JP2000099979A - Beam condensing optical device - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、集光光学装置、特
に、高密度光メモリ（記録／読取り）や高分解能顕微鏡
に用いられる集光光学装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a condensing optical device, and more particularly, to a condensing optical device used for a high-density optical memory (recording / reading) or a high-resolution microscope.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、光学的に情報を記録／読取りする
光メモリの分野においては、記録密度の向上を目的とし
て、光の近接場現象を利用することが注目されている。
従来の光メモリにおいて、記録密度は光の回折限界で上
限が決まり、光の波長程度（数１００ｎｍ）のマークし
か記録／読取りができなかった。近年提案されている光
の近接場現象を用いた光メモリでは、ファイバプローブ
やSolid Immersion Lens（固浸レンズ）を用いて記録
媒体（ディスク）に対して記録／読取り用の光を照射す
る。光ヘッドと記録媒体との間隔を数１０ｎｍにまで近
付けることで、光の回折限界を超えて数１０ｎｍという
小さなマークを信号として書き込み、読み取ることが可
能である。2. Description of the Related Art In recent years, in the field of optical memories for optically recording / reading information, attention has been paid to the use of the near-field phenomenon of light for the purpose of improving the recording density.
In a conventional optical memory, the upper limit of the recording density is determined by the diffraction limit of light, and recording / reading can be performed only for a mark of about the wavelength of light (several 100 nm). In an optical memory using a near-field phenomenon of light recently proposed, a recording medium (disk) is irradiated with light for recording / reading using a fiber probe or a solid immersion lens (solid immersion lens). By making the distance between the optical head and the recording medium close to several tens of nanometers, a small mark of several tens of nanometers exceeding the diffraction limit of light can be written and read as a signal.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】この種の高密度光メモ
リで、光ファイバの先端をとがらせて開口を形成するフ
ァイバプローブを用いる方法では、プローブの開口の大
きさは１００ｎｍ程度であり、これでは透過光量が１／
１００以下と極端に小さくなり、検出信号が弱く、高速
での記録／読取りができないという問題点を有してい
る。また、プローブが小さくなるに伴ってトラッキング
も困難になる。In this type of high-density optical memory, a method using a fiber probe in which the tip of an optical fiber is sharpened to form an opening has a probe opening size of about 100 nm. 1 /
There is a problem that the detection signal is extremely small as 100 or less, the detection signal is weak, and high-speed recording / reading cannot be performed. Also, tracking becomes difficult as the probe becomes smaller.
【０００４】そのため、スリットをトラック方向と直交
する方向に配置することが提案されている。（ＵＳＰ
５，６８９，４８０号明細書）。そうすることで、トラ
ッキングピッチを従来と同様に保ちながら、トラック方
向の記録密度を高めることが可能となる。ここでは、入
射光の偏光方向（電場の振動方向）がスリットに対して
直交する方向に向けられている。しかし、この装置で
は、波長の数分の１の幅のビームスポットを得るため
に、スリット幅を同程度の寸法に形成する必要があり、
しかも、光の利用効率が必ずしも十分でないという問題
点を有している。Therefore, it has been proposed to arrange the slits in a direction perpendicular to the track direction. (USP
5,689,480). By doing so, it is possible to increase the recording density in the track direction while maintaining the tracking pitch as in the related art. Here, the polarization direction of the incident light (the vibration direction of the electric field) is directed in a direction orthogonal to the slit. However, in this apparatus, in order to obtain a beam spot having a width that is a fraction of the wavelength, it is necessary to form the slit width to a similar size.
In addition, there is a problem that the light use efficiency is not always sufficient.
【０００５】以上の問題点に鑑みて、本発明の目的は、
高密度での記録や読取りが可能で、かつ、光の利用効率
が高い集光光学装置を提供することにある。[0005] In view of the above problems, an object of the present invention is to
It is an object of the present invention to provide a condensing optical device capable of recording and reading at high density and having high light use efficiency.
