JP2000067796A - Scanning electron microscope - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子ビームを試料
面上に走査し、試料から発生する二次電子を検出して画
像を形成する走査電子顕微鏡に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a scanning electron microscope for forming an image by scanning an electron beam on a sample surface and detecting secondary electrons generated from the sample.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、電子ビームを試料面上に走査し、
試料から発生する二次電子を検出して画像を形成する電
子顕微鏡として、一般に、走査電子顕微鏡が知られてい
る。また、近時、水分を含有する無機物あるいは有機物
等のように、従来の走査電子顕微鏡では画像を得ること
ができなかった試料を観察するための電子顕微鏡とし
て、環境制御型走査電子顕微鏡が開発されている。2. Description of the Related Art Conventionally, an electron beam is scanned over a sample surface,
A scanning electron microscope is generally known as an electron microscope that forms an image by detecting secondary electrons generated from a sample. Recently, an environmentally controlled scanning electron microscope has been developed as an electron microscope for observing a sample, such as an inorganic or organic substance containing water, for which an image could not be obtained with a conventional scanning electron microscope. ing.
【０００３】図８は、この種の環境制御型走査電子顕微
鏡の一例を示しており、図において、鏡筒１内の上部１
ａには、電子銃室３が形成されている。電子銃室３に
は、電子銃５が配置されており、電子銃室３内は、この
電子銃室３に接続される真空ポンプ７により、高真空状
態に維持されている。鏡筒１内には、電子銃室３から対
物レンズ下極１ｂまで、電子光学路９が形成されてい
る。FIG. 8 shows an example of this type of environment-controlled scanning electron microscope. In FIG.
An electron gun chamber 3 is formed in a. An electron gun 5 is arranged in the electron gun chamber 3, and the inside of the electron gun chamber 3 is maintained in a high vacuum state by a vacuum pump 7 connected to the electron gun chamber 3. In the lens barrel 1, an electron optical path 9 is formed from the electron gun chamber 3 to the lower pole 1b of the objective lens.
【０００４】電子光学路９内は、この電子光学路９に接
続する真空ポンプ１３により、高真空状態に維持されて
いる。電子銃室３と電子光学路９との間には、圧力制限
オリフィス１１が形成されている。また、鏡筒１内に
は、電子光学路９に沿って、コンデンサレンズ１５，走
査コイル１７，対物レンズ１９が配置されている。The inside of the electron optical path 9 is maintained in a high vacuum state by a vacuum pump 13 connected to the electron optical path 9. A pressure limiting orifice 11 is formed between the electron gun chamber 3 and the electron optical path 9. In the lens barrel 1, a condenser lens 15, a scanning coil 17, and an objective lens 19 are arranged along the electron optical path 9.
【０００５】鏡筒１の対物レンズ下極１ｂには、観察す
る試料２１を配置する試料室２３が形成されている。試
料室２３には、バルブ２５を介して真空ポンプ２７が接
続され、バルブ２５および真空ポンプ２７により、試料
室２３の真空度の制御が行われている。また、試料室２
３には、圧力制御バルブ２９を介して、気体供給源３１
が接続されている。A sample chamber 23 in which a sample 21 to be observed is arranged is formed in the lower pole 1b of the objective lens of the lens barrel 1. A vacuum pump 27 is connected to the sample chamber 23 via a valve 25, and the degree of vacuum in the sample chamber 23 is controlled by the valve 25 and the vacuum pump 27. Also, sample chamber 2
3 has a gas supply source 31 via a pressure control valve 29.
Is connected.
【０００６】圧力制御バルブ２９および気体供給源３１
により、試料室２３には、所定量の気体が供給可能にさ
れている。また、試料室２３内には、電子光学路９の延
長上に、試料２１を載置する試料加熱装置３３が配置さ
れている。試料加熱装置３３の試料載置部３３ａの下部
には、図９に示すように、試料２１を所定の温度に加熱
するセラミックヒーター３５が内蔵されている。[0006] Pressure control valve 29 and gas supply source 31
Thus, a predetermined amount of gas can be supplied to the sample chamber 23. In the sample chamber 23, a sample heating device 33 on which the sample 21 is placed is arranged on the extension of the electron optical path 9. As shown in FIG. 9, a ceramic heater 35 for heating the sample 21 to a predetermined temperature is incorporated below the sample mounting portion 33a of the sample heating device 33.
【０００７】また、試料室２３内には、鏡筒１の対物レ
ンズ下極１ｂに、試料２１から発生する二次電子を検出
する二次電子検出器３７が配置されている。二次電子検
出器３７の検出部３９は、りん青銅等の金属により形成
されている。検出部３９の中央には、電子光学路９の延
長上に、貫通穴３９ａが形成されており、この貫通穴３
９ａにより、電子光学路９と試料室２３との間に、圧力
制限オリフィス３９ｂが形成されている。In the sample chamber 23, a secondary electron detector 37 for detecting secondary electrons generated from the sample 21 is arranged at the lower pole 1b of the objective lens of the lens barrel 1. The detection section 39 of the secondary electron detector 37 is formed of a metal such as phosphor bronze. A through hole 39 a is formed at the center of the detection unit 39 on the extension of the electron optical path 9.
9a, a pressure limiting orifice 39b is formed between the electron optical path 9 and the sample chamber 23.
【０００８】検出部３９の上部には、ポリアセタール樹
脂等からなる絶縁座４１が取り付けられており、この絶
縁座４１を介して、検出部３９が鏡筒１の対物レンズ下
極１ｂに固定されている。また、二次電子検出器３７に
は、図示しない外部の制御装置に接続されるリード線３
７ａが取り付けられている。An insulating seat 41 made of polyacetal resin or the like is attached to the upper part of the detecting unit 39. The detecting unit 39 is fixed to the lower pole 1b of the objective lens of the lens barrel 1 via the insulating seat 41. I have. The secondary electron detector 37 has a lead wire 3 connected to an external control device (not shown).
7a is attached.
【０００９】二次電子検出器３７と試料２１との間に
は、加熱された試料２１および試料加熱装置３３から発
生する輻射熱を遮る防熱板４３が配置されている。防熱
板４３には、電子光学路９の延長上の位置に、電子ビー
ムおよび二次電子を通過させるための貫通穴４３ａが形
成されている。上述した走査電子顕微鏡では、以下示す
ように、試料２１の観察が行われる。Between the secondary electron detector 37 and the sample 21, there is disposed a heat shield 43 for blocking radiant heat generated from the heated sample 21 and the sample heating device 33. In the heat insulating plate 43, a through hole 43a for passing an electron beam and secondary electrons is formed at a position on the extension of the electron optical path 9. In the scanning electron microscope described above, the sample 21 is observed as described below.
