FR3029813B1 - METHOD FOR MANUFACTURING MICROSTRUCTURE COATING - Google Patents

Abstract

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un revêtement microstructuré sur un substrat, qui comprend une étape de projection de particules en fusion présentant un diamètre compris entre 0,05 µm et 5 µm sur le substrat (20), la projection étant réalisée par au moins une torche plasma (51, 52), qui est déplacée par rapport au substrat (20), les paramètres de déplacement et/ou le débit de particules projetées par les torches plasma (51, 52) étant variables en fonction de la position des torches plasma (51, 52), assurant une épaisseur variable du revêtement formé par les particules, en différents points du substrat (20). L'invention concerne également une paroi présentant un revêtement obtenu par ce procédé.The invention relates to a method for producing a microstructured coating on a substrate, which comprises a step of spraying molten particles having a diameter of between 0.05 μm and 5 μm onto the substrate (20), the projection being carried out by at least one plasma torch (51, 52), which is displaced relative to the substrate (20), the displacement parameters and / or the flow rate of the particles projected by the plasma torches (51, 52) being variable as a function of the position of the plasma torches (51, 52), providing a variable thickness of the coating formed by the particles, at different points of the substrate (20). The invention also relates to a wall having a coating obtained by this method.

Description

Procédé de fabrication d'on revêtement microstmctoréProcess for producing a microstmctorate coating

L DOMAINE DE L’INVENTIONTHE FIELD OF THE INVENTION

La présente invention se rapporte à un procédé de fabrication d’un revêtement microstucturé sur une paroi, et notamment sur une paroi externe d'un aéronef. L'invention se rapporte également à une paroi présentant un tel revêtement microstructuré.The present invention relates to a method of manufacturing a microstuctured coating on a wall, and in particular on an outer wall of an aircraft. The invention also relates to a wall having such a microstructured coating.

.2., ART ANTERIEUR.2., PRIOR ART

Pour améliorer les performances d'un aéronef, et notamment pour diminuer sa consommation de carburant, on cherche à diminuer sa traînée aérodynamique. Pour diminuer cette traînée, il est connu de former sur une partie de la paroi externe de l'aéronef, par exemple une partie des éléments de voilure ou de fuselage, une microstructure usuellement appelé « peau de requin », ou désignée par ie terme anglais « ribiet ».To improve the performance of an aircraft, and in particular to reduce fuel consumption, it seeks to reduce its aerodynamic drag. To reduce this drag, it is known to form on part of the outer wall of the aircraft, for example a part of the wing or fuselage elements, a microstructure usually called "shark skin", or designated by the English term. "Ribiet".

Une microstructure, au sens de la présence demande, est constituée par un ensemble de reliefs se répétant sur une surface, dont ia profondeur est généralement comprise entre 10 et 60 microns, et dont ia géométrie est optimisée pour répondre à un objectif déterminé.A microstructure, in the sense of the presence demand, is constituted by a set of reliefs repeating on a surface, whose depth is generally between 10 and 60 microns, and whose geometry is optimized to meet a specific objective.

Une microstructure de type « peau de requin », ou « ribiet », présente des nervures sensiblement parallèles entre elles, les lignes de crête des nervures étant orientées dans la direction d'écoulement d'un fluide sur ia surface, par exemple la direction d’écoulement de l'air sur la paroi externe d’un aéronef. Ces nervures ont, en section transversale, la forme de dents de scie. Un telle microstructuré est connu par exemple des documents EP 2 729 363 ou EP 1 283 163. On connaît plusieurs façons de produire de telles microstructures sur une paroi. Il est notamment connu de coller, sur la paroi, un film plastique présentant des sillons de quelques centièmes de millimètres de profondeur, les nervures étant formées entre deux sillons successifs. Selon un autre mode de réalisation connu, des rainures de quelques centièmes de millimètre sont usinées sur une paroi métallique, de façon à produire la microstructure.A "shark skin" type microstructure, or "ribiet", has ribs substantially parallel to each other, the ridge lines of the ribs being oriented in the direction of flow of a fluid on the surface, for example the direction of flow. flow of air on the outer wall of an aircraft. These ribs have, in cross section, the form of sawtooth. Such a microstructure is known for example from documents EP 2 729 363 or EP 1 283 163. Several ways of producing such microstructures on a wall are known. It is in particular known to stick, on the wall, a plastic film having grooves of a few hundredths of a millimeter in depth, the ribs being formed between two successive grooves. According to another known embodiment, grooves of a few hundredths of a millimeter are machined on a metal wall, so as to produce the microstructure.

Les parois présentant de telles microstructures présentent des caractéristiques leur permettant de réduire leur traînée aérodynamique, quand elles sont soumise à un flux d'air s'écoulant dans la direction des nervures. Cependant, cette réduction de la traînée aérodynamique n'est efficace que si les nervures présentent des formes précises. Il est notamment important, pour assurer cette efficacité, que les lignes de crête des nervures soient suffisamment aîgües.The walls having such microstructures have characteristics enabling them to reduce their aerodynamic drag, when they are subjected to a flow of air flowing in the direction of the ribs. However, this reduction of the aerodynamic drag is effective only if the ribs have precise shapes. It is particularly important, to ensure this efficiency, that the crest lines of the ribs are sufficiently elongated.

Les procédés connues de fabrication des mîcrostructures permettent d'obtenir de telles lignes de crête. Cependant, il existe un besoin d'améliorer ces procédés de fabrication, pour obtenir des microstructures présentant une meilleure résistance à l'érosion, notamment quand les parois présentant des microstructures sont soumises au frottement de l'air, de l'eau et de la poussière, afin de garantir dans la durée les performances des microstructures et la diminution correspondante de la traînée aérodynamique de la paroi.Known processes for manufacturing microstructures make it possible to obtain such ridge lines. However, there is a need to improve these manufacturing processes, to obtain microstructures having a better resistance to erosion, especially when the walls having microstructures are subjected to the friction of air, water and water. dust, in order to guarantee the long-term performance of the microstructures and the corresponding decrease in the aerodynamic drag of the wall.

Il existe donc un besoin de parois microstructurées dont les microstructures présentent une résistance accrue à l'érosion, et d’un procédé permettant de fabriquer de telles parois. La présente invention a notamment pour objectif de fournir un procédé de fabrication de parois microstructurées répondant à ce besoin.There is therefore a need for microstructured walls whose microstructures have an increased resistance to erosion, and a method for making such walls. The object of the present invention is in particular to provide a method of manufacturing microstructured walls satisfying this need.

