JP2000095526A - Pressure reducing device for reduced-pressure defoaming system - Google Patents
Pressure reducing device for reduced-pressure defoaming systemInfo
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は減圧脱泡システムの
減圧装置に係り、特に溶融ガラスや溶融金属等の高温溶
融物の清澄工程において、高温溶融物内の気泡を除去す
る減圧脱泡システムの減圧装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vacuum degassing apparatus for a vacuum degassing system, and more particularly to a vacuum degassing system for removing air bubbles in a high-temperature melt in a fining process of a high-temperature melt such as molten glass or molten metal. It relates to a decompression device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】減圧脱泡槽としては、サイフォン式、水
平式等の減圧脱泡槽が知られており、特開平３−３３０
２０号公報には、サイフォン式の減圧脱泡槽が適用され
た減圧脱泡システムの一例が開示されている。前記減圧
脱泡システムは、溶融ガラス用のシステムであり、主と
して溶融槽、上昇管、減圧脱泡槽、下降管、及び貯留槽
から構成されている。脱泡前の溶融ガラスは、前記溶融
槽に溜められた後、サイフォンの原理によって前記上昇
管から減圧脱泡槽に導かれ、ここで脱泡される。そし
て、脱泡された溶融ガラスは、前記下降管から貯留槽に
導かれ、そして、成形工程に導かれる。以上が前記減圧
脱泡システムによる溶融ガラスの流れである。2. Description of the Related Art As a vacuum degassing tank, a siphon type, horizontal type, etc. vacuum degassing tank is known.
No. 20 discloses an example of a vacuum degassing system to which a siphon type vacuum degassing tank is applied. The vacuum degassing system is a system for molten glass, and mainly includes a melting tank, an ascending pipe, a vacuum degassing tank, a descending pipe, and a storage tank. After the molten glass before defoaming is stored in the melting tank, the molten glass is guided from the riser pipe to a reduced-pressure defoaming tank by the siphon principle, where it is defoamed. The defoamed molten glass is guided from the downcomer to a storage tank, and then to a forming step. The above is the flow of the molten glass by the vacuum degassing system.
【０００３】ところで、前記減圧脱泡槽は、大気圧より
も減圧下で運転されるため、この減圧脱泡槽には、大気
側から減圧脱泡槽への空気の漏れ込み（リーク）を防止
するシール機構が設けられている。しかし、前記シール
機構では、完全な気密状態を保持することは困難であ
り、多少のリークが生じる。そこで、従来の減圧脱泡槽
には減圧装置が設けられ、この減圧装置の真空ポンプに
よって大気側からのリーク量以上の空気を吸引すること
により、減圧脱泡槽内の減圧度を保持している。また、
前記真空ポンプだけでは、減圧度を安定に保持すること
が難しいので、これを解消するために、大気リーク弁を
減圧脱泡槽に接続し、このリーク弁の開度と真空ポンプ
の回転数とを制御することにより、減圧度を安定に保持
している。Since the vacuum degassing tank is operated at a pressure lower than the atmospheric pressure, leakage of air from the atmosphere side to the vacuum degassing tank is prevented. A sealing mechanism is provided. However, it is difficult for the seal mechanism to maintain a completely airtight state, and some leakage occurs. Therefore, a conventional decompression tank is provided with a decompression device, and a vacuum pump of the decompression device sucks air of a leak amount or more from the atmosphere side to maintain the degree of decompression in the decompression tank. I have. Also,
Since it is difficult to maintain the degree of decompression stably with the vacuum pump alone, in order to solve this, an air leak valve is connected to the decompression degassing tank, and the degree of opening of the leak valve, the number of rotations of the vacuum pump and , The degree of pressure reduction is maintained stably.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の減圧脱泡槽では、減圧脱泡槽にリーク弁が直接接続
されているため、以下の不具合が生じていた。即ち、リ
ーク弁を開放すると、外気が減圧脱泡槽内に進入するた
め、減圧脱泡槽内の温度が下がり、これによって、減圧
脱泡槽の運転が不安定になるという欠点があった。ま
た、外気が減圧脱泡槽内を通過することにより、減圧脱
泡槽内で発生した各種揮散物が排気配管に多量に排出さ
れるので、配管系にトラブルが発生し、減圧脱泡槽の運
転が不安定になるという欠点があった。However, in the conventional vacuum degassing tank, since the leak valve is directly connected to the vacuum degassing tank, the following problems have occurred. That is, when the leak valve is opened, the outside air enters into the vacuum degassing tank, so that the temperature in the vacuum degassing tank decreases, thereby causing the operation of the vacuum degassing tank to be unstable. Also, as the outside air passes through the vacuum degassing tank, a large amount of various volatiles generated in the vacuum degassing tank are discharged to the exhaust pipe, causing trouble in the piping system, and causing a trouble in the vacuum degassing tank. There was a disadvantage that the operation became unstable.
