JP2000009605A - 分析装置 - Google Patents

分析装置

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JP2000009605A
JP2000009605A JP11158130A JP15813099A JP2000009605A JP 2000009605 A JP2000009605 A JP 2000009605A JP 11158130 A JP11158130 A JP 11158130A JP 15813099 A JP15813099 A JP 15813099A JP 2000009605 A JP2000009605 A JP 2000009605A
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gas
analyzer
analysis
discharge
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JP11158130A
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Philippe Poynot
フィリップ・ポイノ
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Air Liquide SA
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
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Air Liquide SA
LAir Liquide SA pour lEtude et lExploitation des Procedes Georges Claude
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Publication date
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
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    • G01N1/26Devices for withdrawing samples in the gaseous state with provision for intake from several spaces
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N33/00Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
    • G01N33/0004Gaseous mixtures, e.g. polluted air
    • G01N33/0009General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment
    • G01N33/0022General constructional details of gas analysers, e.g. portable test equipment using a number of analysing channels

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Abstract

(57)【要約】 【課題】分析装置において、連続的な接続と、分析装置
の応答時間の最小化と、分析装置の代表的なガスサンプ
ルを保証したい。 【解決手段】少なくとも2つの最初のガス源(S1、S
2、……)から、少なくとも1つの要素のレベルをサン
プリングすることによって分析するための装置に関し、
蛇口ライン(LPi)と、放出ライン(LEi)および
第2のライン(L Si)と、対応する放出ラインにまた
は対応する第2のラインを介して協同する各サンプルを
問題の最初のガス源から予備分析集合部へ向けることを
可能にする対応した流れ管理要素(V)と、その上流
部で集合部に接続され、その下流部で放出部(E)に接
続された第3のライン(L)と、その上流部で第3の
ラインに接続され、その下流部で分析装置に接続された
少なくとも1つの分析ライン(LAi)とを有してい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は空気分析装置の分野
