JP2000010482A - Optical diffraction structure, optical diffraction structure transfer sheet and card with optical diffraction structure - Google Patents
Optical diffraction structure, optical diffraction structure transfer sheet and card with optical diffraction structureInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラムや回折
格子を形成した光回折構造、光回折構造転写シート及び
光回折構造付きカードに関するものである。特に光回折
構造の光反射層の色の幅広い選択を可能にしたものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light diffraction structure having a hologram or a diffraction grating, a light diffraction structure transfer sheet, and a card with a light diffraction structure. In particular, it enables a wide selection of the color of the light reflecting layer of the light diffraction structure.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来から、クレジットカード、キャッシ
ュカード等のカードの全面あるいは一部に、各種の絵柄
やマークのデザインをホログラムや回折格子等により形
成した光回折構造を設けた光回折構造付きカードおよび
これらに転写する光回折構造転写シートはすでに知られ
ている。これらの光回折構造は、一般的に保護層、光回
折構造形成層、光反射層、接着層を順に積層して形成し
てあり、前記光反射層には、Ａｌ（アルミニウム），Ｚ
ｎ（亜鉛），Ｃｕ（銅）／Ａｌ（アルミニウム）合金，
ＺｎＳ（硫化亜鉛），酸化チタン等の金属あるいは材料
が用いられてきた。しかしながら、上記の金属あるいは
材料を使用した場合には、光反射層の色は、金属特有の
背景色である銀色や金色あるいは透明に限られてしまう
のでカード表面のデザイン上の制約があった。2. Description of the Related Art Conventionally, a card with an optical diffraction structure provided with an optical diffraction structure in which various patterns and mark designs are formed by holograms or diffraction gratings on the entire surface or a part of cards such as credit cards and cash cards. And the light diffraction structure transfer sheet for transferring to them is already known. These light diffraction structures are generally formed by sequentially stacking a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer, and the light reflection layer includes Al (aluminum), Z
n (zinc), Cu (copper) / Al (aluminum) alloy,
Metals or materials such as ZnS (zinc sulfide) and titanium oxide have been used. However, when the above-mentioned metal or material is used, the color of the light reflection layer is limited to silver, gold, or transparent, which is a background color unique to the metal, and there is a restriction on the design of the card surface.
【０００３】また、光回折構造を設けた磁気カードにお
いて、カード基材上に磁気ストライプ等の磁気層を設
け、該磁気層を外観上隠蔽化するために磁気層上にホロ
グラム等の光回折構造を形成した場合には、光反射層に
Ａｌ（アルミニウム）等の材料を用いることで磁気層を
隠蔽することは可能であるが、ホログラムの光反射層の
色が金属特有の色のみとなりカードデザイン上の制約と
なる欠点がある。上記のカード表面におけるデザイン表
示の制約をなくすために、光回折構造における保護層の
部分を着色化したり、光回折構造形成層上に着色層をあ
らたに形成する手段も考えられるが、光回折構造形成層
上の一部に設けた絵柄印刷層の色と重なり合い見掛け上
好ましくない。また、絵柄印刷層の部分を除いて保護層
を着色化することは、製造上複雑になり好ましくない。In a magnetic card provided with an optical diffraction structure, a magnetic layer such as a magnetic stripe is provided on a card substrate, and an optical diffraction structure such as a hologram is provided on the magnetic layer to conceal the appearance of the magnetic layer. Is formed, the magnetic layer can be concealed by using a material such as Al (aluminum) for the light reflection layer, but the color of the light reflection layer of the hologram is only a color peculiar to the metal, so that the card design can be made. There are drawbacks that limit the above. In order to eliminate the restriction of the design display on the card surface described above, a means for coloring the protective layer portion in the light diffraction structure or newly forming a colored layer on the light diffraction structure forming layer may be considered. The color of the picture print layer provided on a part of the formation layer overlaps with the color of the picture print layer, which is not preferable in appearance. In addition, it is not preferable to color the protective layer except for the portion of the pattern printing layer because the production becomes complicated.
【０００４】また、光反射層にＺｎＳ，酸化チタン等の
透明反射層を用いて、透明反射層より下に着色層を設け
る手段も考えられるが、磁気ストライプを完全に隠蔽化
することは難しく、磁気ストライプを完全に隠蔽化する
ために着色層を厚く形成すると磁気ストライプの情報の
機械読み取りが困難になるという問題が生じて好ましく
ない。[0004] In addition, it is conceivable to provide a coloring layer below the transparent reflection layer by using a transparent reflection layer such as ZnS or titanium oxide for the light reflection layer. However, it is difficult to completely hide the magnetic stripe. It is not preferable to form a thick colored layer in order to completely hide the magnetic stripe, because it causes a problem that mechanical reading of information of the magnetic stripe becomes difficult.
【０００５】また、カード基材上の全面に各種のデザイ
ンを施した印刷層を設け、該印刷層上に磁気ストライ
プ、接着層、透明反射層、光回折構造形成層、保護層を
設けてカードデザインのカラー化を図ろうとした場合に
も、カードの外観上、磁気ストライプの黒色が目視され
てしまいカードデザイン上好ましくない。上記の場合
に、磁気ストライプに着色磁気ストライプを用いること
により、ある程度のカラー化を図ることが可能である
が、着色磁気ストライプは、通常の磁気ストライプ上に
着色層を形成しているので、機械による磁気読み取りの
際に磁気読み取りが困難になる恐れがあり好ましくな
い。また、着色磁気ストライプを用いて、カード基材の
全面に設けた印刷層の色を着色磁気ストライプの色と同
一色とすることで、磁気ストライプの存在をカードの外
観上わからなくする方法もあるが、印刷層の色を着色磁
気ストライプの色と完全に同一色にすることが困難であ
り、カードを外観から見た場合に微かに磁気ストライプ
の存在がわかってしまいカードデザイン上体裁が悪く、
またカード生産上の効率も悪く好ましくない。Further, a printed layer having various designs is provided on the entire surface of the card substrate, and a magnetic stripe, an adhesive layer, a transparent reflection layer, a light diffraction structure forming layer, and a protective layer are provided on the printed layer. Even when an attempt is made to colorize the design, the black color of the magnetic stripe is visible on the appearance of the card, which is not preferable in terms of card design. In the above case, it is possible to achieve a certain degree of color by using a colored magnetic stripe as the magnetic stripe.However, since the colored magnetic stripe has a colored layer formed on a normal magnetic stripe, mechanical coloring is not possible. However, it is not preferable because magnetic reading may be difficult at the time of magnetic reading. There is also a method of using a colored magnetic stripe and making the color of a print layer provided on the entire surface of the card base material the same as the color of the colored magnetic stripe so that the presence of the magnetic stripe is not apparent in the appearance of the card. However, it is difficult to make the color of the printed layer completely the same as the color of the colored magnetic stripe, and when the card is viewed from the outside, the presence of the magnetic stripe is faintly understood and the appearance of the card design is poor,
In addition, the efficiency in card production is low, which is not preferable.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
のホログラムや回折格子等を形成した光回折構造をカー
ド表面に有する光回折構造付きカードにおいては、光反
射層の色が限られた色に限定されてしまうので、カード
デザイン上も制約されてしまうという問題点があった。
従って、本発明の光回折構造、光回折構造転写シート及
び光回折構造付きカードは、ホログラムや回折格子等を
形成した光回折構造をカラー化することによりデザイン
上の制約を従来のものよりできるだけなくし、意匠性の
高い光回折構造、光回折構造転写シート及び光回折構造
付きカードを提供することを目的とするものである。As described above, in a conventional card with a light diffraction structure having a light diffraction structure formed with a hologram or a diffraction grating on the card surface, the color of the light reflection layer is limited. Therefore, there is a problem that the card design is restricted.
Therefore, the light diffraction structure, the light diffraction structure transfer sheet, and the card with the light diffraction structure of the present invention make the light diffraction structure formed with a hologram, a diffraction grating, and the like a color, thereby making design restrictions as small as possible. It is an object of the present invention to provide a light diffractive structure, a light diffractive structure transfer sheet, and a card with a light diffractive structure having high designability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明による光回折構造は、光回折構造形成層と
光反射層が積層されてなる光回折構造において、前記光
反射層がセラミックス材料からなることを特徴とするも
のである。In order to achieve the above object, a light diffraction structure according to the present invention is a light diffraction structure comprising a light diffraction structure forming layer and a light reflection layer laminated, wherein the light reflection layer is It is characterized by being made of a ceramic material.
【０００８】また、本発明による光回折構造転写シート
は、支持体上に剥離層、保護層、光回折構造形成層、光
反射層、接着層が順次積層されてなる光回折構造転写シ
ートにおいて、前記光反射層がセラミックス材料からな
ることを特徴とするものである。The light diffraction structure transfer sheet according to the present invention is a light diffraction structure transfer sheet in which a release layer, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on a support. The light reflection layer is made of a ceramic material.
