JP2000113827A - プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法 - Google Patents

プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法

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JP2000113827A JP10286767A JP28676798A JP2000113827A JP 2000113827 A JP2000113827 A JP 2000113827A JP 10286767 A JP10286767 A JP 10286767A JP 28676798 A JP28676798 A JP 28676798A JP 2000113827 A JP2000113827 A JP 2000113827A
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俊博 吉岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 消費電力が低く、表示品位が良好なプラズマ
ディスプレイパネルを実現する。 【解決手段】 第1のガラス基板11aの表面に突出用
誘電体層16aが部分的に形成され、突出用誘電体層1
6aおよび第1のガラス基板11aの表面に放電維持電
極12a,15aが形成される。放電維持電極12aの
放電維持電極15a側の端部が突出用誘電体層16aの
一端部の表面に形成され、放電維持電極15aの放電維
持電極12a側の端部が突出用誘電体層16bの他端部
の表面に形成される。放電維持電極12a,15aのそ
れらの端部が突出し、放電維持電極12a,15aが、
表面が平坦な誘電体層13aにより覆われる。これによ
り、誘電体層13aの、放電維持電極12a,15aの
突出部分に対応する部分の厚さが誘電体層13aの他の
部分よりも小さくなる。放電を維持するための電圧を低
くしつつ、発光効率を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、大面積化が容易な
フラットディスプレイパネルとして、パーソナルコンピ
ュータ、ワークステーションの出力用の表示装置、およ
び壁掛けテレビなどに用いられるプラズマディスプレイ
パネルおよびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】図28は、従来のプラズマディスプレイ
パネルの断面図である。図28に示される従来のプラズ
マディスプレイパネルは、いわゆる面放電型のものであ
る。
【0003】図28に示されるように従来のプラズマデ
ィスプレイパネルでは、第1の基板101が、第1のガ
ラス基板111と、第1の電極である放電維持電極11
2と、第2の電極である放電維持電極115と、誘電体
層113と、酸化マグネシウム層114とから構成され
ている。第1のガラス基板111の表面には、互いに平
行な帯状の放電維持電極112,115が複数形成され
ている。放電維持電極112と115とは、互いに所定
距離をおいて配置され、放電維持電極112と115と
が対になっている。複数の放電維持電極112,115
が形成された第1のガラス基板111の表面には、低融
点ガラスからなる誘電体層113が形成されている。誘
電体層113によって複数の放電維持電極112,11
5が被覆されている。誘電体層113の表面には、誘電
体層113を保護するための層として酸化マグネシウム
層114が形成されている。誘電体層113の、放電維
持電極112,115に対応する部分の厚さは、ほぼ均
一となっている。
【0004】一方、第2の基板102は、第2のガラス
基板121、選択電極122、誘電体層123、隔壁1
25および蛍光体124から構成されている。第2のガ
ラス基板121の表面には選択電極122が形成されて
いる。選択電極122が形成された第2のガラス基板1
21の表面には誘電体層123が形成されている。誘電
体層123によって選択電極122が覆われている。誘
電体層123の表面には、その表面から突出する隔壁1
25が部分的に形成されている。隔壁125は、放電維
持電極112,115の、第1のガラス基板111側と
反対側の面上に配置される放電空間103を設けるため
のものである。そして、誘電体層123の表面や、隔壁
125の側面に蛍光体層124が形成されている。
【0005】第1のガラス基板111の誘電体層113
側に第2のガラス基板121が配置され、第1のガラス
基板111の誘電体層113側と、第2のガラス基板1
21の隔壁125側の面とが対向するように第1の基板
101と第2の基板102とが接合されている。ここ
で、隣り合う隔壁125の間に一対の放電維持電極11
2,115が配置されるようにする。
【0006】第1のガラス基板111と第2のガラス基
板121との間には隔壁125によって仕切られた放電
空間103が複数設けられている。それぞれの放電空間
103には、蛍光体層124を励起するのに利用される
紫外光を発生させるためのガスが充填されている。
【0007】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、一対の放電維持電極112,115に電圧を印加す
ることによって放電空間103内のガスに放電を発生さ
せ、その放電による紫外線が蛍光体層124に照射され
る。蛍光体124層に紫外線が照射されることにより、
蛍光体層124が励起されて可視光が発生する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図28
に示される従来のプラズマディスプレイパネルでは、誘
電体層113の、放電維持電極112,115に対応す
る部分の厚さがほぼ均一である。このようなプラズマデ
ィスプレイパネルにおいて誘電体層113を厚くした場
合、発光効率は向上するが、放電空間での放電を維持す
るために放電維持電極112,115に印加する電圧が
上昇してしまう。従って、プラズマディスプレイパネル
の消費電力が増大するという問題点がある。逆に誘電体
層113の厚さを小さくした場合、放電空間での放電を
維持するために放電維持電極112,115に印加する
電圧を低く抑えることができるが、発光効率が低下する
という問題点がある。
【0009】本発明の目的は、発光効率が向上し、良好
な表示品位が得られると共に消費電力の低減が実現され
たプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提
供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のプラズマディスプレイパネルは、第1のガ
ラス基板と、前記第1のガラス基板の表面に形成された
第1の電極と、前記第1のガラス基板の表面に形成さ
れ、前記第1の電極と対になるように前記第1の電極か
ら所定の距離をおいて配置された第2の電極と、前記第
1および第2の電極を覆うように前記第1のガラス基板
の表面、前記第1および第2の電極の表面に形成された
誘電体層と、前記第1のガラス基板と対向するように前
記第1のガラス基板の前記誘電体層側に配置される第2
のガラス基板と、前記第1のガラス基板と前記第2のガ
ラス基板との間に、一対の前記第1および第2の電極の
面上に配置される放電空間を設けるように前記第1のガ
ラス基板と前記第2のガラス基板との間に部分的に形成
された隔壁と、少なくとも前記第2のガラス基板の前記
放電空間側の面上に形成された蛍光体と、前記放電空間
に充填され、前記蛍光体を励起するのに利用される紫外
光を発生させるためのガスとを有するプラズマディスプ
レイパネルにおいて、前記誘電体層の、前記第1の電極
に対応する部分の厚さが前記第1の電極の部位により異
なり、前記誘電体層の、前記第2の電極に対応する部分
の厚さが前記第2の電極の部位により異なっていること
を特徴とする。
【0011】上記の発明では、誘電体層の、第1および
第2の電極のそれぞれに対応する部分の厚さがそれぞれ
の電極の部位によって異なり、それぞれの電極の部位に
応じて誘電体層の厚さを設定することができる。例え
ば、誘電体層の、第1の電極の第2の電極側の端部や、
第2の電極の第1の電極側の端部に対応する部分の厚さ
を、誘電体層の、第1および第2の電極の他の部分に対
応する部分よりも小さくする。これにより、放電空間で
放電を維持するために第1および第2の電極に印加する
電圧を低くしつつ、プラズマディスプレイパネルの高い
発光効率が得られる。その結果、消費電力が低く、か
つ、表示品位が良好なプラズマディスプレイパネルを得
ることができる。
【0012】具体的には、誘電体層の、第1の電極の第
2の電極側の端部に対応する部分および、その部分の近
傍の部分の厚さを、誘電体層の、第1の電極の他の部分
に対応する部分よりも小さく、かつ、誘電体層の、第2
の電極の第1の電極側の端部に対応する部分および、そ
の部分の近傍の部分の厚さを、誘電体層の、第2の電極
の他の部分に対応する部分よりも小さくする。
【0013】上記のように誘電体層の厚さを設定するこ
とにより、放電空間の、第1と第2の電極の間の近傍の
部分に、強い電界を発生させることができる。このよう
に放電空間に、強い電界を発生させることで、放電を維
持するための電圧を実用的な範囲に抑制することができ
る。ここで、誘電体層の、電極に対応する部分のうち、
厚さを小さくしない部分があっても、放電を維持するた
めの電圧を低くすることが可能である。また、誘電体層
の、電極に対応する部分のうち、厚さを小さくしない部
分に所定の厚さを持たせることで、第1および第2の電
極による面放電での電流密度が制限され、発光効率が向
上する。
【0014】さらに、具体的には、前記第1の電極の前
記第2の電極側の部分、および前記第2の電極の前記第
1の電極側の部分を前記誘電体層側に向かって突出さ
せ、前記誘電体層の表面を平坦にしたり、前記誘電体層
の、前記第1の電極と前記第2の電極との間の部分に対
応する部分および、該部分の近傍の部分における前記放
電空間側の面に凹部を形成したりする。あるいは、前記
誘電体層の、前記第1の電極と前記第2の電極との間の
部分に対応する部分および、該部分の近傍の部分におけ
る前記放電空間側の面に凹部を形成するのみでもよい。
これらのように第1および第2の電極や、誘電体層を構
成することで、誘電体層の、第1の電極の第2の電極側
の端部や、第2の電極の第1の電極側の端部に対応する
部分の厚さを、誘電体層の他の部分よりも小さくするこ
とができる。
【0015】また、本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、上記のプラズマディスプレイパネルを
製造する方法であって、前記第1のガラス基板の表面に
前記第1および第2の電極を形成する前に前記第1のガ
ラス基板の表面の、少なくとも前記第1の電極の前記第
2の電極側の端部および、前記第2の電極の前記第1の
電極側の端部に対応する部分に突出部を形成する工程
と、前記第1のガラス基板の表面、および前記突出部の
表面に前記第1および第2の電極を形成する工程と、前
記第1および第2の電極の表面、および前記第1のガラ
ス基板の表面に前記誘電体層を形成する工程とを有す
る。
【0016】上記の発明では、第1のガラス基板の表面
の、第1の電極の第2の電極側の端部や、第2の電極の
第1の電極側の端部に対応する部分に突出部を形成する
ことで、第1および第2の電極を形成した際に、第1の
電極の第2の電極側の端部や、第2の電極の第1の電極
側の端部が前記第1のガラス基板側と反対の方向、すな
わち放電空間に向かって突出する。その後、第1および
第2の電極や、第1のガラス基板の表面に誘電体層を形
成する。ここで、本発明のプラズマディスプレイパネル
において説明したのと同様に、誘電体層の表面を平坦に
したり、誘電体層の、第1の電極と第2の電極との間の
部分、およびその部分の近傍の部分に対応する部分の放
電空間側の面に凹部を形成したりする。これにより、誘
電体層の、第1の電極の第2の電極側の端部や、第2の
電極の第1の電極側の端部に対応する部分の厚さが小さ
くなる。従って、消費電力が低く、かつ、表示品位が良
好なプラズマディスプレイパネルを製造することが可能
となる。
【0017】具体的には、第1のガラス基板の表面に突
出部を形成する際に、ガラス基板の表面の、突出部に対
応する部分を除く部分をエッチングすることにより突出
部を形成する。あるいは、第1のガラス基板の表面に低
融点ガラス層を形成し、低融点ガラス層の、突出部に対
応する部分を除く部分をエッチングやサンドブラスト法
により除去することにより突出部を形成する。あるい
は、第1のガラス基板の表面にペースト状の低融点ガラ
