HU176024B - Method for producing perforated metal foil - Google Patents
Method for producing perforated metal foil Download PDFInfo
- Publication number
- HU176024B HU176024B HU77SCHA180A HUSC000180A HU176024B HU 176024 B HU176024 B HU 176024B HU 77SCHA180 A HU77SCHA180 A HU 77SCHA180A HU SC000180 A HUSC000180 A HU SC000180A HU 176024 B HU176024 B HU 176024B
- Authority
- HU
- Hungary
- Prior art keywords
- layer
- photosensitive layer
- portions
- swelling
- moisture
- Prior art date
Links
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 31
- 239000011888 foil Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000008961 swelling Effects 0.000 claims abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 7
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 5
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 claims description 4
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 4
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 claims description 4
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 claims description 4
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 claims description 4
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 claims description 4
- -1 urea compound Chemical class 0.000 claims description 4
- HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N phenylhydrazine Chemical compound NNC1=CC=CC=C1 HKOOXMFOFWEVGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 claims description 3
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims description 3
- 238000005246 galvanizing Methods 0.000 claims description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 9
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 7
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 abstract description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 abstract 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N benzenediazonium Chemical class N#[N+]C1=CC=CC=C1 CIZVQWNPBGYCGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- CEALXSHFPPCRNM-UHFFFAOYSA-L disodium;carboxylato carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C(=O)OC([O-])=O CEALXSHFPPCRNM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 230000000763 evoking effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002314 glycerols Chemical class 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
A találmány tárgya eljárás perforációs mintával ellátott fémfólia, előnyösen rotációs sablonnyomásra alkalmas sablon előállítására, amelynél a perforációs mintát fémfelületen, vagy esetleg fémfelületre felvitt alsó rétegen kialakított fényérzékeny rétegre visszük fel, a fényérzékeny réteget megvilágítjuk és előhívjuk, majd a fóliát galvanikusan felépítjük.
A perforációs mintával ellátott fémfóliát a rotációs sablonnyomáshoz szitanyomó sablonként használják fel. Az ilyenfajta síitanyomó sablonokat leggyakrabban úgy állítják elő, hogy fémhengerre fényérzékeny lakkréteget visznek fel, majd a lakkréteg szárítása után olyan filmet helyeznek fel, amely a kívánt mintát raszteresen tartalmazza. Ezt követően a filmet megvilágítják. A fény hatására a fényérzékeny réteg megvilágított helyein kémiai elváltozások játszódnak le, a képet előhívják, ennek következtében a fémhenger fémfelülete helyenként szabaddá válik. Ezután a szabad helyekre galvanizáló eljárással vékony nikkelréteget visznek fel, így a : fémhenger és a maradék fényérzékeny réteg eltávolítása után perforációs mintával ellátott fémfólia jön létre. Ezen eljárás hátránya, hogy a szitanyomó sablon nyílásai kisebbek, mint a filmen levő mintapontok. Ennek az az oka, hogy a galvanizálás ! folyamatában a fém nemcsak a nyílásokra merőlegesen választódik ki, hanem a nyílások kerülete mentén befelé is növekszik. Megállapították, hogy a benövés mértéke körülbelül a sablon vastagságának felel meg, vagyis minél vékonyabb a sablon, :
nfólia előállítására annál kisebb nyílások állíthatók elő. *A sablon vastagsága azonban nem csökkenthető tetszőleges mértékben, mivel a nyomáskor fellépő igénybevételek elviselése megkövetel egy minimális vastagságot, 5 ezek hatására a sablon nem mehet tönkre. Ha a sablon nyílásain például festékanyagot préselnek át, akkor a nyílásokat és a közöttük levő kapcsolatot létrehozó anyagnak ezt a nyomást ki kell bírni.
Célunk, hogy találmány szerinti megoldásunkban 0 olyan eljárást hozzunk létre, amellyel a sablon előállítását megkönnyítjük, és az említett hátrányokat kiküszöböljük.
