JP2000087238A - 多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材 - Google Patents
多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材Info
- Publication number
- JP2000087238A JP2000087238A JP25576698A JP25576698A JP2000087238A JP 2000087238 A JP2000087238 A JP 2000087238A JP 25576698 A JP25576698 A JP 25576698A JP 25576698 A JP25576698 A JP 25576698A JP 2000087238 A JP2000087238 A JP 2000087238A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- coating
- ion plating
- multicolored
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐摩耗性、耐食性などの性能において同等以
上で、ノギスのような測定器に使用した場合の目盛りの
視認性が高く、無公害の表面処理技術を提供する。 【解決手段】 イオンプレーティング法で色の異なる被
膜を２層以上重ねてコーティングし、エッチング法また
はレーザーマーキング法で上層の被膜の一部を除去す
る。すなわち、発色可能な色から下地色、上地色を選択
して上下二層の被膜を生成してから、上層被膜を任意の
パターンで取り去り、下層被膜の色と上層被膜の色と
で、多色を有する部材とする。特に、基材にＣｒメタル
ボンバード処理をし、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結タ
ーゲットによるイオンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被
膜をコーティングした上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＣ
ｒ金属ターゲットによるイオンプレーティング法でＣｒ
Ｎ被膜をコーティングし、エッチング法またはレーザー
マーキング法で上層のＣｒＮ被膜の一部を除去する。前
記ＣｒＮ被膜の膜厚が、１〜１０μｍであるとよい。
上で、ノギスのような測定器に使用した場合の目盛りの
視認性が高く、無公害の表面処理技術を提供する。 【解決手段】 イオンプレーティング法で色の異なる被
膜を２層以上重ねてコーティングし、エッチング法また
はレーザーマーキング法で上層の被膜の一部を除去す
る。すなわち、発色可能な色から下地色、上地色を選択
して上下二層の被膜を生成してから、上層被膜を任意の
パターンで取り去り、下層被膜の色と上層被膜の色と
で、多色を有する部材とする。特に、基材にＣｒメタル
ボンバード処理をし、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結タ
ーゲットによるイオンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被
膜をコーティングした上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＣ
ｒ金属ターゲットによるイオンプレーティング法でＣｒ
Ｎ被膜をコーティングし、エッチング法またはレーザー
マーキング法で上層のＣｒＮ被膜の一部を除去する。前
記ＣｒＮ被膜の膜厚が、１〜１０μｍであるとよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表面処理技術に関
し、特に、ノギスのような測定器に使用する部材に、多
色被膜を生成し、目盛りの視認性が高い耐摩耗性・耐食
性部材を得る多色被膜生成方法に関する。
し、特に、ノギスのような測定器に使用する部材に、多
色被膜を生成し、目盛りの視認性が高い耐摩耗性・耐食
性部材を得る多色被膜生成方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】測定器として数多く使用されているノギ
スを構成する部材は、一般的にはＳＵＳ４２０Ｊ２を基
材として形成し、耐摩耗性と耐食性を高めるために、厚
さが１０μｍとなるように、湿式によるクロムメッキ処
理を施している。さらに、測定値を示すための目盛り
は、レーザーマーキング法で熱を加えて、クロムメッキ
被膜の一部を気化して除去し、該クロムメッキ被膜の一
部を酸化して酸化クロムに変化させて黒色を発色させ、
高い視認性の目盛りを有する部材に加工していた。
スを構成する部材は、一般的にはＳＵＳ４２０Ｊ２を基
材として形成し、耐摩耗性と耐食性を高めるために、厚
さが１０μｍとなるように、湿式によるクロムメッキ処
理を施している。さらに、測定値を示すための目盛り
は、レーザーマーキング法で熱を加えて、クロムメッキ
被膜の一部を気化して除去し、該クロムメッキ被膜の一
部を酸化して酸化クロムに変化させて黒色を発色させ、
高い視認性の目盛りを有する部材に加工していた。
【０００３】しかし、最近の動向として、自然環境を配
慮した低公害の表面処理技術が望まれており、有害薬品
の使用が多い湿式のクロムメッキ処理はこれに反してい
る。
慮した低公害の表面処理技術が望まれており、有害薬品
の使用が多い湿式のクロムメッキ処理はこれに反してい
る。
【０００４】そこで、湿式のクロムメッキ処理に代わる
低公害で耐摩耗性、薬品に対する耐食性に優れ、発色し
た色の視認性が高くなる表面処理技術が望まれていた。
低公害で耐摩耗性、薬品に対する耐食性に優れ、発色し
た色の視認性が高くなる表面処理技術が望まれていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来広く用
いられてきた湿式のクロムメッキ処理に代わり、耐摩耗
性、耐食性などの性能において同等以上で、ノギスのよ
うな測定器に使用した場合の目盛りの視認性が高く、無
公害の表面処理技術を提供することを目的とする。
いられてきた湿式のクロムメッキ処理に代わり、耐摩耗
性、耐食性などの性能において同等以上で、ノギスのよ
うな測定器に使用した場合の目盛りの視認性が高く、無
公害の表面処理技術を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の多色被膜生成方
法は、イオンプレーティング法で色の異なる被膜を２層
以上重ねてコーティングし、エッチング法またはレーザ
ーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する。
法は、イオンプレーティング法で色の異なる被膜を２層
以上重ねてコーティングし、エッチング法またはレーザ
ーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する。
【０００７】特に、基材にＣｒメタルボンバード処理を
し、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイ
オンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティング
した上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＣｒ金属ターゲット
によるイオンプレーティング法でＣｒＮ被膜をコーティ
ングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で上
層のＣｒＮ被膜の一部を除去する。前記ＣｒＮ被膜の膜
厚が、１〜１０μｍであるとよい。
し、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイ
オンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティング
した上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＣｒ金属ターゲット
によるイオンプレーティング法でＣｒＮ被膜をコーティ
ングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で上
層のＣｒＮ被膜の一部を除去する。前記ＣｒＮ被膜の膜
厚が、１〜１０μｍであるとよい。
【０００８】または、基材にＴｉメタルボンバード処理
をし、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによる
イオンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティン
グした上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉ金属ターゲッ
トによるイオンプレーティング法でＴｉＮ被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層のＴｉＮ被膜の一部を除去する。前記ＴｉＮ被膜の
膜厚が、１〜１０μｍであるとよい。
をし、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによる
イオンプレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティン
グした上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉ金属ターゲッ
トによるイオンプレーティング法でＴｉＮ被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層のＴｉＮ被膜の一部を除去する。前記ＴｉＮ被膜の
膜厚が、１〜１０μｍであるとよい。
【０００９】また、これらのＴｉＡｌ焼結ターゲットに
よるイオンプレーティング法で、ターゲット比率が５
０：５０〜３０：７０のＴｉＡｌ焼結ターゲットを用
い、バイアス電圧を０〜５０Ｖとし、ＴｉＡｌＮ被膜の
膜厚が、１〜６μｍであることが好ましい。
よるイオンプレーティング法で、ターゲット比率が５
０：５０〜３０：７０のＴｉＡｌ焼結ターゲットを用
い、バイアス電圧を０〜５０Ｖとし、ＴｉＡｌＮ被膜の
膜厚が、１〜６μｍであることが好ましい。
【００１０】また、上記とは異なる組成の被膜や、異な
る組み合わせの上下２層の被膜により、同様の発色を行
う多色被膜生成方法として、基材にＴｉＣＮ、ＴｉＡｌ
Ｎ、ＬａＮ、ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック
被膜をコーティングした上に重ねて、ＴｉＮ、ＺｒＮ、
ＹＣ2 のいずれかからなる金色セラミック被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層の金色セラミック被膜の一部を除去する。
る組み合わせの上下２層の被膜により、同様の発色を行
う多色被膜生成方法として、基材にＴｉＣＮ、ＴｉＡｌ
Ｎ、ＬａＮ、ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック
被膜をコーティングした上に重ねて、ＴｉＮ、ＺｒＮ、
ＹＣ2 のいずれかからなる金色セラミック被膜をコーテ
ィングし、エッチング法またはレーザーマーキング法で
上層の金色セラミック被膜の一部を除去する。
【００１１】また、基材にＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＮ、Ｌａ
Ｎ、ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコ
ーティングした上に重ねて、ＣｒＮ、Ｃｒ2 Ｎ、Ｔｉ
Ｃ、ＺｒＣのいずれかからなるクロム色セラミック被膜
をコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキ
ング法で上層のクロム色セラミック被膜の一部を除去す
る。
Ｎ、ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコ
ーティングした上に重ねて、ＣｒＮ、Ｃｒ2 Ｎ、Ｔｉ
Ｃ、ＺｒＣのいずれかからなるクロム色セラミック被膜
をコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキ
ング法で上層のクロム色セラミック被膜の一部を除去す
る。
【００１２】そして、これらの多色被膜生成方法によ
り、測定器である部材に目盛りを設けて、耐摩耗性・耐
食性部材とする。また、本発明の耐摩耗性・耐食性部材
は、各種の部品として広く適用できる。
り、測定器である部材に目盛りを設けて、耐摩耗性・耐
食性部材とする。また、本発明の耐摩耗性・耐食性部材
は、各種の部品として広く適用できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明で使用するイオンプレーテ
ィング法は、湿式クロムメッキ法に代わる性能を持ち、
自然環境を配慮し、低公害で、量産性が高い表面処理技
術（表面改質技術）として、乾式法によるセラミック硬
質被膜生成技術に属する。乾式法により生成されるセラ
ミック硬質被膜は、表面硬度、耐摩耗性、耐食性を向上
させる点で優れていて、切削工具、金型、刃物、装飾部
品、機械部品や電気部品などの各分野の部品に、幅広く
適用される。
ィング法は、湿式クロムメッキ法に代わる性能を持ち、
自然環境を配慮し、低公害で、量産性が高い表面処理技
術（表面改質技術）として、乾式法によるセラミック硬
質被膜生成技術に属する。乾式法により生成されるセラ
ミック硬質被膜は、表面硬度、耐摩耗性、耐食性を向上
させる点で優れていて、切削工具、金型、刃物、装飾部
品、機械部品や電気部品などの各分野の部品に、幅広く
適用される。
【００１４】このセラミック硬質被膜を、比較的低い温
度（２００〜５００℃）で生成できる方法に、イオンプ
レーティング法がある。該イオンプレーティング法で、
例えばノギスを構成する部材の下地側第１層に、黒色系
のセラミック被膜を形成し、続いて該第１層の上に、湿
式クロムメッキにより発色するのと同色のセラミック被
膜を第２層として形成し、レーザーマーキング法または
エッチング法で、第２層のクロム色のセラミック被膜の
一部を蒸発させるか、または除去する。このようにし
て、第１層の黒色セラミック被膜が見えるようにするこ
とで、従来の湿式クロムメッキ法に代わる無公害の多色