スを印刷により塗布したり、感光性樹脂層を用い、第1
のガラス基板の表面に低融点ガラスを、突出部に対応す
る形状にパターニングしたりしてもよい。そして、誘電
体層を形成した後、誘電体層の表面を平坦にしたり、上
述したのと同様に、誘電体層の表面に凹部を形成したり
する。
【0018】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
【0019】(第1の実施の形態)図1は、本発明の第
1の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図で
ある。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは面放
電型のものである。
【0020】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図1に示すように、第1のガラス基板11aの表
面に、突出部である突出用誘電体層16aが部分的に形
成されている。第1のガラス基板11aの表面の、突出
用誘電体層16aの一端部の近傍の部分と、突出用誘電
体層16aの一端部の表面とに、第1の電極である帯状
の放電維持電極12aが形成されている。また、第1の
ガラス基板11aの表面の、突出用誘電体層16aの他
端部の近傍の部分と、突出用誘電体層16aの他端部の
表面とに、放電維持電極12aと平行な、第2の電極で
ある帯状の放電維持電極15aが形成されている。放電
維持電極12aと放電維持電極15aとは所定の距離を
おいて配置され、放電維持電極12aと放電維持電極1
5aとが対になっている。放電維持電極12aと放電維
持電極15aとの間に電圧が印加される。
【0021】放電維持電極12a,15aや、突出用誘
電体層16aおよび第1のガラス基板11aのそれぞれ
の表面に、低融点ガラスからなる誘電体層13aが形成
されている。誘電体層13aによって突出用誘電体層1
6aや、放電維持電極12a,15aが被覆されてい
る。誘電体層13aの表面はほぼ平坦になっている。誘
電体層13aの表面には、誘電体層13aを保護するた
めの保護層として酸化マグネシウム層14aが形成され
ている。従って、誘電体層13aを保護する保護層の構
成材料としてアルカリ土類酸化物が用いられている。第
1の基板1aが、第1のガラス基板11aと、突出用誘
電体層16aと、放電維持電極12a,15aと、誘電
体層13aと、酸化マグネシウム層14aとから構成さ
れている。このように、放電維持電極12aの放電維持
電極15a側の端部が突出用誘電体層16aの表面に形
成されることにより、放電維持電極12aの放電維持電
極15a側の端部が、第1のガラス基板11a側と反対
側に突出している。それと同様に、放電維持電極15a
の放電維持電極12a側の端部が突出用誘電体層16a
の表面に形成されることにより、放電維持電極15aの
放電維持電極12a側の端部が、第1のガラス基板11
a側と反対側に突出している。これにより、誘電体層1
3aの、放電維持電極12aの放電維持電極15a側の
端部に対応する部分の厚さが、誘電体層13aの、放電
維持電極12aの他の部分に対応する部分よりも小さく
なっている。従って、誘電体層13aの、放電維持電極
12aに対応する部分の厚さが放電維持電極12aの部
位により異なっている。それと同様に、誘電体層13a
の、放電維持電極15aの放電維持電極12a側の端部
に対応する部分の厚さが、誘電体層13aの、放電維持
電極15aの他の部分に対応する部分よりも小さくなっ
ている。従って、誘電体層13aの、放電維持電極15
aに対応する部分の厚さが放電維持電極15aの部位に
より異なっている。
【0022】一方、第2のガラス基板21の表面には選
択電極22が形成されている。選択電極22の表面や、
第2のガラス基板21の表面には誘電体層23が形成さ
れている。誘電体層23によって選択電極22が覆われ
ている。誘電体層23の表面には、その表面から突出す
る隔壁25が部分的に形成されている。隔壁25は、放
電維持電極12a,15aの、第1のガラス基板11a
側と反対側の面上に配置される放電空間3を設けるため
のものである。誘電体層23の表面や、隔壁25の側面
に蛍光体24が形成されている。第2の基板2が、第2
のガラス基板21と、選択電極22と、誘電体層23
と、隔壁25と、蛍光体24とから構成されている。
【0023】第1のガラス基板11aの誘電体層13a
側に第2のガラス基板21が配置され、第1のガラス基
板11aの酸化マグネシウム層14a側の面と、第2の
ガラス基板21の隔壁25側の面とが対向するように第
1の基板1aと第2の基板2とが接合されている。ここ
で、隣り合う隔壁25の間に一対の放電維持電極12
a,15aが配置されるようにする。このように第1の
基板1aと第2の基板2とを接合することにより、第1
のガラス基板11aと第2のガラス基板21との間に、
隔壁25によって仕切られた放電空間3が複数設けられ
ている。第1のガラス基板11aと第2のガラス基板2
1との間のそれぞれの放電空間3には、HeやNeなど
の希ガスを主成分とする放電ガスが充填されている。放
電空間3内の放電ガスには、その放電ガスの構成成分と
して、蛍光体24を励起するために利用される紫外光を
発生させるためのガスが混入されている。紫外光を発生
させるためのガスとしては、Xe、Kr、Arまたは窒
素のうちいずれか1つが用いられる。
【0024】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、一対の放電維持電極12aと15aとの間に電圧を
印加することによって放電空間3内の放電ガスに放電が
発生する。放電ガスの放電によって得られる紫外線は蛍
光体24に照射される。このように蛍光体24に紫外線
が照射されることにより、蛍光体24が励起されて可視
光が発生する。
【0025】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、上述したように放電維持電極12aの放電維持電
極15a側の端部が、第2のガラス基板21側に向かっ
て突出している。また、放電維持電極15aの放電維持
電極12a側の端部が、第2のガラス基板21側に向か
って突出している。これにより、誘電体層13aの、放
電維持電極12aの突出部分、および放電維持電極15
aの突出部分に対応する部分の厚さが、誘電体層13a
の他の部位の厚さよりも小さくなっている。
【0026】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、一対の面放電電極12a,15aの間での放電の発
生しやすさに大きく影響する、面放電電極12aと15
aとの間の周辺の放電空間3での電界強度を保ったま
ま、面放電での電流密度を抑えることが可能となる。す
なわち、放電を維持するための電圧を低くすることと、
高い発光効率を得ることとを両立させることができ、ひ
いてはプラズマディスプレイパネルの表示品位を向上さ
せることできる。これらの効果は、下記の知見に基づい
ている。
【0027】まず、第1に、誘電体層13aの、放電維
持電極12a,15aに対応する部分を厚くすると、誘
電体層13aにより電流密度が制限され、プラズマディ
スプレイパネルの発光効率が向上する。
【0028】第2に、誘電体層13aを厚くすると、放
電空間3で放電を維持するために放電維持電極12a,
15aに印加する電圧が上昇し、プラズマディスプレイ
パネルの駆動が困難になる。
【0029】第3に、放電空間3に充填する放電ガスと
して、HeやNeなどの希ガスを主成分とするものを用
いた場合、蛍光体を励起させるのに利用される紫外光を
発生するガスの組成比が増加すると発光効率が向上す
る。
【0030】第4に、放電空間3に充填する放電ガスと
して、HeやNeなどの希ガスを主成分とするものを用
いた場合、蛍光体を励起させるのに利用される紫外光を
発生するガスの組成比が増加すると、放電空間3で放電
を維持するための電圧が上昇する。これにより、プラズ
マディスプレイパネルの駆動が困難になる。
【0031】第5に、放電空間3の、放電維持電極12
aと15aとの間の部分に近い部分に強い電界を発生さ
せれば、放電を維持するための電圧値を実用的な範囲に
抑制することができる。これは、放電維持電極12a,
15aの、突出部分を除く部分の上の誘電体層13aが
厚い場合でも、あるいは放電ガスの、紫外光を発生する
成分の組成比が高い場合でも可能となる。
【0032】次に、本実施形態のプラズマディスプレイ
パネルの製造方法について説明する。最初に、第1の基
板1aの製造方法について、図2および図3を参照して
説明する。図2および図3は、第1の基板1aの製造方
法について説明するための図である。
【0033】まず、図2(a)において、第1のガラス
基板11aの表面の所定の位置に、低融点ガラスを主成
分とする誘電体ペーストをスクリーン印刷法により塗布
して誘電体ペーストをパターニングする。塗布された誘
電体ペーストを焼成することにより、第1のガラス基板
11aの表面から突出する突出用誘電体層16aを形成
する。
【0034】ここで、突出用誘電体層16aの一端部
が、放電維持電極12aの放電維持電極15a側の端部
に対応する位置に配置され、突出用誘電体層16aの他
端部が、放電維持電極15aの放電維持電極12a側の
端部に対応する位置に配置されるように突出用誘電体層
16aを形成する。
【0035】突出用誘電体層16aを形成する別の方法
としては、第1のガラス基板11aの表面全体に低融点
ガラス層を形成し、低融点ガラス層の不要な部分をエッ
チングにより除去して突出用誘電体層16aを形成して
もよい。
【0036】さらに、第1のガラス基板11aの表面に
突出用誘電体層16aを形成する別の方法としては、ま
ず、第1のガラス基板11aの表面全体に低融点ガラス
層を形成する。次に、その低融点ガラス層の表面に感光
性樹脂を形成した後、その感光性樹脂をパターニングす
る。次に、パターニングされた感光性樹脂をマスクにし
てサンドブラスト法により低融点ガラス層の不要な部分
を除去し、低融点ガラス層をパターニングする。そし
て、第1のガラス基板11a上の低融点ガラス層を焼成
して突出用誘電体層16aを形成する。
【0037】さらに、突出用誘電体層16aを形成する
別の方法としては、まず、第1のガラス基板11aの表
面全体に感光性樹脂層を形成する。次に、感光性樹脂層
に、突出用誘電体層16aに対応する形状の開口部をネ
ガパターンとして形成する。次に、その感光性樹脂の開
口部に誘電体ペーストを充填した後に感光性樹脂を除去
する。そして、第1のガラス基板11a上の誘電体ペー
ストを焼成して突出用誘電体層16aを形成する。
【0038】さらに、突出用誘電体層16aを形成する
別の方法として、まず、第1のガラス基板11aの表面
全体に感光性の誘電体ペーストを形成する。そして、第
1のガラス基板11a上の感光性の誘電体ペーストをパ
ターニングして突出用誘電体層16aを形成する。
【0039】突出用誘電体層16aの主成分である低融
点ガラスの軟化点は、後述するように誘電体層13aを
形成する際に用いられる低融点ガラスペーストの軟化点
より高くなっている。これにより、誘電体層13aを形
成する際に突出用誘電体層16aの形状を維持すること
ができる。また、突出用誘電体層16aの誘電率が誘電
体層13aの誘電率よりも低いことが、プラズマディス
プレイパネルを駆動する上で有効である。
【0040】次に、図2(b)に示すように、突出用誘
電体層16aの表面、および第1のガラス基板11aの
表面の全体に透明導電体膜91aを積層する。
【0041】次に、図2(c)に示すように、透明導電
体膜91aの表面全体に感光性樹脂層92aを積層す
る。
【0042】次に、図2(d)に示すように、感光性樹
脂層92aをパターニングするために、感光性樹脂層9
2aの表面にマスク93aを介して紫外線94aを照射
する。マスク93aには、図1に示した放電維持電極1
2a,15aに対応する形状の開口部が形成されてい
る。これにより、感光性樹脂層92aの、放電維持電極
12a,15aに対応する部分に紫外線94aが照射さ
れる。
【0043】次に、図2(e)に示すように、感光性樹
脂層92aの、紫外線94aが照射されなかった部分、
すなわち放電維持電極12a,15aに対応する部分を
除く部分を除去して透明導電体膜91aを露出させる。
【0044】次に、図3(a)において、透明導電体膜
91aの露出した部分をエッチングにより除去し、放電
維持電極12a,15aを形成する。ここで、プラズマ
ディスプレイパネルが大画面ディスプレイ用である場
合、透明導電体膜からなる放電維持電極12a,15a
の抵抗値は著しく大きくなる。従って、放電維持電極1
2a,15aの抵抗値が大きくなる対策として、一対の