Célunkat olyan, perforációs mintával ellátott fémfólia, előnyösen rotációs sablonnyomáshoz hasz· 5 nált sablon előállítására szolgáló eljárás kidolgozásával érjük el, amelyben fémfelületre, esetleg fémfelületre felvitt alsó rétegre fényérzékeny réteget hordunk fel, a fényérzékeny réteget raszteres mintával ellátott filmen át megvilágítjuk és a képet 0 előhívjuk, majd a fémfóliát galvanikus úton felépítjük és a fém felületről eltávolítjuk, a találmány szerint úgy, hogy - az esetleg duzzasztószert tartalmazó - fényérzékeny rétegben a réteg előhívása után visszamaradt vagy az alsó rétegben maradt 5 részeket nedvességet vagy oldószert leadó közeggel érintkezésbe hozzuk és/vagy felmelegítjük, illetve az előhívott réteget újból megvilágítjuk és így a rétegvastagságot többszörösére duzzasztjuk, továbbá a fóliafémet galvanikusan a duzzasztás alatt vagy 0 után választjuk le.
Az alsó réteg kialakítható többféle módon, például úgy, hogy a fémfelületre oldószer, esetleg vizet tartalmazó oldószer rétegét visszük fel. Nedvességleadó alsó réteg más anyagból is kialakítható, például zselatinból, amely a fényérzékeny réteg 5 duzzasztásához igen megfelelő.
A kész sablonnak a fémrétegről való eltávcáítására több módszer is ismeretes. Egyik lehetőség például a sablon felvágása a hengerszerű fémfelületen az egyik alkotó mentén, egy további lehetőség 10 pedig a fémfelületen olyan vonal kialakítása, ahol a galvanikus lerakódás nem zajlik le és ekkor a kész sablon egyszerűen lehúzható.
A találmány szerinti eljárással elérhető, hogy a film mintapontjaival közel azonos átmérőjű nyíláso- 15 kát állítsunk elő, vagyis a gplvanikus lerakódás során a perforáció nem nő be, aminek következtében vastagabb szitanyomó sablonokat készíthetünk, ami a nyomtatásnál előnyös. További előnye az eljárásnak, hogy finomabb raszter vihető fel, tehát 20 a nyomtatandó minta jobb feloldással alakítható ki a szitanyomé sablonon.
A sablonok féltónusú képek nyomtatására is alkalmazhatók, mivel a sablonokkal elérhető festékék lényegesen nagyobb- Az ily módon előállított szita- 25 nyomó sablonok penetrációs problémáktól mentesek. A sablonok nyílásain sok festék juthat keresztül, ezért előnyösen szőnyegnyomásokhoz is felhasználhatók, egyúttal az alkalmazott raszter finomsága sokszorosára növelhető. A szitanyomó 30 sablonok falvastagságának növelése különösen a szőnyegnyomásnál nagy jelentőségű. A galvanizáláshoz alkalmazott áramerősség az eddigi áramerősség felére vagy negyedére csökkenthető, mivel az űrkitöltők nagyon vékonyak lehetnek. 35
A találmány szerinti eljárásunk elvileg pozitív és negatív képet szolgáltató fényérzékeny réteggel egyaránt megvalósítható. Legtöbbször azonban pozitív képet adó rétegeket használunk fel, például gyantába ágyazott benzol-diazónium vegyületeket, vagy 49 ortokinon-diazo-vegyületeket. A fényérzékeny réteg vastagsága általában 0,006 mm nagyságrendű, de megválasztható előnyösen 0,002—0,2 mm értékek között bárhol.
A következő táblázatok példaként! adataiból látható, hogy a találmány szerinti eljárás különböző raszterek esetén a duzzasztás nélküli eljárásokkal összehasonlítva jobb festékáteresztő képességet és nagyobb lyukátmérőt biztosít. A sablonok előállítására mindhárom esetben ugyanazt az ismert, vala- 50 mint ugyanazt a találmány szerinti eljárást alkalmaztuk. Egy-egy vizsgálathoz ugyanazt a raszteres negatív filmet használtuk.
