収
するような短波長の外光をカットできるカラーフィルタ
ーを用いれば、素子の耐光性・表示のコントラストも向
上する。If a color filter capable of cutting off short-wavelength external light that is absorbed by the EL element material or the fluorescence conversion layer is used, the light resistance of the element and the display contrast are improved.
【０１０５】また、誘電体多層膜のような光学薄膜を用
いてカラーフィルターの代わりにしても良い。An optical thin film such as a dielectric multilayer film may be used instead of the color filter.
【０１０６】蛍光変換フィルター膜は、ＥＬ発光の光を
吸収し、蛍光変換膜中の蛍光体から光を放出させること
で、発光色の色変換を行うものであるが、組成として
は、バインダー、蛍光材料、光吸収材料の三つから形成
される。The fluorescence conversion filter film absorbs EL light and emits light from the phosphor in the fluorescence conversion film to convert the color of the emitted light. It is formed from a fluorescent material and a light absorbing material.
【０１０７】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高
いものを用いれば良く、ＥＬ発光波長域に吸収が強いこ
とが望ましい。実際には、レーザー色素などが適してお
り、ローダミン系化合物・ペリレン系化合物・シアニン
系化合物・フタロシアニン系化合物（サブフタロシアニ
ン等も含む）、ナフタロイミド系化合物・縮合環炭化水
素系化合物・縮合複素環系化合物・スチリル系化合物・
クマリン系化合物等を用いればよい。As the fluorescent material, basically, a material having a high fluorescence quantum yield may be used, and it is desirable that the fluorescent material has strong absorption in the EL emission wavelength region. In practice, laser dyes and the like are suitable, such as rhodamine-based compounds, perylene-based compounds, cyanine-based compounds, phthalocyanine-based compounds (including subphthalocyanines, etc.), naphthalimide-based compounds, condensed-ring hydrocarbon-based compounds, and condensed heterocyclic-based compounds Compounds, styryl compounds,
A coumarin compound or the like may be used.
【０１０８】バインダーは、基本的に蛍光を消光しない
ような材料を選べば良く、フォトリソグラフィー・印刷
等で微細なパターニングが出来るようなものが好まし
い。また、ＩＴＯ、ＩＺＯの成膜時にダメージを受けな
いような材料が好ましい。As the binder, a material that does not quench the fluorescence may be basically selected, and a binder that can be finely patterned by photolithography, printing, or the like is preferable. Further, a material that does not suffer damage during the formation of ITO or IZO is preferable.
【０１０９】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りな
い場合に用いるが、必要のない場合は用いなくても良
い。また、光吸収材料は、蛍光性材料の蛍光を消光しな
いような材料を選べば良い。The light absorbing material is used when the light absorption of the fluorescent material is insufficient, but may be omitted when unnecessary. As the light absorbing material, a material that does not quench the fluorescence of the fluorescent material may be selected.
【０１１０】本発明の有機ＥＬ素子は、通常、直流駆動
型のＥＬ素子として用いられるが、交流駆動またはパル
ス駆動とすることもできる。印加電圧は、通常、２〜２
０V程度とされる。The organic EL device of the present invention is usually used as a DC drive type EL device, but it can be AC drive or pulse drive. The applied voltage is usually 2 to 2
It is about 0V.
【０１１１】[0111]
【実施例】次に実施例を示し、本発明をより具体的に説
明する。EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples.
【０１１２】＜実施例１＞以下のようにして単純マトリ
クス発光素子を作製した。Example 1 A simple matrix light emitting device was manufactured as follows.