【０００９】また、本発明による光回折構造付きカード
は、カードの少なくとも一方の面に、保護層、光回折構
造形成層、光反射層、接着層が順次積層されてなる光回
折構造が設けられている光回折構造付きカードにおい
て、前記光反射層がセラミックス材料からなることを特
徴とするものである。Further, the card with a light diffraction structure according to the present invention is provided with a light diffraction structure in which a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on at least one surface of the card. In the card with a light diffraction structure, the light reflection layer is made of a ceramic material.
【００１０】[0010]
（支持体シート）本発明の光回折構造転写シートに用い
る支持体シートとしては、その上に積層する各層、即
ち、離型性樹脂層、保護層、光回折構造形成層、光反射
層、接着層の各層を順次コーティングなどにより形成す
る際の耐熱性および耐溶剤性、また、形成された光回折
構造転写層をカードなどの基材シートに転写する際、熱
転写方式を利用する場合には、その耐熱性が必要であ
り、これらの性能を備えたプラスチックフィルム、例え
ば２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（以
下、単に、ＰＥＴフィルムと表示する）などを使用する
ことができる。ＰＥＴフィルムを使用する場合、その厚
さは、５〜２５０μｍのものが好ましく、加工適性や引
張強度、熱転写の際の熱効率などを考慮すると２０〜５
０μｍが更に好ましい。(Support Sheet) As the support sheet used in the light diffraction structure transfer sheet of the present invention, each layer laminated thereon, that is, a release resin layer, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, an adhesive Heat resistance and solvent resistance when sequentially forming each layer of the layer by coating or the like, and when transferring the formed light diffraction structure transfer layer to a substrate sheet such as a card, when using a thermal transfer method, The heat resistance is required, and a plastic film having these properties, for example, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (hereinafter, simply referred to as a PET film) can be used. When a PET film is used, its thickness is preferably from 5 to 250 μm, and is preferably from 20 to 5 in consideration of workability, tensile strength, thermal efficiency during thermal transfer, and the like.
0 μm is more preferred.
【００１１】（離型性樹脂層）支持体シートの少なくと
も一方の面に、コーティングなどにより積層する離型性
樹脂層は、支持体シートにはよく接着し、その上に形成
する保護層の樹脂を比較的容易に剥離でき、且つ、耐熱
性、耐溶剤性などに優れた樹脂で形成することが好まし
い。このような樹脂としては、例えば、メラミン系樹脂
など架橋性に優れた各種熱硬化性樹脂が好適に使用でき
る。このような樹脂は、架橋度合いを制御して用いるこ
とにより、転写の際の剥離力を適宜調整することも可能
である。離型性樹脂層は、リバースロールコーターなど
によるコーティング方式で形成することができ、その厚
さは薄くてよく０．１〜４μｍ程度で充分である。(Releaseable resin layer) A release resin layer laminated on at least one surface of the support sheet by coating or the like adheres well to the support sheet and forms a protective layer resin formed thereon. Is preferably formed of a resin that can be relatively easily peeled off and has excellent heat resistance, solvent resistance and the like. As such a resin, for example, various thermosetting resins having excellent crosslinking properties such as a melamine resin can be suitably used. By using such a resin while controlling the degree of crosslinking, the peeling force at the time of transfer can be appropriately adjusted. The releasable resin layer can be formed by a coating method using a reverse roll coater or the like, and its thickness may be thin, and about 0.1 to 4 μm is sufficient.
【００１２】（保護層）前記離型性樹脂層の上に設ける
保護層は、転写後、カードなどの最外層となって下側の
層を保護するものであり、透明性、耐擦傷性、耐摩耗
性、耐熱性、耐薬品性、耐汚染性などを兼ね備えた樹脂
が適している。このような樹脂としては、例えば、電離
放射線硬化型樹脂が挙げられ、具体的には、ポリウレタ
ンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシ
アクリレート、ポリエーテルアクリレートなどが挙げら
れ、これらはそれぞれのプレポリマーに粘度、或いは架
橋密度を調整するために多官能または単官能のモノマー
を添加して用いてもよく、また、必要に応じて公知の光
反応開始剤、増感剤を添加して用いてもよい。このほ
か、ポリエン／チオール系の電離放射線硬化型樹脂など
も耐摩耗性に優れており好ましく使用できる。(Protective Layer) The protective layer provided on the release resin layer serves as the outermost layer of a card or the like after transfer to protect the lower layer, and has transparency, scratch resistance, and the like. A resin having abrasion resistance, heat resistance, chemical resistance, stain resistance and the like is suitable. Such resins include, for example, ionizing radiation-curable resins, specifically, polyurethane acrylate, polyester acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, and the like. To adjust the crosslinking density, a polyfunctional or monofunctional monomer may be added and used, and if necessary, a known photoreaction initiator and sensitizer may be added and used. In addition, a polyene / thiol-based ionizing radiation curable resin and the like are also excellent in abrasion resistance and can be preferably used.
【００１３】以上のような保護層用樹脂には、更に必要
に応じて、界面活性剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤など
の添加剤を加えることもできる。また、保護層を設ける
方法は、前記保護層用樹脂組成物で塗布液を作製し、従
来公知の各種ロールコーティング方式やグラビアコーテ
ィング方式で塗布した後、ＵＶ（紫外線）照射、または
ＥＢ（電子線）照射などにより樹脂を硬化させて保護層
を形成することができる。尚、前記塗布液には粘度調整
のため、必要に応じて適当な有機溶剤を添加してもよ
く、その場合には塗布後、先ず有機溶剤を除くための熱
風乾燥を行い、次いでＵＶまたはＥＢの照射により樹脂
の硬化を行えばよい。If necessary, additives such as a surfactant, an antistatic agent and an ultraviolet absorber can be added to the resin for the protective layer as described above. Further, a method for providing a protective layer is as follows. After a coating solution is prepared from the resin composition for a protective layer and applied by various known roll coating methods or gravure coating methods, UV (ultraviolet) irradiation or EB (electron beam) irradiation is performed. ) The protective layer can be formed by curing the resin by irradiation or the like. In order to adjust the viscosity, an appropriate organic solvent may be added to the coating solution, if necessary. In this case, after coating, first, hot air drying is performed to remove the organic solvent, and then UV or EB is applied. The curing of the resin may be performed by the irradiation.
【００１４】このような保護層の厚さは、光回折構造転
写層全体の厚さを薄くするために、０．５〜４．０μｍ
の範囲にすることが好ましい。保護層の厚さが０．５μ
ｍ未満の場合は、充分な耐擦傷性、耐摩耗性が得られ
ず、また、４．０μｍを超える厚さは、既に耐摩耗性は
充分にあるため必要性がなく、むしろ、光回折構造転写
層全体の厚さが増し、磁気記録・読み取り特性が低下す
るおそれがあるため好ましくない。The thickness of such a protective layer is 0.5 to 4.0 μm in order to reduce the thickness of the entire light diffraction structure transfer layer.
It is preferable to be within the range. 0.5μ of protective layer thickness
When the thickness is less than m, sufficient abrasion resistance and abrasion resistance cannot be obtained, and when the thickness exceeds 4.0 μm, there is no necessity because the abrasion resistance is already sufficient. This is not preferable because the thickness of the entire transfer layer may increase and the magnetic recording / reading characteristics may decrease.
【００１５】（絵柄印刷層）絵柄印刷層の形成方法は、
通常のグラビアオフセット、シルクスクリーン法、ロー
ルコート法、バーコート法等の公知の方法を用いる。ま
た、絵柄印刷層に使用するインキは、上記の各々の印刷
方法に適したインキを用いればよいが、印刷の絵柄と本
発明の光反射層の色とのバランスを考慮して高い意匠性
を得られるように工夫することがカードデザイン上大切
である。(Pattern Printing Layer) The method of forming the pattern printing layer is as follows.
A known method such as a usual gravure offset, silk screen method, roll coating method, bar coating method and the like is used. Further, the ink used for the pattern printing layer may be an ink suitable for each of the above printing methods, but a high design property is taken into consideration in consideration of the balance between the printing pattern and the color of the light reflection layer of the present invention. It is important for card design to devise a way to obtain it.