放電維持電極12a,15aからできるだけ離れた位置
にトレース電極を形成してもよい。
【0045】このように放電維持電極12a,15aを
形成することにより、突出用誘電体層16aの一端部の
面上に放電維持電極12aの放電維持電極15a側の端
部が配置され、突出用誘電体層16aの他端部の面上に
放電維持電極15aの放電維持電極12a側の端部が配
置される。
【0046】次に、図3(b)に示すように、第1のガ
ラス基板11a上の感光性樹脂層92aを全て除去す
る。
【0047】次に、図3(c)において、放電維持電極
12a,15a、突出用誘電体層16aや第1のガラス
基板11aのそれぞれの表面に、低融点ガラスからなる
誘電体ペーストをスクリーン印刷法により塗布する。塗
布された誘電体ガラスペーストを焼成して誘電体層13
aを形成する。ここで、誘電体層13aの、突出用誘電
体層16aに対応する部分の表面は、第1のガラス基板
11a側と反対側の方向に膨らんでいる。
【0048】次に、図3(d)に示すように、誘電体層
13aの表面を研磨することにより、誘電体層13aの
表面をほぼ平坦にする。これにより、誘電体層13a
の、突出用誘電体層16aに対応する部分の厚さが、誘
電体層13aの他の部分の厚さよりも小さくなる。
【0049】誘電体13aを形成する際に、放電維持電
極12a,15a、突出用誘電体層16aや第1のガラ
ス基板11aのそれぞれの表面に、表面が平坦な誘電体
ペーストを形成し、その誘電体ペーストを焼成して、表
面が平坦な誘電体層13aを形成してもよい。
【0050】最後に、図3(e)に示すように、誘電体
層13aの表面に酸化マグネシウム層14aを形成して
第1の基板1aが製造される。
【0051】さらに、第1の基板1aの別の製造方法に
ついて図4および図5を参照して説明する。図4および
図5を参照して説明する製造方法は、図2および図3に
基づいて説明した製造方法と比較して、放電維持電極1
2a,15aを形成する方法が異なっている。
【0052】まず、図4(a)に示すように、第1のガ
ラス基板11aの表面の所定の位置に突出用誘電体層1
6aを形成する。
【0053】次に、図4(b)に示すように、突出用誘
電体層16aの表面、および第1のガラス基板11aの
表面に感光性樹脂層92bを積層する。
【0054】次に、図4(c)に示すように、感光性樹
脂層92bの表面に、マスク93bを介して紫外線94
bを照射する。マスク93bの、図1に示した放電維持
電極12a,15aに対応する部分以外の部分には開口
部が形成されている。これにより、感光性樹脂層92b
の、放電維持電極12a,15aに対応する部分以外の
部分に紫外線94bが照射される。
【0055】次に、図4(d)に示すように、感光性樹
脂層92bの、紫外線94bが照射されなかった部分を
除去する。これにより、突出用誘電体層16aおよび第
1のガラス基板11aのそれぞれの表面の、放電維持電
極12a,15aに対応する部分を露出させる。従っ
て、感光性樹脂層92bには、放電維持電極12a,1
5aに対応する形状の開口部が形成される。
【0056】次に、図5(a)に示すように、感光性樹
脂層92bの表面や開口部全体に透明導電体膜91bを
積層する。これにより、突出用誘電体層16aおよび第
1のガラス基板11aの、露出したそれぞれの部分に透
明導電体膜91bが形成される。感光性樹脂層92b
の、放電維持電極12aに対応する開口部に形成された
透明導電体膜91bが放電維持電極12aとなり、感光
性樹脂層92bの、放電維持電極15aに対応する開口
部に形成された透明導電体膜91bが放電維持電極15
aとなる。
【0057】次に、図5(b)に示すように、感光性樹
脂層92bおよび、感光性樹脂層92bの表面に形成さ
れた透明導電体膜91bを除去する。
【0058】このように放電維持電極12a,15aを
形成する際に、感光性樹脂層92bの開口部に形成され
た透明導電体膜91bを第1のガラス基板11a上に残
す方法、いわゆるリフトオフ法を用いてもよい。
【0059】次に、図5(c)において、放電維持電極
12a,15a、突出用誘電体層16a、第1のガラス
基板11aのそれぞれの表面に、低融点ガラスペースト
をスクリーン印刷法により塗布する。塗布された低融点
ガラスペーストを焼成して誘電体層13aを形成する。
【0060】次に、図5(d)に示すように、誘電体層
13aの表面をほぼ平坦にする。これにより、誘電体層
13aの、突出用誘電体層16aに対応する部分の厚さ
が、誘電体層13aのその他の厚さよりも小さくなる。
【0061】最後に、図5(e)に示すように、誘電体
層13aの表面に酸化マグネシウム層14aを形成して
第1の基板1aが製造される。
【0062】次に、図1に示した第2の基板2を製造す
る方法について説明する。
【0063】まず、第2のガラス基板21の表面に、放
電維持電極12a,15aと直行する帯状の選択電極2
2を複数形成する。選択電極22および第2のガラス基
板21の表面に、選択電極22を覆う誘電体層23を形
成する。誘電体層23の表面に、図1に示した複数の放
電空間3を設けるための隔壁25を部分的に形成する。
誘電体層23の表面や、隔壁25の側面にペースト状の
蛍光体を塗布し、塗布されたペースト状の蛍光体を焼成
して蛍光体24を形成する。このような工程を経て、第
2の基板2が製造される。
【0064】そして、上述した方法により製造された第
1の基板1aと第2の基板2とを向かい合わせて接合す
る。次に、第1の基板1aと第2の基板2とを接合して
成るものを真空状態の部屋に置くなどして、第1の基板
1aと第2の基板2との間の放電空間3内の気体を放電
空間3の外部に排出する。その後、放電空間3の内部
に、キセノンなどの希ガスを混合した放電ガスを充填
し、図1に示したプラズマディスプレイパネルが製造さ
れる。
【0065】上述した図2および図3に基づいて説明し
たプラズマディスプレイパネルの製造方法、または図4
および図5に基づいて説明したプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法を用いることにより、消費電力が低く、
かつ表示品位が良好なプラズマディスプレイパネルを容
易に製造することができる。
【0066】(第2の実施の形態)図6は、本発明の第
2の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図で
ある。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、第
1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異な
っている。図6では、第1の実施形態と同一の構成部品
に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施形態
と異なる点を中心に説明する。
【0067】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図6に示すように、第1のガラス基板11bの表
面に、突出部である凸部17a,17bがそれぞれ部分
的に形成されている。従って、第1のガラス基板11b
の、凸部17a,17bに対応する部分が、第1のガラ
ス基板11bの他の部分よりも厚くなっている。凸部1
7aと17bとは互いに所定の間隔をおいて配置されて
いる。この第1のガラス基板11bの表面に、第1の電
極である放電維持電極12b、および第2の電極である
放電維持電極15bが形成されている。放電維持電極1
2bと15bとは互いに所定の距離をおいて配置され、
放電維持電極12bと15bとが対になっている。放電
維持電極12bの放電維持電極15b側の端部は凸部1
7aの面上に配置され、放電維持電極15bの放電維持
電極12b側の端部は凸部17bの面上に配置されてい
る。
【0068】放電維持電極12b,15bの表面、およ
び第1のガラス基板11bの表面には、放電維持電極1
2b,15bを覆う誘電体層13bが形成されている。
誘電体層13bの表面は平坦になっている。誘電体層1
3bの表面には、誘電体層13bを保護するための層と
して酸化マグネシウム層14bが形成されている。第1
のガラス基板11b、放電維持電極12b,15b、誘
電体層13bおよび酸化マグネシウム層14bから第1
の基板1bが構成されている。
【0069】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、放電維持電極12bの、凸部17aに対応する部分
が第2の基板2に向かって突出している。また、放電維
持電極15bの、凸部17bに対応する部分が第2の基
板2に向かって突出している。これにより、誘電体層1
3bの、放電維持電極12bの突出部分、および放電維
持電極15bの突出部分に対応する部分の厚さが、誘電
体層13bの他の部位の厚さよりも小さくなっている。
【0070】第1のガラス基板11bの表面に凸部17
a,17bを形成する方法としては、表面が平坦な第1
のガラス基板11bを準備し、第1のガラス基板11b
の、凸部17a,17bを形成する部分を除く部分をエ
ッチングする。
【0071】(第3の実施の形態)図7は、本発明の第
3の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図で
ある。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、第
1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異な
っている。図7では、第1の実施形態と同一の構成部品
に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施形態
と異なる点を中心に説明する。
【0072】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図7に示すように、第1のガラス基板11cの表
面に、突出部である突出用誘電体層16b,16cがそ
れぞれ部分的に形成されている。突出用誘電体層16b
と16cとは互いに所定の間隔をおいて配置されてい
る。第1のガラス基板11cおよび突出用誘電体層16
bの表面に、第1の電極である放電維持電極12cが形
成され、第1のガラス基板11cおよび突出用誘電体層
16cの表面に第2の電極である放電維持電極15cが
形成されている。放電維持電極12cと15cとは互い
に所定の距離をおいて配置され、放電維持電極12cと
15cとが対なっている。放電維持電極12cの放電維
持電極15c側の端部が突出用誘電体層16bの表面に
形成され、放電維持電極15cの放電維持電極12c側
の端部が突出用誘電体層16cの表面に形成されてい
る。
【0073】従って、第1のガラス基板11cにおける
放電維持電極12cの放電維持電極15c側の端部に対
応する部分の表面と、その部分の周囲とに突出用誘電体
層16bが形成されている。また、第1のガラス基板1
1cにおける放電維持電極15cの放電維持電極12c
側の端部に対応する部分の表面と、その部分の周囲の表
面とに突出用誘電体層16cが形成されている。
【0074】放電維持電極12c,15c、第1のガラ
ス基板11cや、突出用誘電体層16b,16cのそれ
ぞれの表面には、放電維持電極12b,15bおよび突
出用誘電体層16b,16cを覆う誘電体層13cが形
成されている。誘電体層13cの表面は平坦になってい
る。誘電体層13cの表面には、誘電体層13cを保護
するための層として酸化マグネシウム層14cが形成さ
れている。第1のガラス基板11c、突出用誘電体層1
6b,16c、放電維持電極12c,15c、誘電体層
13cおよび酸化マグネシウム層14cから第1の基板
1cが構成されている。
【0075】このようなプラズマディスプレイパネルで
は、放電維持電極12cの、突出用誘電体層16bに対
応する部分が第2の基板2に向かって突出している。ま
た、放電維持電極15cの、突出用誘電体層16cに対
応する部分が第2の基板2に向かって突出している。こ
れにより、誘電体層13cの、放電維持電極12cの突
出部分、および放電維持電極15cの突出部分に対応す
る部分の厚さが、誘電体層13cの他の部位の厚さより
も小さくなっている。
【0076】(第4の実施の形態)図8は、本発明の第
4の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図で
ある。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、第
1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異な