【０００５】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
もので、リーク弁の設置位置を改善し、減圧脱泡槽内の
温度変化と揮散物の多量排出とを防止することにより、
減圧脱泡槽を安定して運転することができる減圧脱泡シ
ステムの減圧装置を提供することを目的とする。[0005] The present invention has been made in view of such circumstances, and by improving the installation position of the leak valve, by preventing the temperature change in the vacuum degassing tank and discharge of a large amount of volatile matter,
An object of the present invention is to provide a decompression device of a decompression degassing system capable of stably operating a decompression degassing tank.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、高温溶融物を脱泡する減圧脱泡槽と、前
記減圧脱泡槽に配管を介して連結されるとともに、駆動
されることにより減圧脱泡槽内の高温気体を前記配管を
介して吸引し、減圧脱泡槽を減圧させる真空ポンプと、
前記配管に設けられ前記真空ポンプで吸引された前記減
圧脱泡槽内の高温気体を冷却する冷却手段と、前記冷却
手段と前記真空ポンプとの間に位置する前記配管に取り
付けられ、開放されることにより前記配管を大気開放す
るリーク弁と、前記リーク弁の開度と前記真空ポンプの
回転数とを制御して、減圧脱泡槽内の減圧度を調整する
制御手段と、を備えたことを特徴とする。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a vacuum degassing tank for defoaming a high-temperature melt, and is connected to the vacuum degassing tank via a pipe, A vacuum pump that sucks high-temperature gas in the vacuum degassing tank through the piping by being performed, and decompresses the vacuum degassing tank,
A cooling unit provided in the pipe for cooling the high-temperature gas in the vacuum degassing tank sucked by the vacuum pump, and attached to the pipe located between the cooling unit and the vacuum pump, and opened. A leak valve that opens the piping to the atmosphere, and control means for controlling the opening degree of the leak valve and the rotation speed of the vacuum pump to adjust the degree of pressure reduction in the vacuum degassing tank. It is characterized by.
【０００７】請求項１記載の発明によれば、冷却手段と
真空ポンプとの間に位置する配管にリーク弁を設けたの
で、リーク弁を開いても減圧脱泡槽は大気開放されな
い。これにより、減圧脱泡槽内の温度は一定に保持さ
れ、また、揮散物が配管に多量に排出されることもない
ので、減圧脱泡槽を安定して運転することができる。更
に、真空ポンプで吸引される高温気体の揮散物は、リー
ク弁から導入される外気によって希釈されるので、高濃
度の揮散物による排気配管系のトラブルも防止すること
ができる。According to the first aspect of the present invention, since the leak valve is provided in the pipe located between the cooling means and the vacuum pump, the vacuum degassing tank is not opened to the atmosphere even when the leak valve is opened. Thereby, the temperature in the vacuum degassing tank is kept constant, and since a large amount of volatile matter is not discharged to the pipe, the vacuum degassing tank can be operated stably. Furthermore, since the volatile matter of the high-temperature gas sucked by the vacuum pump is diluted by the outside air introduced from the leak valve, troubles in the exhaust piping system due to the volatile matter of high concentration can be prevented.
【０００８】請求項２記載の発明によれば、真空ポン
プ、冷却手段、リーク弁、及び制御手段から成る排気系
を複数設け、これらの排気系を切り替えて使用するよう
にしたので、１つの排気系の使用中に他の排気系をメン
テナンスすることができる。減圧脱泡槽の排気中には、
配管等をつまらせる原因となる物質が含有されているた
め、このように複数の排気系を切り替えて使用すれば、
減圧装置を連続運転することができるとともに、減圧装
置の使用寿命も延ばすことができる。According to the second aspect of the present invention, a plurality of exhaust systems including a vacuum pump, a cooling means, a leak valve, and a control means are provided, and these exhaust systems are switched to be used. Other exhaust systems can be maintained while the system is in use. During the evacuation of the vacuum degassing tank,
Because it contains substances that can cause pipes and the like to be clogged, if multiple exhaust systems are switched and used in this way,
The pressure reducing device can be operated continuously, and the service life of the pressure reducing device can be extended.
【０００９】請求項３記載の発明によれば、真空ポンプ
と冷却手段との間に、真空ポンプの駆動によって真空に
保持されるタンクを設けたので、真空ポンプの緊急停止
時にこのタンクを真空ポンプの代用とすることができ
る。即ち、前記タンクは真空に保持されているので、真
空ポンプと同様のリーク空気吸引機能を有し、これによ
り減圧脱泡槽を減圧することができるからである。この
場合、タンクと真空ポンプとの間に遮断弁を設け、この
遮断弁を閉じてタンクと大気とを遮断することにより、
前記タンクの前記機能を十分に発揮させることができ
る。According to the third aspect of the present invention, a tank is provided between the vacuum pump and the cooling means, the tank being kept in a vacuum by driving the vacuum pump. Can be substituted. That is, since the tank is held in a vacuum, it has a leak air suction function similar to that of a vacuum pump, whereby the pressure in the vacuum degassing tank can be reduced. In this case, a shutoff valve is provided between the tank and the vacuum pump, and the shutoff valve is closed to shut off the tank from the atmosphere.
The function of the tank can be sufficiently exhibited.
【００１０】[0010]
【発明の実施の形態】以下、添付図面に従って、溶融ガ
ラスの清澄工程に適用された本発明に係る減圧脱泡シス
テムの減圧装置の実施の形態について詳説する。図１
は、本実施の形態の減圧装置１０を示す全体構造図であ
り、当該減圧装置１０は図１の如く、減圧脱泡槽１２を
含めて構成されている。そこで、減圧装置１０の主要部
分を説明するまえに、前記減圧脱泡槽１２が適用された
減圧脱泡システムについて説明する。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a decompression system for a vacuum degassing system according to the present invention, which is applied to a process for refining molten glass. FIG.
FIG. 1 is an overall structural diagram showing a decompression device 10 of the present embodiment, and the decompression device 10 is configured to include a decompression degassing tank 12 as shown in FIG. Therefore, before explaining the main part of the decompression device 10, a decompression system using the decompression tank 12 will be described.
