JP2000016836A - Inorganic particle, photosensitive paste and production of plasma display - Google Patents

Inorganic particle, photosensitive paste and production of plasma display

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JP2000016836A
JP2000016836A JP10183833A JP18383398A JP2000016836A JP 2000016836 A JP2000016836 A JP 2000016836A JP 10183833 A JP10183833 A JP 10183833A JP 18383398 A JP18383398 A JP 18383398A JP 2000016836 A JP2000016836 A JP 2000016836A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain inorganic particles used for producing photosensitive pastes useful the production of plasma display panels each having a high aspect ratio and a highly minute bulkhead and enabling excellent contrast display, by specifying a stimulus value Y in a XYZ color system before calcination and a stimulus value Y after the calcination. SOLUTION: The inorganic particles have a stimulus value Y of 20-80 before calcination and a stimulus value Y of 5-30 after the calcination. The inorganic particles consist mainly of glass powder (50-90 wt.%), and preferably has an average refractive index of 1.5-1.7, a glass transition point of 450-550 deg.C and a softening point of 500-600 deg.C. The glass powder comprises 3-15 wt.% of lithium oxide, 10-30 wt.% of silicon oxide, 20-40 wt.% of boron oxide, 2-15 wt.% of barium oxide, and 10-25 wt.% of aluminum oxide. The inorganic particles further contain 3-20 wt.% of a black pigment (a metal such as Ru or its oxide) and 10-50 wt.% of a filler (titanium oxide, alumina, etc.).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイやプラズマアドレス液晶ディスプレイの隔壁の作製
に用いられる無機微粒子、感光性ペーストおよびプラズ
マディスプレイの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inorganic fine particle, a photosensitive paste, and a method for manufacturing a plasma display, which are used for manufacturing a partition of a plasma display or a plasma addressed liquid crystal display.

【０００２】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤ
Ｐとする）は液晶ディスプレイに比べて高速の表示が可
能であり、かつ大型化が容易であることから、ＯＡ機器
および広報表示装置などの分野に浸透している。また、
高品位テレビジョンの分野などの進展が非常に期待され
ている。2. Description of the Related Art Plasma display panels (hereinafter referred to as PDs)
P) can be displayed at a higher speed than a liquid crystal display and can be easily made larger, and thus has permeated OA equipment and public information display devices. Also,
Progress in the field of high-definition television is highly expected.

【０００３】このような用途の拡大に伴って、精細で多
数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設
けられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード
電極間にプラズマ放電を生じさせ、この放電空間内に封
入されているガスから発生する紫外線を放電空間内に設
けた蛍光体にあてることにより表示を行うものである。
この場合、放電の広がりを一定領域におさえ、表示を規
定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電空間を
確保するために隔壁（障壁、リブともいう）が設けられ
ている。With the expansion of such applications, attention has been paid to color PDPs having a large number of fine display cells.
The PDP generates a plasma discharge between an anode and a cathode facing each other in a discharge space provided between a front glass substrate and a rear glass substrate, and emits ultraviolet light generated from a gas sealed in the discharge space. The display is performed by hitting a phosphor provided in the discharge space.
In this case, a partition (also referred to as a barrier or a rib) is provided to keep the spread of the discharge in a certain area and to perform display in a specified cell and to secure a uniform discharge space.

【０００４】ＰＤＰにおける隔壁は、従来から、絶縁ガ
ラスペーストをスクリーン印刷法でパターン状に印刷し
乾燥するという工程を５〜１０数回繰り返すことにより
所定の高さにした後、焼成して形成されていた。しかし
ながら、スクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大
型化した場合に、予め基板上に形成されている放電電極
と絶縁ガラスペーストの印刷場所との位置合わせが難し
く、位置精度が得られ難いという問題がある。しかも、
所定の隔壁高さを得るために多数回の重ね合わせ印刷を
行うことによって隔壁およびその側面エッジ部の波打ち
や裾の乱れが生じ、高さの精度が得られない欠点があ
る。また、隔壁が矩形や台形の断面形状にならない問題
がある。このため、高精細の隔壁形成が難しく、表示品
質が悪くなり、作業性が悪い、歩留まりが低いなどの問
題点もある。Conventionally, the partition walls in PDPs are formed by repeating a process of printing an insulating glass paste in a pattern by a screen printing method and drying it to a predetermined height by repeating it five to ten times, and then firing the same. I was However, in the screen printing method, especially when the panel size is increased, it is difficult to align the discharge electrode formed on the substrate in advance with the printing place of the insulating glass paste, and it is difficult to obtain positional accuracy. is there. Moreover,
By performing superposition printing many times in order to obtain a predetermined partition height, there is a drawback that the partition walls and their side edges are wavy or skirt disturbed, and the height accuracy cannot be obtained. There is also a problem that the partition does not have a rectangular or trapezoidal cross-sectional shape. Therefore, it is difficult to form high-definition partition walls, display quality is deteriorated, workability is poor, and the yield is low.

【０００５】さらにＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴
い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アス
ペクト比、高精細の隔壁の製造が技術的に困難となり、
また、コスト的にも不利になってきている。Further, with the increase in the area and resolution of PDPs, it is technically difficult to manufacture partition walls having a high aspect ratio and a high definition by such a screen printing method.
It is also disadvantageous in terms of cost.

【０００６】この問題を改良する方法として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公
報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９５
６７６号公報では、感光性ペーストを用いてフォトリソ
グラフィ技術により隔壁を形成する方法が提案されてい
る。さらに特開平８−５０８１１号公報では、感光性ガ
ラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する
方法が提案されている。しかしながら、これらの方法で
は、隔壁が白色であるため、ＰＤＰ、プラズマアドレス
液晶ディスプレイに用いる際にコントラストが不足する
という問題があった。As a method for improving this problem, Japanese Patent Laid-Open No.
-296534, JP-A-2-165538, JP-A-5-34292, JP-A-6-295
No. 676 proposes a method of forming a partition by a photolithography technique using a photosensitive paste. Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-50811 proposes a method in which a partition is formed by a single exposure using a photosensitive glass paste method. However, these methods have a problem that the contrast is insufficient when used in PDPs and plasma-addressed liquid crystal displays because the partition walls are white.

【０００７】すなわち、絶縁ガラスペーストや感光性ペ
ーストを用いてパターン加工された後、焼成されてＰＤ
Ｐ用隔壁が形成される。しかしながらこの隔壁が白色の
場合、発光時に隔壁からの光反射があるために輝度向上
に有効であるが、非発光時に隔壁上面からの外光反射の
ためにコントラストが低下するという問題があった。That is, after patterning using an insulating glass paste or a photosensitive paste, it is baked and
A partition wall for P is formed. However, when the partition wall is white, light is reflected from the partition wall during light emission, which is effective for improving luminance. However, there is a problem in that, when light is not emitted, contrast is reduced due to external light reflection from the upper surface of the partition wall.

【０００８】一方、特開平６−１４４８７１号公報、特
開平８−１７３４５号公報には、パターン解像度を向上
させるために、黒色顔料を含んだ感光性ペーストを用い
た隔壁の製造方法が提案されている。しかしながら、黒
色顔料は光を吸収するため１回の露光で得られる硬化深
さが不足し、多数回の露光が必要になる問題があった。
さらに得られた隔壁の黒色度や、黒色によるコントラス
ト向上については何ら考慮されていない。On the other hand, JP-A-6-144871 and JP-A-8-17345 propose a method of manufacturing a partition wall using a photosensitive paste containing a black pigment in order to improve pattern resolution. I have. However, since the black pigment absorbs light, the curing depth obtained by one exposure is insufficient, and there has been a problem that many exposures are required.
Further, no consideration is given to the degree of blackness of the obtained partition walls and the improvement in contrast due to the black color.

【０００９】また、コントラストを向上するために前面
ガラス基板上に黒色隔壁を形成するパネル構造も提案さ
れているが、前面ガラス基板と背面ガラス基板の隔壁の
位置合わせを行う必要があることや前面ガラス基板の黒
隔壁と背面ガラス基板の白隔壁を別々に形成する必要が
あるため、工程が複雑になる欠点があった。さらに、隔
壁の形成方法としてスクリーン印刷法が用いられてお
り、精度良く形成できないなどの問題があった。Further, a panel structure in which black partition walls are formed on the front glass substrate to improve contrast has been proposed. However, it is necessary to align the partition walls of the front glass substrate and the rear glass substrate. Since it is necessary to separately form the black partition of the glass substrate and the white partition of the rear glass substrate, there is a disadvantage that the process becomes complicated. Further, a screen printing method is used as a method for forming the partition walls, and there is a problem that the partition walls cannot be formed with high accuracy.

【００１０】[0010]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、高ア
スペクト比かつ高精細な隔壁を有し、コントラストの優
れた表示が可能なＰＤＰを製造するための無機微粒子、
感光性ペーストおよびＰＤＰの製造方法を提供すること
をその目的とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention is directed to an inorganic fine particle for producing a PDP having a high aspect ratio and a high definition partition wall and capable of displaying an image with excellent contrast.
It is an object of the present invention to provide a method for producing a photosensitive paste and a PDP.

【００１１】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、感光性
ペースト用の無機微粒子であって、焼成前のＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙが２０〜８０であり、かつ、焼成後
の刺激値Ｙが５〜３０であることを特徴とする無機微粒
子によって達成することができる。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an inorganic fine particle for a photosensitive paste, wherein the stimulus value Y in the XYZ color system before firing is 20 to 80, and the stimulus after firing is It can be achieved by inorganic fine particles characterized in that the value Y is from 5 to 30.

【００１２】また、上記無機微粒子を使用した本発明の
感光性ペーストは、無機微粒子と感光性有機成分を含有
する感光性ペーストであって、厚み５０μｍの塗布膜を
形成した場合のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜
６０であり、かつ、該塗布膜を焼成した後の刺激値Ｙが
２〜２０であることを特徴とする感光性ペーストであ
る。The photosensitive paste of the present invention using the above-mentioned inorganic fine particles is a photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, and is an XYZ color system when a coating film having a thickness of 50 μm is formed. The stimulus value Y at 20 is
60, and a stimulus value Y of 2 to 20 after baking the coating film.

【００１３】上記無機微粒子および感光性ペーストを用
いた本発明のＰＤＰの製造方法は、焼成前のＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙが２０〜８０であり、焼成後の刺激
値Ｙが５〜３０である無機微粒子と、感光性有機成分を
含有する感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥すること
により、ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜６０の
塗布膜を形成した後、フォトリソグラフィ法でパターニ
ングし、該パターンを焼成してＸＹＺ表色系における刺
激値Ｙが２〜２０の隔壁を形成することを特徴とするＰ
ＤＰの製造方法である。In the method for producing a PDP of the present invention using the inorganic fine particles and the photosensitive paste, the stimulus value Y in the XYZ color system before firing is 20 to 80, and the stimulus value Y after firing is 5 to 30. A photosensitive paste containing an inorganic fine particle and a photosensitive organic component is applied to a substrate and dried to form a coating film having a stimulus value Y of 20 to 60 in the XYZ color system, and then a photolithography method. And baking the pattern to form a partition having a stimulus value Y of 2 to 20 in the XYZ color system.
This is a method for manufacturing a DP.

【００１４】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に述べ
る。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【００１５】上記したように高アスペクト比かつ高精細
な隔壁を有するＰＤＰを製造するために、隔壁パターン
の形成にはフォトリソグラフィ法を用いるのが好まし
い。すなわち、隔壁パターンを感光性ペースト塗布膜に
紫外線等を照射して形成する方法である。In order to manufacture a PDP having a high aspect ratio and high definition partition as described above, it is preferable to use a photolithography method for forming a partition pattern. That is, this is a method of forming the partition pattern by irradiating the photosensitive paste coating film with ultraviolet rays or the like.

【００１６】従って感光性ペースト塗布膜の段階、さら
に遡って感光性ペーストの主成分である無機微粒子およ
び感光性有機成分は紫外線をよく透過する成分であるこ
とが好ましい。言い換えれば、無機微粒子、感光性ペー
スト塗布膜の段階では、白色または灰色であることが好
ましい。その一方、ＰＤＰのコントラストを向上させる
ためには、隔壁は黒色であることが好ましい。Therefore, it is preferable that the inorganic fine particles and the photosensitive organic component, which are the main components of the photosensitive paste, at the stage of the photosensitive paste coating film, are components that transmit ultraviolet light well. In other words, white or gray is preferable at the stage of coating the inorganic fine particles and the photosensitive paste. On the other hand, in order to improve the contrast of the PDP, the partition walls are preferably black.

【００１７】そこで本発明は、無機微粒子の焼成前後の
ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙを特定の範囲とすること
により、該無機微粒子を含有する感光性ペーストの焼成
前後の刺激値Ｙを、焼成前は光透過性を高く、焼成後
は、光透過性を低く、言い換えれば黒色化することを可
能とするものである。従って該感光性ペーストを基板上
に塗布し、これを露光して隔壁パターンを形成、焼成す
ることにより、たとえ、露光工程が一度であっても、高
アスペクト比かつ高精細で、ＰＤＰのコントラスト向上
に好適な黒色化した隔壁を形成することができる。Accordingly, the present invention provides a stimulus value Y before and after firing of a photosensitive paste containing inorganic fine particles by setting the stimulus value Y in the XYZ color system before and after firing the inorganic fine particles in a specific range. The light transmittance is high before, and after the firing, the light transmittance is low, in other words, blackening is possible. Therefore, by applying the photosensitive paste on a substrate, exposing the same to form a partition pattern, and baking, the PDP has a high aspect ratio and a high definition even when the exposure process is performed once, thereby improving the contrast of the PDP. It is possible to form a blackened partition wall suitable for the above.

【００１８】本発明者らはコントラストの優れたＰＤＰ
について鋭意検討した結果、隔壁のＸＹＺ表色系におけ
る刺激値Ｙを２〜２０とすることが有効であることが判
明した。刺激値Ｙが２未満では黒色度が高すぎて、ほと
んど反射の影響がなくなり、表示特性が低下する。ま
た、刺激値Ｙが２０を越えると灰色を帯びるようにな
り、コントラストや色純度が低下する。さらに、３刺激
値ＸＹＺをもとに、色度座標ｘ、ｙを求めた場合のｘ、
ｙの値はそれぞれ０．３〜０．３６にすることによっ
て、プラズマディスプレイの発光色の色純度を向上する
ことができることが判った。The present inventors have proposed a PDP having excellent contrast.
As a result of intensive studies, it has been found that it is effective to set the stimulus value Y of the partition in the XYZ color system to 2 to 20. When the stimulus value Y is less than 2, the degree of blackness is too high, and there is almost no influence of reflection, and the display characteristics are deteriorated. On the other hand, when the stimulus value Y exceeds 20, the color becomes gray and the contrast and the color purity decrease. Further, x, when chromaticity coordinates x, y are obtained based on the tristimulus values XYZ,
It was found that the color purity of the emission color of the plasma display can be improved by setting the value of y to 0.3 to 0.36, respectively.

【００１９】そこでさらに研究を重ねた結果、ＸＹＺ表
色系における刺激値Ｙが２〜２０であり、色度座標ｘ、
ｙがそれぞれ０．３〜０．３６である隔壁を形成するた
めには、隔壁を構成する無機微粒子の焼成後の刺激値Ｙ
が５〜３０である必要があり、且つ上記刺激値Ｙを有す
ると共に高アスペクト比かつ高精細な隔壁を一度の露光
で形成するために必要な、焼成前のペースト塗布膜の光
透過性を維持するためには、焼成前の無機微粒子、感光
性ペーストの刺激値Ｙが、それぞれ２０〜８０、２０〜
６０である必要があることを見出した。Therefore, as a result of further study, the stimulus value Y in the XYZ color system was 2 to 20, and the chromaticity coordinates x,
In order to form partition walls each having a value of 0.3 to 0.36, the stimulus value Y of the inorganic fine particles constituting the partition walls after firing is determined.
Must be 5 to 30, and maintain the light transmittance of the paste coating film before firing, which is necessary for forming the high aspect ratio and high-definition partition walls by a single exposure while having the above stimulus value Y. To do so, the stimulus values Y of the inorganic fine particles before firing and the photosensitive paste are 20 to 80 and 20 to 80, respectively.
It was found that it had to be 60.