被膜生成方法の発明に達した。
度（２００〜５００℃）で生成できる方法に、イオンプ
レーティング法がある。該イオンプレーティング法で、
例えばノギスを構成する部材の下地側第１層に、黒色系
のセラミック被膜を形成し、続いて該第１層の上に、湿
式クロムメッキにより発色するのと同色のセラミック被
膜を第２層として形成し、レーザーマーキング法または
エッチング法で、第２層のクロム色のセラミック被膜の
一部を蒸発させるか、または除去する。このようにし
て、第１層の黒色セラミック被膜が見えるようにするこ
とで、従来の湿式クロムメッキ法に代わる無公害の多色
被膜生成方法の発明に達した。
【００１５】イオンプレーティング法は、真空中で被膜
を形成させるときに蒸発粒子をイオン化して運動エネル
ギーを増加させる方法で、被膜特性、密着性、反応性を
高められる点で大変優れている。
を形成させるときに蒸発粒子をイオン化して運動エネル
ギーを増加させる方法で、被膜特性、密着性、反応性を
高められる点で大変優れている。
【００１６】イオンプレーティング法にはイオン化の方
法により、直流放電式、高周波励起式、活性化反応性蒸
着式、ホローカソード式、カソードアーク式などがあ
る。
法により、直流放電式、高周波励起式、活性化反応性蒸
着式、ホローカソード式、カソードアーク式などがあ
る。
【００１７】本発明では、中でもカソードアーク式イオ
ンプレーティング法が好ましい。この方法では、蒸発源
である金属ターゲットを陰極とし、チャンバーを陽極と
して、これらの間にアーク放電を起こさせ、金属蒸気を
イオン化し、反応ガスも該イオンとの衝突によりイオン
化され、両イオンを部材表面に積層させて被膜を形成す
る。例えば窒化膜を形成する場合は、チャンバー内に窒
素原子を含む反応ガスを導入する。カソードアーク式イ
オンプレーティング法は、金属蒸気のイオン化率が高
く、また、複数の蒸発源をチャンバー内の上下左右に設
置できるので、複合被膜形成に向き、大型な部材や複雑
な形状の部材に、均一な厚さの被膜形成、特に硬質被膜
形成に向いている。
ンプレーティング法が好ましい。この方法では、蒸発源
である金属ターゲットを陰極とし、チャンバーを陽極と
して、これらの間にアーク放電を起こさせ、金属蒸気を
イオン化し、反応ガスも該イオンとの衝突によりイオン
化され、両イオンを部材表面に積層させて被膜を形成す
る。例えば窒化膜を形成する場合は、チャンバー内に窒
素原子を含む反応ガスを導入する。カソードアーク式イ
オンプレーティング法は、金属蒸気のイオン化率が高
く、また、複数の蒸発源をチャンバー内の上下左右に設
置できるので、複合被膜形成に向き、大型な部材や複雑
な形状の部材に、均一な厚さの被膜形成、特に硬質被膜
形成に向いている。
【００１８】本発明における基材は、基材の熱処理温度
が２００℃以上ならほとんどの材質の基材を使用するこ
とができる。ＳＵＳ４２０Ｊ２のように焼き戻し温度が
２００℃以下と低い部材の場合は、コーティング温度が
２００℃を超えないようにする必要がある。そのため、
赤外線放射温度計で部材の温度を測定しながら、成膜条
件をコントロールすることが望ましい。
が２００℃以上ならほとんどの材質の基材を使用するこ
とができる。ＳＵＳ４２０Ｊ２のように焼き戻し温度が
２００℃以下と低い部材の場合は、コーティング温度が
２００℃を超えないようにする必要がある。そのため、
赤外線放射温度計で部材の温度を測定しながら、成膜条
件をコントロールすることが望ましい。
【００１９】また、例えば、ノギスに用いる部材の材質
はＳＵＳ４２０Ｊ２で、焼き戻し温度が２００℃付近な
ので低温でコーティングする必要がある。このような低
温コーティングを行うためには、メタルボンバードを一
定時間行った上で、電流を調整し、コーティング中の部
材の温度を赤外線温度計で監視しながら行うことが好ま
しい。
はＳＵＳ４２０Ｊ２で、焼き戻し温度が２００℃付近な
ので低温でコーティングする必要がある。このような低
温コーティングを行うためには、メタルボンバードを一
定時間行った上で、電流を調整し、コーティング中の部
材の温度を赤外線温度計で監視しながら行うことが好ま
しい。
【００２０】色が異なるセラミックコーティングを形成
するのには、公知のイオンプレーティング法により、例
えば二色にするなら、二個の異なるターゲットをセット
し、作製する化合物に応じてガスを選択し、真空チャン
バーに流せばよい。
するのには、公知のイオンプレーティング法により、例
えば二色にするなら、二個の異なるターゲットをセット
し、作製する化合物に応じてガスを選択し、真空チャン
バーに流せばよい。
【００２１】発色可能な色としては、例えば以下の色を
発色するのに、いくつかの組成の異なる被膜が考えら
れ、それぞれの被膜の生成は、蒸発源に使用するターゲ
ットおよび雰囲気が異なる。
発色するのに、いくつかの組成の異なる被膜が考えら
れ、それぞれの被膜の生成は、蒸発源に使用するターゲ
ットおよび雰囲気が異なる。
【００２２】クロム色、灰色の発色には、ターゲットを
Ｃｒとして、雰囲気をＮ2 として生成するＣｒＮ被膜、
ターゲットをＣｒとして、雰囲気をＮ2 として、前記と
条件を変えて生成するＣｒ2 Ｎ被膜、ターゲットをＴｉ
として、雰囲気をＣ2Ｈ2＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ａｒとし
て生成するＴｉＣ被膜、ターゲットをＺｒとして、雰囲
気をＣ2Ｈ2＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ａｒとして生成するＺ
ｒＣ被膜のいずれかを選択する。
Ｃｒとして、雰囲気をＮ2 として生成するＣｒＮ被膜、
ターゲットをＣｒとして、雰囲気をＮ2 として、前記と
条件を変えて生成するＣｒ2 Ｎ被膜、ターゲットをＴｉ
として、雰囲気をＣ2Ｈ2＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ａｒとし
て生成するＴｉＣ被膜、ターゲットをＺｒとして、雰囲
気をＣ2Ｈ2＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ａｒとして生成するＺ
ｒＣ被膜のいずれかを選択する。
【００２３】紫色、黒色の発色には、ターゲットをＴｉ
として、雰囲気をＣ2Ｈ2＋Ｎ2 ＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ｎ
2 ＋Ａｒとして生成するＴｉＣＮ被膜、ターゲットをＴ
ｉＡｌとして、雰囲気をＮ2 として生成するＴｉＡｌＮ
被膜、ターゲットをＬａとして、雰囲気をＮ2 として生
成するＬａＮ被膜、ターゲットをＭｎとして、雰囲気を
Ｎ2 として生成するＭｎＮ被膜のいずれかを選択する。
として、雰囲気をＣ2Ｈ2＋Ｎ2 ＋ＡｒまたはＣＨ4 ＋Ｎ
2 ＋Ａｒとして生成するＴｉＣＮ被膜、ターゲットをＴ
ｉＡｌとして、雰囲気をＮ2 として生成するＴｉＡｌＮ
被膜、ターゲットをＬａとして、雰囲気をＮ2 として生
成するＬａＮ被膜、ターゲットをＭｎとして、雰囲気を
Ｎ2 として生成するＭｎＮ被膜のいずれかを選択する。
【００２４】金色の発色には、ターゲットをＴｉとし
て、雰囲気をＮ2 として生成するＴｉＮ被膜、ターゲッ
トをＺｒとして、雰囲気をＮ2 として生成するＺｒＮ被
