JP2000072452A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜剥離やクラックの発生がなく、ガラスとの
離型性が良好な光学素子成形用型を製造する。 【解決手段】 型母材の少なくとも成形面の表面に形成
された型母材の主成分と同一の元素の酸化物膜と、酸化
物膜上に形成されたアルミナ膜と、アルミナ膜上に形成
された窒化アルミニウム膜とを備える。酸化物膜が型母
材と高い密着性を有し、アルミナ膜は酸化物膜と高い密
着性を有し、窒化アルミニウム膜はアルミナ膜と高い密
着性を有しており、窒化アルミニウム膜はガラスとの融
着することがない。
離型性が良好な光学素子成形用型を製造する。 【解決手段】 型母材の少なくとも成形面の表面に形成
された型母材の主成分と同一の元素の酸化物膜と、酸化
物膜上に形成されたアルミナ膜と、アルミナ膜上に形成
された窒化アルミニウム膜とを備える。酸化物膜が型母
材と高い密着性を有し、アルミナ膜は酸化物膜と高い密
着性を有し、窒化アルミニウム膜はアルミナ膜と高い密
着性を有しており、窒化アルミニウム膜はガラスとの融
着することがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズ、プリズム
等の光学素子をガラス素材のプレス成形により製造する
のに使用される光学素子成形用型に関する。
等の光学素子をガラス素材のプレス成形により製造する
のに使用される光学素子成形用型に関する。
【０００２】
【従来の技術】研磨を必要とすることなくガラス素材の
プレス成形によってレンズを製造する技術は従前からの
複雑な工程をなくし、簡単且つ安価にレンズを製造する
ことができるところから、レンズのみならずプリズムそ
の他のガラスよりなる光学素子の製造に使用されてい
る。
プレス成形によってレンズを製造する技術は従前からの
複雑な工程をなくし、簡単且つ安価にレンズを製造する
ことができるところから、レンズのみならずプリズムそ
の他のガラスよりなる光学素子の製造に使用されてい
る。
【０００３】このようなガラスからなる光学素子のプレ
ス成形に使用される型材に要求される性質としては、硬
度、耐熱性、鏡面加工性等に優れていることが必要であ
る。従来のこの種の型材としては、特開昭４９−５１１
１２号公報、同５２−４５６１３号公報、同６０−２４
６２３０号公報及び特開平１−３０１８６４号公報に開
示されている。
ス成形に使用される型材に要求される性質としては、硬
度、耐熱性、鏡面加工性等に優れていることが必要であ
る。従来のこの種の型材としては、特開昭４９−５１１
１２号公報、同５２−４５６１３号公報、同６０−２４
６２３０号公報及び特開平１−３０１８６４号公報に開
示されている。
【０００４】特開昭４９−５１１１２号公報では、Ｃ
ｒ、Ａｌを混合したマルテンサイト鋼によって型材を成
形することが記載され、特開昭５２−４５６１３号公報
では、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）、Ｓｉ3 Ｎ4 （窒
化シリコン）によって型材を成形することが記載されて
いる。
ｒ、Ａｌを混合したマルテンサイト鋼によって型材を成
形することが記載され、特開昭５２−４５６１３号公報
では、ＳｉＣ（シリコンカーバイド）、Ｓｉ3 Ｎ4 （窒
化シリコン）によって型材を成形することが記載されて
いる。
【０００５】又、特開昭６０−２４６２３０号公報に
は、ＷＣなどの超硬合金を型母材とし、この型母材上に
貴金属層をコーティングすることが記載されている。貴
金属層としてはＩｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、ＲｕなどとＰ
ｔとの合金が用いられる。特開平１−３０１８６４号公
報には、炭化ケイ素の焼結体からなる型母材にダイヤモ
ンド結晶、グラファイト結晶、アモルファス状カーボン
などの薄膜をコーティングすることが記載されている。
は、ＷＣなどの超硬合金を型母材とし、この型母材上に
貴金属層をコーティングすることが記載されている。貴
金属層としてはＩｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、ＲｕなどとＰ
ｔとの合金が用いられる。特開平１−３０１８６４号公
報には、炭化ケイ素の焼結体からなる型母材にダイヤモ
ンド結晶、グラファイト結晶、アモルファス状カーボン