【００１６】（光回折構造形成層）前記保護層の上に
は、光回折構造形成層、即ち、ホログラムまたは回折格
子を形成した層を設ける。光回折構造自体は、平面ホロ
グラム、体積ホログラムともに使用でき、具体例として
は、レリーフホログラム、リップマンホログラム、フル
ネルホログラム、フラウンホーファホログラム、レンズ
レスフーリエ変換ホログラム、レーザー再生ホログラム
（イメージホログラムなど）、白色光再生ホログラム
（レインボーホログラムなど）、カラーホログラム、コ
ンピュータホログラム、ホログラムディスプレイ、マル
チプレックスホログラム、ホログラフィックステレオグ
ラム、ホログラフィック回折格子などが挙げられる。(Light Diffraction Structure Forming Layer) On the protective layer, a light diffraction structure forming layer, that is, a layer on which a hologram or a diffraction grating is formed is provided. The light diffraction structure itself can be used for both planar holograms and volume holograms. Specific examples are relief holograms, Lippmann holograms, Fresnel holograms, Fraunhofer holograms, lensless Fourier transform holograms, laser reproduction holograms (such as image holograms), and white light. Examples include a reproduction hologram (such as a rainbow hologram), a color hologram, a computer hologram, a hologram display, a multiplex hologram, a holographic stereogram, and a holographic diffraction grating.
【００１７】これらの光回析構造を形成する形成層の材
料には、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ＰＭＭ
Ａ）、ポリスチレン、ポリカーボネートなどの熱可塑性
樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリ
エステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アク
リレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテ
ル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレ
ート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系ア
クリレートなどの熱硬化性樹脂をそれぞれ単独、或いは
上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂とを混合して使用する
ことができ、更には、ラジカル重合性不飽和基を有する
熱成形性物質、或いは、これらにラジカル重合性不飽和
単量体を加え電離放射線硬化性としたものなどを使用す
ることができる。このほか、銀塩、重クロム酸ゼラチ
ン、サーモプラスチック、ジアゾ系感光材料、フォトレ
ジスト、強誘電体、フォトクロミックス材料、サーモク
ロミックス材料、カルコゲンガラスなどの感光材料など
も使用できる。The material of the formation layer for forming these light diffraction structures is polyvinyl chloride, acrylic resin (eg, PMM
A), thermoplastic resins such as polystyrene and polycarbonate, unsaturated polyester, melamine, epoxy, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate , A thermosetting resin such as melamine (meth) acrylate or triazine acrylate can be used alone, or a mixture of the above-mentioned thermoplastic resin and thermosetting resin can be used. Or a material obtained by adding a radical polymerizable unsaturated monomer to these materials to make them ionizing radiation-curable. In addition, photosensitive materials such as silver salts, dichromated gelatin, thermoplastics, diazo photosensitive materials, photoresists, ferroelectrics, photochromic materials, thermochromic materials, and chalcogen glass can be used.
【００１８】上記の材料を用いて光回析構造を形成する
方法は、従来既知の方法によって形成することができ、
例えば、回折格子やホログラムの干渉縞を表面凹凸のレ
リーフとして記録する場合には、回折格子や干渉縞が凹
凸の形で記録された原版をプレス型として用い、前記支
持体シート上に離型性樹脂層、保護層を順に積層した積
層シートの保護層の上に、前記光回析構造形成層用樹脂
の塗布液をグラビアコート法、ロールコート法、バーコ
ート法などの手段で塗布して、塗膜を形成し、その上に
前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両
者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製す
ることができる。また、フォトポリマーを用いる場合
は、前記積層シートの保護層上に、フォトポリマーを同
様にコーティングした後、前記原版を重ねてレーザー光
を照射することにより複製することができる。このよう
に、表面凹凸のレリーフとして回析格子やホログラムの
干渉縞を光回析構造層の表面に記録する方法は、量産性
があり、コストも低くできる点で特に好ましい。このよ
うな光回折構造形成層の膜厚は０．１〜６μｍの範囲が
好ましく、０．１〜４μｍの範囲が更に好ましい。A method for forming a light diffraction structure using the above-mentioned materials can be formed by a conventionally known method.
For example, when recording an interference fringe of a diffraction grating or a hologram as a relief of surface unevenness, an original plate on which the diffraction grating or the interference fringe is recorded in the form of unevenness is used as a press mold, and the releasability is formed on the support sheet. On the protective layer of the laminated sheet obtained by sequentially laminating a resin layer and a protective layer, a coating solution of the resin for the light diffraction structure forming layer is applied by means such as a gravure coating method, a roll coating method, and a bar coating method, By forming a coating film, superimposing the original plate thereon, and applying heat and pressure to both by an appropriate means such as a heating roll, the concavo-convex pattern of the original plate can be duplicated. When a photopolymer is used, a photopolymer can be coated on the protective layer of the laminated sheet in the same manner, and then the original can be overlapped and irradiated with a laser beam to perform replication. As described above, the method of recording the diffraction grating or the interference fringes of the hologram on the surface of the light diffraction structure layer as the relief of the surface unevenness is particularly preferable since it has mass productivity and can reduce the cost. The thickness of such a light diffraction structure forming layer is preferably in the range of 0.1 to 6 μm, and more preferably in the range of 0.1 to 4 μm.
【００１９】（光反射層）前記のように光回折構造形成
層の表面に凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を記録した場合には、その回析効率を高めるた
めに光反射層をレリーフ面に形成することが好ましい。
本発明における光回折構造形成層の光反射層の材質とし
ては、セラミックス材料が使用される。セラミックス材
料の種類とその各々の色調を表１に示すがデザインの意
匠性を考慮し 必要なセラミックス材料を選択して使用
すればよい。(Light Reflecting Layer) As described above, when a diffraction grating or hologram interference fringes is recorded on the surface of the light diffraction structure forming layer as a relief of irregularities, the light reflecting layer is formed in order to increase the diffraction efficiency. Preferably, it is formed on the relief surface.
As the material of the light reflection layer of the light diffraction structure forming layer in the present invention, a ceramic material is used. Table 1 shows the types of ceramic materials and their color tones. The necessary ceramic materials may be selected and used in consideration of the design of the design.
【００２０】[0020]
【表１】 [Table 1]
【００２１】光反射層の薄膜の形成方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法な
どの薄膜形成法が挙げられる。薄膜は、色調、デザイ
ン、用途等に応じて適切な条件を設定すればよいが、５
０Å〜１μｍの範囲が好ましく、更には１００〜１００
０Åがより好ましい。透明性を有する着色光反射層を設
けたい場合は、膜厚を２００Å以下にするのが好まし
い。また、隠蔽性を有する着色光反射層を設けたい場合
は、膜厚を２００Å以上にするのが望ましい。薄膜は、
上記のように、転写箔の用途、トータルデザインを考慮
し、色調、隠蔽性あるいは透明性等の必要に応じて設定
することができる。As a method of forming a thin film of the light reflecting layer, a thin film forming method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method may be mentioned. For the thin film, appropriate conditions may be set according to the color tone, design, application, etc.
The range is preferably from 0 ° to 1 μm, more preferably from 100 to 100
0 ° is more preferred. When it is desired to provide a colored light reflecting layer having transparency, the film thickness is preferably 200 ° or less. When it is desired to provide a colored light reflecting layer having a concealing property, the film thickness is desirably 200 mm or more. The thin film is
As described above, the color tone, the concealing property, the transparency, and the like can be set as necessary in consideration of the use of the transfer foil and the total design.
【００２２】（接着層）前記光反射層の上には接着層を
設けて光回折構造転写シートを完成する。接着層の材質
は、光反射層との接着性がよく、且つ転写に際して、磁
気カードなどの被転写体に対しても強固に接着できるも
のが好ましい。具体的には、塩化ビニル系樹脂、酢酸ビ
ニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体系樹脂、
アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ゴム変性物などが挙げられ、
これらの中から適するものを適宜選択して使用でき、ま
た、これらは単体、もしくは２種以上の混合系で、更に
必要に応じてハードレジンや可塑剤、その他の添加剤を
加えて使用することができる。(Adhesive Layer) An adhesive layer is provided on the light reflecting layer to complete a light diffraction structure transfer sheet. The material of the adhesive layer is preferably one that has good adhesiveness to the light reflection layer and can firmly adhere to a transfer target such as a magnetic card during transfer. Specifically, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer resin,
Acrylic resin, polyester resin, polyurethane resin, polyamide resin, rubber modified products and the like,
Appropriate ones can be selected from these, and these can be used singly or in a mixture of two or more kinds, and if necessary, a hard resin, a plasticizer, and other additives may be used. Can be.
【００２３】上記のような材料で形成される接着層は、
通常、上記材料を溶液状の塗布液とし、これをロールコ
ーターなどで塗布、乾燥することによって形成できる。
接着層の厚さは、０．５〜５μｍの範囲が好ましく、
１．５〜３μｍの範囲が更に好ましい。以上のようにし
て、支持体シートの離型性樹脂層の上に、光回折構造転
写層として、保護層、光回析構造形成層、光反射層、接
着層が順に積層された光回折構造転写シートが製造でき
る。上記光回折構造転写層は、全体としての厚さが８μ
ｍ以下に形成されることが好ましく、６μｍ以下が更に
好ましい。The adhesive layer formed of the above-described material is
Usually, the material can be formed by applying a solution in the form of a solution, applying the solution with a roll coater or the like, and drying.
