FR2926301A1

FR2926301A1 - Ion implantation device useful in semiconductor industry, comprises hydrogen source, system for continuously supplying deionized water to source, gas housing, ionization chamber, and unit for detecting abnormality and/or leak of hydrogen

Info

Publication number: FR2926301A1
Application number: FR0760224A
Authority: FR
Inventors: Frederic Mazen; Frederic Milesi; Alain Soubie
Original assignee: Commissariat a lEnergie Atomique CEA
Current assignee: Commissariat a lEnergie Atomique et aux Energies Alternatives CEA
Priority date: 2007-12-21
Filing date: 2007-12-21
Publication date: 2009-07-17

Abstract

The ion implantation device comprises a source for generating hydrogen from electrochemical or chemical reaction and by electrolysis of water, a system for continuously supplying the deionized water to the source, a gas housing integrated with the source, an ionization chamber (8), a unit for detecting the abnormality and/or leak of hydrogen, a unit for stopping the generation of hydrogen when the abnormality and/or leak is detected, a unit for detecting the fall of pressure in the gas supply circuit (6), optionally a sorting unit, and a purification unit. The ion implantation device comprises a source for generating hydrogen from electrochemical or chemical reaction and by electrolysis of water, a system for continuously supplying the deionized water to the source, a gas housing integrated with the source, an ionization chamber (8), a unit for detecting the abnormality and/or leak of hydrogen, a unit for stopping the generation of hydrogen when the abnormality and/or leak is detected, a unit for detecting the fall of pressure in the gas supply circuit (6), optionally a sorting unit, and a purification unit. The output of the hydrogen source is connected to a gas line that supplies the gas to the ionization chamber. The source is connected to an exterior of the high tension zone of the ionic implanter. The quantity of hydrogen stored in the source is 1 liter. The hydrogen has a pressure of less than 10 bars in the source. An independent claim is included for an ionic implantation process.