3. EXPOSE DE L'INVENTION3. SUMMARY OF THE INVENTION

Ces objectifs, ainsi que d'autres qui apparaîtront plus clairement par la suite, sont atteints à l’aide d'un procédé de fabrication d'un revêtement microstructuré sur un substrat, qui comprend une étape de projection de particules en fusion présentant un diamètre compris entre 0,05 pm et 5 pm sur le substrat, la projection étant réalisée par au moins une torche plasma qui est déplacée par rapport au substrat, les paramètres de déplacement et/ou le débit de particules projetées par ladite ou lesdites torches plasma étant variables en fonction de la position de la ou des torches plasma, assurant une épaisseur variable du revêtement formé par lesdites particules, en différents points du substrat. II est ainsi possible d'obtenir un revêtement microstructure présentant une géométrie contrôlée très précisément, qui présente un état de surface le rendant peu sensible à l'érosion.These objectives, as well as others which will become more clearly apparent thereafter, are achieved by a method of manufacturing a microstructured coating on a substrate, which comprises a step of spraying molten particles having a diameter. between 0.05 μm and 5 μm on the substrate, the projection being carried out by at least one plasma torch which is displaced relative to the substrate, the displacement parameters and / or the flow rate of particles projected by said plasma torch or torches being variables depending on the position of the plasma torch or torches, ensuring a variable thickness of the coating formed by said particles, at different points of the substrate. It is thus possible to obtain a microstructure coating having a very precisely controlled geometry, which has a surface state rendering it insensitive to erosion.

Selon un mode de réalisation avantageux, l'épaisseur variable est réalisée par la projection, sur au moins une partie de la surface du substrat, d'au moins deux couches successives de particules en fusion, le nombre des couches de particules projetées étant variable en différents points du substrat.According to an advantageous embodiment, the variable thickness is achieved by the projection, on at least a portion of the surface of the substrate, of at least two successive layers of molten particles, the number of projected particle layers being variable in different points of the substrate.

Selon un autre mode de réalisation avantageux, l'épaisseur variable est réalisée par la projection d'au moins une couche de particules en fusion dont l’épaisseur est variable en différents points du substrat.According to another advantageous embodiment, the variable thickness is achieved by the projection of at least one layer of molten particles whose thickness is variable at different points of the substrate.

Avantageusement, le procédé met en œuvre un robot qui contrôle la position, l'orientation et le débit de chacune des torches plasma projetant des particules sur le substrat.Advantageously, the method uses a robot that controls the position, the orientation and the flow rate of each of the plasma torches projecting particles onto the substrate.

Selon un mode de réalisation avantageux,, l'étape de projection comprend : - la projection d'une première couche de particules, d'épaisseur sensiblement uniforme en tout point du substrat, puis - la projection, par-dessus cette première couche, d’une pluralité d’autres couches de particules, dont le nombre et/ou l'épaisseur sont différents en différents points du substrat.According to an advantageous embodiment, the projection step comprises: - the projection of a first layer of particles, of substantially uniform thickness at any point of the substrate, then - the projection, over this first layer, of a plurality of other layers of particles, the number and / or thickness of which are different at different points of the substrate.

Selon un mode de réalisation avantageux,, l'étape de projection comprend : la projection de couches de particules, dont le nombre et/ou l'épaisseur sont différentes en différents points du substrat, puis - ia projection par-dessus les couches de particules précédentes d'au moins une couche externe de particules, d'épaisseur sensiblement uniforme en tout point du substrat.According to an advantageous embodiment, the projection step comprises: the projection of layers of particles, the number and / or thickness of which are different at different points of the substrate, then - projection over the particle layers preceding of at least one outer layer of particles, of substantially uniform thickness at any point of the substrate.

Avantageusement, le procédé comprend, préalablement à l’étape de projection, une étape de mesure de la géométrie de la surface du substrat et une étape de calcul de l'épaisseur et/ou du nombre des couches de particules à projeter en différents points dudit substrat.Advantageously, the method comprises, prior to the projection step, a step of measuring the geometry of the surface of the substrate and a step of calculating the thickness and / or the number of particle layers to be projected at different points of said substrate.

De préférence, les particules projetées lors de l’étape de projection comprennent des particules d'oxyde métallique.Preferably, the particles projected during the projection step comprise metal oxide particles.

Avantageusement, le procédé comprend, préalablement à l'étape de projection, une étape de dispersion des particules à projeter dans un composé de type sol-gel. Avantageusement, les particules projetées lors de l'étape de projection comprennent des particules de zircone.Advantageously, the method comprises, prior to the projection step, a step of dispersing the particles to be projected in a sol-gel compound. Advantageously, the particles projected during the projection step comprise zirconia particles.

Avantageusement, les particules projetées lors de l'étape de projection comprennent des particules de dioxyde de titane.Advantageously, the particles projected during the projection step comprise particles of titanium dioxide.

La présente invention concerne également une paroi, comprenant un substrat recouvert par un revêtement, ce revêtement est un revêtement microstructuré obtenu par le procédé décrit ci-dessus.The present invention also relates to a wall, comprising a substrate covered by a coating, this coating is a microstructured coating obtained by the method described above.

Avantageusement, le revêtement présente une épaisseur moyenne comprise entre 0,01 mm et 0,25 mm.Advantageously, the coating has an average thickness of between 0.01 mm and 0.25 mm.

Avantageusement, le revêtement fait apparaître, à sa surface, une microstructure formant des nervures sensiblement parallèles entre elles.Advantageously, the coating shows, on its surface, a microstructure forming ribs substantially parallel to each other.

Avantageusement, les nervures présentent une hauteur comprise entre 10 pm et 60 pm.Advantageously, the ribs have a height of between 10 μm and 60 μm.

