JP2000002521A - ３次元入力装置 - Google Patents
３次元入力装置Info
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- JP2000002521A JP2000002521A JP17120798A JP17120798A JP2000002521A JP 2000002521 A JP2000002521 A JP 2000002521A JP 17120798 A JP17120798 A JP 17120798A JP 17120798 A JP17120798 A JP 17120798A JP 2000002521 A JP2000002521 A JP 2000002521A
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- Measurement Of Optical Distance (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】物体の走査の所要時間を短縮し、且つ主走査及
び副走査の両方向の分解能を高める。 【解決手段】仮想平面に向かってそれを走査するように
参照光を投射し、入力対象物体で反射した参照光の入射
角度に応じたデータを出力する３次元入力装置におい
て、互いに変調周波数ｆ1 〜ｆn の異なる強度変調光Ｌ
1 〜Ｌn を参照光として射出する２以上のｎ個の光源１
１1 〜１１n と、仮想平面ＶＳをｎ分割して走査するよ
うに、各光源が射出する強度変調光を互いに異なるサン
プリング区画ｓｐに導く偏向手段１５，１６と、仮想平
面の全域が検出範囲となるように設けられた２次元位置
検出型の光電変換デバイス２５と、得られた光電変換信
号を各変調周波数の成分に分離し、各強度変調光の入射
角度に応じた受光情報をデータとして出力する信号処理
手段５０とを設ける。
び副走査の両方向の分解能を高める。 【解決手段】仮想平面に向かってそれを走査するように
参照光を投射し、入力対象物体で反射した参照光の入射
角度に応じたデータを出力する３次元入力装置におい
て、互いに変調周波数ｆ1 〜ｆn の異なる強度変調光Ｌ
1 〜Ｌn を参照光として射出する２以上のｎ個の光源１
１1 〜１１n と、仮想平面ＶＳをｎ分割して走査するよ
うに、各光源が射出する強度変調光を互いに異なるサン
プリング区画ｓｐに導く偏向手段１５，１６と、仮想平
面の全域が検出範囲となるように設けられた２次元位置
検出型の光電変換デバイス２５と、得られた光電変換信
号を各変調周波数の成分に分離し、各強度変調光の入射
角度に応じた受光情報をデータとして出力する信号処理
手段５０とを設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、物体に光を投射し
て物体形状情報を非接触で取得して出力する３次元入力
装置に関する。
て物体形状情報を非接触で取得して出力する３次元入力
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】レンジファインダと呼称される非接触型
の３次元計測装置（３次元カメラ）は、接触型に比べて
高速の計測が可能であることから、ＣＧシステムやＣＡ
Ｄシステムへのデータ入力、身体計測、ロボットの視覚
認識などに利用されている。
の３次元計測装置（３次元カメラ）は、接触型に比べて
高速の計測が可能であることから、ＣＧシステムやＣＡ
Ｄシステムへのデータ入力、身体計測、ロボットの視覚
認識などに利用されている。
【０００３】レンジファインダに好適な計測方法として
光投影法が用いられている。この方法は、物体を光学的
に走査して三角測量の原理に基づいて距離画像（３次元
画像）を得る方法であり、参照光を投射して物体を走査
する能動的計測方法の一種である。物体で反射した参照
光は受光レンズを通って光電変換素子の受光面に入射す
る。その入射位置は入射角度に対応するので、入射位置
を検出することによって物体との距離を算出することが
できる。参照光としてビームの断面が線状のスリット光
を投射する場合には副走査方向のビーム偏向を行い、点
状のスポット光を投射する場合には主走査方向及び副走
査方向のビーム偏向を行う。スポット光の投射では、ス
リット光の投射と比べて走査機構が複雑になるが、光源
に要求されるパワーは小さい。
光投影法が用いられている。この方法は、物体を光学的