【００１１】図２に示すように前記減圧脱泡槽１２は、
サイフォン式の脱泡槽であり、その左端部には、白金か
らなる上昇管１４が取り付けられ、この上昇管１４の下
端部は、溶融槽１６に貯留されている溶融ガラスＧに浸
漬されている。また、前記溶融槽１６にはスターラー１
８が設置され、このスターラー１８の回転駆動によって
溶融槽１６内の溶融ガラスＧが攪拌される。一方、減圧
脱泡槽１２の図３上右端部には、下降管２０が取り付け
られ、この下降管２０は上昇管１４と同じく白金で形成
されている。前記下降管２０の下端部は、貯留槽２２の
溶融ガラスＧに浸漬されており、この貯留槽２２にも、
貯留槽２２内の溶融ガラスＧを攪拌するスターラ２４が
設置されている。As shown in FIG. 2, the vacuum degassing tank 12 comprises:
It is a siphon type defoaming tank, and a rising pipe 14 made of platinum is attached to the left end thereof, and the lower end of the rising pipe 14 is immersed in the molten glass G stored in the melting tank 16. . Further, the stirrer 1 is provided in the melting tank 16.
The molten glass G in the melting tank 16 is stirred by the rotation of the stirrer 18. On the other hand, a downcomer 20 is attached to the lower right end of the vacuum degassing tank 12 in FIG. 3, and the downcomer 20 is made of platinum, like the upcomer 14. The lower end of the downcomer pipe 20 is immersed in the molten glass G of the storage tank 22.
A stirrer 24 that stirs the molten glass G in the storage tank 22 is provided.
【００１２】前記上昇管１４、減圧脱泡槽１２、及び下
降管２０は図示しない電気加熱装置又はその他の加熱手
段によって加熱され、温度制御系によって所定の温度、
例えば１２００〜１４５０℃程度に加熱されている。ま
た、前記上昇管１４、減圧脱泡槽１２、及び下降管２０
はケーシング２６に収納されるとともに、それらの間に
充填された断熱材２８によって放熱が防止されている。The ascending pipe 14, the vacuum degassing tank 12, and the descending pipe 20 are heated by an electric heating device or other heating means (not shown), and a predetermined temperature is controlled by a temperature control system.
For example, it is heated to about 1200 to 1450 ° C. In addition, the riser pipe 14, the vacuum degassing tank 12, and the descender pipe 20
Are housed in a casing 26 and heat radiation is prevented by a heat insulating material 28 filled between them.
【００１３】このように構成された減圧脱泡槽１２は、
ステンレス製、又は鉄（ＳＳ）製の真空ハウジング３０
に包囲され、この真空ハウジング３０に、減圧装置１０
を構成する第１減圧装置３２が排気配管３４を介して接
続されるとともに、第２減圧装置３６が排気配管３８を
介して接続されている。これらの減圧装置３２、３６に
よって減圧脱泡槽１２が所定の減圧度に減圧されると、
溶融槽１６内の溶融ガラスＧがサイフォンの原理によっ
て上昇管１４を介して減圧脱泡槽１２内に供給され、こ
こで脱泡される。脱泡された溶融ガラスＧは、下降管２
０から貯留槽２２に導かれた後、図示しない成形工程に
導かれる。以上が前記減圧脱泡システムの作用である。
なお、本実施の形態では、減圧脱泡槽１２としてサイフ
ォン式のものを適用したが、これに限られるものではな
く、水平式の脱泡槽のような他の減圧脱泡槽にも適用す
ることができる。また、溶融ガラスＧ用の減圧脱泡槽を
例示したが、溶融金属等の他の高温溶融物用の減圧脱泡
槽でもよい。The vacuum degassing tank 12 configured as above is
Stainless steel or iron (SS) vacuum housing 30
The vacuum housing 30 is provided with a decompression device 10.
Are connected via an exhaust pipe 34, and the second pressure reducer 36 is connected via an exhaust pipe 38. When the vacuum degassing tank 12 is decompressed to a predetermined degree of decompression by these decompression devices 32 and 36,
The molten glass G in the melting tank 16 is supplied into the reduced-pressure defoaming tank 12 through the riser 14 by the principle of siphon, where it is defoamed. The defoamed molten glass G is supplied to the downcomer 2
After being guided from 0 to the storage tank 22, it is guided to a molding step (not shown). The above is the operation of the vacuum degassing system.
In the present embodiment, a siphon type vacuum degassing tank 12 is applied as the vacuum degassing tank 12, but the present invention is not limited to this. The present invention is also applicable to other vacuum degassing tanks such as a horizontal type degassing tank. be able to. In addition, the vacuum degassing tank for the molten glass G is illustrated, but a vacuum degassing tank for other high-temperature molten materials such as molten metal may be used.
【００１４】次に、図１を参照して減圧装置１０につい
て説明する。前述したように前記減圧装置１０は、減圧
脱泡槽１２を有するほか、主として第１減圧装置３２、
及び第２減圧装置３６から構成されている。前記第１減
圧装置３２は、配管３４に設けられた手動弁４０を介し
て減圧脱泡槽１２側に接続され、また、第２減圧装置３
６も同様に配管３８に設けられた手動弁４２を介して減
圧脱泡槽１２側に接続されている。Next, the decompression device 10 will be described with reference to FIG. As described above, the decompression device 10 includes the decompression degassing tank 12, and mainly includes the first decompression device 32,
And a second pressure reducing device 36. The first decompression device 32 is connected to the decompression and deaeration tank 12 via a manual valve 40 provided in a pipe 34.