4- LISTE DES FIGURES D'autres caractéristiques et avantages ressortiront de la description qui va suivre de l'invention, description donnée à titre d'exemple uniquement, en regard des dessins annexés sur lesquels : la figure 1 est une représentation schématique, en perspective, d'une paroi présentant des mîcrostructures de type « rîbiet » ; - la figure 2 est une vue de coupe schématique d’une paroi présentant un revêtement microstructuré de type « riblet » réalisée selon un mode de réalisation de l'invention ; - la figure 3 est une vue en perspective schématique de la paroi de la figure 2 ; - la figure 4 est une vue de coupe schématique représentant la paroi de la figure 2 au cours de la fabrication du revêtement microstructuré ; la figure 5 est une vue de coupe schématique d'une paroi apte à recevoir un revêtement microstructuré, selon un autre mode de réalisation de l'invention - la figure 6 est une vue de coupe schématique de la paroi de ia figure 5 présentant un revêtement microstructuré de type « ribiet » ; - ia figure 7 est une vue de coupe schématique d’un détail d'une paroi présentant un revêtement microstructuré de type « ribiet » réalisée selon un autre mode de réalisation de l'invention ; - la figure 8 est une représentation schématique du dispositif permettant la projection des couches de revêtement sur un substrat, selon un mode de réalisation de l'invention. 5- DESCRIPTION DETAILLEE DE MODES DE REALISATION La figure 1 représente en perspective une portion d'une paroi 1 présentant une microstructure de type « ribiet ». Cette microstructure présente une pluralité de nervures 11, 12,13, 14 et 15 s'étendant sensiblement parallèlement les unes aux autres. De façon classique, chacune de ces nervures présente un hauteur de l'ordre de 50 pm. Dans l'exemple représenté, les lignes de crête 110, 120, 130, 140 et 150 des nervures sont représentées comme les intersections des plans formés par les flancs de chaque nervures. Ces lignes de crête sont ainsi très aigues. Comme le sait l'homme du métier, une paroi 1 présentant des nervures 11,12,13, 14 et 15 avec des lignes de crête 110,120,130,140 et 150 suffisamment aigues génère une traînée aérodynamique relativement faible, quand elle est soumise à un flux d'air ou de fluide s’écoulant dans la direction des nervures.4- LIST OF FIGURES Other features and advantages will become apparent from the following description of the invention, description given by way of example only, with reference to the accompanying drawings, in which: FIG. 1 is a diagrammatic representation, in perspective , a wall having microritic structures; - Figure 2 is a schematic sectional view of a wall having a microstructured coating of the "riblet" type made according to one embodiment of the invention; FIG. 3 is a schematic perspective view of the wall of FIG. 2; FIG. 4 is a diagrammatic sectional view showing the wall of FIG. 2 during the manufacture of the microstructured coating; FIG. 5 is a diagrammatic sectional view of a wall adapted to receive a microstructured coating, according to another embodiment of the invention; FIG. 6 is a diagrammatic sectional view of the wall of FIG. microstructured type "ribiet"; FIG. 7 is a diagrammatic sectional view of a detail of a wall having a "ribiet" microstructured coating made according to another embodiment of the invention; - Figure 8 is a schematic representation of the device for the projection of the coating layers on a substrate, according to one embodiment of the invention. 5 DETAILED DESCRIPTION OF EMBODIMENTS FIG. 1 represents in perspective a portion of a wall 1 having a "ribiet" type microstructure. This microstructure has a plurality of ribs 11, 12, 13, 14 and 15 extending substantially parallel to each other. In a conventional manner, each of these ribs has a height of the order of 50 μm. In the example shown, the ridge lines 110, 120, 130, 140 and 150 of the ribs are represented as the intersections of the planes formed by the flanks of each rib. These ridge lines are thus very acute. As is known to those skilled in the art, a wall 1 having ribs 11, 12, 13, 14 and 15 with sufficiently sharp ridge lines 110, 120, 130, 140 and 150 generates a relatively low aerodynamic drag when subjected to a flow of air or fluid flowing in the direction of the ribs.

Dans la réalité, les lignes de crête obtenues par les procédés connus ne présentent pas exactement cette forme théorique, mais une forme s'en approchant. Cette forme peut légèrement évoluer au cours de la vie de la paroi 1, notamment sous l'effet de l'érosion de l’air ou du flux de fluide auquel est soumis la paroi 1,In reality, the ridge lines obtained by the known methods do not present exactly this theoretical form, but a shape approaching it. This shape may slightly change during the life of the wall 1, in particular under the effect of the erosion of the air or the flow of fluid to which the wall 1 is subjected,

Dans les modes de réalisation qui sont présentés ci-après, des substrats sont recouverts par des revêtements microstructurés, formant une paroi présentant des microstructures pouvant être du type « ribiet ». Le substrat peut être par exemple constitué par une plaque comme une tôle métallique ou une plaque réalisée en matériau composite. Les revêtements microstructurés, dont l'épaisseur est de préférence comprise entre 0,01 mm et 0,25 mm, sont obtenus par la projection sur le substrat, par une torche plasma, de particules fines, de diamètre compris entre 0,05 pm et 5 pm. De préférence, ces particules sont projetées sous la forme d'une pluralité de couches successives de particules, formant ensemble le revêtement. L'utilisation de particules fines pour former le revêtement permet d'ajuster de façon très précise l'épaisseur de ce revêtement. En effet les particules ayant une taille très inférieure à l'épaisseur du revêtement, il est nécessaire d'en projeter un grand nombre pour obtenir le revêtement final. L’obtention du revêtement se fait alors de façon progressive, ce qui permet une très bonne maîtrise de son épaisseur, et donc de la géométrie des mîcrostructures.In the embodiments which are presented hereinafter, substrates are covered by microstructured coatings forming a wall having microstructures which may be of the "ribiet" type. The substrate may for example consist of a plate such as a metal sheet or a plate made of composite material. The microstructured coatings, the thickness of which is preferably between 0.01 mm and 0.25 mm, are obtained by the projection on the substrate, by a plasma torch, of fine particles, with a diameter of between 0.05 μm and 5 pm. Preferably, these particles are projected in the form of a plurality of successive layers of particles, together forming the coating. The use of fine particles to form the coating makes it possible to adjust the thickness of this coating very precisely. Indeed, the particles having a size much smaller than the thickness of the coating, it is necessary to project a large number to obtain the final coating. The coating is then obtained in a progressive manner, which allows a very good control of its thickness, and therefore the geometry of the microstructures.

Par ailleurs, l'utilisation de particules fines permet d'obtenir un état de surface du revêtement qui est très homogène, ce qui limite le risque d'érosion et évite la fixation sur la paroi de salissures ou d'eau.Moreover, the use of fine particles makes it possible to obtain a surface state of the coating which is very homogeneous, which limits the risk of erosion and avoids the fixing on the wall of dirt or water.