などの薄膜をコーティングすることが記載されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
４９−５１１１２号公報の型材に用いるマルテンサイト
鋼は酸化し易いばかりでなく、高温でＦｅがガラス中に
拡散してガラスが着色する問題を有している。特開昭５
２−４５６１３号公報では、型材に用いるＳｉＣ、Ｓｉ
3 Ｎ4 が酸化されにくいとなっているが、高温では酸化
が起こって表面にＳｉＯ2 膜が形成され、このためガラ
スの融着を生じている。
４９−５１１１２号公報の型材に用いるマルテンサイト
鋼は酸化し易いばかりでなく、高温でＦｅがガラス中に
拡散してガラスが着色する問題を有している。特開昭５
２−４５６１３号公報では、型材に用いるＳｉＣ、Ｓｉ
3 Ｎ4 が酸化されにくいとなっているが、高温では酸化
が起こって表面にＳｉＯ2 膜が形成され、このためガラ
スの融着を生じている。
【０００７】又、貴金属層をコーティングした特開昭６
０−２４６２３０号公報の型材では、ガラスの融着は起
こしにくいが、貴金属層が極めて柔らかいため、傷がつ
き易く、しかも変形し易い問題を有している。
０−２４６２３０号公報の型材では、ガラスの融着は起
こしにくいが、貴金属層が極めて柔らかいため、傷がつ
き易く、しかも変形し易い問題を有している。
【０００８】特開平１−３０１８６４号公報では、型母
材上にダイヤモンド薄膜、ダイヤモンド状炭素、水素化
アモルファス硬質炭素膜、硬質炭素膜をコーティングす
ることにより、型とガラスの離型性が良好となって、ガ
ラスの融着を起こさない。ところが、成形操作を数百回
以上繰り返して行うと、コーティングした膜が部分的に
剥離し、このために成形品において十分な成形性能が得
られないことがある。この原因として以下のことが考え
られる。
材上にダイヤモンド薄膜、ダイヤモンド状炭素、水素化
アモルファス硬質炭素膜、硬質炭素膜をコーティングす
ることにより、型とガラスの離型性が良好となって、ガ
ラスの融着を起こさない。ところが、成形操作を数百回
以上繰り返して行うと、コーティングした膜が部分的に
剥離し、このために成形品において十分な成形性能が得
られないことがある。この原因として以下のことが考え
られる。
【０００９】まず、成膜されたコーティング膜は、いず
れも非常に大きな圧縮応力を有しており、成形プロセス
における急加熱−急冷却に伴う応力解放の結果として剥
離、クラック等が生じる。同様に、型母材とコーティン
グ膜との間における熱膨張係数の相違と、熱サイクルに
起因する熱応力によっても同様な現象が生じるためであ
る。
れも非常に大きな圧縮応力を有しており、成形プロセス
における急加熱−急冷却に伴う応力解放の結果として剥
離、クラック等が生じる。同様に、型母材とコーティン
グ膜との間における熱膨張係数の相違と、熱サイクルに
起因する熱応力によっても同様な現象が生じるためであ
る。
【００１０】これに加えて、表面状態によりコーティン
グ膜が部分的に形成されなかったり、膜厚が薄いことが
ある。例えば、ＷＣ−ＣｏやＳｉＣ、Ｓｉ3 Ｎ4 等の焼
結体では、粒の欠落や焼結時のポアが避けられず、成形
研磨面に数μｍ以上の孔が存在している。このような面
にコーティング膜を形成したとき、これらの孔には膜が
形成されていなかったり、極端に膜厚の薄い状態にな
る。そして、このような部分では、膜の付着強度や、機
械的強度が著しく低下するため、剥離やクラックの発生
起点となり易い。
グ膜が部分的に形成されなかったり、膜厚が薄いことが
ある。例えば、ＷＣ−ＣｏやＳｉＣ、Ｓｉ3 Ｎ4 等の焼
結体では、粒の欠落や焼結時のポアが避けられず、成形
研磨面に数μｍ以上の孔が存在している。このような面
にコーティング膜を形成したとき、これらの孔には膜が
形成されていなかったり、極端に膜厚の薄い状態にな
る。そして、このような部分では、膜の付着強度や、機
械的強度が著しく低下するため、剥離やクラックの発生
起点となり易い。
【００１１】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、成形面の表面で膜の剥離やク
ラック等が発生することがなく耐久性に優れ、しかもガ
ラスとの融着が起こらず、離型性が優れている光学素子
成形用型を提供することを目的とする。
してなされたものであり、成形面の表面で膜の剥離やク
ラック等が発生することがなく耐久性に優れ、しかもガ
ラスとの融着が起こらず、離型性が優れている光学素子
