JP2000077490A - 半導体ウェハー観察装置 - Google Patents
半導体ウェハー観察装置Info
- Publication number
- JP2000077490A JP2000077490A JP10247407A JP24740798A JP2000077490A JP 2000077490 A JP2000077490 A JP 2000077490A JP 10247407 A JP10247407 A JP 10247407A JP 24740798 A JP24740798 A JP 24740798A JP 2000077490 A JP2000077490 A JP 2000077490A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cassette
- storage container
- wafer storage
- fixing table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 300mmウェハー収納容器や他のサイズの
ウェハー収納容器でも固定台を交換せずに共用できるよ
うにする。 【解決手段】 カセット固定台1は300mm、200
mm、150mmウェハー用の各カセット2を単一カセ
ット固定台1で共用する。カセット2内にあるウェハー
5は搬送機構3によって取り出される。ウェハー5は搬
送機構3の先端のロボットハンド3aよってカセット2
から取り出され、アライナー4に搬送される。アライナ
ー4によってウェハー5のサイズと向きが検出され、常
に一定の向きになるように調整される。向きが定められ
たウェハー5は搬送機構3によってステージ7上の試料
台6に搬送され載置される。試料観察室8内のウェハー
5はステージ7によってウェハー観察位置に移動され、
表面形状や異物観察および欠陥検査などが行われる。
ウェハー収納容器でも固定台を交換せずに共用できるよ
うにする。 【解決手段】 カセット固定台1は300mm、200
mm、150mmウェハー用の各カセット2を単一カセ
ット固定台1で共用する。カセット2内にあるウェハー
5は搬送機構3によって取り出される。ウェハー5は搬
送機構3の先端のロボットハンド3aよってカセット2
から取り出され、アライナー4に搬送される。アライナ
ー4によってウェハー5のサイズと向きが検出され、常
に一定の向きになるように調整される。向きが定められ
たウェハー5は搬送機構3によってステージ7上の試料
台6に搬送され載置される。試料観察室8内のウェハー
5はステージ7によってウェハー観察位置に移動され、
表面形状や異物観察および欠陥検査などが行われる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハー表
面の形状や欠陥および異物、ウェハー内部の欠陥さらに
はパターン付きウェハーの線幅や電気特性などを測定す
るウェハー搬送機構を有する半導体ウェハー観察装置に
関する。
面の形状や欠陥および異物、ウェハー内部の欠陥さらに
はパターン付きウェハーの線幅や電気特性などを測定す
るウェハー搬送機構を有する半導体ウェハー観察装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体技術は急速に進展しその集
積度が飛躍的に向上してきている。同時に半導体の各製
造工程においては歩留まりの向上が大きな課題となって
おり、その解決策の一つとして半導体ウェハーサイズ
(直径)を拡大してきている。最近では300mm(1
2インチ)ウェハーの研究開発が進み、量産技術がほぼ
確立されつつある。
積度が飛躍的に向上してきている。同時に半導体の各製
造工程においては歩留まりの向上が大きな課題となって
おり、その解決策の一つとして半導体ウェハーサイズ
(直径)を拡大してきている。最近では300mm(1
2インチ)ウェハーの研究開発が進み、量産技術がほぼ
確立されつつある。
【0003】従来の200mm(8インチ)サイズまで
のウェハーはそれぞれのサイズごとに専用のカセットに
収納されている。ウェハーが収納されたカセットは走査
型電子顕微鏡や光学式異物検査装置などの各種の観察装
置や検査装置に搭載され、ウェハー搬送機構によって所
定の位置に搬送される。このときカセットはウェハーサ
イズに応じた専用台に載置される。市販されているウェ
ハー用カセットは各ウェハーサイズに応じて100mm
(4インチ)、125mm(5インチ)、150mm
(6インチ)、200mm(8インチ)のカセットがあ
る。カセット固定台は特定のカセットサイズのみ対応し
た専用型と複数カセットサイズに対応可能な共用型があ
る。図7(a)に示すように専用型はカセット底部を保
持するためにカセット底部前後壁に接する凸上または凹
上のガイドを設け、左右および前後への動きを規制して
いる。さらに、図7(b)に示すように共用型では専用
型と同様にカセット底部を保持するために凸または凹の
階段状のガイドをカセットの前後に設け、左右および前
後への動きを規制している。このとき、ガイドを階段状
にすることによって、複数のカセットサイズに対応する
ことが可能である。
のウェハーはそれぞれのサイズごとに専用のカセットに
収納されている。ウェハーが収納されたカセットは走査
型電子顕微鏡や光学式異物検査装置などの各種の観察装
置や検査装置に搭載され、ウェハー搬送機構によって所
定の位置に搬送される。このときカセットはウェハーサ
イズに応じた専用台に載置される。市販されているウェ
ハー用カセットは各ウェハーサイズに応じて100mm
(4インチ)、125mm(5インチ)、150mm
(6インチ)、200mm(8インチ)のカセットがあ
る。カセット固定台は特定のカセットサイズのみ対応し
た専用型と複数カセットサイズに対応可能な共用型があ
る。図7(a)に示すように専用型はカセット底部を保
持するためにカセット底部前後壁に接する凸上または凹
上のガイドを設け、左右および前後への動きを規制して
いる。さらに、図7(b)に示すように共用型では専用
型と同様にカセット底部を保持するために凸または凹の
階段状のガイドをカセットの前後に設け、左右および前
後への動きを規制している。このとき、ガイドを階段状
にすることによって、複数のカセットサイズに対応する
ことが可能である。
【0004】300mmウェハー対応のカセットは半導
体国際標準化組織Semiconductor Equipment and Materi
als International (SEMI)や日本の300mm半
導体技術連絡会Japan 300mm Semiconductor Technology
Conference (J 300)が中心となって「300mm
Physical Interface and Carrie SEAJ/SEMI Joint Sem
inar(1997.4.30 )」で国際標準がまとめられている。
この中でカセットの形状およびカセット固定台に付属し
カセットを固定するためのピンの配置や形状が明確に示
されている。図8に示すように300mmウェハー対応
のカセットはそれまでの200mmまでのカセットとは
形状や構造が大きく異なる。そのため、これまでの30
0mmウェハー対応のカセットは前記のSEMIやJ3
00の標準に示されているようにカセット固定台に3本
のピンを立てその上にカセットを置く構造となってい
る。
体国際標準化組織Semiconductor Equipment and Materi
als International (SEMI)や日本の300mm半
導体技術連絡会Japan 300mm Semiconductor Technology
Conference (J 300)が中心となって「300mm
Physical Interface and Carrie SEAJ/SEMI Joint Sem
inar(1997.4.30 )」で国際標準がまとめられている。
この中でカセットの形状およびカセット固定台に付属し
カセットを固定するためのピンの配置や形状が明確に示
されている。図8に示すように300mmウェハー対応
のカセットはそれまでの200mmまでのカセットとは
形状や構造が大きく異なる。そのため、これまでの30
0mmウェハー対応のカセットは前記のSEMIやJ3