っている。図8では、第1の実施形態と同一の構成部品
に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施形態
と異なる点を中心に説明する。
【0077】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図8に示すように、第1のガラス基板11dの表
面に、突出部である凸部17cが部分的に形成されてい
る。第1のガラス基板11dの表面には、第1の電極で
ある放電維持電極12d、および第2の電極である放電
維持電極15dが形成されている。放電維持電極12d
と15dとは所定の距離をおいて配置され、放電維持電
極12dと15dとが対になっている。ここで、放電維
持電極12dの放電維持電極15d側の端部が凸部17
cの一方の端部の表面に形成され、放電維持電極15d
の放電維持電極12d側の端部が凸部17cの他方の端
部の表面に形成されている。
【0078】放電維持電極12d,15dの表面、およ
び第1のガラス基板11dの表面に、放電維持電極12
d,15dを覆う誘電体層13dが形成されている。誘
電体層13dの表面は平坦になっている。誘電体層13
dの表面には、誘電体層13dを保護するための層とし
て酸化マグネシウム層14dが形成されている。第1の
ガラス基板11d、放電維持電極12d,15d、誘電
体層13dおよび酸化マグネシウム層14dから第1の
基板1dが構成されている。
【0079】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
のように、第1のガラス基板11dの、放電維持電極1
2dと15dとの間の部分や放電維持電極12d,15
dのそれぞれの端部に対応する部分に1つの凸部17c
を形成してもよい。このようなプラズマディスプレイパ
ネルでは、放電維持電極12dの、凸部17cに対応す
る部分が第2の基板2に向かって突出している。また、
放電維持電極15dの、凸部17cに対応する部分が第
2の基板2に向かって突出している。これにより、誘電
体層13dの、放電維持電極12dの突出部分、および
放電維持電極15dの突出部分に対応する部分の厚さ
が、誘電体層13dの他の部位の厚さよりも小さくなっ
ている。
【0080】(第5の実施の形態)図9は、本発明の第
5の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図で
ある。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、第
1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異な
っている。図9では、第1の実施形態と同一の構成部品
に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施形態
と異なる点を中心に説明する。
【0081】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図9に示すように、第1のガラス基板11dの表
面に、突出部である突出用誘電体層16eが部分的に形
成されている。突出用誘電体層16eの中央部の厚さ
は、突出用誘電体層16eの一端部および他端部のそれ
ぞれの最も厚い部分の厚さよりも小さくなっている。こ
の突出用誘電体層16eおよび第1のガラス基板11e
の表面に、第1の電極である放電維持電極12e、およ
び第2の電極である放電維持電極15eが形成されてい
る。放電維持電極12eと15eとは所定の距離をおい
て配置され、放電維持電極12eと15eとが対になっ
ている。ここで、放電維持電極12eの放電維持電極1
5e側の端部が突出用誘電体層16eの一方の端部の表
面に形成され、放電維持電極15dの放電維持電極12
d側の端部が突出用誘電体層16eの他方の端部の表面
に形成されている。
【0082】放電維持電極12e,15e、突出用誘電
体層16eおよび第1のガラス基板11eのそれぞれの
表面に、放電維持電極12e,15eを覆う誘電体層1
3eが形成されている。誘電体層13eの表面は平坦に
なっている。誘電体層13eの表面には、誘電体層13
eを保護するための層として酸化マグネシウム層14e
が形成されている。第1のガラス基板11e、突出用誘
電体層16e、放電維持電極12e,15e、誘電体層
13eおよび酸化マグネシウム層14eから第1の基板
1eが構成されている。
【0083】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
のように、突出用誘電体層16eの、放電維持電極12
eと15eとの間のギャップ領域に対応する部分の厚さ
を、突出用誘電体層16eの端部の最も厚い部分の厚さ
よりも小さくてもよい。このようなプラズマディスプレ
イパネルでも、放電維持電極12eの、突出用誘電体層
16eに対応する部分が第2の基板2に向かって突出し
ている。また、放電維持電極15eの、突出用誘電体層
16eに対応する部分が第2の基板2に向かって突出し
ている。これにより、誘電体層13eの、放電維持電極
12eの突出部分、および放電維持電極15eの突出部
分に対応する部分の厚さが、誘電体層13eの他の部位
の厚さよりも小さくなっている。
【0084】(第6の実施の形態)図10は、本発明の
第6の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図
である。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、
第1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異
なっている。図10では、第1の実施形態と同一の構成
部品に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施
形態と異なる点を中心に説明する。
【0085】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図10に示すように、第1のガラス基板11fの
表面に、突出部である突出用誘電体層16fが部分的に
形成されている。この突出用誘電体層16eの表面に、
第1の電極である放電維持電極12f、および第2の電
極である放電維持電極15fが形成されている。放電維
持電極12fと15fとは互いに所定の距離をおいて配
置され、放電維持電極12fと15fとが対になってい
る。
【0086】突出用誘電体層16fの厚さは、放電維持
電極12fと15fとの間のギャップ領域に対応する部
分が最も厚くなっている。突出用誘電体層16fの、前
記ギャップ領域に対応する部分から突出用誘電体層16
fの両端のそれぞれに近づくに従って突出用誘電体層1
6fの厚さが徐々に小さくなっている。
【0087】放電維持電極12f,15f、突出用誘電
体層16fおよび第1のガラス基板11fのそれぞれの
表面に、放電維持電極12f,15fを覆う誘電体層1
3fが形成されている。誘電体層13fの表面は平坦に
なっている。誘電体層13fの表面には、誘電体層13
fを保護するための層として酸化マグネシウム層14f
が形成されている。第1のガラス基板11f、突出用誘
電体層16f、放電維持電極12f,15f、誘電体層
13fおよび酸化マグネシウム層14fから第1の基板
1fが構成されている。
【0088】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
のように、放電維持電極12fの放電維持電極15f側
の端部、および放電維持電極15fの放電維持電極12
f側の端部が第2の基板2側に向かって突出するよう
に、第1のガラス基板11fの、放電維持電極12f,
15fや、放電維持電極12fと15fとの間のギャッ
プ領域に対応する部分全体の表面に突出用誘電体層16
fを形成してもよい。これにより、誘電体層13fの、
放電維持電極12fの放電維持電極15f側の部分、お
よび放電維持電極15fの放電維持電極12f側の部分
に対応する部分の厚さが、誘電体層13fの他の部位の
厚さよりも小さくなっている。
【0089】上記の第2〜第6の実施形態におけるそれ
ぞれのプラズマディスプレイパネルでは、第1の電極の
第2の電極側の端部や、第2の電極の第1の電極側の端
部が突出し、それらの第1および第2の電極が、表面が
平坦な誘電体層で覆われている。これにより、誘電体層
の、第1の電極の第2の電極側の端部や、第2の電極の
第1の電極側の端部に対応する部分の厚さが誘電体層の
その他の厚さよりも小さくなっている。これらのプラズ
マディスプレイパネルでは、放電を維持するための電圧
を低く抑えつつ、高い発光効率を得ることができる。そ
の結果、消費電力が低く、かつ、表示品位が良好なプラ
ズマディスプレイパネルが得られる。
【0090】(第7の実施の形態)図11は、本発明の
第7の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図
である。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、
第1の実施形態のものと比較して第1の基板の一部が異
なっている。図11では、第1の実施形態と同一の構成
部品に同一の符号を付してあり、以下では、第1の実施
形態と異なる点を中心に説明する。
【0091】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図11に示すように、第1のガラス基板11gの
表面に、第1の電極である放電維持電極12g、および
第2の電極である放電維持電極15gが形成されてい
る。放電維持電極12gと15gとは所定の距離をおい
て配置され、放電維持電極12gと15gとが対になっ
ている。放電維持電極12g,15gおよび第1のガラ
ス基板11gの表面には、放電維持電極12g,15g
を覆う誘電体層13gが形成されている。誘電体層13
gの、放電維持電極12gと15gとの間のギャップ領
域や、そのギャップ領域の周囲に対応する部分には凹部
19gが形成されている。凹部19gの深さは、放電維
持電極12gと15gとのほぼ中間の位置で最も深くな
っている。凹部19gの、放電維持電極12gと15g
との中間の位置から放電維持電極12g,15gのそれ
ぞれの側に向かって凹部19gの深さが徐々に浅くなっ
ている。
【0092】誘電体層13gの表面には、誘電体層13
gを保護するための層として酸化マグネシウム層14g
が形成されている。酸化マグネシウム層14gの厚さは
ほぼ均一となっている。第1のガラス基板11g、放電
維持電極12g,15g、誘電体層13gおよび酸化マ
グネシウム層14gから第1の基板1gが構成されてい
る。
【0093】次に、図11に示した第1の基板1gの製
造方法について図12を参照して説明する。図12は、
図11に示した第1の基板1gの製造方法について説明
するための図である。
【0094】まず、図12(a)に示すように、第1の
ガラス基板11gの表面に放電維持電極12g,15g
を形成する。
【0095】次に、図12(b)に示すように、放電維
持電極12g,15gおよび第1のガラス基板11aの
表面に誘電体ペースト31を積層する。
【0096】次に、図12(c)に示すように、誘電体
ペースト31の表面に、図11に示した凹部19gに対
応する部分を除いて、誘電体ペースト32を形成する。
従って、誘電体ペースト32には、凹部19gを形成す
るための開口部が形成されている。
【0097】次に、図12(d)に示すように、誘電体
ペースト32の表面に、凹部19gに対応する部分を除
いて、誘電体ペースト33を形成する。従って、誘電体
ペースト33にも、凹部19gを形成するための開口部
が形成されており、誘電体ペースト33の開口部の幅が
誘電体ペースト32の開口部の幅よりも大きくなってい
る。
【0098】次に、図12(e)に示すように、誘電体
ペースト31,32,33を焼成して、誘電体ペースト
31,32,33からなる、凹部19gを有する誘電体
層13gを形成する。
【0099】次に、図12(f)に示すように、誘電体
層13gの表面に酸化マグネシウム層14hを形成し
て、第1の基板1gが製造される。
【0100】第1のガラス基板11g上の誘電体層の表
面に凹部を形成する別の方法としてプレス成形を用いて
もよい。
【0101】(第8の実施の形態)図13は、本発明の
第8の実施形態のプラズマディスプレイパネルの断面図
である。本実施形態のプラズマディスプレイパネルは、
第7の実施形態のものと比較して、第1の基板に形成さ
れる誘電体層が異なっている。図13では、第7の実施
形態と同一の構成部品に同一の符号を付してあり、以下
では、第1または第7の実施形態と異なる点を中心に説
明する。