【００２０】無機微粒子、感光性ペーストの刺激値Ｙが
それぞれ８０、６０を越えると焼成後の隔壁の黒色度が
不足し、ＰＤＰのコントラストが低下する。また、無機
微粒子、感光性ペーストの刺激値Ｙが２０未満では、ペ
ースト塗布膜の紫外線透過率が低下し、塗布膜の下部ま
での光反応が十分に進行しないのでパターン形成性が低
下する。特に無機微粒子の刺激値Ｙが３０〜６０である
ことが好ましい。When the stimulus values Y of the inorganic fine particles and the photosensitive paste exceed 80 and 60, respectively, the blackness of the partition walls after baking becomes insufficient, and the contrast of the PDP decreases. If the stimulus value Y of the inorganic fine particles and the photosensitive paste is less than 20, the ultraviolet transmittance of the paste applied film is reduced, and the photoreaction to the lower portion of the applied film does not sufficiently proceed, so that the pattern formability is reduced. In particular, the stimulus value Y of the inorganic fine particles is preferably 30 to 60.

【００２１】また、焼成後の無機微粒子の刺激値Ｙが５
未満であると、黒色度が高すぎてＰＤＰの表示特性が低
下し、刺激値Ｙが３０を超えると灰色を帯びるようにな
り、ＰＤＰのコントラストや色純度が低下する。The stimulus value Y of the fired inorganic fine particles is 5
When the stimulus value Y is less than 30, the display characteristics of the PDP are deteriorated because the degree of blackness is too high.

【００２２】なお本発明において、光源色の３刺激値Ｘ
ＹＺおよびそれらから求められる色度座標ｘ、ｙは、Ｊ
ＩＳ Ｚ８７２２（物体色の測定方法）、ＪＩＳ Ｚ８
７１７（蛍光物体色の測定方法）、ＪＩＳ Ｚ８７０１
（ＸＹＺ表色系およびＸ10Ｙ10Ｚ10表色系による色の表
示方法）に規定される方法で求めた値とする。In the present invention, the tristimulus value X of the light source color is used.
YZ and chromaticity coordinates x and y obtained therefrom are expressed by J
IS Z8722 (method for measuring object color), JIS Z8
717 (method of measuring fluorescent object color), JIS Z8701
A value obtained in (XYZ color system and X 10 Y 10 Z 10 color system by the color display method) method specified in.

【００２３】具体的には、以下の方法で無機微粒子の粉
末、感光性ペースト塗布膜および塗布膜を焼成して形成
された隔壁についてＹ値および色度座標ｘ、ｙの測定を
行った。More specifically, the Y value and the chromaticity coordinates x and y of the powder of the inorganic fine particles, the photosensitive paste coating film and the partition walls formed by baking the coating film were measured by the following methods.

【００２４】まず隔壁を例として具体的な測定方法を示
す。First, a specific measuring method will be described using a partition as an example.

【００２５】測定試料は、８０ｍｍ角、厚さ１．３mmの
ソーダガラス基板上に感光性ペーストを乾燥厚み５０μ
ｍに塗布し、これを５８０℃で３０分間焼成して作製し
た。このベタ膜焼成試料を用い、Ｃ光（北窓光）２度視
野、基準として白色板（標準品として硫酸バリウム、Ｘ
＝９１．０６、Ｙ＝９３．０１、Ｚ＝１０６．９０のも
のを使用）を用いて測定した。測定に先立ち、ソーダガ
ラス基板のみに白色板を重ねて試料台において、零点合
わせを行った。測定試料は１２ｍｍφの測定孔を有する
試料台に焼成試料面を光照射方向にして置き、そのガラ
ス基板側に白色板を重ねて置くようにした。測定試料の
位置を変えて３点の測定を行い平均値をＹ値の測定値と
する。ｘ、ｙの値は計算によって求められる。The measurement sample was prepared by applying a photosensitive paste to a soda glass substrate having a size of 80 mm square and a thickness of 1.3 mm and a dry thickness of 50 μm.
m, and baked at 580 ° C. for 30 minutes. Using this solid film fired sample, C light (north window light) 2 degree field of view, white plate as standard (barium sulfate, X as standard)
= 91.06, Y = 93.01, Z = 106.90). Prior to the measurement, a white plate was placed only on the soda glass substrate, and zero adjustment was performed on the sample table. The measurement sample was placed on a sample table having a measurement hole of 12 mmφ with the fired sample surface in the light irradiation direction, and a white plate was placed on the glass substrate side. The measurement is performed at three points while changing the position of the measurement sample, and the average value is set as the measured value of the Y value. The values of x and y are obtained by calculation.

【００２６】感光性ペースト塗布膜についての測定は、
上記に準じて焼成前の状態で測定したものであり、無機
微粒子については、透明な袋に無機微粒子を充填したも
のを塗布膜や隔壁層と同様に扱って測定した。The measurement of the photosensitive paste coating film is as follows.
It was measured in the state before firing according to the above, and the inorganic fine particles were measured by treating a transparent bag filled with inorganic fine particles in the same manner as the coating film and the partition layer.

【００２７】刺激値や色度座標は、スガ試験機（株）製
のカラーコンピューターＳＭ−７−ＣＨ（光学条件 ４
５゜照明、０゜受光）を用いて測定した。The stimulus value and the chromaticity coordinates were measured using a color computer SM-7-CH manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. (optical condition 4).
5 ° illumination, 0 ° light reception).

【００２８】以下に、本発明の無機微粒子についてさら
に述べる。Hereinafter, the inorganic fine particles of the present invention will be further described.

【００２９】本発明者らは、無機微粒子と感光性有機成
分とを主成分とする感光性ペーストのパターン形成性に
ついて種々の研究を行ってきたが、シャープで形状の優
れたパターンを形成するためには、パターン露光に用い
る紫外線をできるだけ直進的に透過させることが必要で
あり、そのための有効な要因の一つは無機微粒子と感光
性有機成分の平均屈折率を整合させることであることを
見出している。The present inventors have conducted various studies on the pattern formability of a photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component as main components. However, in order to form a pattern having a sharp and excellent shape. In order to achieve this, it is necessary to transmit the ultraviolet rays used for pattern exposure as directly as possible, and one of the effective factors for this is to match the average refractive index of the inorganic fine particles and the photosensitive organic component. ing.

【００３０】この点から、本発明においては無機微粒子
の主成分がガラス粉末であり、該ガラス粉末の平均屈折
率が１．５〜１．７であることが好ましい。この範囲に
あると感光性有機成分の平均屈折率１．４５〜１．７と
の整合性が良好であり、所望の形状の隔壁パターンを容
易に形成することができる。From this point, in the present invention, the main component of the inorganic fine particles is preferably glass powder, and the glass powder preferably has an average refractive index of 1.5 to 1.7. Within this range, the compatibility with the average refractive index of the photosensitive organic component is 1.45 to 1.7, and a partition pattern having a desired shape can be easily formed.

【００３１】また、ガラス粉末は、焼成工程で焼結され
て隔壁を形成するものであり、焼成はガラス基板上で行
われるので、基板ガラスを変形させないことが必要な条
件である。この点から、ガラス粉末のガラス転移点４５
０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃であることが好
ましい。これらの熱特性と上記の平均屈折率の範囲を共
に満足するガラス粉末として、酸化物換算表記で以下の
組成からなるものが好ましく挙げられる。The glass powder is sintered in the firing step to form the partition walls. Since the firing is performed on the glass substrate, it is necessary that the substrate glass is not deformed. From this point, the glass transition point 45 of the glass powder
It is preferable that it is 0-550 degreeC and 500-600 degreeC of softening points. As a glass powder satisfying both the thermal characteristics and the above range of the average refractive index, those having the following composition in terms of oxide are preferably exemplified.

【００３２】 酸化リチウム ： ３〜１５重量％ 酸化珪素 ：１０〜３０重量％ 酸化ホウ素 ：２０〜４０重量％ 酸化バリウム ： ２〜１５重量％ 酸化アルミニウム ：１０〜２５重量％ 上記組成において、酸化リチウムを３〜１５重量％含有
するガラス粉末を用いることによって、ガラス軟化点、
熱膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガ
ラスの平均屈折率を低くすることができる。添加量はペ
ーストの安定性を向上させるためにも、１５重量％以下
が好ましく、より好ましくは１０重量％である。Lithium oxide: 3 to 15% by weight Silicon oxide: 10 to 30% by weight Boron oxide: 20 to 40% by weight Barium oxide: 2 to 15% by weight Aluminum oxide: 10 to 25% by weight In the above composition, lithium oxide is used. By using a glass powder containing 3 to 15% by weight, the glass softening point,
Not only can the thermal expansion coefficient be easily controlled, but also the average refractive index of the glass can be reduced. The addition amount is preferably 15% by weight or less, more preferably 10% by weight, in order to improve the stability of the paste.

【００３３】酸化珪素は１０〜３０重量％の範囲で配合
することが好ましく、１０重量％未満の場合はガラス層
の緻密性、強度や安定性が低下し、また、熱膨張係数が
所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こり
易い。３０重量％を越えると、軟化点が高くなり、ガラ
ス基板へ焼き付けにくくなる。It is preferable that silicon oxide is blended in the range of 10 to 30% by weight, and if it is less than 10% by weight, the denseness, strength and stability of the glass layer are reduced, and the coefficient of thermal expansion is a desired value. And mismatch with the glass substrate is likely to occur. If it exceeds 30% by weight, the softening point will be high and it will be difficult to bake on a glass substrate.

【００３４】酸化ホウ素は２０〜４０重量％の範囲で配
合することが好ましい。４０重量％を超えるとガラスの
安定性が低下する。２０重量％未満では強度の低下やガ
ラスの安定性の低下が起こる。It is preferable that boron oxide is blended in the range of 20 to 40% by weight. If it exceeds 40% by weight, the stability of the glass is reduced. If the content is less than 20% by weight, a decrease in strength and a decrease in glass stability occur.

【００３５】酸化バリウムは２〜１５重量％で用いる
が、２重量％未満ではガラス焼き付け温度および電気絶
縁性を制御するのが難しくなる。また、１５重量％を超
えるとガラス層の安定性や緻密性が低下する。Barium oxide is used in an amount of 2 to 15% by weight, but if it is less than 2% by weight, it becomes difficult to control the glass baking temperature and the electrical insulation. On the other hand, if the content exceeds 15% by weight, the stability and the denseness of the glass layer decrease.

【００３６】酸化アルミニウムは１０〜２５重量％で用
いるが、歪み点を高めたり、ガラス組成の安定化やペー
ストのポットライフ延長のために添加される。１０重量
％未満ではガラス層の強度が低下し、２５重量％を超え
るとガラスの耐熱温度が高くなり過ぎてガラス基板上に
焼き付けが難しくなる。また、緻密な絶縁層が６００℃
以下の温度で得られ難くなる。Aluminum oxide is used in an amount of 10 to 25% by weight, but is added for increasing the strain point, stabilizing the glass composition, and extending the pot life of the paste. If it is less than 10% by weight, the strength of the glass layer is reduced, and if it exceeds 25% by weight, the heat resistance temperature of the glass becomes too high and it is difficult to bake on the glass substrate. In addition, the dense insulating layer
It becomes difficult to obtain at the following temperatures.

【００３７】これらの成分の他に、酸化物表記で酸化亜
鉛、酸化カルシウム、あるいは酸化マグネシウムが含ま
れてもよい。In addition to these components, zinc oxide, calcium oxide, or magnesium oxide may be contained in oxide notation.

【００３８】酸化亜鉛は、２〜１５重量％の範囲で含ま
れることが好ましい。２重量％未満では、絶縁層の緻密
性向上に効果がない。１５重量％を越えると、ガラス基
板上に焼き付けする温度が低くなり制御しにくくなり、
また絶縁抵抗が低くなるので好ましくない。It is preferable that zinc oxide is contained in the range of 2 to 15% by weight. If it is less than 2% by weight, there is no effect on improving the denseness of the insulating layer. If the content exceeds 15% by weight, the temperature for baking on a glass substrate becomes low, making it difficult to control,
In addition, the insulation resistance is undesirably low.

【００３９】酸化カルシウムは、２〜１３重量％の範囲
で含まれることが好ましく、ガラスを溶融し易くすると
共に熱膨張係数を制御するのに添加される。２重量％よ
り少ないと、歪み点が低くなり過ぎる。Calcium oxide is preferably contained in the range of 2 to 13% by weight, and is added to facilitate melting of the glass and to control the coefficient of thermal expansion. If it is less than 2% by weight, the strain point will be too low.

【００４０】酸化マグネシウムは、１〜１５重量％の範
囲で含まれることが好ましく、ガラスを溶融し易くする
と共に熱膨張係数を制御するのに添加される。１５重量
％を越えるとガラスが失透し易くなり好ましくない。[0040] Magnesium oxide is preferably contained in the range of 1 to 15% by weight, and is added to facilitate melting of the glass and to control the coefficient of thermal expansion. If it exceeds 15% by weight, the glass tends to be devitrified, which is not preferable.

【００４１】また、ガラス粉末中に、酸化チタン、酸化
ジルコニウムなどを含有することができるが、その量は
５重量％未満であることが好ましい。酸化ジルコニウム
は、ガラスの軟化点、転移点および電気絶縁性を制御す
るのに効果がある。The glass powder may contain titanium oxide, zirconium oxide and the like, but the amount is preferably less than 5% by weight. Zirconium oxide is effective in controlling the softening point, transition point, and electrical insulation of glass.

【００４２】本発明の無機微粒子は、上記したガラス転
移点、軟化点を有するガラス粉末５０〜９０重量％と、
フィラーとして高融点ガラスやセラミックス等を１０〜
５０重量％含むことが好ましい。The inorganic fine particles of the present invention comprise 50 to 90% by weight of glass powder having the above-mentioned glass transition point and softening point,
High melting point glass or ceramics as filler
It is preferred to contain 50% by weight.

【００４３】これらのフィラー成分の添加により、焼成
時の収縮率が小さくなり、隔壁パターンの形状保持性や
精度が向上する。さらに、これらのフィラー添加は、得
られた隔壁の強度を維持する上で好ましい。フィラーが
１０重量％未満では、感光性ペーストで隔壁を形成する
場合に、焼成収縮率を低くしたり、熱膨張係数を制御す
る効果がない。一方、フィラーの含有量が５０重量％を
越えると、焼成後の隔壁が緻密性の点で劣るものとな
り、隔壁が低強度になり、隔壁が剥がれたり脱落するな
どの欠陥が発生することがある。また、隔壁中に微量水
分の吸着や有機成分が残留し、放電特性の低下を引き起
こす原因となることがある。By adding these filler components, the shrinkage ratio during firing is reduced, and the shape retention and accuracy of the partition pattern are improved. Further, the addition of these fillers is preferable in maintaining the strength of the obtained partition walls. When the amount of the filler is less than 10% by weight, there is no effect of reducing the firing shrinkage or controlling the coefficient of thermal expansion when forming the partition wall with the photosensitive paste. On the other hand, when the content of the filler exceeds 50% by weight, the partition walls after firing become inferior in terms of denseness, the partition walls become low in strength, and defects such as peeling or falling off of the partition walls may occur. . In addition, a small amount of moisture may be adsorbed or organic components may remain in the partition walls, which may cause deterioration of discharge characteristics.

【００４４】フィラーとしては、酸化チタン、アルミ
ナ、チタン酸バリウム、ジルコニア、コーディエライ
ト、ムライト、高融点ガラス粉末からなる群から選ばれ
た少なくとも一種を用いることができる。中でも、高融
点ガラス粉末が、組成の変更で平均屈折率、軟化点、熱
膨張係数をコントロールすることが可能な点で好まし
い。As the filler, at least one selected from the group consisting of titanium oxide, alumina, barium titanate, zirconia, cordierite, mullite, and high melting point glass powder can be used. Among them, high melting point glass powder is preferable because the average refractive index, softening point, and thermal expansion coefficient can be controlled by changing the composition.