00の標準に示されているようにカセット固定台に3本
のピンを立てその上にカセットを置く構造となってい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術に示した
ように、300mmカセットは従来の200mmまでの
カセットとは形状が大きく異なっている。同様に300
mmカセット固定台の形状も200mmカセットまでの
固定台とは大きく異なっているために一つの固定台で両
方を共用することができないという問題点があった。ま
た、300mmウェハーと200mmまでのウェハーを
任意に搬送し、観察しようとする場合にはカセット固定
台を取り外して交換する必要があった。カセット固定台
を交換した場合にはウェハー搬送機構でカセットからウ
ェハー取り出す位置を設定するためのティーチング作業
をその都度行わなければならず操作性が悪いという問題
点もあった。ところが、現在半導体の研究開発段階で
は、同一のウェハー観察装置で300mmウェハーと2
00mm以下のウェハーを任意に観察したいという要求
がある。
ように、300mmカセットは従来の200mmまでの
カセットとは形状が大きく異なっている。同様に300
mmカセット固定台の形状も200mmカセットまでの
固定台とは大きく異なっているために一つの固定台で両
方を共用することができないという問題点があった。ま
た、300mmウェハーと200mmまでのウェハーを
任意に搬送し、観察しようとする場合にはカセット固定
台を取り外して交換する必要があった。カセット固定台
を交換した場合にはウェハー搬送機構でカセットからウ
ェハー取り出す位置を設定するためのティーチング作業
をその都度行わなければならず操作性が悪いという問題
点もあった。ところが、現在半導体の研究開発段階で
は、同一のウェハー観察装置で300mmウェハーと2
00mm以下のウェハーを任意に観察したいという要求
がある。
【0006】そこで、本発明の目的は上記のような問題
点を解決するために、300mmウェハーと同様に20
0mm以下のウェハーの観察も可能なように、それぞれ
のカセットの載置および固定さらには両方の共用が可能
なカセット固定台を有する半導体ウェハー観察装置を提
供することにある。
点を解決するために、300mmウェハーと同様に20
0mm以下のウェハーの観察も可能なように、それぞれ
のカセットの載置および固定さらには両方の共用が可能
なカセット固定台を有する半導体ウェハー観察装置を提
供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明では、以下のような手段を講じた点に特
徴がある。 (1) 複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容
器とこのウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェ
ハー収納容器固定台とウェハーのサイズを検出するウェ
ハーサイズ判別機構とウェハーを載置する試料台とウェ
ハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構と試料台
上に搬送したウェハーを所望の位置に移動する移動機構
とウェハーを観察する観察手段とを備え、サイズの異な
るウェハー収納容器を単一または複数のウェハー収納容
器固定台で共用するようにした。
ために、本発明では、以下のような手段を講じた点に特
徴がある。 (1) 複数の半導体ウェハーを収納するウェハー収納容
器とこのウェハー収納容器を所定の位置に固定するウェ
ハー収納容器固定台とウェハーのサイズを検出するウェ
ハーサイズ判別機構とウェハーを載置する試料台とウェ
ハーを任意の場所に搬送するウェハー搬送機構と試料台
上に搬送したウェハーを所望の位置に移動する移動機構
とウェハーを観察する観察手段とを備え、サイズの異な
るウェハー収納容器を単一または複数のウェハー収納容
器固定台で共用するようにした。
【0008】(2) 前記ウェハー収納容器固定台は30
0mm、200mm、150mmのウェハー収納容器を
単一のウェハー収納容器固定台で共用するようにした。 (3) 前記300mmウェハー用収納容器固定台の上面
に200mmと150mmウェハー用収納容器の共用の
ウェハー収納容器固定台を載置するようにした。
0mm、200mm、150mmのウェハー収納容器を
単一のウェハー収納容器固定台で共用するようにした。 (3) 前記300mmウェハー用収納容器固定台の上面
に200mmと150mmウェハー用収納容器の共用の
ウェハー収納容器固定台を載置するようにした。
【0009】(4) 前記300mmウェハー用収納容器
固定台の上面に200mmまたは150mmウェハー用
収納容器いずれか単一のウェハー収納容器固定台を載置
するようにした。 (5) 前記ウェハー収納容器固定台および300mmウ
ェハー収納容器固定台に収納容器有無検出器と収納容器
サイズ検出器を有するようにした。
固定台の上面に200mmまたは150mmウェハー用
収納容器いずれか単一のウェハー収納容器固定台を載置
するようにした。 (5) 前記ウェハー収納容器固定台および300mmウ
ェハー収納容器固定台に収納容器有無検出器と収納容器
サイズ検出器を有するようにした。
【0010】
【作用】上記のように構成された半導体ウェハー観察装
置において300mmウェハー対応カセットと200m
m以下のカセットを共用することにより、目的とするサ
イズのウェハー用カセットをカセット固定台の交換をす
ることなしに所定の位置にカセットを載置し固定するこ
とができる。この定められたカセット内のウェハーの各
位置をあらかじめ記憶しておくことにより、搬送機構に
よって決められたシーケンスに従って、ウェハーはカセ
ットからウェハーサイズ判別機構に送られ、ここで自動
的にウェハーのサイズが検出され同時に所定の向きに揃
えられ、ウェハーは移動機構上の試料台上面に搬送さ
れ、この移動機構によってウェハー観察手段の観察位置
に移動される。また、カセット有無用検出器を有してい
るため、誤動作により搬送装置が損傷することを防ぐこ
とができる。さらに、カセットサイズ検出器を有してい
るために、カセットサイズが自動的に識別され、搬送機
構がそれぞれのカセットサイズに応じてあらかじめ定め
られた位置に動作し、カセット内のウェハーはウェハー
サイズ判別機構とウェハーの移動機構上に搬送され、ウ
ェハーが観察された後に再びカセット内に戻るように動
作する。
置において300mmウェハー対応カセットと200m
m以下のカセットを共用することにより、目的とするサ
イズのウェハー用カセットをカセット固定台の交換をす
ることなしに所定の位置にカセットを載置し固定するこ
とができる。この定められたカセット内のウェハーの各
位置をあらかじめ記憶しておくことにより、搬送機構に
よって決められたシーケンスに従って、ウェハーはカセ
ットからウェハーサイズ判別機構に送られ、ここで自動
的にウェハーのサイズが検出され同時に所定の向きに揃
えられ、ウェハーは移動機構上の試料台上面に搬送さ
れ、この移動機構によってウェハー観察手段の観察位置
に移動される。また、カセット有無用検出器を有してい
るため、誤動作により搬送装置が損傷することを防ぐこ
とができる。さらに、カセットサイズ検出器を有してい
るために、カセットサイズが自動的に識別され、搬送機
構がそれぞれのカセットサイズに応じてあらかじめ定め
られた位置に動作し、カセット内のウェハーはウェハー
サイズ判別機構とウェハーの移動機構上に搬送され、ウ
ェハーが観察された後に再びカセット内に戻るように動
作する。
【0011】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態を図1
に基づいて説明する。図1は、本発明の、ウェハーの表
面形状や異物観察および欠陥検査を行う走査型電子顕微
鏡の構成を示した模式図である。走査型電子顕微鏡の測
定部9の主な構成要素は、試料である半導体ウェハー5
を収納し、保持するためのウェハーカセット2と、この
カセット2を固定するためのカセット固定台1と、ウェ
ハー5を搬送するための搬送機構3と、ウェハーのサイ
ズを検出するアライナー4とウェハーを観察位置に移動
するためのステージ機構7である。試料となる半導体ウ
ェハー5には単一のSi結晶から裁断・加工・研磨の工