【0102】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図13に示すように、第7の実施形態と同様に、
第1のガラス基板11gの表面に放電維持電極12g,
15gが形成されている。放電維持電極12g,15g
および第1のガラス基板11gの表面には、放電維持電
極12g,15gを覆う誘電体層13hが形成されてい
る。誘電体層13hの、放電維持電極12gと15gと
の間のギャップ領域や放電維持電極12g,15gに対
応する部分には凹部19hが形成されている。凹部19
hの深さは、放電維持電極12gと15gとのほぼ中間
の位置で最も深くなっている。そして、凹部19hの、
放電維持電極12gと15gとの中間の位置から放電維
持電極12g,15gのそれぞれの側に向かって凹部1
9hの深さが徐々に浅くなっている。
【0103】誘電体層13hの表面には、誘電体層13
hを保護するための層として酸化マグネシウム層14h
が形成されている。酸化マグネシウム層14hの厚さは
ほぼ均一となっている。第1のガラス基板11g、放電
維持電極12g,15g、誘電体層13hおよび酸化マ
グネシウム層14hから第1の基板1hが構成されてい
る。
【0104】上述した第7および第8の実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルでは、第1のガラス基板11g
上の誘電体層の、放電維持電極12gと15gとの間の
ギャップ領域や、そのギャップ領域の周囲に対応する部
分における第2基板2側の面に凹部が形成されている。
これにより、誘電体層の、放電維持電極12gの放電維
持電極15g側の端部や、放電維持電極15gの放電維
持電極12g側の端部に対応する部分の厚さが、誘電体
層のその他の部分の厚さよりも小さくなっている。従っ
て、このようなプラズマディスプレイパネルにおいて
も、第1〜第6の実施形態のそれぞれのものと同様に、
放電を維持するための電圧を低く抑えつつ、高い発光効
率を得ることができる。その結果、プラズマディスプレ
イパネルの消費電力が低くなると共に、プラズマディス
プレイパネルの良好な表示品位が得られる。
【0105】(第9の実施の形態)図14は、本発明の
第9の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用いら
れる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラズマ
ディスプレイパネルは、第1と第7の実施形態のそれぞ
れのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するもので
ある。図14では、第1の実施形態と同一の構成部品に
同一の符号を付してある。
【0106】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図14に示す第1の基板1iが用いられる。図1
4に示すように第1の基板1iでは、第1のガラス基板
11aの表面に、第1の実施形態と同様に突出用誘電体
層16aが部分的に形成されている。また、突出用誘電
体層16aおよび第1のガラス基板11aの表面には放
電維持電極12a,15aが形成されている。従って、
第1の実施形態のプラズマディスプレイパネルと同様
に、放電維持電極12aの放電維持電極15a側の端
部、および放電維持電極15aの放電維持電極12a側
の端部が放電空間側に向かって突出している。
【0107】放電維持電極12a,15a、突出用誘電
体層16aおよび第1のガラス基板11aの表面には誘
電体層13iが形成されている。誘電体層13iの、放
電維持電極12aと15aとの間のギャップ領域や、そ
のギャップ領域の周囲に対応する部分の表面には凹部1
9iが形成されている。凹部19iの深さは、放電維持
電極12aと15aとのほぼ中間の位置で最も深くなっ
ている。凹部19iの、放電維持電極12aと15aと
の中間の位置から放電維持電極12a,15aのそれぞ
れの側に向かって凹部19iの深さが徐々に浅くなって
いる。誘電体層13i表面の、凹部19iを除く部分は
ほぼ平坦になっている。誘電体層13iの表面には、誘
電体層13iを保護するための層として酸化マグネシウ
ム層14iが形成されている。酸化マグネシウム層14
iの厚さはほぼ均一になっている。
【0108】(第10の実施の形態)図15は、本発明
の第10の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第2と第7の実施形態のそ
れぞれのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するも
のである。図15では、第2の実施形態と同一の構成部
品に同一の符号を付してある。
【0109】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図15に示す第1の基板1jが用いられる。図1
5に示すように第1の基板1jでは、第1のガラス基板
11bの表面に、第2の実施形態と同様に凸部17a,
17bがそれぞれ部分的に形成されている。第1のガラ
ス基板11bの表面には、互いに所定の距離をおいて配
置される放電維持電極12b,15bが形成されてい
る。放電維持電極12bの放電維持電極15b側の端部
は凸部17aの面上に配置され、放電維持電極15bの
放電維持電極12b側の端部は凸部17bの面上に配置
されている。従って、放電維持電極12bの放電維持電
極15b側の端部、および放電維持電極15bの放電維
持電極12b側の端部が放電空間側に向かって突出して
いる。
【0110】放電維持電極12b,15bおよび第1の
ガラス基板11bの表面には誘電体層13jが形成され
ている。誘電体層13jの、放電維持電極12bと15
bとの間のギャップ領域や、そのギャップ領域の周囲に
対応する部分の表面には凹部19jが形成されている。
凹部19jの深さは、放電維持電極12bと15bとの
ほぼ中間の位置で最も深くなっている。凹部19jの、
放電維持電極12bと15bとの中間の位置から放電維
持電極12b,15bのそれぞれの側に向かって凹部1
9jの深さが徐々に浅くなっている。誘電体層13j表
面の、凹部19jを除く部分はほぼ平坦になっている。
誘電体層13jの表面には、誘電体層13jを保護する
ための層として酸化マグネシウム層14jが形成されて
いる。酸化マグネシウム層14jの厚さはほぼ均一にな
っている。
【0111】(第11の実施の形態)図16は、本発明
の第11の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第3と第7の実施形態のそ
れぞれのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するも
のである。図16では、第3の実施形態と同一の構成部
品に同一の符号を付してある。
【0112】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図16に示す第1の基板1kが用いられる。図1
6に示すように第1の基板1kでは、第1のガラス基板
11cの表面に、第3の実施形態と同様に突出用誘電体
層16b,16cがそれぞれ部分的に形成されている。
第1のガラス基板11cや、突出用誘電体層16b,1
6cのそれぞれの表面には、互いに所定の距離をおいて
配置される放電維持電極12c,15cが形成されてい
る。放電維持電極12cの放電維持電極15c側の端部
は突出用誘電体層16bの面上に配置され、放電維持電
極15cの放電維持電極12c側の端部は突出用誘電体
層16cの面上に配置されている。従って、放電維持電
極12cの放電維持電極15c側の端部、および放電維
持電極15cの放電維持電極12c側の端部が放電空間
側に向かって突出している。
【0113】放電維持電極12c,15c、突出用誘電
体層16b,16cおよび第1のガラス基板11cの表
面には誘電体層13kが形成されている。誘電体層13
kの、放電維持電極12cと15cとの間のギャップ領
域や、そのギャップ領域の周囲に対応する部分の表面に
は凹部19kが形成されている。凹部19kの深さは、
放電維持電極12cと15cとのほぼ中間の位置で最も
深くなっている。凹部19kの、放電維持電極12cと
15cとの中間の位置から放電維持電極12c,15c
のそれぞれの側に向かって凹部19kの深さが徐々に浅
くなっている。誘電体層13k表面の、凹部19kを除
く部分はほぼ平坦になっている。誘電体層13kの表面
には、誘電体層13kを保護するための層として酸化マ
グネシウム層14kが形成されている。酸化マグネシウ
ム層14kの厚さはほぼ均一になっている。
【0114】(第12の実施の形態)図17は、本発明
の第12の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第4と第7の実施形態のそ
れぞれのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するも
のである。図17では、第4の実施形態と同一の構成部
品に同一の符号を付してある。
【0115】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図17に示す第1の基板1lが用いられる。図1
7に示すように第1の基板1lでは、第1のガラス基板
11dの表面に、第4の実施形態と同様に凸部17cが
形成されている。第1のガラス基板11dの表面には、
互いに所定の距離をおいて配置される放電維持電極12
d,15dが形成されている。放電維持電極12dの放
電維持電極15d側の端部は凸部17cの一端部の面上
に配置され、放電維持電極15dの放電維持電極12d
側の端部は凸部17cの他端部の面上に配置されてい
る。従って、放電維持電極12dの放電維持電極15d
側の端部、および放電維持電極15dの放電維持電極1
2d側の端部が放電空間側に向かって突出している。
【0116】放電維持電極12d,15dおよび第1の
ガラス基板11dの表面には誘電体層13lが形成され
ている。誘電体層13lの、放電維持電極12dと15
dとの間のギャップ領域や、そのギャップ領域の周囲に
対応する部分の表面には凹部19lが形成されている。
凹部19lの深さは、放電維持電極12dと15dとの
ほぼ中間の位置で最も深くなっている。凹部19lの、
放電維持電極12dと15dとの中間の位置から放電維
持電極12d,15dのそれぞれの側に向かって凹部1
9lの深さが徐々に浅くなっている。誘電体層13l表
面の、凹部19lを除く部分はほぼ平坦になっている。
誘電体層13lの表面には、誘電体層13lを保護する
ための層として酸化マグネシウム層14lが形成されて
いる。酸化マグネシウム層14lの厚さはほぼ均一にな
っている。
【0117】(第13の実施の形態)図18は、本発明
の第13の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第5と第7の実施形態のそ
れぞれのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するも
のである。図18では、第5の実施形態と同一の構成部
品に同一の符号を付してある。
【0118】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図18に示す第1の基板1mが用いられる。図1
8に示すように第1の基板1mでは、第1のガラス基板
11eの表面に、第5の実施形態と同様に突出用誘電体
層16eが形成されている。第1のガラス基板11eお
よび突出用誘電体層16eの表面には、互いに所定の距
離をおいて配置される放電維持電極12e,15eが部
分的に形成されている。放電維持電極12eの放電維持
電極15e側の端部は突出用誘電体層16e一端部の面
上に配置され、放電維持電極15eの放電維持電極12
e側の端部は突出用誘電体層16eの他端部の面上に配
置されている。従って、放電維持電極12eの放電維持
電極15e側の端部、および放電維持電極15eの放電
維持電極12e側の端部が放電空間側に向かって突出し
ている。
【0119】放電維持電極12e,15e、突出用誘電
体層16eおよび第1のガラス基板11eの表面には誘
電体層13mが形成されている。誘電体層13mの、放
電維持電極12eと15eとの間のギャップ領域や、そ
のギャップ領域の周囲に対応する部分の表面には凹部1
9mが形成されている。凹部19mの深さは、放電維持
電極12eと15eとのほぼ中間の位置で最も深くなっ
ている。凹部19mの、放電維持電極12eと15eと
の中間の位置から放電維持電極12e,15eのそれぞ
れの側に向かって凹部19mの深さが徐々に浅くなって
いる。誘電体層13m表面の、凹部19mを除く部分は