に走査して三角測量の原理に基づいて距離画像（３次元
画像）を得る方法であり、参照光を投射して物体を走査
する能動的計測方法の一種である。物体で反射した参照
光は受光レンズを通って光電変換素子の受光面に入射す
る。その入射位置は入射角度に対応するので、入射位置
を検出することによって物体との距離を算出することが
できる。参照光としてビームの断面が線状のスリット光
を投射する場合には副走査方向のビーム偏向を行い、点
状のスポット光を投射する場合には主走査方向及び副走
査方向のビーム偏向を行う。スポット光の投射では、ス
リット光の投射と比べて走査機構が複雑になるが、光源
に要求されるパワーは小さい。
【０００４】従来において、複数のスリット光を１つの
回転ミラーで偏向して投射し、計測対象範囲を分割した
複数の範囲を同時に走査する手法が知られている（特開
昭６２−６３８０４号）。受光にはテレビジョンカメラ
を用い、走査中のサンプリング時点のそれぞれで一定期
間ずつ物体を撮影する。各スリット光を互いに異なるパ
ターンで点滅させ、一定期間の撮影情報から点滅のパタ
ーンを判別することにより、各サンプリング時点で各ス
リット光が受光面のどの位置に入射したかが判る。この
手法によれば、１つのスリット光で計測範囲の全域を走
査する場合と比べて計測時間を短縮することができる。
回転ミラーで偏向して投射し、計測対象範囲を分割した
複数の範囲を同時に走査する手法が知られている（特開
昭６２−６３８０４号）。受光にはテレビジョンカメラ
を用い、走査中のサンプリング時点のそれぞれで一定期
間ずつ物体を撮影する。各スリット光を互いに異なるパ
ターンで点滅させ、一定期間の撮影情報から点滅のパタ
ーンを判別することにより、各サンプリング時点で各ス
リット光が受光面のどの位置に入射したかが判る。この
手法によれば、１つのスリット光で計測範囲の全域を走
査する場合と比べて計測時間を短縮することができる。
【０００５】また、従来において、一般的なＣＣＤエリ
アセンサに代えて、多数個（例えば１２８個）の１次元
のＰＤＳ（位置検出型の光検出器）を主走査方向に並べ
て用い、疑似的に２次元の受光面を形成する手法が提案
されている。各ＰＳＤはその帯状受光面に入射した光の
受光位置に応じたアナログ信号を出力する。ＰＳＤによ
れば、ＣＣＤと違って電荷蓄積が不要であることから高
速の走査が可能になり、且つスリット光の偏向方向であ
る副走査方向の分解能（解像度）が向上する。
アセンサに代えて、多数個（例えば１２８個）の１次元
のＰＤＳ（位置検出型の光検出器）を主走査方向に並べ
て用い、疑似的に２次元の受光面を形成する手法が提案
されている。各ＰＳＤはその帯状受光面に入射した光の
受光位置に応じたアナログ信号を出力する。ＰＳＤによ
れば、ＣＣＤと違って電荷蓄積が不要であることから高
速の走査が可能になり、且つスリット光の偏向方向であ
る副走査方向の分解能（解像度）が向上する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した複数のスリッ
ト光を投射する手法では、スリット光の点滅パターンを
判別するために各走査位置毎に複数のフレームの撮影を
行わなければならないので、走査速度は１つのスリット
光で走査する場合よりも低下する。つまり、スリット光
の数がある程度多くなければ計測時間は短縮されない。
光源及び点滅回路の増加で投光系が複雑になる割に時間
短縮の効果が小さい。
ト光を投射する手法では、スリット光の点滅パターンを
判別するために各走査位置毎に複数のフレームの撮影を
行わなければならないので、走査速度は１つのスリット
光で走査する場合よりも低下する。つまり、スリット光
の数がある程度多くなければ計測時間は短縮されない。
光源及び点滅回路の増加で投光系が複雑になる割に時間
短縮の効果が小さい。
【０００７】また、ＰＳＤアレイで受光する手法では、
ＰＳＤの配列数によって主走査方向の分解能が決まって
しまう。各ＰＳＤ毎にヘッドアンプが必要なので、回路
規模の制約から配列数の増加は困難である。
ＰＳＤの配列数によって主走査方向の分解能が決まって
しまう。各ＰＳＤ毎にヘッドアンプが必要なので、回路
規模の制約から配列数の増加は困難である。
【０００８】本発明は、物体の走査の所要時間を短縮
し、且つ主走査及び副走査の両方向の分解能を高めるこ
とを目的としている。
し、且つ主走査及び副走査の両方向の分解能を高めるこ