6 is similarly connected to the vacuum degassing tank 12 side via a manual valve 42 provided in the pipe 38.
【００１５】これらの減圧装置３２、３６は同時に使用
されるものではなく、一方が使用されている場合には他
方がメンテナンスされるように交互に切り替えて使用さ
れる。例えば、第１減圧装置３２を使用する場合には、
前記手動弁４０を開いて減圧脱泡槽１２側と第１減圧装
置３２とを連通させる。そして、手動弁４２を閉じて減
圧脱泡槽１２側と第２減圧装置３６とを遮断させる。こ
の時に、第２減圧装置３６はメンテナンスされ、第２減
圧装置３６の配管３８等に付着した塵（揮散物に起因す
る塵）が除去される。このように第１減圧装置３２と第
２減圧装置３６とを切り替えて使用すれば、減圧装置１
０を連続運転することができるとともに、減圧装置１０
の使用寿命も延ばすことができる。なお、本実施の形態
では、２台の減圧装置３２、３６を設けたが、３台以上
設置してもよい。These decompression devices 32 and 36 are not used at the same time, and when one is used, they are alternately used so that the other is maintained. For example, when using the first decompression device 32,
The manual valve 40 is opened to connect the reduced-pressure defoaming tank 12 with the first pressure reducing device 32. Then, the manual valve 42 is closed to shut off the vacuum degassing tank 12 side from the second pressure reducing device 36. At this time, the second pressure reducing device 36 is maintained, and dust (dust resulting from volatile matter) attached to the pipe 38 and the like of the second pressure reducing device 36 is removed. As described above, if the first pressure reducing device 32 and the second pressure reducing device 36 are switched and used, the pressure reducing device 1
0 can be operated continuously, and the pressure reducing device 10
Service life can be extended. In this embodiment, two decompression devices 32 and 36 are provided, but three or more decompression devices may be provided.
【００１６】前記減圧装置３２、３６について説明する
と、この減圧装置３２、３６は同一の構成なので、ここ
では第１減圧装置３２について説明し、第２減圧装置３
６については、第１減圧装置３２と同一の符号を付すこ
とにより、その説明は省略する。前記第１減圧装置３２
は、主として真空ポンプ４４、コンデンサー（冷却手段
に相当）４６、及びリーク弁４８から構成されている。
前記コンデンサー４６は配管３４の最も上流側に配置さ
れ、これから下流側に向けて薬剤散布装置５０、集塵機
５２、フイルタ５４、レシーバータンク（真空ポンプ４
４の駆動によって真空に保持されるタンク）５６、遮断
弁５８、及び前記真空ポンプ４４が順に配設されてい
る。したがって、真空ポンプ４４が駆動されると、減圧
脱泡槽１２内の高温気体が、コンデンサー４６→薬剤散
布装置５０→集塵機５２→フイルタ５４→レシーバータ
ンク５６→遮断弁５８を介して真空ポンプ４４から大気
に放出される。The decompression devices 32 and 36 will be described. Since the decompression devices 32 and 36 have the same configuration, the first decompression device 32 will be described here and the second decompression device 3 will be described.
For 6, the same reference numerals as those of the first decompression device 32 are used, and the description thereof is omitted. The first decompression device 32
Is mainly composed of a vacuum pump 44, a condenser (corresponding to a cooling means) 46, and a leak valve 48.
The condenser 46 is disposed at the most upstream side of the pipe 34, and from there downstream, the chemical spraying device 50, the dust collector 52, the filter 54, and the receiver tank (the vacuum pump 4).
4, a tank 56 which is kept in a vacuum by driving the pump 4, a shutoff valve 58, and the vacuum pump 44 are arranged in this order. Therefore, when the vacuum pump 44 is driven, the high-temperature gas in the vacuum degassing tank 12 is discharged from the vacuum pump 44 via the condenser 46 → the chemical spraying device 50 → the dust collector 52 → the filter 54 → the receiver tank 56 → the shutoff valve 58. Released to the atmosphere.
【００１７】前記リーク弁４８は分岐管６０に配設さ
れ、この分岐管６０は、コンデンサー４６と薬剤散布装
置５８との間に位置する配管３４Ａ（※第２減圧装置３
６側では配管３８Ａ）に接続されている。前記リーク弁
４８の下流側には、遮断弁６２及び吸込フイルタ６４が
順に配設されている。したがって、前記リーク弁４８が
開放されると、配管３４Ａ内が負圧に維持されているの
で、外気が吸込フイルタ６４→遮断弁６２→リーク弁４
８を介して配管３４Ａに導入される。なお、リーク弁４
８の開度と真空ポンプ４４の回転数とは、減圧脱泡槽１
２内の減圧度が一定に保持されるように、制御装置（制
御手段に相当）６６によって制御されている。The leak valve 48 is provided in a branch pipe 60, and the branch pipe 60 is connected to a pipe 34A (* the second pressure reducing device 3) located between the condenser 46 and the medicine spraying device 58.
On the 6 side, it is connected to a pipe 38A). On the downstream side of the leak valve 48, a shutoff valve 62 and a suction filter 64 are sequentially arranged. Therefore, when the leak valve 48 is opened, since the inside of the pipe 34A is maintained at a negative pressure, the outside air flows through the suction filter 64 → the shutoff valve 62 → the leak valve 4
8, and is introduced into the pipe 34A. The leak valve 4
8 and the number of rotations of the vacuum pump 44,
The control device (corresponding to control means) 66 is controlled so that the degree of decompression in 2 is kept constant.