【００１０】すなわち、先ず、真空ポンプ７，１３によ
り電子銃室３および電子光学路９が高真空状態にされ
る。また、気体供給源３１から所定の気体が試料室２３
に供給され、同時に、バルブ２５および真空ポンプ２７
により、試料室２３内が所定の真空度に保持される。こ
の際に、二次電子検出器３７の検出部３９が圧力制限オ
リフィス３９ｂとなっているため、電子光学路９の真空
度は、試料室２３内の真空度にほとんど影響されること
なく、高真空状態に維持される。That is, first, the electron gun chamber 3 and the electron optical path 9 are brought into a high vacuum state by the vacuum pumps 7 and 13. A predetermined gas is supplied from the gas supply source 31 to the sample chamber 23.
And at the same time, the valve 25 and the vacuum pump 27
Thereby, the inside of the sample chamber 23 is maintained at a predetermined degree of vacuum. At this time, since the detection section 39 of the secondary electron detector 37 is a pressure limiting orifice 39b, the degree of vacuum in the electron optical path 9 is high without being substantially affected by the degree of vacuum in the sample chamber 23. The vacuum is maintained.
【００１１】さらに、電子銃室３と電子光学路９との間
の圧力制限オリフィス１１により、電子銃室３の真空度
が、試料室２３および電子光学路９の真空度に影響され
ることなく高真空状態に維持される。次に、試料加熱装
置３３に載置された試料２１が、セラミックヒーター３
５により加熱される。Further, the degree of vacuum of the electron gun chamber 3 is not affected by the degree of vacuum of the sample chamber 23 and the electron optical path 9 by the pressure limiting orifice 11 between the electron gun chamber 3 and the electron optical path 9. Maintained in high vacuum. Next, the sample 21 placed on the sample heating device 33 is
5 heated.
【００１２】この際に、試料２１および試料加熱装置３
３から発生する輻射熱は、防熱板４３により、遮られ、
二次電子検出器３７および鏡筒１の対物レンズ下極１ｂ
が、輻射熱により加熱されることが防止される。そし
て、試料２１を所定の温度まで加熱した状態で、電子ビ
ームが電子銃５から試料２１に向けて加速走査され、試
料２１から発生する二次電子がガス増幅され、二次電子
検出器３７の検出部３９により検出されて画像が形成さ
れ、試料２１の観察が行われる。At this time, the sample 21 and the sample heating device 3
3 is blocked by the heat shield 43,
Secondary electron detector 37 and lower pole 1b of objective lens of lens barrel 1
Is prevented from being heated by radiant heat. Then, while the sample 21 is heated to a predetermined temperature, the electron beam is accelerated and scanned from the electron gun 5 toward the sample 21, and secondary electrons generated from the sample 21 are gas-amplified. An image is formed by detection by the detection unit 39, and the sample 21 is observed.
【００１３】[0013]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の走査電子顕微鏡では、例えば、通常と同様
に、防熱板４３を取り外した状態で使用すると、試料２
１および試料加熱装置３３から発生する輻射熱が、二次
電子検出器３７の検出部３９を加熱し、検出部３９の材
料であるりん青銅のりんが析出してしまうという問題が
あった。However, in such a conventional scanning electron microscope, for example, if the sample is used with the heat insulating plate 43 removed as in the usual case, the sample
1 and the radiant heat generated from the sample heating device 33 heats the detection unit 39 of the secondary electron detector 37, and there is a problem that phosphor bronze, which is a material of the detection unit 39, precipitates.
【００１４】りんが析出した場合には、二次電子検出器
３７の検出精度が低下する原因になる。また、りんの析
出により、試料室２３内および電子光学路９内が汚染さ
れるおそれがあった。When phosphorus is deposited, the accuracy of detection by the secondary electron detector 37 is reduced. Further, the inside of the sample chamber 23 and the inside of the electron optical path 9 may be contaminated by the deposition of phosphorus.
【００１５】さらに、試料２１を１０００℃程度まで加
熱した場合には、検出部３９の温度が２００℃近くまで
上昇してしまい、検出部３９を鏡筒１に固定している樹
脂製の絶縁座４１が変形してしまうという問題があっ
た。また、二次電子検出器３７と試料加熱装置３３との
間に、輻射熱を防ぐように防熱板４３を配置すると、検
出部３９にりんが析出することは低減できるが、対物レ
ンズ下極１ｂと試料２１との距離であるワーキングディ
スタンスＷＤを長くしなくてはならず、最良のワーキン
グディスタンスＷＤを設定することが困難になり、対物
レンズ下極１ｂと試料２１との位置関係で決まる分解能
を最良にすることができなくなり、画像の画質が劣化す
るという問題があった。Further, when the sample 21 is heated to about 1000 ° C., the temperature of the detecting section 39 rises to about 200 ° C., and a resin insulating seat for fixing the detecting section 39 to the lens barrel 1 is used. There was a problem that 41 was deformed. If a heat shield 43 is arranged between the secondary electron detector 37 and the sample heating device 33 so as to prevent radiant heat, the deposition of phosphorus on the detector 39 can be reduced. It is necessary to lengthen the working distance WD, which is the distance from the sample 21, and it is difficult to set the best working distance WD, and the resolution determined by the positional relationship between the lower pole 1b of the objective lens and the sample 21 is best. And the image quality is degraded.
【００１６】本発明は、かかる従来の問題点を解決する
ためになされたもので、二次電子検出器の変質・変形を
防止するとともに、検出精度を劣化させることなく、常
に、一定の検出精度で試料を観察することができる走査
電子顕微鏡を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a conventional problem, and it is intended to prevent the secondary electron detector from being altered or deformed, and to always maintain a constant detection accuracy without deteriorating the detection accuracy. An object of the present invention is to provide a scanning electron microscope capable of observing a sample by using the method.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】請求項１の走査電子顕微
鏡は、電子ビームを試料面上に走査させ、前記試料から
発生する二次電子を検出する二次電子検出器を有する走
査電子顕微鏡において、前記二次電子検出器の検出部の
表面が、貴金属で形成されていることを特徴とする。According to a first aspect of the present invention, there is provided a scanning electron microscope having a secondary electron detector for scanning an electron beam on a sample surface and detecting secondary electrons generated from the sample. The surface of the detection section of the secondary electron detector is formed of a noble metal.