Selon un mode de réalisation préférentiel représenté schématiquement par la figure 8, la projection des particules sur le substrat est faite par un faisceau de plasma atmosphérique, constitué de gaz ionisé dans lequel sont incluses les particules à projeter. Comme le montre la figure 8, la torche plasma 81 forme un faisceau plasma 810. Des particules 83sont introduites dans ce faisceau plasma 810 par une buse 82. Dans le faisceau plasma 810, ces particules 83 sont chauffées jusqu'à leur fusion et sont projetées vers le substrat 80. Dans certains cas, ces particules peuvent aussi subir des transformations chimiques dans ce faisceau plasma 810, notamment dues à la chaleur. Au contact de la surface du substrat 80, les particules 83 s'y solidifient de façon à former une couche 830 de revêtement. A titre d'exemple, dans un mode de réalisation de l’invention, la température du plasma est de l’ordre de 200 à 14000 °K, la vitesse du jet plasma est comprise entre 50 et 2500 m/s, et les particules se déplacent dans le plasma à une vitesse comprise entre 20 et 400 m/s. La distance entre la torche à plasma et le substrat à revêtir est de l'ordre de 25 cm.According to a preferred embodiment shown schematically in Figure 8, the projection of the particles on the substrate is made by an atmospheric plasma beam, consisting of ionized gas in which are included the particles to be sprayed. As shown in FIG. 8, the plasma torch 81 forms a plasma beam 810. Particles 83 are introduced into this plasma beam 810 via a nozzle 82. In the plasma beam 810, these particles 83 are heated until they are melted and are projected. to the substrate 80. In some cases, these particles may also undergo chemical transformations in this plasma beam 810, in particular due to heat. In contact with the surface of the substrate 80, the particles 83 solidify therein to form a coating layer 830. By way of example, in one embodiment of the invention, the plasma temperature is of the order of 200 to 14000 ° K, the plasma jet speed is between 50 and 2500 m / s, and the particles move in the plasma at a speed between 20 and 400 m / s. The distance between the plasma torch and the substrate to be coated is of the order of 25 cm.

Les particules projetées par le plasma sur le substrat sont chauffées à très haute température, de l'ordre du millier de degré, pendant un temps très court, de l'ordre du millième de secondes. Cette élévation de température peut avoir des conséquences sur la cohésion des particules projetées, ou générer des réactions chimiques dans ces particules. Les dimensions faibles de ces particules évitent l'apparition d’un échauffement inacceptable du substrat lors de l'impact des particules chaudes.The particles projected by the plasma on the substrate are heated at very high temperature, of the order of thousands of degrees, for a very short time, of the order of a thousandth of a second. This rise in temperature can have consequences on the cohesion of the projected particles, or generate chemical reactions in these particles. The small dimensions of these particles prevent the occurrence of an unacceptable heating of the substrate during the impact of hot particles.

Selon un mode de réalisation préférentiel, les particules mises en œuvre pour 1a fabrication du revêtement sont préalablement dispersées dans un liquide pour former un composé de type sol-gel qui est lui-même inséré dans le faisceau de la torche plasma. L'utilisation d’un tel procédé sol-gel permet une bonne répartition granulométrique des particules à projeter.According to a preferred embodiment, the particles used for the manufacture of the coating are previously dispersed in a liquid to form a sol-gel compound which is itself inserted into the beam of the plasma torch. The use of such a sol-gel process allows a good particle size distribution of the particles to be sprayed.

Comme le montre la figure 8, un composé 820 de type sol-gel, contenu dans un récipient 821, peut être amené à la buse 82 par une conduite 822, de façon à être introduit dans le faisceau plasma 810. Avantageusement, la buse introduit un débit précis de composé de type sol-gel, afin de maîtriser à chaque instant la quantité de particules déposées par le faisceau plasma. Plusieurs buses peuvent être prévues, pour un même faisceau plasma, de façon à introduire simultanément ou successivement plusieurs types de particules dans le plasma, dans des proportion souhaitées,As shown in FIG. 8, a compound 820 of the sol-gel type, contained in a container 821, can be fed to the nozzle 82 via a pipe 822, so as to be introduced into the plasma beam 810. Advantageously, the nozzle introduces a precise flow rate of sol-gel compound, in order to control at each instant the amount of particles deposited by the plasma beam. Several nozzles may be provided, for the same plasma beam, so as to introduce simultaneously or successively several types of particles in the plasma, in desired proportion,

La formation d'un tel composé de type sol-gel contenant des particules fines, et l’introduction de ce composé de type sol-gel dans un faisceau plasma permettant de projeter les particules sur un substrat afin d'y former une couche mince de revêtement sont notamment décrites par les documents W02006/043006 et WO2007/122256.The formation of such a sol-gel type compound containing fine particles, and the introduction of this sol-gel type compound into a plasma beam for projecting the particles onto a substrate to form a thin layer of coating are described in particular by WO2006 / 043006 and WO2007 / 122256.

De façon préférentielle, les particules projetées par le faisceau plasma pour former les couches de revêtement sont des particules d'oxydes métalliques. L'utilisation de telles particules permet de fabriquer une couche résistive qui présente une bonne tenue à l'érosion, ce qui permet aux microstructures de garder durablement de bonnes performances aérodynamiques.Preferably, the particles projected by the plasma beam to form the coating layers are particles of metal oxides. The use of such particles makes it possible to manufacture a resistive layer which has good resistance to erosion, which allows the microstructures to maintain a long lasting aerodynamic performance.

Plus précisément, le choix des particules utilisées peut être fait entre plusieurs types de particules, en fonction des propriétés recherchées pour le revêtement. Chaque couche peut être composée d'un type unique de particules ou de plusieurs types de particules mélangées. Par ailleurs, certaines des couches de particules peuvent être poreuses de façon à permettre une interpénétration entre les particules formant des couches successives. Une telle interpénétration peut permettre une optimisation des propriétés finales recherchées.More specifically, the choice of particles used can be made between several types of particles, depending on the desired properties for the coating. Each layer can be composed of a single type of particles or of several types of mixed particles. Moreover, some of the particle layers may be porous so as to allow interpenetration between the particles forming successive layers. Such interpenetration can allow an optimization of the final properties sought.

Ainsi, selon un mode de réalisation préférentiel de l'invention, les premières couches déposées sur le substrat peuvent être des sous-couches d'accrochage faite de polymères bloquant ia corrosion. Selon une variante, les torches à plasma peuvent générer sur un substrat métallique des oxydes métalliques permettant l'adhérence des couches ultérieures.Thus, according to a preferred embodiment of the invention, the first layers deposited on the substrate may be anchoring sub-layers made of polymers blocking corrosion. According to one variant, the plasma torches can generate metal oxides on a metal substrate enabling adhesion of the subsequent layers.

Sur les couches extérieures du revêtement, on peut avantageusement mettre en œuvre des couches à base de particules de zircone. Ce matériau présente une résistance à l'usure élevée, et permet d'obtenir un revêtement présentant une bonne résistance à l’usure. Le degré de porosité de ces couches peut être choisi, afin de permettre la pénétration de particules offrant des propriété particulières au revêtement. Ainsi, une couche à base de zircone, offrant de bonnes performances mécaniques de résistance aux chocs et à l'érosion, peut également présenter des propriétés résultant de la présence d'autres particules.On the outer layers of the coating, it is advantageous to use zirconia-based layers. This material has a high wear resistance, and provides a coating having good wear resistance. The degree of porosity of these layers can be chosen to allow the penetration of particles offering particular properties to the coating. Thus, a layer based on zirconia, offering good mechanical performance of impact resistance and erosion, can also have properties resulting from the presence of other particles.