程を経て得られる鏡面ウェハー(ベアウェハー)や、こ
の鏡面ウェハー上にSi酸化膜や誘電膜などが付いた膜
付きウェハー、さらには鏡面ウェハー上に配線のパター
ンを記録したパターン付きウェハーなどがある。図1 で
ウェハーカセット2内にウェハー5が収納されている。
ウェハーカセット2は150mm(6 インチ)、200
mm(8 インチ)、300mm(12インチ)などウェ
ハー5のサイズに応じてその形状や大きさがほぼ決まっ
ている。このウェハーカセット2はこれを保持し固定す
るためのカセット固定台1に載置される。カセット固定
台1は300mm、200mm、150mm用ウェハー
のカセット2を単一固定台で共用される。カセット2内
にあるウェハー5はカセット固定台1の横に設置された
ウェハー用の搬送機構3によって取り出される。搬送機
構3の先端に付属しているロボットハンド3aの上面に
は真空吸着口3bが取り付けられており、ウェハー5の
下面がこの真空吸着口3bによって吸着保持される。そ
のため、ウェハー5はロボットハンド3aから落下する
なく搬送機構3によって搬送される。ウェハー5は搬送
機構3によってカセット2から取り出され、アライナー
4に搬送される。アライナー4には吸着口4aが付属し
ており、この吸着口4aによってウェハー5の中心付近
の下面が真空吸着される。
に基づいて説明する。図1は、本発明の、ウェハーの表
面形状や異物観察および欠陥検査を行う走査型電子顕微
鏡の構成を示した模式図である。走査型電子顕微鏡の測
定部9の主な構成要素は、試料である半導体ウェハー5
を収納し、保持するためのウェハーカセット2と、この
カセット2を固定するためのカセット固定台1と、ウェ
ハー5を搬送するための搬送機構3と、ウェハーのサイ
ズを検出するアライナー4とウェハーを観察位置に移動
するためのステージ機構7である。試料となる半導体ウ
ェハー5には単一のSi結晶から裁断・加工・研磨の工
程を経て得られる鏡面ウェハー(ベアウェハー)や、こ
の鏡面ウェハー上にSi酸化膜や誘電膜などが付いた膜
付きウェハー、さらには鏡面ウェハー上に配線のパター
ンを記録したパターン付きウェハーなどがある。図1 で
ウェハーカセット2内にウェハー5が収納されている。
ウェハーカセット2は150mm(6 インチ)、200
mm(8 インチ)、300mm(12インチ)などウェ
ハー5のサイズに応じてその形状や大きさがほぼ決まっ
ている。このウェハーカセット2はこれを保持し固定す
るためのカセット固定台1に載置される。カセット固定
台1は300mm、200mm、150mm用ウェハー
のカセット2を単一固定台で共用される。カセット2内
にあるウェハー5はカセット固定台1の横に設置された
ウェハー用の搬送機構3によって取り出される。搬送機
構3の先端に付属しているロボットハンド3aの上面に
は真空吸着口3bが取り付けられており、ウェハー5の
下面がこの真空吸着口3bによって吸着保持される。そ
のため、ウェハー5はロボットハンド3aから落下する
なく搬送機構3によって搬送される。ウェハー5は搬送
機構3によってカセット2から取り出され、アライナー
4に搬送される。アライナー4には吸着口4aが付属し
ており、この吸着口4aによってウェハー5の中心付近
の下面が真空吸着される。
【0012】吸着口4aを中心としてウェハーが回転
し、ウェハー5のサイズが光学式検出器4bによって自
動的に判定される。同時に、ウェハー5のオリフラまた
はノッチの位置が光学式検出器4bによって検出され、
常に一定の向きになるように調整される。アライナー4
で向きが定められたウェハー5は搬送機構3によってス
テージ7上に固定されている試料台6上に搬送され載置
される。試料台6は静電チャックになっており、静電気
力によってウェハーを吸着している。ウェハー5の吸着
はこの静電チャック以外に真空を使用した真空吸着も可
能である。ステージ7はXYZの3軸またはXYZに回
転、チルトを加えた5軸ステージがある。
し、ウェハー5のサイズが光学式検出器4bによって自
動的に判定される。同時に、ウェハー5のオリフラまた
はノッチの位置が光学式検出器4bによって検出され、
常に一定の向きになるように調整される。アライナー4
で向きが定められたウェハー5は搬送機構3によってス
テージ7上に固定されている試料台6上に搬送され載置
される。試料台6は静電チャックになっており、静電気
力によってウェハーを吸着している。ウェハー5の吸着
はこの静電チャック以外に真空を使用した真空吸着も可
能である。ステージ7はXYZの3軸またはXYZに回
転、チルトを加えた5軸ステージがある。
【0013】試料観察室8内にあるウェハー5はステー
ジ7によってウェハー観察位置に移動され、ウェハー観
察手段によってウェハー5の表面形状や異物観察および
欠陥検査などが行われる。測定部9内にある搬送機構
3、アライナー4、ステージ7はコントロール部10と
通信する。カセット2はウェハー5のサイズとその種類
によって異なるため、搬送機構5でウェハーを取り出す
または戻す位置は各カセット2に応じて記憶しておく必
要がある。あらかじめ、各カセット2の種類に応じてウ
ェハーの取り出し位置をコントロール部に記憶しておく
ことにより、カセット2が交換されても搬送機構3がウ
ェハー5に衝突して破損することなく、確実にカセット
2からウェハー5を取り出すことができる。コントロー
ル部10は搬送機構3やアライナー4およびステージ7
の一連のシーケンス動作を記憶し制御を行うとともに、
コンピュータ11と通信し、コンピュータ11からの命
令を受ける。コンピュータ11は表示器となるディスプ
レイ12と記憶装置13とに連結される。ディスプレイ
12では電子顕微鏡で観察された画像を表示し、この画
像はデータとして記憶装置13に保存される。
ジ7によってウェハー観察位置に移動され、ウェハー観
察手段によってウェハー5の表面形状や異物観察および
欠陥検査などが行われる。測定部9内にある搬送機構
3、アライナー4、ステージ7はコントロール部10と
通信する。カセット2はウェハー5のサイズとその種類
によって異なるため、搬送機構5でウェハーを取り出す
または戻す位置は各カセット2に応じて記憶しておく必
要がある。あらかじめ、各カセット2の種類に応じてウ
ェハーの取り出し位置をコントロール部に記憶しておく
ことにより、カセット2が交換されても搬送機構3がウ
ェハー5に衝突して破損することなく、確実にカセット
2からウェハー5を取り出すことができる。コントロー
ル部10は搬送機構3やアライナー4およびステージ7
の一連のシーケンス動作を記憶し制御を行うとともに、
コンピュータ11と通信し、コンピュータ11からの命
令を受ける。コンピュータ11は表示器となるディスプ
レイ12と記憶装置13とに連結される。ディスプレイ
12では電子顕微鏡で観察された画像を表示し、この画
像はデータとして記憶装置13に保存される。
【0014】
【実施例】図2は本発明の第一の実施例を示す模式図で
あり、図1で説明したカセット固定台1とカセット2の
詳細な説明図である。例えば、走査型電子顕微鏡で30
0mmウェハーを観察する場合には、300mmウェハ
ーカセット14は、300mm共用カセット固定台17
上に載置され固定される。300mmウェハーカセット
14には300mmウェハー16が13枚入るものと2
5枚入るものがあり、その形状は円筒状になっており、
従来の200mmウェハーまでのカセット15とは形状
が異なっている。この300mmウェハーカセット14
が載置される300mm共用カセット固定台17には3
00mmウェハーカセット14の位置決めと固定を行う
3本のピン17aが取り付けられてある。この3本のピ
ン17aは先端が円錐状になっており、それらの中心に
対しほぼ120°間隔で並んでおり、300mmウェハ
ー用カセット14の下面にある3ヶ所のV字型溝とそれ
ぞれ一致し、位置決めされる。300mm共用カセット
固定台17には、3本のピン17aの他に階段状のガイ
ド17bが取り付けられている。200mmウェハーま
でのカセット15の前端または後端をガイド17bに押
し当てることによってカセット15の位置決めと固定を
行うことができる。ガイド17bは前方と後方の2つま
たは3つに別れており、それぞれ前後左右に微調整が可
能な構造となっているため、200mmウェハーまでの