【００１８】請求項２の走査電子顕微鏡は、請求項１記
載の走査電子顕微鏡において、前記検出部を固定する固
定部を備え、前記二次電子検出器は、耐熱性の絶縁部材
により形成されるとともに、前記固定部に対し絶縁的に
固定され、前記検出部の表面は、貴金属膜で形成されて
いることを特徴とする。請求項３の走査電子顕微鏡は、
請求項２記載の走査電子顕微鏡において、前記絶縁部材
はセラミックであることを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided the scanning electron microscope according to the first aspect of the present invention, further comprising a fixing portion for fixing the detecting portion, and the secondary electron detector is formed of a heat-resistant insulating member. In addition, the detection unit is insulated and fixed to the fixing unit, and a surface of the detection unit is formed of a noble metal film. The scanning electron microscope of claim 3 is
3. The scanning electron microscope according to claim 2, wherein the insulating member is made of ceramic.
【００１９】請求項４の走査電子顕微鏡は、請求項１記
載の走査電子顕微鏡において、前記検出部を固定する固
定部を備え、前記二次電子検出器は、貴金属で構成され
ており、前記固定部に対し絶縁部材を介して固定されて
いることを特徴とする。請求項５の走査電子顕微鏡は、
請求項１記載の走査電子顕微鏡において、前記検出部を
固定する固定部を備え、前記二次電子検出器は、導電性
セラミックで構成されており、前記固定部に対し絶縁部
材を介して固定されていることを特徴とする。A scanning electron microscope according to a fourth aspect of the present invention is the scanning electron microscope according to the first aspect, further comprising a fixing portion for fixing the detection portion, wherein the secondary electron detector is made of a noble metal, and It is characterized by being fixed to the portion via an insulating member. The scanning electron microscope of claim 5 is
The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising: a fixing unit that fixes the detection unit, wherein the secondary electron detector is made of conductive ceramic, and is fixed to the fixing unit via an insulating member. It is characterized by having.
【００２０】請求項６の走査電子顕微鏡は、請求項１な
いし請求項５のいずれか１項記載の走査電子顕微鏡にお
いて、さらに、前記試料が配置される試料室を備え、前
記二次電子検出器は、前記試料室の真空度を所定の圧力
に制限する圧力制限開口の機能を兼ね備えたことを特徴
とする。A scanning electron microscope according to a sixth aspect of the present invention is the scanning electron microscope according to any one of the first to fifth aspects, further comprising a sample chamber in which the sample is placed, wherein the secondary electron detector is provided. Has a function of a pressure limiting opening for limiting the degree of vacuum of the sample chamber to a predetermined pressure.
【００２１】（作用）請求項１の走査電子顕微鏡では、
二次電子検出器の検出部の表面に、化学的変化を受けに
くい貴金属が形成されるため、検出部の化学的変化によ
る変質等が防止され、二次電子検出器の検出精度を劣化
させることなく、常に一定の検出精度で試料が観察され
る。(Operation) In the scanning electron microscope of the first aspect,
A noble metal, which is not easily affected by chemical change, is formed on the surface of the detection unit of the secondary electron detector, preventing deterioration due to chemical change of the detection unit and deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector. And the sample is always observed with a constant detection accuracy.
【００２２】請求項２の走査電子顕微鏡では、耐熱性の
絶縁部材により形成される二次電子検出器の表面に貴金
属膜が形成され、この二次電子検出器の検出部が鏡筒等
に設けられる固定部に絶縁的に直接固定されるため、特
に、試料を高温で観察する際に、検出部の固定部分が、
熱により変形等を起こすことが防止され、二次電子検出
器の検出精度を劣化させることなく、常に一定の検出精
度で試料が観察される。In the scanning electron microscope of the present invention, a noble metal film is formed on a surface of a secondary electron detector formed by a heat-resistant insulating member, and a detection section of the secondary electron detector is provided on a lens barrel or the like. In particular, when the sample is observed at high temperature, the fixed part of the detector is
Deformation or the like due to heat is prevented, and the sample is always observed with constant detection accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector.
【００２３】請求項３の走査電子顕微鏡では、二次電子
検出器がセラミックにより形成されるため、容易かつ耐
久性に優れた検出部が形成可能にされる。請求項４の走
査電子顕微鏡では、二次電子検出器が化学的変化を受け
にくい貴金属で構成され、この二次電子検出器の検出部
が絶縁部材を介して鏡筒等の固定部に固定されるため、
熱により変形等を起こすことが防止され、二次電子検出
器の検出精度を劣化させることなく、常に一定の検出精
度で試料が観察される。In the scanning electron microscope according to the third aspect, since the secondary electron detector is formed of ceramic, it is possible to form a detection section which is easy and has excellent durability. In the scanning electron microscope according to the fourth aspect, the secondary electron detector is made of a noble metal that is hardly subjected to a chemical change, and a detection unit of the secondary electron detector is fixed to a fixing unit such as a lens barrel via an insulating member. Because
Deformation or the like due to heat is prevented, and the sample is always observed with constant detection accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector.
【００２４】請求項５の走査電子顕微鏡では、二次電子
検出器が化学的変化を受けにくい導電性セラミックで構
成され、この二次電子検出器の検出部が絶縁部材を介し
て鏡筒等の固定部に固定されるため、熱により変形等を
起こすことが防止され、二次電子検出器の検出精度を劣
化させることなく、常に一定の検出精度で試料が観察さ
れる。In the scanning electron microscope according to the present invention, the secondary electron detector is made of a conductive ceramic which is hardly subjected to a chemical change, and the detection portion of the secondary electron detector is provided with a lens barrel or the like via an insulating member. Since the sample is fixed to the fixing portion, deformation or the like due to heat is prevented, and the sample is always observed with constant detection accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector.
【００２５】請求項６の走査電子顕微鏡では、二次電子
検出器が、試料室の真空度を所定の圧力に制限する圧力
制限開口の機能を兼ね備えるため、環境制御型走査電子
顕微鏡において、変質、変形等が起こらない検出部を容
易に設けることができる。In the scanning electron microscope of the present invention, the secondary electron detector also has a function of a pressure limiting opening for limiting the degree of vacuum in the sample chamber to a predetermined pressure. It is possible to easily provide a detection unit that does not cause deformation or the like.
【００２６】[0026]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面を
用いて詳細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００２７】図１および図２は、本発明の走査電子顕微
鏡の第１の実施形態（請求項１ないし請求項３、請求項
６に対応する）を示しており、図１は図２の要部の詳細
を示している。本実施形態は、水分を含有する無機物あ
るいは有機物等を観察するための環境制御型走査電子顕
微鏡に適用した例を示している。FIGS. 1 and 2 show a first embodiment (corresponding to claims 1 to 3 and claim 6) of a scanning electron microscope according to the present invention, and FIG. The details of the section are shown. This embodiment shows an example in which the present invention is applied to an environment-controlled scanning electron microscope for observing an inorganic or organic substance containing water.