【０００６】[0006]
【発明の構成、作用及び効果】以上の目的を達成するた
め、本発明に係る集光光学装置は、集光素子と、この集
光素子と物体との間に設けた一方向に延在するスリット
とを備え、透過する光ビームの偏光方向とスリットの延
在方向とを一致させた。このスリットは透過ビームの幅
をスリット幅よりも小さくする作用を有し、高密度での
記録／読取りが可能となる。また、光ビームの偏光方向
をスリットの延在方向と一致（平行）させることで、透
過率が上昇し、光の利用効率が向上する。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, a condensing optical device according to the present invention extends in one direction provided between a condensing element and the condensing element and an object. A slit was provided, and the polarization direction of the transmitted light beam was made to coincide with the extension direction of the slit. This slit has the function of making the width of the transmitted beam smaller than the slit width, and enables high-density recording / reading. Further, by making the polarization direction of the light beam coincident (parallel) with the extending direction of the slit, the transmittance is increased, and the light use efficiency is improved.
【０００７】本発明を回転する光記録媒体の記録／読取
り装置として使用するとき、前記スリットの延在方向は
光記録媒体の回転方向に対してラジアル方向に設定する
ことが好ましい。これにて、トラッキングピッチを従来
と同様に保ちながらトラック方向の記録密度を高め、か
つ、光の利用効率を向上させることができる。When the present invention is used as a recording / reading device for a rotating optical recording medium, it is preferable that the extending direction of the slit is set in a radial direction with respect to the rotating direction of the optical recording medium. Thus, it is possible to increase the recording density in the track direction and to improve the light use efficiency while maintaining the tracking pitch as in the related art.
【０００８】本発明に係る集光光学装置では、集光手段
で光を集光した位置に高屈折率物質を配することが好ま
しい。これにて、集光されたビームスポットを屈折率の
分だけさらに小径に集光することができる。In the condensing optical device according to the present invention, it is preferable that a high-refractive-index substance is disposed at a position where light is condensed by the condensing means. As a result, the focused beam spot can be further focused to a smaller diameter by the refractive index.
【０００９】本発明に係る集光光学装置では、集光手段
で光を集光した位置に固浸レンズを配することが好まし
い。固浸レンズの高屈折率物質中でさらに効率よく集光
でき、記録密度が向上し、光の透過率も向上する。固浸
レンズを用いる場合、スリットは固浸レンズの出射側平
面に設けられる。In the condensing optical device according to the present invention, it is preferable to dispose a solid immersion lens at a position where the light is condensed by the condensing means. Light can be collected more efficiently in the high refractive index material of the solid immersion lens, the recording density is improved, and the light transmittance is also improved. When a solid immersion lens is used, the slit is provided on the plane on the emission side of the solid immersion lens.
【００１０】また、前記スリットにテーパ形状（傾斜
面）を与えれば、光の透過率がより向上する。スリット
内に高屈折率物質を充填してもよく、ビームスポットを
さらに小さくすることができる。If the slit is provided with a tapered shape (inclined surface), light transmittance is further improved. The slit may be filled with a high-refractive-index substance, so that the beam spot can be further reduced.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る集光光学装置
の実施形態について添付図面を参照して説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view showing a condensing optical device according to an embodiment of the present invention.
【００１２】（第１実施形態、図１、図２参照）本第１
実施形態は、光ディスク１の記録／読取り装置に適用し
たものである。この装置は、図１に示すように、レーザ
光源１１から放射された光ビーム（拡散光）をカップリ
ングレンズ１２で平行光とし、ミラー１３へ導き、該ミ
ラー１３で反射された光ビームを集光レンズ１４で収束
させ、半球形状の固浸レンズ１５を介して光ディスク１
上を照射する。光ディスク１の裏面側には、集光レンズ
２１と、光信号を電気信号に変換するための光検出器２
２が配置されている。(First Embodiment, see FIGS. 1 and 2)
The embodiment is applied to a recording / reading device for the optical disc 1. As shown in FIG. 1, this device converts a light beam (diffused light) emitted from a laser light source 11 into parallel light by a coupling lens 12, guides the light beam to a mirror 13, and collects the light beam reflected by the mirror 13. The optical disk 1 is converged by an optical lens 14 and passes through a hemispherical solid immersion lens 15.