Description

IMPLANTEUR IONIQUE AVEC GENERATEUR D'HYDROGENE DESCRIPTION DOMAINE TECHNIQUE ET ART ANTERIEUR L'implantation ionique d'hydrogène est une technique employée dans l'industrie du semi-conducteur, notamment pour les applications de transfert de couches minces via le procédé Smart CutTM Dans les implanteurs ioniques, certaines parties, et en particulier les cabinets de gaz, sont portées à haute tension. Dans ce type d'équipement, tous les gaz nécessaires au procédé sont embarqués dans la machine, dans le cabinet de gaz, qui est porté, dans son ensemble, à la haute tension. Actuellement, dans tous les implanteurs ioniques commerciaux, l'alimentation en gaz est réalisée à partir de bouteilles. Pour les gaz les plus nocifs, des bouteilles basse pression ont été développées. Pour les gaz dont la nocivité est moindre ou nulle, les bouteilles utilisées sont de type haute pression (jusqu'à 150 - 200 Bars). C'est le cas de l'hydrogène. Même si ce n'est pas un gaz toxique, l'utilisation d'hydrogène sous forme de bouteille haute pression présente des risques à cause de la possibilité d'explosion s'il est mis en contact avec de l'air en présence d'une source d'ignition. Il y a donc des risques non négligeables pour le personnel qui assure les changements de bouteilles en cas de fuite. De plus, en cas de sinistre, la présence de ce gaz explosif sous pression dans l'enceinte de l'équipement présente un danger certain. Il n'est donc pas envisageable de stocker dans les machines des quantités importantes d'hydrogène. Les bouteilles de gaz doivent donc être changées régulièrement, ce qui implique un arrêt de production et l'intervention de personnel de maintenance spécialisé pour cette opération. En outre, les bouteilles de gaz ont un coût important en termes de fabrication, de stockage, de transport et de manutention. Il se pose donc le problème de la sécurité, dû à l'utilisation de bouteilles haute pression d'hydrogène, de la simplification des opérations de maintenance liées à l'approvisionnement des équipements en hydrogène et, sur le long terme, de la baisse des coûts liés à l'implantation d'hydrogène. EXPOSÉ DE L'INVENTION Afin de résoudre ces problèmes, l'invention concerne un dispositif implanteur ionique, dans lequel la source d'hydrogène est un générateur d'hydrogène apte à générer de l'hydrogène à basse pression via une réaction chimique ou électrochimique. Par basse pression, on entend une pression typiquement inférieure à 10 bars. Selon l'invention on utilise donc, dans un implanteur ionique, un générateur d'hydrogène à la place de bouteilles d'hydrogène. Avantageusement, on utilise un générateur d'hydrogène basé sur le principe de l'électrolyse de l'eau. Dans ce cas, le générateur peut comporter, ou être associé à, un système d'alimentation en eau déionisée en continu. Ce générateur peut être intégré dans le cabinet de gaz de l'implanteur ionique. La sortie du générateur d'hydrogène peut alors être connectée à la ligne de gaz qui alimente la chambre d'ionisation. En variante, dans un autre dispositif selon l'invention, le générateur d'hydrogène est placé à l'extérieur d'une zone haute tension de l'implanteur ionique. La sortie du générateur d'hydrogène peut alors être connectée à la ligne de gaz qui alimente la chambre d'ionisation par des moyens permettant de passer à la haute tension sans arcage. ION IMPLANTER WITH HYDROGEN GENERATOR DESCRIPTION TECHNICAL FIELD AND PRIOR ART Ion implantation of hydrogen is a technique used in the semiconductor industry, particularly for thin film transfer applications via the Smart CutTM process In the implementers ionic, some parts, and in particular gas cabinets, are brought to high voltage. In this type of equipment, all the gases necessary for the process are embedded in the machine, in the gas cabinet, which is carried, as a whole, at the high voltage. Currently, in all commercial ion implanters, the gas supply is made from bottles. For the most harmful gases, low pressure cylinders have been developed. For gases whose harmfulness is less or zero, the bottles used are high pressure type (up to 150 - 200 Bars). This is the case of hydrogen. Even if it is not a toxic gas, the use of hydrogen in the form of high pressure bottle poses risks because of the possibility of explosion if it is brought into contact with air in the presence of a source of ignition. There are therefore significant risks for personnel who ensure the changes of bottles in case of leakage. Moreover, in case of disaster, the presence of this explosive gas under pressure in the enclosure of the equipment presents a certain danger. It is therefore not possible to store in the machinery large quantities of hydrogen. The gas cylinders must therefore be changed regularly, which implies a production stoppage and the intervention of specialized maintenance personnel for this operation. In addition, gas cylinders have a significant cost in terms of manufacture, storage, transportation and handling. There is therefore the problem of safety, due to the use of high-pressure hydrogen cylinders, the simplification of maintenance operations related to the supply of hydrogen equipment and, in the long term, the decline in costs related to the implantation of hydrogen. SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve these problems, the invention relates to an ionic implant device, in which the hydrogen source is a hydrogen generator capable of generating hydrogen at low pressure via a chemical or electrochemical reaction. By low pressure is meant a pressure typically less than 10 bar. According to the invention, therefore, in an ionic implanter, a hydrogen generator is used instead of hydrogen bottles. Advantageously, a hydrogen generator is used based on the principle of the electrolysis of water. In this case, the generator may include, or be associated with, a continuous deionized water supply system. This generator can be integrated into the gas cabinet of the ion implanter. The output of the hydrogen generator can then be connected to the gas line that supplies the ionization chamber. Alternatively, in another device according to the invention, the hydrogen generator is placed outside a high voltage zone of the ion implanter. The output of the hydrogen generator can then be connected to the gas line which supplies the ionization chamber by means making it possible to switch to high voltage without arcage.

Par exemple, l'alimentation de la source en hydrogène peut être réalisée par des tuyaux souples isolants, tel que des tuyaux en PEEK. Leur longueur peut en outre être adaptée pour minimiser ou éviter tout type d'arcage. For example, the supply of hydrogen source can be performed by flexible hoses insulating, such as PEEK pipes. Their length can also be adapted to minimize or avoid any type of arcage.

Un dispositif selon l'invention peut comporter en outre des moyens de détection d'une anomalie et/ou d'une fuite, et des moyens pour arrêter la génération d'hydrogène dès lors qu'une telle anomalie et/ou fuite est détectée. A device according to the invention may further comprise means for detecting an anomaly and / or a leak, and means for stopping hydrogen generation as soon as such an anomaly and / or leak is detected.