膜、ターゲットをＹとして、雰囲気をＣ2Ｈ2＋Ａｒまた
はＣＨ4 ＋Ａｒとして生成するＹＣ2 被膜のいずれかを
選択する。
て、雰囲気をＮ2 として生成するＴｉＮ被膜、ターゲッ
トをＺｒとして、雰囲気をＮ2 として生成するＺｒＮ被
膜、ターゲットをＹとして、雰囲気をＣ2Ｈ2＋Ａｒまた
はＣＨ4 ＋Ａｒとして生成するＹＣ2 被膜のいずれかを
選択する。
【００２５】多色にして、視認性、装飾性を高めるため
に、前記発色可能な色から下地色、上地色を選択して上
下二層の被膜を生成してから、上層被膜を任意のパター
ンで取り去れば、下層被膜の色が浮き出て上層被膜の色
とで、多色を有する部材ができる。
に、前記発色可能な色から下地色、上地色を選択して上
下二層の被膜を生成してから、上層被膜を任意のパター
ンで取り去れば、下層被膜の色が浮き出て上層被膜の色
とで、多色を有する部材ができる。
【００２６】任意のパターンを形成する方法としては、
マスクを用いて薬品で上層被膜を溶かすエッチング法、
レーザーで最外表面を気化させて上層被膜を取り去るレ
ーザーマーキング法等が知られているが、量産性を考慮
するとレーザーマーキング法が望ましい。
マスクを用いて薬品で上層被膜を溶かすエッチング法、
レーザーで最外表面を気化させて上層被膜を取り去るレ
ーザーマーキング法等が知られているが、量産性を考慮
するとレーザーマーキング法が望ましい。
【００２７】下地色に黒色、上地色にクロム色を発色さ
せる場合は、黒色被膜として作成が容易で、被膜硬度が
高く、耐熱性が高いＴｉＡｌＮ被膜が望ましい。
せる場合は、黒色被膜として作成が容易で、被膜硬度が
高く、耐熱性が高いＴｉＡｌＮ被膜が望ましい。
【００２８】すなわち、ＴｉＡｌのターゲットを蒸発さ
せて、窒素ガスと反応させて、ＴｉＡｌＮ被膜を生成す
る。ＴｉＡｌのターゲット比率は５０：５０〜３０：７
０の範囲を成膜条件として、バイアス電圧を０〜５０Ｖ
にすると、視認性が高い黒色を発色させることができ
る。また、ＴｉＡｌＮ被膜の内部応力が高いので、厚く
すると被膜が基材から剥離することがあるので、耐摩耗
性も考慮して、１〜６μｍの膜厚が望ましい。
せて、窒素ガスと反応させて、ＴｉＡｌＮ被膜を生成す
る。ＴｉＡｌのターゲット比率は５０：５０〜３０：７
０の範囲を成膜条件として、バイアス電圧を０〜５０Ｖ
にすると、視認性が高い黒色を発色させることができ
る。また、ＴｉＡｌＮ被膜の内部応力が高いので、厚く
すると被膜が基材から剥離することがあるので、耐摩耗
性も考慮して、１〜６μｍの膜厚が望ましい。
【００２９】クロム色被膜としては、製造が容易で耐摩
耗、耐食性に優れるＣｒＮ被膜が望ましい。
耗、耐食性に優れるＣｒＮ被膜が望ましい。
【００３０】すなわち、Ｃｒ金属ターゲットを蒸発さ
せ、窒素ガスと反応させて、ＣｒＮ被膜を生成する。Ｃ
ｒＮ被膜の膜厚は１〜１０μｍが望ましい。膜厚が１μ
ｍより薄いと十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、１０
μｍより厚いと、寸法精度が悪くなりコストが上昇す
る。
せ、窒素ガスと反応させて、ＣｒＮ被膜を生成する。Ｃ
ｒＮ被膜の膜厚は１〜１０μｍが望ましい。膜厚が１μ
ｍより薄いと十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、１０
μｍより厚いと、寸法精度が悪くなりコストが上昇す
る。
【００３１】下地もしくは上地に、金色を出したいとき
には、被膜作成の容易さ、被膜性能の高さからＴｉＮ被
膜が望ましい。Ｔｉ金属ターゲットを蒸発させ、窒素ガ
スと反応させて、ＴｉＮ被膜を生成する。ＴｉＮ被膜の
膜厚は１〜１０μｍが望ましい。膜厚が１μｍより薄い
と十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、１０μｍより厚
いと、寸法精度が悪くなりコーティング時間が長くな
り、量産性が悪くなりコストが上昇する。
には、被膜作成の容易さ、被膜性能の高さからＴｉＮ被
膜が望ましい。Ｔｉ金属ターゲットを蒸発させ、窒素ガ
スと反応させて、ＴｉＮ被膜を生成する。ＴｉＮ被膜の
膜厚は１〜１０μｍが望ましい。膜厚が１μｍより薄い
と十分な耐摩耗性と耐食性が得られず、１０μｍより厚
いと、寸法精度が悪くなりコーティング時間が長くな
り、量産性が悪くなりコストが上昇する。
【００３２】本発明においては、作製パターンの自由度
の高さや量産性を考えると、レーザー加工が適してい
る。レーザー発振器には、レーザー媒体や発振方法の違
いで各種があるが、小型、制御性、加工性の高さからレ
ーザー媒体に光学結晶を用いる固定レーザーが望まし
い。固体レーザーの中で産業界で広く使用され、製品群
も多いＹＡＧレーザーを使用するのが望ましい。
の高さや量産性を考えると、レーザー加工が適してい
る。レーザー発振器には、レーザー媒体や発振方法の違
いで各種があるが、小型、制御性、加工性の高さからレ
ーザー媒体に光学結晶を用いる固定レーザーが望まし
い。固体レーザーの中で産業界で広く使用され、製品群
も多いＹＡＧレーザーを使用するのが望ましい。
【００３３】ＹＡＧレーザーは、イットリウム、アルミ
ニウムおよびガーネットの頭文字をとったもので、これ
らからなる結晶に、ネオジウムをドープしてレーザー媒
質として用いられるもので、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーと呼
ばれ、発振波長は１．０６４μｍである。
ニウムおよびガーネットの頭文字をとったもので、これ
らからなる結晶に、ネオジウムをドープしてレーザー媒
質として用いられるもので、Ｎｄ：ＹＡＧレーザーと呼
ばれ、発振波長は１．０６４μｍである。
【００３４】ＹＡＧレーザーの発振形態は連続波（Ｃ
Ｗ）発振、パルス発振、超音波変調素子を使用して連続
波をパルス化する発振（Ｑスイッチ発振）がある。ＣＷ
発振は連続的にアークランプの光で励起して連続波を出
す。パルス発振は、キセノンガスが封入されたフラッシ
ュランプで励起される。Ｑスイッチ発振は、連続発振器
の中にＡ．Ｏ．素子（Acoustic-Optic Element）を挿入
し、ＣＷ発振のパルス化を行う。
Ｗ）発振、パルス発振、超音波変調素子を使用して連続
波をパルス化する発振（Ｑスイッチ発振）がある。ＣＷ
発振は連続的にアークランプの光で励起して連続波を出
す。パルス発振は、キセノンガスが封入されたフラッシ
ュランプで励起される。Ｑスイッチ発振は、連続発振器
の中にＡ．Ｏ．素子（Acoustic-Optic Element）を挿入
し、ＣＷ発振のパルス化を行う。
【００３５】この中で、本発明に適したＹＡＧレーザー
の発振方法として、ランプの価格、低出力、加工性の高
さ、レーザー光を任意のパターンに照射するために、ス
キャンニング性の高さから、ＹＡＧ（Ｑスイッチ発振）
レーザーを用いることが望ましい。
の発振方法として、ランプの価格、低出力、加工性の高
さ、レーザー光を任意のパターンに照射するために、ス
キャンニング性の高さから、ＹＡＧ（Ｑスイッチ発振）
レーザーを用いることが望ましい。
【００３６】二色でパターンを形成するため、最外表面
の被膜を瞬時に気化させて下層被膜にレーザーの熱で極
端な変色を起こさないようにする必要がある。レーザー
出力、発振周波数、パターンを描くスキャンニング速