ほぼ平坦になっている。誘電体層13mの表面には、誘
電体層13mを保護するための層として酸化マグネシウ
ム層14mが形成されている。酸化マグネシウム層14
mの厚さはほぼ均一になっている。
【0120】(第14の実施の形態)図19は、本発明
の第14の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第6と第7の実施形態のそ
れぞれのプラズマディスプレイパネルの特徴を有するも
のである。図19では、第6の実施形態と同一の構成部
品に同一の符号を付してある。
【0121】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
には、図19に示す第1の基板1nが用いられる。図1
9に示すように第1の基板1nでは、第1のガラス基板
11fの表面に、第6の実施形態と同様に突出用誘電体
層16fが形成されている。突出用誘電体層16fの表
面には、互いに所定の距離をおいて配置される放電維持
電極12f,15fが形成されている。
【0122】放電維持電極12f,15f、突出用誘電
体層16fおよび第1のガラス基板11fの表面には誘
電体層13nが形成されている。誘電体層13nの、放
電維持電極12fと15fとの間のギャップ領域や、そ
のギャップ領域の周囲に対応する部分の表面には凹部1
9nが形成されている。凹部19nの深さは、放電維持
電極12fと15fとのほぼ中間の位置で最も深くなっ
ている。凹部19nの、放電維持電極12fと15fと
の中間の位置から放電維持電極12f,15fのそれぞ
れの側に向かって凹部19nの深さが徐々に浅くなって
いる。誘電体層13n表面の、凹部19nを除く部分は
ほぼ平坦になっている。誘電体層13nの表面には、誘
電体層13nを保護するための層として酸化マグネシウ
ム層14nが形成されている。酸化マグネシウム層14
nの厚さはほぼ均一になっている。
【0123】上述した第9〜14の実施形態のそれぞれ
のプラズマディスプレイパネルでは、第1の電極の第2
の電極側の端部および、第2の電極の第1の電極側の端
部が突出している。その上、第1および第2の電極を覆
う誘電体層の、第1と第2の電極の間や、第1および第
2の電極のそれぞれの突出部分に対応する部分における
放電空間側の表面に凹部が形成されている。これによ
り、誘電体層の、第1の電極の第2の電極側の端部や、
第2の電極の第1の電極側の端部に対応する部分の厚さ
が誘電体層のその他の厚さよりも小さくなっている。従
って、前述したのと同様に、消費電力が低く、かつ、表
示品位が良好なプラズマディスプレイパネルが得られ
る。
【0124】以上で説明した第1〜第14の実施形態の
それぞれのプラズマディスプレイパネルにおいて、放電
を維持するための電圧、および発光効率を測定してそれ
ぞれのプラズマディスプレイパネルを評価した。
【0125】図20は、第1の実施形態のプラズマディ
スプレイパネルに用いられた第1の基板1aの各部の寸
法について説明するための断面図である。図20に示す
ように、放電維持電極12a,15aの、放電維持電極
12a,15aが並ぶ方向におけるそれぞれの幅をLと
し、放電維持電極12aと15aとの間の距離、すなわ
ち放電ギャップをgとする。放電維持電極12a,15
aのそれぞれの突出部分の、放電維持電極12a,15
aが並ぶ方向におけるそれぞれの幅をL0とする。ま
た、誘電体層13aの、放電維持電極12a,15aお
よびギャップ領域に対応する部分のうち厚さが最も小さ
い部分の厚さをd0とする。ここでは、放電維持電極1
2a,15aの放電ギャップ側の端面における誘電体層
13aの厚さがd0となる。放電維持電極12a,15
aの突出部分を除く放電維持電極12a,15a上の誘
電体層13aの厚さをdとする。
【0126】放電ギャップg、幅L,L0、厚さd0,d
のそれぞれを種々変化させたプラズマディスプレイパネ
ルを作製し、プラズマディスプレイパネルの放電維持電
圧および発光効率を測定した。また、図28に示した従
来のプラズマディスプレイパネルと同様なものを作製し
て、図1に示したプラズマディスプレイパネルと比較し
た。
【0127】その結果、図1に示した第1の実施形態の
プラズマディスプレイパネルは、誘電体層13aの厚さ
dが同じ場合、厚さd以外の寸法を変化させても、従来
のものよりも放電維持電圧が低かった。また、放電ギャ
ップg、幅L、厚さd0,dのそれぞれを変化させると
共に、放電維持電圧が同じになるように誘電体層13a
の厚さd0を設定した場合、従来のものよりも高い発光
効率が得られた。発光効率が向上する効果は、誘電体層
13aの厚さd0と放電ギャップgとの比d0/gの値が
0.1以下の時に顕著にあらわれた。また、誘電体層1
3aの厚さd0とdとの比d0/dの値が0.7以下の時
に、発光効率が向上する効果が顕著にあらわれた。この
厚さd0とdとの比d0/dの値は0.5以下であること
が望ましい。さらに、放電維持電極12a,15aの突
出部分の幅L0と、放電維持電極12a,15aの幅L
との比L0/Lの値が0.5以下の時に、発光効率が向
上する効果が顕著にあらわれた。この幅L0とLとの比
0/Lの値は0.2以下であることが望ましい。
【0128】放電空間3内の放電ガスの構成成分のう
ち、蛍光体24を励起する主要な紫外光を発生する構成
成分としてXe、Kr、Arまたは窒素を用いた場合、
その紫外光を発生する構成成分の分圧が30Torr以
上で、その紫外光を発生する構成成分の、放電ガスにお
ける組成比率が6%以上である時に、上述した効果が顕
著にあらわれた。
【0129】第2〜第6の実施形態のそれぞれのプラズ
マディスプレイパネルにおいても、第1の実施形態のも
のの場合と同様に放電維持電圧および発光効率を測定し
てプラズマディスプレイパネルを評価した。その結果、
第2〜第6のそれぞれのプラズマディスプレイパネルの
場合でも、第1の実施形態のプラズマディスプレイパネ
ルの場合と同様な効果が得られた。
【0130】また、第7および第8の実施形態のプラズ
マディスプレイパネルにおいても、放電維持電圧および
発光効率を測定してプラズマディスプレイパネルを評価
した。図21は、図11に示した第1の基板1gの各部
の寸法について説明するための断面図である。
【0131】図21に示すように、放電維持電極12
g,15gの、放電維持電極12g,15gが並ぶ方向
におけるそれぞれの幅をLとし、放電維持電極12gと
15gとの間の距離、すなわち放電ギャップをgとす
る。放電維持電極12g,15gのそれぞれの突出部分
の、放電維持電極12g,15gが並ぶ方向におけるそ
れぞれの幅をL0とする。また、誘電体層13gの、放
電維持電極12g,15gおよびギャップ領域に対応す
る部分のうち厚さが最も小さい部分の厚さをd0とす
る。ここでは、放電維持電極12g,15gの放電ギャ
ップ側の端面における誘電体層13gの厚さがd0とな
る。放電維持電極12g,15gの突出部分を除く放電
維持電極12g,15g上の誘電体層13gの厚さをd
とする。
【0132】第7の実施形態のプラズマディスプレイパ
ネルにおいて、放電ギャップg、幅L,L0、厚さd0
dのそれぞれを種々変化させたプラズマディスプレイパ
ネルを作製し、プラズマディスプレイパネルの放電維持
電圧および発光効率を測定した。
【0133】その結果、第7の実施形態のプラズマディ
スプレイパネルにおいても、第1の実施形態のプラズマ
ディスプレイパネルを評価した場合と全く同様な効果が
得られた。また、誘電体層13gの厚さd0と放電ギャ
ップgとの比d0/gの値、厚さd0とdとの比d0/d
の値や、放電維持電極12g,15gに関する幅L0
Lとの比L0/Lの値に関しても、第1の実施形態のも
のを評価した場合と同様な結果が得られた。従って、厚
さd0とdとの比d0/dの値は0.5以下であることが
望ましく、また、幅L0とLとの比L0/Lの値は0.2
以下であることが望ましい。
【0134】さらに、第8の実施形態のプラズマディス
プレイパネルにおいても、第7の実施形態のものを評価
した場合と同様に、放電維持電極および発光効率を測定
してプラズマディスプレイパネルを評価した。その結
果、第7の実施形態のプラズマディスプレイパネルの場
合と同様な、上述した効果が得られた。従って、誘電体
層に凹部が形成されたプラズマディスプレイパネルにお
いても、第1〜第8の実施形態のそれぞれのプラズマデ
ィスプレイパネルのように放電維持電極の端部が放電空
間に向かって突出しているものと同様な効果が得られ
た。
【0135】さらに、第9〜第14の実施形態のそれぞ
れのプラズマディスプレイパネルにおいて、第1〜第8
の実施形態のそれぞれのものと同様に放電維持電圧およ
び発光効率を測定してプラズマディスプレイパネルを評
価した。その結果、放電維持電極の端部が放電空間に向
かって突出し、かつ、誘電体層に凹部が形成されたプラ
ズマディスプレイパネルにおいても、第1〜第8の実施
形態のもので得られた効果と同様な効果が得られた。
【0136】(第15の実施の形態)図22は、本発明
の第15の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第1の実施形態のものと比
較して、第1のガラス基板上の誘電体層を保護するため
の層が部分的に形成されている点が異なっている。図2
2では、第1の実施形態と同一の構成部品に同一の符号
を付してある。以下では、第1の実施形態と異なる点を
中心に説明する。
【0137】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図22に示すように、誘電体層13a上の酸化マ
グネシウム層14aが、放電維持電極12aと15aと
のギャップ領域、および放電維持電極12a,15aの
それぞれの突出部分に対応する部分のみに形成されてい
る。誘電体層13aの表面の、それ以外の部分には、酸
化マグネシウム層14gが形成されておらず、誘電体層
13aの、厚さが小さい部分に酸化マグネシウム層14
aが形成されている。
【0138】(第16の実施の形態)図23は、本発明
の第16の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第7の実施形態のものと比
較して、第1のガラス基板上の誘電体層を保護するため
の層が部分的に形成されている点が異なっている。図2
3では、第7の実施形態と同一の構成部品に同一の符号
を付してある。以下では、第7の実施形態と異なる点を
中心に説明する。
【0139】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図23に示すように、誘電体層13g上の酸化マ
グネシウム層14gが、凹部19gおよび、凹部19g
の近傍のみに形成されている。従って、誘電体層13g
の、厚さが小さい部分に酸化マグネシウム層14gが形
成されている。
【0140】(第17の実施の形態)図24は、本発明
の第17の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第9の実施形態のものと比
較して、第1のガラス基板上の誘電体層を保護するため
の層が部分的に形成されている点が異なっている。図2
4では、第9の実施形態と同一の構成部品に同一の符号
を付してある。以下では、第9の実施形態と異なる点を
中心に説明する。
【0141】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図24に示すように、誘電体層13i上の酸化マ
グネシウム層14iが、凹部19iおよび、凹部19i
の近傍のみに形成されている。従って、誘電体層13i
の、厚さが小さい部分に酸化マグネシウム層14iが形
成されている。
【0142】上述した第15〜第17の実施形態のそれ
ぞれのプラズマディスプレイパネルにおいて、第1〜第
8の実施形態のそれぞれのものと同様に放電維持電圧お
よび発光効率を測定してプラズマディスプレイパネルを
評価した。その結果、第1の基板上の誘電体層の、厚さ
が小さい部分のみに酸化マグネシウム層が形成されたプ
ラズマディスプレイパネルにおいても、第1〜第8の実
施形態のそれぞれのもので得られた効果と同様な効果が
得られた。
【0143】(第18の実施の形態)図25は、本発明
の第18の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第15の実施形態のものと
比較して、第1のガラス基板上の誘電体層の表面に蛍光
体が形成されている点が異なっている。図25では、第
15の実施形態と同一の構成部品に同一の符号を付して
ある。以下では、第15の実施形態と異なる点を中心に
説明する。
【0144】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図25に示すように、誘電体層13a表面の、酸