【００４５】高融点ガラス粉末としては、軟化点５５０
〜１２００℃、さらに好ましくは６５０〜８００℃のも
のが好ましく、酸化物換算表記で以下の組成からなるも
が好ましい。The high melting point glass powder has a softening point of 550.
To 1200 ° C, more preferably 650 to 800 ° C, and preferably the following composition in terms of oxide.

【００４６】 酸化珪素 ：１５〜５０重量％ 酸化硼素 ： ５〜２０重量％ 酸化アルミニウム ：１５〜５０重量％ 酸化バリウム ： ２〜１０重量％ 特に高融点ガラス粉末中に、酸化珪素、酸化アルミニウ
ムをそれぞれ１５重量％以上含有することが好ましく、
これらの含有量合計が高融点ガラス粉末中５０重量％以
上であることが、必要な熱特性をもたせるために有効で
ある。Silicon oxide: 15 to 50% by weight Boron oxide: 5 to 20% by weight Aluminum oxide: 15 to 50% by weight Barium oxide: 2 to 10% by weight In particular, silicon oxide and aluminum oxide are individually added to the high melting point glass powder. It is preferable to contain 15% by weight or more,
It is effective that the total content of these is 50% by weight or more in the high melting point glass powder in order to give necessary thermal characteristics.

【００４７】さらに高融点ガラス粉末は、Ｄ１０が０．
４〜２μｍ、Ｄ５０が１〜３μｍ、Ｄ９０が３〜８μｍ
および最大粒子径１０μｍ以下であることが好ましい。
ここでＤ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それぞれ粒径の小さ
い粉末から１０体積％、５０体積％（平均粒径）、９０
体積％の粉末の粒径である。Further, the high melting point glass powder has a D10 of 0.1.
4-2 μm, D50 1-3 μm, D90 3-8 μm
And it is preferable that the maximum particle diameter is 10 μm or less.
Here, D10, D50, and D90 are 10% by volume, 50% by volume (average particle size), 90%
The particle size of the powder in volume%.

【００４８】高融点ガラス粉末の粒径分布が上記の範囲
にあると、焼成収縮率を低くすることができ、かつ低気
孔率の隔壁を作製する上で好ましい。When the particle size distribution of the high-melting glass powder is within the above range, it is possible to reduce the firing shrinkage rate and it is preferable to produce partition walls having a low porosity.

【００４９】高融点ガラス粉末として、上記した粒径よ
り大きな粉末を用いると、気孔率が上昇するばかりでな
く、隔壁頂部の凹凸が拡大し、誤放電を引き起こすこと
があるため好ましくない。It is not preferable to use a powder having a particle size larger than the above-mentioned particle size as the high melting point glass powder, because not only the porosity is increased, but also the irregularities at the top of the partition walls are enlarged and erroneous discharge may occur.

【００５０】なお、高融点ガラス粉末は、例えば、所定
の配合組成になるように混合し、９００〜１４００℃で
溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕し、上
記の粒度分布のものとして使用する。The high-melting glass powder is mixed, for example, to have a prescribed composition, melted at 900 to 1400 ° C., quenched, made into a glass frit, and then pulverized. use.

【００５１】フィラー成分の屈折率は１．５〜１．８で
あることが好ましく、１．５〜１．６８がより好まし
い。フィラー成分の屈指率がこの範囲にあると感光性ペ
ースト中の感光性有機成分の平均屈折率と整合しやすく
なり、感光性ペーストの光線透過率向上（散乱や反射の
防止）に寄与するので、高精度のパターン形成が容易に
なる。The refractive index of the filler component is preferably from 1.5 to 1.8, more preferably from 1.5 to 1.68. When the leading rate of the filler component is in this range, it is easy to match with the average refractive index of the photosensitive organic component in the photosensitive paste, which contributes to improving the light transmittance of the photosensitive paste (preventing scattering and reflection). High-precision pattern formation becomes easy.

【００５２】また、前記したガラス粉末の平均屈折率を
ｎ１、フィラー成分の屈折率をｎ２とした場合、−０．
０５≦ｎ１−ｎ２≦０．０５の関係を満たしていること
が好ましい。ガラス粉末とフィラー成分との屈折率差が
この範囲にあると、感光性有機成分との屈折率整合がよ
り容易になり、隔壁パターン形成性が向上するので好ま
しい。When the average refractive index of the glass powder is n1 and the refractive index of the filler component is n2, -0.05
It is preferable that the relationship of 05 ≦ n1−n2 ≦ 0.05 is satisfied. It is preferable that the difference in the refractive index between the glass powder and the filler component be in this range, because the refractive index matching with the photosensitive organic component becomes easier and the partition wall pattern forming property is improved.

【００５３】上記したように本発明の特徴は、無機微粒
子、感光性ペースト塗布膜の段階では、白色または灰色
であり、隔壁パターンを焼成した後、十分な黒色度を示
す隔壁を得ることができることにある。感光性ペースト
塗布膜が白色または灰色であることは、パターン形成の
ために照射される紫外線を塗布膜の下部まで透過させて
十分光硬化させるため必須の条件である。本発明の無機
微粒子を含有する感光性ペースト塗布膜はこの条件を満
足するものであり、また無機微粒子は、焼成前の感光性
ペースト段階では白色または灰色を示すが、焼成後に黒
色化する必要があり、このためには黒色顔料を含むこと
が好ましい。As described above, the feature of the present invention is that, at the stage of coating the inorganic fine particles and the photosensitive paste, the partition walls which are white or gray and exhibit sufficient blackness after baking the partition pattern can be obtained. It is in. The fact that the photosensitive paste coating film is white or gray is an essential condition for allowing ultraviolet rays irradiated for pattern formation to penetrate to the lower portion of the coating film and to be sufficiently photo-cured. The photosensitive paste coating film containing the inorganic fine particles of the present invention satisfies this condition, and the inorganic fine particles show white or gray in the photosensitive paste stage before firing, but need to be blackened after firing. For this purpose, it is preferable to include a black pigment.

【００５４】好ましい黒色顔料としては、Ｒｕ、Ｍｎ、
Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏの金属もしくはそれらの
酸化物が挙げられ、これらの少なくとも一種を合計で３
〜２０重量％含有することが好ましい。焼成後に黒色化
する機構の詳細は明らかでないが、上記の金属もしくは
それらの酸化物の数種類が無機微粒子中に含有される
と、無機微粒子の状態では、粉末状のため光が散乱され
て白または灰色を呈するが、焼成される過程で無機微粒
子中に含有する主として遷移金属元素からなる黒色顔料
の電子状態（電子の価数）が変化する。このため、可視
光を吸収するｄ電子のバンド状態が変化するようにな
り、黒色化すると推定される。さらに、焼成後に赤、
緑、青にそれぞれに着色する３種類の黒色顔料を組み合
わせて使用し、黒色隔壁をニュートラルブラックとする
ことが好ましい。Preferred black pigments are Ru, Mn,
Ni, Cr, Fe, Ti, and Co metals or oxides thereof, and at least one of these metals in a total of 3
Preferably, it is contained in an amount of about 20% by weight. The details of the mechanism of blackening after firing are not clear, but when the above-mentioned metal or their oxides are contained in the inorganic fine particles, in the state of the inorganic fine particles, light is scattered due to powder and white or Although it has a gray color, the electronic state (valence of electrons) of the black pigment mainly composed of a transition metal element contained in the inorganic fine particles changes during the firing process. For this reason, the band state of the d-electrons that absorb visible light changes, and it is presumed that the electron becomes black. In addition, after firing red,
It is preferable to use a combination of three types of black pigments, which are colored green and blue, respectively, and to make the black partition walls be neutral black.

【００５５】黒色顔料として作用させるためには、ガラ
ス粉末とフィラーとを混合して無機微粒子を製造する際
に上記の黒色顔料を混ぜ込めばよい。また、ガラス粉末
の製造過程で黒色顔料を加えて溶融して作製した粉末を
用いることも好ましい。溶融混合した粉末の場合には、
黒色顔料が均一かつ均質に溶解されるため、粉砕後のガ
ラス粉末の粒度分布の制御が容易になる。また、黒色顔
料の添加量も、粉末の状態でガラス粉末に混合させる場
合に比べて少量で、均質なムラのない黒色隔壁が得られ
るので好ましい。In order to function as a black pigment, the above-mentioned black pigment may be mixed when the glass powder and the filler are mixed to produce inorganic fine particles. It is also preferable to use a powder produced by adding and melting a black pigment in the process of producing glass powder. In the case of melt-mixed powder,
Since the black pigment is uniformly and homogeneously dissolved, it is easy to control the particle size distribution of the ground glass powder. In addition, the amount of the black pigment to be added is preferably smaller than that in the case where the powder is mixed with the glass powder in a powder state, and a uniform black partition wall without unevenness can be obtained.

【００５６】単純な混合および溶融混合する上記金属も
しくはその酸化物は、一種類でなく複数種を用いてもよ
いが、合計で３〜２０重量％であることが、感光性ペー
ストの機能保持および得られる隔壁の黒色度をコントロ
ールするのに優れているので好ましい。より好ましく
は、５〜１５重量％である。３重量％未満では、隔壁の
黒色度が弱くなり、灰色に見え、コントラスト向上効果
が少ない。また、２０重量％より多いと、ガラスの軟化
点が上昇したり、熱膨張係数をガラス基板と整合させる
のが難しくなる。The metal or its oxide to be simply mixed and melt-mixed may be used not only in one kind but also in plural kinds. However, the total of 3 to 20% by weight is required to maintain the function of the photosensitive paste and to maintain the function of the photosensitive paste. It is preferable because it is excellent in controlling the blackness of the obtained partition walls. More preferably, it is 5 to 15% by weight. When the content is less than 3% by weight, the blackness of the partition walls becomes weak and looks gray, and the effect of improving the contrast is small. If the content is more than 20% by weight, the softening point of the glass increases, and it becomes difficult to match the coefficient of thermal expansion with the glass substrate.

【００５７】本発明の無機微粒子としては、平均屈折率
１．５〜１．７であり、そのガラス転移点が４５０〜５
５０℃、軟化点が５００〜６００℃の酸化リチウムを含
有することを特徴とするガラス粉末と高融点ガラスまた
はセラミックス類から選んだ少なくとも一種のフィラー
とを含み、Ｒｕ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｃｏ
の金属もしくはそれらの酸化物から選ばれた成分を合計
で３〜２０重量％含有するものが、特に好ましく挙げら
れる。The inorganic fine particles of the present invention have an average refractive index of 1.5 to 1.7 and a glass transition point of 450 to 5
A glass powder characterized by containing lithium oxide having a softening point of 500 to 600 ° C. at 50 ° C. and at least one filler selected from high melting point glass or ceramics; Ru, Mn, Ni, Cr, Fe , Ti, Co
Particularly preferred are those containing a total of 3 to 20% by weight of a component selected from metals or oxides thereof.

【００５８】また、本発明の無機微粒子は感光性ペース
ト用であるため、感光性有機成分の中に分散混合し使用
される。従って、上記した条件に加え、感光性有機成分
中に均一分散し、しかも充填性が良くなければパターン
形成性の良好なペーストを得ることができない。そのた
め無機微粒子の粒径とその分布が重要な要件となる。Since the inorganic fine particles of the present invention are used for a photosensitive paste, they are dispersed and mixed in a photosensitive organic component. Therefore, in addition to the above-mentioned conditions, a paste having a good pattern forming property cannot be obtained unless it is uniformly dispersed in the photosensitive organic component and the filling property is not good. Therefore, the particle size and distribution of the inorganic fine particles are important requirements.

【００５９】本発明者らは、すでに、ガラス粉末の粒度
分布を、縦軸を頻度（％）、横軸を粒径（μｍ）とした
ヒストグラムで示した時、粒度分布が少なくとも２つの
ピークを有するガラス粉末を感光性ペーストに用いるこ
とによって、ペーストの塗布膜を形成した際に膜中の光
散乱が抑制され、全光線透過率が高く、優れたパターン
特性を示す感光性ペーストを得ることができることを見
出しており、このような粒度分布を満足することが好ま
しい。The present inventors have already shown that the particle size distribution of the glass powder is represented by a histogram in which the vertical axis represents frequency (%) and the horizontal axis represents the particle size (μm). By using the glass powder having the photosensitive paste, it is possible to obtain a photosensitive paste that suppresses light scattering in the film when a paste coating film is formed, has a high total light transmittance, and has excellent pattern characteristics. It has been found that it is possible to satisfy such a particle size distribution.

【００６０】本発明の無機微粒子の主成分として使用さ
れるガラス粉末は、例えば、調合原料の調製、溶融、粉
砕、分級および乾燥の工程を経て作製される。ガラス粉
末の粒度分布は、上記の粉砕、分級工程において制御さ
れる。粉砕は、ボールミル、ジェットミルなどの方法が
用いられ、分級は、篩い分け、気流式分級などの乾式分
級で行う。The glass powder used as the main component of the inorganic fine particles of the present invention is produced through, for example, the steps of preparing, melting, pulverizing, classifying, and drying a blended raw material. The particle size distribution of the glass powder is controlled in the above-mentioned pulverization and classification steps. The pulverization is performed by a method such as a ball mill or a jet mill, and the classification is performed by dry classification such as sieving or airflow classification.

【００６１】なお無機微粒子、ガラス粉末の粒度分布
は、レーザー回折散乱法によって測定することができ
る。例えば、マイクロトラック社製、粒度分布計ＨＲＡ
９３２０−Ｘ１００を用いた場合の測定条件は次の通り
である。The particle size distribution of the inorganic fine particles and glass powder can be measured by a laser diffraction scattering method. For example, Microtrac Co., Ltd., particle size distribution analyzer HRA
The measurement conditions when using 9320-X100 are as follows.

【００６２】 試料量 ：１ｇ 分散条件 ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散。分
散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム
水溶液中で行う。Sample amount: 1 g Dispersion condition: ultrasonic dispersion in purified water for 1 to 1.5 minutes. If it is difficult to disperse, it is carried out in a 0.2% aqueous sodium hexametaphosphate solution.

【００６３】 粒子屈折率：ガラスの種類により変更（リチウム系の場
合、１．６） 溶媒屈折率：１．３３ 測定数 ：２回 一般に、粉末は粒径が小さいものほど、凝集しやすく、
ペースト中に均一に分散されず、塗布膜を形成した際、
空隙ができやすくなるので光透過性が低くなり、所望の
パターン特性が得られない。一方、粒径が大きすぎる
と、焼成温度によっては焼成後の隔壁の頂部に凹凸が生
じ、封着時に前面板との間に隙間ができてクロストーク
が生じたりする。これらの問題点について鋭意検討の結
果、ガラス粉末の平均粒径（Ｄ５０）は１．５〜７μ
ｍ、最大粒子径は７〜４０μｍであると凝集性が少な
く、充填性がよいのでパターン形成性の優れたペースト
を得ることが可能であり、さらに焼成後の隔壁頂部の凹
凸や異物の問題がないため、高精細隔壁形成に適してい
ることを見出した。Particle refractive index: changed depending on the type of glass (1.6 in the case of lithium) Solvent refractive index: 1.33 Number of measurements: 2 In general, the smaller the particle size, the easier the powder is to aggregate,
When it is not uniformly dispersed in the paste and forms a coating film,
Since voids are easily formed, light transmittance is reduced, and desired pattern characteristics cannot be obtained. On the other hand, if the particle size is too large, unevenness may occur at the top of the partition after firing depending on the firing temperature, and a gap may be formed between the partition and the front plate at the time of sealing, causing crosstalk. As a result of intensive studies on these problems, the average particle size (D50) of the glass powder was 1.5 to 7 μm.
m, when the maximum particle size is 7 to 40 μm, the cohesion is small and the filling property is good, so that it is possible to obtain a paste having excellent pattern formability. It was found that it was not suitable for forming high-definition partition walls.