カセット15の大きさが異なっていても固定可能とな
る。また、ガイド17bの形状は凸状を採用したが凹状
であってもよい。このように、300mm共用カセット
固定台17は300mmウェハーカセット14の固定が
可能であると同様に、従来の200mmウェハーまでの
カセット15も固定可能な構造となっている。すなわ
ち、300mmカセットと200mmまでのカセットの
異なる種類の複数のカセットを一つの固定台で兼用する
ことができる。
あり、図1で説明したカセット固定台1とカセット2の
詳細な説明図である。例えば、走査型電子顕微鏡で30
0mmウェハーを観察する場合には、300mmウェハ
ーカセット14は、300mm共用カセット固定台17
上に載置され固定される。300mmウェハーカセット
14には300mmウェハー16が13枚入るものと2
5枚入るものがあり、その形状は円筒状になっており、
従来の200mmウェハーまでのカセット15とは形状
が異なっている。この300mmウェハーカセット14
が載置される300mm共用カセット固定台17には3
00mmウェハーカセット14の位置決めと固定を行う
3本のピン17aが取り付けられてある。この3本のピ
ン17aは先端が円錐状になっており、それらの中心に
対しほぼ120°間隔で並んでおり、300mmウェハ
ー用カセット14の下面にある3ヶ所のV字型溝とそれ
ぞれ一致し、位置決めされる。300mm共用カセット
固定台17には、3本のピン17aの他に階段状のガイ
ド17bが取り付けられている。200mmウェハーま
でのカセット15の前端または後端をガイド17bに押
し当てることによってカセット15の位置決めと固定を
行うことができる。ガイド17bは前方と後方の2つま
たは3つに別れており、それぞれ前後左右に微調整が可
能な構造となっているため、200mmウェハーまでの
カセット15の大きさが異なっていても固定可能とな
る。また、ガイド17bの形状は凸状を採用したが凹状
であってもよい。このように、300mm共用カセット
固定台17は300mmウェハーカセット14の固定が
可能であると同様に、従来の200mmウェハーまでの
カセット15も固定可能な構造となっている。すなわ
ち、300mmカセットと200mmまでのカセットの
異なる種類の複数のカセットを一つの固定台で兼用する
ことができる。
【0015】図3は本発明の第二の実施例を示す模式図
である。300mm専用カセット固定台19は前記の3
00mm兼用カセット固定台17と同様に固定板上に3
本のピンがほぼ120°間隔で並んでいる。これに対
し、200mmまでのカセット兼用固定台18は、固定
板上に前記の300mm共用カセット固定台17と同様
のガイド18aが取り付けてあり、150mm、200
mmのウェハーカセットに対応している。さらに、20
0mmまでのカセット兼用固定台18には、300mm
専用カセット固定台19上にある3本のピン19aと同
位置に3個の位置決め穴18bが開いている。ピン19
aと位置決め穴18bとははめあいになっており、ピン
19aに位置決め穴18bが嵌合する構造となってい
る。すなわち、300mmウェハー16を観察する場合
には、300mmウェハーカセット14が固定可能なよ
うに、300mm専用カセット固定台19を使用し、2
00mm以下のウェハーを観察する場合には、200m
mウェハーまでのカセット15が固定可能なように、3
00mm専用カセット固定台19の上に200mmまで
のカセット兼用固定台18を重ね合わせて使用する。こ
のように、300mm専用カセット固定台19上にある
3本のピン19aを300mmウェハーカセット14の
固定と200mmまでのカセット兼用固定台18との位
置決めおよび固定との兼用としている。さらに、二つの
固定台が重ねられた後に、取り外すときの作業性を向上
するために、300mm専用カセット固定台19の左右
中央部に切り欠き19bが付けてある。
である。300mm専用カセット固定台19は前記の3
00mm兼用カセット固定台17と同様に固定板上に3
本のピンがほぼ120°間隔で並んでいる。これに対
し、200mmまでのカセット兼用固定台18は、固定
板上に前記の300mm共用カセット固定台17と同様
のガイド18aが取り付けてあり、150mm、200
mmのウェハーカセットに対応している。さらに、20
0mmまでのカセット兼用固定台18には、300mm
専用カセット固定台19上にある3本のピン19aと同
位置に3個の位置決め穴18bが開いている。ピン19
aと位置決め穴18bとははめあいになっており、ピン
19aに位置決め穴18bが嵌合する構造となってい
る。すなわち、300mmウェハー16を観察する場合
には、300mmウェハーカセット14が固定可能なよ
うに、300mm専用カセット固定台19を使用し、2
00mm以下のウェハーを観察する場合には、200m
mウェハーまでのカセット15が固定可能なように、3
00mm専用カセット固定台19の上に200mmまで
のカセット兼用固定台18を重ね合わせて使用する。こ
のように、300mm専用カセット固定台19上にある
3本のピン19aを300mmウェハーカセット14の
固定と200mmまでのカセット兼用固定台18との位
置決めおよび固定との兼用としている。さらに、二つの
固定台が重ねられた後に、取り外すときの作業性を向上
するために、300mm専用カセット固定台19の左右
中央部に切り欠き19bが付けてある。
【0016】図4は本発明の第三の実施例を示す平面図
である。200mmまたは150mmカセット専用固定
台20は、前記200mmまでのカセット兼用固定台1
8と同様に板状で、その中央部に200mmまたは15
0mmカセット21を保持するためガイド20aが取り
付けられている。ガイド20aは前方、中央、後方の3
ヶ所に分かれており、中央部のガイドでカセット21の
底面に加工されているHバーを支持し、前方と後方のガ
イドはカセット21の前後を固定するような構造となっ
ている。また、200mmまたは150mmカセット専
用固定台20には、前記200mmまでのカセット兼用
固定台18と同様に300mm専用カセット固定台19
上のピン19aに嵌合するための位置決め穴20bが3
ヶ所開いている。すなわち、前記の200mmまでのカ
セット兼用固定台18の場合と同様に300mmウェハ
ー16を観察する場合には、300mmウェハーカセッ
ト14が固定可能なように、300mm専用カセット固
定台19を使用し、200mmまたは150mmのウェ
ハーを観察する場合には、200mmまたは150mm
カセット専用固定台20が固定可能なように、300m
m専用カセット固定台19の上に200mmまたは15
0mmカセット専用固定台20を重ね合わせて使用す
る。さらに、300mm専用カセット固定台19上に2
00mmまたは150mmカセット専用固定台20重ね
合わせたとき、これら両方を固定するために、固定ネジ
20cが200mmまたは150mmカセット専用固定
台20の四隅取り付けられており、300mm専用カセ
ット固定台19の四隅ネジ穴19cにねじ込まれる。
である。200mmまたは150mmカセット専用固定
台20は、前記200mmまでのカセット兼用固定台1
8と同様に板状で、その中央部に200mmまたは15
0mmカセット21を保持するためガイド20aが取り
付けられている。ガイド20aは前方、中央、後方の3
ヶ所に分かれており、中央部のガイドでカセット21の
底面に加工されているHバーを支持し、前方と後方のガ
イドはカセット21の前後を固定するような構造となっ
ている。また、200mmまたは150mmカセット専
用固定台20には、前記200mmまでのカセット兼用
固定台18と同様に300mm専用カセット固定台19
上のピン19aに嵌合するための位置決め穴20bが3
ヶ所開いている。すなわち、前記の200mmまでのカ
セット兼用固定台18の場合と同様に300mmウェハ
ー16を観察する場合には、300mmウェハーカセッ
ト14が固定可能なように、300mm専用カセット固
定台19を使用し、200mmまたは150mmのウェ
ハーを観察する場合には、200mmまたは150mm
カセット専用固定台20が固定可能なように、300m
m専用カセット固定台19の上に200mmまたは15
0mmカセット専用固定台20を重ね合わせて使用す