成形用型を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１の発明は、ガラスからなる光学素材をプレ
スして光学素子を成形するのに用いる光学素子成形用型
において、型母材の少なくとも成形面の表面に形成され
た型母材の主成分と同一の元素の酸化物膜と、この酸化
物膜上に形成されたアルミナ膜と、このアルミナ膜上に
形成された窒化アルミニウム膜と、を備えていることを
特徴とする。
め、請求項１の発明は、ガラスからなる光学素材をプレ
スして光学素子を成形するのに用いる光学素子成形用型
において、型母材の少なくとも成形面の表面に形成され
た型母材の主成分と同一の元素の酸化物膜と、この酸化
物膜上に形成されたアルミナ膜と、このアルミナ膜上に
形成された窒化アルミニウム膜と、を備えていることを
特徴とする。
【００１３】以上の発明に用いる型母材としては、Ｗ
Ｃ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＢＮ、ＴｉＮ、Ａｌ2 Ｏ
3 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｗ、Ｔａ、Ｍ
ｏ、サーメット、サイアロン、ムライト、ＷＣ−Ｃｏ合
金等から選ばれるが、耐熱性、鏡面加工性、熱伝導率の
観点からはＳｉＣ、Ａｌ2 Ｏ3 が望ましい。又、これら
以外に補助材としてニッケル、チタン等の金属、その
他、必要に応じ様々な化合物を添加したものを用いるこ
とができる。
Ｃ、ＳｉＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＢＮ、ＴｉＮ、Ａｌ2 Ｏ
3 、Ｓｉ3 Ｎ4 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 、Ｗ、Ｔａ、Ｍ
ｏ、サーメット、サイアロン、ムライト、ＷＣ−Ｃｏ合
金等から選ばれるが、耐熱性、鏡面加工性、熱伝導率の
観点からはＳｉＣ、Ａｌ2 Ｏ3 が望ましい。又、これら
以外に補助材としてニッケル、チタン等の金属、その
他、必要に応じ様々な化合物を添加したものを用いるこ
とができる。
【００１４】酸化物膜は型母材を構成する元素の酸化物
膜である。この酸化物膜を形成することにより、その後
に形成するアルミナ膜（Ａｌ2 Ｏ3 膜）との高い親和性
が向上し、高い密着力を得ることができる。また、アル
ミナ膜を形成することにより、その後に形成する窒化ア
ルミニウム膜との間に同一元素であるＡｌによる拡散が
発生する。このためＡｌ元素を共有するため、高い密着
性が得られる。窒化アルミニウム膜はガラスとの離型性
に優れ、ガラスとの融着がない。
膜である。この酸化物膜を形成することにより、その後
に形成するアルミナ膜（Ａｌ2 Ｏ3 膜）との高い親和性
が向上し、高い密着力を得ることができる。また、アル
ミナ膜を形成することにより、その後に形成する窒化ア
ルミニウム膜との間に同一元素であるＡｌによる拡散が
発生する。このためＡｌ元素を共有するため、高い密着
性が得られる。窒化アルミニウム膜はガラスとの離型性
に優れ、ガラスとの融着がない。
【００１５】酸化物膜を形成する方法としては熱酸化、
真空蒸着、ＰＶＤ、ＣＶＤ等の薄膜の形成方法や酸素イ
オン注入等があるが、熱劣化、表面粗さ、分布の制御性
等から、酸素イオン注入が望ましい。
真空蒸着、ＰＶＤ、ＣＶＤ等の薄膜の形成方法や酸素イ
オン注入等があるが、熱劣化、表面粗さ、分布の制御性
等から、酸素イオン注入が望ましい。
【００１６】アルミナ膜及び窒化アルミニウム膜の形成
方法としては、上述した成膜方法による形成以外に、イ
オン注入と成膜手段とを組み合わせたダイナミックミキ
シング法等がある。酸化物膜の形成から窒化アルミニウ
ム膜の形成までを同一系による処理で行う場合には、ダ
イナミックミキシング法が望ましい。また、ダイナミッ
クミキシング法により形成した膜は、表面から深さ方向
に注入元素が傾斜的に分布しているため、界面が存在せ
ず、密着性が良好となるメリットもある。
方法としては、上述した成膜方法による形成以外に、イ
オン注入と成膜手段とを組み合わせたダイナミックミキ
シング法等がある。酸化物膜の形成から窒化アルミニウ
ム膜の形成までを同一系による処理で行う場合には、ダ
イナミックミキシング法が望ましい。また、ダイナミッ
クミキシング法により形成した膜は、表面から深さ方向
に注入元素が傾斜的に分布しているため、界面が存在せ
ず、密着性が良好となるメリットもある。