【０１１３】コーニング社製７０５９ガラス基板上に、
ＩＴＯ透明電極（ホール注入電極）を膜厚８５nmで６４
×２５６ドットの画素（一画素当たり２８０×２８０μ
m ）を構成するよう成膜、パターニングした。そして、
ホール注入電極が形成された基板を、中性洗剤、アセト
ン、エタノールを用いて超音波洗浄し、煮沸エタノール
中から引き上げて乾燥した。次いで、表面をＵＶ／Ｏ3
洗浄した後、真空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、
槽内を１×１０-4Pa以下まで減圧した。そして、４，
４’，４”−トリス（−Ｎ−（３−メチルフェニル）−
Ｎ−フェニルアミノ）トリフェニルアミン（以下、ｍ−
ＭＴＤＡＴＡ）を蒸着速度０.２nm／sec.で４０nmの厚
さに蒸着し、ホール注入層とした。次に、Ｎ，Ｎ’−ジ
フェニル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノ
−１，１’−ビフェニル（以下、ＴＰＤ）を蒸着速度
０．２nm／sec.で３５nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層
とした。次に、トリス（８−キノリノラト）アルミニウ
ム（以下、Ａｌｑ3 ）を蒸着速度０.２nm／sec.で５０n
mの厚さに蒸着して、発光層とした。次いで、ＡｌＬｉ
合金（Ｌｉ濃度７．３at％）を蒸着源として、Ｌｉを蒸
着速度０．２nm／sec.で０．５nmの厚さに蒸着し、水素
を導入してＬｉと反応させてＬｉＨとし、電子注入電極
とした。そして、Ａｌターゲットを用いたＤＣスパッタ
法により、Ａｌ保護電極を２００nmの厚さに成膜した。On a Corning 7059 glass substrate,
ITO transparent electrode (hole injection electrode) is 64
× 256 dot pixels (280 × 280μ per pixel)
m) was formed and patterned. And
The substrate on which the hole injection electrode was formed was subjected to ultrasonic cleaning using a neutral detergent, acetone and ethanol, pulled up from boiling ethanol and dried. Then, the surface is UV / O 3
After cleaning, fix it on the substrate holder of the vacuum evaporation device,
The pressure in the tank was reduced to 1 × 10 −4 Pa or less. And 4,
4 ', 4 "-tris (-N- (3-methylphenyl)-
N-phenylamino) triphenylamine (hereinafter, m-
MTDATA) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec. To a thickness of 40 nm to form a hole injection layer. Next, N, N'-diphenyl-N, N'-m-tolyl-4,4'-diamino-1,1'-biphenyl (hereinafter referred to as TPD) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec. Then, a hole transport layer was formed. Next, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter referred to as Alq3) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec.
By vapor deposition to a thickness of m, a light emitting layer was formed. Then, AlLi
Using an alloy (Li concentration: 7.3 at%) as a vapor deposition source, Li is vapor-deposited to a thickness of 0.5 nm at a vapor deposition rate of 0.2 nm / sec. An electrode was used. Then, an Al protective electrode was formed to a thickness of 200 nm by a DC sputtering method using an Al target.
【０１１４】そして、この有機ＥＬ素子が積層された基
板を、Ｎ2ガスを流通させたグローブボックスに移し、
ガラス基板上に紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤（スリ
ーボンド製３０Ｙ２９６Ｄ）を未硬化の状態で１００mg
塗布した。そして、封止板として１００μm 程度の気密
空間を設けるように加工された別のコーニング社製７０
５９ガラスを重ねて、基板同士を摺り合わせながら３kg
／cm2 の圧力で加圧し、ガラス基板と封止板間に接着剤
の薄層を形成した。このとき、接着剤中には７μm のス
ペーサーを１wt％分散させ、接着剤の膜厚が７μm とな
るようにした。そして、ＵＶ光を照射し、接着剤を硬化
させた。Then, the substrate on which the organic EL elements are stacked is transferred to a glove box through which N 2 gas is passed.
100 mg of an uncured UV-curable epoxy resin adhesive (30Y296D made by ThreeBond) on a glass substrate
Applied. Another Corning 70 manufactured to provide an airtight space of about 100 μm as a sealing plate.
3 kg while overlapping 59 substrates and sliding the substrates together
/ Cm 2 to form a thin layer of adhesive between the glass substrate and the sealing plate. At this time, 1 μm of a 7 μm spacer was dispersed in the adhesive so that the thickness of the adhesive was 7 μm. Then, UV light was irradiated to cure the adhesive.