Amennyiben nincs külön feltüntetve, a méretek milliméterben értendők. 55
I. táblázat
| ismert | új eljárás | ||
| raszter | 32 | 32 | 60 |
| osztás | 00125 | 0,3125 | |
| lyukátmérő | 0,09 | 0,20 | 65 |
I. táblázat folytatása
| ismert | új eljárás | |
| űrtöltők szélessége | 0,22 | 0,112 |
| falvastagság | 0,06 | 0,06 |
| festékáteresztő képesség | 6,56% | 41,08% |
| II. táblázat | ||
| ismert | új eljárás | |
| raszter | 40 | 40 |
| osztás | 0,25 | 0,25 |
| lyukátmérő | 0,07 | 0,18 |
| űrtöltők szélessége | 0,18 | 0,07 |
| fal vas tagság | 0,08 | 0,16 |
| festékáteresztő képesség | 7,8% | 51,8% |
III. táblázat
| ismert | új eljárás | |
| raszter | 16 | 16 |
| osztás | 0,625 | 0,625 |
| ly uká tmérő | 0,34 | 0,50 |
| ' ; töltők szélessége | 0,28 | 0,125 |
| il vas tagság | 0,13 | 0,18 |
| festékáteresztő képesség | 30% | 64% |
| A találmány szerinti | eljárást | a következőkben |
he: .atosítási példák alapján ismertetjük részletesen.
Sablon előállításához 2 m hosszú és 300 mm átmérőjű nikkelhengert alkalmazunk. A nikkelhenger átmérője a gyakorlatban 100-1000 mm, a hossza 500—6000 mm. A nikkelhengerre 0,002—0,2 mm, előnyösen 0,08 mm vastagságú fényérzékeny réteget viszünk fel. Fényérzékeny anyagként általában a sablon galvanikus előállításánál használt anyagot, például fényérzékeny műgyantát alkalmazunk. A fényérzékeny réteget mátrixon keresztül világítjuk meg. Ez a mátrix hexagonális pontokból kialakított 2 mm-es rasztert hordoz. A fényérzékeny rétegre a réteg vastagságának megfelelően 0,08 mm-es távolságú hexagonális rasztert vetítünk. Az egyes pontok átmérője körülbelül 0,04 mm. Két nyílás között a távolság általában 0,4-0,7-szerese a rasztertávolságnak és a fényérzékeny réteg vastagságának.
A hengert 800 W-os fényerősséggel összesen kb. 5 percig világítjuk meg, eközben a hengert elforgatjuk és az egymás mellett fekvő kerületi vonalakon pontrasztert alakítunk ki.
A megvilágított fényérzékeny réteget ezután ismert módon, a fényérzékeny anyagtól függő eljárással előhívjuk. Az előhívást követően a megmaradó pontokat célszerűen nedvesség bevitelével, előnyösen 100%-os nedvesség mellett, vagyis tiszta vízben, esetleg vízgőzben a továbbiakban ismertetett példakénti lehetőségek egyike szerint duzzasztjuk, míg a pontok átmérője a nedvesség miatt meginduló buborékképződés hatására a kiindulásinak 7 ... 11-szeresére növekszik. A duzzasztás előtt a duzzasztandó részek porozitását előnyös megnövelni. A részek duzzasztását egyrészt a vegyi összetételtől, másrészt az elérni kívánt céltól függően végezzük. A továbbiakban néhány lehetséges duzzasztást módot ismertetünk.
Pozitív képet adó réteg létrehozható például finomra aprított fenil-hidrazint vagy finomra aprított karbamid és nátrium-nitrid keverékét tartalmazó anyagból. A megvilágítás után hagyományos módon előhívott fényérzékeny réteg megvilágított részei felbomlanak és vizes alkálioldattal, például 2 nátrium-hidroxid 0,8 ... 5%-os vizes oldatával lemoshatok. A karbamidot és nátrium-nitridet tartalmazó fényérzékeny réteg megmaradó részeit először egy órára 50 °C körüli hőmérsékletű térbe helyezzük a porozitás növelése céljából, majd ezután duzzasztás céljából telített vízgőz hatásának tesszük ki, előnyösen 50—60 °C hőmérséklet mellett. A gőzölés időtartama 5-7 perc. A fenil-hidrazinos réteg duzzasztásához elegendő a réteget 100%-os víztartalmú közeggel érintkezésbe hozni.
Negatív képet adó fényérzékeny réteg esetében vízgőz helyett oldószer gőzét alkalmazhatjuk duzzasztáshoz, de az oldószerbe való merítés is megfelelő megoldás lehet. Az oldószer a megvilágított helyeknek megfelelő területek anyagát hivatott eltávolítani. Oldószer gőzének alkalmazása pozitív képet adó rétegekhez is megfelelő. A gőzölés vagy bemerítés után ismert módon lehet fémet galvanizálás útján lerakni.
Másik lehetséges megoldás szerint a fényérzékeny réteget klímaszekrénybe helyezzük, amelyben 20—50 °C hőmérsékleten 80—90%-os relatív nedvességtartalmú levegő hatásának tesszük ki.