Parmi ces particules, les particules de dioxydes de titane peuvent apporter un caractère autonettoyant au revêtement. Les propriétés photo-catalytiques de ce matériau, en combinaison avec une source d'ultra-vioiets, permet en effet la transformation permanente des éléments organiques tels que les débris associés aux impacts de moustiques ou tout autre élément organique. Les ultra-violets peuvent être d'origine naturelle ou projetés sur la paroi par un projecteur adapté.Among these particles, the titanium dioxide particles can bring a self-cleaning character to the coating. The photo-catalytic properties of this material, in combination with a source of ultraviolet, allows the permanent transformation of organic elements such as debris associated with mosquito impacts or any other organic element. Ultraviolet lights can be of natural origin or projected on the wall by a suitable projector.

Selon un autre mode de réalisation possible, un caractère autonettoyant peut être apporté par la projection de particules céramiques piézoélectriques. Sous l'effet d'un courant, ces céramiques vibrent, génèrent des ondes de surfaces et permettent ie décollement puis le nettoyage des parois, garantissant une amélioration de l'esthétisme et la durabilité des performances aérodynamiques de la paroi.According to another possible embodiment, a self-cleaning character can be provided by the projection of piezoelectric ceramic particles. Under the effect of a current, these ceramics vibrate, generate surface waves and allow delamination and cleaning of the walls, ensuring an improvement in the aesthetics and durability of aerodynamic performance of the wall.

Selon encore un autre mode de réalisation possible, la projection de particules organométalliques permet d’apporter au revêtement un caractère super-hydrophobe, réduisant notamment les risques de formation de glace sur la paroi.According to yet another possible embodiment, the projection of organometallic particles makes it possible to give the coating a super-hydrophobic character, notably reducing the risk of ice formation on the wall.

La mise en œuvre de telles particules ou combinaisons de particules, pour obtenir un revêtement présentant des propriétés particulières, est notamment décrite par les documents W02006/043006 et WO2007/122256.The implementation of such particles or combinations of particles, to obtain a coating having particular properties, is described in particular in WO2006 / 043006 and WO2007 / 122256.

Les mouvements de la torche, ou des torches projetant les couches de revêtement, sont préférentiellement pilotés par un robot qui déplace la ou les torches de façon à faire un certain nombre de projections de particules en chaque point du substrat. Ce robot, en déplaçant la torche par rapport au substrat, permet de maîtriser la distance entre la torche et le substrat, qui est généralement inférieure à 25 cm. Le robot peut également réaliser, avec une ou plusieurs torches, la projection d'une pluralité de couches successives sur la paroi, en faisant varier, si nécessaire, l'orientation des torches. Il peut notamment assurer un positionnement de la torche, à une distance adaptée par rapport au substrat et avec un angle adapté, pour assurer la projection homogène des couches de revêtement sur un substrat pouvant avoir une forme non plane complexe.The movements of the torch, or torches projecting the coating layers, are preferably controlled by a robot that moves the torch or torches so as to make a number of particle projections at each point of the substrate. This robot, by moving the torch relative to the substrate, makes it possible to control the distance between the torch and the substrate, which is generally less than 25 cm. The robot can also realize, with one or more torches, the projection of a plurality of successive layers on the wall, by varying, if necessary, the orientation of the torches. It can in particular ensure a positioning of the torch, at a suitable distance relative to the substrate and with a suitable angle, to ensure the homogeneous projection of the coating layers on a substrate that may have a complex non-planar shape.

Ce robot peut, par exemple, piloter un train de torches ayant chacune des orientations et des débits différents.This robot can, for example, drive a train of torches each having different orientations and flow rates.

Ce robot peut également actionner, couper ou moduler l'alimentation en particules des buses introduisant les particules dans les faisceaux plasma des torches. Ainsi, ce robot permet à la torche, lors de son passage en chaque point de la paroi du substrat, de déposer une couche de particules d'épaisseur voulue, ou ne déposer aucune particule, quand l'alimentation en particules est interrompue. Ce mode de réalisation permet qu'une couche de particules soit déposée sur certaines zones de la paroi, et pas sur certaines autres zones. II permet également de faire varier l'épaisseur d'une même couche de particules, en fonction des zones de la paroi. Ce mode de réalisation permet ainsi de contrôler efficacement la géométrie du revêtement.This robot can also actuate, cut or modulate the particle feed of the nozzles introducing the particles into the plasma beams of the torches. Thus, this robot allows the torch, as it passes through each point of the wall of the substrate, to deposit a layer of particles of desired thickness, or do not deposit any particle, when the particle supply is interrupted. This embodiment allows a layer of particles to be deposited on certain areas of the wall, and not on certain other areas. It also makes it possible to vary the thickness of the same layer of particles, as a function of the zones of the wall. This embodiment thus makes it possible to effectively control the geometry of the coating.

De façon avantageuse, le robot peut être combiné à un moyen de contrôle en temps réel des conditions de dépôt du revêtement, tel qu'une caméra.Advantageously, the robot can be combined with a real-time control means of the coating deposition conditions, such as a camera.

Les figures 2 et 3 représentent schématiquement une paroi 2 qui est recouverte, selon un premier mode de réalisation de l'invention, par un revêtement microstructuré formant une pluralité de nervures 21, 22, 23 et 24. Dans ce mode de réalisation, la paroi 2 est formée sur la base d'un substrat 20 constitué par une plaque plane. Ce substrat peut par exemple être constitué par une tôle métallique, par exemple en aluminium, ou par une plaque réalisée en matériau composite. Il est avantageusement entièrement recouvert par une première couche 201 de revêtement, qui peut par exemple être une couche d'accroche permettant une bonne adhérence des couches suivantes.FIGS. 2 and 3 schematically represent a wall 2 which is covered, according to a first embodiment of the invention, with a microstructured coating forming a plurality of ribs 21, 22, 23 and 24. In this embodiment, the wall 2 is formed on the basis of a substrate 20 consisting of a flat plate. This substrate may for example be constituted by a metal sheet, for example aluminum, or by a plate made of composite material. It is advantageously completely covered by a first layer 201 of coating, which may for example be a tie layer allowing good adhesion of the following layers.