に関し、特に、1つまたはそれ以上の空気の要素を、こ
の空気を使用している容器またはガス分配ネットワーク
のマルチモード(バッチモード:変更される順序の点の
連続的な分析、および変更可能な各測定点用のアドレス
時間)である複数の点で分析するために必要なケースを
取り扱う分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】これらの分析の応用は、工業用ガス(加
熱処理、エレクトロニクス、食品等)の使用者が、1つ
またはそれ以上の空気の組成物、またはそれに代わっ
て、分配されたガスの1つまたはそれ以上の不純物(酸
素またはそれに代わる水蒸気のような)について、それ
らの工程に注入する前の分析を次第に頻繁に必要とする
という背景にある。これは、処理されるべき物体の含み
のある品質管理を可能にし、この含みのある品質管理
は、各物体が処理されるべき環境条件を知ることが可能
であることを予見する。ガスを使用する使用者は、これ
らの環境条件を知ることができるか、または、簡単に表
示して記録し、あるいはこのように記録されたこれらの
値を処理することをしばしば希望する。
【0003】従って、工業用ガスを使用しているこれら
の使用者に、種々の分析点(これらは、与えられた処理
用の空気を使用する容器の種々の点か、または、ガス分
配ネットワークの種々の分析点)に取り込まれる監視さ
れるべきガスのサンプルを可能にする分析方法と装置の
利用の可能性を与えられることが分かり、次のことが可
能になる: ―分析装置すなわち問題の分析装置の応答時間を最小に
する; ―分析されるべき容器の空気または分配ネットワークを
流れるガスを表すような、分析されるべきガスのサンプ
ルを持った分析室を提供することを確実にし、および、
理解できるように、特に、分析室が接続点から遠く離れ
ている場合のケースにおいて確実にする; ―各測定点の順序に無関係にサンプルを取り分析をす
る; ―与えられた測定点のアドレス時間によらず、分析され
る種および使用される分析装置のタイプに依存してサン
プルを取り分析をする。
【0004】そのようなマルチ応用のために、分析され
るべき各チャンネルの前に順次位置するようになるバル
ブの段階的進行に基づくロータリーバルブを使用するこ
とが提案されてきた。しかしながら、そのようなロータ
リーバルブの使用は、その欠陥にも拘わらず、特に複雑
なハードウェアとリンクされ、その操作的強さは判明し
て維持されているが、しかし、なかんずく非常に正確な
回転進行順序が密着させるために必要である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、特に
上述した技術的問題点の解決を図ることである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、サンプ
リング手順において、少なくとも2つの最初のガス源か
ら、要素を分析することが可能な少なくとも1つの分析
装置を使用して、少なくとも1つの要素のレベルを分析
するための装置であって: ―分析されるべき少なくとも2つの最初のガス源を有
し; ―少なくとも2つの蛇口ラインを有し、各ラインが、そ
の上流部において前記最初のガス源の一方に接続され、
その下流部において対応する流れ管理要素(direc
ting component)に接続されていて; ―少なくとも2つの放出ラインを有し、各放出ライン
が、その上流部において前記管理要素の一方に接続さ
れ、その下流部において放出または貯蔵点に接続されて
いて; ―少なくとも2つの放出ラインを有し、各放出ライン
が、その上流部において前記管理要素の一方に接続さ
れ、その下流部において集合部に接続され、各管理要素
が協同する最初のガス源からのサンプルを各対応する放
出ライン、または、第2のラインを介して対応する集合
部へ向けることが可能であって; ―その上流部において集合部に接続され、その下流部に
おいて放出または貯蔵点に接続された第3のラインを有
し; ―その上流部において第3のラインに接続され、その下
流部において前記分析装置の少なくとも1つに接続され
た分析ラインを有している。
【0007】本発明の分析装置は、さらに、次の特徴の
1つまたは複数を有している。 ―集合部と、第3のラインと前記分析ラインの間の接続
点との間に設けられたポンプ要素; ―第3のラインは、前記分析ラインと第3のラインとの
接続点の下流の不可逆バルブを有している; ―第3のラインは、前記分析ラインと第3のラインとの