Illuminate the top. A condensing lens 21 and a photodetector 2 for converting an optical signal into an electric signal are provided on the back side of the optical disc 1.
2 are arranged.
【００１３】固浸レンズ１５は、よく知られているよう
に、Liquid Immersion Lens Microscope（液浸法に
よる顕微鏡の分解能向上）の原理を応用したもので、半
球面から入射された光ビームを出射平面の中心部に集光
する。この固浸レンズ１５の出射平面の中心部（集光ポ
イント）にはスリット１６ａが設けられている。スリッ
ト１６ａはアルミニウム等の金属を蒸着して反射膜１６
を出射平面上に成膜することで形成される。集光レンズ
１４及び固浸レンズ１５で集光された光ビームはスリッ
ト１６ａを通じて光ディスク１上を照射し、情報の記録
や読取りが行われる。As is well known, the solid immersion lens 15 is based on the principle of a Liquid Immersion Lens Microscope (improving the resolution of a microscope by a liquid immersion method). Focus on the center of. The solid immersion lens 15 has a slit 16a at the center (focus point) of the exit plane. The slit 16a is formed by depositing a metal such as aluminum,
Is formed on the emission plane. The light beam condensed by the condenser lens 14 and the solid immersion lens 15 irradiates the optical disk 1 through the slit 16a to record and read information.
【００１４】さらに詳しくは、図２に示すように、光デ
ィスク１は矢印Ａ方向に回転し、情報のためのマーク２
は回転方向Ａの軌跡上に形成される。スリット１６ａの
延在方向Ｂは光ディスク１の回転方向Ａに対してラジア
ル方向に設定されている。また、光ビームは直線偏光さ
れており、その偏光方向はスリット１６ａの延在方向Ｂ
と一致している。光ビームを直線偏光させるには、レー
ザ光源１１としてそのような特性を有する光を放射する
ものを使用するか、光路中に偏光板を挿入すればよい。More specifically, as shown in FIG. 2, the optical disk 1 rotates in the direction of arrow A,
Are formed on the locus in the rotation direction A. The extending direction B of the slit 16a is set in the radial direction with respect to the rotation direction A of the optical disc 1. The light beam is linearly polarized, and its polarization direction is the extension direction B of the slit 16a.
Matches. In order to linearly polarize the light beam, one that emits light having such characteristics may be used as the laser light source 11, or a polarizing plate may be inserted in the optical path.
【００１５】本第１実施形態によれば、光ビームを小径
に集光でき、かつ、透過率の向上を図ることができる。
そのデータについては後述する。According to the first embodiment, the light beam can be condensed to a small diameter and the transmittance can be improved.
The data will be described later.
【００１６】（第２実施形態、図３、図４参照）本第２
実施形態は、前記第１実施形態の固浸レンズ１５に代え
てシリコンプローブ１７を用いたものであり、図３は要
部のみを示し、図１で示されているレーザ光源１１や光
ディスク１等の図示は省略した。(Second embodiment, see FIGS. 3 and 4)
In this embodiment, a silicon probe 17 is used in place of the solid immersion lens 15 of the first embodiment. FIG. 3 shows only a main part, such as the laser light source 11 and the optical disc 1 shown in FIG. Are not shown.