度、レーザービーム径で加工条件が決定される。レーザ
ー出力が小さすぎたり、スキャンニング速度が高すぎる
と、パターンが明確に形成できなかったり、下層被膜の
色が薄れたりする。
の被膜を瞬時に気化させて下層被膜にレーザーの熱で極
端な変色を起こさないようにする必要がある。レーザー
出力、発振周波数、パターンを描くスキャンニング速
度、レーザービーム径で加工条件が決定される。レーザ
ー出力が小さすぎたり、スキャンニング速度が高すぎる
と、パターンが明確に形成できなかったり、下層被膜の
色が薄れたりする。
【００３７】レーザー条件は、被膜の融点、気化温度、
膜厚、作業速度、視認性で決定される。膜厚が１０μｍ
以下の窒化膜では、レーザー出力を９０〜１５０Ｗと
し、スキャンニング速度を１２０〜２００ｎｍ／ｓｅｃ
としたパターンは、上層被膜のみを気化できて、視認性
の高いパターンが形成できる。
膜厚、作業速度、視認性で決定される。膜厚が１０μｍ
以下の窒化膜では、レーザー出力を９０〜１５０Ｗと
し、スキャンニング速度を１２０〜２００ｎｍ／ｓｅｃ
としたパターンは、上層被膜のみを気化できて、視認性
の高いパターンが形成できる。
【００３８】（実施例１）最外表面はクロム色にし、目
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ
４２０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲ
Ｃ５２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Ｃｒ金属ターゲットとＴｉＡｌ
（５０％：５０％）焼結ターゲットを備えた。
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ
４２０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲ
Ｃ５２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Ｃｒ金属ターゲットとＴｉＡｌ
（５０％：５０％）焼結ターゲットを備えた。
【００３９】真空チャンバーを２×１０-5Ｔｏｒｒ以下
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃で成膜できるように電流値を
調整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒ
ｒまで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜
を膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温
度が１９０℃を超えないようにした。
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃で成膜できるように電流値を
調整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒ
ｒまで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜
を膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温
度が１９０℃を超えないようにした。
【００４０】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
【００４１】レーザー出力１２０Ｗ、周波数４４ｋＨ
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＣｒＮのクロム色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡ
ｌＮの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が７０４ＨＶであり、湿式のクロムメッキ法
の場合の硬度の６１３ＨＶを上回った。耐摩耗性は目盛
りの場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験
を行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＣｒＮのクロム色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡ
ｌＮの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が７０４ＨＶであり、湿式のクロムメッキ法
の場合の硬度の６１３ＨＶを上回った。耐摩耗性は目盛
りの場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験
を行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
【００４２】（実施例２）最外表面はクロム色にし、目
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ
４２０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲ
Ｃ５２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Ｃｒ金属ターゲットとＴｉＡｌ
（４０％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
盛りを黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ
４２０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用し
た。この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲ
Ｃ５２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的
に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されてい
る。この部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソー
ドアーク式イオンプレーティング装置のチャンバー内に
セットした。イオンプレーティング装置には、二層コー
ティングするために、Ｃｒ金属ターゲットとＴｉＡｌ
（４０％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
【００４３】真空チャンバーを２×１０-5Ｔｏｒｒ以下
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚３μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚８μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚３μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚８μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