【００１７】更に、成膜中あるいは成膜後の型母材を熱
処理することにより、注入したイオンは増速拡散効果に
より分布が広がる。このため、元素を深く侵入させるこ
とが可能となる。この結果、密着性が更に向上すると共
に、熱安定性も増大させることができる。なお、この処
理を行う雰囲気としては窒素雰囲気が望ましい。
処理することにより、注入したイオンは増速拡散効果に
より分布が広がる。このため、元素を深く侵入させるこ
とが可能となる。この結果、密着性が更に向上すると共
に、熱安定性も増大させることができる。なお、この処
理を行う雰囲気としては窒素雰囲気が望ましい。
【００１８】
【発明の実施の形態】曲率半径Ｒが１５０ｍｍの両面が
凸面であり、表面粗さＲｍａｘが０．０２μｍ、直径φ
が５ｍｍ、肉厚が２ｍｍのガラスレンズを成形するた
め、ＳｉＣ焼結体を所定の形状に加工し、成形面にＣＶ
Ｄ法により、膜厚２００〜３００μｍのＳｉＣ膜を形成
し、その後、鏡面研磨（表面のＲｍａｘ＝０．０２μ
ｍ）したものを８型用意した。ＳｉＣ膜は、ＳｉＣ焼結
体を得る際に焼結によって空洞が生ずるので、これを埋
める、又、ＳｉＣ焼結体と同じ成分にすることで密着性
を高めるために選択されたものである。このため、Ｓｉ
Ｃ膜は型母材として機能するものである。
凸面であり、表面粗さＲｍａｘが０．０２μｍ、直径φ
が５ｍｍ、肉厚が２ｍｍのガラスレンズを成形するた
め、ＳｉＣ焼結体を所定の形状に加工し、成形面にＣＶ
Ｄ法により、膜厚２００〜３００μｍのＳｉＣ膜を形成
し、その後、鏡面研磨（表面のＲｍａｘ＝０．０２μ
ｍ）したものを８型用意した。ＳｉＣ膜は、ＳｉＣ焼結
体を得る際に焼結によって空洞が生ずるので、これを埋
める、又、ＳｉＣ焼結体と同じ成分にすることで密着性
を高めるために選択されたものである。このため、Ｓｉ
Ｃ膜は型母材として機能するものである。
【００１９】次に、イオン注入装置を用いて質量分離を
行い、酸素イオン（16Ｏ+ ）を成形面に以下の３条件で
各条件に型母材２個、計６個をそれぞれ注入し、表面に
ＳｉＯ2 からなる酸化物膜を形成した。 （１）注入条件１（実施例１） 注入量 ３×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １５ｋｅＶ （２）注入条件２（実施例２） 注入量 ５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １５ｋｅＶ （３）注入条件３（実施例３） 注入量 １×１０18ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー ３０ｋｅＶ
行い、酸素イオン（16Ｏ+ ）を成形面に以下の３条件で
各条件に型母材２個、計６個をそれぞれ注入し、表面に
ＳｉＯ2 からなる酸化物膜を形成した。 （１）注入条件１（実施例１） 注入量 ３×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １５ｋｅＶ （２）注入条件２（実施例２） 注入量 ５×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １５ｋｅＶ （３）注入条件３（実施例３） 注入量 １×１０18ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー ３０ｋｅＶ
【００２０】その後、真空蒸着によって成膜速度３オン
グストローム／ｓｅｃによるアルミニウムの成膜と酸素
イオン注入を同時に行うダイナミックミキシング法によ
りアルミナ膜を０．１μｍ形成した。注入条件としては
全ての実施例１〜３が以下の同一の条件とした。 注入条件 注入量 ３×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １０ｋｅＶ
グストローム／ｓｅｃによるアルミニウムの成膜と酸素
イオン注入を同時に行うダイナミックミキシング法によ
りアルミナ膜を０．１μｍ形成した。注入条件としては
全ての実施例１〜３が以下の同一の条件とした。 注入条件 注入量 ３×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １０ｋｅＶ
【００２１】更に、イオンソースを窒素に変更し、アル
ミニウムを成膜しながら窒素イオン注入を下記条件で行
い、膜厚１μｍの窒化アルミニウム膜を成膜した。 注入条件 注入量 ７×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １０ｋｅＶ