Ainsi, des moyens de détection peuvent comporter des moyens pour détecter une chute de pression dans le circuit d'alimentation en gaz. De préférence, la quantité d'hydrogène stockée dans le générateur d'hydrogène est faible, par exemple inférieure à 1 1. Thus, detection means may comprise means for detecting a pressure drop in the gas supply circuit. Preferably, the amount of hydrogen stored in the hydrogen generator is low, for example less than 1 1.

De préférence encore, la pression d'hydrogène stockée dans le générateur d'hydrogène est elle aussi faible, par exemple inférieure à 10 bars. Un implanteur ionique comporte en outre des moyens formant zone d'accélération, pour accélérer les ions produits. Des moyens formant zone de déviation mettent en oeuvre des moyens magnétiques. Des moyens formant zone de balayage peuvent être situés en amont ou en aval de la zone d'accélération. Il peut aussi ne pas y avoir de zone de balayage. Des moyens de tri en masse peuvent, ou pas être mis en oeuvre. Si il n'y en a pas, des moyens de purification peuvent être prévus sur le trajet du gaz généré par le générateur. L'invention concerne également un procédé d'implantation, dans lequel est mis en oeuvre un dispositif tel que ci-dessus. More preferably, the hydrogen pressure stored in the hydrogen generator is also low, for example less than 10 bar. An ionic implanter further comprises means forming an acceleration zone, for accelerating the ions produced. Deflection zone means use magnetic means. Scavenging means may be located upstream or downstream of the acceleration zone. There may also be no scan area. Mass sorting means may or may not be implemented. If there is none, purification means may be provided on the path of the gas generated by the generator. The invention also relates to an implantation method, in which a device as above is implemented.

BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINS - La figure 1 représente schématiquement un dispositif d'implantation ionique, - la figure 2 représente schématiquement un générateur d'hydrogène pouvant être utilisée dans le 25 cadre de la présente invention, - la figure 3 représente schématiquement un générateur de gaz intégré dans le cabinet des gaz d'un implanteur ionique, - la figure 4 représente schématiquement un générateur de gaz disposés en dehors de la zone haute tension d'un implanteur ionique. EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERS Un exemple d'implanteur ionique 2 est représenté schématiquement sur la figure 1. Il comporte une chambre d'ionisation 8, qui génère des ions à partir du ou des gaz fournis par des moyens 6, moyens encore appelés cabinet de gaz. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 schematically represents an ion implantation device; FIG. 2 schematically represents a hydrogen generator that can be used in the context of the present invention; FIG. 3 schematically represents a gas generator. embedded in the gas cabinet of an ion implanter, - Figure 4 schematically shows a gas generator disposed outside the high voltage zone of an ion implanter. DETAILED DESCRIPTION OF PARTICULAR EMBODIMENTS An example of an ionic implanter 2 is shown schematically in FIG. 1. It comprises an ionization chamber 8, which generates ions from the gas or gases supplied by means 6, which are also called means gas cabinet.

Une zone d'accélération 10 permet d'accélérer les ions produits. Elle leur donne l'énergie voulue. Les ions sont ensuite déviés dans une zone 12 dans laquelle règne un champ magnétique. Il est ainsi procédé à un tri des ions, en fonction de leur masse et de leur charge. La zone 4, qui comporte les moyens 6, 8, 10, 12 constitue une zone à haute tension. Comme on le verra plus loin, on peut également réaliser un implanteur sans moyens de tri des ions. An acceleration zone 10 makes it possible to accelerate the ions produced. It gives them the energy. The ions are then deflected in an area 12 in which there is a magnetic field. In this way, the ions are sorted according to their mass and their charge. Zone 4, which comprises means 6, 8, 10, 12 constitutes a high voltage zone. As will be seen later, it is also possible to implement an implanter without means for sorting the ions.