【０１１５】得られた有機ＥＬ素子に、大気雰囲気中で
直流電圧を印加し、温度７０℃の加速条件下、１０mA／
cm2 の定電流密度で連続駆動させ、輝度の相対変化、非
発光面積の拡大を測定した。A DC voltage was applied to the obtained organic EL device in an air atmosphere, and at a temperature of 70.degree.
Continuous driving was performed at a constant current density of cm 2 , and a relative change in luminance and an increase in a non-light-emitting area were measured.
【０１１６】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９７〜１．０３だった。また、６００時
間駆動後の非発光面積率は７％以下だった。相対輝度
は、初期輝度を１としたときの輝度の値、つまり、駆動
後の輝度／初期輝度として計算した。非発光面積率は、
（非発光面積）／（画素の面積）×１００（％）として
計算した。The organic EL device had a relative luminance after driving for 600 hours of 0.97 to 1.03. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 7% or less. The relative luminance was calculated as the luminance value when the initial luminance was set to 1, that is, as the luminance after driving / initial luminance. The non-emission area ratio is
It was calculated as (non-light emitting area) / (pixel area) × 100 (%).
【０１１７】＜実施例２＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＣａＨ2とした他は実施例１と同様にして有機ＥＬ
素子を得、実施例１と同様にして評価した。<Example 2> An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to CaH 2 instead of LiH.
An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.
【０１１８】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９６〜１．１だった。また、６００時間
駆動後の非発光面積率は１０％以下だった。The organic EL device had a relative luminance after driving for 600 hours of 0.96 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 10% or less.
【０１１９】＜実施例３＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＳｒＨ2とした他は実施例１と同様にして有機ＥＬ
素子を得、実施例１と同様にして評価した。<Example 3> An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to SrH 2 instead of LiH.
An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.
【０１２０】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９６〜１．１だった。また、６００時間
駆動後の非発光面積率は１０％以下だった。The organic EL device had a relative luminance after driving for 600 hours of 0.96 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 10% or less.
【０１２１】＜実施例４＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＢａＨ2とした他は実施例１と同様にして有機ＥＬ
素子を得、実施例１と同様にして評価した。<Example 4> An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that BaH 2 was used instead of LiH for the electron injection electrode.
An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.
【０１２２】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は０．９６〜１．１だった。また、６００時間
駆動後の非発光面積率は１０％以下だった。The organic EL device had a relative luminance after driving for 600 hours of 0.96 to 1.1. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 10% or less.
【０１２３】＜比較例１＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＡｌＬｉ（Ｌｉ濃度７．３at％）とした他は実施例
１と同様にして有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にし
て評価した。Comparative Example 1 An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to AlLi (Li concentration: 7.3 at%) instead of LiH, and evaluated in the same manner as in Example 1. did.
【０１２４】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は２．２１だった。また、６００時間駆動後の
非発光面積率は２５％だった。The organic EL device had a relative luminance of 2.21 after driving for 600 hours. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 25%.
【０１２５】＜比較例２＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＬｉ2Ｏとした他は実施例１と同様にして有機ＥＬ
素子を得、実施例１と同様にして評価した。<Comparative Example 2> An organic EL device was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the electron injection electrode was changed to Li 2 O instead of LiH.
An element was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1.
【０１２６】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は１．９２だった。また、６００時間駆動後の
非発光面積率は２２％だった。The organic EL device had a relative luminance of 1.92 after driving for 600 hours. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 22%.
【０１２７】＜比較例３＞電子注入電極をＬｉＨの代わ
りにＭｇＡｇ（Ｍｇ：Ａｇ＝１：１０）とした他は実施
例１と同様にして有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様に
して評価した。Comparative Example 3 An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1, except that the electron injection electrode was changed to MgAg (Mg: Ag = 1: 10) instead of LiH. evaluated.
【０１２８】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
相対輝度は１．５２だった。また、６００時間駆動後の
非発光面積率は２５％だった。This organic EL device had a relative luminance of 1.52 after driving for 600 hours. The non-light-emitting area ratio after driving for 600 hours was 25%.
【０１２９】＜比較例４＞電子注入電極の膜厚を４nmと
した他は実施例１と同様にして有機ＥＬ素子を得、実施
例１と同様にして評価した。Comparative Example 4 An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the electron injection electrode was changed to 4 nm, and evaluated in the same manner as in Example 1.