The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm,
The range of 1.5 to 3 μm is more preferable. As described above, the light diffraction structure in which the protective layer, the light diffraction structure forming layer, the light reflection layer, and the adhesive layer are sequentially laminated on the release resin layer of the support sheet as the light diffraction structure transfer layer. A transfer sheet can be manufactured. The light diffraction structure transfer layer has an overall thickness of 8 μm.
m or less, and more preferably 6 μm or less.
【００２４】（透明反射層）透明反射層としては、透明
薄膜をレリーフ面に形成して透明型の光回析構造を得
る。透明反射層の材質としては、光回析構造形成層とは
屈折率の異なる物質の連続薄膜や、金属薄膜などが挙げ
られる。連続薄膜の膜厚は、薄膜を形成する材料の透明
領域であればよいが、通常は１００〜１０００Åが好ま
しい。連続薄膜をレリーフ面に形成する方法としては、
真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法などの薄膜形成法が挙げられる。連続薄膜は、その屈
折率が光回析構造形成層より大きくても小さくてもよい
が、屈折率の差が０．３以上あることが好ましく、差が
０．５以上、更には１．０以上あることがより好まし
い。(Transparent Reflective Layer) As the transparent reflective layer, a transparent thin film is formed on the relief surface to obtain a transparent light diffraction structure. Examples of the material of the transparent reflection layer include a continuous thin film of a substance having a different refractive index from that of the light diffraction structure forming layer, a metal thin film, and the like. The thickness of the continuous thin film may be any as long as it is a transparent region of the material forming the thin film, but is usually preferably 100 to 1000 °. As a method of forming a continuous thin film on the relief surface,
Examples of the method include a thin film forming method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, and an ion plating method. The continuous thin film may have a refractive index larger or smaller than that of the light diffraction structure forming layer, but the difference in the refractive index is preferably 0.3 or more, and the difference is 0.5 or more, and more preferably 1.0 or more. It is more preferable that there is the above.
【００２５】光回析構造形成層より大きい連続薄膜とし
ては、ＺｎＳ、ＴｉＯ2 などが挙げられる。更に、光回
析構造形成層とは屈折率の異なる透明な合成樹脂、例え
ば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフル
オロエチレン、、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリメチルメタクリレートの層を透明反射
層に用いることもできる。Examples of the continuous thin film larger than the light diffraction structure forming layer include ZnS and TiO 2 . Further, a transparent synthetic resin having a different refractive index from the light diffraction structure forming layer, for example, a layer of polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl acetate, polyethylene, polypropylene, polymethyl methacrylate is a transparent reflective layer. Can also be used.
【００２６】〔光回折構造付きカードについて〕前記本
発明の光回折構造転写シートは、前述したように磁気カ
ードの磁気記録層の上に、その光回析構造転写層を転写
しても、その磁気記録特性を損なわず、また、表面の耐
摩耗性など物性を向上させて耐久性を有するように構成
したものであり、主たる転写対象物は、当然、磁気カー
ドであるが、光回折構造転写層の表面が耐摩耗性など物
性に優れていることから、磁気カードに限らず、ＩＣカ
ードなども含めてカード類全般に広く使用できるもので
ある。[Regarding Card with Light Diffraction Structure] The light diffraction structure transfer sheet of the present invention can be obtained by transferring the light diffraction structure transfer layer onto the magnetic recording layer of the magnetic card as described above. The magnetic recording characteristics are not impaired and the physical properties such as abrasion resistance of the surface are improved so as to have durability.The main transfer object is, of course, a magnetic card. Since the surface of the layer is excellent in physical properties such as abrasion resistance, it can be widely used not only for magnetic cards but also for general cards including IC cards.
【００２７】（基材シート）本発明の光回折構造付きカ
ードの基材シートとしては、ポリ塩化ビニル、ポリエス
テル、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、セ
ルロースジアセテート、セルローストリアセテート、ポ
リスチレン系樹脂、アクリル樹脂、ポリプロピレン、ポ
リエチレンなどの樹脂のほか、アルミニウム、銅などの
金属、紙、そして、樹脂またはラテックス等の含浸紙な
どの単独、或いは複合体シートなどを用いることができ
る。(Base Sheet) As the base sheet of the card with an optical diffraction structure of the present invention, polyvinyl chloride, polyester, polycarbonate, polyamide, polyimide, cellulose diacetate, cellulose triacetate, polystyrene resin, acrylic resin, polypropylene In addition to resin such as polyethylene and the like, metal such as aluminum and copper, paper, and impregnated paper such as resin or latex or the like, or a composite sheet can be used.
【００２８】このような基材シートの厚さは、材質によ
っても異なるが、通常、１０μｍ〜５ｍｍ程度の範囲で
ある。特に磁気カードの場合、基材シートをＩＳＯ規格
に準拠したものとする場合には、その厚さは０．７６ｍ
ｍである。そして、基材シートをポリ塩化ビニル（以
下、ＰＶＣ）で形成する場合、通常、厚さ２８０μｍの
白色ＰＶＣシートをコアシートとして、これを２枚重
ね、その両側にそれぞれ厚さ１００μｍの透明ＰＶＣシ
ートをオーバーシートとして重ねて、熱プレスなどによ
り積層する４層構成の基材シート（合計厚さ０．７６ｍ
ｍ）が用いられている。この場合、磁気記録層は、前記
透明ＰＶＣシート（オーバーシート）の表面にテープ状
または全面状に予め設けておくことにより、熱プレスな
どによる積層時に、テープ状であっても基材シートに押
し込まれ、表面平滑に一体化され積層される。The thickness of the base sheet varies depending on the material, but is usually in the range of about 10 μm to 5 mm. In particular, in the case of a magnetic card, when the base sheet conforms to the ISO standard, its thickness is 0.76 m.
m. When the base sheet is formed of polyvinyl chloride (hereinafter, PVC), usually, a white PVC sheet having a thickness of 280 μm is used as a core sheet, two of which are stacked, and a transparent PVC sheet having a thickness of 100 μm is provided on both sides thereof. Are laminated as an over sheet and laminated by hot pressing or the like.
m) is used. In this case, the magnetic recording layer is provided on the surface of the transparent PVC sheet (oversheet) in the form of a tape or the entire surface in advance, so that the magnetic recording layer can be pressed into the base sheet even in the form of a tape during lamination by hot pressing or the like. It is integrated and laminated with a smooth surface.
【００２９】また、上記のように基材シートを積層体で
構成した場合には、印刷などにより着色印刷層、絵柄印
刷層、情報表示印刷層などを設ける際、印刷面をオーバ
ーシートの下、例えば、コアシート上に印刷することが
できるため、磁気記録層の磁気特性に関係なく自由に印
刷層を設けることができる。例えば、コアシート上に磁
気記録層と同じ色彩の着色印刷層を全面に設け、その上
に絵柄や情報表示の印刷層を設けてもよく、その場合に
は、最終製品である光回折構造付き磁気カードに仕上げ
た時、磁気記録層と着色印刷層とが同ーの色彩を有する
ため、外側からは目視により磁気記録層の存在を確認す
ることができず、隠蔽されるようになり、磁気カードの
セキュリティー性を高めることができる。In the case where the base sheet is composed of a laminate as described above, when a colored print layer, a picture print layer, an information display print layer, etc. are provided by printing or the like, the printing surface is placed under the oversheet. For example, since printing can be performed on the core sheet, a printing layer can be freely provided regardless of the magnetic characteristics of the magnetic recording layer. For example, a colored printing layer of the same color as the magnetic recording layer may be provided on the entire surface of the core sheet, and a printed layer of a picture or information display may be provided thereon. When finished to a magnetic card, the magnetic recording layer and the colored printing layer have the same color, so that the presence of the magnetic recording layer cannot be visually confirmed from the outside, and the magnetic recording layer becomes concealed. The security of the card can be enhanced.
【００３０】[0030]
【実施例】以下に、図面および具体的な実施例、比較例
を挙げて本発明を更に詳細に説明する。旦し、本発明は
これらの図面および実施例に限定されるものではない。
また、図面に付した符号は、異なる図面においても同ー
名称の部分には同ー符号を用いた。The present invention will be described in more detail with reference to the drawings, specific examples and comparative examples. However, the present invention is not limited to these drawings and examples.
Further, the same reference numerals are used for the parts having the same name in different drawings.