【００１７】シリコンプローブ１７はシリコン基板にス
リット１７ａを形成し、スリット１７ａ内に屈折率が
１．５以上の高屈折率物質１８、例えば、屈折率が約
１．８５の重フリント系ガラス材を充填したものであ
る。スリット１７ａは集光レンズ１４側の開口幅よりも
光ディスク側の開口幅が狭い傾斜面からなるテーパ形状
とされている。このようなテーパ形状のスリット１７ａ
はシリコン基板に異方性エッチングを施すことで形成さ
れる。図４に示すように、スリット１７ａの延在方向Ｂ
は光ディスクの回転方向Ａに対してラジアル方向に設定
されている。また、光ビームの偏光方向はスリット１７
ａの延在方向Ｂと一致している。The silicon probe 17 has a slit 17a formed in a silicon substrate, and a high refractive index material 18 having a refractive index of 1.5 or more, for example, a heavy flint glass material having a refractive index of about 1.85 is formed in the slit 17a. It is filled. The slit 17a has a tapered shape having an inclined surface having a smaller opening width on the optical disk side than the opening width on the condensing lens 14 side. Such a tapered slit 17a
Is formed by performing anisotropic etching on a silicon substrate. As shown in FIG. 4, the extending direction B of the slit 17a
Is set in a radial direction with respect to the rotation direction A of the optical disk. The polarization direction of the light beam is determined by the slit 17.
a is the same as the extension direction B of FIG.
【００１８】（第３実施形態、図５参照）本第３実施形
態は、前記第１実施形態の反射膜１６にて形成したスリ
ット１６ａに代えて、図５に示すように、固浸レンズ１
５の出射平面に、スリット１９ａを有するシリコン層１
９を設けたものである。スリット１９ａは図３、図４に
示したスリット１７ａと同様のテーパ形状とされてい
る。また、スリット１９ａは固浸レンズ１５の集光ポイ
ントに位置し、その延在方向や光ビームの偏光方向との
関係は前記スリット１６ａ，１７ａと同様である。(Third Embodiment, See FIG. 5) In the third embodiment, as shown in FIG. 5, a solid immersion lens 1 is used instead of the slit 16a formed in the reflection film 16 of the first embodiment.
5, a silicon layer 1 having a slit 19a on the exit plane
9 is provided. The slit 19a has the same tapered shape as the slit 17a shown in FIGS. Further, the slit 19a is located at the converging point of the solid immersion lens 15, and the relationship with the extending direction and the polarization direction of the light beam is the same as that of the slits 16a and 17a.
【００１９】さらに、スリット１９ａ内には、屈折率が
１．５以上の高屈折率物質１８が充填されている。高屈
折率物質１８を設けることで、光ビームをさらに小径に
絞ることができる。Further, the slit 19a is filled with a high refractive index material 18 having a refractive index of 1.5 or more. By providing the high refractive index material 18, the light beam can be further narrowed.
【００２０】（光の利用効率と透過ビームの幅）前記各
実施形態では、スリット幅よりも狭い透過ビームの幅を
得ると共に、光の利用効率を高めることを目的として、
光ビームの偏光方向（電場の振動方向）とスリットの延
在方向を一致（平行状態）させた。従来では、光を導波
モードで効率よく集光するには、スリットの延在方向と
直交する方向に光の偏光方向を揃えるのがよいとされて
きた。このような光は、光の進行方向の磁場成分がゼロ
のモードであり、ＴＭ波と称されている。一方、本発明
の如く、スリットの延在方向と平行な方向に偏光方向を
揃えた光は、光の進行方向の電場成分がゼロのモードで
あり、ＴＥ波と称されている。(Light Utilization Efficiency and Transmitted Beam Width) In the above embodiments, the purpose of obtaining a transmitted beam width narrower than the slit width and increasing the light utilization efficiency is as follows.