Dans ce mode de réalisation, chacune des nervures 21, 22, 23 et 24 est formée par une pluralité de couches de revêtement empilées les unes sur les autres, chaque nouvelle couche ayant une largeur inférieure à la couche précédente pour que l'empilement des couches présente un forme pyramidale. L'ensemble des couches de revêtement forme ainsi le revêtement microstructuré, comprenant les nervures 21, 22, 23 et 24.In this embodiment, each of the ribs 21, 22, 23 and 24 is formed by a plurality of coating layers stacked on each other, each new layer having a width smaller than the previous layer so that the stack of layers has a pyramidal shape. The set of coating layers thus forms the microstructured coating, comprising the ribs 21, 22, 23 and 24.

La figure 4 représente schématiquement ia projection des particules formant le revêtement microstructuré sur le substrat 20, selon un mode de réalisation possible de l'invention, afin de former la paroi 2 représentée par les figures 2 et 3.FIG. 4 diagrammatically shows the projection of the particles forming the microstructured coating on the substrate 20, according to a possible embodiment of the invention, in order to form the wall 2 represented by FIGS. 2 and 3.

Selon ce mode de réalisation, la projection des couches de revêtement sur le substrat 20 est faite par une pluralité de torches 51 et 52, projetant chacune un jet directionnel, respectivement 510 et 520, de particules sur le substrat 20. Dans ce mode de réalisation, les deux torches plasma 51 et 52 se déplacent de la gauche vers la droite, en projetant chacune des particules destinées à former une couche de revêtement. Chacune de ces torches dépose ainsi sur la paroi une couche de particules distincte. On peut voir sur ia figure 4 que la première couche 201 et les deux couches suivantes de particules formant la base des nervures 21, 22, 23 et 24, ont été déposées avant le passage des torches plasma 51 et 52. Ainsi, une deuxième couche, respectivement 211, 221, 231 et 241 a été déposée sur la première couche 201, pour former la base, respectivement, de la nervure 21, 22, 23 et 24. Une troisième couche, respectivement 212, 222, 232 et 242 a été déposée, respectivement, sur la deuxième couche, respectivement 211, 221, 231 et 241. Les torches 51 et 52 déposent, respectivement, les quatrième et cinquième couches. Plus précisément, sur la figure 4, la torche 51 a déposé ia quatrième couche 213 sur la couche 212, la quatrième couche 223 sur la couche 222, et est en train de déposer ia quatrième couche 233 sur la couche 232. La torche 52 a déposé ia cinquième couche 214 sur la couche 213, et est en train de déposer ia cinquième couche 224 sur la couche 223. La succession des couches déposées les unes sur les autres par les torches permet ainsi de former la géométrie contrôlée des rainures représentées par les figures 2 et 3.According to this embodiment, the projection of the coating layers on the substrate 20 is made by a plurality of torches 51 and 52, each projecting a directional jet, respectively 510 and 520, of particles on the substrate 20. In this embodiment , the two plasma torches 51 and 52 move from left to right, projecting each of the particles to form a coating layer. Each of these torches thus deposited on the wall a separate layer of particles. It can be seen in FIG. 4 that the first layer 201 and the two following layers of particles forming the base of the ribs 21, 22, 23 and 24 have been deposited before the passage of the plasma torches 51 and 52. Thus, a second layer 211, 221, 231 and 241 respectively have been deposited on the first layer 201, to form the base, respectively, of the rib 21, 22, 23 and 24. A third layer, respectively 212, 222, 232 and 242 has been deposited, respectively, on the second layer, respectively 211, 221, 231 and 241. The torches 51 and 52 deposit, respectively, the fourth and fifth layers. More specifically, in FIG. 4, the torch 51 has deposited the fourth layer 213 on the layer 212, the fourth layer 223 on the layer 222, and is depositing the fourth layer 233 on the layer 232. The torch 52 has deposited the fifth layer 214 on the layer 213, and is in the process of depositing the fifth layer 224 on the layer 223. The succession of layers deposited on each other by the torches thus makes it possible to form the controlled geometry of the grooves represented by the Figures 2 and 3.

Bien entendu, l'invention peut être mise en œuvre avec un plus grand nombre de torches que celles représentées sur ia figure 4. Elle peut également être mise en œuvre avec une torche unique réalisant plusieurs passages de façon à réaliser les différentes couches de la microstructuré.Of course, the invention can be implemented with a larger number of torches than those shown in FIG. 4. It can also be implemented with a single torch making several passes so as to produce the different layers of the microstructure. .

En conséquence, la microstructure de la paroi 2 est composée d'un grand nombre de couches successives, de préférence supérieur à dix couches. La quantité de particules déposées dans chaque couche pouvant être déterminée de façon précise, il est possible de réaliser des couches présentant une épaisseur très précise. Il est ainsi possible de maîtriser ia géométrie de la microstructuré, en adaptant ie nombre de couches.As a result, the microstructure of the wall 2 is composed of a large number of successive layers, preferably greater than ten layers. Since the quantity of particles deposited in each layer can be determined precisely, it is possible to produce layers having a very precise thickness. It is thus possible to control the geometry of the microstructure, by adapting the number of layers.

Les figures 5 et 6 représentent la mise en œuvre d'un autre mode de réalisation possible de l'invention. La figure 5 représente, en traits continus, un substrat 30 sur lequel doit être déposé un revêtement microstructuré, de façon à réaliser la paroi 3 comportant des nervures dont la forme souhaitée est représentée en pointillées. Dans ce mode de réalisation, le substrat 30 n'est pas plat, mais présente des reliefs 310, 320, 330 et 340 destinés à former l'amorce des nervures. Ces reliefs peuvent être obtenus, par exemple, avec l'un des procédés connus pour la formation de microstructures de type « ribiet ».Figures 5 and 6 show the implementation of another possible embodiment of the invention. FIG. 5 represents, in continuous lines, a substrate 30 on which a microstructured coating must be deposited, so as to produce the wall 3 comprising ribs whose desired shape is represented in dotted lines. In this embodiment, the substrate 30 is not flat, but has reliefs 310, 320, 330 and 340 for forming the leader of the ribs. These reliefs can be obtained, for example, with one of the known methods for the formation of "ribiet" type microstructures.