る。さらに、300mm専用カセット固定台19上に2
00mmまたは150mmカセット専用固定台20重ね
合わせたとき、これら両方を固定するために、固定ネジ
20cが200mmまたは150mmカセット専用固定
台20の四隅取り付けられており、300mm専用カセ
ット固定台19の四隅ネジ穴19cにねじ込まれる。
【0017】図5は本発明の第四の実施例を示す平面図
である。300mmウェハー16用のカセットには円筒
型の300mmウェハーカセット14と従来の200m
mウェハーまでのカセット15と同様な形状でサイズが
大きい従来型300mmウェハーカセット23がある。
この従来型300mmウェハーカセット23は、300
mm従来型カセット専用固定台22上に固定される。3
00mm従来型カセット専用固定台22は、前記200
mmまでのカセット兼用固定台18や200mmまたは
150mmカセット専用固定台20と同様に板状で、そ
の中央部に従来型300mmウェハーカセット23を保
持するためガイド22aが取り付けられている。ガイド
22aは中央部、その左右の3ヶ所に分かれており、中
央部のガイドでカセット23の底面に加工されているH
バーを支持し、前後方向の動きを規制している。さら
に、左右のガイドがカセット23の左右方向の動きを規
制するような構造となっている。また、300mmカセ
ット専用固定台22には、前記200mmまでのカセッ
ト兼用固定台18や200mmまたは150mmカセッ
ト専用固定台20と同様に300mm専用カセット固定
台19上のピン19aに嵌合するための位置決め穴22
bが3ヶ所開いている。すなわち、円筒型の300mm
ウェハーカセット14に入った300mmウェハー16
を観察する場合には、300mmウェハーカセット14
が固定可能なように、300mm専用カセット固定台1
9を使用し、従来型300mmウェハーカセット23に
入った300mmウェハー16を観察する場合には、3
00mm従来型カセット専用固定台22が固定可能なよ
うに、300mm専用カセット固定台19の上に300
mm従来型カセット専用固定台22を重ね合わせて使用
する。このように、同じ300mmウェハー16を観察
する場合でも、使用するカセットに応じてカセット固定
台の変更を要するが、上記のような構造とすることによ
って、容易に交換が可能である。
である。300mmウェハー16用のカセットには円筒
型の300mmウェハーカセット14と従来の200m
mウェハーまでのカセット15と同様な形状でサイズが
大きい従来型300mmウェハーカセット23がある。
この従来型300mmウェハーカセット23は、300
mm従来型カセット専用固定台22上に固定される。3
00mm従来型カセット専用固定台22は、前記200
mmまでのカセット兼用固定台18や200mmまたは
150mmカセット専用固定台20と同様に板状で、そ
の中央部に従来型300mmウェハーカセット23を保
持するためガイド22aが取り付けられている。ガイド
22aは中央部、その左右の3ヶ所に分かれており、中
央部のガイドでカセット23の底面に加工されているH
バーを支持し、前後方向の動きを規制している。さら
に、左右のガイドがカセット23の左右方向の動きを規
制するような構造となっている。また、300mmカセ
ット専用固定台22には、前記200mmまでのカセッ
ト兼用固定台18や200mmまたは150mmカセッ
ト専用固定台20と同様に300mm専用カセット固定
台19上のピン19aに嵌合するための位置決め穴22
bが3ヶ所開いている。すなわち、円筒型の300mm
ウェハーカセット14に入った300mmウェハー16
を観察する場合には、300mmウェハーカセット14
が固定可能なように、300mm専用カセット固定台1
9を使用し、従来型300mmウェハーカセット23に
入った300mmウェハー16を観察する場合には、3
00mm従来型カセット専用固定台22が固定可能なよ
うに、300mm専用カセット固定台19の上に300
mm従来型カセット専用固定台22を重ね合わせて使用
する。このように、同じ300mmウェハー16を観察
する場合でも、使用するカセットに応じてカセット固定
台の変更を要するが、上記のような構造とすることによ
って、容易に交換が可能である。
【0018】図6は、本発明の第5の実施例を示す模式
図である。300mm共用カセット固定台17にカセッ
ト有無センサー24とカセットサイズ検出用センサー2
5が取り付けられている。これらのセンサーは、光学式
を採用したが、ファイバー式や機械式でもよい。300
mm共用カセット固定台17上にカセットを載置したと
きに、固定台17のほぼ中央付近にあるカセット有無セ
ンサー24によって、カセットが有ると検出される。同
時に、このときのカセットのサイズがカセットサイズ検
出用センサー25、26、27によって検出される。例
えば、150mmウェハー用カセットの場合には、その
外端部付近にある150mmカセット用センサー25a
によって検出される。同様に、200mmウェハー用カ
セットの場合にはその外端部付近にある200mmカセ
ット用センサー25bによって検出され、300mmウ
ェハー用カセットの場合にはその外端部付近にある30
0mmカセット用センサー25cによって検出される。
カセットサイズ検出用センサー25a、25b、25c
によって検出された各信号は増幅器26に送られ増幅さ
れた後でCPU27に送られ、作動したセンサーに応じ
てどのサイズかを判断する。このウェハーのサイズ情報
は、CPU27からコントロール部28に送られ、あら
かじめウェハーサイズに応じて登録されているカセット
内の各ウェハーの位置情報をメモリー28から呼び出
し、その位置情報にしたがって、コントロール部28か
ら搬送機構30に命令が送られる。すなわち、任意のサ
イズのカセットを300mm共用カセット固定台17に
置くことにより、カセットサイズ検出用センサー25に
よって自動的にそのサイズが検出され、カセット内のウ
ェハーを確実に取り出し、搬送することができる。同時
に、カセット有無センサー24によって、カセット有無
を検出するため、カセットが固定台上に置かれていない
場合や位置がずれて置かれている場合には、カセットが
無いと判断され、搬送機構はウェハーの取り出し動作に
入らなず、カセットが無いことを警告することができ
る。このとき、カセット固定台は300mm共用カセッ
ト固定台17を採用したが、これ以外にも上記で説明し
た300mm専用カセット固定台19や200mmまで
のカセット兼用固定台18、200mmまたは150m
mカセット専用固定台20、300mm従来型カセット
専用固定台22としてもよい。
図である。300mm共用カセット固定台17にカセッ
ト有無センサー24とカセットサイズ検出用センサー2
5が取り付けられている。これらのセンサーは、光学式
を採用したが、ファイバー式や機械式でもよい。300
mm共用カセット固定台17上にカセットを載置したと
きに、固定台17のほぼ中央付近にあるカセット有無セ
ンサー24によって、カセットが有ると検出される。同
時に、このときのカセットのサイズがカセットサイズ検
出用センサー25、26、27によって検出される。例
えば、150mmウェハー用カセットの場合には、その
外端部付近にある150mmカセット用センサー25a
によって検出される。同様に、200mmウェハー用カ
セットの場合にはその外端部付近にある200mmカセ
ット用センサー25bによって検出され、300mmウ
ェハー用カセットの場合にはその外端部付近にある30
0mmカセット用センサー25cによって検出される。
カセットサイズ検出用センサー25a、25b、25c
によって検出された各信号は増幅器26に送られ増幅さ
れた後でCPU27に送られ、作動したセンサーに応じ
てどのサイズかを判断する。このウェハーのサイズ情報
は、CPU27からコントロール部28に送られ、あら
かじめウェハーサイズに応じて登録されているカセット
内の各ウェハーの位置情報をメモリー28から呼び出
し、その位置情報にしたがって、コントロール部28か
ら搬送機構30に命令が送られる。すなわち、任意のサ
イズのカセットを300mm共用カセット固定台17に
置くことにより、カセットサイズ検出用センサー25に
よって自動的にそのサイズが検出され、カセット内のウ
ェハーを確実に取り出し、搬送することができる。同時