Az ismertetett módon elkészített és előhívott fényérzékeny réteg az előhívás után nedvességet tartalmazó réteggel vonható be. Előnyösen zselatin alkalmazható, amiből 1 mm körüli vastagságú réteget alakítunk ki. Ezt 2—6 óra, általában 3 óra elteltével vízzel lemossuk. Zselatin helyett más nedvességet tartalmazó és azt leadni képes anyagok is felhasználhatók. Jó eredményeket értünk el glicerinekkel, polivinil-alkoholokkal és polivinil-acetáttal.
A fényérzékeny réteghez nedvesség vagy hő hatásara működő más duzzasztószereket is lehet adagolni. Az első csoportban például a polivinil-alkohol említhető, a másodikban a karbamiddal kombinált hidrogénperoxid, nátriumdikarbonát, vagy szublimáló festék.
A duzzasztás elérhető oly módon is, hogy a fényérzékeny réteg előhívása után a megmaradó részeket utólag megvilágítjuk. A kb. 5 percig tartó, mintegy 400 W fényerősségű pótlólagos megvilágítás 5 hatására a fényérzékeny réteg megfelelő helyein gázmolekulák, például N2 szabadulnak fel és ennek hatására bomlási vagy buborékszerkezet jön létre. A réteg esetleges további duzzasztása 100%-os nedvességtartalmú közegben végezhető. Az utólagos 0 megvilágítást előnyösen az eredeti fényerősség felének megfelelő intenzitással végezzük.
A duzzasztás végül elérhető úgy is, hogy megtisztított matricát, vagyis azt a testet, amelyre a fényérzékeny réteget felhelyezzük, először az alsó 5 réteg létrehozására . . h/errel kezeljük, például triklór-etánnal, amely!: ; tleg izet, duzzasztószert adunk. Ezután a fé;; érzékeny réteget felhelyezzük és előhívjuk. Előhívás után az előbb ismertetett lehetőségeknek megfelelően a fényérzékeny rétegbe 0 nedvességet vagy duzzasztószert viszünk be és a duzzasztást elvégezzük.
Ezt követően a fém galvanikus lerakódása történik, amelynek során az elektród a lerakódás felületétől 12-18 cm-es távközzel van el« helyezve. A lerakodott fémréteg vastagsága 0,06 ... 0,4 mm és a galvanizáláshoz alkalmazott áramsűrűség 5 A/dm2. Az elektrolit nátriumfoszfát vizes oldata, amely pl. 58 g/1 nikkelt, 10g/l klóriont, 36 g/1 bórsavat tartalmaz, előnyösen 20°Be 0 viszkozitású és pH értéke 3,8 ... 4. A duzzasztás következtében a kapott sablon teljes keresztmetszetének 52%-a a nyílt, míg a duzzasztás nélkül előállított sablonnak csak 7...15%-a a nyűt keresztmetszetű.
A találmány szerinti eljárás nemcsak szitanyomó sablonok, hanem száraz borotvakészülékek pengéinek, továbbá nyomtatott áramkörök előállítására is alkalmas.
A fényérzékeny réteg duzzasztásának mértéke széles tartományban vezérelhető és a mindenkori felhasználásnak, valamint az alkalmazott fényérzékeny anyagnak megfelelően állítható be. A duzzasztással az eredeti rétegvastagságnak több mint 45 tízszerese is elérhető.
A találmány szerinti eljárás továbbá lakksablonok előállítására is alkalmas.
Claims (12)
- 50 Szabadalmi igénypontok:1. Eljárás perforált fémfólia, előnyösen rotációs sablonnyomáshoz használható sablon előállítására, amikor is fémfelületre, esetleg fémfelületre felvitt 55 alsó rétegre fényérzékeny réteget hordunk fel, a fényérzékeny réteget raszteres mintával ellátott filmen át megvilágítjuk és a képet előhívjuk, majd a fémfóliát galvanikus úton felépítjük és a fémfelületről eltávolítjuk, azzal jellemezve, hogy az 60 — esetleg duzzasztószert tartalmazó— fényérzékeny rétegben a réteg előhívása után visszamaradt vagy az alsó rétegben maradt részeket nedvességet leadó és előnyösen a részek porozitását növelő szert tartalmazó közeggel vagy oldószert leadó kö65 zeggel érintkezésbe hozzuk és/vagy felmelegítjük, illetve az előhívott réteget újból megvilágítjuk és így a rétegvastagságot többszörösére duzzasztjuk, továbbá a fóliafémet galvánikus úton a duzzasztás alatt vagy után választjuk le.