【００６４】平均粒径が１．５μｍ未満であると、粉末
の凝集性が大きく、パターン形成性が低下する傾向があ
る。７μｍより大きいと、焼成後の隔壁頂部の凹凸が大
きくなるので放電時にクロストークが起きることがあ
る。平均粒径は１．５〜７μｍ、好ましくは２〜６μｍ
である。When the average particle size is less than 1.5 μm, the powder has high cohesiveness and the pattern-forming property tends to decrease. If it is larger than 7 μm, crosstalk may occur at the time of discharge because unevenness of the top of the partition wall after firing becomes large. Average particle size is 1.5 to 7 μm, preferably 2 to 6 μm
It is.

【００６５】また、最大粒子径が７μｍ未満では、充填
性が悪く、パターン形成性が低下する傾向がある。４０
μｍを越えると焼成後の隔壁頂部の凹凸や放電空間内に
異物が残る。最大粒子径は７〜４０μｍ、より好ましく
は１０〜３０μｍであることが粉末の充填性や隔壁頂部
の凹凸をコントロールするために好ましい。If the maximum particle size is less than 7 μm, the filling property is poor and the pattern formability tends to be reduced. 40
When the thickness exceeds μm, foreign matters remain in the unevenness of the top of the partition wall after firing and in the discharge space. The maximum particle size is preferably from 7 to 40 μm, more preferably from 10 to 30 μm, in order to control the filling property of the powder and the irregularities on the top of the partition walls.

【００６６】ガラス粉末のＤ１０が０．５〜２μｍ、Ｄ
９０が４〜２０μｍであると、凝集性が少なく充填性の
よいガラス粉末を得ることが出来る。Ｄ１０が０．５μ
ｍ未満であるとガラス粉末の凝集性が高く、凝集した微
粒子間の空隙による散乱で高精細なパターンを得にく
い。２μｍを越えると、分級時の歩留まりが悪くなった
り、焼成後の隔壁頂部の凹凸が大きくなるためクロスト
ークが生じることがある。Ｄ１０は０．５〜２μｍ、よ
り好ましくは０．７〜１．５μｍであることが粉末の凝
集を抑制し、粉末の歩留まりが向上する点で好ましい。The glass powder has a D10 of 0.5 to 2 μm,
When 90 is 4 to 20 μm, a glass powder having a small agglomeration property and a good filling property can be obtained. D10 is 0.5μ
If it is less than m, the cohesiveness of the glass powder is high, and it is difficult to obtain a high-definition pattern due to scattering by voids between the aggregated fine particles. If it exceeds 2 μm, the yield at the time of classification may be deteriorated, or the unevenness of the top of the partition wall after firing may become large, causing crosstalk. D10 is preferably from 0.5 to 2 μm, more preferably from 0.7 to 1.5 μm, from the viewpoint of suppressing agglomeration of the powder and improving the yield of the powder.

【００６７】Ｄ９０は４μｍ未満では、充填性が悪くな
るため、パターン形成性が低下する傾向がある。２０μ
ｍを越えると隔壁頂部の凹凸や放電空間に異物が残るこ
とがある。Ｄ９０は４〜２０μｍ、好ましくは６〜１５
μｍであることが、ガラス粉末の充填性や隔壁頂部の凹
凸を抑制するために好ましい。When D90 is less than 4 μm, the filling property is deteriorated, and the pattern formability tends to decrease. 20μ
If m exceeds m, foreign matter may remain on the top and bottom of the partition wall or in the discharge space. D90 is 4 to 20 μm, preferably 6 to 15 μm.
It is preferable that the particle size is μm in order to suppress the filling property of the glass powder and the irregularities at the top of the partition wall.

【００６８】また、ガラス粉末のタップ密度は０．６ｇ
／ｃｃ以上、より好ましくは０．６５ｇ／ｃｃ以上であ
ると、充填性がよく、ペーストのパターン形成性が向上
し、高精細の隔壁形成を行うことができる。タップ密度
は、ＪＩＳ Ｚ２５００（２０４５）に記載の通り、振
動させた容器内の粉末の単位体積当たりの質量である本
発明においては、タップ密度はＴＳＵＴＳＵＩ ＳＣＩ
ＥＮＴＩＦＩＣ ＩＮＳＴＲＵＭＥＮＴＳ Ｃｏ．Ａ．
Ｂ．Ｄ ＰＯＷＤＥＲ ＴＥＳＴＥＲを用い、ガラス粉
末を入れた１００ｃｃ容器を５分間振動した後、ガラス
粉末を摺り切り、１００ｃｃ当たりの質量を測定して得
た。The tap density of the glass powder is 0.6 g.
/ Cc, more preferably 0.65 g / cc or more, the filling property is good, the pattern formability of the paste is improved, and the formation of high-definition partition walls can be performed. As described in JIS Z2500 (2045), the tap density is the mass per unit volume of the powder in the vibrated container. In the present invention, the tap density is TSUTSUI SCI
ENTIFIC INSTRUMENTS Co. A.
B. Using a D POWDER TESTER, a 100 cc container containing the glass powder was shaken for 5 minutes, and then the glass powder was ground and the mass per 100 cc was measured.

【００６９】本発明の無機微粒子は、例えば、上記した
ガラス粉末、フィラー、黒色顔料を適宜混合させること
により製造できる。The inorganic fine particles of the present invention can be produced, for example, by appropriately mixing the above-mentioned glass powder, filler and black pigment.

【００７０】次に感光性ペーストについて説明する。本
発明の感光性ペーストは、上記した刺激値Ｙの条件を満
足する無機微粒子と感光性有機成分からなり、隔壁パタ
ーンを形成し、それを焼成して隔壁を作成するために使
用されるものである。感光性ペーストは、膜厚５０μｍ
の塗布膜のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜６０
であり、かつ該塗布膜を焼成した後の刺激値Ｙが２〜２
０である必要がある。感光性ペースト塗布膜のＸＹＺ表
色系における刺激値Ｙがこの範囲にあると紫外線の透過
が妨げられず、露光量を５００ｍＪ／ｃｍ2以下に設定
することができ、タクトタイムを下げることができる。
得られた隔壁パターンの形状も優れている。Next, the photosensitive paste will be described. The photosensitive paste of the present invention is composed of inorganic fine particles and a photosensitive organic component satisfying the above-mentioned stimulus value Y, and is used for forming a partition pattern and firing it to form a partition. is there. The photosensitive paste has a thickness of 50 μm.
The stimulus value Y in the XYZ color system of the coating film of 20 to 60
And the stimulus value Y after baking the coating film is 2-2.
Must be 0. When the stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste coating film is in this range, the transmission of ultraviolet rays is not hindered, the exposure amount can be set to 500 mJ / cm 2 or less, and the tact time can be reduced. .
The shape of the obtained partition pattern is also excellent.

【００７１】上記したような焼成前のＸＹＺ表色系にお
ける刺激値Ｙが２０〜８０を示し、焼成後の刺激値Ｙが
５〜３０である本発明の無機微粒子を成分として含有す
ることにより上記した感光性ペーストの刺激値Ｙの条件
を容易に満足でき、ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２
〜２０の隔壁を得ることができる。The above-mentioned inorganic fine particles of the present invention having a stimulus value Y of 20 to 80 in the XYZ color system before firing and a stimulus value Y of 5 to 30 after firing are contained as a component to thereby provide the above-mentioned components. Easily satisfy the condition of the stimulus value Y of the obtained photosensitive paste, and the stimulus value Y in the XYZ color system is 2
~ 20 partition walls can be obtained.

【００７２】なおＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０
〜８０の白〜灰色の無機微粒子とほぼ透明な感光性有機
成分からなる感光性ペーストは、ペーストのパターン形
成性を向上させるための微量添加成分などの影響を受
け、このため感光性ペーストの刺激値Ｙが２０〜６０の
範囲に変化する。刺激値Ｙが２０未満では、紫外線が感
光性ペーストの塗布膜により吸収されてしまい（光線透
過率が低下する）下部まで十分に光硬化しない。このた
めパターン形成性が悪くなる。また、刺激値Ｙが６０を
越えると、焼成後の隔壁の黒色度が低下し、コントラス
ト改善効果が不十分となる。より好ましくは３０〜５０
である。When the stimulus value Y in the XYZ color system is 20
A photosensitive paste composed of white to gray inorganic fine particles of about 80 to about 80 and a substantially transparent photosensitive organic component is affected by a small amount of added components for improving the pattern forming property of the paste, and therefore, the photosensitive paste is stimulated. The value Y changes in the range of 20-60. If the stimulus value Y is less than 20, ultraviolet rays are absorbed by the coating film of the photosensitive paste (light transmittance is reduced) and the photocuring is not sufficiently performed to the lower part. For this reason, pattern formability deteriorates. On the other hand, when the stimulus value Y exceeds 60, the blackness of the partition walls after firing decreases, and the contrast improving effect becomes insufficient. More preferably, 30 to 50
It is.

【００７３】なお感光性ペーストの膜厚５０μｍの塗布
膜の焼成後の刺激値Ｙが２〜２０である必要性は、隔壁
と同様であり、刺激値Ｙが２未満では黒色度が高すぎ
て、ＰＤＰの表示特性が低下する。また、刺激値Ｙが２
０を越えると灰色を帯びるようになり、ＰＤＰのコント
ラストや色純度が低下する。The necessity of the stimulus value Y after firing of the coating film of the photosensitive paste having a thickness of 50 μm of 2 to 20 is the same as that of the partition walls. If the stimulus value Y is less than 2, the blackness is too high. , The display characteristics of the PDP are degraded. When the stimulus value Y is 2
If it exceeds 0, it becomes grayish and the contrast and color purity of the PDP decrease.

【００７４】また、感光性ペーストの光線透過率が、ペ
ーストのパターン形成性に重要な影響を及ぼすため、感
光性ペーストは、膜厚５０μｍで測定した全光線透過率
が３０％以上であることが好ましく、より好ましくは５
０％以上である。特に、パターン形成に重要な役割を有
するｇ線波長領域で測定した全光線透過率が３０％以
上、より好ましくは５０％以上であることが好ましい。Further, since the light transmittance of the photosensitive paste has a significant effect on the pattern formability of the paste, the total light transmittance of the photosensitive paste measured at a film thickness of 50 μm may be 30% or more. Preferably, more preferably 5
0% or more. In particular, it is preferable that the total light transmittance measured in the g-line wavelength region that plays an important role in pattern formation is 30% or more, more preferably 50% or more.

【００７５】さらに本発明の感光性ペーストは、膜厚５
０μｍの塗布膜の全光線透過率が３０％以上であること
に加え、以下に述べる正規透過率が３０％以上、さらに
は５０％以上であることが好ましい。すなわち、感光性
ペーストを透過する光線量が多いことが好ましく、さら
にその透過する光線のうち直進的に透過する光の割合が
高いことが好ましい。Further, the photosensitive paste of the present invention has a thickness of 5
In addition to the total light transmittance of the 0 μm coating film being 30% or more, the normal transmittance described below is preferably 30% or more, and more preferably 50% or more. That is, it is preferable that the amount of light transmitted through the photosensitive paste is large, and it is preferable that the ratio of the light transmitted straight through the transmitted light is high.

【００７６】この要件を満足することが、高アスペクト
比のパターン加工を行う上で重要である。このような全
光線透過率を得るには、感光性ペーストを構成する無機
微粒子および感光性有機成分に光線透過率の高い成分を
用い、これを均質に混合することが重要である。さら
に、無機微粒子と感光性有機成分それぞれの平均屈折率
をできるだけ整合させることが必要である。Satisfying these requirements is important in performing pattern processing with a high aspect ratio. In order to obtain such a total light transmittance, it is important to use a component having a high light transmittance for the inorganic fine particles and the photosensitive organic component constituting the photosensitive paste and to mix them homogeneously. Further, it is necessary to match the average refractive indexes of the inorganic fine particles and the photosensitive organic components as much as possible.

【００７７】なお光線透過率の測定は、分光光度計（島
津製作所製、ＵＶ−３１０１ＰＣ）を用いて行った。測
定条件は次の通りである。The light transmittance was measured using a spectrophotometer (UV-3101PC, manufactured by Shimadzu Corporation). The measurement conditions are as follows.

【００７８】 試料厚み：５０μｍ 試料セル：石英 スリット幅：７．５ｎｍ 測定速度：ＳＬＯＷ（約１００ｎｍ／ｍｉｎ） 光源：ハロゲンランプ 測定波長：３６０〜８５０ｎｍ 白板：ＢａＳＯ4（サンプル側） 副白板：ＢａＳＯ4（リファレンス側） 入射角：０度 試料室：マルチパーパス大形試料室ユニット（島津製作
所製PC-3100型） 積分球：６０φ積分球 積分球窓：入口窓 １２（Ｗ）×２０（Ｈ）ｍｍ 出口窓 １２（Ｗ）×２４（Ｈ）ｍｍ ホトマル窓（球の下側）：１６ｍｍφ ＰｂＳセル窓（球の上側）：１６ｍｍφ 積分球の開口比率：１２．９％ 検出器：ホトマルおよびＰｂＳセル データ処理：ＭＣＢ１７ＪＨ２０／ＰＣ９８０１ 石英セル上に乾燥後厚みが５０μｍになるように感光性
ペーストを塗布した後、試料の上から石英セルを乗せ
て、測定サンプルを調整する。上記の仕様・条件で、全
光線透過率Ｔ１を測定した後、積分球の直進光を測定す
る部分（白板：出口窓に取り付ける部分）を取り外し、
直進光の光を検出しないようにして、拡散透過率Ｔ２
（散乱などによって直進せずに透過した光の割合）を測
定した。全光線透過率（Ｔ１）から拡散透過率（Ｔ２）
を差し引き、これを全光線透過率で除した値Ｔ３＝（Ｔ
１−Ｔ２）／Ｔ１を正規透過率（直進透過率ともいう）
という。Sample thickness: 50 μm Sample cell: quartz Slit width: 7.5 nm Measurement speed: SLOW (about 100 nm / min) Light source: halogen lamp Measurement wavelength: 360 to 850 nm White plate: BaSO 4 (sample side) Secondary white plate: BaSO 4 (Reference side) Incident angle: 0 degrees Sample chamber: Multipurpose large sample chamber unit (PC-3100 type, manufactured by Shimadzu Corporation) Integrating sphere: 60φ integrating sphere Integrating sphere window: Entrance window 12 (W) × 20 (H) mm Exit window 12 (W) × 24 (H) mm Photomal window (bottom of sphere): 16 mmφ PbS cell window (upper of sphere): 16 mmφ Opening ratio of integrating sphere: 12.9% Detector: Photomaru and PbS cell Data Treatment: MCB17JH20 / PC9801 A photosensitive paste was applied on a quartz cell so that the thickness became 50 μm after drying, and then the quartz cell was placed on the sample. Put in, to adjust the measurement sample. After measuring the total light transmittance T1 under the above specifications and conditions, remove the portion (white plate: portion attached to the exit window) of the integrating sphere that measures the straight light,
By not detecting the light of the straight light, the diffuse transmittance T2
(Ratio of light transmitted without going straight due to scattering or the like) was measured. Total light transmittance (T1) to diffuse transmittance (T2)
Is subtracted, and this value is divided by the total light transmittance T3 = (T
1−T2) / T1 is a normal transmittance (also referred to as a straight traveling transmittance)
That.

【００７９】さらに本発明の感光性ペーストの膜厚５０
μｍの塗布膜の表面での全反射率は１０％以下であり、
正規反射率が２０％以上、より好ましくは５０％以上が
好ましい。Further, the thickness of the photosensitive paste of the present invention is 50
The total reflectance on the surface of the μm coating film is 10% or less,
The regular reflectance is preferably 20% or more, more preferably 50% or more.