【００４４】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
【００４５】レーザー出力１２０Ｗ、周波数４４ｋＨ
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＣｒＮのクロム色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡ
ｌＮの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が６９３ＨＶであり、湿式のクロムメッキ法
場合の硬度の６１３ＨＶを上回った。耐摩耗性は目盛り
の場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を
行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＣｒＮのクロム色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡ
ｌＮの色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性
能は、硬度が６９３ＨＶであり、湿式のクロムメッキ法
場合の硬度の６１３ＨＶを上回った。耐摩耗性は目盛り
の場所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を
行い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
【００４６】（実施例３）最外表面は金色にし、目盛り
を黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ４２
０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲＣ５
２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ｔｉ金属ターゲットとＴｉＡｌ（４０
％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
を黒色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ４２
０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲＣ５
２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ｔｉ金属ターゲットとＴｉＡｌ（４０
％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
【００４７】真空チャンバーを２×１０-5Ｔｏｒｒ以下
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２００℃を超えないように、クロムメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
【００４８】このようにして二層被膜を形成したノギス
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
に、レーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使用し
たレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
【００４９】レーザー出力１２０Ｗ、周波数４４ｋＨ
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＮの金色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡｌＮ
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が７０４ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかく、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
ｚ、走査速度２００ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＮの金色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡｌＮ
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が７０４ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかく、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
【００５０】また、二層被膜を形成したノギスに、異な
る仕様のレーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使
用したレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置であ
る。
る仕様のレーザーマーキング法で目盛りを刻印した。使
用したレーザーはＹＡＧレーザーマーキング装置であ
る。
【００５１】レーザー出力１００Ｗ、周波数４４ｋＨ
ｚ、走査速度１８０ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＮの金色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡｌＮ
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が８０４ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
ｚ、走査速度１８０ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＮの金色で、目盛りに淡い黒色のＴｉＡｌＮ
の色が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能
は、硬度が８０４ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場
所を爪で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行
い、湿式のクロムメッキ法の場合と同等であった。
【００５２】（実施例４）最外表面は黒色にし、目盛り
を金色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ４２
０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲＣ５
２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ｔｉ金属ターゲットとＴｉＡｌ（４０
％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