に、カセット有無センサー24によって、カセット有無
を検出するため、カセットが固定台上に置かれていない
場合や位置がずれて置かれている場合には、カセットが
無いと判断され、搬送機構はウェハーの取り出し動作に
入らなず、カセットが無いことを警告することができ
る。このとき、カセット固定台は300mm共用カセッ
ト固定台17を採用したが、これ以外にも上記で説明し
た300mm専用カセット固定台19や200mmまで
のカセット兼用固定台18、200mmまたは150m
mカセット専用固定台20、300mm従来型カセット
専用固定台22としてもよい。
【0019】以上の実施例では、半導体ウェハー観察装
置としては、図1に示したように走査型電子顕微鏡の例
に取ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、
例えば、走査型プローブ顕微鏡や光学式顕微鏡、レーザ
顕微鏡、ウェハー異物検査装置、ウェハー表面欠陥検査
装置、ウェハー外観検査装置、触針式表面形状測定器、
X線や電子線さらにはイオンビームによるウェハー表面
分析装置なども本発明の実施例としてよい。
置としては、図1に示したように走査型電子顕微鏡の例
に取ったが、本発明はこれに限定されるものではなく、
例えば、走査型プローブ顕微鏡や光学式顕微鏡、レーザ
顕微鏡、ウェハー異物検査装置、ウェハー表面欠陥検査
装置、ウェハー外観検査装置、触針式表面形状測定器、
X線や電子線さらにはイオンビームによるウェハー表面
分析装置なども本発明の実施例としてよい。
【0020】
【発明の効果】本発明によれば、以上説明したように半
導体ウェハー観察装置において、300mmウェハー用
カセットと200mm以下のカセットを共用とする構成
にしたことにより、目的とするサイズのウェハー用カセ
ットをカセット固定台の交換をすることなしに所定の位
置にカセットを載置し固定することができるという効果
がある。また、300mmカセット固定台上に200m
mまたは150mmカセット固定台を重ね合わせて固定
する構成としたことにより、300mm、200mm、
150mmのカセットをカセット固定台の交換をするこ
となしに、所定の位置に容易に固定することができると
いう効果もある。さらに、カセット有無用検出器を有し
ているため、誤動作により搬送装置が損傷することを防
ぐことができるという効果も有する。さらにまた、カセ
ットサイズ検出器を有しているために、カセットサイズ
が自動的に識別され、それぞれのカセットサイズに応じ
て搬送機構が決められた位置に動作し、確実にウェハー
を搬送することができるという効果もある。
導体ウェハー観察装置において、300mmウェハー用
カセットと200mm以下のカセットを共用とする構成
にしたことにより、目的とするサイズのウェハー用カセ
ットをカセット固定台の交換をすることなしに所定の位
置にカセットを載置し固定することができるという効果
がある。また、300mmカセット固定台上に200m
mまたは150mmカセット固定台を重ね合わせて固定
する構成としたことにより、300mm、200mm、
150mmのカセットをカセット固定台の交換をするこ
となしに、所定の位置に容易に固定することができると
いう効果もある。さらに、カセット有無用検出器を有し
ているため、誤動作により搬送装置が損傷することを防
ぐことができるという効果も有する。さらにまた、カセ
ットサイズ検出器を有しているために、カセットサイズ
が自動的に識別され、それぞれのカセットサイズに応じ
て搬送機構が決められた位置に動作し、確実にウェハー
を搬送することができるという効果もある。
【図1】本発明の実施形態である走査型電子顕微鏡での
構成を示す摸式図である。
構成を示す摸式図である。
【図2】本発明の第一の実施例の300mm共用カセッ
ト固定台を示す摸式図である。
ト固定台を示す摸式図である。
【図3】本発明の第二の実施例の300mm専用カセッ
ト固定台と200mmまでのカセット兼用固定台を示す
模式図である。
ト固定台と200mmまでのカセット兼用固定台を示す
模式図である。
【図4】本発明の第三の実施例の300mm専用カセッ
ト固定台と200mmまたは150mmカセット専用固
定台を示す平面図である。
ト固定台と200mmまたは150mmカセット専用固
定台を示す平面図である。
【図5】本発明の第四の実施例の300mm専用カセッ
ト固定台と300mm従来型カセット専用固定台を示す
平面図である。
ト固定台と300mm従来型カセット専用固定台を示す
平面図である。
【図6】本発明の第五の実施例のカセット有無センサー
とカセットサイズ検出用センサーとその信号の流れを示
した構成図である。
とカセットサイズ検出用センサーとその信号の流れを示
した構成図である。
【図7】従来のカセット固定台を示した模式図である。
【図8】300mmウェハー用カセットを示した模式図
である。
である。
1 カセット固定台 2 カセット 3 搬送機構 3a ロボットハンド 3b 真空吸着口 4 アライナー 5 ウェハー 6 試料台 7 ステージ 8 試料観察室 9 測定部 10 コントロール部 11 コンピュータ 12 ディスプレイ 13 記憶装置 14 300mmウェハー用カセット 15 200mmウェハーまでのカセット 16 300mmウェハー 17 300mm共用カセット固定台 17a ピン 17b ガイド 18 200mmまでのカセット兼用固定台 18a ガイド 18b 位置決め穴 19 300mm専用カセット固定台 19a ピン 19b 切り欠き 19c ネジ穴 20 200mmまたは150mmカセット専用固定
台 20a ガイド 20b 位置決め穴 20c 定ネジ 21 200mmまたは150mmカセット 22 300mm従来型カセット専用固定台 22a ガイド 22b 位置決め穴 23 従来型300mmウェハーカセット 24 カセット有無センサー 25 カセットサイズ検出用センサー 25a 150mmカセット用センサー 25b 200mmカセット用センサー 25c 300mmカセット用センサー 26 増幅器 27 CPU 28 コントロール部 29 メモリー部 30 搬送機構
台 20a ガイド 20b 位置決め穴 20c 定ネジ 21 200mmまたは150mmカセット 22 300mm従来型カセット専用固定台 22a ガイド 22b 位置決め穴 23 従来型300mmウェハーカセット 24 カセット有無センサー 25 カセットサイズ検出用センサー 25a 150mmカセット用センサー 25b 200mmカセット用センサー 25c 300mmカセット用センサー 26 増幅器 27 CPU 28 コントロール部 29 メモリー部 30 搬送機構
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年10月28日(1999.10.
28)
28)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 1 カセット固定台 2 カセット 3 搬送機構 3a ロボットハンド 3b 真空吸着口 4 アライナー 5 ウェハー 6 試料台 7 ステージ 8 試料観察室 9 測定部 10 コントロール部 11 コンピュータ 12 ディスプレイ 13 記憶装置 14 300mmウェハー用カセット 15 200mmウェハーまでのカセット 16 300mmウェハー 17 300mm共用カセット固定台 17a ピン 17b ガイド 18 200mmまでのカセット兼用固定台 18a ガイド 18b 位置決め穴 19 300mm専用カセット固定台 19a ピン 19b 切り欠き 19c ネジ穴 20 200mmまたは150mmカセット専用固定
台 20a ガイド 20b 位置決め穴 20c 固定ネジ 21 200mmまたは150mmカセット 22 300mm従来型カセット専用固定台 22a ガイド 22b 位置決め穴 23 従来型300mmウェハーカセット 24 カセット有無センサー 25 カセットサイズ検出用センサー 25a 150mmカセット用センサー 25b 200mmカセット用センサー 25c 300mmカセット用センサー 26 増幅器 27 CPU 28 コントロール部 29 メモリー部 30 搬送機構