- 2. Az 1. igénypont szerinti eljárás foganatosítási 5 módja, azzal jellemezve, hogy a nedvesség bevitele előtt a rétegben maradt részek porozitását melegítéssel megnöveljük
- 3. Az 1. vagy 2. igénypont szerinti eljárás 10 foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a réteget előhívás után vízgőzben, vagy oldószer gőzében gőzöljük.
- 4. A 3. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a gőzölést 50—60 °C 15 hőmérsékleten és 5—7 percig végezzük.
- 5. Az 1—4. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a fényérzékeny réteget előhívás után oldószerbe 20 merítjük.
- 6. Az 1-5. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítás módja, azzal jellemezve, hogy a fényérzékeny réteget az előhívás után nedvességet tartalmazó réteggel, előnyösen zselatinréteggel von- 25 juk be és ezt a réteget a galván fémréteg leválasztása előtt eltávolítjuk.
- 7. Az 1—6. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy duzzasztószert tartalmazó fényérzékeny réteget alkalmazunk.
- 8. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy nedvesség hatására működő duzzasztószert például fenilhidrazint tartalmazó fényérzékeny réteget alkalmazunk.
- 9. A 7. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy hő hatására működő duzzasztószert, például karbamidvegyületet tartalmazó fényérzékeny réteget alkalmazunk.
- 10. Az 1—9. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy á fényérzékeny réteg megmaradó részeit az előhívás után megvilágítjuk, a részekbe nedvességet viszünk be, így ezeket a részeket felduzzasztjuk és a réteg felduzzasztott részei között szabadon maradt tartományokra galvanikus úton fóliafémet viszünk fel.
- 11. A 10. igénypont szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy a nedvesség hozzáadását és a galvanizálást egyidejűleg végezzük.
- 12. A 10. vagy 11. igénypontok bármelyike szerinti eljárás foganatosítási módja, azzal jellemezve, hogy az előhívás után történő megvilágítást a perforációs minta felvitelénél alkalmazott megvilágítás erősségének felével végezzük.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT228376A AT358072B (de) | 1976-03-29 | 1976-03-29 | Verfahren zum herstellen einer metallschablone |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| HU176024B true HU176024B (en) | 1980-11-28 |
Family
ID=3531475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| HU77SCHA180A HU176024B (en) | 1976-03-29 | 1977-03-29 | Method for producing perforated metal foil |
Country Status (25)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4118288A (hu) |
| JP (1) | JPS52117840A (hu) |
| AT (1) | AT358072B (hu) |
| AU (1) | AU501755B2 (hu) |
| BE (1) | BE852744A (hu) |
| CA (1) | CA1104869A (hu) |
| CH (1) | CH627794A5 (hu) |
| CS (1) | CS190343B2 (hu) |
| DD (1) | DD130013A5 (hu) |
| DE (1) | DE2640268C2 (hu) |
| DK (1) | DK146174C (hu) |
| ES (1) | ES457221A1 (hu) |
| FR (1) | FR2346150A1 (hu) |
| GB (1) | GB1526604A (hu) |
| GR (1) | GR62570B (hu) |
| HU (1) | HU176024B (hu) |
| IL (1) | IL51693A (hu) |
| IN (1) | IN145850B (hu) |
| NL (1) | NL165856C (hu) |
| PL (1) | PL111109B1 (hu) |
| RO (1) | RO85183B (hu) |
| SE (1) | SE428110B (hu) |
| SU (1) | SU657768A3 (hu) |
| YU (1) | YU79877A (hu) |
| ZA (1) | ZA771655B (hu) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2808933A1 (de) * | 1978-03-02 | 1979-09-06 | Duchenaud | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines hohlzylinders von selbsttragender wandstaerke durch elektrolytische ablagerung sowie nach dem verfahren und mit der vorrichtung hergestellter hohlzylinder |
| GB2150596A (en) * | 1983-11-30 | 1985-07-03 | Pa Consulting Services | Mesh structures especially for use in television camera tubes |