接続点の下流のオーバーフロー部を有し、少なくとも1
つの分析ラインには、圧力ヘッドロスを生成するための
要素が設けられている; ―少なくとも1つの放出ラインは、ポンプ要素を有す
る; ―分析ラインは、ケースによるが、調整ガスまたは浄化
ガスを分析されるべきガスの分析装置に向けることを可
能にする管理要素を有する; ―前記管理要素は、3方向ソレノイドバルブからなる; ―管理要素または蛇口ラインの要素は、協同する接続、
放出および第2のラインの接続の点によって形成された
装置を有し、第2のラインおよび放出ラインは、この点
の下流で、問題のラインを通るガスの流れを可能にする
かまたは遮断する要素を有する; ―前記最初のガス源は、大気圧以上の圧力である; ―前記最初のガス源は、実質的に大気圧に等しいかまた
は大気圧以下の圧力である; ―前記最初のガス源は、ガス供給ネットワークから取り
出されて分析される; ―前記最初のガス源は、ガス雰囲気を使用する容器の種
々の点から取り出されて分析される; ―複数の分析装置を有し、分析ラインが供給タンクで第
3のラインに接続されている; ―第3のラインと分析装置とを直列に接続する単一の分
析ラインを有する; ―分析装置毎に1つの分析ラインを有している。
【0008】本発明の他の利点および改良点は、図面に
示されているが、しかしいかなる限定も含まず、添付し
た図面と関連した以下の実施例の記述から分かる。
【0009】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の装置の概略図で
あって、6つの蛇口ラインLPiを有している。各蛇口
ラインは、最初のガス源Sからスタートし、フィルタ
を通ってこの場合3方向ソレノイドバルブである流
れ管理要素Vに接続されている。
【0010】最初のガス源は、例えば分配ネットワーク
(工程内への認可導入前の不純物監視の典型的な応用)
から採取されたガスのサンプルであっても良く、また
は、例えば、ガス雰囲気を使用している構内(encl
osure)(炉、トンネル、貯蔵コンテナ、等)のい
ろいろな点から採取されたガスのサンプルであっても良
い。
【0011】分析されるべき最初のガス源は、ケースに
もよるが、ついで、大気圧以上の圧力(数バールかまた
は10バールでもが達成される分配ネットワークの場合
の)にされるか、または、それに代えて実質的に大気圧
に等しいか或いは大気圧よりも低い圧力にされる。例え
ば、熱処理炉または食品製造工程用のトンネルのよう
な、工業用ガスを使用している多くの構内において、そ
のような「開放」構内の内側の圧力は、数ミリバールの
範囲内で大気圧に等しい(P=PA+(1から50ミリ
バール))ことが知られている。
【0012】本発明によれば、第2のラインLSi(集
合部Rを接続する)と、この実施例ではポンプ要素P
を通してベント(vent)Eを接続する放出ライン
とが、各3方向ソレノイドバルブEに接続され
ている。この実施例では2つの放出ラインが、1つのベ
ントで結合されている。例えば、放出ライン1及び2が
1つのベントEで結合されているので、6つのライン
を持ったこの実施例では、3つの放出ベントE
、およびEのみを有している。
【0013】図1の装置の説明をさらに以下に続ける
と、集合部Rからスターとしている第3のラインL
は、ポンプ要素Pおよび不可逆バルブCを通ってベン
トEへガスを放出可能であることが分かる。3方向ソレ
ノイドバルブVを通って分析すべきガスを分析装置A
に送ることが可能な分析ラインLは、この第3のライ
ンから出発(take off)している。分析装置A
は、また、受け取ったガスをベントEに放出すること
ができるガスの出口を有する。さらに、プラントは、3
方向ソレノイドバルブVによって補われていることに
注目すべきであって、ソレノイドバルブVとVとの
組み合わせがそれを可能にし、ケースにもよるが、分析
されるべきガス(ラインLに沿って)、調整ガス(ラ
インLから取り込まれた)あるいはそれに代わって浄
化ガス(ラインLPRから取り込まれた)を分析装置A
に向ける。
【0014】数字1、2および3は、ソレノイドバルブ
の3つの方向を表すのに使用されていて、その操作
をより都合良く表すためのものであり、通常、図1にお
いて装置が操作される方向である。ソレノイドバルブV
のコイルがオンになると通路1〜2が作動される。す
なわち、源Sから取り込まれたガスは、集合部Rへ送
られる。しかしながら、ソレノイドバルブVのコイル
がオフになると通路1〜3が作動され、源S6から取り