台 20a ガイド 20b 位置決め穴 20c 固定ネジ 21 200mmまたは150mmカセット 22 300mm従来型カセット専用固定台 22a ガイド 22b 位置決め穴 23 従来型300mmウェハーカセット 24 カセット有無センサー 25 カセットサイズ検出用センサー 25a 150mmカセット用センサー 25b 200mmカセット用センサー 25c 300mmカセット用センサー 26 増幅器 27 CPU 28 コントロール部 29 メモリー部 30 搬送機構
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA02 AA03 AA22 AA26 AA49 AA51 BB02 CC19 PP12 PP24 QQ23 SS02 SS13 TT02 UU04 2G051 AA51 AB01 AB02 AB20 AC22 CA11 DA03 DA06 DA07 EA14 FA10 4M106 AA01 BA02 BA10 BA14 CA38 CA39 CA41 DG02 DG03 DG10 DG16 DG19 DG28 DG30 DJ01 DJ02 DJ21 DJ23 5F031 CA02 DA01 DA17 DA20 FA15 GA08 GA43 GA47 JA02 JA22 JA32 JA40 MA33 PA18
Claims (10)
- 【請求項1】 複数の半導体ウェハーを収納するウェハ
ー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に固
定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーのサイズを
検出するウェハーサイズ判別機構と、ウェハーを載置す
る試料台と、ウェハーを任意の場所に搬送するウェハー
搬送機構と、試料台上に搬送したウェハーを所望の位置
に移動する移動機構と、ウェハーを観察する観察手段と
を備え、サイズの異なるウェハー収納容器を単一または
複数のウェハー収納容器固定台で共用することを特徴と
する半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項2】 前記ウェハー収納容器固定台は300m
m、200mm、150mmのウェハー収納容器を単一
のウェハー収納容器固定台で共用すること特徴とする請
求項1記載の半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項3】 前記300mmウェハー用収納容器固定
台の上面に200mmと150mmウェハー用収納容器
の共用のウェハー収納容器固定台を載置することを特徴
とする請求項1記載の半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項4】 前記300mmウェハー用収納容器固定
台の上面に200mmまたは150mmウェハー用収納
容器単一のウェハー収納容器固定台を載置することを特
徴とする請求項1記載の半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項5】 前記ウェハー収納容器固定台に収納容器
有無検出器を有することを特徴とする請求項1記載の半
導体ウェハー観察装置。 - 【請求項6】 前記ウェハー収納容器固定台に収納容器
サイズ検出器を有することを特徴とする請求項1記載の
半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項7】 前記300mmウェハー収納容器固定台
に収納容器有無検出器を有することを特徴とする請求項
1記載の半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項8】 前記300mmウェハー収納容器に収納
容器サイズ検出器を有することを特徴とする請求項1記
載の半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項9】 複数の半導体ウェハーを収納するウェハ
ー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に固
定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーのサイズを
検出するウェハーサイズ判別機構と、ウェハーを載置す
る試料台と、ウェハーを任意の場所に搬送するウェハー
搬送機構と、試料台上に搬送したウェハーを所望の位置
に移動する移動機構と、ウェハーを観察する観察手段と
を備え、形状の異なるウェハ収納容器を固定するのに、
単一のウェハ収納容器固定台を共用すること特徴とする
半導体ウェハー観察装置。 - 【請求項10】 複数の半導体ウェハーを収納するウェ
ハー収納容器と、このウェハー収納容器を所定の位置に
固定するウェハー収納容器固定台と、ウェハーのサイズ
を検出するウェハーサイズ判別機構と、ウェハーを載置
する試料台と、ウェハーを任意の場所に搬送するウェハ
ー搬送機構と、試料台上に搬送したウェハーを所望の位
置に移動する移動機構と、ウェハーを観察する観察手段
とを備え、所定のウェハ収納容器に対応した第1のウェ
ハ収納容器固定台と、前記所定のウェハ収納容器とは形
状又はサイズの異なるウェハ収納容器に対応し、前記第
1のウェハ収納容器固定台上に着脱可能に載置される、
第2のウェハ収納容器固定台とからなることを特徴とす
る半導体ウェハー観察装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24740798A JP3218015B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | 半導体ウェハー観察装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24740798A JP3218015B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | 半導体ウェハー観察装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000077490A true JP2000077490A (ja) | 2000-03-14 |
JP3218015B2 JP3218015B2 (ja) | 2001-10-15 |
Family
ID=17162984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24740798A Ceased JP3218015B2 (ja) | 1998-09-01 | 1998-09-01 | 半導体ウェハー観察装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3218015B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6830651B2 (en) | 2002-08-29 | 2004-12-14 | Tokyo Electron Limited | Load port capable of coping with different types of cassette containing substrates to be processed |
JP2006120766A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Olympus Corp | ウェハ搬送装置及びカセット設置用アダプタ |
US7369237B2 (en) | 2004-05-11 | 2008-05-06 | Olympus Corporation | Substrate processing apparatus and substrate processing system |
JP2012064828A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Sinfonia Technology Co Ltd | カセットアダプタ、及び着座センサ機構 |
JP2012151219A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | カセット |