【０１３０】この有機ＥＬ素子は、６００時間駆動後の
非発光面積率は１０％以下だったが、６００時間駆動後
の相対輝度は０．４５だった。The non-light-emitting area ratio of this organic EL device after driving for 600 hours was 10% or less, but the relative luminance after driving for 600 hours was 0.45.
【０１３１】＜実施例５＞実施例１の有機ＥＬ素子が積
層された基板を、Ｎ2ガスを流通させたグローブボック
スに移した。そして、乾燥剤としてＣａＨ2粒子をネッ
トに入れて配置、固定し、ガラス基板上に、紫外線硬化
型エポキシ樹脂接着剤（スリーボンド製３０Ｙ２９６
Ｄ）を未硬化の状態で１００mg塗布した。そして、封止
板として１００μm 程度の気密空間を設けるように加工
された別のコーニング社製７０５９ガラスを重ねて、基
板同士を摺り合わせながら３kg／cm2 の圧力で加圧し、
ガラス基板と封止板間に接着剤の薄層を形成した。この
とき、接着剤中には７μm のスペーサーを１wt％分散さ
せ、接着剤の膜厚が７μm となるようにした。そして、
ＵＶ光を照射し、接着剤を硬化させて有機ＥＬ表示装置
を得た。乾燥剤の量は、気密ケース内の空間１mm3当た
り０．０１mg／mm3とした。Example 5 The substrate on which the organic EL element of Example 1 was laminated was transferred to a glove box through which N 2 gas was passed. Then, CaH 2 particles are placed and fixed in a net as a desiccant, and an ultraviolet-curable epoxy resin adhesive (30Y296 manufactured by ThreeBond) is placed on a glass substrate.
100 mg of D) was applied in an uncured state. Then, another Corning 7059 glass machined so as to provide an airtight space of about 100 μm as a sealing plate is overlaid, and the substrates are pressed together with a pressure of 3 kg / cm 2 while rubbing each other.
A thin layer of adhesive was formed between the glass substrate and the sealing plate. At this time, 1 μm of a 7 μm spacer was dispersed in the adhesive so that the thickness of the adhesive was 7 μm. And
The adhesive was cured by irradiation with UV light to obtain an organic EL display device. The amount of the desiccant was 0.01 mg / mm 3 per 1 mm 3 of space in the airtight case.
【０１３２】この有機ＥＬ表示装置を実施例１と同様に
して評価したところ、乾燥剤を用いなかった実施例１の
有機ＥＬ素子と比べて、６００時間駆動後の相対輝度の
変化、６００時間駆動後の非発光面積率は小さかった。
特に、非発光面積はほとんど生じなかった。When this organic EL display device was evaluated in the same manner as in Example 1, the change in relative luminance after driving for 600 hours and the change in relative luminance after driving for 600 hours were compared with the organic EL device of Example 1 in which no desiccant was used. Thereafter, the non-light-emitting area ratio was small.
In particular, a non-light emitting area hardly occurred.
【０１３３】＜実施例６＞乾燥剤としてＣａＨ2の代わ
りに同量のＳｒＨ2を用いた他は実施例５と同様にして
有機ＥＬ表示装置を得、実施例１と同様にして評価した
ところ、この有機ＥＬ表示装置も実施例５と同等の結果
が得られた。<Example 6> An organic EL display device was obtained in the same manner as in Example 5 except that the same amount of SrH 2 was used instead of CaH 2 as a drying agent, and was evaluated in the same manner as in Example 1. In this organic EL display device, the same result as that of Example 5 was obtained.
【０１３４】＜実施例７＞乾燥剤としてＣａＨ2の代わ
りに同量のＡｌＬｉＨ4を用い、封止ガスとしてＮ2ガス
の代わりにＡｒガスを用いた他は実施例５と同様にして
有機ＥＬ表示装置を得、実施例１と同様にして評価した
ところ、この有機ＥＬ表示装置も実施例５と同等の結果
が得られた。Example 7 An organic EL was prepared in the same manner as in Example 5, except that the same amount of AlLiH 4 was used instead of CaH 2 as a drying agent, and Ar gas was used instead of N 2 gas as a sealing gas. When a display device was obtained and evaluated in the same manner as in Example 1, the same result as that of Example 5 was obtained in this organic EL display device.