ミニウムを成膜しながら窒素イオン注入を下記条件で行
い、膜厚１μｍの窒化アルミニウム膜を成膜した。 注入条件 注入量 ７×１０17ｉｏｎｓ／ｃｍ2 イオンエネルギー １０ｋｅＶ
【００２２】その後、成形表面の表面粗さを評価したと
ころ、Ｒｍａｘ＝０．０２μｍであり、加工終了時との
粗さ変化はなかった。
ころ、Ｒｍａｘ＝０．０２μｍであり、加工終了時との
粗さ変化はなかった。
【００２３】イオン注入後の成形型で、フリント系ガラ
スＬａＳＦ（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ
＝６１０℃）を用いて成形機によりプレス成形を行い、
成形回数を評価した。その結果を表１に示す。
スＬａＳＦ（軟化点Ｓｐ＝６８７℃、ガラス転移点Ｔｇ
＝６１０℃）を用いて成形機によりプレス成形を行い、
成形回数を評価した。その結果を表１に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】実施例１〜３のいずれの型においても１０
０００ショット以上の成形が可能であった。また、１０
０００ショット成形した後の型は、傷や割れといった欠
陥や、ガラス中に含まれるＰｂＯの還元析出物てあるＰ
ｂやガラスの融着が光学顕微鏡、走査電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）によって観察されなかった。また、成形品について
も表面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でＰｂ
の析出や成形時のガス残りといった問題もなかった。
０００ショット以上の成形が可能であった。また、１０
０００ショット成形した後の型は、傷や割れといった欠
陥や、ガラス中に含まれるＰｂＯの還元析出物てあるＰ
ｂやガラスの融着が光学顕微鏡、走査電子顕微鏡（ＳＥ
Ｍ）によって観察されなかった。また、成形品について
も表面粗さ、面精度、透過率、形状精度とも良好でＰｂ
の析出や成形時のガス残りといった問題もなかった。
【００２６】このような実施の形態では、イオン注入に
よって形成したＳｉＯ2 膜は結晶化が進まないため、表
面粗さが小さくなっている。またダイナミックミキシン
グ法によって形成したアルミナ膜及び窒化アルミニウム
膜は界面が不明瞭な密着性の高い膜となっている。これ
によりＬａＳＦ０３のような高温での成形においても、
離型が容易に、かつ繰り返し行えるため、生産性が大幅
に向上する。
よって形成したＳｉＯ2 膜は結晶化が進まないため、表
面粗さが小さくなっている。またダイナミックミキシン
グ法によって形成したアルミナ膜及び窒化アルミニウム
膜は界面が不明瞭な密着性の高い膜となっている。これ
によりＬａＳＦ０３のような高温での成形においても、
離型が容易に、かつ繰り返し行えるため、生産性が大幅
に向上する。
【００２７】なお、以上の実施例１〜３では、型母材と
してのＳｉＣ焼結体の成形面に、成形面の空洞を埋める
ために、ＳｉＣ焼結体と同じ成分の膜を形成して密着性
を高めているが、他の種類の焼結体についても同様に、
その焼結体と同じ成分の膜を形成して、空洞を埋めるの
が良好である。そして、その上に焼結体の母材成分と同
一の元素からなる酸化物膜を形成した後、アルミナ膜を
形成し、更に窒化アルミニウム膜を形成することによ
り、成形用型とする。
してのＳｉＣ焼結体の成形面に、成形面の空洞を埋める
ために、ＳｉＣ焼結体と同じ成分の膜を形成して密着性
を高めているが、他の種類の焼結体についても同様に、
その焼結体と同じ成分の膜を形成して、空洞を埋めるの
が良好である。そして、その上に焼結体の母材成分と同
一の元素からなる酸化物膜を形成した後、アルミナ膜を
形成し、更に窒化アルミニウム膜を形成することによ
り、成形用型とする。
【００２８】また、母型材が合金の場合は、成形面に空
洞がないため、型母材の成形面に母材の主成分と同一の
元素からなる酸化物膜を形成した後、アルミナ膜を形成
し、その後に窒化アルミニウム膜を形成することによ
り、成形用型とすることができる。
洞がないため、型母材の成形面に母材の主成分と同一の
元素からなる酸化物膜を形成した後、アルミナ膜を形成
し、その後に窒化アルミニウム膜を形成することによ
り、成形用型とすることができる。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、膜剥離やクラックの発生のない耐久性を有し、