【００１８】ところで、本実施の形態のような減圧装置
３２では、減圧脱泡槽１２を大気圧より減圧下で運転す
るため、排気配管３４には、運転中の減圧脱泡槽１２か
ら発生した水、ＳＯx ガス、カーボン等の多種類の発生
物質（揮散物等）が気体、液体、固体の状態で高温気体
と一緒に進入してくる。これらの発生物質は、除去機構
を設置する等して適当な処置を行わないと、配管３４等
につまり、付着を発生させるので、安定した運転の妨げ
となる。In the decompression device 32 of this embodiment, since the decompression tank 12 is operated at a pressure lower than the atmospheric pressure, the exhaust pipe 34 is generated from the decompression tank 12 during operation. water, SO x gas, various types of generating substance such as carbon (volatilization, etc.) is a gas, a liquid, comes to enter with hot gas in the solid state. Unless proper treatment is performed by installing a removing mechanism or the like, these generated substances cause adhesion to the pipes 34 and the like, which hinders stable operation.
【００１９】そこで、本実施の形態では、減圧脱泡槽１
２側の出口に前記コンデンサー４６を設置し、このコン
デンサー４６によって、前記高温気体を揮散物の露点以
下に冷却し、揮散物及び水分を除去するようにしてい
る。図３は、前記コンデンサー４６の要部断面図であ
る。同図に示すコンデンサー４６は、高温気体が通過す
る空間部６８が形成されたケーシング７０を有し、この
ケーシング７０の空間部６８に複数本の熱交換用チュー
ブ７１、７１…配設されている。また、前記ケーシング
の図３上左側面には、高温気体の導入管７２が設けられ
ており、この導入管７２を介して減圧脱泡槽１２からの
高温気体がケーシング７０の空間部６８に導入される。
また、ケーシングの図３上右側面には、排気管７４が設
けられており、この排気管７４の後流側に薬剤散布装置
５０（図１参照）が連結されている。したがって、薬剤
散布装置５０には、揮散物と水とが除去された気体が導
入される。Therefore, in the present embodiment, the vacuum degassing tank 1
The condenser 46 is provided at the outlet on the second side, and the condenser 46 cools the high-temperature gas to a temperature lower than the dew point of the volatile matter, thereby removing the volatile matter and moisture. FIG. 3 is a sectional view of a main part of the condenser 46. The condenser 46 shown in the drawing has a casing 70 in which a space 68 through which a high-temperature gas passes is formed, and a plurality of heat exchange tubes 71 are arranged in the space 68 of the casing 70. . A high-temperature gas introduction pipe 72 is provided on the upper left side of the casing in FIG. 3, and the high-temperature gas from the vacuum degassing tank 12 is introduced into the space 68 of the casing 70 via the introduction pipe 72. Is done.
An exhaust pipe 74 is provided on the upper right side of the casing in FIG. 3, and the medicine spraying device 50 (see FIG. 1) is connected to the downstream side of the exhaust pipe 74. Therefore, a gas from which volatile matter and water have been removed is introduced into the chemical spraying device 50.
【００２０】図３に示した前記チューブ７１、７１…は
前記空間部６８において、中央部が垂れ下がるように垂
設されている。また、チューブ７１、７１…の両端部は
それぞれ結束され、その一端部が冷却水導入管７６に接
続され、他端部が冷却水排出管７８に接続されている。
前記冷却水導入管７６は、冷媒である冷水の供給管（不
図示）を介して冷却源（不図示）に接続されており、前
記冷却水排出管７８は排水管（不図示）を介して前記冷
却源に接続されている。即ち、前記冷水は、冷却源とコ
ンデンサー４６との間で循環使用される。なお、冷媒は
水に限定されるものではない。The tubes 71 shown in FIG. 3 are suspended from the space 68 so that the central portion thereof is suspended. Also, both ends of the tubes 71, 71... Are bound, one end of which is connected to the cooling water introduction pipe 76, and the other end of which is connected to the cooling water discharge pipe 78.
The cooling water introduction pipe 76 is connected to a cooling source (not shown) through a supply pipe (not shown) of cold water as a refrigerant, and the cooling water discharge pipe 78 is connected through a drain pipe (not shown). It is connected to the cooling source. That is, the cold water is circulated between the cooling source and the condenser 46. Note that the refrigerant is not limited to water.
【００２１】一方、ケーシング７０の空間部６８には、
遮蔽板８０が垂設されている。この遮蔽板８０によって
空間部６８は、遮蔽板８０の下部空間８２を介して左室
８４と右室８６とに仕切られている。このような遮蔽板
８０を設けると、導入管７２から導入された高温気体
は、左室８４を下降流となって流れ、そして、下部空間
８２から右室８６に回り込み、右室８６を上昇流となっ
て流れた後、排気管７４から後流側に排出される。した
がって、遮蔽板８０を設けると、限られたスペースの空
間部６８で高温気体の流路長を長くとることができるの
で、高温気体との熱交換を効率良く行うことができる。
これによって、揮散物と水とが効率良く除去される。な
お、図３上符号８８は、ケーシング７０の下部開口部７
０Ａを開放するバルブである。このバルブ８８で前記開
口部７０Ａを開放すると、ケーシング７０に溜められ
た、即ちコンデンサー４６で除去された揮散物と水との
混合液９０がドレンパン９２に排出される。On the other hand, in the space 68 of the casing 70,
A shielding plate 80 is provided vertically. The space 68 is partitioned by the shielding plate 80 into a left chamber 84 and a right chamber 86 via a lower space 82 of the shielding plate 80. When such a shielding plate 80 is provided, the high-temperature gas introduced from the introduction pipe 72 flows in the left chamber 84 as a downward flow, and then flows from the lower space 82 to the right chamber 86, and flows upward in the right chamber 86. After that, it is discharged from the exhaust pipe 74 to the downstream side. Therefore, when the shielding plate 80 is provided, the flow path length of the high-temperature gas can be increased in the limited space 68, so that heat exchange with the high-temperature gas can be performed efficiently.