【００８０】塗布膜の反射率測定は、透過率測定と同じ
分光光度計を用いて行う。ここで全反射率（Ｒｔ）は入
射角８度で入射した光の全反射を測定したものである。
さらに反射のうち、入射角０度で入射した拡散成分の反
射率を測定し、これを拡散反射（Ｒｄ）とした。この
時、（Ｒｔ−Ｒｄ）／Ｒｔ＝Ｒｎとして計算されるＲｎ
を正規反射率とした。１００％反射板として硫酸バリウ
ム板を用いた。The reflectance measurement of the coating film is performed using the same spectrophotometer as the transmittance measurement. Here, the total reflectance (Rt) is obtained by measuring the total reflection of light incident at an incident angle of 8 degrees.
Further, among the reflections, the reflectance of the diffuse component incident at an incident angle of 0 ° was measured, and this was defined as diffuse reflection (Rd). At this time, Rn calculated as (Rt−Rd) / Rt = Rn
Was defined as the regular reflectance. A barium sulfate plate was used as a 100% reflection plate.

【００８１】すなわち正規反射率は全反射率から拡散成
分を除いた割合である。感光性ペーストをパターニング
する場合、露光光源から出た光は露光装置の反射板で調
整されて平行光線として照射され、それが直進的にフォ
トマスクを通過して感光性ペースト塗布膜の表面に達す
る。入射光線の光路に沿って反射される光の割合が正規
反射率である。照射された光の一部が表面で反射される
ことは避け難いが、塗布膜の表面および表層状態に起因
する照射光の反射をできるだけ抑制し、反射する光はで
きる限り正規反射となることが好ましい。That is, the regular reflectance is a ratio obtained by removing the diffuse component from the total reflectance. When patterning the photosensitive paste, the light emitted from the exposure light source is adjusted by the reflector of the exposure device and irradiated as parallel rays, which pass straight through the photomask and reach the surface of the photosensitive paste coating film. . The ratio of light reflected along the optical path of the incident light beam is the regular reflectance. Although it is inevitable that a part of the irradiated light is reflected on the surface, it is necessary to minimize the reflection of the irradiation light caused by the surface and surface state of the coating film, and to make the reflected light as regular as possible. preferable.

【００８２】本発明の感光性ペーストは、塗布膜の全反
射率が、特にｇ線波長領域の光で測定して１０％以下で
あり、かつその正規反射率が２０％以上であることがパ
ターン形状を良好にするため好ましい。The photosensitive paste of the present invention has a pattern in which the total reflectance of the coating film is 10% or less, particularly as measured with light in the g-line wavelength region, and the regular reflectance is 20% or more. It is preferable to improve the shape.

【００８３】本発明の感光性ペーストを構成する感光性
有機成分について説明する。The photosensitive organic component constituting the photosensitive paste of the present invention will be described.

【００８４】本発明において感光性有機成分は、感光性
モノマと感光性オリゴマもしくはポリマを主成分とし、
光重合開始剤を含有するものであり、光開始ラジカル反
応で露光された部分が現像液に不溶化するタイプである
ことが好ましい。In the present invention, the photosensitive organic component contains a photosensitive monomer and a photosensitive oligomer or polymer as main components,
It is preferable to use a type containing a photopolymerization initiator, wherein a portion exposed by a photoinitiated radical reaction is insoluble in a developer.

【００８５】感光性モノマとしては、活性な炭素−炭素
二重結合を有する化合物が主として用いられるが、官能
基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタ
クリレート基、アクリルアミド基などを有する単官能お
よび多官能化合物が用いられる。中でも多官能アクリレ
ート化合物および／または多官能メタクリレート化合物
を用いることが好ましい。As the photosensitive monomer, a compound having an active carbon-carbon double bond is mainly used, and a monofunctional compound having a vinyl group, an allyl group, an acrylate group, a methacrylate group, an acrylamide group or the like as a functional group is used. A polyfunctional compound is used. Among them, it is preferable to use a polyfunctional acrylate compound and / or a polyfunctional methacrylate compound.

【００８６】また、感光性ペースト中には有機成分とし
て、光反応で形成される硬化物の物性の向上やペースト
の粘度の調整などの役割を果たすとともに、未露光ペー
ストの溶解性をコントロールする機能を有するオリゴマ
もしくはポリマが併用されることが一般的である。これ
らのオリゴマもしくはポリマは、炭素−炭素二重結合を
有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合によ
り得られた炭素連鎖の骨格を有するものが用いられる。
共重合するモノマとしては、不飽和カルボン酸などが有
用であり、感光後に未露光部分をアルカリ水溶液で現像
できる感光性ペーストとすることができる。こうして得
られた側鎖にカルボキシル基などの酸基を有するオリゴ
マもしくはポリマの酸価は５０〜１６０、好ましくは７
０〜１４０の範囲になるようにコントロールするのが好
ましい。In addition, the photosensitive paste serves as an organic component to improve the physical properties of the cured product formed by the photoreaction, adjust the viscosity of the paste, and to control the solubility of the unexposed paste. In general, an oligomer or a polymer having the following formula is used in combination. As these oligomers or polymers, those having a carbon chain skeleton obtained by polymerization or copolymerization of components selected from compounds having a carbon-carbon double bond are used.
As the monomer to be copolymerized, an unsaturated carboxylic acid or the like is useful, and a photosensitive paste that can be developed with an aqueous alkali solution after exposure to light can be used. The thus obtained oligomer or polymer having an acid group such as a carboxyl group in the side chain has an acid value of 50 to 160, preferably 7 to 160.
It is preferable to control so as to be in the range of 0 to 140.

【００８７】感光性オリゴマもしくはポリマとして使用
するには分子内にカルボキシル基と不飽和二重結合を含
有する重量平均分子量２０００〜６万のものが好まし
い。より好ましくは、３０００〜４万である。不飽和二
重結合を導入するには、カルボキシル基を側鎖に有する
オリゴマもしくはポリマに、グリシジル基やイソシアネ
ート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸ク
ロライド、メタクリル酸クロライドを付加反応させる方
法が適用される。アルカリ水溶液現像性のためのカルボ
キシル基数とオリゴマもしくはポリマを感光性にするエ
チレン性不飽和基数とは、反応条件により自由に選択す
ることができる。For use as a photosensitive oligomer or polymer, those having a weight average molecular weight of 2,000 to 60,000 containing a carboxyl group and an unsaturated double bond in the molecule are preferred. More preferably, it is 3000 to 40,000. To introduce an unsaturated double bond, a method is used in which an oligomer or polymer having a carboxyl group in the side chain is subjected to an addition reaction of an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, or methacrylic acid chloride. Is done. The number of carboxyl groups for developing with an aqueous alkali solution and the number of ethylenically unsaturated groups that render the oligomer or polymer photosensitive can be freely selected depending on the reaction conditions.

【００８８】上記のような感光性成分を含有する感光性
ペーストを露光した場合、感光性成分が重合および架橋
反応して現像液に不溶性となる。そのために活性ラジカ
ルを発生してラジカル重合や架橋反応を開始する成分と
して光重合開始剤が添加される。さらに、光重合開始剤
とともに増感剤を使用して、感度を向上させたり（化学
増感）、反応に有効な光の波長範囲を拡大する（分光増
感）ことができる。これらの光重合開始剤および増感剤
は既知の化合物群から選択して使用できる。When a photosensitive paste containing a photosensitive component as described above is exposed, the photosensitive component becomes insoluble in a developing solution due to polymerization and crosslinking reaction. For this purpose, a photopolymerization initiator is added as a component that generates an active radical to initiate a radical polymerization or a crosslinking reaction. Further, by using a sensitizer together with a photopolymerization initiator, the sensitivity can be improved (chemical sensitization) or the wavelength range of light effective for the reaction can be expanded (spectral sensitization). These photopolymerization initiators and sensitizers can be used by selecting from a known group of compounds.

【００８９】無機微粒子が多量に含まれる感光性ペース
トでは、散乱光により起こる不要な光反応を抑制するた
めに、紫外線吸収剤を添加することが形状の優れた隔壁
パターンを得るために有効である。紫外線吸収剤には、
３５０〜４００ｎｍの波長範囲に吸収極大を有する有機
系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染
料、ベンゾフェノン化合物、シアノアクリレート系化合
物、ベンゾトリアゾール系化合物およびインドール系化
合物の群から選ばれた少なくとも一種が好ましく挙げら
れる。In the case of a photosensitive paste containing a large amount of inorganic fine particles, it is effective to add an ultraviolet absorbent to obtain a partition pattern having an excellent shape in order to suppress unnecessary light reactions caused by scattered light. . UV absorbers include
Organic dyes having an absorption maximum in the wavelength range of 350 to 400 nm are preferably used. Specifically, at least one selected from the group consisting of azo dyes, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, benzotriazole compounds and indole compounds is preferably exemplified.

【００９０】具体例としては、アゾ系有機染料であるス
ダン（化学式Ｃ24Ｈ20Ｎ4Ｏ，分子量３８０．４５）
や、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，
２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−スル
ホベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５
−スルホベンゾフェノントリヒドレート、２−ヒドロキ
シ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキ
シ−４−オクタデシロキシベンゾフェノン、２，２’，
４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、４−ドデ
シロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロ
キシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プ
ロポキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチル−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒ
ドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）
−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロ
キシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−
４’−ｎ−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル
アクリレート、２−エチル−２−シアノ−３，３−ジフ
ェニルアクリレート、ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＶ−３９０
１（オリエント化学社製）、ＢＯＮＡＳＯＲＢ ＵＡ−
３９０２（オリエント化学社製）、ＳＯＭ−２−０００
８（オリエント化学社製）などを挙げることができる
が、これらに限定されない。As a specific example, an azo organic dye sudan (chemical formula: C 24 H 20 N 4 O, molecular weight: 380.45)
And 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone,
2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5
-Sulfobenzophenone trihydrate, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxybenzophenone, 2,2 ′,
4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-methacryloxy) propoxybenzophenone, 2- (2'-hydroxy-
5′-methylphenyl) benzotriazole, 2-
(2′-hydroxy-3 ′, 5′-t-butyl-5′-
Methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl)
-5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
4'-n-octoxyphenyl) benzotriazole,
2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, BONASORB UV-390
1 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), BONASORB UA-
3902 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), SOM-2-000
8 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.), but not limited thereto.

【００９１】これらの紫外線吸収剤の添加量は、感光性
ペースト中に含有される無機微粒子に対して０．１〜２
重量％が好ましい。０．１重量％未満では紫外線吸収剤
の添加効果が十分でなく、２重量％を越えると感光性ペ
ーストの感度が低下するので好ましくない。さらに上記
の添加量の範囲であると、感光性ペーストの刺激値Ｙを
本発明において必要な範囲にすることが容易である点か
らも好ましい。The amount of the ultraviolet absorber added is 0.1 to 2 with respect to the inorganic fine particles contained in the photosensitive paste.
% By weight is preferred. If it is less than 0.1% by weight, the effect of adding the ultraviolet absorber is not sufficient, and if it exceeds 2% by weight, the sensitivity of the photosensitive paste is undesirably reduced. Further, when the addition amount is within the above range, it is preferable because the stimulus value Y of the photosensitive paste can be easily set in a range required in the present invention.

【００９２】有機系染料は感光性ペーストの１成分とし
て混合してもよいが、染料溶液で無機微粒子を処理し
て、無機微粒子に有機染料膜を予めコートしてこれを添
加する方法も有効である。The organic dye may be mixed as one component of the photosensitive paste, but it is also effective to treat the inorganic fine particles with a dye solution, coat the inorganic fine particles with an organic dye film in advance, and add it. is there.

【００９３】感光性ペーストには、上記の成分の他に必
要に応じて、有機溶剤、増感剤、重合禁止剤、分散剤、
安定剤、増粘剤などを加えることができる。In the photosensitive paste, in addition to the above components, an organic solvent, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a dispersant,
Stabilizers, thickeners and the like can be added.

【００９４】また感光性ペーストは、有機溶媒により、
ガラス基板に塗布する時の粘度を塗布方法に応じて調整
することができる。この時使用される有機溶媒として
は、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、
シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアル
コール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなど
やこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が
用いられる。Further, the photosensitive paste is prepared by using an organic solvent.
The viscosity at the time of coating on the glass substrate can be adjusted according to the coating method. Organic solvents used at this time include methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl ethyl ketone, dioxane, acetone,
Cyclohexanone, cyclopentanone, isobutyl alcohol, isopropyl alcohol, tetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, and the like, and an organic solvent mixture containing at least one of these are used.

【００９５】ペースト粘度は無機微粒子、感光性有機成
分、有機溶媒、その他の添加剤などの添加割合で調整さ
れるが、その範囲は１万〜２０万ｃｐｓ(センチ・ポイ
ズ）である。例えば、ガラス基板への塗布をスクリーン
印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには５
万〜２０万ｃｐｓが好ましい。ブレードコーター法やダ
イコーター法などを用いる場合は１万〜２万ｃｐｓが好
ましい。The viscosity of the paste is adjusted by the addition ratio of inorganic fine particles, photosensitive organic components, organic solvents, and other additives, and the range is from 10,000 to 200,000 cps (centipoise). For example, in order to obtain a film thickness of 10 to 20 μm by applying once to a glass substrate by a screen printing method, 5
10,000 to 200,000 cps is preferable. When using a blade coater method, a die coater method or the like, 10,000 to 20,000 cps is preferable.

【００９６】本発明の感光性ペーストは、例えば、無機
微粒子、感光性モノマ、感光性オリゴマもしくはポリ
マ、光重合開始剤、紫外線吸収剤、その他の添加剤およ
び溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合し
た後、3本ローラや混練機で均質に混合分散し作製する
ことができる。The photosensitive paste of the present invention comprises various components such as inorganic fine particles, photosensitive monomers, photosensitive oligomers or polymers, photopolymerization initiators, ultraviolet absorbers, other additives and solvents having a predetermined composition. After mixing, the mixture can be homogeneously mixed and dispersed using a three-roller or a kneading machine.

【００９７】本発明の目的とする黒色を呈する隔壁は、
隔壁パターン形成用感光性ペースト中の無機微粒子のサ
イズ・形状・粒度分布・含有量、黒色顔料の種類・添加
量・添加方法、感光性有機成分中に含有される感光性モ
ノマやポリマの種類・含有量および添加剤成分の種類・
量などをバランスよく厳密に制御することによって得ら
れるものである。焼成時の有機成分の蒸発性（脱バイン
ダー性）、焼成収縮率が形成された隔壁の性状に微妙な
影響を与えるので、無機微粒子、黒色顔料および有機成
分を選択し、焼成条件を選ぶ必要がある。The partition wall exhibiting black color, which is the object of the present invention, comprises:
Size, shape, particle size distribution and content of inorganic fine particles in the photosensitive paste for partition wall pattern formation, type, amount and method of addition of black pigment, type of photosensitive monomer and polymer contained in photosensitive organic component Content and type of additive component
It is obtained by strictly controlling the amount and the like in a well-balanced manner. It is necessary to select inorganic fine particles, black pigments and organic components, and to select the firing conditions, since the evaporating property of organic components (binder removal property) during firing and the firing shrinkage rate have a subtle effect on the properties of the formed partition walls. is there.

【００９８】本発明の感光性ペーストは、ＰＤＰやプラ
ズマアドレス液晶ディスプレイにおけるパターン形成用
として好ましく用いることができる。The photosensitive paste of the present invention can be preferably used for forming a pattern in a PDP or a plasma addressed liquid crystal display.

【００９９】次に本発明のＰＤＰの製造方法について説
明する。Next, a method of manufacturing the PDP of the present invention will be described.

【０１００】本発明のＰＤＰの製造方法は、焼成前のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜８０であり、焼成
後の刺激値Ｙが５〜３０である無機微粒子と、感光性有
機成分を含有する感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥
することにより、ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０
〜６０の塗布膜を形成した後、フォトリソグラフィ法で
パターニングし、該パターンを焼成してＸＹＺ表色系に
おける刺激値Ｙが２〜２０の隔壁を形成することを特徴
とするものである。The method for producing a PDP of the present invention is characterized in that X
Applying and drying a photosensitive paste containing an inorganic fine particle having a stimulus value Y of 20 to 80 in the YZ color system and a stimulus value Y of 5 to 30 after firing and a photosensitive organic component on a substrate. Stimulus value Y in the XYZ color system is 20
After forming ~ 60 coating films, patterning is performed by photolithography, and the pattern is baked to form partitions having a stimulus value Y of 2 to 20 in the XYZ color system.