| GB2184045A (en) * | 1985-12-16 | 1987-06-17 | Philips Electronic Associated | Method of manufacturing a perforated metal foil |
| US4797175A (en) * | 1987-03-09 | 1989-01-10 | Hughes Aircraft Company | Method for making solid element fluid filter for removing small particles from fluids |
| US4818661A (en) * | 1987-07-21 | 1989-04-04 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method for fabricating thin film metallic meshes for use as Fabry-Perot interferometer elements, filters and other devices |
| US5328537A (en) * | 1991-12-11 | 1994-07-12 | Think Laboratory Co., Ltd. | Method for manufacturing screen printing plate |
| US5359928A (en) * | 1992-03-12 | 1994-11-01 | Amtx, Inc. | Method for preparing and using a screen printing stencil having raised edges |
| US5478699A (en) * | 1992-03-12 | 1995-12-26 | Amtx, Inc. | Method for preparing a screen printing stencil |
| US5322763A (en) * | 1992-05-06 | 1994-06-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making metal ledge on stencil screen |
| US5573815A (en) * | 1994-03-07 | 1996-11-12 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making improved metal stencil screens for screen printing |
| FR2737927B1 (fr) * | 1995-08-17 | 1997-09-12 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de formation de trous dans une couche de materiau photosensible, en particulier pour la fabrication de sources d'electrons |
| GB2354459B (en) | 1999-09-22 | 2001-11-28 | Viostyle Ltd | Filtering element for treating liquids, dusts and exhaust gases of internal combustion engines |
| US20110127282A1 (en) * | 2009-05-26 | 2011-06-02 | Lisa Carvajal | Disposable Splatter Screens |
| JP5335146B2 (ja) * | 2009-10-23 | 2013-11-06 | ストルク プリンツ オーストリア ゲーエムベーハー | レリーフ部を備えた有孔または部分有孔テンプレートの製造方法 |
| USD792723S1 (en) * | 2015-11-24 | 2017-07-25 | Serta, Inc | Mattress foundation |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2225734A (en) * | 1937-12-10 | 1940-12-24 | Trumbull Metal Products Compan | Electrolytic method of making screens |
| US3763030A (en) * | 1971-08-02 | 1973-10-02 | P Zimmer | Apparatus for the production of seamless hollow cylinders |
| US3953309A (en) * | 1972-12-14 | 1976-04-27 | Dynachem Corporation | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents |
| US3976524A (en) * | 1974-06-17 | 1976-08-24 | Ibm Corporation | Planarization of integrated circuit surfaces through selective photoresist masking |
| US4022932A (en) * | 1975-06-09 | 1977-05-10 | International Business Machines Corporation | Resist reflow method for making submicron patterned resist masks |
-
1976
- 1976-03-29 AT AT228376A patent/AT358072B/de not_active IP Right Cessation
- 1976-09-08 DE DE2640268A patent/DE2640268C2/de not_active Expired
- 1976-10-14 NL NL7611333.A patent/NL165856C/xx not_active IP Right Cessation
-
1977
- 1977-03-16 CH CH326577A patent/CH627794A5/de not_active IP Right Cessation
- 1977-03-18 IL IL51693A patent/IL51693A/xx unknown
- 1977-03-18 ZA ZA00771655A patent/ZA771655B/xx unknown
- 1977-03-18 GB GB11603/77A patent/GB1526604A/en not_active Expired
- 1977-03-18 SE SE7703116A patent/SE428110B/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-03-22 BE BE176004A patent/BE852744A/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-03-23 GR GR53077A patent/GR62570B/el unknown
- 1977-03-24 US US05/781,063 patent/US4118288A/en not_active Expired - Lifetime
- 1977-03-24 YU YU00798/77A patent/YU79877A/xx unknown
- 1977-03-25 FR FR7709051A patent/FR2346150A1/fr active Granted
- 1977-03-25 ES ES457221A patent/ES457221A1/es not_active Expired
- 1977-03-25 CS CS772002A patent/CS190343B2/cs unknown
- 1977-03-25 DD DD7700198081A patent/DD130013A5/xx unknown
- 1977-03-26 RO RO89811A patent/RO85183B/ro unknown
- 1977-03-28 SU SU772466203A patent/SU657768A3/ru active