Un jeu de lentilles électrostatiques 14 permet de réaliser une mise en forme du faisceau. Puis, dans une zone 16 dite de balayage, on réalise un balayage suivant deux directions, perpendiculairement à l'axe de propagation du faisceau, en X et en Y, ce qui permet de diriger une partie 20 de ce faisceau d'ions vers une chambre d'implantation 22. En variante, la zone 16 de balayage peut être située en amont de la zone 10 d'accélération. En variante encore, il n'y a pas de zone 16 de balayage. La fonction de balayage est dans ce cas réalisée par déplacement de la plaque à implanter elle-même. Des moyens de pompage, non représentés sur la figure, sont associés à chacune des zones ou chambres 14, 16, 22. Des moyens 24 de commande permettent de piloter l'ensemble du dispositif. Selon l'invention, quel que soit le type d'implanteur utilisé, on prévoit d'intégrer au niveau du cabinet de gaz 6 des moyens de connexion à un générateur d'hydrogène ou bien un générateur d'hydrogène lui-même. Ce générateur, qu'il soit placé dans le cabinet à gaz lui-même ou à l'extérieur du cabinet (comme décrit plus loin), peut être un générateur d'hydrogène dont le fonctionnement est basé sur une réaction d'électrolyse de l'eau. On peut citer à titre d'exemples non limitatifs les générateurs suivants : - le générateur de DBS, de référence NM-H2 ; - le générateur de Parker, de référence Hydrogen Generator 9000 Series ; - le générateur de Clained, de référence HG 2000. A set of electrostatic lenses 14 makes it possible to shape the beam. Then, in a so-called scanning zone 16, a scanning is carried out in two directions, perpendicular to the axis of propagation of the beam, in X and in Y, which makes it possible to direct part of this beam of ions towards a In a variant, the scanning zone 16 may be located upstream of the acceleration zone. In another variant, there is no scanning zone 16. In this case, the scanning function is carried out by moving the plate to be implanted itself. Pumping means, not shown in the figure, are associated with each of the zones or chambers 14, 16, 22. Control means 24 can control the entire device. According to the invention, whatever the type of implanter used, it is expected to integrate at the gas cabinet 6 connection means to a hydrogen generator or a hydrogen generator itself. This generator, whether placed in the gas cabinet itself or outside the cabinet (as described later), can be a hydrogen generator whose operation is based on an electrolysis reaction of the gas. 'water. The following generators may be mentioned as non-limiting examples: the DBS generator, reference NM-H2; - Parker Generator, Reference Hydrogen Generator 9000 Series; - the Clained generator, reference HG 2000.

Un générateur 26 d'hydrogène, apte à générer de l'hydrogène à partir d'une réaction d'électrolyse de l'eau, est représenté schématiquement sur la figure 2. Sur cette figure, la référence 30 désigne une cellule de production d'hydrogène. Elle est reliée à deux séparateurs gaz/liquide 31, 31'. A hydrogen generator 26, capable of generating hydrogen from an electrolysis reaction of water, is shown diagrammatically in FIG. 2. In this figure, the reference 30 denotes a production cell of hydrogen. It is connected to two gas / liquid separators 31, 31 '.

La sortie de liquide de chacun de ces séparateurs est dirigée vers un réservoir d'eau 32. Une vanne 37 est disposée sur le trajet du liquide provenant du séparateur 31. The liquid outlet of each of these separators is directed towards a water reservoir 32. A valve 37 is disposed in the path of the liquid coming from the separator 31.