The polarization direction of the light beam (the vibration direction of the electric field) and the extending direction of the slit were matched (parallel state). Conventionally, to efficiently condense light in the guided mode, it has been considered that the polarization direction of light should be aligned in a direction orthogonal to the direction in which the slit extends. Such light has a mode in which the magnetic field component in the traveling direction of the light is zero, and is called a TM wave. On the other hand, light whose polarization direction is aligned in a direction parallel to the extending direction of the slit as in the present invention is a mode in which the electric field component in the traveling direction of light is zero, and is called a TE wave.
【００２１】本発明者らは、２次元ＦＤＴＤ法（Finite
difference time domain method、有限領域時間差
分法）と呼ばれるシミュレーション手法を用いてスリッ
トに対する光の透過率を調べた。計算には図６に示すモ
デルを用いた。その結果を図８のグラフに示す。図８に
おいて、横軸はスリットを透過した直後の光ビームの半
値全幅（ＦＷＨＭ）を示し、縦軸は光の透過率を示す。
図８中、ラインＴＥは本発明の如く光の偏光方向がスリ
ット延在方向と平行な場合の透過率特性を示し、ライン
ＴＭは従来の如く光の偏光方向がスリット延在方向と直
交している場合の透過率特性を示す。これから明らかな
ように、幅１１０ｎｍ以上のサイズの透過ビームを得る
場合、ＴＭ波（従来例）よりもＴＥ波（本発明例）の方
が光の利用効率が高い。The present inventors have proposed a two-dimensional FDTD method (Finite
The light transmittance to the slit was examined by using a simulation method called difference time domain method (finite time difference method). The model shown in FIG. 6 was used for the calculation. The results are shown in the graph of FIG. 8, the horizontal axis indicates the full width at half maximum (FWHM) of the light beam immediately after passing through the slit, and the vertical axis indicates the light transmittance.
In FIG. 8, a line TE indicates transmittance characteristics when the polarization direction of light is parallel to the extension direction of the slit as in the present invention, and a line TM indicates that the polarization direction of light is orthogonal to the extension direction of the slit as in the related art. FIG. As is clear from this, when obtaining a transmitted beam having a size of 110 nm or more in width, the TE wave (example of the present invention) has higher light use efficiency than the TM wave (conventional example).
【００２２】さらに、本発明者らは、スリット幅に対す
る透過ビームの幅の変化をシミュレートした。その結果
を図９に示す。図９において、横軸はスリット幅を示
し、縦軸は透過ビームの半値全幅（ＦＷＨＭ）を示す。
また、ラインＴＥはＴＥ波（本発明例）の特性を示し、
ラインＴＭはＴＭ波（従来例）の特性を示す。これから
明らかなように、ＴＭ波を用いる場合は透過ビームの幅
はスリット幅とほぼ同じであるのに対して、ＴＥ波を用
いる場合はスリット幅よりも狭いビーム幅を得ることが
でき、高密度光メモリに有利である。Further, the present inventors simulated a change in the width of the transmitted beam with respect to the slit width. FIG. 9 shows the result. In FIG. 9, the horizontal axis indicates the slit width, and the vertical axis indicates the full width at half maximum (FWHM) of the transmitted beam.
Further, the line TE indicates the characteristic of the TE wave (example of the present invention),
Line TM shows the characteristics of TM waves (conventional example). As is clear from this, when the TM wave is used, the width of the transmitted beam is almost the same as the slit width, whereas when the TE wave is used, a beam width narrower than the slit width can be obtained. This is advantageous for optical memories.
【００２３】また、前記スリット１６ａ，１７ａ，１９
ａは光ビームの入射側に対して出射側を狭くする傾斜面
にてテーパー形状に構成されており、このようなテーパ
ー形状とすることによって、さらに光の利用効率を向上
させることができる。図８、図９において、ラインＴＥ
（taper），ＴＭ（taper）はスリットをテーパー形状と
した場合のシミュレーションの結果である。計算には図
７に示すモデルを用いた。ＴＥ波をテーパー形状のスリ
ットを透過させると、図８に示されているように、さら
に効率よく光を利用することができる。また、図９から
も透過ビームの幅が小さくなることが分かる。The slits 16a, 17a, 19
“a” is formed in a tapered shape with an inclined surface that narrows the emission side with respect to the incident side of the light beam. By using such a tapered shape, the light use efficiency can be further improved. 8 and 9, the line TE
(Taper) and TM (taper) are the results of a simulation when the slit has a tapered shape. The model shown in FIG. 7 was used for the calculation. When the TE wave is transmitted through the tapered slit, light can be used more efficiently as shown in FIG. FIG. 9 also shows that the width of the transmitted beam is reduced.