を金色にする二色被膜生成を行う部材としてＳＵＳ４２
０Ｊ２で作られた全長２３０ｍｍのノギスを使用した。
この材質は焼き戻し温度が２００℃で、硬度がＨＲＣ５
２である。表面仕上げは、反射防止のためと外観的に、
＃２２０〜３２０のホーニング加工が施されている。こ
の部材をエタノールで超音波洗浄した後、カソードアー
ク式イオンプレーティング装置のチャンバー内にセット
した。イオンプレーティング装置には、二層コーティン
グするために、Ｔｉ金属ターゲットとＴｉＡｌ（４０
％：６０％）焼結ターゲットを備えた。
【００５３】真空チャンバーを２×１０-5Ｔｏｒｒ以下
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２２０℃を超えないように、チタンメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
まで排気した。続いて、−８００Ｖのバイアス電圧を印
加し、母材が２２０℃を超えないように、チタンメタル
ボンバード処理を行った。次に、Ｎ2 ガスを３０ｍＴｏ
ｒｒまで導入し、バイアス電圧を−５０ＶにしてＴｉＡ
ｌＮ被膜を膜厚４μｍにコーティングした。コーティン
グの温度は母材がなまらないように、赤外線放射温度計
で計測しながら、１９０℃を超えないように電流値を調
整した。成膜終了後、再度、Ｎ2 ガスを５０ｍＴｏｒｒ
まで導入し、バイアス電圧を−３００ＶでＣｒＮ被膜を
膜厚２μｍにコーティングした。このときも、成膜温度
が１９０℃を超えないようにした。
【００５４】このように、二層被膜を形成したノギスに
レーザーマーキングで目盛りを刻印した。使用したレー
ザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
レーザーマーキングで目盛りを刻印した。使用したレー
ザーはＹＡＧレーザーマーキング装置である。
【００５５】レーザー出力１４０Ｗ、周波数４４ｋＨ
ｚ、走査速度１８０ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＡｌＮの黒色で、目盛りに金色のＴｉＮの色
が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能は、硬
度が６３０ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場所を爪
で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行い、湿式
のクロムメッキ法の場合と同等であった。
ｚ、走査速度１８０ｍｍ／ｓｅｃの条件で加工し、最外
表面はＴｉＡｌＮの黒色で、目盛りに金色のＴｉＮの色
が出せた。レーザーマーキング終了後の被膜性能は、硬
度が６３０ＨＶであった。耐摩耗性は目盛りの場所を爪
で引っかき、砂消しゴムで擦るという試験を行い、湿式
のクロムメッキ法の場合と同等であった。
【００５６】（比較例）比較例として、従来技術による
製造方法を行った。全長２３０ｍｍのノギスの部材はＳ
ＵＳ４２０Ｊ２で作られ、焼き戻し温度が２００℃で、
硬度がＨＲＣ５２である。表面仕上げは、反射防止のた
めと外観的に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施
されている。この上に、湿式のクロムメッキ法により膜
厚１０μｍの被膜を施した。表面硬度は６１２ＨＶと低
かった。
製造方法を行った。全長２３０ｍｍのノギスの部材はＳ
ＵＳ４２０Ｊ２で作られ、焼き戻し温度が２００℃で、
硬度がＨＲＣ５２である。表面仕上げは、反射防止のた
めと外観的に、＃２２０〜３２０のホーニング加工が施
されている。この上に、湿式のクロムメッキ法により膜
厚１０μｍの被膜を施した。表面硬度は６１２ＨＶと低
かった。
【００５７】
【発明の効果】本発明の方法によれば、従来広く用いら
れてきた湿式のクロムメッキ法に代わり、表面硬度など
の性能で同等以上で、目盛りの視認性が高い無公害の表
面処理技術を提供できる。
れてきた湿式のクロムメッキ法に代わり、表面硬度など
の性能で同等以上で、目盛りの視認性が高い無公害の表
面処理技術を提供できる。
Claims (12)
- 【請求項１】 イオンプレーティング法で色の異なる被
膜を２層以上重ねてコーティングし、エッチング法また
はレーザーマーキング法で上層の被膜の一部を除去する
多色被膜生成方法。 - 【請求項２】 基材にＣｒメタルボンバード処理をし、
Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイオン
プレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティングした
上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＣｒ金属ターゲットによ
るイオンプレーティング法でＣｒＮ被膜をコーティング
し、エッチング法またはレーザーマーキング法で上層の
ＣｒＮ被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。 - 【請求項３】 前記ＣｒＮ被膜の膜厚が、１〜１０μｍ
であることを特徴とする請求項２に記載の多色被膜生成
方法。 - 【請求項４】 基材にＴｉメタルボンバード処理をし、
Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイオン
プレーティング法でＴｉＡｌＮ被膜をコーティングした
上に重ねて、Ｎ2 ガス雰囲気のＴｉ金属ターゲットによ
るイオンプレーティング法でＴｉＮ被膜をコーティング
し、エッチング法またはレーザーマーキング法で上層の
ＴｉＮ被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。 - 【請求項５】 前記ＴｉＮ被膜の膜厚が、１〜１０μｍ
であることを特徴とする請求項４に記載の多色被膜生成
方法。 - 【請求項６】 前記ＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイオ
ンプレーティング法は、ターゲット比率が５０：５０〜
３０：７０のＴｉＡｌ焼結ターゲットを用いることを特
徴とする請求項２から５のいずれかに記載の多色被膜生
成方法。 - 【請求項７】 前記ＴｉＡｌ焼結ターゲットによるイオ
ンプレーティング法は、バイアス電圧を０〜５０Ｖにし
たことを特徴とする請求項２から６のいずれかに記載の
多色被膜生成方法。 - 【請求項８】 前記ＴｉＡｌＮ被膜の膜厚が、１〜６μ
ｍであることを特徴とする請求項２から７のいずれかに
記載の多色被膜生成方法。 - 【請求項９】 基材にＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＮ、ＬａＮ、
ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコーテ
ィングした上に重ねて、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＹＣ2 のいず
れかからなる金色セラミック被膜をコーティングし、エ
ッチング法またはレーザーマーキング法で上層の金色セ