込まれたガスは、放出ラインLE6に沿って放出部E
へ送られる。
【0015】それ故、図1に示されたマルチモード分析
用の装置は、ガスのサンプルを6つの異なった点から取
り込み、それらを分析装置に分配することを可能にし、
装置の構成がそれを可能にし、図には示されていないが
(自動装置のような)監視/制御システムを使用してな
され、集合部Rを通って与えられたガス源を分析装置に
向けることによって種々の分析された点を連続的につな
ぐ(tap)ためであることが分かる。一方、源S
ら取り込まれた他の全てのガスのサンプルは、放出部E
等に向けられるので、他の源のソレノイドバルブが分
析されるために作動され、すなわち放出部に向けられ、
他は手をつけないままにして、先に分析されている源が
ついでその放出部に向けられる。
【0016】このタイプの装置は、ついで6つの最初の
ガス源を連続的につなぐことを可能にし、分析装置の応
答時間を最小にし、この分析装置が源Sでの雰囲気を
表すガスのサンプルを受け取ることを保証し、それは特
に、ある理由または他の理由によって、分析装置が接続
点から非常に離れている場合である。このタイプの装置
はまた、最初のガス源から、どのような順序ででも他の
ものに換えることを可能にし、既に上述したような制御
システムを使用して、各測定点でのアドレス時間を十分
に適合可能にし、例えば、ある測定点をより近接して監
視することを可能にし、それは、それらが、例えばより
クリティカル(crtical)な場合である。
【0017】同様に、あるデータ(例えば、それらの処
理構内の雰囲気における与えられた要素のレベルの時間
的側面)を見るかまたは記録したいある使用者に遭遇す
るために、表示と貯蔵の目的で、装置の分析装置から取
り込まれた信号を取り戻すことによって、本発明による
装置を使用することが容易である。これらの信号は、ま
た、もし必要ならば、1つまたはそれ以上の検知レベル
によって警報を発するために、または、それらに基づい
て1つまたはそれ以上のガス要素のレベルの調整用に自
動装置を使用するために処理することができる。
【0018】ここで、例えば、最初のガス源Sが、例
えば、制御された雰囲気における熱処理用の炉の工業用
ガスを使用する1つまたはそれ以上の構内の接続点であ
り、これらの構内のガスは実質的に大気圧であるような
場合のケースを考えてみよう。
【0019】つぎに、さらに、分析装置Aが、それ自身
のポンプ要素と共に一体に設けられている場合のケース
の例を考えてみよう。
【0020】最初のガス源が、問題のもの(in qu
estion)(すなわち、ガスが1つまたは複数の構
内から接続されている点)であるか否かに拘わらず、接
続されたガスは、集合部Rに到達し、ついで、大気圧に
実質的に等しい圧力で第3のラインLに到達し、分析
装置Aは、それ自身のポンプ要素を介して操作に必要な
ガス流量率のみを接続し、第3のラインからラインL
の出発(take off)を介して接続点Rに到達
し、第3のラインに沿ってベントEに放出された分析装
置に向けられていないた残りのガスを接続することが分
かる。
【0021】ポンプP1、P2、P3およびPは、分析
室と接続点との間の距離に従って寸法を定められ、ポン
プPは、特に、流量率が集合部Rに到達しそれ故第3の
ラインLが分析装置Aの操作のために必要な(ポンプ
もまた)流量率よりも高いように寸法を定められる。
【0022】図1を精査することによって、ソレノイド
バルブVおよびVがその組み合わせにおいてそれを
可能にし、例えば、停止中または夜間に装置がオフライ
ンである場合、ラインLPRから取り込まれた浄化ガス
或いは、ラインLから取り込まれた調整ガスを分析装
置Aに向け、ついで全ての蛇口ラインLPiは、決定的
に切り離されるか或いは一気に流れるかのいずれかであ
るように、しかしながら、それらと関連するベントE
と連通するように構成されることも容易に分かる。
【0023】図1の各管理要素および、特に、各蛇口ラ
インのバルブVが、3方向バルブで構成されているけ
れども、本発明の範疇を逸脱しないで他のタイプの管理
要素ももちろん考えることができ、それは例えば図3の
実施例に示されていて、その場合、管理要素Vは、源S
から取り込まれた蛇口ラインLの接続点と、集合部R
と放出ラインLとに向けられた第2のラインLとを
構成している。各ラインLおよLは、各ラインにガ
スを流したり阻止したりすることを可能にする2方向バ
ルブと共に設けられているので、事実、最初のガス源か