Thereby, volatile matter and water are efficiently removed. The upper reference numeral 88 in FIG.
This is a valve that opens 0A. When the opening 70A is opened by the valve 88, the mixed liquid 90 of the volatile matter and water stored in the casing 70, that is, removed by the condenser 46, is discharged to the drain pan 92.
【００２２】図１に示す薬剤散布装置５０は、コンデン
サー４６を通過した気体中の酸性物質を除去する装置で
ある。前記薬剤散布装置５０は、苛性ソーダ、ソーダ
灰、軽灰等の中和物質を散布するノズルを有しており、
このノズルから中和物質を散布することによって、前記
気体中に含有する硫酸等の酸性物質が除去される。この
ような薬剤散布装置５０を設けると、薬剤散布装置５０
から下流側の配管３４や真空ポンプ４４等を酸性物質か
ら保護することができる。The chemical spraying device 50 shown in FIG. 1 is a device for removing acidic substances in the gas that has passed through the condenser 46. The chemical spraying device 50 has a nozzle for spraying a neutralizing substance such as caustic soda, soda ash, and light ash,
By spraying a neutralizing substance from this nozzle, acidic substances such as sulfuric acid contained in the gas are removed. When such a medicine spraying device 50 is provided, the medicine spraying device 50
The piping 34 and the vacuum pump 44 on the downstream side can be protected from acidic substances.
【００２３】前記薬剤散布装置５０から排出された気
体、即ち、酸性物質が除去された気体は、集塵機５２に
導入される。この集塵機５２によって前記気体中に含有
するカーボン粉等の固体物質が粗取りされる。そして、
集塵機５２から排出された気体は、即ち、カーボン粉等
の微粒子が残存する気体は、フイルタ５４を通過するこ
とにより、その微粒子が最終的に除去される。これによ
って、減圧脱泡槽１２から排気された高温気体が完全に
浄化される。そして、浄化された気体は、レシーバータ
ンク５６、及び遮断弁５８を介して真空ポンプ４４から
大気に放出される。The gas discharged from the medicine spraying device 50, that is, the gas from which the acidic substances have been removed, is introduced into the dust collector 52. The dust collector 52 roughly removes a solid substance such as carbon powder contained in the gas. And
The gas discharged from the dust collector 52, that is, the gas in which fine particles such as carbon powder remain, passes through the filter 54, and the fine particles are finally removed. Thereby, the high-temperature gas exhausted from the vacuum degassing tank 12 is completely purified. Then, the purified gas is discharged from the vacuum pump 44 to the atmosphere via the receiver tank 56 and the shutoff valve 58.
【００２４】前記レシーバータンク５６は、真空ポンプ
４４の運転時において略真空状態に維持され、真空バッ
ファタンクとして使用されている。このようなレシーバ
ータンク５６を設けると、真空ポンプ４４が故障等の原
因で緊急停止した場合に便利である。即ち、レシーバー
タンク５６が真空ポンプ４４と同様のリーク空気吸引機
能を発揮し、減圧脱泡槽１２を減圧させることができる
からである。この時、前記遮断弁５８は閉じられ、レシ
ーバータンク５６と大気とが遮断される。そして、レシ
ーバータンク５６の機能中に、前記真空ポンプ４４を修
理すればよい。これによって、真空ポンプ４４が緊急停
止した場合でも、減圧装置３４を継続して運転すること
ができる。なお、遮断弁５８は電磁弁であり、真空ポン
プ４４が緊急停止した時に閉じるように制御されてい
る。The receiver tank 56 is maintained in a substantially vacuum state when the vacuum pump 44 is operated, and is used as a vacuum buffer tank. Providing such a receiver tank 56 is convenient when the vacuum pump 44 is emergency stopped due to a failure or the like. That is, the receiver tank 56 exhibits the same leak air suction function as the vacuum pump 44, and can reduce the pressure in the vacuum degassing tank 12. At this time, the shut-off valve 58 is closed to shut off the receiver tank 56 from the atmosphere. Then, the vacuum pump 44 may be repaired while the receiver tank 56 is functioning. Thus, even when the vacuum pump 44 is stopped in an emergency, the pressure reducing device 34 can be continuously operated. The shutoff valve 58 is an electromagnetic valve, and is controlled so as to close when the vacuum pump 44 is stopped in an emergency.