EP2717306A1 (en) * | 2011-05-25 | 2014-04-09 | Murata Machinery, Ltd. | Load port apparatus, carrier system, and container conveyance method |
JP2015115545A (ja) * | 2013-12-13 | 2015-06-22 | 株式会社ディスコ | カセットステージ |
CN105390426A (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-09 | 英飞凌科技股份有限公司 | 适配器工具和晶片搬运*** |
JP2018107312A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0424936A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-28 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JPH0582625A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | ウエハ搬送装置 |
-
1998
- 1998-09-01 JP JP24740798A patent/JP3218015B2/ja not_active Ceased
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0424936A (ja) * | 1990-05-15 | 1992-01-28 | Tokyo Electron Ltd | プローブ装置 |
JPH0582625A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-04-02 | Hitachi Ltd | ウエハ搬送装置 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6830651B2 (en) | 2002-08-29 | 2004-12-14 | Tokyo Electron Limited | Load port capable of coping with different types of cassette containing substrates to be processed |
US7369237B2 (en) | 2004-05-11 | 2008-05-06 | Olympus Corporation | Substrate processing apparatus and substrate processing system |
JP2006120766A (ja) * | 2004-10-20 | 2006-05-11 | Olympus Corp | ウェハ搬送装置及びカセット設置用アダプタ |
JP2012064828A (ja) * | 2010-09-17 | 2012-03-29 | Sinfonia Technology Co Ltd | カセットアダプタ、及び着座センサ機構 |
JP2012151219A (ja) * | 2011-01-18 | 2012-08-09 | Disco Abrasive Syst Ltd | カセット |
EP2717306A1 (en) * | 2011-05-25 | 2014-04-09 | Murata Machinery, Ltd. | Load port apparatus, carrier system, and container conveyance method |
EP2717306A4 (en) * | 2011-05-25 | 2014-11-26 | Murata Machinery Ltd | LOAD PORTING DEVICE, CARRIER SYSTEM AND CONTAINER TRANSPORT PROCESS |
JP2015115545A (ja) * | 2013-12-13 | 2015-06-22 | 株式会社ディスコ | カセットステージ |
CN105390426A (zh) * | 2014-08-28 | 2016-03-09 | 英飞凌科技股份有限公司 | 适配器工具和晶片搬运*** |
US10186440B2 (en) | 2014-08-28 | 2019-01-22 | Infineon Technologies Ag | Adapter tool configured to be attached to a loadport of a wafer handling system and wafer handling system with such an adapter tool |
JP2018107312A (ja) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3218015B2 (ja) | 2001-10-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI424520B (zh) | Detection device | |
JP4091380B2 (ja) | 被処理体基板を収容した複数種類のカセットに対応可能なロードポート | |
US7008884B2 (en) | Transfer robot and inspection method for thin substrate | |
JP7018784B2 (ja) | コンタクト精度保証方法および検査装置 | |
TW200903699A (en) | Probe apparatus | |
US20080156122A1 (en) | Wafer inspection machine and method | |
JP3218015B2 (ja) | 半導体ウェハー観察装置 | |
JP2022166211A (ja) | ウェハおよびフォトマスクの組み合わせ検査のシステム、装置、および方法 | |
JP2006253331A (ja) | 製造検査解析システム、解析装置、解析装置制御プログラム、解析装置制御プログラムを記録した記録媒体、および製造検査解析方法 | |
US5092557A (en) | Apparatus for holding and positioning a substrate cassette | |
JPH09186220A (ja) | 搬送装置及び搬送方法 | |
JP2002026107A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2008108765A (ja) | 位置調整治具、位置調整方法及び電子装置の製造方法 | |
KR20010070510A (ko) | 칩 사이즈 패키지 기판 절단방법 | |
JP2001349848A (ja) | 検査装置及び検査方法 | |
JP2005286102A (ja) | 真空処理装置および真空処理方法 | |
JP2005322854A (ja) | 基板処理装置及び基板処理システム | |
JP2003297902A (ja) | カセットアダプタ | |
JP3761081B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20070002257A (ko) | 웨이퍼 후면 결함 검출 장치 | |
KR20210033897A (ko) | 웨이퍼의 처리 방법 및 칩 측정 장치 | |
JP2002151564A (ja) | 基板供給モジュールおよび基板供給モジュールと作業ステーションからなるシステム | |
JPH09270383A (ja) | 基板搬送装置及び基板搬送方法 | |
KR0138763B1 (ko) | 프로우브 장치 및 그의 제어방법 | |
US7230441B2 (en) | Wafer staging platform for a wafer inspection system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RVOP | Cancellation by post-grant opposition |