【０１０１】すなわち、上記した感光性ペーストを基板
上に塗布・乾燥した後、フォトリソグラフィ法でパター
ニングし、該パターンを焼成し隔壁を形成するＰＤＰの
製造方法である。That is, this is a method of manufacturing a PDP in which the above-mentioned photosensitive paste is applied on a substrate, dried, patterned by photolithography, and the pattern is baked to form a partition.

【０１０２】感光性ペーストを用いた隔壁パターン形成
と焼成による隔壁形成は次のように行われる。先ず、ガ
ラス基板に感光性ペーストを塗布する。塗布方法として
は、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコータ
ー法、スリットダイ法、ドクターブレード法など一般的
な方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、
スクリーン印刷のスクリーンメッシュ、ペーストの粘度
を選ぶことによって調整できる。The partition pattern formation using the photosensitive paste and the partition formation by baking are performed as follows. First, a photosensitive paste is applied to a glass substrate. As a coating method, a general method such as a screen printing method, a bar coater method, a roll coater method, a slit die method, and a doctor blade method can be used. The coating thickness is the number of coatings,
It can be adjusted by selecting the screen mesh for screen printing and the viscosity of the paste.

【０１０３】感光性ペーストを必要に応じて表面処理し
たガラス基板上または誘電体層を形成した上に塗布した
後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォト
リソグラフィ技術で行われるように、フォトマスクを介
して行われる。この際にフォトマスクを感光性ペースト
の塗布膜表面に密着する方法あるいは一定の間隔をあけ
て行うプロキシミティー露光法のいずれを用いてもよ
い。露光に使用される活性光線は、紫外線が最も好まし
く、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀
灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用される。
超高圧水銀灯を光源とした平行光線を用いプロキシミテ
ィー露光機を用いるのが一般的である。露光条件は感光
性ペーストの塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍ
Ｗ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて０．５〜３０
分間露光を行う。The photosensitive paste is applied on a surface-treated glass substrate or on a dielectric layer formed as required, and then exposed using an exposure apparatus. The exposure is performed through a photomask, as in the case of ordinary photolithography technology. At this time, either a method in which a photomask is adhered to the surface of the coating film of the photosensitive paste or a proximity exposure method in which a photomask is provided at a predetermined interval may be used. The actinic rays used for the exposure are most preferably ultraviolet rays. As the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp and the like are used.
It is common to use a proximity exposure machine using parallel light beams with an ultra-high pressure mercury lamp as a light source. Exposure conditions vary depending on the applied thickness of the photosensitive paste,
Using an ultra-high pressure mercury lamp with an output of W / cm 2 , 0.5 to 30
Exposure for a minute.

【０１０４】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。現像
液には、感光性ペースト中の有機成分、特に感光性オリ
ゴマもしくはポリマが溶解可能な溶液を用いる。カルボ
キシル基を側鎖に有する感光性オリゴマもしくはポリマ
を選択することによりアルカリ水溶液での現像が可能に
なる。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウム、炭酸
ナトリウム、水酸化カルシウムの水溶液などが使用でき
るが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカ
リ成分を除去し易いので好ましい。有機アルカリとして
は、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体
的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、ト
リメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエ
タノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられ
る。アルカリ水溶液の濃度は０．０５〜５重量％が好ま
しく、より好ましくは０．１〜１重量％である。アルカ
リ濃度が低すぎれば可溶部が完全に除去されず、アルカ
リ濃度が高すぎれば、露光部のパターンを剥離させた
り、侵食したりするおそれがある。現像時の温度は、２
０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。After exposure, development is carried out by utilizing the difference in solubility between the exposed part and the unexposed part in the developing solution.
An immersion method, a spray method, a brush method, or the like is used. As a developer, a solution in which an organic component in a photosensitive paste, particularly a photosensitive oligomer or polymer can be dissolved is used. By selecting a photosensitive oligomer or polymer having a carboxyl group in the side chain, development with an aqueous alkali solution becomes possible. As the alkaline aqueous solution, an aqueous solution of sodium hydroxide, sodium carbonate, calcium hydroxide, or the like can be used, but it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution because the alkaline component can be easily removed at the time of firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, diethanolamine and the like. The concentration of the aqueous alkali solution is preferably 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 1% by weight. If the alkali concentration is too low, the soluble portion will not be completely removed, and if the alkali concentration is too high, the pattern in the exposed portion may be peeled off or eroded. The temperature during development is 2
Performing at 0 to 50 ° C. is preferable in terms of process control.

【０１０５】感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の
工程を経て形成された隔壁パターンは次に焼成炉で焼成
されて、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機微粒
子成分中のガラス粉末を溶融させて無機質の隔壁を形成
する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によ
って異なるが、通常は、空気中で焼成される。焼成炉と
しては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を
用いることができる。The partition pattern formed from the coating film of the photosensitive paste through the exposure and development steps is then fired in a firing furnace to thermally decompose and remove organic components, and at the same time, to remove the glass powder in the inorganic fine particle components. Is melted to form inorganic partition walls. The firing atmosphere and temperature vary depending on the properties of the paste and the substrate, but are usually fired in air. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used.

【０１０６】バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パタ
ーンが形成されたガラス基板を室温から５００℃程度ま
で数時間掛けてほぼ等速で昇温した後、焼成温度として
設定された５６０〜５８０℃に３０〜４０分間で上昇さ
せて、１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼成温度は
用いるガラス基板のガラス転移点より低くなければなら
ないので自ずから上限が存在する。焼成温度が高すぎた
り、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状にダレなど
の欠陥が発生する。また、有機成分に含まれる感光性モ
ノマ、感光性オリゴマもしくはポリマ、種々の添加剤の
熱分解特性とガラス粉末成分の熱特性が不釣り合いにな
ると、隔壁が褐色に着色したり、隔壁が基板から剥がれ
たりする欠陥が発生する。In order to perform batch-type baking, the temperature of the glass substrate on which the partition wall pattern is formed is usually raised from room temperature to about 500 ° C. at a substantially constant speed over several hours, and then set at 560 to 580 set as the baking temperature. The temperature is raised to 30 ° C. for 30 to 40 minutes and held for 15 to 30 minutes for baking. Since the firing temperature must be lower than the glass transition point of the glass substrate used, there is naturally an upper limit. If the firing temperature is too high or the firing time is too long, defects such as sagging occur in the shape of the partition walls. When the thermal decomposition characteristics of the photosensitive monomer, photosensitive oligomer or polymer, and various additives contained in the organic component and the thermal characteristics of the glass powder component become unbalanced, the partition walls may be colored brown or the partition walls may be separated from the substrate. Defects such as peeling occur.

【０１０７】本発明のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが
２０〜８０の無機微粒子を配合成分とした感光性ペース
トを用いて、上記の隔壁パターン形成および焼成工程を
経て形成された隔壁は、ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ
が２〜２０であり、さらに色度座標ｘ、ｙがそれぞれ
０．３〜０．３６を示す。The partition formed by the above-described partition pattern formation and baking step using a photosensitive paste containing inorganic fine particles having a stimulus value Y of 20 to 80 in the XYZ color system of the present invention is XYZ. Stimulus value Y in color system
Is 2 to 20, and the chromaticity coordinates x and y are 0.3 to 0.36, respectively.

【０１０８】基板上に形成された隔壁の側面および隔壁
間の底部に蛍光体層を形成することによりＰＤＰ用基板
を得ることができ、別途作成された前面ガラス基板と封
着した後、放電ガスを封入し配線の実装を行うことによ
りＰＤＰは製造される。By forming a phosphor layer on the side surfaces of the partition walls formed on the substrate and on the bottom between the partition walls, a PDP substrate can be obtained. After sealing with a separately prepared front glass substrate, the discharge gas is discharged. The PDP is manufactured by encapsulating and mounting wiring.

【０１０９】このようにして得られたＰＤＰは、コント
ラストの優れた表示を可能にする。The PDP thus obtained enables display with excellent contrast.

【０１１０】[0110]

【実施例】以下に本発明を実施例を用いて具体的に説明
するが、これらに限定されるものではない。なお、濃度
（％）は特に断らない限り重量％である。EXAMPLES The present invention will be described below in more detail with reference to Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto. The concentration (%) is% by weight unless otherwise specified.

【０１１１】実施例１ ガラス粉末として組成（分析値）が、酸化リチウム８．
６％、酸化珪素２０．１％、酸化ホウ素３１％、酸化バ
リウム３．８％、酸化アルミニウム２０．６％、酸化亜
鉛２．１％、酸化マグネシウム５．９％、酸化カルシウ
ム４．２％のものを使用した。Example 1 The composition (analytical value) of glass powder was lithium oxide.
6%, silicon oxide 20.1%, boron oxide 31%, barium oxide 3.8%, aluminum oxide 20.6%, zinc oxide 2.1%, magnesium oxide 5.9%, calcium oxide 4.2% One used.

【０１１２】このガラス粉末のガラス転移点は４７２
℃、軟化点は５１５℃であった。ガラス粉末の平均粒径
は２．２μｍ、平均屈折率は１．５９であった。The glass transition point of this glass powder was 472.
° C and softening point were 515 ° C. The average particle size of the glass powder was 2.2 μm, and the average refractive index was 1.59.

【０１１３】フィラーとして、酸化珪素３８．２％、酸
化ホウ素９．２％、酸化バリウム５．１％、酸化カルシ
ウム４．４％、酸化アルミニウム３４．５％、酸化チタ
ン２．１％、酸化マグネシウム４．８％からなり、ガラ
ス転移点６５２℃、軟化点７４６℃の高融点ガラスを用
いた。この高融点ガラスの平均粒径は２．５μｍ、最大
粒子径は１０．０μｍであり、屈折率は１．５８であっ
た。As a filler, 38.2% of silicon oxide, 9.2% of boron oxide, 5.1% of barium oxide, 4.4% of calcium oxide, 34.5% of aluminum oxide, 2.1% of titanium oxide, magnesium oxide High melting point glass having a glass transition point of 652 ° C. and a softening point of 746 ° C. was used. The average particle size of the high melting point glass was 2.5 μm, the maximum particle size was 10.0 μm, and the refractive index was 1.58.

【０１１４】無機微粒子として、ガラス粉末７０％とフ
ィラー成分の高融点ガラス３０％の混合物に対して、三
二酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロム（III）の混合粉
末を合計で１０％混合して用いた。これら黒色顔料成分
の混合割合は、重量比で４：３：３であった。このよう
な配合をした無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値
Ｙはカラーコンピューターによる測定で４５であった。
また焼成後の粉末のＹ値は、１０であった。As the inorganic fine particles, a mixture of 70% of glass powder and 30% of high melting point glass as a filler component is mixed with a total of 10% of a mixed powder of iron sesquioxide, cobalt oxide and chromium (III) oxide. Was. The mixing ratio of these black pigment components was 4: 3: 3 by weight. The stimulus value Y in the XYZ color system of the inorganic fine particles thus mixed was 45 as measured by a color computer.
The Y value of the powder after firing was 10.

【０１１５】ガラス粉末、フィラー成分としての高融点
ガラスおよび黒色顔料粉末からなる無機微粒子に対して
０．１５％のアゾ系染料スダンIV（東京化成工業（株）
製）をアセトンに溶解し、分散剤を加えてホモジナイザ
ーで均質に撹拌し、この溶液に無機微粒子を添加して均
質に分散・混合後、ロータリーエバポレーターを用いて
１５０〜２００℃の温度で乾燥し、アセトンを蒸発させ
た。0.15% of an azo dye Sudan IV (Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) with respect to inorganic fine particles composed of glass powder, high melting point glass as a filler component and black pigment powder.
Was dissolved in acetone, a dispersing agent was added thereto, and the mixture was homogeneously stirred with a homogenizer, inorganic fine particles were added to the solution, and the mixture was uniformly dispersed and mixed, and then dried at a temperature of 150 to 200 ° C. using a rotary evaporator. The acetone was evaporated.

【０１１６】一方、溶媒（γ-ブチロラクトン）中の感
光性ポリマ（Ｘ−４００７）を４０％溶液になるように
混合し、撹拌しながら６０℃まで加熱し全てのポリマを
均質に溶解した。ついで溶液を室温まで冷却し、このポ
リマ溶液５５％に、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）２５
％、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）６％、安定剤（１，
２，３−ベンゾトリアゾール）４％、分散剤（ノプコス
パース０９２：サンノプコ社製）１％および重合禁止剤
（ＨＱＭＥ）０．１４％を加えて溶解させた。その後、
この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過
し、有機ビヒクルを作製した。On the other hand, the photosensitive polymer (X-4007) in the solvent (γ-butyrolactone) was mixed so as to form a 40% solution, and heated to 60 ° C. with stirring to dissolve all the polymers homogeneously. The solution was then cooled to room temperature, and 55% of this polymer solution was added to 25% of photosensitive monomer (MGP400).
%, Photopolymerization initiator (IC-369) 6%, stabilizer (1,
4% of 2,3-benzotriazole), 1% of a dispersant (Nopcospars 092, manufactured by San Nopco) and 0.14% of a polymerization inhibitor (HQME) were added and dissolved. afterwards,
This solution was filtered using a 400 mesh filter to produce an organic vehicle.

【０１１７】得られた有機ビヒクル６５重量部に対して
上記のようにガラス粉末、フィラー成分および黒色顔料
を含有する無機微粒子７０重量部を３本ローラで混合・
分散して、感光性ペーストを調製した。70 parts by weight of the inorganic fine particles containing the glass powder, the filler component and the black pigment were mixed with 65 parts by weight of the obtained organic vehicle by using three rollers.
By dispersing, a photosensitive paste was prepared.

【０１１８】この感光性ペーストを１００ｍｍ角ガラス
基板上に３２５メッシュのスクリーンを用いたスクリー
ン印刷により均一に塗布した乾燥厚み５０μｍの塗布膜
を作製し、全光線透過率、全反射率、正規反射率および
ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙの測定を行った。それぞ
れの測定結果は次の通りであった。This photosensitive paste was uniformly applied on a 100 mm square glass substrate by screen printing using a 325 mesh screen to form a coating film having a dry thickness of 50 μm. The total light transmittance, total reflectance, and regular reflectance were obtained. And the stimulus value Y in the XYZ color system was measured. The results of each measurement were as follows.

【０１１９】 全光線透過率 ３５％ 正規透過率 ３０％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ２０％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ４０ この感光性ペーストをスクリーン印刷法により複数回均
一に塗布して隔壁パターン形成のための乾燥厚み１７０
μｍの塗布膜を作製した。塗布膜のピンホールなどの発
生を回避するため塗布する度に８０℃、１０分の乾燥を
繰り返し、最終的には８０℃、９０分間の乾燥を行っ
た。Total light transmittance 35% Regular transmittance 30% Total reflectance 8% Regular reflectance 20% Stimulation value Y 40 in XYZ color system This photosensitive paste is uniformly applied a plurality of times by a screen printing method to form partitions. Dry thickness 170 for pattern formation
A coating film of μm was produced. Drying was repeated at 80 ° C. for 10 minutes each time the coating was performed in order to avoid occurrence of pinholes and the like in the coating film, and finally, drying was performed at 80 ° C. for 90 minutes.

【０１２０】この塗布膜に、ストライプ状でピッチ１５
０μｍ、線幅２０μｍのパターンを有するネガ型クロム
マスクを１００μｍの間隔をおいて配置し、２０ｍＷ／
ｃｍ2出力の超高圧水銀灯で紫外線露光を行った。露光
量は０．５Ｊ／ｃｍ2であった。The coating film is formed in a stripe pattern with a pitch of 15
A negative chrome mask having a pattern of 0 μm and a line width of 20 μm is arranged at an interval of 100 μm,
Ultraviolet exposure was performed using an ultra-high pressure mercury lamp with a cm 2 output. The exposure amount was 0.5 J / cm 2 .

【０１２１】次に、３５℃に保持したモノエタノールア
ミンの０．２％の水溶液をシャワーで９０秒間かけるこ
とにより現像し、その後、シャワースプレーを用いて水
洗し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス
基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。Next, a 0.2% aqueous solution of monoethanolamine kept at 35 ° C. was developed by applying a shower for 90 seconds, and then washed with water using a shower spray. After removal, a stripe-shaped partition pattern was formed on the glass substrate.