とを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の装置
は、仮想平面に向かってそれを走査するように参照光を
投射し、前記仮想平面を細分化した各サンプリング区画
を通過する時点での入力対象物体で反射した前記参照光
の入射角度に応じたデータを出力する３次元入力装置で
あって、互いに変調周波数の異なる強度変調光を前記参
照光として射出する２以上のｎ個の光源と、前記仮想平
面をｎ分割して走査するように、前記各光源が射出する
強度変調光を互いに異なるサンプリング区画に導く偏向
手段と、前記仮想平面の全域が検出範囲となるように設
けられた２次元位置検出型の光電変換デバイスと、前記
光電変換デバイスによって得られた光電変換信号を前記
各変調周波数の成分に分離し、前記各強度変調光の入射
角度に応じた受光情報を前記データとして出力する信号
処理手段とを有している。
は、仮想平面に向かってそれを走査するように参照光を
投射し、前記仮想平面を細分化した各サンプリング区画
を通過する時点での入力対象物体で反射した前記参照光
の入射角度に応じたデータを出力する３次元入力装置で
あって、互いに変調周波数の異なる強度変調光を前記参
照光として射出する２以上のｎ個の光源と、前記仮想平
面をｎ分割して走査するように、前記各光源が射出する
強度変調光を互いに異なるサンプリング区画に導く偏向
手段と、前記仮想平面の全域が検出範囲となるように設
けられた２次元位置検出型の光電変換デバイスと、前記
光電変換デバイスによって得られた光電変換信号を前記
各変調周波数の成分に分離し、前記各強度変調光の入射
角度に応じた受光情報を前記データとして出力する信号
処理手段とを有している。
【００１０】請求項２の発明の３次元入力装置におい
て、前記信号処理手段は、前記各成分とそれに対応した
前記強度変調光の偏向角度情報とから入力対象物体にお
ける当該強度変調光が反射した位置を前記データとして
算定する演算手段を有している。
て、前記信号処理手段は、前記各成分とそれに対応した
前記強度変調光の偏向角度情報とから入力対象物体にお
ける当該強度変調光が反射した位置を前記データとして
算定する演算手段を有している。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る３次元入力装
置１の概要を示す図、図２は信号処理回路５０のブロッ
ク図である。
置１の概要を示す図、図２は信号処理回路５０のブロッ
ク図である。
【００１２】３次元計測装置１は、仮想平面ＶＳに向か
ってラスタ走査をするように光ビームＬ1 〜Ｌn を投射
する投光系１０、計測対象の物体Ｑで反射した光ビーム
Ｌ1〜Ｌn を受光する受光系２０、及び受光の入射角に
応じた距離データＤＰ1 〜ＤＰn を出力する信号処理回
路５０を備えている。
ってラスタ走査をするように光ビームＬ1 〜Ｌn を投射
する投光系１０、計測対象の物体Ｑで反射した光ビーム
Ｌ1〜Ｌn を受光する受光系２０、及び受光の入射角に
応じた距離データＤＰ1 〜ＤＰn を出力する信号処理回
路５０を備えている。
【００１３】投光系１０は、ｎ個の光源１１1 〜１
１n 、各光源１１1 〜１１n に１つずつ設けられた変調
回路１２1 〜１２n 、主走査方向の偏向手段であるガル
バノミラー１５、及び副走査方向の偏向手段であるガル
バノミラー１６から構成されている。光源１１1 〜１１
n としては、半導体レーザ（ＬＤ）が好適であるが、発
光ダイオード、放電ランプを用いることもできる。各ガ
ルバノミラー１５，１６は、光ビームを反射するミラー
とそれを回動させる電磁機構とからなり、計ｎ本の光ビ
ームＬ1 〜Ｌn を一括に偏向して仮想平面ＶＳへ導く。
仮想平面ＶＳは主走査方向にｎ分割され、ｎ個の分割領
域に対する走査が並行して行われる。各光源１１1 〜１
１n は１つの分割領域に専用の光源として用いられる。
ガルバノミラー１５，１６の電磁機構には、図示しない
制御系から駆動電圧が与えられる。主走査は１ライン毎
にビーム偏向の方向が反転する往復形式である。
１n 、各光源１１1 〜１１n に１つずつ設けられた変調
回路１２1 〜１２n 、主走査方向の偏向手段であるガル
バノミラー１５、及び副走査方向の偏向手段であるガル
バノミラー１６から構成されている。光源１１1 〜１１
n としては、半導体レーザ（ＬＤ）が好適であるが、発
光ダイオード、放電ランプを用いることもできる。各ガ