【００２８】図２において、鏡筒５１内の上部５１ａに
は、電子銃室５３が形成されている。電子銃室５３に
は、電子銃５５が配置されており、この電子銃室５３内
は、電子銃室５３に接続される真空ポンプ５７により、
高真空状態に維持されている。鏡筒５１内には、電子銃
室５３から鏡筒５１の対物レンズ下極５１ｂまで、電子
光学路５９が形成されている。In FIG. 2, an electron gun chamber 53 is formed in an upper part 51a in the lens barrel 51. An electron gun 55 is disposed in the electron gun chamber 53, and the inside of the electron gun chamber 53 is controlled by a vacuum pump 57 connected to the electron gun chamber 53.
High vacuum is maintained. An electron optical path 59 is formed in the lens barrel 51 from the electron gun chamber 53 to the lower pole 51 b of the objective lens of the lens barrel 51.
【００２９】電子光学路５９内は、この電子光学路５９
に接続される真空ポンプ６３により、高真空状態に維持
されている。電子銃室５３と電子光学路５９との間に
は、圧力制限オリフィス６１が形成されている。また、
鏡筒５１内には、電子光学路５９に沿って、コンデンサ
レンズ６５，走査コイル６７，対物レンズ６９が配置さ
れている。The inside of the electron optical path 59 is
Is maintained in a high vacuum state by a vacuum pump 63 connected to. A pressure limiting orifice 61 is formed between the electron gun chamber 53 and the electron optical path 59. Also,
In the lens barrel 51, a condenser lens 65, a scanning coil 67, and an objective lens 69 are arranged along the electron optical path 59.
【００３０】鏡筒５１の対物レンズ下極５１ｂには、観
察する試料７１を配置する試料室７３が形成されてい
る。試料室７３には、バルブ７５を介して真空ポンプ７
７が接続され、バルブ７５および真空ポンプ７７によ
り、試料室７３の真空度の制御が行われている。また、
試料室７３には、圧力制御バルブ７９を介して、気体供
給源８１が接続されている。In the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51, a sample chamber 73 in which a sample 71 to be observed is arranged is formed. The sample chamber 73 is provided with a vacuum pump 7 through a valve 75.
7 is connected, and the degree of vacuum in the sample chamber 73 is controlled by a valve 75 and a vacuum pump 77. Also,
A gas supply source 81 is connected to the sample chamber 73 via a pressure control valve 79.
【００３１】圧力制御バルブ７９および気体供給源８１
により、試料室７３には、所定量の気体が供給可能にさ
れている。また、試料室７３内には、電子光学路５９の
延長上に、試料７１を載置する試料加熱装置８３が配置
されている。試料加熱装置８３の試料載置部８３ａの下
部には、図１に示すように、試料７１を所定の温度に加
熱するセラミックヒーター８５が内蔵されている。Pressure control valve 79 and gas supply source 81
Thus, a predetermined amount of gas can be supplied to the sample chamber 73. In the sample chamber 73, a sample heating device 83 on which the sample 71 is placed is disposed on the extension of the electron optical path 59. As shown in FIG. 1, a ceramic heater 85 for heating the sample 71 to a predetermined temperature is provided below the sample mounting portion 83a of the sample heating device 83.
【００３２】また、試料室７３内には、鏡筒５１の対物
レンズ下極５１ｂに、試料７１から発生する二次電子を
検出する二次電子検出器８７が配置されている。二次電
子検出器８７は、円筒形状の検出部８９を有しており、
この検出部８９は、例えば、アルミナ等の耐熱性のセラ
ミック絶縁部材により形成されている。ここで、対物レ
ンズ下極５１ｂと、試料７１との距離は、ワーキングデ
ィスタンスＷＤと称されており、環境制御型走査電子顕
微鏡では、ワーキングディスタンスＷＤを適度に選択す
る事により、良好な画像が得られる。In the sample chamber 73, a secondary electron detector 87 for detecting secondary electrons generated from the sample 71 is arranged at the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51. The secondary electron detector 87 has a cylindrical detection unit 89,
The detection unit 89 is formed of, for example, a heat-resistant ceramic insulating member such as alumina. Here, the distance between the lower pole 51b of the objective lens and the sample 71 is called a working distance WD. In an environment-controlled scanning electron microscope, a good image can be obtained by appropriately selecting the working distance WD. Can be
【００３３】検出部８９の中央には、電子光学路５９の
延長上に、例えば、直径０．５ｍｍの貫通穴８９ａが形
成されており、この貫通穴８９ａにより、電子光学路５
９と試料室７３との間に圧力制限オリフィス８９ｂが形
成されている。検出部８９の上部には、鏡筒５１の対物
レンズ下極５１ｂの固定部５１ｃに固定可能な形状の絶
縁部８９ｃが一体形成されており、この絶縁部８９ｃを
介して、検出部８９が、直接鏡筒５１の対物レンズ下極
５１ｂに固定されている。At the center of the detecting section 89, a through hole 89a having a diameter of, for example, 0.5 mm is formed on the extension of the electron optical path 59. The through hole 89a allows the electron optical path 5 to be formed.
A pressure limiting orifice 89b is formed between the sample chamber 9 and the sample chamber 73. An insulating portion 89c having a shape that can be fixed to the fixing portion 51c of the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51 is integrally formed on the upper portion of the detecting portion 89. Through the insulating portion 89c, the detecting portion 89 is provided. The lens barrel 51 is directly fixed to the lower pole 51b of the objective lens.
【００３４】また、検出部８９の絶縁部８９ｃを除く表
面８９ｄには、例えば、金等からなる貴金属膜９１が無
電解めっき処理等を施すことにより形成されている。ま
た、二次電子検出器８７には、図示しない外部の制御装
置に接続されるリード線８７ａが取り付けられている。
上述した走査電子顕微鏡では、以下示すように、試料７
１の観察が行われる。A noble metal film 91 made of, for example, gold is formed on the surface 89d of the detection unit 89 except for the insulating portion 89c by performing an electroless plating process or the like. Further, a lead wire 87a connected to an external control device (not shown) is attached to the secondary electron detector 87.
In the scanning electron microscope described above, as shown below, the sample 7
One observation is made.
【００３５】すなわち、先ず、真空ポンプ５７，６３に
より電子銃室５３および電子光学路５９が高真空状態に
される。また、気体供給源８１から所定の気体が試料室
７３に供給され、同時に、バルブ７５および真空ポンプ
７７により、試料室２３内が所定の真空度に保持され
る。この際に、二次電子検出器８７の検出部８９が圧力
制限オリフィス８９ｂとなっているため、電子光学路５
９の真空度は、試料室７３内の真空度にほとんど影響さ
れることなく、高真空状態に維持される。That is, first, the electron gun chamber 53 and the electron optical path 59 are brought into a high vacuum state by the vacuum pumps 57 and 63. Further, a predetermined gas is supplied from the gas supply source 81 to the sample chamber 73, and at the same time, the inside of the sample chamber 23 is maintained at a predetermined degree of vacuum by the valve 75 and the vacuum pump 77. At this time, since the detection portion 89 of the secondary electron detector 87 is a pressure limiting orifice 89b, the electron optical path 5
The degree of vacuum of 9 is maintained in a high vacuum state without being affected by the degree of vacuum in the sample chamber 73.