Le gaz (hydrogène) provenant du séparateur 31 traverse des moyens 34 pour le sécher. L'hydrogène produit est distribué par une sortie 45, contrôlée par une vanne 37'. Un capteur 35 permet de déterminer la pression en sortie des moyens 34. Une sortie 47 permet d'évacuer une surpression d'hydrogène. Le gaz (oxygène) provenant du séparateur 31' est dirigé vers une sortie 41. La référence 43 désigne une sortie de drainage. La taille du générateur d'hydrogène dépend des débits souhaités. Pour les débits utilisés en implantation ionique, compris entre quelques sccm, par exemple 5 sscm ou 10 sccm, et quelques centaines de sccm, par exemple 100 sscm ou 500 sccm, le générateur peut se présenter sous forme d'une enceinte de quelques dizaines de centimètres de côté. Son fonctionnement ne réclame qu'une alimentation électrique et un approvisionnement en eau déionisée. Ce dernier peut être réalisé soit par un rechargement manuel ou automatique, lors d'un arrêt de l'implanteur, soit par mise en oeuvre d'un système d'alimentation en eau déionisée en continu. Le générateur peut être intégré dans le cabinet 6 de gaz de l'implanteur ionique Pour cela on connecte la sortie du générateur d'hydrogène à la ligne de gaz qui alimente la chambre d'ionisation. The gas (hydrogen) from the separator 31 passes through means 34 to dry it. The hydrogen produced is distributed through an outlet 45 controlled by a valve 37 '. A sensor 35 makes it possible to determine the pressure at the outlet of the means 34. An outlet 47 makes it possible to evacuate a hydrogen overpressure. The gas (oxygen) from the separator 31 'is directed to an outlet 41. The reference 43 denotes a drainage outlet. The size of the hydrogen generator depends on the desired flow rates. For flow rates used in ion implantation, between a few sccm, for example 5 sscm or 10 sccm, and a few hundred sccm, for example 100 sscm or 500 sccm, the generator can be in the form of a chamber of several tens centimeters of side. Its operation requires only a power supply and a supply of deionized water. The latter can be achieved either by manual or automatic reloading, during a stop of the implanter, or by implementation of a continuous deionized water supply system. The generator can be integrated in the gas cabinet 6 of the ionic implanter. For this, the output of the hydrogen generator is connected to the gas line that supplies the ionization chamber.

Un générateur 26 intégré dans le cabinet 6 de gaz est représenté sur la figure 3. Le générateur est alimenté en eau par des moyens 28 d'alimentation en eau et en électricité par des moyens 29 d'alimentation électrique. Une vanne 27' est positionnée sur le trajet de l'eau, en amont du générateur 26. Des moyens 25 de contrôle de débit peuvent être disposés en aval du générateur 26, derrière une vanne 27. On peut aussi alimenter le cabinet 6 avec le générateur d'hydrogène placé à l'extérieur de la zone 4 à haute tension de l'implanteur ionique, par des moyens permettant de passer à la zone 4 haute tension sans arcage, par exemple des tuyaux souples isolants et de longueur suffisante pour éviter tout type d'arcage. A generator 26 integrated in the gas cabinet 6 is shown in Figure 3. The generator is supplied with water by means 28 for supplying water and electricity by 29 power supply means. A valve 27 'is positioned in the water path, upstream of the generator 26. Flow control means 25 may be arranged downstream of the generator 26, behind a valve 27. It is also possible to supply the cabinet 6 with the hydrogen generator placed outside the high voltage zone 4 of the ion implanter, by means making it possible to pass to the high voltage zone 4 without arcage, for example insulating flexible pipes and of sufficient length to avoid any type of arcage.

Un générateur 26, placé à l'extérieur de la zone 4 haute-tension est représenté sur la figure 4. Le générateur est alimenté en eau par des moyens 28 d'alimentation en eau et en électricité par des moyens 29 d'alimentation électrique. Une vanne 27' est positionnée sur le trajet de l'eau, en amont du générateur 26. Des moyens 25 de contrôle de débit peuvent être disposés en aval du générateur 26, derrière une vanne 27. La référence 50 désigne un tuyau d'alimentation souple et isolant, par exemple en PEEK, disposé entre les moyens 25 et le cabinet 6 de gaz. La référence 57 désigne une vanne optionnelle, qui permet de contrôler le débit du gaz. Ce dernier est ensuite emmené, par une ligne de gaz 58 vers la chambre d'ionisation. A generator 26 placed outside the high-voltage zone 4 is shown in FIG. 4. The generator is supplied with water by means 28 for supplying water and electricity by means 29 for supplying electricity. A valve 27 'is positioned in the water path, upstream of the generator 26. Flow control means 25 may be arranged downstream of the generator 26, behind a valve 27. The reference 50 designates a feed pipe flexible and insulating, for example PEEK, disposed between the means 25 and the cabinet 6 gas. The reference 57 designates an optional valve, which makes it possible to control the flow rate of the gas. The latter is then taken by a gas line 58 to the ionization chamber.