しかもガラスとの融着が起こらない良好な離型性を有し
た光学素子成形用型とすることができる。
よれば、膜剥離やクラックの発生のない耐久性を有し、
しかもガラスとの融着が起こらない良好な離型性を有し
た光学素子成形用型とすることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 ガラスからなる光学素材をプレスして光
学素子を成形するのに用いる光学素子成形用型におい
て、 型母材の少なくとも成形面の表面に形成された型母材の
主成分と同一の元素の酸化物膜と、 この酸化物膜上に形成されたアルミナ膜と、 このアルミナ膜上に形成された窒化アルミニウム膜と、
を備えていることを特徴とする光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10232446A JP2000072452A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10232446A JP2000072452A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000072452A true JP2000072452A (ja) | 2000-03-07 |
Family
ID=16939415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10232446A Withdrawn JP2000072452A (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000072452A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012027132A1 (en) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | Corning Incorporated | Glass-forming tools and methods |
| CN103080034A (zh) * | 2010-08-26 | 2013-05-01 | 康宁股份有限公司 | 玻璃内插嵌板及其制造方法 |
-
1998
- 1998-08-19 JP JP10232446A patent/JP2000072452A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012027132A1 (en) * | 2010-08-24 | 2012-03-01 | Corning Incorporated | Glass-forming tools and methods |
| CN103068751A (zh) * | 2010-08-24 | 2013-04-24 | 康宁股份有限公司 | 玻璃成形工具和方法 |
| JP2013536152A (ja) * | 2010-08-24 | 2013-09-19 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス成形器具および方法 |
| KR20140000187A (ko) * | 2010-08-24 | 2014-01-02 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 형성 툴 및 방법 |
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| CN103068751B (zh) * | 2010-08-24 | 2015-09-30 | 康宁股份有限公司 | 玻璃成形工具和方法 |
| US9586849B2 (en) | 2010-08-24 | 2017-03-07 | Corning Incorporated | Glass-forming tools and methods |
| KR101866589B1 (ko) * | 2010-08-24 | 2018-06-11 | 코닝 인코포레이티드 | 유리 형성 툴 및 방법 |
| CN103080034A (zh) * | 2010-08-26 | 2013-05-01 | 康宁股份有限公司 | 玻璃内插嵌板及其制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20051101 |