ラミック被膜の一部を除去する多色被膜生成方法。 - 【請求項１０】 基材にＴｉＣＮ、ＴｉＡｌＮ、Ｌａ
Ｎ、ＭｎＮのいずれかからなる黒色セラミック被膜をコ
ーティングした上に重ねて、ＣｒＮ、Ｃｒ2 Ｎ、Ｔｉ
Ｃ、ＺｒＣのいずれかからなるクロム色セラミック被膜
をコーティングし、エッチング法またはレーザーマーキ
ング法で上層のクロム色セラミック被膜の一部を除去す
る多色被膜生成方法。 - 【請求項１１】 請求項１から１０のいずれかに記載の
多色被膜生成方法により、表面に多色被膜が生成された
ことを特徴とする耐摩耗性・耐食性多色部材。 - 【請求項１２】 請求項１から１０のいずれかに記載の
多色被膜生成方法により、測定器である基材に目盛りを
設けたことを特徴とする耐摩耗性・耐食性多色部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25576698A JP2000087238A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25576698A JP2000087238A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000087238A true JP2000087238A (ja) | 2000-03-28 |
Family
ID=17283329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25576698A Pending JP2000087238A (ja) | 1998-09-09 | 1998-09-09 | 多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000087238A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002146558A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-22 | Toto Ltd | マークの表示方法およびその製品 |
| KR100633083B1 (ko) | 2004-12-13 | 2006-10-11 | 한국과학기술연구원 | 크롬질화물계 다층 금속질화물 나노박막의 제조방법 |
| KR100668984B1 (ko) * | 2005-04-27 | 2007-01-16 | 주식회사 모젬 | 다색상이 형성된 무선단말기용 데코판 제조방법 |
| KR101270022B1 (ko) * | 2011-01-26 | 2013-05-31 | 쿠쿠전자주식회사 | 전기밥솥용 내솥의 표식 형성방법 및 표식이 형성된 전기밥솥용 내솥 |
| CN111778477A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-10-16 | 深圳市裕展精密科技有限公司 | 镀膜件、电子设备及镀膜件的制造方法 |
-
1998
- 1998-09-09 JP JP25576698A patent/JP2000087238A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002146558A (ja) * | 2000-11-14 | 2002-05-22 | Toto Ltd | マークの表示方法およびその製品 |
| KR100633083B1 (ko) | 2004-12-13 | 2006-10-11 | 한국과학기술연구원 | 크롬질화물계 다층 금속질화물 나노박막의 제조방법 |
| KR100668984B1 (ko) * | 2005-04-27 | 2007-01-16 | 주식회사 모젬 | 다색상이 형성된 무선단말기용 데코판 제조방법 |
| KR101270022B1 (ko) * | 2011-01-26 | 2013-05-31 | 쿠쿠전자주식회사 | 전기밥솥용 내솥의 표식 형성방법 및 표식이 형성된 전기밥솥용 내솥 |
| CN111778477A (zh) * | 2020-06-17 | 2020-10-16 | 深圳市裕展精密科技有限公司 | 镀膜件、电子设备及镀膜件的制造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5203226B2 (ja) | コーティング方法 | |
| PT1863947E (pt) | Camada de material duro | |
| JP2009527644A5 (ja) | ||
| US20230265552A1 (en) | Decorative object | |
| JP4122387B2 (ja) | 複合硬質皮膜、その製造方法及び成膜装置 | |
| JP2008290163A (ja) | 被膜、切削工具および被膜の製造方法 | |
| Scheibe et al. | Film deposition by laser-induced vacuum arc evaporation | |
| JP2000087238A (ja) | 多色被膜生成方法および耐摩耗性・耐食性多色部材 | |
| US7279078B2 (en) | Thin-film coating for wheel rims | |
| US4999259A (en) | Chrome-coated stainless steel having good atmospheric corrosion resistance | |
| JP2840502B2 (ja) | 高機能材料膜形成方法 | |
| JPS6135401A (ja) | 反射鏡 | |
| JPS63223161A (ja) | 基層にコーティングする方法 | |
| RU2674179C2 (ru) | СЛОИ TixSi1-xN И ИХ ПОЛУЧЕНИЕ | |
| JPS5457477A (en) | Throw away tip of coated tool steel | |
| JP3333228B2 (ja) | 装飾部品とその製造方法 | |
| JPH05156425A (ja) | 装飾部材およびその製造方法 | |
| JP2000094564A (ja) | 高機能被膜形成基体、及び該基体の形成方法 | |
| JPH04103754A (ja) | セラミック被覆材料とその製造方法 | |
| CN108149197A (zh) | 一种激光发生器反射板制作方法 | |
| KR100491959B1 (ko) | 이온도금을 이용한 다색성 문양성형방법 | |
| RU2146724C1 (ru) | Способ нанесения композиционных покрытий | |
| RU2134732C1 (ru) | Способ формирования защитного слоя оксида магния | |
| JPH05320872A (ja) | 耐食性被膜付き金属物品及びその製造方法 | |
| Fulton | Review of cathodic arc deposition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20040713 |