A titre d'exemple, sur un implanteur ionique de la marque Varian référence E 500, un générateur hydrogène de la marque DBS, modèle NM-H2, a été placé en dehors en dehors de la zone haute tension. For example, on an ionic implanter of the Varian brand reference E 500, a hydrogen generator of the brand DBS, model NM-H2, has been placed outside outside the high voltage zone.

Le générateur d'hydrogène est relié à la ligne de gaz du cabinet de gaz de la machine par un tuyau souple, isolant et résistant au passage haute tension, par exemple un tuyau de PEEK. La pression de travail du générateur d'hydrogène est de 2 bars. Le débit de H2 est de 7 sccm. Tous les paramètres de faisceaux étant conservés par rapport au cas d'une alimentation par bouteilles, le rendement de la source est identique. fonctionnement standard du l'invention n'affecte donc pas des implanteurs comportant un The hydrogen generator is connected to the gas line of the gas cabinet of the machine by a hose, insulating and resistant to the high voltage passage, for example a PEEK pipe. The working pressure of the hydrogen generator is 2 bars. The flow rate of H2 is 7 sccm. Since all the beam parameters are kept in relation to the case of bottle feeding, the yield of the source is identical. standard operation of the invention therefore does not affect implementers having a

sont triées en masse et les impuretés présentes éventuellement dans l'hydrogène ne sont pas implantées. Pour les implanteurs pour lesquels il n'y a pas de tri de masse, l'influence de la pureté du gaz est à évaluer. Si la pureté du gaz produit par le 25 générateur d'hydrogène n'est pas assez bonne, des systèmes de purification peuvent être installés sur la ligne de gaz. On pourra utiliser à cet effet un purificateur d'hydrogène du commerce, par exemple le modèle Sertronic commercialisé par Air Liquide 30 Par rapport au système classique à bouteilles, l'invention offre de nombreux avantages. Pour un générateur d'hydrogène, dans les performances aimant de déviation. En effet les espèces 20 dans l'implanteur15 Tout d'abord, en terme de sécurité, il n'y a plus de récipient haute pression contenant de l'hydrogène dans l'implanteur. Il n'y a donc plus aucun danger lié au changement de bouteille. are sorted in bulk and any impurities present in the hydrogen are not implanted. For implants for which there is no mass sorting, the influence of the purity of the gas is to be evaluated. If the purity of the gas produced by the hydrogen generator is not good enough, purification systems can be installed on the gas line. For this purpose, it is possible to use a commercial hydrogen purifier, for example the Sertronic model marketed by Air Liquide. Compared with the conventional bottle system, the invention offers numerous advantages. For a hydrogen generator, in the performance magnet deviation. In fact, the species 20 in the implanter15 First, in terms of safety, there is no longer a high pressure container containing hydrogen in the implanter. There is no danger of changing the bottle.

La quantité d'hydrogène stockée dans le générateur d'hydrogène est très faible (elle est inférieure à 1 1) et à faible pression (inférieure à 10 bars), il n'y a donc pas de danger d'explosion en cas de sinistre de la machine, ou de fuite importante qui conduirait à un relâchement de tout l'hydrogène dans l'espace ambiant. Un système d'avertissement peut permettre de stopper la génération d'hydrogène dès qu'une anomalie est repérée sur l'équipement ou en cas de fuite sur la ligne de gaz (par détection de chute de pression par exemple). Ce système peut être externe ou interne au générateur. Il n'y a plus à acheter, ni à stocker, ni à manipuler de bouteille. En outre, il n'y a plus d'arrêt de la machine pour réaliser la procédure de changement de bouteilles, et plus besoin de système de détection d'hydrogène dans l'environnement immédiat de l'équipement. The amount of hydrogen stored in the hydrogen generator is very low (it is less than 1 1) and at low pressure (less than 10 bar), so there is no danger of explosion in case of disaster of the machine, or significant leak that would lead to a relaxation of all the hydrogen in the ambient space. A warning system can stop the hydrogen generation as soon as an anomaly is detected on the equipment or in case of leakage on the gas line (by pressure drop detection for example). This system can be external or internal to the generator. There is no more buying, storing or handling bottles. In addition, there is no longer stop the machine to perform the procedure of changing bottles, and no need for a hydrogen detection system in the immediate environment of the equipment.