- 1977-03-28 CA CA274,905A patent/CA1104869A/en not_active Expired
- 1977-03-29 AU AU23712/77A patent/AU501755B2/en not_active Expired
- 1977-03-29 HU HU77SCHA180A patent/HU176024B/hu not_active IP Right Cessation
- 1977-03-29 IN IN475/CAL/77A patent/IN145850B/en unknown
- 1977-03-29 JP JP3516177A patent/JPS52117840A/ja active Granted
- 1977-03-29 PL PL1977197004A patent/PL111109B1/pl unknown
- 1977-03-29 DK DK138077A patent/DK146174C/da not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS52117840A (en) | 1977-10-03 |
| DE2640268C2 (de) | 1978-08-10 |
| ZA771655B (en) | 1978-02-22 |
| DE2640268B1 (de) | 1977-12-15 |
| DK138077A (da) | 1977-09-30 |
| RO85183A (ro) | 1984-10-31 |
| DK146174C (da) | 1983-12-12 |
| GR62570B (en) | 1979-05-10 |
| BE852744A (fr) | 1977-07-18 |
| AU501755B2 (en) | 1979-06-28 |
| DK146174B (da) | 1983-07-18 |
| SU657768A3 (ru) | 1979-04-15 |
| FR2346150A1 (fr) | 1977-10-28 |
| US4118288A (en) | 1978-10-03 |
| DD130013A5 (de) | 1978-03-01 |
| AT358072B (de) | 1980-08-25 |
| YU79877A (en) | 1983-01-21 |
| SE7703116L (sv) | 1977-09-30 |
| CA1104869A (en) | 1981-07-14 |
| ATA228376A (de) | 1980-01-15 |
| IL51693A (en) | 1979-12-30 |
| IN145850B (hu) | 1979-01-06 |
| NL165856B (nl) | 1980-12-15 |
| JPS5753875B2 (hu) | 1982-11-15 |
| GB1526604A (en) | 1978-09-27 |
| FR2346150B1 (hu) | 1980-05-09 |
| AU2371277A (en) | 1978-10-05 |
| ES457221A1 (es) | 1978-06-16 |
| CH627794A5 (de) | 1982-01-29 |
| IL51693A0 (en) | 1977-05-31 |
| NL7611333A (nl) | 1977-10-03 |
| RO85183B (ro) | 1984-11-30 |
| CS190343B2 (en) | 1979-05-31 |
| PL111109B1 (en) | 1980-08-30 |
| NL165856C (nl) | 1981-05-15 |
| SE428110B (sv) | 1983-06-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| HU176024B (en) | Method for producing perforated metal foil | |
| CA1309967C (en) | Printing process for use in fashioning ceramics by electrodeposition | |
| US3368483A (en) | Two-color lithographic printing form, method of preparing same, and method of use | |
| JPS6125151B2 (hu) | ||
| US2132443A (en) | Planographic plate and method | |
| US2506164A (en) | Method for the production of metallic printing members | |
| US3406065A (en) | Process for the reversal development of reproduction coatings containing o-naphthoquinone diazide compounds | |
| US3615442A (en) | Metal printing plate and method for preparation of same | |
| US4401520A (en) | Process for the preparation of screen printing stencils by an electroplating method | |
| US2772160A (en) | Light-detached resists or reliefs for printing plates | |
| US2773779A (en) | Treating solution for photolithographic printing plates | |
| US2709654A (en) | Thermographic method of producing relief and intaglio impressions | |
| US2570262A (en) | Photosensitive planographic plate | |
| US2024087A (en) | Printing plate | |
| US3010389A (en) | Photographic transfer printing plates | |
| US1408315A (en) | Photographic-printing process | |
| US3544319A (en) | Production of printing plates | |
| US2323752A (en) | Photoengraving process and product | |
| US4211618A (en) | Method for making screens | |
| US853863A (en) | Method of producing pictures, designs, &c. | |
| US2355884A (en) | Medium for use in making camera copy and method of preparing same | |
| US3562119A (en) | Presensitized aluminum photolithographic etched plate and elements and method used in the preparation of same | |
| US3682636A (en) | Presensitized photolithographic plate having diazo stabilized aluminum base | |
| DE1671630A1 (de) | Schablonentraeger fuer Siebdruck | |
| US1789138A (en) | Printing plate and process of making same |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| HU90 | Patent valid on 900628 | ||
| HMM4 | Cancellation of final prot. due to non-payment of fee |