【００２５】一方、前記リーク弁４８は電動弁であり、
制御装置６６によってその開度が制御されている。制御
装置６６によってリーク弁４８が開放されると、外気が
吸込フイルタ６４から吸引され、そして遮断弁６２、及
びリーク弁４８を介して配管３４Ａに外気が導入され
る。この外気の導入量を決定するリーク弁４８の開度
と、前記真空ポンプ４４の回転数とが制御装置６６によ
って制御されている。これにより、減圧脱泡槽１２の減
圧度が一定に保持されている。なお、遮断弁６２は電磁
弁であり、遮断弁５８と同様に真空ポンプ４４が緊急停
止した場合に閉じられるように制御されている。On the other hand, the leak valve 48 is an electric valve,
The opening is controlled by the control device 66. When the leak valve 48 is opened by the control device 66, the outside air is sucked from the suction filter 64, and the outside air is introduced into the pipe 34 </ b> A via the shutoff valve 62 and the leak valve 48. The opening of the leak valve 48 for determining the amount of outside air introduced and the number of revolutions of the vacuum pump 44 are controlled by a control device 66. As a result, the degree of pressure reduction in the vacuum degassing tank 12 is kept constant. The shutoff valve 62 is an electromagnetic valve, and is controlled so as to be closed when the vacuum pump 44 is stopped in an emergency, like the shutoff valve 58.
【００２６】このように構成された本実施の形態の減圧
装置１０によれば、コンデンサー４６と薬剤散布装置５
０との間に位置する配管３４Ａにリーク弁４８が設けら
れているので、リーク弁４８を開いても減圧脱泡槽１２
内の温度は一定に保持され、また、揮散物が配管３４に
多量に排出されることもない。したがって、前記減圧装
置１０では、減圧脱泡槽１２を安定して運転することが
できる。更に、真空ポンプ４４で吸引される高温気体の
揮散物は、リーク弁４８から導入される外気によって希
釈されるので、高濃度の揮散物による排気配管系のトラ
ブルも防止することができる。According to the pressure reducing device 10 of the present embodiment configured as described above, the condenser 46 and the medicine spraying device 5
0 is provided with the leak valve 48 in the pipe 34A located between the pressure reducing and degassing tanks 12 even if the leak valve 48 is opened.
The inside temperature is kept constant, and a large amount of volatile matter is not discharged to the pipe 34. Therefore, in the decompression device 10, the decompression degassing tank 12 can be operated stably. Further, since the volatile matter of the high-temperature gas sucked by the vacuum pump 44 is diluted by the outside air introduced from the leak valve 48, it is possible to prevent a trouble in the exhaust piping system due to the volatile matter having a high concentration.
【００２７】なお、本実施の形態では、リーク弁４８を
コンデンサー４６と薬剤散布装置５０との間に設けた
が、これに限られるものではない。例えば、減圧脱泡槽
１２とコンデンサー４６との間に設けても良く、また、
薬剤散布装置５０と真空ポンプ４４との間に設けてもよ
い。しかしながら、減圧脱泡槽１２の温度を一定に保持
する観点からみれば、コンデンサー４６よりも下流側に
設けることが望ましく、また、薬剤散布装置５０や集塵
機５２の負荷を軽減する観点かみれば、薬剤散布装置５
０の上流側に設けることが望ましい。即ち、リーク弁５
０を薬剤散布装置５０の上流側に設ければ、高温気体中
の揮散物を外気で希釈することができるので、薬剤散布
装置５０や集塵機５２の負荷を軽減することができるか
らである。したがって、リーク弁４８の最良の取付位置
は、図１の如くコンデンサー４６と薬剤散布装置５０と
の間となる。In this embodiment, the leak valve 48 is provided between the condenser 46 and the medicine spraying device 50. However, the present invention is not limited to this. For example, it may be provided between the vacuum degassing tank 12 and the condenser 46,
It may be provided between the medicine spraying device 50 and the vacuum pump 44. However, from the viewpoint of keeping the temperature of the vacuum degassing tank 12 constant, it is desirable to provide the downstream side of the condenser 46, and from the viewpoint of reducing the load on the chemical spraying device 50 and the dust collector 52, Drug spraying device 5
It is desirable to provide it upstream of 0. That is, the leak valve 5
If 0 is provided on the upstream side of the chemical spraying device 50, the volatile matter in the high-temperature gas can be diluted with the outside air, so that the load on the chemical spraying device 50 and the dust collector 52 can be reduced. Therefore, the best mounting position of the leak valve 48 is between the condenser 46 and the medicine spraying device 50 as shown in FIG.
【００２８】[0028]
【発明の効果】以上述べたように本発明に係る減圧脱泡
システムの減圧装置によれば、冷却手段と真空ポンプと
の間に位置する配管にリーク弁を設けたので、リーク弁
を開いても減圧脱泡槽内の温度は一定に保持され、ま
た、揮散物が多量に排出されることもない。したがっ
て、本発明によれば、減圧脱泡槽を安定して運転するこ
とができる。更に、真空ポンプで吸引される高温気体の
揮散物は、リーク弁から導入される外気によって希釈さ
れるので、高濃度の揮散物による排気配管系のトラブル
も防止することができる。As described above, according to the pressure reducing device of the vacuum degassing system according to the present invention, the leak valve is provided in the pipe located between the cooling means and the vacuum pump. Also, the temperature in the vacuum degassing tank is kept constant, and a large amount of volatile matter is not discharged. Therefore, according to the present invention, the vacuum degassing tank can be operated stably. Furthermore, since the volatile matter of the high-temperature gas sucked by the vacuum pump is diluted by the outside air introduced from the leak valve, troubles in the exhaust piping system due to the volatile matter of high concentration can be prevented.
【図１】本発明の実施の形態に係る減圧脱泡システムの
減圧装置の全体構成図FIG. 1 is an overall configuration diagram of a decompression device of a decompression degassing system according to an embodiment of the present invention.
【図２】サイフォン式の減圧脱泡槽が適用された減圧脱
泡システムの断面図FIG. 2 is a sectional view of a vacuum degassing system to which a siphon type vacuum degassing tank is applied.