Le procédé selon ce mode de réalisation comprend une étape préliminaire qui consiste à réaliser une mesure précise de la surface du substrat 30, afin de mesurer les dimensions précises des reliefs 310, 320, 330 et 340. Cette mesure peut par exemple être réalisée par balayage systématique de ia surface par le faisceau d'un télémètre laser. Une autre étape consiste à calculer, en fonction de ces mesures, à l'aide d'un logiciel adapté mis en œuvre par ordinateur, le nombre et/ou l'épaisseur de couches de revêtement à déposer en chaque point du substrat 30 afin de réaliser un revêtement présentant la microstructuré souhaitée, qui est représentée en pointillés sur la figure 5. Enfin, au cours des étapes suivantes, ces couches de revêtement sont déposées sur ie substrat 30 pour former le revêtement microstructuré qui est représenté sur la figure 6. Les différentes couches de revêtement s'empilent les unes sur les autres, chaque couche s'adaptant à la forme de la couche sur laquelle elle est déposée, jusqu'à former des nervures, respectivement 31, 32, 33 et 34, sur les reliefs, respectivement 310, 320, 330 et 340, du substrat 30.The method according to this embodiment comprises a preliminary step which consists in making an accurate measurement of the surface of the substrate 30, in order to measure the precise dimensions of the reliefs 310, 320, 330 and 340. This measurement can for example be performed by scanning systematically the surface by the beam of a laser range finder. Another step is to calculate, based on these measurements, using a computer-adapted adapted software, the number and / or the thickness of coating layers to be deposited at each point of the substrate 30 in order to producing a coating having the desired microstructure, which is shown in dashed lines in FIG. 5. Finally, in the following steps, these coating layers are deposited on the substrate 30 to form the microstructured coating which is shown in FIG. different layers of coating are stacked on each other, each layer adapting to the shape of the layer on which it is deposited, to form ribs, respectively 31, 32, 33 and 34, on the reliefs, 310, 320, 330 and 340, respectively, of the substrate 30.

Dans le mode de réalisation représentée, les couches de revêtement comprennent une première couche 301, qui est continue sur le substrat et qui peut par exemple être une couche d'accroche permettant une bonne adhérence des couches suivantes. Les couches de revêtement comprennent également une dernière couche 302, qui est également continue et qui recouvre toutes les autres couches. Cette dernière couche 302 est avantageusement une couche présentant des caractéristiques la rendant apte à assurer l’état de surface du revêtement, et notamment sa résistance à l'érosion.In the embodiment shown, the coating layers comprise a first layer 301, which is continuous on the substrate and which may for example be a tie layer allowing good adhesion of the following layers. The coating layers also include a last layer 302, which is also continuous and covers all other layers. This last layer 302 is advantageously a layer having characteristics making it suitable for ensuring the surface state of the coating, and in particular its resistance to erosion.

La figure 7 représente la mise en œuvre d'un autre mode de réalisation possible de l'invention. Dans ce mode de réalisation, une pluralité de couches de revêtement, référencées 411 à 419, ont été déposées sur un substrat 40 pour former un revêtement microstructuré. Chacune des couches de revêtement 411 à 419 présente une épaisseur variable selon les zones. Ainsi, dans des zones 401 et 402 du revêtement, chacune de ces couches présente une épaisseur minimale, de telle sorte que le revêtement formé de ces couches présente une épaisseur minimale.Figure 7 shows the implementation of another possible embodiment of the invention. In this embodiment, a plurality of coating layers, referenced 411 to 419, have been deposited on a substrate 40 to form a microstructured coating. Each of the coating layers 411 to 419 has a variable thickness depending on the areas. Thus, in areas 401 and 402 of the coating, each of these layers has a minimum thickness, so that the coating formed of these layers has a minimum thickness.

Dans la zone comprise entre ces zones 401 et 402, l’épaisseur des couches du revêtement augmente progressivement jusqu’à une valeur d'épaisseur maximale, puis diminue progressivement jusqu'à une valeur d'épaisseur minimale. Cette variation de l'épaisseur d'une couche de revêtement peut être obtenue en faisant varier la quantité et/ou la taille des particules introduites dans le faisceau plasma, et/ou en faisant varier la vitesse de déplacement du faisceau plasma sur le substrat. Dans le mode de réalisation représenté, l'épaisseur de toutes les couches est identique, en un point donné du substrat. En conséquence, l'empilement des couches de revêtement ayant une épaisseur importante forme un relief 41 dans le revêtement, ce qui permet de former une microstructure dans le revêtement. L'homme du métier pourra bien évidemment imaginer d’autres solutions de projection de particules permettant, en jouant sur l'épaisseur et/ou la position de chaque couche, de réaliser une microstructure dans le revêtement.In the zone between these zones 401 and 402, the thickness of the layers of the coating increases progressively to a maximum thickness value, then progressively decreases to a minimum thickness value. This variation of the thickness of a coating layer can be obtained by varying the quantity and / or size of the particles introduced into the plasma beam, and / or by varying the speed of displacement of the plasma beam on the substrate. In the embodiment shown, the thickness of all the layers is identical, at a given point of the substrate. As a result, the stack of coating layers having a large thickness forms a relief 41 in the coating, which makes it possible to form a microstructure in the coating. Those skilled in the art will of course be able to imagine other solutions for projecting particles that, by varying the thickness and / or position of each layer, provide a microstructure in the coating.

Ainsi, le procédé selon l'invention permet d'obtenir une paroi, par exemple une paroi métallique ou composite d'un extérieur d’aéronef, qui est recouverte d’un revêtement microstructuré pouvant comporter des sillons ou reliefs d'une hauteur de 10 à 60 microns. Ces reliefs peuvent être formés de façon très précise, avec une tolérance de 0,8 à 3 microns, et présenter une surface très lisse et ayant une bonne résistance à l’érosion, garantissant la durabilité dans le temps de de la microstructure. Ce revêtement peut également présenter des caractéristiques lui permettant de limiter les effets de la contamination (par exemple par des moustiques, ou de la poussière, une résistance aux agressions chimiques et aux sollicitations mécaniques), et apportant un effet esthétique par une coloration homogène et durable.Thus, the method according to the invention makes it possible to obtain a wall, for example a metal or composite wall of an aircraft exterior, which is covered with a microstructured coating that may comprise grooves or reliefs with a height of 10. at 60 microns. These reliefs can be formed very precisely, with a tolerance of 0.8 to 3 microns, and have a very smooth surface and having good erosion resistance, ensuring the durability of the microstructure over time. This coating may also have characteristics enabling it to limit the effects of contamination (for example by mosquitoes, or dust, resistance to chemical attack and mechanical stress), and providing an aesthetic effect through a consistent and durable coloring .