【００２４】（他の実施形態）なお、本発明に係る集光
光学装置は前記実施形態に限定するものではなく、その
要旨の範囲内で種々に変更することができる。特に、光
源や光ビームをスリットまで導く光学素子は任意のもの
を使用することができる。例えば、反射膜１６は、スリ
ットを形成するために光を遮光する膜であればよく、反
射膜に限定する必要はない。また、本発明は光記録／読
取り装置以外に電子顕微鏡等の光学機器に適用すること
も可能である。(Other Embodiments) The condensing optical device according to the present invention is not limited to the above embodiment, but can be variously modified within the scope of the invention. In particular, any light source or optical element for guiding the light beam to the slit can be used. For example, the reflective film 16 may be any film that blocks light to form a slit, and need not be limited to a reflective film. In addition, the present invention can be applied to optical equipment such as an electron microscope other than the optical recording / reading device.
【図１】本発明の第１実施形態である集光光学装置を示
す概略構成図。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a condensing optical device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】前記第１実施形態の要部の説明図。FIG. 2 is an explanatory diagram of a main part of the first embodiment.
【図３】本発明の第２実施形態である集光光学装置の要
部を示す概略構成図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram illustrating a main part of a condensing optical device according to a second embodiment of the invention.
【図４】前記第２実施形態で使用されているシリコンプ
ローブを示す斜視図。FIG. 4 is a perspective view showing a silicon probe used in the second embodiment.
【図５】本発明の第３実施形態である集光光学装置の要
部を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing a main part of a condensing optical device according to a third embodiment of the invention.
【図６】本発明での光の利用効率をシミュレートしたモ
デルの説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a model simulating light use efficiency in the present invention.
【図７】本発明でスリットをテーパー形状とすることの
効果をシミュレートしたモデルの説明図。FIG. 7 is an explanatory diagram of a model simulating the effect of making the slit tapered in the present invention.
【図８】透過ビームの幅と透過率との関係を示すグラ
フ。FIG. 8 is a graph showing the relationship between the width of a transmitted beam and the transmittance.
【図９】スリット幅と透過ビームの幅との関係を示すグ
ラフ。FIG. 9 is a graph showing a relationship between a slit width and a transmitted beam width.