ルバノミラー１５，１６は、光ビームを反射するミラー
とそれを回動させる電磁機構とからなり、計ｎ本の光ビ
ームＬ1 〜Ｌn を一括に偏向して仮想平面ＶＳへ導く。
仮想平面ＶＳは主走査方向にｎ分割され、ｎ個の分割領
域に対する走査が並行して行われる。各光源１１1 〜１
１n は１つの分割領域に専用の光源として用いられる。
ガルバノミラー１５，１６の電磁機構には、図示しない
制御系から駆動電圧が与えられる。主走査は１ライン毎
にビーム偏向の方向が反転する往復形式である。
【００１４】受光系２０は、結像レンズ２１と、光ビー
ムＬ1 〜Ｌn の入射角度を検出するための受光デバイス
２５とからなる。受光デバイス２５は、受光面に入射し
た光のスポット位置に応じた光電変換信号Ｘ１，Ｘ２を
出力する２次元位置検出型光検出器（ＰＳＤ）である。
ＰＳＤを用いることにより、ＣＣＤ撮像デバイスを用い
る場合と比べて電荷蓄積が不要となる分だけ走査を高速
化することができる。
ムＬ1 〜Ｌn の入射角度を検出するための受光デバイス
２５とからなる。受光デバイス２５は、受光面に入射し
た光のスポット位置に応じた光電変換信号Ｘ１，Ｘ２を
出力する２次元位置検出型光検出器（ＰＳＤ）である。
ＰＳＤを用いることにより、ＣＣＤ撮像デバイスを用い
る場合と比べて電荷蓄積が不要となる分だけ走査を高速
化することができる。
【００１５】受光系２０と投光系１０とは一定距離を隔
てて配置されており、互いの配置関係は既知である。し
たがって、受光デバイス２５に入射した光ビームＬ1 〜
Ｌnの入射角度が判れば、物体Ｑにおける光ビームＬ1
〜Ｌn が照射された部位Ｐ1〜Ｐn と装置内の基準位置
との距離を三角測量法を適用して求めることができる。
光ビームＬ1 〜Ｌn の入射角度は、受光デバイス２５の
受光面における中心とスポットとの距離に対応する。走
査期間において受光デバイス２５の出力を周期的にサン
プリングすれば、仮想平面ＶＳを主走査方向及び副走査
方向に細分化した各サンプリング区画（原理的には点）
ｓｐ毎に物体Ｑの奥行き（仮想平面ＶＳと直交する方向
の位置）を計測することができる。すなわち、サンプリ
ング区画ｓｐを画素とする距離画像を得ることができ
る。ただし、受光デバイス２５には物体Ｑで反射した複
数の光ビームＬ1 〜Ｌn が入射し、それらが重なりあっ
た照射範囲の位置を示す光電変換信号が出力される。し
たがって、受光面における各光ビームＬ1 〜Ｌn のスポ
ット位置を判別する必要がある。
てて配置されており、互いの配置関係は既知である。し
たがって、受光デバイス２５に入射した光ビームＬ1 〜
Ｌnの入射角度が判れば、物体Ｑにおける光ビームＬ1
〜Ｌn が照射された部位Ｐ1〜Ｐn と装置内の基準位置
との距離を三角測量法を適用して求めることができる。
光ビームＬ1 〜Ｌn の入射角度は、受光デバイス２５の
受光面における中心とスポットとの距離に対応する。走
査期間において受光デバイス２５の出力を周期的にサン
プリングすれば、仮想平面ＶＳを主走査方向及び副走査
方向に細分化した各サンプリング区画（原理的には点）
ｓｐ毎に物体Ｑの奥行き（仮想平面ＶＳと直交する方向
の位置）を計測することができる。すなわち、サンプリ
ング区画ｓｐを画素とする距離画像を得ることができ
る。ただし、受光デバイス２５には物体Ｑで反射した複
数の光ビームＬ1 〜Ｌn が入射し、それらが重なりあっ
た照射範囲の位置を示す光電変換信号が出力される。し
たがって、受光面における各光ビームＬ1 〜Ｌn のスポ
ット位置を判別する必要がある。
【００１６】スポット位置の判別を可能とするために光
源１１1 〜１１n に対して変調回路１２1 〜１２n によ
る強度変調が行われ、それらの変調周波数ｆ1 〜ｆn が
互いに異なる値に設定される。すなわち、各光ビームＬ
1 〜Ｌn は互いに変調周波数の異なる強度変調光であ
る。信号処理回路５０は、各変調周波数ｆ1 〜ｆn を透
過帯域の中心周波数とする計２ｎ個のバンドパスフィル
タからなるフィルタ回路５３を有しており、各光電変換
信号Ｘ１，Ｘ２を周波数ｆ1 〜ｆn の成分に分離する。
なお、フィルタ回路５３には増幅器５１，５２で適切な
レベルに増幅された光電変換信号Ｘ１，Ｘ２が入力され
る。分離された各周波数ｆ1 〜ｆn の成分は検波回路５
４を経て所定極性の信号Ｓ１i ，Ｓ２i （ｉ＝１〜ｎ）
となり、各光ビームＬ1 〜Ｌn の入射角情報として距離