ら取り込んだガスを順次、要求に応じて、集合部Rまた
は放出部に向けることを可能にする。
【0024】当業者には容易に明らかなように、図1に
示された装置は、分析ラインLが第3のラインL
切り離された実施例が示されているが、本発明の範疇を
逸脱しないで他の構成が予見されるし、また、装置は、
「少なくとも1つの分析ラインがその上流で第3のライ
ンに接続されていて、その下流で…………」を有するの
で、上述の説明で使用された通常の構成になることも考
えられる。このように、図4の部分的開示は、図1の接
続構成を繰り返しているが、図5は、第3のラインが分
析ラインLから取り除かれているという事実によっ
て、よりよく示された変形例を開示していて、2つの構
成は交換可能であり:―2つのライン(分析および第3
の)がいずれの場合もある点に「接続されている」(除
去されている)、および―図5の場合においてもまた、
図では象徴的にLCNによって示された「接続」ライン
部分を通っているとしても、第3のラインは「その上流
部分において集合部に接続されている」ことが考慮され
る。
【0025】それ故、専門用語は二次的にのみ重要であ
り、アドレスされるべきもののほとんどが何かというこ
とが各ラインの本当の目的である。
【0026】しかしながら、図1と図4との構成は、第
3のラインLから分析ラインLによって接続された
ガスが、ベントEの方に向けられているのに、より確実
に大気圧であるので利点があることが分かる。
【0027】図1の詳細な記述に戻ると、応用例が上述
のように予見され、分析装置Aがそれ自身のポンプ要素
と共に設けられているけれども、それ自身のポンプ要素
を有していない分析装置Aを予見することもまたもちろ
ん可能である。その場合、本発明によれば、図6の態様
に概略的に示された構成を採用することが利点であり、
第3のラインLは、分析ラインLの接続点の第3の
ラインへの下流にオーバーフロー部Dを有していて、分
析ラインLは、圧力ヘッドのロスを創生するための構
成要素Xをそれ自身有している。
【0028】圧力ヘッドのロスを創生するための構成要
素は、スロットルバルブまたは、遮断バルブ、流量制限
装置、調整されたオリフィスのような構成要素から広範
囲な方法で、あるいは、非常に一般的な方法で形成され
ても良い。これは、圧力ヘッドのロスを創生すること
は、特にラインのこの位置に使用されているパイプライ
ンの構成によってもまた得られることを意味する。
【0029】従って、第3のラインでオーバーフロー部
(上流の圧力調整装置として考慮されるオーバーフロー
部)を構成する組立と、分析ラインで圧力ヘッドのロス
を創生するための構成要素は、問題の接続点と問題の接
続ラインのガス圧力とは無関係に、第3のラインと分析
ラインとの圧力が上流で起きるであろう変化に拘わらず
完全に固定されているのに対し、分析ラインにそして分
析装置に到達する一定の流量率があることを確実にする
ことが分かる。
【0030】第3のラインから出発されたような分析ラ
インか、または、分析ラインから出発されたような第3
のラインかのいずれかに関してなされた上述と同様のコ
メントは、ここでもまた行われる。
【0031】図1は、単一の分析装置Aを有する本発明
の分析装置を示していてのに対し、図2は、その部分用
に、3つの分析装置A、A、およびA、を有する
本発明の分析装置を示している。図2の装置は、集合部
Rの上流が図1の装置と比較して変更されていない。そ
の理由により、以下の説明は集合部Rの下流の部分につ
いてのみ行われる。この装置は、1つの分析装置に対し
1つの分析ライン(それぞれLA1、L およびL
A3)を有していて、各分析ラインは、黒く細長い形状
で示された供給タンクで第3のラインLに接続されて
いる。各分析ラインは、さらに、3方向ソレノイドバル
ブ(VA1、VA2およびV A3)からなる管理要素を
有している。上述のように、各分析装置は、受け取った
ガスをベントに放出することを可能にするガス放出部E
A1、EA2、およびEA3を有している。
【0032】さらに、装置が、各ソレノイドバルブV
Aiに接続されたソレノイドバルブV を有していて、
浄化ガス(ラインLPRから取り込んだ)または、調整
ガス(調整ラインLから取り込んだ)を各ソレノイド
バルブVAi従って各分析装置へ向けることができるこ
とが分かる。従って、このタイプの装置は、集合部Rの
上流の種々の分析点の連続した接続と関連して、図1の
範疇に関してすでに述べた全ての利点を維持しながら、
各接続点のために1つまたはそれ以上の分析を可能にす