【０１３５】＜実施例８＞乾燥剤としてＣａＨ2の代わ
りに同量のＢａＨ2を用いた他は実施例５と同様にして
有機ＥＬ表示装置を得、実施例１と同様にして評価した
ところ、この有機ＥＬ表示装置も実施例５と同様の効果
が得られた。<Example 8> An organic EL display device was obtained in the same manner as in Example 5 except that the same amount of BaH 2 was used instead of CaH 2 as a drying agent, and was evaluated in the same manner as in Example 1. This organic EL display also achieved the same effects as in the fifth embodiment.
【０１３６】＜比較例５＞乾燥剤としてＣａＨ2の代わ
りに同量のゼオライトを用いた他は実施例５と同様にし
て有機ＥＬ表示装置を得、実施例１と同様にして評価し
たところ、実施例５の有機ＥＬ表示装置と比べて、６０
０時間駆動後の非発光面積率は大きく、乾燥剤を用いな
かった実施例１の有機ＥＬ素子と同等程度の非発光面積
率しか得られなかった。<Comparative Example 5> An organic EL display device was obtained in the same manner as in Example 5 except that the same amount of zeolite was used instead of CaH 2 as a drying agent, and was evaluated in the same manner as in Example 1. As compared with the organic EL display device of the fifth embodiment, 60
The non-light-emitting area ratio after driving for 0 hours was large, and only a non-light-emitting area ratio equivalent to that of the organic EL element of Example 1 using no desiccant was obtained.
【０１３７】＜比較例６＞乾燥剤としてＣａＨ2の代わ
りに同量のＢａＯを用いた他は実施例５と同様にして有
機ＥＬ表示装置を得、実施例１と同様にして評価したと
ころ、１８０時間駆動すると発光しなくなり、素子とし
て機能しなくなった。Comparative Example 6 An organic EL display device was obtained in the same manner as in Example 5 except that the same amount of BaO was used instead of CaH 2 as a drying agent. When the device was driven for 180 hours, light emission stopped, and the device did not function.
【０１３８】また、実施例１〜８、比較例１〜６の有機
ＥＬ素子、有機ＥＬ表示装置に、温度６０℃、湿度９５
％ＲＨの加速条件下で直流電圧を印加し、１０mA／cm2
の定電流密度で１０００時間連続駆動させ、輝度の相対
変化、非発光面積の拡大を測定した。本発明の有機ＥＬ
素子、有機ＥＬ表示装置は、高湿度下においても比較例
のものと比較して輝度の相対変化、非発光面積の拡大は
極めて小さかった。The organic EL devices and organic EL display devices of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 were subjected to a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95%.
DC voltage is applied under the acceleration condition of 10% RH, and 10 mA / cm 2
Were driven continuously for 1000 hours at a constant current density of, and the relative change in luminance and the enlargement of the non-light-emitting area were measured. Organic EL of the present invention
The element and the organic EL display device showed extremely small changes in luminance and expansion of the non-light-emitting area as compared with the comparative example even under high humidity.
【０１３９】また、電子注入電極をＮａＨ、ＫＨ、Ｒｂ
Ｈ、ＣｓＨまたはＭｇＨ2とした他は実施例１と同様に
して有機ＥＬ素子を得、実施例１と同様にして評価した
ところ、実施例１と同様の効果が得られた。The electron injecting electrodes were NaH, KH, Rb
An organic EL device was obtained in the same manner as in Example 1 except that H, CsH or MgH 2 was used, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the same effect as in Example 1 was obtained.