Une telle structure permet ainsi de répondre aux différentes contraintes subies par un élément de paroi d'un aéronef, parmi lesquelles : - la résistance aux conditions environnementales, et notamment aux conditions atmosphériques ; - la compatibilité avec des formes diverses non planes, le revêtement pouvant être déposé dans des directions variées ; - les performances aérodynamiques du revêtement, le revêtement pouvant présenter des microstructures réduisant la traînée générée par un écoulement de fluide ; - les conditions esthétiques relatives aux revêtements extérieurs d'aéronefs.Such a structure thus makes it possible to respond to the various stresses experienced by a wall element of an aircraft, among which: resistance to environmental conditions, and especially to atmospheric conditions; compatibility with various non-planar shapes, the coating being able to be deposited in various directions; - The aerodynamic performance of the coating, the coating may have microstructures reducing the drag generated by a fluid flow; - the aesthetic conditions relating to the outer surfaces of aircraft.

Dans les modes de réalisation représentés, les revêtements microstructurés obtenus forment des nervures de section sensiblement triangulaire. Bien évidemment, l’homme du métier pourra sans difficultés mettre en œuvre ce procédé pour la fabrication de microstructures de type différents.In the embodiments shown, the microstructured coatings obtained form ribs of substantially triangular section. Of course, the skilled person can easily implement this process for the manufacture of microstructures of different types.

Claims (8)

REVENDICATIONS 1. Procédé de fabrication d'un revêtement microstructuré sur un substrat (20, 30, 40, 80), caractérisé en ce qu'il comprend - une étape de mesure de la géométrie de la surface dudit substrat (20, 30, 40, 80} ; - une étape de calcul de l'épaisseur et/ou du nombre des couches (201, 211, 212,411, 412...) de particules à projeter en différents points dudit substrat (20, 30, 40, 80) ; - une étape de dispersion des particules à projeter dans un composé de type sol-gel (820) ; - une étape de projection de particules (83) en fusion, comprennant des particules d'oxyde métallique et présentant un diamètre compris entre 0,05 pm et 5 pm sur ledit substrat (20, 30, 40, 80), ladite projection étant réalisée par au moins une torche plasma (81, 51, 52), qui est déplacée par rapport audit substrat (20, 30, 40, 80), les paramètres de déplacement et/ou le débit de particules (83) projetées par ladite ou lesdites torches plasma (81, 51, 52) étant variables en fonction de la position de ladite ou desdites torches plasma (81, 51, 52), assurant une épaisseur variable du revêtement formé par lesdites particules (83), en différents points du substrat (20, 30,40, 80).A method for producing a microstructured coating on a substrate (20, 30, 40, 80), characterized in that it comprises a step of measuring the geometry of the surface of said substrate (20, 30, 40, 80}; a step of calculating the thickness and / or number of the layers (201, 211, 212, 411, 412 ...) of particles to be projected at different points of said substrate (20, 30, 40, 80); a step of dispersing the particles to be projected in a sol-gel compound (820); a step of projecting particles (83) in fusion, comprising metal oxide particles and having a diameter of between 0.05 and pm and 5 pm on said substrate (20, 30, 40, 80), said projection being carried out by at least one plasma torch (81, 51, 52), which is displaced with respect to said substrate (20, 30, 40, 80 ), the displacement parameters and / or the flow rate of particles (83) projected by the at least one plasma torch (81, 51, 52) being variable as a function of the p ositioning said at least one plasma torch (81, 51, 52), providing a variable thickness of the coating formed by said particles (83), at different points of the substrate (20, 30, 40, 80). 2. Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que ladite épaisseur variable est réalisée par la projection, sur au moins une partie de la surface dudit substrat, d'au moins deux couches (201, 211, 212,..., 411, 412...} successives de particules (83) en fusion, le nombre des couches (201, 211, 212, ..., 411, 412.,.) de particules (83) projetées étant variable en différents points du substrat.2. Method according to claim 1, characterized in that said variable thickness is achieved by the projection, on at least a portion of the surface of said substrate, of at least two layers (201, 211, 212, ..., 411 , 412 ...} successive particles (83) melt, the number of layers (201, 211, 212, ..., 411, 412.,.) Of projected particles (83) being variable at different points of the substrate . 3. Procédé selon l'une quelconque des revendications 2 et 3 caractérisé en ce que ladite épaisseur variable est réalisée par la projection d'au moins une couche de particules en fusion dont l'épaisseur est variable en différents points du substrat.3. Method according to any one of claims 2 and 3 characterized in that said variable thickness is achieved by the projection of at least one layer of molten particles whose thickness is variable at different points of the substrate. 4. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce qu'il met en œuvre un robot qui contrôle la position, l'orientation et le débit de chacune des torches plasma (81, 51, 52} projetant des particules (83) sur le substrat (20, 30, 40, 80).4. Method according to any one of the preceding claims, characterized in that it implements a robot that controls the position, the orientation and the flow rate of each of the plasma torches (81, 51, 52) projecting particles ( 83) on the substrate (20, 30, 40, 80). 5. Procédé selon l’une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite étape de projection comprend : - la projection d'une première couche (201, 301) de particules, d'épaisseur sensiblement uniforme en tout point dudit substrat (20, 30, 40, 80), puis - ia projection, par-dessus ladite première couche, d'une pluralité d'autres couches (211, 212,..) de particules, dont Se nombre et/ou l'épaisseur sont différents en différents points du substrat (20, 30,40, 80).5. Method according to any one of the preceding claims, characterized in that said projecting step comprises: the projection of a first layer (201, 301) of particles, of substantially uniform thickness at any point of said substrate (20); , 30, 40, 80) and then projecting, over said first layer, a plurality of other layers (211, 212, ..) of particles, of which Se number and / or thickness are different. at different points of the substrate (20, 30, 40, 80). 6. Procédé selon l'une quelconque des revendications précédentes, caractérisé en ce que ladite étape de projection comprend : la projection de couches de particules, dont le nombre et/ou l'épaisseur sont différentes en différents points du substrat (20, 30, 40, 80), puis - ia projection par-dessus les couches de particules précédentes d'au moins une couche externe (302) de particules, d'épaisseur sensiblement uniforme en tout point dudit substrat.6. Method according to any one of the preceding claims, characterized in that said projection step comprises: the projection of layers of particles, the number and / or thickness of which are different at different points of the substrate (20, 30, 40, 80), and then projection over the preceding particle layers of at least one outer layer (302) of particles, of substantially uniform thickness at any point of said substrate. 7. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 6, caractérisé en ce que les particules (83) projetées lors de ladite étape de projection comprennent des particules de zircone.7. Method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the particles (83) projected during said projection step comprise zirconia particles. 8. Procédé selon l’une quelconque des revendications 1 à 7, caractérisé en ce que les particules (83) projetées lors de ladite étape de projection comprennent des particules de dioxyde de titane.8. Method according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the particles (83) projected in said projection step comprise titanium dioxide particles.