【００３１】図１は、本発明の光回折構造転写シート２
０の一実施例の構成を説明する模式断面図である。図１
において、光回折構造転写シート２０は、支持体シート
１の一方の面に離型性樹脂層２を設け、更にその離型性
樹脂層２の上に、光回折構造転写層７として、保護層
３、光回折構造形成層４、光反射層５、接着層６を順に
積層して構成されると共に、前記保護層３には、厚さ
０．５〜４．０μｍの電離放射線硬化型樹脂を用いて、
被転写体に転写後の光回析構造転写層７の耐摩耗性がテ
ーバー形アブレーザーによる耐摩耗試験で１００回以上
の耐久性を有するように構成されている。FIG. 1 shows an optical diffraction structure transfer sheet 2 of the present invention.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of one embodiment. FIG.
In the light diffractive structure transfer sheet 20, the release resin layer 2 is provided on one surface of the support sheet 1, and the light diffractive structure transfer layer 7 is further provided on the release resin layer 2 as a protective layer. 3, the light diffraction structure forming layer 4, the light reflecting layer 5, and the adhesive layer 6 are sequentially laminated, and the protective layer 3 is made of an ionizing radiation curable resin having a thickness of 0.5 to 4.0 μm. make use of,
The abrasion resistance of the light diffraction structure transfer layer 7 after being transferred to the transfer object is configured to have a durability of 100 times or more in a wear resistance test using a Taber type ab laser.
【００３２】そして、磁気カードなどの被転写体に光回
折構造転写層７を転写する際には、例えば、光回折構造
転写シート２０の接着層６面を被転写体表面に合わせて
重ね、熱プレス装置、またはホットスタンピング装置な
どにより支持体シート１側から加熱、圧着することによ
り、接着層６が溶融または軟化し被転写体表面に接着す
る。その後、支持体シート１を引き剥がすことにより、
離型性樹脂層２と保護層３との界面で容易に剥離し、保
護層３を最外層とする光回折構造転写層７が被転写体に
転写される。When the light diffraction structure transfer layer 7 is transferred to a transfer object such as a magnetic card, for example, the adhesive layer 6 surface of the light diffraction structure transfer sheet 20 is overlapped with the transfer object surface, The adhesive layer 6 is melted or softened and adheres to the surface of the transfer-receiving material by heating and pressing from the support sheet 1 side by a press device or a hot stamping device. Thereafter, by peeling the support sheet 1,
It is easily peeled off at the interface between the release resin layer 2 and the protective layer 3, and the light diffraction structure transfer layer 7 having the protective layer 3 as the outermost layer is transferred to the transfer object.
【００３３】図２は、本発明の光回折構造付きカードの
一実施例の構成を説明する模式断面図である。図２にお
いて、カード３０は、カード用基材シート９の一方の面
にテープ状などの磁気記録層８が設けられ、その上に前
記図１に示した横成の光回折構造転写シート２０の光回
折構造転写層７が転写により積層された構成である。従
って、光回析構造転写層７は、基材シート９側から、接
着層６、光反射層５、光回折構造形成層４、保護層３が
順に積層された積層体で構成されると共に、最外層の保
護層３は、厚さ０．５〜４．０μｍの電離放射線硬化型
樹脂で形成されており、光回折構造転写層７は、テーバ
ー形アブレーザーによる耐摩耗試験で１００回以上の耐
久性を有するものである。FIG. 2 is a schematic sectional view illustrating the structure of an embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention. In FIG. 2, the card 30 is provided with a magnetic recording layer 8 such as a tape on one surface of a card base sheet 9, and the horizontal optical diffraction structure transfer sheet 20 shown in FIG. In this configuration, the light diffraction structure transfer layer 7 is laminated by transfer. Accordingly, the light diffraction structure transfer layer 7 is constituted by a laminate in which the adhesive layer 6, the light reflection layer 5, the light diffraction structure forming layer 4, and the protective layer 3 are sequentially laminated from the base sheet 9 side, The outermost protective layer 3 is formed of an ionizing radiation-curable resin having a thickness of 0.5 to 4.0 μm, and the light diffraction structure transfer layer 7 has a wear resistance test of at least 100 times using a Taber ab laser. It has durability.
【００３４】以下に具体的な実施例を挙げて説明する。 〔実施例１〕 （光回折構造転写シートの作製）図１に示すように支持
体シート１として、厚さ２５μｍの２軸延伸透明ＰＥＴ
フィルム（片面コロナ放電処理）を用い、そのコロナ放
電処理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが０．５μｍ
となるように塗布して、離型性樹脂層２が積層された支
持体シート１を作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 ５重量部 溶剤 メチルアルコール ２５重量部 溶剤 エチルアルコール ４５重量部 酢酸セルロース樹脂 １重量部 パラトルエンスルフォン酸 ０．０５重量部Hereinafter, a specific embodiment will be described. Example 1 (Preparation of Light Diffraction Structure Transfer Sheet) As shown in FIG. 1, a 25 μm thick biaxially stretched transparent PET was used as the support sheet 1.
Using a film (single-sided corona discharge treatment), the coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method to a thickness of 0.5 μm.
The support sheet 1 on which the release resin layer 2 was laminated was produced. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight
【００３５】次に、前記離型性樹脂層２の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、紫
外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ２
灯式）により、紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層３を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート（プレポリマー） ２０重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００重量部 ２−ヒドロキシエチルアクリレート ５重量部 光重合開始剤 １重量部 増感剤 １重量部Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied on the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and ultraviolet irradiation is performed. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight
【００３６】次に、前記保護層３の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが２μｍとなるように塗布し、１０
０℃、１分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 ４０重量部 メラミン樹脂 １０重量部 溶剤 シクロヘキサノン ５０重量部 溶剤 メチルエチルケトン ２５重量部Next, a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight
【００３７】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ2 、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フを型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログラ
ムレリーフを備えた光回析構造形成層４を形成した。A hologram master is placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master is placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief.
【００３８】次に、前記光回析構造形成層４のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
により膜厚５００Åの薄膜層を形成して光反射層５とし
た。その際に使用したセラミックス材料は、Ｂｅ2 Ｃを
用いた。Next, on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4, a thin film layer having a thickness of 500 ° was formed by magnetron sputtering to form a light reflecting layer 5. The ceramic material used at that time was Be 2 C.
【００３９】前記光反射層５の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが２μｍとなるように塗布、乾燥して接着層６を形
成し、実施例１の光回析構造転写シートを作製した。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 溶剤 酢酸エチル ２０重量部 溶剤 トルエン ５０重量部 以上のように作製した実施例１の光回折構造転写シート
２０の各層の厚さ構成は下記の通りである。支持体シー
ト（２５μｍ）／離型性樹脂層（０．５μｍ）／保護層
（０．５μｍ）／光回折構造形成層（２μｍ）／光反射
層（５００Å）／接着層（２μｍ）An adhesive layer coating solution having the following composition was applied onto the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so that the thickness when dried was 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer sheet of Example 1 was produced. Composition of Coating Solution for Adhesive Layer Vinyl Chloride-Vinyl Acetate Copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight The light diffraction structure transfer sheet 20 of Example 1 prepared as described above was prepared. The thickness configuration of each layer is as follows. Support sheet (25 µm) / Releasable resin layer (0.5 µm) / Protective layer (0.5 µm) / Light diffractive structure forming layer (2 µm) / Light reflecting layer (500 °) / Adhesive layer (2 µm)
【００４０】（光回折構造付きカードの作製）前記のよ
うに作製した光回折構造転写シート２０を用い、また、
被転写体の基材シート９には、表面に磁界の強さ６００
〔Ｏｅ〕の磁気記録層８（厚さ２０μｍ）を積層した厚
さ０．７６ｍｍのポリ塩化ビニルシート（白色コアシー
ト２枚、透明オーバーシート２枚の４層積層構成）を用
いて、ホットスタンブ装置により、１５０℃、１０ｋｇ
／ｃｍ2 、１秒間の条件で基材シートの表面（磁気テー
ブの積層面）に、光回折構造転写シート２０の光回折構
造転写層７を加熱圧着して転写し図２に示すような実施
例１の光回折構造付きカード３０を作製した。(Production of Card with Light Diffraction Structure) Using the light diffraction structure transfer sheet 20 produced as described above,
The substrate sheet 9 of the transfer object has a magnetic field strength of 600 on its surface.
Using a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets in a four-layer structure) in which [Oe] magnetic recording layers 8 (thickness: 20 μm) are stacked, Depending on, 150 ℃, 10kg
/ Cm 2 , the light diffractive structure transfer layer 7 of the light diffractive structure transfer sheet 20 is transferred to the surface of the base sheet (laminated surface of the magnetic tape) by heating and pressing under conditions of 1 second, as shown in FIG. The card 30 with the light diffraction structure of Example 1 was produced.