１…光ディスク（物体） １５…固浸レンズ １６ａ，１７ａ，１９ａ…スリット １７…シリコンプローブ １８…高屈折率物質 ＬＢ…光ビーム Ａ…ディスク回転方向 Ｂ…スリット延在方向 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical disk (object) 15 ... Solid immersion lens 16a, 17a, 19a ... Slit 17 ... Silicon probe 18 ... High refractive index substance LB ... Light beam A ... Disk rotation direction B ... Slit extension direction
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中野 隆志 茨城県つくば市東一丁目１番地４ 工業技 術院産業技術融合領域研究所内 (72)発明者 富永 淳二 茨城県つくば市東一丁目１番地４ 工業技 術院産業技術融合領域研究所内 (72)発明者 阿刀田 伸史 茨城県つくば市東一丁目１番地４ 工業技 術院産業技術融合領域研究所内 (72)発明者 佐藤 彰 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D119 AA11 AA22 AA43 EC34 EC37 JA44 JA59 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Nakano 1-1, Higashi 1-chome, Tsukuba City, Ibaraki Prefecture Inside the Research Institute for Industrial Technology Fusion (72) Inventor Junji Tominaga 1-1-1, Higashi 1-chome 4 Tsukuba City, Ibaraki Prefecture Industry Within the Research Institute of Industrial Technology Fusion, Technology Institute (72) Inventor Nobushi Atoda 1-4-1, Higashi 1-chome, Tsukuba, Ibaraki Pref. Within the Research Institute of Technology Integration, 72 (72) Inventor Akira Sato, Osaka, Osaka 2-13-13 Azuchicho, Ward F-term in Osaka International Building Minolta Co., Ltd. (Reference) 5D119 AA11 AA22 AA43 EC34 EC37 JA44 JA59
Claims (8)
設けた一方向に延在するスリットとを備え、 前記スリットを通過する光ビームの偏光方向がスリット
の延在方向と一致していること、 を特徴とする集光光学装置。1. A light-condensing element, and a slit provided between the light-condensing element and an object and extending in one direction, wherein a polarization direction of a light beam passing through the slit corresponds to a direction in which the slit extends. A converging optical device characterized by:
前記スリットの延在方向は光記録媒体の回転方向に対し
てラジアル方向であることを特徴とする請求項１記載の
集光光学装置。2. An optical recording medium on which the object rotates.
2. The light-converging optical device according to claim 1, wherein an extending direction of the slit is a radial direction with respect to a rotation direction of the optical recording medium.
れていることを特徴とする請求項１又は請求項２記載の
集光光学装置。3. The condensing optical device according to claim 1, wherein the slit is filled with a high refractive index substance.
に固浸レンズが配され、前記スリットは前記固浸レンズ
の出射側平面に設けられていることを特徴とする請求項
１又は請求項２記載の集光光学装置。4. A solid immersion lens is further disposed at a position where the light condensing element condenses light, and the slit is provided on a plane on an emission side of the solid immersion lens. The light collecting optical device according to claim 2.
に積層された薄膜によって形成されていることを特徴と
する請求項４記載の集光光学装置。5. The condensing optical device according to claim 4, wherein said slit is formed by a thin film laminated on a plane on an emission side of a solid immersion lens.
体側の開口幅が狭い傾斜面によって構成されていること
を特徴とする請求項１、請求項２、請求項３、又は請求
項４記載の集光光学装置。6. The slit according to claim 1, wherein the slit is formed by an inclined surface having a narrower opening width on the object side than the opening width on the light source side. The condensing optical device as described in the above.
れていることを特徴とする請求項６記載の集光光学装
置。7. The condensing optical device according to claim 6, wherein a high refractive index material is filled in the slit.
特徴とする請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、
請求項６又は請求項７記載の集光光学装置。8. The method according to claim 1, wherein the slit is made of silicon.
A condensing optical device according to claim 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10263068A JP2000099979A (en) | 1998-09-17 | 1998-09-17 | Beam condensing optical device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10263068A JP2000099979A (en) | 1998-09-17 | 1998-09-17 | Beam condensing optical device |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000099979A true JP2000099979A (en) | 2000-04-07 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10263068A Pending JP2000099979A (en) | 1998-09-17 | 1998-09-17 | Beam condensing optical device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000099979A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001319365A (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Fuji Xerox Co Ltd | Floating recoding head, disk device and method for producing the head |
| WO2004088650A1 (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-14 | Fujitsu Limited | Light irradiation head and information storage device |
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-
1998
- 1998-09-17 JP JP10263068A patent/JP2000099979A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001319365A (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-16 | Fuji Xerox Co Ltd | Floating recoding head, disk device and method for producing the head |
| WO2004088650A1 (en) * | 2003-03-28 | 2004-10-14 | Fujitsu Limited | Light irradiation head and information storage device |
| US7239599B2 (en) | 2003-03-28 | 2007-07-03 | Fujitsu Limited | Light irradiation head and information storage apparatus |
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