ることが分かる。
【0033】図3から図6の範疇において既に述べた変
形例は、もちろん、図2の装置にもまた適合可能である
(Tおよび2方向バルブからなる管理要素、またはそれ
自身のポンプ要素を有していないで、圧力ヘッド低下を
創り出すための要素を通して供給する分析装置でもよ
い)。
【0034】ここで再び、ソレノイドバルブVA3の3
方向は、このソレノイドバルブの、および、一般的な装
置の操作の方法のより明瞭な説明をするために、1、
2、および3として番号を付されている。ソレノイドバ
ルブVA3のコイルがオンの時通路1〜2が使用される
のに対し、ソレノイドバルブVA3のコイルがオンでな
い時使用される通路は、1から3である。
【0035】源S6から取り込まれたガスが集合部Rへ
向けられているケースの例を考えてみると、他の源S
〜Sから取り込まれた他の全てのサンプルは、それら
に対応するベントE1〜E3に向けられる。もし、S
から取り込まれたガスが、例えば分析装置Aによって
分析されると、ソレノイドバルブVA3のコイルは、オ
ンに切り換わり(ここでは記載していないが、既に述べ
たシステムを制御するためであって、それによって分析
およびプロセス制御の分野の当業者にとっては極めて一
般的な補助的な制御システムによって)、他のソレノイ
ドバルブVA1およびVA2とがオンでないのに、ガス
が、通路1〜2を通って流れることを可能にし、分析装
置AおよびAが、装置V/LPRから取り込まれ
た放出ガスを急激に流されることを可能にする。
【0036】もちろん、もし、源Sから取り込まれた
ガスのサンプルもまた他の分析装置AまたはAによ
っても分析されるならば、分析装置Aが放出ガスを放
出することを可能にするために、ソレノイドバルブV
A3のコイルをオフにすることもまた完全に可能であ
り、源Sから取り込まれたガスのサンプルを分析装置
に到達させるために、例えば、ソレノイドバルブV
A2のコイルがオンに切り換わり、ソレノイドバルブV
A1はオフに維持され、分析装置Aは放出している。
【0037】
【発明の効果】本発明の装置は、連続的接続と、分析装
置の応答時間の最小化と、分析装置の代表的なガスサン
プルを保証出来、さらに、どのような順序でも、また、
各測定点のために十分に構成可能なアドレス時間を持っ
て最初のガス源から他のものに換えることが可能であ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】単一の分析ラインおよび単一の分析装置を使用
した本発明の装置の概略図。
【図2】供給タンクで第3のラインに接続された3つの
分析ラインおよび3つの分析装置を有する本発明の装置
の概略図。
【図3】協同するサンプリング、放出、および第2のラ
インの接続点によって形成され、第2および放出ライン
が2方向バルブを有している装置によって構成された本
発明の管理要素の実施例を示す図。
【図4】ベントに導く第3のラインから出発(take
off)した分析ラインを持った本発明の異なった実
施例を示す図。
【図5】図4と同様、ベントに導く第3のラインから出
発した分析ラインを持った本発明の異なった実施例を示
す図。
【図6】第3のラインが分析ラインの接続点の下流のオ
ーバーフロー部を有し、分析ラインがそれ自身圧力ヘッ
ドロスを生成するための要素を設けられている本発明の
部分を示す図。
【符号の説明】
A(A〜A)……分析装置 LPi(LP1〜LP6)……蛇口ライン S(S〜S)……最初のガス源 V(V〜V)……流れ管理要素 R……集合部 LEi(LE1〜LE6)……放出ライン E、E(E〜E)……sp P、P(P〜P)……ポンプ要素 L……第3のライン V、V、VAi(VA1〜VA3)……(3方向)
ソレノイドバルブ L、LAi(LA1〜LA3)……分析ライン L……ライン LPR……ライン E、EAi(EA1〜EA3)……ベント LSi(LS1〜LS6)……第2のライン Fi……フィルタ

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 サンプリング手順において、要素を分析
    することが可能な少なくとも1つの分析装置(A、A
    、……)を使用して、少なくとも2つの最初のガス源
    (S、S、……)から少なくとも1つの要素のレベ
    ルを分析するための装置であって: ―分析されるべき少なくとも2つの最初のガス源
    (S、S、……)を有し; ―少なくとも2つの蛇口ライン(LP1、LP2、…