【００４１】〔実施例２〕 （光回折構造転写シートの作製）図３に示すように支持
体シート１として、厚さ２５μｍの２軸延伸透明ＰＥＴ
フィルム（片面コロナ放電処理）を用い、そのコロナ放
電処理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが０．５μｍ
となるように塗布して、離型性樹脂層２が積層された支
持体シート１を作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 ５重量部 溶剤 メチルアルコール ２５重量部 溶剤 エチルアルコール ４５重量部 酢酸セルロース樹脂 １重量部 パラトルエンスルフォン酸 ０．０５重量部Example 2 (Preparation of Light Diffraction Structure Transfer Sheet) As shown in FIG. 3, a biaxially stretched transparent PET having a thickness of 25 μm was used as the support sheet 1.
Using a film (single-sided corona discharge treatment), the coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method to a thickness of 0.5 μm.
The support sheet 1 on which the release resin layer 2 was laminated was produced. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight
【００４２】次に、前記離型性樹脂層２の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、紫
外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ２
灯式）により、紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層３を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート（プレポリマー） ２０重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００重量部 ２−ヒドロキシエチルアクリレート ５重量部 光重合開始剤 １重量部 増感剤 １重量部Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied onto the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and the ultraviolet ray is irradiated. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight
【００４３】次に、前記保護層３上の一部の領域に、シ
ルクスクリーン印刷方法により、膜厚１μｍの絵柄印刷
層１０を設けた後、下記組成の光回折構造形成層用塗布
液をグラビアリバーズコート法により、乾燥時の厚さが
２μｍとなるように塗布し、１００℃、１分間の条件で
乾燥させて光回折構造を形成するための樹脂層を形成し
た。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 ４０重量部 メラミン樹脂 １０重量部 溶剤 シクロヘキサノン ５０重量部 溶剤 メチルエチルケトン ２５重量部Next, a pattern printing layer 10 having a thickness of 1 μm is provided on a part of the area on the protective layer 3 by a silk screen printing method, and a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition is gravure-coated. The solution was applied by a reverse coating method so that the thickness at the time of drying was 2 μm, and dried at 100 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight
【００４４】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ2 、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フを型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログラ
ムレリーフを備えた光回析構造形成層４を形成した。A hologram master was placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master was placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief.
【００４５】次に、前記光回析構造形成層４のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
により膜厚５００Åの薄膜層を形成して光反射層５とし
た。その際に使用したセラミックス材料は、Ｂｅ2 Ｃを
用いた。Next, a 500-nm-thick thin film layer was formed on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4 by a magnetron sputtering method to form a light reflecting layer 5. The ceramic material used at that time was Be 2 C.
【００４６】前記光反射層５の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが２μｍとなるように塗布、乾燥して接着層６を形
成し、実施例２の光回析構造転写シート２０を作製し
た。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 溶剤 酢酸エチル ２０重量部 溶剤 トルエン ５０重量部An adhesive layer coating solution having the following composition was applied onto the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so as to have a dry thickness of 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer sheet 20 of Example 2 was produced. Composition of coating solution for adhesive layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight
【００４７】（光回折構造付きカードの作製）前記のよ
うに作製した光回折構造転写シート２０を用い、また、
被転写体の基材シートには、表面に磁界の強さ６００
〔Ｏｅ〕の磁気テープ（厚さ２０μｍ）を積層した厚さ
０．７６ｍｍのポリ塩化ビニルシート（白色コアシート
２枚、透明オーバーシート２枚の４層積層構成）を用い
て、ホットスタンブ装置により、１５０℃、１０ｋｇ／
ｃｍ2 、１秒間の条件で基材シートの表面（磁気テーブ
の積層面）に、光回折構造転写シート２０の光回折構造
転写層７を加熱圧着して転写し、図４に示すような実施
例２の光回折構造付きカード３０を作製した。(Production of Card with Light Diffraction Structure) Using the light diffraction structure transfer sheet 20 produced as described above,
The substrate sheet of the transfer object has a surface with a magnetic field strength of 600
Using a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets in a four-layered configuration) on which [Oe] magnetic tapes (thickness: 20 μm) were laminated, a hot stub device was used. 150 ° C, 10kg /
The light diffractive structure transfer layer 7 of the light diffractive structure transfer sheet 20 was transferred to the surface of the base sheet (laminated surface of the magnetic tape) by heating and pressing under the conditions of cm 2 and 1 second, as shown in FIG. The card 30 with the light diffraction structure of Example 2 was produced.
【００４８】実施例２の光回折構造転写シート２０は、
保護層３上の一部の領域に、シルクスクリーン印刷方法
により、膜厚１μｍの絵柄印刷層１０を設けた点で、実
施例１と異なるものである。The light diffraction structure transfer sheet 20 of Example 2 is
This example is different from Example 1 in that a pattern printing layer 10 having a film thickness of 1 μm is provided in a partial area on the protective layer 3 by a silk screen printing method.
【００４９】〔実施例３〕 （光回折構造転写シートの作製）図５に示すように支持
体シート１として、厚さ２５μｍの２軸延伸透明ＰＥＴ
フィルム（片面コロナ放電処理）を用い、そのコロナ放
電処理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが０．５μｍ
となるように塗布して、離型性樹脂層２が積層された支
持体シート１を作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 ５重量部 溶剤 メチルアルコール ２５重量部 溶剤 エチルアルコール ４５重量部 酢酸セルロース樹脂 １重量部 パラトルエンスルフォン酸 ０．０５重量部Example 3 (Preparation of Light Diffraction Structure Transfer Sheet) As shown in FIG. 5, a 25 μm thick biaxially stretched transparent PET was used as the support sheet 1.
Using a film (single-sided corona discharge treatment), the coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method to a thickness of 0.5 μm.
The support sheet 1 on which the release resin layer 2 was laminated was produced. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight
【００５０】次に、前記離型性樹脂層２の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、紫
外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ２
灯式）により、紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層３を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート（プレポリマー） ２０重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００重量部 ２−ヒドロキシエチルアクリレート ５重量部 光重合開始剤 １重量部 増感剤 １重量部Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied onto the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and irradiation with ultraviolet rays is performed. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight
【００５１】次に、前記保護層３の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが２μｍとなるように塗布し、１０
０℃、１分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 ４０重量部 メラミン樹脂 １０重量部 溶剤 シクロヘキサノン ５０重量部 溶剤 メチルエチルケトン ２５重量部Next, a coating solution for forming a light diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight
【００５２】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ2 、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フを型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログラ
ムレリーフを備えた光回析構造形成層４を形成した。そ
して、光回折構造形成層４の一部の領域に、シルクスク
リーン印刷方法により、膜厚１μｍの絵柄印刷層１０を
設けた。尚、絵柄印刷層１０の絵柄のデザインは、ホロ
グラム絵柄との同調を考慮したものとした。A hologram master is placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master is placed at 150 ° C. and 50 kg / h.
After the hologram relief was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief. Then, a pattern printing layer 10 having a film thickness of 1 μm was provided in a partial area of the light diffraction structure forming layer 4 by a silk screen printing method. In addition, the design of the pattern of the pattern printing layer 10 considered the synchronization with a hologram pattern.
【００５３】次に、前記光回析構造形成層４のホログラ
ムレリーフ形成面に、マグネトロンスパッタリング方式
により膜厚５００Åの薄膜層を形成して光反射層５とし
た。その際に使用したセラミックス材料は、Ｂｅ2 Ｃを
用いた。Next, on the hologram relief forming surface of the light diffraction structure forming layer 4, a thin film layer having a thickness of 500 ° was formed by magnetron sputtering to form a light reflecting layer 5. The ceramic material used at that time was Be 2 C.
【００５４】前記光反射層５の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが２μｍとなるように塗布、乾燥して接着層６を形
成し、実施例３の光回析構造転写シート２０を作製し
た。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 溶剤 酢酸エチル ２０重量部 溶剤 トルエン ５０重量部An adhesive layer coating solution having the following composition was applied on the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so as to have a dry thickness of 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer sheet 20 of Example 3 was produced. Composition of coating solution for adhesive layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight
【００５５】（光回折構造付きカードの作製）前記のよ
うに作製した光回折構造転写シート２０を用い、また、
被転写体の基材シート９には、表面に磁界の強さ６００
〔Ｏｅ〕の磁気記録層８（厚さ２０μｍ）を積層した厚
さ０．７６ｍｍのポリ塩化ビニルシート（白色コアシー
ト２枚、透明オーバーシート２枚の４層積層構成）を用
いて、ホットスタンブ装置により、１５０℃、１０ｋｇ
／ｃｍ2 、１秒間の条件で基材シートの表面（磁気テー
ブの積層面）に、光回折構造転写シート２０の光回折構
造転写層７を加熱圧着して転写し図６に示すような実施
例３の光回折構造付きカード３０を作製した。(Production of Card with Light Diffraction Structure) Using the light diffraction structure transfer sheet 20 produced as described above,
The substrate sheet 9 of the transfer object has a magnetic field strength of 600 on its surface.