【００３６】さらに、電子銃室８３と電子光学路５９と
の間の圧力制限オリフィス６１により、電子銃室５３の
真空度が、試料室７３および電子光学路５９の真空度に
影響されることなく高真空状態に維持される。次に、試
料加熱装置８３の試料載置部８３ａ上に載置された試料
７１が、セラミックヒーター８５により加熱される。Further, the pressure limiting orifice 61 between the electron gun chamber 83 and the electron optical path 59 allows the degree of vacuum in the electron gun chamber 53 to be unaffected by the degree of vacuum in the sample chamber 73 and the electron optical path 59. Maintained in high vacuum. Next, the sample 71 mounted on the sample mounting portion 83a of the sample heating device 83 is heated by the ceramic heater 85.
【００３７】試料７１および試料加熱装置８３から発生
する輻射熱は、直接、二次電子検出器８７の検出部８９
に輻射されるため、この輻射熱により検出部８９の温度
が上昇する。この際に、検出部８９の表面８９ｄには、
化学的変化を受けにくい貴金属膜９１が形成されている
ため、温度上昇により、検出部８９が変質することが防
止される。The radiant heat generated from the sample 71 and the sample heating device 83 is directly transmitted to the detector 89 of the secondary electron detector 87.
, The temperature of the detection unit 89 increases due to the radiant heat. At this time, on the surface 89d of the detection unit 89,
Since the noble metal film 91 that is not easily affected by a chemical change is formed, the detection section 89 is prevented from being deteriorated due to a temperature rise.
【００３８】また、検出部８９の絶縁部８９ｃは、耐熱
性のセラミックで一体形成されているため、絶縁部８９
ｃが熱により変形することが防止され、検出部８９と鏡
筒５１の対物レンズ下極５１ｂの固定部５１ｃとの固定
状態が、確実に維持される。ここで、検出部８９の表面
温度は、試料７１を１０００℃程度に加熱した際に、２
００℃程度まで上昇する。Further, since the insulating portion 89c of the detecting portion 89 is formed integrally with heat-resistant ceramic, the insulating portion 89c is formed.
c is prevented from being deformed by heat, and the fixed state between the detection unit 89 and the fixed unit 51c of the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51 is reliably maintained. Here, the surface temperature of the detection unit 89 becomes 2 when the sample 71 is heated to about 1000 ° C.
It rises to about 00 ° C.
【００３９】そして、試料７１を所定の温度まで加熱し
た状態で、電子ビームが電子銃５５から試料７１に向け
て加速走査され、試料７１から発生する二次電子がガス
増幅され、二次電子検出器８７の検出部８９により検出
されて画像が形成され、試料７１の観察が行われる。以
上のように構成された走査電子顕微鏡では、二次電子検
出器８７の検出部８９の表面８９ｄに、化学的変化を受
けにくい貴金属膜９１を形成したので、検出部８９の化
学的変化による変質等を、確実に防止することができ、
二次電子検出器８７の検出精度を劣化させることなく、
常に一定の検出精度で試料７１を観察することができ
る。Then, while the sample 71 is heated to a predetermined temperature, the electron beam is accelerated and scanned from the electron gun 55 toward the sample 71, and the secondary electrons generated from the sample 71 are gas-amplified, and the secondary electrons are detected. The image is formed by detection by the detection unit 89 of the vessel 87, and the sample 71 is observed. In the scanning electron microscope configured as described above, since the noble metal film 91 that is hardly subjected to a chemical change is formed on the surface 89d of the detection unit 89 of the secondary electron detector 87, the detection unit 89 is deteriorated due to the chemical change. Etc. can be reliably prevented,
Without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector 87,
The sample 71 can always be observed with a fixed detection accuracy.
【００４０】また、二次電子検出器８７の検出部８９を
耐熱性の絶縁部材により形成し、この検出部８９を、直
接鏡筒５１の対物レンズ下極５１ｂの固定部５１ｃに固
定し、鏡筒５１への固定部分である絶縁部８９ｃを除く
検出部８９の表面８９ｄに、貴金属膜９１を形成したの
で、特に、試料７１を高温で観察する際に、検出部８９
が熱による変形等を起こすことを防止することができ、
二次電子検出器８７の検出精度を劣化させることなく、
常に一定の検出精度で試料７１を観察することができ
る。The detecting portion 89 of the secondary electron detector 87 is formed of a heat-resistant insulating member. The detecting portion 89 is directly fixed to the fixing portion 51c of the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51, Since the noble metal film 91 is formed on the surface 89d of the detecting section 89 except for the insulating section 89c, which is a part fixed to the cylinder 51, the detecting section 89 is particularly useful when observing the sample 71 at a high temperature.
Can be prevented from being deformed by heat,
Without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector 87,
The sample 71 can always be observed with a fixed detection accuracy.
【００４１】そして、二次電子検出器８７の検出部８９
をセラミック絶縁部材により形成したので、容易かつ耐
久性に優れた検出部８９を形成することができる。ま
た、検出部８９を耐熱性の絶縁部材により形成したの
で、検出部８９と試料７１との間に、防熱板等を配置す
る必要がなくなり、ワーキングディスタンスＷＤを短く
することができ、観察する試料７１の画像の画質を向上
することができる。The detector 89 of the secondary electron detector 87
Is formed of a ceramic insulating member, it is possible to form the detection unit 89 easily and with excellent durability. Further, since the detection unit 89 is formed of a heat-resistant insulating member, there is no need to dispose a heat insulating plate or the like between the detection unit 89 and the sample 71, so that the working distance WD can be shortened and the sample to be observed can be reduced. The image quality of the 71 image can be improved.