化マグネシウム層14aが形成されずに露出している部
分に蛍光体34aが形成されている。従って、誘電体層
13aの、厚さが小さい部分を除く部分の表面に蛍光体
34aが形成されている。
【0145】(第19の実施の形態)図26は、本発明
の第19の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第16の実施形態のものと
比較して、第1のガラス基板上の誘電体層の表面に蛍光
体が形成されている点が異なっている。図26では、第
16の実施形態と同一の構成部品に同一の符号を付して
ある。以下では、第16の実施形態と異なる点を中心に
説明する。
【0146】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図26に示すように、誘電体層13g表面の、酸
化マグネシウム層14gが形成されずに露出している部
分に蛍光体34gが形成されている。従って、誘電体層
13gの、厚さが小さい部分を除く部分の表面に蛍光体
34bが形成されている。
【0147】(第20の実施の形態)図27は、本発明
の第20の実施形態のプラズマディスプレイパネルに用
いられる第1の基板の断面図である。本実施形態のプラ
ズマディスプレイパネルは、第17の実施形態のものと
比較して、第1のガラス基板上の誘電体層の表面に蛍光
体が形成されている点が異なっている。図27では、第
17の実施形態と同一の構成部品に同一の符号を付して
ある。以下では、第17の実施形態と異なる点を中心に
説明する。
【0148】本実施形態のプラズマディスプレイパネル
では、図27に示すように、誘電体層13i表面の、酸
化マグネシウム層14iが形成されずに露出している部
分に蛍光体34cが形成されている。従って、誘電体層
13iの、厚さが小さい部分を除く部分の表面に蛍光体
34cが形成されている。
【0149】上述した第18〜第20の実施形態のそれ
ぞれのプラズマディスプレイパネルでは、第1のガラス
基板上の誘電体層の表面に蛍光体が形成されていること
により、その蛍光体に、放電空間内で発生した紫外光が
入射して蛍光体が励起される。従って、放電空間内で発
生して第1の基板に入射する紫外光を有効に利用するこ
とが可能となり、プラズマディスプレイパネルの発光効
率が向上する。また、誘電体層13a,13g,13i
の、蛍光体が形成された部分は厚く、この部分における
放電電流の密度が制限されるため、イオン衝撃による蛍
光体の劣化は少ない。
【0150】また、上述した第18〜第20の実施形態
において、蛍光体34a,34b,34cのそれぞれの
第1のガラス基板側、または第1のガラス基板側と反対
側に酸化マグネシウム層が形成されていてもよい。
【0151】以上で説明した第1〜第20のそれぞれの
実施形態では、主な放電を発生させるための面放電用の
電極を用いているが、本発明による効果は、概ね同一の
平面上に形成された電極対において得られることであ
る。電極対のうち一方の電極が形成される面と、他方の
電極が形成される面との高さが異なっていてもよい。ま
た、電極対のうち一方の電極の幅と、他方の電極の幅と
が異なっていてもよい。さらに、誘電体層の厚さが小さ
い領域が、一方の電極と他方の電極とで非対称であって
もよい。それらの場合でも、上述したような本発明の効
果が得られるのは明らかである。
【0152】さらに、本発明のプラズマディスプレイパ
ネルは、上述した第1〜第20の実施形態のみに限定さ
れるものではない。放電空間で放電を維持するために第
1および第2の電極に印加する電圧を低くしつつ、発光
効率が高くなるように、誘電体層の、第1および第2の
電極のそれぞれに対応する部分の厚さが電極の部位によ
り異なっているプラズマディスプレイパネルは、本発明
に含まれるものである。従って、第1〜第20の実施形
態のそれぞれで説明した本発明の特徴を組み合わせたプ
ラズマディスプレイパネルは本発明に含まれるものであ
る。
【0153】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、放電空間
で放電を維持するための第1および第2の電極が誘電体
層により覆われたプラズマディスプレイパネルにおい
て、放電を維持するために第1および第2の電極に印加
する電圧を低くしつつ、高い発光効率が得られるよう
に、誘電体層の、第1および第2の電極のそれぞれに対
応する部分の厚さを電極の部位に応じて異ならせること
により、消費電力が低く、かつ、表示品位が良好なプラ
ズマディスプレイパネルを得ることができるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施形態のプラズマディスプレ
イパネルの断面図である。
【図2】図1に示した第1の基板の製造方法について説
明するための図である。
【図3】図1に示した第1の基板の製造方法について説
明するための図である。
【図4】図1に示した第1の基板の製造方法について説
明するための図である。
【図5】図1に示した第1の基板の製造方法について説
明するための図である。
【図6】本発明の第2の実施形態のプラズマディスプレ
イパネルの断面図である。
【図7】本発明の第3の実施形態のプラズマディスプレ
イパネルの断面図である。
【図8】本発明の第4の実施形態のプラズマディスプレ
イパネルの断面図である。
【図9】本発明の第5の実施形態のプラズマディスプレ
イパネルの断面図である。
【図10】本発明の第6の実施形態のプラズマディスプ
レイパネルの断面図である。
【図11】本発明の第7の実施形態のプラズマディスプ
レイパネルの断面図である。
【図12】図11に示した第1の基板の製造方法につい
て説明するための図である。
【図13】本発明の第8の実施形態のプラズマディスプ
レイパネルの断面図である。
【図14】本発明の第9の実施形態のプラズマディスプ
レイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図15】本発明の第10の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図16】本発明の第11の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図17】本発明の第12の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図18】本発明の第13の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図19】本発明の第14の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図20】図1に示した第1の基板の各部の寸法につい
て説明するための断面図である。
【図21】図11に示した第1の基板の各部の寸法につ
いて説明するための断面図である。
【図22】本発明の第15の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図23】本発明の第16の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図24】本発明の第17の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図25】本発明の第18の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図26】本発明の第19の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図27】本発明の第20の実施形態のプラズマディス
プレイパネルに用いられる第1の基板の断面図である。
【図28】従来のプラズマディスプレイパネルの断面図
である。
【符号の説明】
1a〜1n 第1の基板 2 第2の基板 3 放電空間 11a〜11g 第1のガラス基板 12a〜12g、15a〜15g 放電維持電極 13a〜13n、23 誘電体層 14a〜14n 酸化マグネシウム層 16a〜16c、16e、16f 突出用誘電体層 17a〜17c 凸部 19g〜19n 凹部 21 第2のガラス基板 22 選択電極 24、34a〜34c 蛍光体 25 隔壁 31〜33 誘電体ペースト 91a、91b 透明導電体膜 92a、92b 感光性樹脂層 93a、93b マスク 94a、94b 紫外線

Claims (32)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1のガラス基板と、 前記第1のガラス基板の表面に形成された第1の電極
    と、 前記第1のガラス基板の表面に形成され、前記第1の電
    極と対になるように前記第1の電極から所定の距離をお
    いて配置された第2の電極と、 前記第1および第2の電極を覆うように前記第1のガラ
    ス基板の表面、前記第1および第2の電極の表面に形成
    された誘電体層と、 前記第1のガラス基板と対向するように前記第1のガラ
    ス基板の前記誘電体層側に配置される第2のガラス基板
    と、 前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基板との間
    に、一対の前記第1および第2の電極の面上に配置され
    る放電空間を設けるように前記第1のガラス基板と前記
    第2のガラス基板との間に部分的に形成された隔壁と、 少なくとも前記第2のガラス基板の前記放電空間側の面
    上に形成された蛍光体と、 前記放電空間に充填され、前記蛍光体を励起するのに利
    用される紫外光を発生させるためのガスとを有するプラ
    ズマディスプレイパネルにおいて、 前記誘電体層の、前記第1の電極に対応する部分の厚さ
    が前記第1の電極の部位により異なり、前記誘電体層
    の、前記第2の電極に対応する部分の厚さが前記第2の
    電極の部位により異なっていることを特徴とするプラズ
    マディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】 前記誘電体層の、前記第1の電極の前記
    第2の電極側の端部に対応する部分および、該部分の近
    傍の部分の厚さが、前記誘電体層の、前記第1の電極の
    他の部分に対応する部分よりも小さく、かつ、前記誘電
    体層の、前記第2の電極の前記第1の電極側の端部に対
    応する部分および、該部分の近傍の部分の厚さが、前記
    誘電体層の、前記第2の電極の他の部分に対応する部分
    よりも小さい請求項1に記載のプラズマディスプレイパ
    ネル。
  3. 【請求項3】 前記第1の電極の前記第2の電極側の部
    分、および前記第2の電極の前記第1の電極側の部分が
    前記誘電体層側に向かって突出している請求項2に記載
    のプラズマディスプレイパネル。
  4. 【請求項4】 前記誘電体層の表面が平坦である請求項
    3に記載のプラズマディスプレイパネル。
  5. 【請求項5】 前記誘電体層の、前記第1の電極と前記
    第2の電極との間の部分に対応する部分および、該部分
    の近傍の部分における前記放電空間側の面に凹部が形成
    されている請求項2に記載のプラズマディスプレイパネ
    ル。
  6. 【請求項6】 前記第1の電極の前記第2の電極側の部
    分、および前記第2の電極の前記第1の電極側の部分が
    前記誘電体層側に向かって突出し、かつ、前記誘電体層
    の、前記第1の電極と前記第2の電極との間の部分、お
    よび該部分の近傍の部分に対応する部分の前記放電空間
    側の面に凹部が形成されている請求項2に記載のプラズ
    マディスプレイパネル。
  7. 【請求項7】 前記第1のガラス基板の表面の、少なく
    とも前記第1の電極の前記第2の電極側の端部および、
    前記第2の電極の前記第1の電極側の端部に対応する部
    分に、前記誘電体層側に向かって突出する突出部が形成
    されている請求項3に記載のプラズマディスプレイパネ
    ル。
  8. 【請求項8】 前記第1のガラス基板の前記突出部が、
    低融点ガラスからなるものである請求項7に記載のプラ
    ズマディスプレイパネル。
  9. 【請求項9】 前記誘電体層の構成材料が、低融点ガラ
    スを主成分とするものであり、前記第1のガラス基板の
    前記突出部の低融点ガラスの軟化点が前記誘電体層の低
    融点ガラスの軟化点より高い請求項8に記載のプラズマ
    ディスプレイパネル。
  10. 【請求項10】 前記第1のガラス基板の前記突出部の