    …)を有し、各ラインが、その上流部において前記最初
    のガス源の一方に接続され、その下流部において対応す
    る流れ管理要素(V、V、……)に接続されてい
    て; ―少なくとも2つの放出ライン(LE1、LE2、…
    …)を有し、各放出ラインが、その上流部において前記
    管理要素の一方に接続され、その下流部において放出ま
    たは貯蔵点(E、E、……)に接続されていて; ―少なくとも第2のライン(LS1、LS2、……)を
    有し、各第2のラインが、その上流部において前記管理
    要素の一方に接続され、その下流部において集合部
    (R)に接続され、各管理要素は協同する最初のガス源
    からのサンプルを各対応する放出ライン、または、第2
    のラインを介して対応する集合部へ向けることが可能で
    あって; ―その上流部において集合部に接続され、その下流部に
    おいて放出または貯蔵点(E)に接続された第3のライ
    ン(L)を有し; ―その上流部において第3のラインに接続され、その下
    流部において前記分析装置の少なくとも1つに接続され
    た分析ライン(LAi)を有し;たことを特徴とする分
    析装置。
  2. 【請求項2】 第3のラインは、集合部と、第3のライ
    ンと前記少なくとも1つの分析ラインとの間の接続点と
    の間に設けられたポンプ要素(P)を有することを特徴
    とする請求項1記載の分析装置。
  3. 【請求項3】 第3のラインは、前記少なくとも1つの
    分析ラインと第3のラインとの接続点の下流の不可逆バ
    ルブを有することを特徴とする請求項1または2記載の
    分析装置。
  4. 【請求項4】 第3のラインは、前記少なくとも1つの
    分析ラインと第3のラインとの接続点の下流のオーバー
    フロー部(D)を有し、少なくとも1つの分析ラインに
    は、圧力ヘッドロスを生成するための要素(X)が設け
    られていることを特徴とする請求項1ないし3いずれか
    1項記載の分析装置。
  5. 【請求項5】 少なくとも1つの放出ラインは、ポンプ
    要素(P)を有することを特徴とする請求項1ないし
    4いずれか1項記載の分析装置。
  6. 【請求項6】 分析ラインは、分析されるべきガスの調
    整ガスまたは浄化ガスを分析装置に向けることを可能に
    する管理要素(VAi)を有することを特徴とする請求
    項1ないし5いずれか1項記載の分析装置。
  7. 【請求項7】 前記管理要素は、3方向ソレノイドバル
    ブからなることを特徴とする請求項1ないし6いずれか
    1項記載の分析装置。
  8. 【請求項8】 管理要素または蛇口ラインの要素は、協
    同する接続、放出および第2のラインの接続の点によっ
    て形成された装置を有し、第2のラインおよび放出ライ
    ンは、この点の下流で、問題のラインを通るガスの流れ
    を可能にするかまたは遮断する要素を有することを特徴
    とする請求項1ないし7いずれか1項記載の分析装置。
  9. 【請求項9】 前記最初のガス源は、大気圧以上の圧力
    であることを特徴とする請求項1ないし8いずれか1項
    記載の分析装置。
  10. 【請求項10】 前記最初のガス源は、実質的に大気圧
    に等しいかまたは大気圧以下の圧力であることを特徴と
    する請求項1ないし9いずれか1項記載の分析装置。
  11. 【請求項11】 前記最初のガス源は、ガス供給ネット
    ワークから取り出されて分析されることを特徴とする請
    求項9記載の分析装置。
  12. 【請求項12】 前記最初のガス源は、ガス雰囲気を使
    用する構内の種々の点から取り出されて分析されること
    を特徴とする請求項10記載の分析装置。
  13. 【請求項13】 複数の分析装置を有し、分析ラインが
    供給タンクで第3のラインに接続されていることを特徴
    とする請求項1ないし12いずれか1項記載の分析装
    置。
  14. 【請求項14】 第3のラインと分析装置とを直列に接
    続する単一の分析ラインを有することを特徴とする請求
    項13記載の分析装置。
  15. 【請求項15】 分析装置毎に1つの分析ラインを有し
    ていることを特徴とする請求項13記載の分析装置。
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