【００４２】図３は、本発明の走査電子顕微鏡の第２の
実施形態（請求項１ないし請求項３、請求項６に対応す
る）を示している。この実施形態では、二次電子検出器
８７の検出部８９が、軸長方向に長い円筒形状に形成さ
れている。この実施形態の走査電子顕微鏡においても、
上述した第１の実施形態と同様の効果を得ることができ
るが、この実施形態では、二次電子検出器８７の検出部
８９を、軸長方向に長い円筒形状に形成したので、ワー
キングディスタンスＷＤを長くした状態で、鏡筒５１の
対物レンズ下極５１ｂと試料加熱装置８３との距離を短
くすることができ、試料加熱装置８３のセラミックヒー
ター８５により試料７１を加熱する際に、鏡筒５１に与
える熱の影響を最小限にすることができる。FIG. 3 shows a second embodiment (corresponding to claims 1 to 3 and claim 6) of the scanning electron microscope of the present invention. In this embodiment, the detection unit 89 of the secondary electron detector 87 is formed in a cylindrical shape that is long in the axial direction. Also in the scanning electron microscope of this embodiment,
The same effect as that of the first embodiment described above can be obtained. However, in this embodiment, since the detection unit 89 of the secondary electron detector 87 is formed in a cylindrical shape that is long in the axial direction, the working distance WD When the sample 71 is heated by the ceramic heater 85 of the sample heating device 83, the distance between the lower pole 51b of the objective lens of the lens barrel 51 and the sample heating device 83 can be shortened. Can minimize the effect of heat on the surface.
【００４３】図４は、本発明の走査電子顕微鏡の第３の
実施形態（請求項１ないし請求項３、請求項６に対応す
る）を示している。この実施形態では、二次電子検出器
８７の検出部８９が、軸長方向に短い円筒形状に形成さ
れている。この実施形態の走査電子顕微鏡においても、
上述した第１の実施形態と同様の効果を得ることができ
るが、この実施形態では、二次電子検出器８７の検出部
８９を、軸長方向に短い円筒形状に形成したので、例え
ば、大型の試料加熱装置８３を試料室７３内に配置する
場合にも、ワーキングディスタンスＷＤを最適にして、
試料７１の観察を行うことができる。FIG. 4 shows a scanning electron microscope according to a third embodiment of the present invention (corresponding to claims 1 to 3 and claim 6). In this embodiment, the detection unit 89 of the secondary electron detector 87 is formed in a cylindrical shape that is short in the axial direction. Also in the scanning electron microscope of this embodiment,
Although the same effects as in the first embodiment described above can be obtained, in this embodiment, since the detection section 89 of the secondary electron detector 87 is formed in a cylindrical shape that is short in the axial direction, for example, When the sample heating device 83 is arranged in the sample chamber 73, the working distance WD is optimized,
The observation of the sample 71 can be performed.
【００４４】図５は、本発明の走査電子顕微鏡の第４の
実施形態（請求項１ないし請求項３に対応する）を示し
ている。鏡筒９１内の上部９１ａには、電子銃９３が配
置されている。鏡筒９１内には、コンデンサレンズ９
５，走査コイル９７，対物レンズ９９が配置されてい
る。FIG. 5 shows a fourth embodiment (corresponding to claims 1 to 3) of a scanning electron microscope of the present invention. An electron gun 93 is arranged in an upper portion 91 a in the lens barrel 91. A condenser lens 9 is provided in the lens barrel 91.
5, a scanning coil 97 and an objective lens 99 are arranged.
【００４５】鏡筒９１の対物レンズ下極９１ｂには、観
察する試料１０１を配置する試料室１０３が形成されて
いる。鏡筒９１内および試料室１０３内は、真空ポンプ
１０５により、高真空状態に維持されている。また、試
料室１０３内には、試料１０１を載置する試料加熱装置
１０７が配置されている。In the lower pole 91b of the objective lens of the lens barrel 91, a sample chamber 103 in which a sample 101 to be observed is arranged is formed. The inside of the lens barrel 91 and the inside of the sample chamber 103 are maintained in a high vacuum state by the vacuum pump 105. In the sample chamber 103, a sample heating device 107 on which the sample 101 is placed is arranged.
【００４６】試料加熱装置１０７には、図６に示すよう
に、セラミックヒーター１０９が内蔵されており、試料
１０１が所定の温度に加熱可能にされている。また、試
料室１０３内には、鏡筒９１の対物レンズ下極９１ｂの
固定部９１ｃに、試料１０１から発生する二次電子を検
出する二次電子検出器１１１が配置されている。As shown in FIG. 6, the sample heating device 107 has a built-in ceramic heater 109 so that the sample 101 can be heated to a predetermined temperature. In the sample chamber 103, a secondary electron detector 111 for detecting secondary electrons generated from the sample 101 is disposed at a fixed portion 91c of the lower pole 91b of the objective lens of the lens barrel 91.
【００４７】二次電子検出器１１１は、円筒形状の検出
部１１３を有しており、この検出部１１３は、例えば、
アルミナ等の耐熱性のセラミック絶縁部材により形成さ
れている。検出部１１３の上部には、鏡筒９１の対物レ
ンズ下極９１ｂの固定部９１ｃに固定可能な形状の絶縁
部１１３ａが一体形成されており、この絶縁部１１３ａ
を介して、検出部１１３が、直接鏡筒９１の対物レンズ
下極９１ｂの固定部９１ｃに固定されている。The secondary electron detector 111 has a cylindrical detection unit 113. The detection unit 113 is, for example,
It is formed of a heat-resistant ceramic insulating member such as alumina. An insulating portion 113a having a shape that can be fixed to the fixing portion 91c of the lower pole 91b of the objective lens of the lens barrel 91 is integrally formed on the upper portion of the detecting portion 113.
, The detection unit 113 is directly fixed to the fixed part 91c of the lower pole 91b of the objective lens of the lens barrel 91.
【００４８】また、検出部１１３の絶縁部１１３ａを除
く表面１１３ｂには、例えば、金等からなる貴金属膜１
１５が無電解めっき処理等を施すことにより形成されて
いる。この実施形態の走査電子顕微鏡においても、上述
した走査電子顕微鏡の第１の実施形態と同様の効果を得
ることができる。On the surface 113b of the detection unit 113 excluding the insulating unit 113a, a noble metal film 1 made of, for example, gold is used.
15 is formed by performing an electroless plating process or the like. In the scanning electron microscope of this embodiment, the same effects as those of the above-described first embodiment of the scanning electron microscope can be obtained.
【００４９】なお、上述した実施形態では、二次電子検
出器８７の検出部８９をアルミナにより形成した例につ
いて述べたが、本発明はかかる実施形態に限定されるも
のではなく、例えば、窒化硼素（BN）またはジルコニア
（ZrO２）等により形成しても良い。また、二次電子検
出器８７の検出部８９の表面８９ｄに、金からなる貴金
属膜９１を形成した例について述べたが、本発明はかか
る実施形態に限定されるものではなく、例えば、プラチ
ナあるいはパラジウム，ロジウム等の貴金属膜を形成し
ても良い。In the above-described embodiment, the example in which the detection portion 89 of the secondary electron detector 87 is formed of alumina has been described. However, the present invention is not limited to this embodiment. (BN) or zirconia (ZrO2). In addition, although the example in which the noble metal film 91 made of gold is formed on the surface 89d of the detection unit 89 of the secondary electron detector 87 has been described, the present invention is not limited to such an embodiment. A noble metal film such as palladium or rhodium may be formed.