Using a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets in a four-layer structure) in which [Oe] magnetic recording layers 8 (thickness: 20 μm) are stacked, Depending on, 150 ℃, 10kg
/ Cm 2 , the light diffraction structure transfer layer 7 of the light diffraction structure transfer sheet 20 is transferred to the surface of the base sheet (laminated surface of the magnetic tape) by heating and pressing under conditions of 1 second, as shown in FIG. The card 30 with the light diffraction structure of Example 3 was produced.
【００５６】実施例３の光回折構造転写シートは、図５
に示すように光回折構造形成層４の一部の領域に、シル
クスクリーン印刷方法により、膜厚１μｍの絵柄印刷層
１０を設けた点で、他の実施例と異なるものである。The light diffraction structure transfer sheet of Example 3 is shown in FIG.
As shown in the figure, a pattern printing layer 10 having a film thickness of 1 μm is provided in a partial area of the light diffraction structure forming layer 4 by a silk screen printing method, which is different from the other examples.
【００５７】〔実施例４〕 （光回折構造転写シートの作製）図７に示すように支持
体シート１として、厚さ２５μｍの２軸延伸透明ＰＥＴ
フィルム（片面コロナ放電処理）を用い、そのコロナ放
電処理面に、下記組成の離型性樹脂層用塗布液をグラビ
アリバースコート法により、乾燥時の厚さが０．５μｍ
となるように塗布して、離型性樹脂層２が積層された支
持体シート１を作製した。 離型性樹脂層用塗布液の組成 メラミン系樹脂 ５重量部 溶剤 メチルアルコール ２５重量部 溶剤 エチルアルコール ４５重量部 酢酸セルロース樹脂 １重量部 パラトルエンスルフォン酸 ０．０５重量部Example 4 (Preparation of Optical Diffraction Structure Transfer Sheet) As shown in FIG. 7, as a support sheet 1, a biaxially stretched transparent PET having a thickness of 25 μm was used.
Using a film (single-sided corona discharge treatment), the coating liquid for a release resin layer having the following composition was dried on the corona discharge-treated surface by a gravure reverse coating method to a thickness of 0.5 μm.
The support sheet 1 on which the release resin layer 2 was laminated was produced. Composition of coating solution for release resin layer Melamine resin 5 parts by weight Solvent Methyl alcohol 25 parts by weight Solvent Ethyl alcohol 45 parts by weight Cellulose acetate resin 1 part by weight Paratoluenesulfonic acid 0.05 part by weight
【００５８】次に、前記離型性樹脂層２の上に、下記組
成の保護層用塗布液をグラビアリバースコート法によ
り、硬化後の厚さが０．５μｍとなるように塗布し、紫
外線照射装置（出力１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀ランプ２
灯式）により、紫外線を照射量５００ｍＪ／ｃｍ2 で照
射して塗膜の硬化を行い、保護層３を形成した。 保護層用塗布液の組成 ポリウレタンアクリレート（プレポリマー） ２０重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００重量部 ２−ヒドロキシエチルアクリレート ５重量部 光重合開始剤 １重量部 増感剤 １重量部Next, a coating liquid for a protective layer having the following composition is applied onto the release resin layer 2 by a gravure reverse coating method so that the thickness after curing becomes 0.5 μm, and the resultant is irradiated with ultraviolet rays. Equipment (High pressure mercury lamp 2 with 160 W / cm output)
UV light was applied at a dose of 500 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming the protective layer 3. Composition of coating solution for protective layer Polyurethane acrylate (prepolymer) 20 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate 100 parts by weight 2-hydroxyethyl acrylate 5 parts by weight Photopolymerization initiator 1 part by weight Sensitizer 1 part by weight
【００５９】次に、前記保護層３の上に、下記組成の光
回折構造形成層用塗布液をグラビアリバーズコート法に
より、乾燥時の厚さが２μｍとなるように塗布し、１０
０℃、１分間の条件で乾燥させて光回折構造を形成する
ための樹脂層を形成した。 光回折構造形成層用塗布液の組成 アクリル樹脂 ４０重量部 メラミン樹脂 １０重量部 溶剤 シクロヘキサノン ５０重量部 溶剤 メチルエチルケトン ２５重量部Next, a coating solution for forming an optical diffraction structure having the following composition was applied onto the protective layer 3 by a gravure rivers coating method so that the thickness when dried was 2 μm.
The resin layer was dried at 0 ° C. for 1 minute to form a resin layer for forming an optical diffraction structure. Composition of coating solution for forming optical diffraction structure layer Acrylic resin 40 parts by weight Melamine resin 10 parts by weight Solvent Cyclohexanone 50 parts by weight Solvent Methyl ethyl ketone 25 parts by weight
【００６０】前記光回折構造を形成するための樹脂層の
上に、ホログラム原版を載置し、１５０℃、５０ｋｇ／
ｃｍ2 、１分間の条件で加熱圧着してホログラムレリー
フを型付けした後、ホログラム原版を剥離してホログラ
ムレリーフを備えた光回析構造形成層４を形成した。次
に、光回折構造形成層４の上部に透明反射層１１として
ＺｎＳを真空蒸着法により、膜厚３５０Åの薄膜を形成
し、透明反射層１１とした。次に、透明反射層１１の一
部の領域に、シルクスクリーン印刷方法により、膜厚１
μｍの絵柄印刷層１０を設けた。A hologram master is placed on a resin layer for forming the light diffraction structure, and the hologram master is placed at 150 ° C. and 50 kg / hologram.
After the hologram relief was molded by applying heat and pressure under the condition of cm 2 for 1 minute, the hologram master was peeled off to form the light diffraction structure forming layer 4 having the hologram relief. Next, ZnS was formed as a transparent reflection layer 11 on the light diffraction structure forming layer 4 as a transparent reflection layer 11 by a vacuum evaporation method to a thickness of 350 ° to form a transparent reflection layer 11. Next, a film having a thickness of 1 is formed on a part of the transparent reflection layer 11 by a silk screen printing method.
A pattern printing layer 10 of μm was provided.
【００６１】次に、前記透明反射層１１及び絵柄印刷層
１０の上面に、マグネトロンスパッタリング方式により
膜厚５００Åの薄膜層を形成して光反射層５とした。そ
の際に使用したセラミックス材料は、Ｂｅ2 Ｃを用い
た。Next, a thin film layer having a thickness of 500 ° was formed on the upper surfaces of the transparent reflection layer 11 and the pattern printing layer 10 by a magnetron sputtering method to form a light reflection layer 5. The ceramic material used at that time was Be 2 C.
【００６２】前記光反射層５の上に、下記組成の接着層
用塗布液をグラビアリバースコート法により、乾燥時の
厚さが２μｍとなるように塗布、乾燥して接着層６を形
成し、実施例４の光回析構造転写シート２０を作製し
た。 接着層用塗布液の組成 塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体 ２０重量部 アクリル樹脂 １０重量部 溶剤 酢酸エチル ２０重量部 溶剤 トルエン ５０重量部An adhesive layer coating solution having the following composition was applied onto the light reflecting layer 5 by a gravure reverse coating method so that the thickness when dried was 2 μm, and dried to form an adhesive layer 6. An optical diffraction structure transfer sheet 20 of Example 4 was produced. Composition of coating solution for adhesive layer Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 20 parts by weight Acrylic resin 10 parts by weight Solvent Ethyl acetate 20 parts by weight Solvent Toluene 50 parts by weight
【００６３】（光回折構造付きカードの作製）前記のよ
うに作製した光回折構造転写シート２０を用い、また、
被転写体の基材シート９には、表面に磁界の強さ６００
〔Ｏｅ〕の磁気記録層８（厚さ２０μｍ）を積層した厚
さ０．７６ｍｍのポリ塩化ビニルシート（白色コアシー
ト２枚、透明オーバーシート２枚の４層積層構成）を用
いて、ホットスタンブ装置により、１５０℃、１０ｋｇ
／ｃｍ2 、１秒間の条件で基材シートの表面（磁気テー
ブの積層面）に、光回折構造転写シート２０の光回折構
造転写層７を加熱圧着して転写し図８に示すような実施
例４の光回折構造付きカード３０を作製した。(Preparation of Card with Light Diffraction Structure) Using the light diffraction structure transfer sheet 20 prepared as described above,
The substrate sheet 9 of the transfer object has a magnetic field strength of 600 on its surface.
Using a 0.76 mm-thick polyvinyl chloride sheet (two white core sheets and two transparent oversheets in a four-layer structure) in which [Oe] magnetic recording layers 8 (thickness: 20 μm) are stacked, Depending on, 150 ℃, 10kg
/ Cm 2 , the light diffraction structure transfer layer 7 of the light diffraction structure transfer sheet 20 is transferred to the surface of the base sheet (laminated surface of the magnetic tape) by heating and pressing under the conditions of 1 second, as shown in FIG. The card 30 with the light diffraction structure of Example 4 was produced.