    誘電率が前記誘電体層の誘電率より低い請求項8に記載
    のプラズマディスプレイパネル。
  11. 【請求項11】 前記第1の電極と前記第2の電極との
    間の距離をgとし、前記誘電体層の、前記第1および第
    2の電極および、前記第1の電極と第2の電極との間の
    部分に対応する部分のうち厚さが最も小さい部分の厚さ
    をd0とすると、d0/gの値が0.1以下である請求項
    1〜10のいずれか1項に記載のプラズマディスプレイ
    パネル。
  12. 【請求項12】 前記第1の電極の、突出している部分
    を除く部分の面上の前記誘電体層の厚さがdで均一とな
    っており、前記誘電体層の、前記第1および第2の電極
    に対応する部分のうち厚さが最も小さい部分の厚さをd
    0とすると、d0/dの値が0.7以下である請求項3に
    記載のプラズマディスプレイパネル。
  13. 【請求項13】 前記第1の電極の、突出している部分
    を除く部分の面上の前記誘電体層の厚さがdで均一とな
    っており、前記誘電体層の、前記第1および第2の電極
    に対応する部分のうち厚さが最も小さい部分の厚さをd
    0とすると、d0/dの値が0.5以下である請求項3に
    記載のプラズマディスプレイパネル。
  14. 【請求項14】 前記第1および第2の電極が前記所定
    の距離をおいて並んでおり、前記第1および第2の電極
    が並ぶ方向における前記第1および第2の電極のそれぞ
    れの長さをLとし、前記第1および第2の電極それぞれ
    の、突出する部分の前記方向での長さをL0とすると、
    0/Lの値が0.5以下である請求項3に記載のプラ
    ズマディスプレイパネル。
  15. 【請求項15】 前記第1および第2の電極が前記所定
    の距離をおいて並んでおり、前記第1および第2の電極
    が並ぶ方向における前記第1および第2の電極のそれぞ
    れの長さをLとし、前記第1および第2の電極それぞれ
    の、突出する部分の前記方向での長さをL0とすると、
    0/Lの値が0.2以下である請求項3に記載のプラ
    ズマディスプレイパネル。
  16. 【請求項16】 前記誘電体層の、少なくとも前記第1
    の電極の前記第2の電極側の端部に対応する部分、該部
    分の近傍の部分、前記第2の電極の前記第1の電極側の
    端部に対応する部分および、該部分の近傍の部分の表面
    に形成された、前記誘電体層を保護する保護層をさらに
    有する請求項2に記載のプラズマディスプレイパネル。
  17. 【請求項17】 前記保護層の構成材料がアルカリ土類
    酸化物である請求項16に記載のプラズマディスプレイ
    パネル。
  18. 【請求項18】 前記誘電体層の表面の、前記保護層が
    形成された部分を除く部分に、前記放電空間内で発生し
    た紫外光により励起される蛍光体が形成されている請求
    項16に記載のプラズマディスプレイパネル。
  19. 【請求項19】 前記放電空間に充填される前記ガスの
    構成成分のうち、紫外光を発生する構成成分が、Xe、
    Kr、Arまたは窒素のうちいずれか1つであり、前記
    紫外光を発生する前記構成成分の分圧が30Torr以
    上、前記紫外光を発生する前記構成成分の、前記ガスに
    おける組成比率が6%以上である請求項1〜18のいず
    れか1項に記載のプラズマディスプレイパネル。
  20. 【請求項20】 第1のガラス基板と、 前記第1のガラス基板の表面に形成された第1の電極
    と、 前記第1のガラス基板の表面に形成され、前記第1の電
    極と対になるように前記第1の電極から所定の距離をお
    いて配置された第2の電極と、 前記第1および第2の電極を覆うように前記第1のガラ
    ス基板の表面、前記第1および第2の電極の表面に形成
    された誘電体層と、 前記第1のガラス基板と対向するように前記第1のガラ
    ス基板の前記誘電体層側に配置される第2のガラス基板
    と、 前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基板との間
    に、一対の前記第1および第2の電極の面上に配置され
    る放電空間を設けるように前記第1のガラス基板と前記
    第2のガラス基板との間に部分的に形成された隔壁と、 少なくとも前記第2のガラス基板の前記放電空間側の面
    上に形成された蛍光体と、 前記放電空間に充填され、前記蛍光体を励起するのに利
    用される紫外光を発生させるためのガスとを有するプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法であって、 前記第1のガラス基板の表面に前記第1および第2の電
    極を形成する前に前記第1のガラス基板の表面の、少な
    くとも前記第1の電極の前記第2の電極側の端部およ
    び、前記第2の電極の前記第1の電極側の端部に対応す
    る部分に突出部を形成する工程と、 前記第1のガラス基板の表面、および前記突出部の表面
    に前記第1および第2の電極を形成する工程と、 前記第1および第2の電極の表面、および前記第1のガ
    ラス基板の表面に前記誘電体層を形成する工程とを有す
    るプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  21. 【請求項21】 前記第1のガラス基板の表面に前記突
    出部を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表面
    の、前記突出部を形成する部分を除く部分をエッチング
    することにより前記突出部を形成する請求項20に記載
    のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  22. 【請求項22】 前記第1のガラス基板の表面に前記突
    出部を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表面に
    低融点ガラス層を形成し、該低融点ガラス層の、前記突
    出部を形成する部分を除く部分をエッチングによって除
    去することにより前記突出部を形成する請求項20に記
    載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  23. 【請求項23】 前記第1のガラス基板の表面に前記突
    出部を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表面
    の、前記突出部を形成する部分にペースト状の低融点ガ
    ラスを印刷により塗布し、塗布された前記低融点ガラス
    を焼成することにより前記突出部を形成する請求項20
    に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
  24. 【請求項24】 前記第1のガラス基板の表面に前記突
    出部を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表面に
    低融点ガラス層を形成し、前記低融点ガラス層をサンド
    ブラスト法によりパターニングした後に、パターニング
    された前記低融点ガラス層を焼成することにより前記突
    出部を形成する請求項20に記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  25. 【請求項25】 前記第1のガラス基板の表面に前記突
    出部を形成する工程が、前記第1のガラス基板の表面に
    感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光性樹脂層に、
    前記突出部に対応する形状の開口部を形成する工程と、
    前記感光性樹脂層の開口部に低融点ガラスペーストを充
    填する工程と、前記感光性樹脂層を除去する工程と、前
    記低融点ガラスペーストを焼成して前記突出部を形成す
    る工程とを含む請求項20に記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  26. 【請求項26】 前記第1および第2の電極を覆う前記
    誘電体層を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表
    面の、少なくとも前記放電空間に対応する部分に、低融
    点ガラスからなる誘電体ペーストを形成し、前記低融点
    ガラスの軟化点よりも高い温度で前記誘電体ペーストを
    焼成した後、焼成された前記誘電体ペーストの表面を平
    坦化する請求項20に記載のプラズマディスプレイパネ
    ルの製造方法。
  27. 【請求項27】 前記誘電体ペーストの表面を研磨によ
    って平坦化する請求項26に記載のプラズマディスプレ
    イパネルの製造方法。
  28. 【請求項28】 前記第1および第2の電極を覆う前記
    誘電体層を形成する工程で、前記第1のガラス基板の表
    面の、少なくとも前記放電空間に対応する部分に、表面
    が平坦な誘電体ペーストを形成し、形成された前記誘電
    体ペーストを焼成することにより、表面が平坦な前記誘
    電体層を形成する請求項20に記載のプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
  29. 【請求項29】 前記第1および第2の電極を覆う前記
    誘電体層を形成する工程で、前記誘電体層の、前記第1
    の電極と前記第2の電極との間の部分に対応する部分お
    よび、該部分の近傍の部分における前記放電空間側の面
    に凹部を形成する請求項20に記載のプラズマディスプ
    レイパネルの製造方法。
  30. 【請求項30】 第1のガラス基板と、 前記第1のガラス基板の表面に形成された第1の電極
    と、 前記第1のガラス基板の表面に形成され、前記第1の電
    極と対になるように前記第1の電極から所定の距離をお
    いて配置された第2の電極と、 前記第1および第2の電極を覆うように前記第1のガラ
    ス基板の表面、前記第1および第2の電極の表面に形成
    された誘電体層と、 前記第1のガラス基板と対向するように前記第1のガラ
    ス基板の前記誘電体層側に配置される第2のガラス基板
    と、 前記第1のガラス基板と前記第2のガラス基板との間
    に、一対の前記第1および第2の電極の面上に配置され
    る放電空間を設けるように前記第1のガラス基板と前記
    第2のガラス基板との間に部分的に形成された隔壁と、 少なくとも前記第2のガラス基板の前記放電空間側の面
    上に形成された蛍光体と、 前記放電空間に充填され、前記蛍光体を励起するのに利
    用される紫外光を発生させるためのガスとを有するプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法であって、 前記第1のガラス基板の表面に前記第1および第2の電
    極を形成した後に前記誘電体層を形成する工程で、前記
    誘電体層の、前記第1の電極と前記第2の電極との間の
    部分、および該部分の近傍の部分に対応する部分の前記
    放電空間側の面に凹部を形成するプラズマディスプレイ
    パネルの製造方法。
  31. 【請求項31】 前記第1および第2の電極を覆う前記
    誘電体層を形成する工程で、前記誘電体層の構成材料と
    して、低融点ガラスからなるものを用い、前記第1のガ
    ラス基板および、前記第1および第2の電極のそれぞれ
    の表面全体に前記誘電体層を形成した後、形成された前
    記誘電体層をエッチングすることにより前記誘電体層に
    前記凹部を形成する請求項29または30に記載のプラ
    ズマディスプレイパネルの製造方法。
  32. 【請求項32】 前記第1および第2の電極を覆う前記
    誘電体層を形成する工程で、前記第1のガラス基板およ
    び、前記第1および第2の電極の面上に、低融点ガラス
    からなるペースト状の誘電体層を、前記凹部を形成する
    ようにリフローせずに複数積層し、複数の前記ペースト
    状の誘電体層を焼成することにより、前記凹部を有する
    前記誘電体層を形成する請求項29または30に記載の
    プラズマディスプレイパネルの製造方法。
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