【０１２２】このようにして得られた隔壁パターンを空
気中で５６０℃、３０分間焼成したところ黒色隔壁が形
成できた。形成された隔壁の断面形状を電子顕微鏡で観
察したところ、高さ１２０μｍ、隔壁頂部の線幅３０μ
ｍ、ピッチ１５０μｍであった。さきに、感光性ペース
ト塗布膜の特性を測定するために用いたベタ膜を焼成し
た試料を用いて測定した隔壁層のＸＹＺ表色系における
刺激値Ｙは５．５であった。When the partition pattern thus obtained was baked in air at 560 ° C. for 30 minutes, black partition walls were formed. When the cross-sectional shape of the formed partition wall was observed with an electron microscope, the height was 120 μm and the line width at the top of the partition wall was 30 μm.
m, and the pitch was 150 μm. The stimulus value Y in the XYZ color system of the partition layer measured using a sample obtained by firing the solid film used for measuring the characteristics of the photosensitive paste coating film was 5.5.

【０１２３】電極、誘電体層および黒色隔壁が形成され
た基板上の隔壁間に、蛍光体層を塗布し、前面板と合わ
せて封着し、ガス封入し駆動回路を接続してプラズマデ
ィスプレイを作製した。このパネルに電圧を印加して表
示を行った。全面点灯時の輝度と消灯時の反射率からコ
ントラスト比を測定した。コントラスト比は測光機ＭＣ
ＰＤ−２００（大塚電子社製）を用いて測定した。コン
トラスト比は２００：１と優れたものであった。A phosphor layer is applied between the electrodes, the dielectric layer and the partition walls on which the black partition walls are formed, sealed together with the front plate, sealed with gas, and connected to a drive circuit to form a plasma display. Produced. Display was performed by applying a voltage to this panel. The contrast ratio was measured from the luminance when the entire surface was turned on and the reflectance when the light was turned off. Contrast ratio is photometer MC
It measured using PD-200 (made by Otsuka Electronics Co., Ltd.). The contrast ratio was as excellent as 200: 1.

【０１２４】実施例２ 実施例１を繰り返すが、用いる紫外線吸収剤をベンゾフ
ェノン系化合物２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンと
し、無機微粒子に対して０．１２％を用いた。この場合
の感光性ペーストの全光線透過率、全反射率、正規反射
率およびＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは次の通りであ
った。Example 2 Example 1 was repeated, except that the ultraviolet absorber used was a benzophenone-based compound 2,4-dihydroxybenzophenone, and 0.12% of the inorganic fine particles was used. In this case, the total light transmittance, the total reflectance, the regular reflectance, and the stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste were as follows.

【０１２５】 全光線透過率 ４２％ 正規透過率 ３０％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ２６％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ３５ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１２であった。Total light transmittance 42% Regular transmittance 30% Total reflectance 8% Regular reflectance 26% Stimulation value Y 35 in XYZ color system Example 35 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 12.

【０１２６】実施例３ 実施例１を繰り返すが、フィラー成分として高融点ガラ
スの代わりにコーディエライト（平均粒径２μｍ、屈折
率１．５６）を用いた。この場合の無機微粒子のＸＹＺ
表色系における刺激値Ｙは５０であった。また、焼成後
の粉末のＹ値は、２５であった。Example 3 Example 1 was repeated, except that cordierite (average particle diameter 2 μm, refractive index 1.56) was used as a filler component instead of high melting point glass. XYZ of inorganic fine particles in this case
The stimulus value Y in the color system was 50. The Y value of the fired powder was 25.

【０１２７】この無機微粒子を実施例１と同様にして感
光性ペーストに適用した時得られたペーストの全光線透
過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色系におけ
る刺激値Ｙは次の通りであった。When the inorganic fine particles were applied to the photosensitive paste in the same manner as in Example 1, the total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system of the paste obtained were as follows. It was right.

【０１２８】 全光線透過率 ４５％ 正規透過率 ３２％ 全反射率 ７．５％ 正規反射率 ２８％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ３０ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１８であった。Total light transmittance 45% Regular transmittance 32% Total reflectance 7.5% Regular reflectance 28% Stimulation value Y 30 in XYZ color system Performed using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as in Example 1. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 18.

【０１２９】実施例４ 酸化物換算組成で、酸化リチウム６．４％、酸化珪素１
５％、酸化ホウ素３６％、酸化アルミニウム２０％、酸
化バリウム３．９％、酸化マグネシウム３．９％、酸化
カルシウム３．４％、酸化亜鉛８．１％の組成を有し、
ガラス転移点４７７℃、軟化点５２１℃のガラス粉末の
作成段階で、酸化物換算重量比で４：３：３の割合で三
二酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロム（III）を合計１
５％となるように溶融混合して、黒色顔料成分を含有し
たガラス粉末を作成した。このガラス粉末８０重量部に
フィラーとしてアルミナ（平均粒径２．５μｍ、屈折率
１．７７）２０重量部を混合して、無機微粒子を得た。
無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは３０であ
った。また、焼成後の粉末のＹ値は、２０であった。Example 4 In terms of oxide composition, lithium oxide 6.4%, silicon oxide 1
5%, 36% of boron oxide, 20% of aluminum oxide, 3.9% of barium oxide, 3.9% of magnesium oxide, 3.4% of calcium oxide, 8.1% of zinc oxide,
At the stage of preparing a glass powder having a glass transition point of 477 ° C. and a softening point of 521 ° C., iron sesquioxide, cobalt oxide and chromium (III) were added in a ratio of 4: 3: 3 in terms of oxide weight in total of 1
The mixture was melt-mixed so as to have a concentration of 5% to prepare a glass powder containing a black pigment component. 20 parts by weight of alumina (average particle size 2.5 μm, refractive index 1.77) as a filler was mixed with 80 parts by weight of this glass powder to obtain inorganic fine particles.
The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system was 30. Further, the Y value of the powder after firing was 20.

【０１３０】この無機微粒子を用いて、実施例１と同様
にして感光性ペーストを作製した。但し、紫外線吸収剤
としてＵｖｉｎｕｌ３０３９（ＢＡＳＦジャパン社製）
０．５％とベーシックブルー７ ０．０５％（いずれも
無機微粒子に対して）を使用し、これらは有機成分とし
て感光性ペーストに混合して用いた。この感光性ペース
トについて測定された全光線透過率、全反射率、正規反
射率およびＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは次の通りで
あった。Using the inorganic fine particles, a photosensitive paste was produced in the same manner as in Example 1. However, Uvinul 3039 (manufactured by BASF Japan) as an ultraviolet absorber
0.5% and 0.05% of Basic Blue 7 (all with respect to inorganic fine particles) were used, and these were mixed and used as an organic component in a photosensitive paste. The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system measured for this photosensitive paste were as follows.

【０１３１】 全光線透過率 ６０％ 正規透過率 ４５％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ３２％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ４２ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１５であった。Total light transmittance 60% Regular transmittance 45% Total reflectance 8% Regular reflectance 32% Stimulation value Y 42 in XYZ color system Example 42 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 15.

【０１３２】実施例５ 実施例４において無機微粒子として、黒色顔料成分を含
有するガラス粉末とフィラー成分との混合比率をそれぞ
れ８５重量部と１５重量部として、実施例４を繰り返し
た。無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは３８
であった。また焼成後の粉末のＹ値は、１８であった。
この無機微粒子を用いた感光性ペーストの全光線透過
率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色系における
刺激値Ｙは次の通りであった。Example 5 Example 4 was repeated, except that the mixing ratio between the glass powder containing the black pigment component and the filler component was 85 parts by weight and 15 parts by weight, respectively, as the inorganic fine particles. The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system is 38.
Met. The Y value of the fired powder was 18.
The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste using the inorganic fine particles were as follows.

【０１３３】 全光線透過率 ５５％ 正規透過率 ６０％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ２５％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ３２ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１２であった。Total light transmittance 55% Regular transmittance 60% Total reflectance 8% Regular reflectance 25% Stimulation value Y 32 in XYZ color system Example 32 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 12.

【０１３４】実施例６ 実施例４において無機微粒子として、黒色顔料成分を含
有するガラス粉末とフィラー成分との混合比率をそれぞ
れ６５重量部と３５重量部として、実施例４を繰り返し
た。無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは５０
であった。また、焼成後の粉末のＹ値は、１４であっ
た。Example 6 Example 4 was repeated, except that the mixing ratio of the glass powder containing the black pigment component and the filler component as inorganic fine particles was 65 parts by weight and 35 parts by weight, respectively. The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system is 50.
Met. The Y value of the fired powder was 14.

【０１３５】この無機微粒子を用いた感光性ペーストの
全光線透過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙは次の通りであった。The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste using the inorganic fine particles were as follows.

【０１３６】 全光線透過率 ６５％ 正規透過率 ５５％ 全反射率 ７％ 正規反射率 ５５％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ２４ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは８であった。Total light transmittance 65% Regular transmittance 55% Total reflectance 7% Regular reflectance 55% Stimulation value Y 24 in XYZ color system Example 24 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 8.

【０１３７】実施例７ 実施例４において、黒色顔料成分を含有量を合計で１０
％となるように溶融混合したガラス粉末を作製して、そ
れを使用する以外は実施例４を繰り返した。無機微粒子
のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは６０であった。ま
た、焼成後の粉末のＹ値は、２０であった。Example 7 In Example 4, the content of the black pigment component was changed to 10 in total.
%, And Example 4 was repeated, except that a glass powder melt-mixed so as to be in% was prepared and used. The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system was 60. Further, the Y value of the powder after firing was 20.

【０１３８】この無機微粒子を用いた感光性ペーストの
全光線透過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙは次の通りであった。The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste using the inorganic fine particles were as follows.

【０１３９】 全光線透過率 ６５％ 正規透過率 ５０％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ４２％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ５５ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１３であった。Total light transmittance 65% Regular transmittance 50% Total reflectance 8% Regular reflectance 42% Stimulation value Y 55 in XYZ color system Example 55 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 13.

【０１４０】実施例８ 実施例１において、加える黒色顔料として酸化ニッケル
と酸化コバルト（酸化物換算重量比１：１）とを合計で
１０重量％用いる以外は実施例１を繰り返した。Example 8 Example 1 was repeated, except that a total of 10% by weight of nickel oxide and cobalt oxide (weight ratio in terms of oxide: 1: 1) was used as the black pigment to be added.

【０１４１】無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値
Ｙは３１であった。また焼成後の粉末のＹ値は、１５で
あった。The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system was 31. The Y value of the powder after firing was 15.

【０１４２】この無機微粒子を用いた感光性ペーストの
全光線透過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙは次の通りであった。The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance and stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste using the inorganic fine particles were as follows.

【０１４３】 全光線透過率 ５５％ 正規透過率 ３５％ 全反射率 ６．５％ 正規反射率 ２５％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ２８ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは１０であった。Total light transmittance 55% Regular transmittance 35% Total reflectance 6.5% Regular reflectance 25% Stimulation value Y 28 in XYZ color system Performed using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as in Example 1. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 10.

【０１４４】実施例９ ガラス粉末として、酸化リチウム６．７％、酸化珪素２
２％、酸化ホウ素３２％、酸化アルミニウム１９％、酸
化バリウム３．９％、酸化マグネシウム５．５％、酸化
カルシウム４．１％、酸化亜鉛５．５％の組成を有し、
ガラス転移点４９７℃、軟化点５３０℃のガラス粉末の
作成段階で、酸化物換算重量比で４：３：３の割合で三
二酸化鉄、酸化コバルト、酸化クロム（III）を合計１
５％となるように溶融混合して、黒色顔料成分を含有し
たガラス粉末を作成した。このガラス粉末８０重量部に
フィラーとしてアルミナ（平均粒径２．５μｍ、屈折率
１．７７）２０重量部を混合して、無機微粒子を得た。
無機微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは３０であ
った。焼成後の粉末のＹ値は、１２であった。Example 9 As a glass powder, 6.7% of lithium oxide, silicon oxide 2
It has a composition of 2%, boron oxide 32%, aluminum oxide 19%, barium oxide 3.9%, magnesium oxide 5.5%, calcium oxide 4.1%, zinc oxide 5.5%,
At the stage of preparing a glass powder having a glass transition point of 497 ° C. and a softening point of 530 ° C., iron sesquioxide, cobalt oxide and chromium (III) were added in a weight ratio of 4: 3: 3 in terms of oxide, for a total of 1
The mixture was melt-mixed so as to have a concentration of 5% to prepare a glass powder containing a black pigment component. 20 parts by weight of alumina (average particle size 2.5 μm, refractive index 1.77) as a filler was mixed with 80 parts by weight of this glass powder to obtain inorganic fine particles.
The stimulus value Y of the inorganic fine particles in the XYZ color system was 30. The Y value of the fired powder was 12.

【０１４５】実施例４と同様にして感光性ペーストを作
製した。感光性ペーストの全光線透過率、全反射率、正
規反射率およびＸＹＺ表色系における刺激値Ｙは次の通
りであった。In the same manner as in Example 4, a photosensitive paste was prepared. The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system of the photosensitive paste were as follows.

【０１４６】 全光線透過率 ５５％ 正規透過率 ４５％ 全反射率 ７％ 正規反射率 ３３％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ２６ この様な特性を有する感光性ペースト塗布膜を用いて実
施例１と同様にして隔壁を形成した。得られた隔壁のＸ
ＹＺ表色系における刺激値Ｙは７であった。Total light transmittance 55% Regular transmittance 45% Total reflectance 7% Regular reflectance 33% Stimulation value Y in XYZ color system Y 26 Example 1 using a photosensitive paste coating film having such characteristics. A partition was formed in the same manner as described above. X of the obtained partition wall
The stimulus value Y in the YZ color system was 7.

【０１４７】比較例１ 黒色顔料として、酸化ニッケルと酸化コバルト（酸化物
換算重量比２：１）とを合計で６％用いた以外は実施例
１と同じ実験を繰り返した。得られた無機微粒子のＸＹ
Ｚ表色系における刺激値Ｙは焼成前後で、それぞれ６
０、４０であった。Comparative Example 1 The same experiment as in Example 1 was repeated except that a total of 6% of nickel oxide and cobalt oxide (weight ratio in terms of oxide: 2: 1) was used as a black pigment. XY of the obtained inorganic fine particles
The stimulus value Y in the Z color system was 6 before and after firing.
0 and 40.

【０１４８】次に実施例１と同様に塗布膜を作製し、全
光線透過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色系
における刺激値Ｙの測定を行った。それぞれの測定結果
は次の通りであった。Next, a coating film was prepared in the same manner as in Example 1, and the total light transmittance, total reflectance, regular reflectance and stimulus value Y in the XYZ color system were measured. The results of each measurement were as follows.

【０１４９】 全光線透過率 ７５％ 正規透過率 ６０％ 全反射率 ７％ 正規反射率 ５２％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ５５ 次に、５６０℃で３０分間、焼成後のベタ膜のＸＹＺ表
色系における刺激値Ｙは３５であった。また、プラズマ
ディスプレイのコントラスト比を測定したところ、３
０：１と低いものであった。Total light transmittance 75% Regular transmittance 60% Total reflectance 7% Regular reflectance 52% Stimulation value Y 55 in XYZ color system Next, XYZ table of the solid film after firing at 560 ° C. for 30 minutes The stimulus value Y in the color system was 35. When the contrast ratio of the plasma display was measured,
It was as low as 0: 1.

【０１５０】比較例２ 黒色顔料として、酸化コバルト、酸化クロム（III ）、
三二酸化鉄（酸化物換算重量比２．７：３．３：５）を
合計で１１％混合したものを用いた。Comparative Example 2 As black pigments, cobalt oxide, chromium (III) oxide,
A mixture of iron sesquioxide (weight ratio in terms of oxide: 2.7: 3.3: 5) of 11% in total was used.