【００５０】そして、上述した実施形態では、二次電子
検出器８７の検出部８９の表面８９ｄに、無電解めっき
処理により貴金属膜９１を形成した例について述べた
が、本発明はかかる実施形態に限定されるものではな
く、例えば、スパッタリング等により貴金属膜を形成し
ても良く、あるいは、プラチナ等のペーストを焼き付け
塗装することにより、貴金属膜を形成しても良い。In the embodiment described above, an example is described in which the noble metal film 91 is formed on the surface 89d of the detection section 89 of the secondary electron detector 87 by electroless plating. However, the present invention is not limited to such an embodiment. The present invention is not limited thereto. For example, a noble metal film may be formed by sputtering or the like, or a noble metal film may be formed by baking and coating a paste such as platinum.
【００５１】さらに、上述した実施形態では、二次電子
検出器８７の検出部８９と試料７１との間に、防熱する
ための部材を配置していない例について述べたが、本発
明はかかる実施形態に限定されるものではなく、例え
ば、鏡筒を熱から保護するために、防熱板を配置しても
良い。そして、前に述べた実施形態では、二次電子検出
器８７をセラミック絶縁部材で形成し、検出部８９の表
面８９ｄを貴金属膜で表面加工したものを示したが、図
７に示すように二次電子検出器１１７の検出部１１９を
貴金属で構成し、二次電子検出器１１７と鏡筒５１の取
り付ける部分との間に絶縁座１２１として絶縁断熱材で
あるセラミックを挿入して二次電子検出器１１７を鏡筒
５１に取り付けることによっても、検出部１１９が熱変
化することなく検出性能に優れたものとなる。したがっ
て先に述べた実施の形態と同様の効果が得られるという
ことは言うまでもない。（請求項４に対応する） また、図７で二次電子検出器１１７を導電性のセラミッ
クで構成し、二次電子検出器１１７を鏡筒５１に取り付
ける位置に絶縁座１２１として絶縁断熱材であるセラミ
ックを挿入して二次電子検出器１１７を鏡筒５１に取り
付けることによっても、同様の効果が得られることは言
うまでもない。（請求項５に対応する）このように、検
出部１１９を貴金属または導電性セラミックで構成し、
検出部１１９を鏡筒５１に取り付けるのに絶縁素材（絶
縁座１２１）を介して絶縁して固定することにより、耐
熱性に優れた二次電子検出器を提供することができる。Further, in the above-described embodiment, an example in which a member for preventing heat is not arranged between the detection unit 89 of the secondary electron detector 87 and the sample 71 has been described. The present invention is not limited to the embodiment. For example, a heat insulating plate may be provided to protect the lens barrel from heat. In the above-described embodiment, the secondary electron detector 87 is formed of a ceramic insulating member, and the surface 89d of the detection unit 89 is processed with a noble metal film. However, as shown in FIG. The detection section 119 of the secondary electron detector 117 is made of a noble metal, and a ceramic, which is an insulating material, is inserted as an insulating seat 121 between the secondary electron detector 117 and a portion to which the lens barrel 51 is attached. Even if the detector 117 is attached to the lens barrel 51, the detection unit 119 can be excellent in detection performance without thermal change. Therefore, it goes without saying that the same effects as those of the above-described embodiment can be obtained. In addition, in FIG. 7, the secondary electron detector 117 is made of conductive ceramic, and an insulating seat 121 is provided at a position where the secondary electron detector 117 is attached to the lens barrel 51 with an insulating heat insulating material. It goes without saying that the same effect can be obtained by inserting a certain ceramic and attaching the secondary electron detector 117 to the lens barrel 51. As described above, the detection unit 119 is made of a noble metal or a conductive ceramic,
The secondary electron detector excellent in heat resistance can be provided by attaching and fixing the detection unit 119 to the lens barrel 51 via an insulating material (insulating seat 121).
【００５２】[0052]
【発明の効果】請求項１の走査電子顕微鏡では、二次電
子検出器の検出部の表面に、化学的変化を受けにくい貴
金属を形成したので、検出部の化学的変化による変質等
を、確実に防止することができ、二次電子検出器の検出
精度を劣化させることなく、常に一定の精度で試料を観
察することができる。According to the scanning electron microscope of the first aspect, since the noble metal which is hardly subjected to a chemical change is formed on the surface of the detecting portion of the secondary electron detector, the deterioration due to the chemical change of the detecting portion can be surely prevented. The sample can always be observed with constant accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector.
【００５３】請求項２の走査電子顕微鏡では、耐熱性の
絶縁部材により形成される二次電子検出器の表面に貴金
属膜を形成し、この二次電子検出器の検出部を鏡筒等に
設けられる固定部に絶縁的に直接固定したので、特に、
試料を高温で観察する際に、検出部が熱による変形等を
起こすことを防止することができ、二次電子検出器の検
出精度を劣化させることなく、常に一定の精度で試料を
観察することができる。In the scanning electron microscope of the present invention, a noble metal film is formed on the surface of a secondary electron detector formed of a heat-resistant insulating member, and a detection section of the secondary electron detector is provided on a lens barrel or the like. In particular, since it was fixed directly to the fixed part insulated,
When observing a sample at high temperature, it can prevent the detector from deforming due to heat, etc., and always observe the sample with constant accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector Can be.
【００５４】請求項３の走査電子顕微鏡では、二次電子
検出器の検出部をセラミックにより形成したので、容易
かつ耐久性に優れた検出部を形成することができる。請
求項４の走査電子顕微鏡では、二次電子検出器を化学的
変化を受けにくい貴金属で構成し、この二次電子検出器
の検出部を絶縁部材を介して鏡筒等の固定部に固定した
ので、検出部が熱による変形等を起こすことを防止する
ことができ、二次電子検出器の検出精度を劣化させるこ
となく、常に一定の精度で試料を観察することができ
る。In the scanning electron microscope according to the third aspect, since the detection section of the secondary electron detector is formed of ceramic, it is possible to easily form the detection section having excellent durability. In the scanning electron microscope according to the fourth aspect, the secondary electron detector is made of a noble metal that is hardly subjected to a chemical change, and the detection part of the secondary electron detector is fixed to a fixing part such as a lens barrel via an insulating member. Therefore, it is possible to prevent the detection unit from being deformed by heat or the like, and it is possible to always observe the sample with constant accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector.