演算回路５５に入力される。距離演算回路５５は、同一
構成のｎ個の回路ブロックからなり、信号Ｓ１i ，Ｓ２
i から距離データＤＰ1 〜ＤＰn を生成して出力する。
源１１1 〜１１n に対して変調回路１２1 〜１２n によ
る強度変調が行われ、それらの変調周波数ｆ1 〜ｆn が
互いに異なる値に設定される。すなわち、各光ビームＬ
1 〜Ｌn は互いに変調周波数の異なる強度変調光であ
る。信号処理回路５０は、各変調周波数ｆ1 〜ｆn を透
過帯域の中心周波数とする計２ｎ個のバンドパスフィル
タからなるフィルタ回路５３を有しており、各光電変換
信号Ｘ１，Ｘ２を周波数ｆ1 〜ｆn の成分に分離する。
なお、フィルタ回路５３には増幅器５１，５２で適切な
レベルに増幅された光電変換信号Ｘ１，Ｘ２が入力され
る。分離された各周波数ｆ1 〜ｆn の成分は検波回路５
４を経て所定極性の信号Ｓ１i ，Ｓ２i （ｉ＝１〜ｎ）
となり、各光ビームＬ1 〜Ｌn の入射角情報として距離
演算回路５５に入力される。距離演算回路５５は、同一
構成のｎ個の回路ブロックからなり、信号Ｓ１i ，Ｓ２
i から距離データＤＰ1 〜ＤＰn を生成して出力する。
【００１７】図３は距離演算回路５５のブロック図であ
る。同図では各光ビームＬ1 〜Ｌnに１個ずつ対応する
計ｎ個の回路ブロックのうちの１個のみが示されてい
る。距離演算回路５５は、減算器５５１、加算器５５
２、除算器５５３、Ａ／Ｄ変換器５５４、及びルックア
ップテーブル（ＬＵＴ）５５５を有している。検波回路
５４から入力された周波数ｆi の信号Ｓ１i ，Ｓ２i に
対して次式の演算を行うことにより、受光面における光
ビームＬi の入射位置ｘが求まる。
る。同図では各光ビームＬ1 〜Ｌnに１個ずつ対応する
計ｎ個の回路ブロックのうちの１個のみが示されてい
る。距離演算回路５５は、減算器５５１、加算器５５
２、除算器５５３、Ａ／Ｄ変換器５５４、及びルックア
ップテーブル（ＬＵＴ）５５５を有している。検波回路
５４から入力された周波数ｆi の信号Ｓ１i ，Ｓ２i に
対して次式の演算を行うことにより、受光面における光
ビームＬi の入射位置ｘが求まる。
【００１８】 ｘ＝（Ｓ１i −Ｓ２i ）／（Ｓ１i ＋Ｓ２i ） この入射位置ｘを示す除算器５５３の出力をＡ／Ｄ変換
した受光データＤＸが入射角度情報としてＬＵＴ５５５
に入力される。また、ＬＵＴ５５５にはガルバノミラー
１６の駆動系から投射角度情報として偏向角度データＤ
Ｙが入力される。ＬＵＴ５５５は、受光データＤＸと偏
向角度データＤＹとで指定されるアドレスにあらかじめ
格納されている値を距離データＤＰi として出力する。
した受光データＤＸが入射角度情報としてＬＵＴ５５５
に入力される。また、ＬＵＴ５５５にはガルバノミラー
１６の駆動系から投射角度情報として偏向角度データＤ
Ｙが入力される。ＬＵＴ５５５は、受光データＤＸと偏
向角度データＤＹとで指定されるアドレスにあらかじめ
格納されている値を距離データＤＰi として出力する。
【００１９】図４は主走査のためのガルバノミラー１５
と光源との配置関係を示す図、図５は光ビームの主走査
方向の偏向の模式図である。光源１１1 〜１１n は、光
軸がガルバノミラー１５の反射面の中央部を通り互いに
角度θをなすように配置される。光源１１1 〜１１n か
ら射出された光ビームはコリメータレンズ１３1 〜１３
n で集光されてガルバノミラー１５に入射する。ガルバ
ノミラー１５は、角度θ／２の範囲で回動する。各光源
１１1 〜１１ n からの光ビームは、副走査のためのガル
バノミラー１６の互いに異なる範囲に入射し、一括に偏
向される。図５のように、光源１１1 〜１１n とガルバ
ノミラー１５の反射面の中央部は同一平面上にあり、ガ
ルバノミラー１５の回転軸はその平面と直交する。
と光源との配置関係を示す図、図５は光ビームの主走査
方向の偏向の模式図である。光源１１1 〜１１n は、光
軸がガルバノミラー１５の反射面の中央部を通り互いに
角度θをなすように配置される。光源１１1 〜１１n か
ら射出された光ビームはコリメータレンズ１３1 〜１３
n で集光されてガルバノミラー１５に入射する。ガルバ
ノミラー１５は、角度θ／２の範囲で回動する。各光源
１１1 〜１１ n からの光ビームは、副走査のためのガル
バノミラー１６の互いに異なる範囲に入射し、一括に偏
向される。図５のように、光源１１1 〜１１n とガルバ
ノミラー１５の反射面の中央部は同一平面上にあり、ガ