【０１５１】次に実施例１と同じように焼成前後の無機
微粒子のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙを測定したとこ
ろ、それぞれ１８、１１であった。Next, the stimulus value Y in the XYZ color system of the inorganic fine particles before and after firing was measured in the same manner as in Example 1, and was 18, 11 respectively.

【０１５２】次に、実施例１と同様に塗布膜を作製し、
全光線透過率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙの測定を行った。それぞれの測定結
果は次の通りであった。Next, a coating film was formed in the same manner as in Example 1,
The total light transmittance, total reflectance, regular reflectance, and stimulus value Y in the XYZ color system were measured. The results of each measurement were as follows.

【０１５３】 全光線透過率 １．５％ 正規透過率 ０．２％ 全反射率 ８％ 正規反射率 ０．４％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ １５ 次に、実施例１と同じように隔壁パターン形成を試みた
が、隔壁層下部まで光が届かず、光硬化しないため、現
像時に現像液に溶解した。このためパターン形成できな
かった。Total light transmittance 1.5% Regular transmittance 0.2% Total reflectance 8% Regular reflectance 0.4% Stimulation value Y 15 in XYZ color system An attempt was made to form a pattern. However, light did not reach the lower part of the partition layer and was not photocured. For this reason, a pattern could not be formed.

【０１５４】比較例３ 実施例９と同様のガラス組成物に、黒色顔料として、酸
化ニッケルと酸化コバルト（酸化物換算重量比１：１）
とを合計で２．５％となるようにして、実施例９と同様
に溶融混合して、黒色顔料成分を含有したガラス粉末を
作製した。焼成前後のガラス粉末のＸＹＺ表色系におけ
るＹ値は、それぞれ８５、４５であった。 次に、実施
例４と同様にして感光性ペーストを作製し、全光線透過
率、全反射率、正規反射率およびＸＹＺ表色系における
刺激値Ｙの測定を行った。それぞれの測定結果は次の通
りであった。Comparative Example 3 Nickel oxide and cobalt oxide (weight ratio in terms of oxide: 1: 1) were added to the same glass composition as in Example 9 as black pigments.
Were melt-mixed in the same manner as in Example 9 to produce a glass powder containing a black pigment component. The Y values of the glass powder before and after firing in the XYZ color system were 85 and 45, respectively. Next, a photosensitive paste was prepared in the same manner as in Example 4, and the total light transmittance, the total reflectance, the regular reflectance, and the stimulus value Y in the XYZ color system were measured. The results of each measurement were as follows.

【０１５５】 全光線透過率 ７０％ 正規透過率 ６５％ 全反射率 １０％ 正規反射率 ５５％ ＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ ７０ 次に、５６０℃で３０分間、焼成後のベタ膜のＸＹＺ表
色系における刺激値Ｙは３０であった。また、プラズマ
ディスプレイのコントラスト比を測定したところ、４
０：１と低いものであった。Total light transmittance 70% Regular transmittance 65% Total reflectance 10% Regular reflectance 55% Stimulation value Y 70 in XYZ color system Next, XYZ table of the solid film after firing at 560 ° C. for 30 minutes The stimulus value Y in the color system was 30. When the contrast ratio of the plasma display was measured,
It was as low as 0: 1.

【０１５６】略記号の説明： Ｘ−４００７：４０％メタクリル酸、３０％メチルメタ
クリレート、３０％スチレンからなる共重合体のカルボ
キシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレー
トを付加反応させた重量平均分子量４３，０００、酸価
９５の感光性ポリマ。Description of abbreviations: X-4007: weight average obtained by adding 0.4 equivalent of glycidyl methacrylate to a carboxyl group of a copolymer composed of 40% methacrylic acid, 30% methyl methacrylate, and 30% styrene. A photosensitive polymer having a molecular weight of 43,000 and an acid value of 95.

【０１５７】 ＭＧＰ４００：X2N-CH(CH3)-CH2-(OCH2CH(CH3))n-NＸ2 ここでX=-CH2CH(OH)-CH2O-CO-C(CH3)=CH2 n=２〜10 ＩＣ−３６９：Irgacure369（チバガイギー社製品） ２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ ＨＱＭＥ：ハイドロキノンモノメチルエーテルMGP400: X 2 N-CH (CH 3 ) -CH 2- (OCH 2 CH (CH 3 )) n-NX 2 where X = -CH 2 CH (OH) -CH 2 O-CO-C (CH 3 ) = CH 2 n = 2-10 IC-369: Irgacure 369 (product of Ciba Geigy) 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butanone-1 HQME: hydroquinone monomethyl ether

【０１５８】[0158]

【発明の効果】本発明の無機微粒子は、感光性ペースト
用の無機微粒子であって、焼成前のＸＹＺ表色系におけ
る刺激値Ｙが２０〜８０であり、かつ、焼成後の刺激値
Ｙが５〜３０である。また、該無機微粒子と感光性有機
成分とで構成される感光性ペーストは、厚み５０μｍの
塗布膜を形成した場合のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ
が２０〜６０であり、かつ、該塗布膜を焼成した後の刺
激値Ｙが２〜２０となる。このため、ペースト塗布膜の
状態では光透過性や塗膜表面の反射率に優れ、露光工程
を繰り返すことなく良好なパターンが形成できる。また
隔壁パターンを焼成すると、黒色の隔壁を形成すること
ができる。このため高アスペクト比、高精細の隔壁形成
が可能なフォトリソグラフィ技術により、コントラスト
の向上したＰＤＰを容易に製造できる。The inorganic fine particles of the present invention are inorganic fine particles for a photosensitive paste, and have a stimulus value Y of 20 to 80 in an XYZ color system before firing and a stimulus value Y after firing. 5 to 30. The photosensitive paste composed of the inorganic fine particles and the photosensitive organic component has a stimulus value Y in the XYZ color system when a coating film having a thickness of 50 μm is formed.
Is 20 to 60, and the stimulus value Y after baking the coating film is 2 to 20. Therefore, in the state of the paste coating film, the light transmittance and the reflectivity of the coating film surface are excellent, and a good pattern can be formed without repeating the exposure process. When the partition pattern is fired, a black partition can be formed. For this reason, a PDP with improved contrast can be easily manufactured by a photolithography technique capable of forming a high aspect ratio and high definition partition wall.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｈ０１Ｊ 9/02 Ｆ ５Ｃ０４０ 11/02 11/02 Ｂ Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB17 AC01 AD01 BC31 BC51 CA00 CC02 CC08 FA03 FA17 FA29 2H089 HA36 JA11 KA01 QA12 4G059 AA01 AB07 AC08 CA01 CB09 4G062 AA08 AA09 AA10 AA15 BB05 DA04 DB04 DC04 DC05 DD01 DE01 DF01 EA03 EA04 EB01 EC01 ED01 EE01 EF01 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FC01 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH11 HH20 JJ01 JJ10 KK01 KK10 MM05 MM12 NN01 NN05 NN32 PP01 PP03 PP04 PP06 PP09 PP13 PP14 5C027 AA09 5C040 GB08 GF18 GF19 JA15 KA04 KA07 KA09 KA10 KA16 KB03 KB11 KB14 KB19 MA04 MA24──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 9/02 H01J 9/02 F 5C040 11/02 11/02 B F term (Reference) 2H025 AA00 AB17 AC01 AD01 BC31 BC51 CA00 CC02 CC08 FA03 FA17 FA29 2H089 HA36 JA11 KA01 QA12 4G059 AA01 AB07 AC08 CA01 CB09 4G062 AA08 AA09 AA10 AA15 BB05 DA04 DB04 DC04 DC05 DD01 DE01 DF01 EA03 EA04 EB01 EC01 EF01 FE01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 EF01 FE01 EF01 FE01 EF01 FE01 FE01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH11 HH20 JJ01 JJ10 KK01 KK10 MM05 MM12 NN01 NN05 NN32 PP01 PP03 PP04 PP06 PP09 PP13 PP14 5C027 AA09 5C040 GB08 GF18 GF19 JA15 KA04 KB10 KB11

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】感光性ペースト用の無機微粒子であって、
焼成前のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜８０で
あり、かつ、焼成後の刺激値Ｙが５〜３０であることを
特徴とする無機微粒子。An inorganic fine particle for a photosensitive paste,
Inorganic fine particles, wherein the stimulus value Y in the XYZ color system before firing is 20 to 80, and the stimulus value Y after firing is 5 to 30. 【請求項２】黒色顔料を含有することを特徴とする請求
項１に記載の無機微粒子。2. The inorganic fine particles according to claim 1, further comprising a black pigment. 【請求項３】前記黒色顔料が、Ｒｕ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃ
ｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｔｉの金属もしくはそれらの酸化物か
ら選ばれた少なくとも一種であり、合計で３〜２０重量
％含有されることを特徴とする請求項１または２に記載
の無機微粒子。3. The method according to claim 1, wherein the black pigment is Ru, Mn, Ni, C
The inorganic fine particles according to claim 1 or 2, wherein the inorganic fine particles are at least one selected from metals of r, Fe, Co, and Ti or oxides thereof, and are contained in a total amount of 3 to 20% by weight. 【請求項４】主成分がガラス粉末であり、該ガラス粉末
の平均屈折率が１．５〜１．７であることを特徴とする
請求項１〜３いずれか１項に記載の無機微粒子。4. The inorganic fine particles according to claim 1, wherein the main component is glass powder, and the glass powder has an average refractive index of 1.5 to 1.7. 【請求項５】前記ガラス粉末が、ガラス転移点４５０〜
５５０℃、軟化点５００〜６００℃であることを特徴と
する請求項４に記載の無機微粒子。5. The method according to claim 1, wherein the glass powder has a glass transition point of 450 to 450.
The inorganic fine particles according to claim 4, wherein the inorganic fine particles have a softening point of 550 ° C and a softening point of 500 to 600 ° C. 【請求項６】前記ガラス粉末が、酸化物換算表記で以下
の組成からなることを特徴とする請求項４または５に記
載の無機微粒子。 酸化リチウム ： ３〜１５重量％ 酸化珪素 ：１０〜３０重量％ 酸化硼素 ：２０〜４０重量％ 酸化バリウム ： ２〜１５重量％ 酸化アルミニウム ：１０〜２５重量％6. The inorganic fine particles according to claim 4, wherein the glass powder has the following composition in terms of oxide. Lithium oxide: 3 to 15% by weight Silicon oxide: 10 to 30% by weight Boron oxide: 20 to 40% by weight Barium oxide: 2 to 15% by weight Aluminum oxide: 10 to 25% by weight 【請求項７】ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５
００〜６００℃であるガラス粉末を５０〜９０重量％、
フィラーを１０〜５０重量％含有することを特徴とする
請求項１〜６いずれか１項に記載の無機微粒子。7. A glass transition point of 450 to 550 ° C. and a softening point of 5.
50 to 90% by weight of a glass powder having a temperature of 00 to 600 ° C,
The inorganic fine particles according to any one of claims 1 to 6, further comprising a filler in an amount of 10 to 50% by weight. 【請求項８】前記フィラーが、酸化チタン、アルミナ、
チタン酸バリウム、ジルコニア、コーディエライト、ム
ライト、高融点ガラス粉末からなる群から選ばれた少な
くとも一種であることを特徴とする請求項７記載の無機
微粒子。8. The method according to claim 1, wherein the filler is titanium oxide, alumina,
The inorganic fine particles according to claim 7, wherein the fine particles are at least one selected from the group consisting of barium titanate, zirconia, cordierite, mullite, and high melting point glass powder. 【請求項９】前記高融点ガラス粉末が酸化物換算表記で
以下の組成からなることを特徴とする請求項８に記載の
無機微粒子。 酸化珪素 ：１５〜５０重量％ 酸化硼素 ： ５〜２０重量％ 酸化アルミニウム ：１５〜５０重量％ 酸化バリウム ： ２〜１０重量％9. The inorganic fine particles according to claim 8, wherein the high melting point glass powder has the following composition in terms of oxide. Silicon oxide: 15 to 50% by weight Boron oxide: 5 to 20% by weight Aluminum oxide: 15 to 50% by weight Barium oxide: 2 to 10% by weight 【請求項１０】無機微粒子と感光性有機成分を含有する
感光性ペーストであって、厚み５０μｍの塗布膜を形成
した場合のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２０〜６０
であり、かつ、該塗布膜を焼成した後の刺激値Ｙが２〜
２０であることを特徴とする感光性ペースト。10. A photosensitive paste containing inorganic fine particles and a photosensitive organic component, wherein a stimulus value Y in an XYZ color system of 20 to 60 when a coating film having a thickness of 50 μm is formed.
And the stimulus value Y after baking the coating film is 2
20. A photosensitive paste, which is 20. 【請求項１１】前記厚み５０μｍの塗布膜の全光線透過
率が３０％以上であることを特徴とする請求項１０に記
載の感光性ペースト。11. The photosensitive paste according to claim 10, wherein the total light transmittance of the coating film having a thickness of 50 μm is 30% or more. 【請求項１２】前記厚み５０μｍの塗布膜の表面の全反
射率が１０％以下であり、かつ正規反射率が５０％以上
であることを特徴とする請求項１０または１１に記載の
感光性ペースト。12. The photosensitive paste according to claim 10, wherein the total reflectance of the surface of the coating film having a thickness of 50 μm is 10% or less, and the regular reflectance is 50% or more. . 【請求項１３】前記感光性有機成分が、感光性モノマと
感光性オリゴマもしくはポリマを主成分とし、光重合開
始剤を含有することを特徴とする請求項１０〜１２いず
れか１項に記載の感光性ペースト。13. The method according to claim 10, wherein the photosensitive organic component contains a photosensitive monomer and a photosensitive oligomer or polymer as main components and contains a photopolymerization initiator. Photosensitive paste. 【請求項１４】波長３５０〜４００ｎｍの領域に吸収極
大値を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする
請求項１３に記載の感光性ペースト。14. The photosensitive paste according to claim 13, which contains an ultraviolet absorber having an absorption maximum in a wavelength range of 350 to 400 nm. 【請求項１５】紫外線吸収剤が、アゾ系染料、ベンゾフ
ェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾ
トリアゾール系化合物およびインドール系化合物の群か
ら選ばれた少なくとも一種であることを特徴とする請求
項１４に記載の感光性ペースト。15. The method according to claim 14, wherein the ultraviolet absorber is at least one selected from the group consisting of azo dyes, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, benzotriazole compounds and indole compounds. The photosensitive paste as described in the above. 【請求項１６】紫外線吸収剤を無機微粒子に対して０．
１〜２重量％含有することを特徴とする請求項１０〜１
５のいずれか１項に記載の感光性ペースト。16. An ultraviolet absorbent is added to the inorganic fine particles in an amount of 0.1%.
10. The composition of claim 10, wherein the content is 1 to 2% by weight.
6. The photosensitive paste according to any one of 5. 【請求項１７】プラズマディスプレイやプラズマアドレ
ス液晶ディスプレイにおけるパターン形成用であること
を特徴とする請求項１０〜１６いずれか１項に記載の感
光性ペースト。17. The photosensitive paste according to claim 10, which is used for pattern formation in a plasma display or a plasma addressed liquid crystal display. 【請求項１８】焼成前のＸＹＺ表色系における刺激値Ｙ
が２０〜８０であり、焼成後の刺激値Ｙが５〜３０であ
る無機微粒子と、感光性有機成分を含有する感光性ペー
ストを基板上に塗布・乾燥することにより、ＸＹＺ表色
系における刺激値Ｙが２０〜６０の塗布膜を形成した
後、フォトリソグラフィ法でパターニングし、該パター
ンを焼成してＸＹＺ表色系における刺激値Ｙが２〜２０
の隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプレ
イの製造方法。18. A stimulus value Y in an XYZ color system before firing.
Is 20 to 80, and an inorganic fine particle having a stimulus value Y of 5 to 30 after baking and a photosensitive paste containing a photosensitive organic component are applied on a substrate and dried to obtain a stimulus in the XYZ color system. After a coating film having a value Y of 20 to 60 is formed, patterning is performed by a photolithography method, and the pattern is baked so that a stimulus value Y in the XYZ color system is 2 to 20.
A method of manufacturing a plasma display, comprising forming a partition wall of the above.
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