【００５５】請求項５の走査電子顕微鏡では、二次電子
検出器を化学的変化を受けにくい導電性セラミックで構
成し、この二次電子検出器の検出部を絶縁部材を介して
鏡筒等の固定部に固定したので、検出部が熱による変形
等を起こすことを防止することができ、二次電子検出器
の検出精度を劣化させることなく、常に一定の精度で試
料を観察することができる。請求項６の走査電子顕微鏡
では、二次電子検出器を、試料室の真空度を所定の圧力
に制限する圧力制限開口の機能を兼ね備えたので、環境
制御型走査電子顕微鏡において、変質、変形等が起こら
ない検出部を容易に設けることができる。In the scanning electron microscope according to the present invention, the secondary electron detector is made of a conductive ceramic which is hardly subjected to a chemical change, and the detection part of the secondary electron detector is connected to a lens barrel or the like via an insulating member. Since the detector is fixed to the fixed part, the detector can be prevented from being deformed by heat, etc., and the sample can always be observed with constant accuracy without deteriorating the detection accuracy of the secondary electron detector. . In the scanning electron microscope according to the sixth aspect, the secondary electron detector also has a function of a pressure limiting opening for limiting the degree of vacuum in the sample chamber to a predetermined pressure. It is possible to easily provide a detection unit in which no occurrence occurs.
【図１】本発明の走査電子顕微鏡の第１の実施形態の要
部の詳細を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing details of a main part of a first embodiment of a scanning electron microscope of the present invention.
【図２】本発明の走査電子顕微鏡の第１の実施形態を示
す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a first embodiment of the scanning electron microscope of the present invention.
【図３】本発明の走査電子顕微鏡の第２の実施形態の要
部の詳細を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing details of a main part of a second embodiment of the scanning electron microscope of the present invention.
【図４】本発明の走査電子顕微鏡の第３の実施形態の要
部の詳細を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing details of a main part of a third embodiment of the scanning electron microscope of the present invention.
【図５】本発明の走査電子顕微鏡の第４の実施形態を示
す断面図である。FIG. 5 is a sectional view showing a fourth embodiment of the scanning electron microscope of the present invention.
【図６】本発明の走査電子顕微鏡の第４の実施形態の要
部の詳細を示す断面図である。FIG. 6 is a sectional view showing details of a main part of a fourth embodiment of the scanning electron microscope of the present invention.
【図７】検出部を貴金属または導線性セラミックで形成
した例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view illustrating an example in which a detection unit is formed of a noble metal or a conductive ceramic.
【図８】従来の走査電子顕微鏡を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a conventional scanning electron microscope.
【図９】図８の要部の詳細を示す断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing details of a main part of FIG. 8;
５１，９１ 鏡筒 ５１ｂ，９１ｂ 対物レンズ下極 ５１ｃ，９１ｃ 固定部 ６１，８９ｂ 圧力制限オリフィス ７１，１０１ 試料 ７３，１０３ 試料室 ８７，１１１ 二次電子検出器 ８９，１１３ 検出部 ８９ｄ，１１３ａ 表面 51, 91 Lens barrel 51b, 91b Lower pole of objective lens 51c, 91c Fixed part 61, 89b Pressure limiting orifice 71, 101 Sample 73, 103 Sample chamber 87, 111 Secondary electron detector 89, 113 Detector 89d, 113a Surface
Claims (6)
試料から発生する二次電子を検出する二次電子検出器を
有する走査電子顕微鏡において、 前記二次電子検出器の検出部の表面が、貴金属で形成さ
れていることを特徴とする走査電子顕微鏡。1. A scanning electron microscope having a secondary electron detector for scanning an electron beam on a sample surface and detecting secondary electrons generated from the sample, wherein a surface of a detection unit of the secondary electron detector is A scanning electron microscope characterized by being formed of a noble metal.
て、 前記検出部を固定する固定部を備え、 前記二次電子検出器は、耐熱性の絶縁部材により形成さ
れるとともに、前記固定部に対し絶縁的に固定され、前
記検出部の表面は、貴金属膜で形成されていることを特
徴とする走査電子顕微鏡。2. The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising: a fixing portion for fixing the detection portion, wherein the secondary electron detector is formed of a heat-resistant insulating member, and is fixed to the fixing portion. A scanning electron microscope fixed in an insulating manner, wherein a surface of the detection unit is formed of a noble metal film.
て、 前記絶縁部材はセラミックであることを特徴とする走査
電子顕微鏡。3. The scanning electron microscope according to claim 2, wherein said insulating member is made of ceramic.
て、 前記検出部を固定する固定部を備え、 前記二次電子検出器は、貴金属で構成されており、前記
固定部に対し絶縁部材を介して固定されていることを特
徴とする走査電子顕微鏡。4. The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising: a fixing section for fixing the detection section, wherein the secondary electron detector is made of a noble metal, and is provided on the fixing section via an insulating member. A scanning electron microscope, wherein the scanning electron microscope is fixed.
て、 前記検出部を固定する固定部を備え、 前記二次電子検出器は、導電性セラミックで構成されて
おり、前記固定部に対し絶縁部材を介して固定されてい
ることを特徴とする走査電子顕微鏡。5. The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising: a fixing part for fixing the detection part, wherein the secondary electron detector is made of conductive ceramic, and is an insulating member with respect to the fixing part. A scanning electron microscope, wherein the scanning electron microscope is fixed via a light source.
記載の走査電子顕微鏡において、 さらに、前記試料が配置される試料室を備え、 前記二次電子検出器は、前記試料室の真空度を所定の圧
力に制限する圧力制限開口の機能を兼ね備えたことを特
徴とする走査電子顕微鏡。6. The scanning electron microscope according to claim 1, further comprising: a sample chamber in which the sample is placed, wherein the secondary electron detector has a vacuum in the sample chamber. A scanning electron microscope having a function of a pressure limiting opening for limiting a degree to a predetermined pressure.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10238342A JP2000067796A (en) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | Scanning electron microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10238342A JP2000067796A (en) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | Scanning electron microscope |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000067796A true JP2000067796A (en) | 2000-03-03 |
Family
ID=17028784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10238342A Pending JP2000067796A (en) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | Scanning electron microscope |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000067796A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007140169A1 (en) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Novelx, Inc. | Apparatus and method of detecting secondary electrons |
| JP2010114081A (en) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Fei Co | Scanning transmission electron microscope using gas amplification |
| CN113707522A (en) * | 2021-08-26 | 2021-11-26 | 北京中科科仪股份有限公司 | Fixing device, scanning electron microscope and electron beam exposure machine |
-
1998
- 1998-08-25 JP JP10238342A patent/JP2000067796A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007140169A1 (en) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Novelx, Inc. | Apparatus and method of detecting secondary electrons |
| JP2010114081A (en) * | 2008-11-04 | 2010-05-20 | Fei Co | Scanning transmission electron microscope using gas amplification |
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