【図３】図１に示したコンデンサーの要部断面図FIG. 3 is a sectional view of a main part of the condenser shown in FIG. 1;
１０…減圧装置 １２…減圧脱泡槽 ４４…真空ポンプ ４６…コンデンサー ４８…リーク弁 ５０…薬剤散布装置 ５２…集塵機 ５６…レシーバータンク ５８、６２…遮断弁 ７１…チューブ ８０…遮蔽板 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Decompression device 12 ... Decompression degassing tank 44 ... Vacuum pump 46 ... Condenser 48 ... Leak valve 50 ... Chemical spraying device 52 ... Dust collector 56 ... Receiver tank 58, 62 ... Shut-off valve 71 ... Tube 80 ... Shielding plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹居 祐輔 神奈川県横浜市鶴見区末広町１丁目１番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 内野 晃成 千葉県船橋市北本町１丁目10番１号 旭硝 子株式会社内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Yusuke Takei 1-1-1 Suehirocho, Tsurumi-ku, Yokohama-shi, Kanagawa Prefecture Inside Asahi Glass Co., Ltd. Asahi Glass Co., Ltd.
Claims (3)
動されることにより減圧脱泡槽内の高温気体を前記配管
を介して吸引し、減圧脱泡槽を減圧させる真空ポンプ
と、 前記配管に設けられ前記真空ポンプで吸引された前記減
圧脱泡槽内の高温気体を冷却する冷却手段と、 前記冷却手段と前記真空ポンプとの間に位置する前記配
管に取り付けられ、開放されることにより前記配管を大
気開放するリーク弁と、 前記リーク弁の開度と前記真空ポンプの回転数とを制御
して、減圧脱泡槽内の減圧度を調整する制御手段と、 を備えたことを特徴とする減圧脱泡システムの減圧装
置。1. A vacuum degassing tank for defoaming a high-temperature melt, connected to the vacuum degassing tank via a pipe, and driven to drive high-temperature gas in the vacuum degassing tank through the pipe. A vacuum pump that sucks through the vacuum pump to depressurize the vacuum degassing tank; a cooling means provided in the pipe and cooling a high-temperature gas in the vacuum degassing tank sucked by the vacuum pump; the cooling means and the vacuum A leak valve attached to the pipe located between the pump and the valve to open the pipe by being opened to the atmosphere, and controlling the opening degree of the leak valve and the rotation speed of the vacuum pump to reduce pressure and defoam. A decompression device for a decompression degassing system, comprising: control means for adjusting the degree of decompression in the tank.
ク弁、及び前記制御手段から成る排気系が複数設けら
れ、これらの排気系は切り替えて使用されることを特徴
とする請求項１記載の減圧脱泡システムの減圧装置。2. The apparatus according to claim 1, wherein a plurality of exhaust systems comprising said vacuum pump, said cooling means, said leak valve, and said control means are provided, and these exhaust systems are switched and used. Decompression device of vacuum degassing system.
置する配管に、真空ポンプの駆動によって真空に保持さ
れるタンクが設けられるともに、該タンクと真空ポンプ
との間に位置する配管に遮断弁が設けられていることを
特徴とする請求項１記載の減圧脱泡システムの減圧装
置。3. A pipe located between the vacuum pump and the cooling means is provided with a tank which is maintained in a vacuum by driving the vacuum pump, and a pipe located between the tank and the vacuum pump. The pressure reducing device of the vacuum degassing system according to claim 1, further comprising a shutoff valve.
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10268289A JP2000095526A (en) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | Pressure reducing device for reduced-pressure defoaming system |
| US09/396,360 US6294005B1 (en) | 1998-09-22 | 1999-09-15 | Vacuum gas releasing system |
| EP99118015A EP0989099B1 (en) | 1998-09-22 | 1999-09-21 | Apparatus for refining high temperature molten materials under reduced pressure |
| DE69917551T DE69917551T2 (en) | 1998-09-22 | 1999-09-21 | The vacuum degassing |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10268289A JP2000095526A (en) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | Pressure reducing device for reduced-pressure defoaming system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000095526A true JP2000095526A (en) | 2000-04-04 |
Family
ID=17456472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10268289A Withdrawn JP2000095526A (en) | 1998-09-22 | 1998-09-22 | Pressure reducing device for reduced-pressure defoaming system |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000095526A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7763369B2 (en) | 2003-08-19 | 2010-07-27 | Prime Polymer Co., Ltd. | Resin composition for fuel cell member |
| CN115650555A (en) * | 2022-11-09 | 2023-01-31 | 湖南亿德和玻璃产业发展有限公司 | Defoaming cooling device in float glass forming process |
| WO2024004827A1 (en) * | 2022-06-27 | 2024-01-04 | Dic株式会社 | Degassing device |
-
1998
- 1998-09-22 JP JP10268289A patent/JP2000095526A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7763369B2 (en) | 2003-08-19 | 2010-07-27 | Prime Polymer Co., Ltd. | Resin composition for fuel cell member |
| WO2024004827A1 (en) * | 2022-06-27 | 2024-01-04 | Dic株式会社 | Degassing device |
| CN115650555A (en) * | 2022-11-09 | 2023-01-31 | 湖南亿德和玻璃产业发展有限公司 | Defoaming cooling device in float glass forming process |
| CN115650555B (en) * | 2022-11-09 | 2024-01-26 | 湖南亿德和玻璃产业发展有限公司 | Defoaming and cooling device in float glass forming process |
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060315 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060317 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20060425 |