Claims

REVENDICATIONS

1. Dispositif implanteur ionique (2), dans lequel la source d'hydrogène est un générateur d'hydrogène (26) apte à générer de l'hydrogène à partir d'une réaction chimique ou électrochimique. An ion implanting device (2), wherein the hydrogen source is a hydrogen generator (26) capable of generating hydrogen from a chemical or electrochemical reaction.

2. Dispositif selon la revendication 1 dans lequel le générateur d'hydrogène est apte à générer de l'hydrogène à partir d'une réaction d'électrolyse de l'eau. 2. Device according to claim 1 wherein the hydrogen generator is capable of generating hydrogen from an electrolysis reaction of water.

3. Dispositif selon la revendication 2, dans lequel le générateur (26) est alimenté en eau par un système d'alimentation en eau déionisée en continu. 3. Device according to claim 2, wherein the generator (26) is supplied with water by a continuous deionized water supply system.

4. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 3, Le générateur étant intégré dans le cabinet (6) de gaz de l'implanteur ionique. 4. Device according to one of claims 1 to 3, the generator being integrated in the cabinet (6) of the gas of the ion implanter.

5. Dispositif selon la revendication 4, la sortie du générateur d'hydrogène étant connectée à la ligne de gaz (58) qui alimente la chambre d'ionisation (8) de l'implanteur. 5. Device according to claim 4, the output of the hydrogen generator being connected to the gas line (58) which feeds the ionization chamber (8) of the implanter.

6. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 3, le générateur d'hydrogène (26) étant placé à l'extérieur de la zone haute tension (4) de l'implanteur ionique. 25 30 6. Device according to one of claims 1 to 3, the hydrogen generator (26) being placed outside the high voltage region (4) of the ion implanter. 25 30

7. Dispositif selon la revendication 6, la sortie du générateur d'hydrogène étant connectée à la ligne de gaz qui alimente la chambre d'ionisation par des moyens permettant de passer à la haute tension sans arcage. 7. Device according to claim 6, the output of the hydrogen generator being connected to the gas line which feeds the ionization chamber by means for moving to the high voltage without arcage.

8. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 7, comportant en outre des moyens de détection d'une anomalie et/ou d'une fuite, et des moyens pour arrêter la génération d'hydrogène dès lors qu'une telle anomalie et/ou fuite est détectée. 8. Device according to one of claims 1 to 7, further comprising means for detecting an anomaly and / or a leak, and means for stopping the generation of hydrogen when such an anomaly and / or leakage is detected.

9. Dispositif selon la revendication 8, des moyens de détection comportant des moyens pour détecter une chute de pression dans le circuit d'alimentation en gaz. 9. Device according to claim 8, detection means comprising means for detecting a pressure drop in the gas supply circuit.

10. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 9, la quantité d'hydrogène stockée dans le générateur d'hydrogène étant inférieure à 1 1. 10. Device according to one of claims 1 to 9, the amount of hydrogen stored in the hydrogen generator being less than 1 1.

11. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 10, la pression d'hydrogène stockée dans le générateur d'hydrogène étant inférieure à 10 bars. 11. Device according to one of claims 1 to 10, the hydrogen pressure stored in the hydrogen generator being less than 10 bar.

12. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 11, comportant en outre des moyens (12) de tri en masse.30 12. Device according to one of claims 1 to 11, further comprising means (12) sorting mass.

13. Dispositif selon l'une des revendications 1 à 11, ne comportant pas de moyens de tri en masse. 13. Device according to one of claims 1 to 11, not comprising mass sorting means.

14. Dispositif selon la revendication 13, comportant en outre des moyens de purification sur le trajet du gaz généré par le générateur. 14. Device according to claim 13, further comprising purification means in the path of the gas generated by the generator.

15. Procédé d'implantation ionique, comportant la mise en oeuvre d'un dispositif d'implantation ionique selon l'une des revendications 1 à 14. 15. Ion implantation process, comprising the implementation of an ion implantation device according to one of claims 1 to 14.

16. Procédé selon la revendication 15, le débit d'hydrogène généré étant compris entre 5 sscm et 500 sccm. 16. The method of claim 15, the hydrogen flow rate being between 5 sscm and 500 sccm.