【０１４０】[0140]
【発明の効果】以上のように、本発明により、容易に製
造でき、水分等の影響を極力排除し、経時劣化、特に非
発光面積の拡大、輝度の変化が小さく、初期性能を長期
間維持できる長寿命の有機ＥＬ素子および有機ＥＬ表示
装置を提供できる。As described above, according to the present invention, it can be easily manufactured, the influence of moisture and the like is eliminated as much as possible, deterioration over time, in particular, enlargement of non-light-emitting area, change in luminance is small, and initial performance is maintained for a long time. It is possible to provide a long-life organic EL element and an organic EL display device.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中谷 賢司 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 荒井 三千男 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 遠藤 広行 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 川島 真祐紀 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 早川 敏雄 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB00 AB02 AB06 AB12 AB13 AB14 AB18 BB00 BB01 BB04 BB05 BB06 CA01 CB01 DA00 DA01 DB03 EB00 FA01 FA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Kenji Nakatani 1-1-13 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Michio Arai 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Inside (72) Inventor Hiroyuki Endo 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Mayuki Kawashima 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo Inside TDK Corporation (72) Inventor Toshio Hayakawa 1-13-1, Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo F-term in TDK Corporation (reference) 3K007 AB00 AB02 AB06 AB12 AB13 AB14 AB18 BB00 BB01 BB04 BB05 BB06 CA01 CB01 DA00 DA01 DB03 EB00 FA01 FA03
Claims (6)
れらの電極間に設けられた１種以上の発光層を含む有機
層とを有し、 前記電子注入電極がアルカリ金属の水素化物およびアル
カリ土類金属の水素化物のいずれか１種以上を含有する
有機ＥＬ素子。1. An electron injection electrode comprising: a hole injection electrode; an electron injection electrode; and an organic layer including one or more light-emitting layers provided between the electrodes. An organic EL device containing any one or more of hydrides of earth metals.
る請求項１の有機ＥＬ素子。2. The organic EL device according to claim 1, wherein said electron injection electrode has a thickness of 1 nm or less.
素化カルシウム、水素化ストロンチウムおよび水素化バ
リウムの１種以上を含有する請求項１または２の有機Ｅ
Ｌ素子。3. The organic E according to claim 1, wherein said electron injection electrode contains one or more of lithium hydride, calcium hydride, strontium hydride, and barium hydride.
L element.
が気密ケースに収納されており、 前記気密ケース内に、前記有機ＥＬ素子に非接触の状態
で、乾燥剤として水素化カルシウム、水素化ストロンチ
ウム、水素化バリウムおよび水素化アルミニウムリチウ
ムの１種以上が配置されている有機ＥＬ表示装置。4. The organic EL device according to claim 1, wherein the organic EL device is housed in an airtight case, and calcium hydride is used as a desiccant in the airtight case in a non-contact state with the organic EL device. An organic EL display device in which at least one of strontium hydride, barium hydride, and lithium aluminum hydride is disposed.
積層されている基板と、前記有機ＥＬ素子上に所定の空
隙を設けて配置された封止板と、前記封止板を前記基板
に密着する封止用接着剤とを有する請求項４の有機ＥＬ
表示装置。5. The airtight case comprises: a substrate on which the organic EL element is laminated; a sealing plate provided with a predetermined gap on the organic EL element; and a sealing plate provided on the substrate. 5. The organic EL device according to claim 4, further comprising a sealing adhesive that adheres closely.
Display device.
トロンチウムである請求項５の有機ＥＬ表示装置。6. The organic EL display device according to claim 5, wherein the voids are filled with nitrogen, and the desiccant is calcium hydride and / or strontium hydride.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP10300367A JP2000113990A (en) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | Organic el element and organic el display device |
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| JP10300367A JP2000113990A (en) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | Organic el element and organic el display device |
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| JP10300367A Withdrawn JP2000113990A (en) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | Organic el element and organic el display device |
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| JP (1) | JP2000113990A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2001052606A1 (en) * | 2000-01-13 | 2001-07-19 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Electrode body, thin-film el device comprising the same, method for manufacturing the same, and display and illuminator comprising the thin-film el device |
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| JP2009267402A (en) * | 2008-04-24 | 2009-11-12 | Tsinghua Univ | Organic el device and fabrication method thereof |
-
1998
- 1998-10-07 JP JP10300367A patent/JP2000113990A/en not_active Withdrawn
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