ルバノミラー１５の回転軸はその平面と直交する。
【００２０】
【発明の効果】請求項１又は請求項２の発明によれば、
物体の走査の所要時間を短縮し、且つ主走査及び副走査
の両方向の分解能を高めることができる。
物体の走査の所要時間を短縮し、且つ主走査及び副走査
の両方向の分解能を高めることができる。
【図１】本発明に係る３次元入力装置の概要を示す図で
ある。
ある。
【図２】信号処理回路のブロック図である。
【図３】距離演算回路のブロック図である。
【図４】主走査のためのガルバノミラーと光源との配置
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図５】光ビームの主走査方向の偏向の模式図である。
１ ３次元入力装置 ＶＳ 仮想平面 Ｌ1 〜Ｌn 光ビーム（強度変調光） １５，１６ ガルバノミラー（偏向手段） Ｑ 入力対象物体 ＤＰ1 〜ＤＰn 距離データ（データ） １１1 〜１１n 光源 ２５ 受光デバイス（光電変換デバイス） ５０ 信号処理手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井手 英一 大阪府大阪市中央区安土町二丁目３番13号 大阪国際ビル ミノルタ株式会社内 Ｆターム(参考） 2F065 AA04 AA06 AA19 AA53 DD03 DD06 FF01 FF09 FF44 GG06 GG07 GG23 JJ16 JJ26 LL13 LL62 MM16 NN06 NN08 QQ01 QQ03 QQ25 QQ26 QQ27 QQ33
Claims (2)
- 【請求項１】仮想平面に向かってそれを走査するように
参照光を投射し、前記仮想平面を細分化した各サンプリ
ング区画を通過する時点での入力対象物体で反射した前
記参照光の入射角度に応じたデータを出力する３次元入
力装置であって、 互いに変調周波数の異なる強度変調光を前記参照光とし
て射出する２以上のｎ個の光源と、 前記仮想平面をｎ分割して走査するように、前記各光源
が射出する強度変調光を互いに異なるサンプリング区画
に導く偏向手段と、 前記仮想平面の全域が検出範囲となるように設けられた
２次元位置検出型の光電変換デバイスと、 前記光電変換デバイスによって得られた光電変換信号を
前記各変調周波数の成分に分離し、前記各強度変調光の
入射角度に応じた受光情報を前記データとして出力する
信号処理手段と、を有したことを特徴とする３次元入力
装置。 - 【請求項２】前記信号処理手段は、前記各成分とそれに
対応した前記強度変調光の偏向角度情報とから入力対象
物体における当該強度変調光が反射した位置を前記デー
タとして算定する演算手段を有している請求項１記載の
３次元入力装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17120798A JP2000002521A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ３次元入力装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17120798A JP2000002521A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | ３次元入力装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000002521A true JP2000002521A (ja) | 2000-01-07 |
Family
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|---|---|---|---|---|
| JP2001304821A (ja) * | 2000-02-16 | 2001-10-31 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像撮像装置及び距離測定方法 |
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-
1998
- 1998-06-18 JP JP17120798A patent/JP2000002521A/ja active Pending
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