【００６４】実施例４の光回折構造転写シート２０は、
光回折構造形成層４の上部に透明反射層１１を形成し、
透明反射層１１の一部の領域に、絵柄印刷層１０を設け
た点で、他の実施例と異なるものである。The light diffraction structure transfer sheet 20 of Example 4 is
Forming a transparent reflection layer 11 on the light diffraction structure forming layer 4;
This embodiment is different from the other embodiments in that the pattern printing layer 10 is provided in a partial area of the transparent reflection layer 11.
【００６５】以上のように、本発明の光回折構造、光回
折構造転写シート及び光回折構造付きカードは、特に上
記実施例２〜４のような絵柄印刷層１０を設けた仕様の
カードに対しても、絵柄の色調と光回折構造における光
反射層の色調が合うようなセラミック材料を選択して採
用することができるものである。As described above, the light diffraction structure, the light diffraction structure transfer sheet and the card with the light diffraction structure according to the present invention are particularly suitable for a card having a pattern printing layer 10 as described in Examples 2 to 4 above. In particular, a ceramic material that matches the color tone of the picture with the color tone of the light reflection layer in the light diffraction structure can be selected and employed.
【００６６】[0066]
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
光回折構造、光回折構造転写シート及び光回折構造付き
カードは、光回折構造における光反射層にセラミックス
を用いているので、光反射層のカラー化が可能となりカ
ードのデザインの自由度を向上させることができるもの
である。また、光反射層にセラミックスを用いることに
より、従来のホログラムや回折格子の光回折構造にはな
かった色調を得ることができるので、色調の選択に際し
て幅広い選択をすることが可能である。そして、例えば
ホログラム層上に絵柄印刷層を設ける積層構成において
は、ホログラム層の光反射層にセラミックスを用いるこ
とで、従来のホログラム層に比べ色の制限が無くなるた
めカード表面全体におけるデザインの制約が緩和され、
意匠性の高い光回折構造付きカードを作製することがで
きる。また、従来のように、カード基材に設けた磁気ス
トライプの色を外観上隠蔽化するために隠蔽層を磁気ス
トライプ上に形成することが必要ないので、磁気ストラ
イプの磁気読み取りにおいても支障なく磁気記録情報を
読み取りすることができ、しかも磁気ストライプの位置
を外観上目視により認識することが困難なのでセキュリ
ティー性も高いという効果がある。As described above in detail, the light diffraction structure, the light diffraction structure transfer sheet and the card with the light diffraction structure of the present invention use ceramics for the light reflection layer in the light diffraction structure. The reflection layer can be colored, and the degree of freedom in card design can be improved. In addition, by using ceramics for the light reflection layer, a color tone not available in the conventional light diffraction structure of a hologram or a diffraction grating can be obtained, so that a wide range of color tones can be selected. For example, in a laminated configuration in which a pattern printing layer is provided on the hologram layer, the use of ceramics for the light reflection layer of the hologram layer eliminates color restrictions compared to the conventional hologram layer, and thus limits the design of the entire card surface. Relaxed,
It is possible to manufacture a card with a light diffractive structure having high designability. Also, unlike the conventional case, it is not necessary to form a concealing layer on the magnetic stripe in order to conceal the color of the magnetic stripe provided on the card base material in appearance, so that there is no problem in magnetic reading of the magnetic stripe. Since the recorded information can be read, and the position of the magnetic stripe is difficult to visually recognize visually, the security is high.
【００６７】[0067]
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】本発明に係る光回折構造転写シートの実施例１
を示す断面図である。FIG. 1 is a first embodiment of an optical diffraction structure transfer sheet according to the present invention.
FIG.
【図２】本発明に係る光回折構造付きカードの実施例１
を示す断面図である。FIG. 2 is a first embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention.
FIG.
【図３】本発明に係る光回折構造転写シートの実施例２
を示す断面図である。FIG. 3 is a second embodiment of the light diffraction structure transfer sheet according to the present invention.
FIG.
【図４】本発明に係る光回折構造付きカードの実施例２
を示す断面図である。FIG. 4 is a second embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention.
FIG.
【図５】本発明に係る光回折構造転写シートの実施例３
を示す断面図である。FIG. 5 is a third embodiment of the light diffraction structure transfer sheet according to the present invention.
FIG.
【図６】本発明に係る光回折構造付きカードの実施例３
を示す断面図である。FIG. 6 is a third embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention.
FIG.
【図７】本発明に係る光回折構造転写シートの実施例４
を示す断面図である。FIG. 7 is a fourth embodiment of the light diffraction structure transfer sheet according to the present invention.
FIG.
【図８】本発明に係る光回折構造付きカードの実施例４
を示す断面図である。FIG. 8 is a fourth embodiment of a card with an optical diffraction structure according to the present invention.
FIG.
１ 支持体シート ２ 離型性樹脂層 ３ 保護層 ４ 光回折構造形成層 ５ 光反射層 ６ 接着層 ７ 光回折構造転写層 ８ 磁気記録層 ９ 基材シート １０ 絵柄印刷層 １１ 透明反射層 ２０ 光回折構造転写シート ３０ カード REFERENCE SIGNS LIST 1 support sheet 2 release resin layer 3 protective layer 4 light diffraction structure forming layer 5 light reflection layer 6 adhesive layer 7 light diffraction structure transfer layer 8 magnetic recording layer 9 base sheet 10 picture printing layer 11 transparent reflection layer 20 light Diffraction structure transfer sheet 30 card
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０９Ｆ 19/12 Ｇ０９Ｆ 19/12 Ｌ (72)発明者 梅沢 敦 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2C005 HA01 HA06 HA10 JA02 JA18 JA19 KA06 KA37 KA40 KA49 LA19 LA30 LA35 2K008 AA13 DD02 FF03 FF11 FF17 4F100 AD00C AK25 AK36 AK51 AR00A AR00C AR00D AT00B BA04 BA07 BA10B BA10D CA02 CC02D EH46 EH66 GB41 GB71 HB00 JL10 JN06C JN30A ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification FI FI Theme Court ゛ (Reference) G09F 19/12 G09F 19/12 L (72) Inventor Atsushi Umezawa 1-chome, Ichigaya-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2C005 HA01 HA06 HA10 JA02 JA18 JA19 KA06 KA37 KA40 KA49 LA19 LA30 LA35 2K008 AA13 DD02 FF03 FF11 FF17 4F100 AD00C AK25 AK36 AK51 AR00A AR00C AR00D AT00B BA04 BA07 BA07 BA02E GB41 GB71 HB00 JL10 JN06C JN30A
Claims (3)
てなる光回折構造において、前記光反射層がセラミック
ス材料からなることを特徴とする光回折構造。1. A light diffraction structure comprising a light diffraction structure forming layer and a light reflection layer laminated on each other, wherein the light reflection layer is made of a ceramic material.
形成層、光反射層、接着層が順次積層されてなる光回折
構造転写シートにおいて、前記光反射層がセラミックス
材料からなることを特徴とする光回折構造転写シート。2. A light diffraction structure transfer sheet in which a release layer, a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on a support, wherein the light reflection layer is made of a ceramic material. An optical diffraction structure transfer sheet characterized by the above-mentioned.
層、光回折構造形成層、光反射層、接着層が順次積層さ
れてなる光回折構造が設けられている光回折構造付きカ
ードにおいて、前記光反射層がセラミックス材料からな
ることを特徴とする光回折構造付きカード。3. A card with a light diffraction structure, wherein at least one surface of the card is provided with a light diffraction structure in which a protective layer, a light diffraction structure forming layer, a light reflection layer, and an adhesive layer are sequentially laminated. A card with a light diffraction structure, wherein the light reflection layer is made of a ceramic material.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17690898A JP2000010482A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Optical diffraction structure, optical diffraction structure transfer sheet and card with optical diffraction structure |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17690898A JP2000010482A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Optical diffraction structure, optical diffraction structure transfer sheet and card with optical diffraction structure |
Publications (1)
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|---|---|
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| JP17690898A Pending JP2000010482A (en) | 1998-06-24 | 1998-06-24 | Optical diffraction structure, optical diffraction structure transfer sheet and card with optical diffraction structure |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000010482A (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003335083A (en) * | 2002-05-23 | 2003-11-25 | Dainippon Printing Co Ltd | Print recording medium, commuter pass and manufacturing method therefor |
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| EP1022625B1 (en) * | 1999-01-19 | 2017-06-28 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram transfer film |
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- 1998-06-24 JP JP17690898A patent/JP2000010482A/en active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040316 |