FR2917850A1 - Exposure/display machine for panel of printed circuit, has opening separating central part of upper and lower plates from transparent plate after creation of depression between plate support and support structure - Google Patents

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Abstract

The device has an aspiration groove (30) maintaining periphery of an upper plate (24) and a lower plate (26) against a transparent plate (18), where the upper and lower plates are maintained against an internal wall of the transparent plate. An opening (44) displaces central parts (24a, 26a) of the upper and lower plates with respect to the transparent plate. The opening separates the central parts of the upper and lower plates from the transparent plate after the creation of a depression between an upper plate support (12) and a lower plate support (14).

Description

La présente invention a pour objet une machine d'exposition pour réaliserThe present invention relates to an exposure machine for producing

notamment des panneaux de circuit imprimé simple face ou double face. On connaît de nombreux documents qui décrivent le principe de telles machines d'exposition pour la réalisation de panneaux de circuit imprimé double face ou analogues. Parmi ceux-ci, la demande de brevet français 2 842 617 au nom de la demanderesse décrit une telle machine d'exposition. Cette machine est constituée essentiellement par deux supports de cliché entre lesquels est disposé le panneau de circuit imprimé. Chaque support de cliché comprend un cadre rigide et une vitre ou plus généralement une plaque transparente sur la face interne de laquelle, le plus souvent, est fixé le cliché par exemple par des moyens d'aspiration correspondant à la périphérie du film souple constituant le cliché. En envoyant un faisceau lumineux sur chacun des clichés, on obtient effectivement sur chaque face du panneau de circuit imprimé l'image du cliché servant à définir les pistes conductrices. La tendance du marché est à une réduction très importante de la largeur des pistes conductrices du circuit imprimé afin de miniaturiser ces circuits. Cette situation conduit à une augmentation de la densité des pistes par unité de surface du circuit imprimé. Cela pose des problèmes de réalisation de transfert d'image du cliché vers les faces du circuit imprimé en raison de l'augmentation de la précision de définition de ces pistes conductrices. Pour permettre de tenir ces performances, il est nécessaire de rapprocher la ou les vitres portant le ou les clichés des faces du circuit imprimé pour appliquer les clichés sur les faces du panneau ainsi que cela est bien connu. Pour cela, il est nécessaire d'augmenter le niveau de vide créé entre les deux vitres. La demande de brevet citée ci-dessus concerne une disposition pour renforcer les vitres lors de ses déformations sous l'effet de l'aspiration afin d'éviter les risques de rupture desdites vitres. Une telle disposition est très efficace pour obtenir une très grande précision dans le transfert d'images entre le cliché et les faces du panneau de circuit imprimé. Cependant, les faces du panneau de circuit imprimé ne présentent pas, le plus souvent, une planéité rigoureuse. Elles peuvent présenter localement des défauts de planéité consistant en des petites aspérités ou des petits creux de hauteur ou de profondeur certes très réduite mais qui pourraient localement altérer la qualité du transfert d'image. C'est notamment le cas pour la réalisation de couches externes ou pour la mise en oeuvre du procédé de fabrication désigné en anglais par "solder mask". Par ailleurs, on connaît la demande de brevet britannique GB 2 281 980 qui concerne également une machine d'exposition pour des panneaux double face du type décrit précédemment. Dans cette machine d'exposition, il est prévu que les deux clichés sont initialement placés sur les deux faces du panneau de circuit imprimé. Des films flexibles ont leur périphérie qui est fixée sur les vitres des cadres de support de cliché. En même temps qu'on créé un vide poussé entre les deux vitres, on introduit un gaz sous pression entre les vitres et les films flexibles. Cette action des films flexibles a pour but de réduire le temps de tirage ou vide pour assurer qu'il n'y ait plus d'air entre les faces du panneau et les clichés. Dans un tel système, il existe un problème du maintien du positionnement rigoureux des deux clichés par rapport au panneau de circuit imprimé. On comprend en effet qu'il est fondamental que le positionnement des clichés soit extrêmement précis par rapport au panneau pour que les images qui seront projetées sur les deux faces du panneau soient effectivement en relation l'une avec l'autre conformément à la définition des pistes conductrices à réaliser sur les deux faces du panneau. Un objet de la présente invention est de fournir une machine d'exposition qui permette de plaquer intimement le ou les clichés contre une ou les faces du panneau de circuit imprimé malgré une non-planéité rigoureuse tout en maintenant un positionnement rigoureux du ou des clichés par rapport au panneau de circuit imprimé. Pour atteindre ce but selon l'invention, la machine d'exposition 30 pour panneaux de circuit imprimé comprend : - un premier support de cliché comportant un cadre et une plaque transparente solidaire du cadre par sa périphérie et destinée à recevoir sur sa face interne un cliché, une structure support, ledit support de cliché étant relativement mobile par rapport à la structure support ; - des moyens pour réaliser une étanchéité entre le cadre dudit support de cliché et ladite structure support lorsque ledit cadre est rapproché de la structure support ; et - des moyens pour créer une dépression dans le volume limité par ledit support de cliché et ladite structure support, par quoi ladite plaque transparente et le cliché sont déformés pour être appliqués contre une face dudit panneau ; ladite machine se caractérisant en ce qu'elle comprend en outre : - des moyens pour maintenir au moins la périphérie du cliché 10 contre la plaque transparente correspondante, par quoi le cliché est maintenu plaqué contre la face interne de ladite plaque ; et - des moyens pour laisser libre en déplacement la partie centrale du cliché par rapport à ladite plaque transparente, après que la dépression ait été créée entre ledit support de cliché et ladite structure 15 support ; par quoi la partie centrale du cliché s'écarte de la plaque transparente pour se plaquer intimement sur une face dudit panneau, tout en maintenant le positionnement du cliché par rapport audit support de cliché dans un plan parallèle aux faces du panneau. Dans le présent texte, par l'expression "partie centrale du 20 cliché", il faut entendre l'intégralité du cliché à l'exception de son bord ou périphérie qui est fixé sur la face interne de la vitre par différents moyens qui seront décrits en détails ultérieurement. Le fait que, après avoir créé la dépression entre le support de cliché et la structure support, on laisse libre en déplacement la partie 25 centrale du cliché par rapport à la vitre du support de cliché, tout en maintenant sa périphérie fixée sur la face interne de la vitre, on permet à la partie centrale du cliché de venir se plaquer intimement contre la face du panneau épousant ainsi les défauts localisés de planéité de celui-ci. En effet, le cliché est réalisé en un matériau très flexible et a 30 une faible épaisseur. En revanche, lorsque la partie centrale du cliché reste plaquée contre la vitre du support de cliché, l'ensemble constitué par la vitre et le cliché est trop rigide pour pouvoir se conformer aux défauts de planéité. Selon un mode préféré de mise en oeuvre, la machine 35 d'exposition permet de réaliser des panneaux de circuit imprimé double face. Dans ce cas, la machine se caractérise en ce que : ladite structure support est constituée par un deuxième support de cliché muni d'un deuxième cliché et en ce qu'il comprend des moyens pour maintenir au moins la périphérie des deux clichés contre les plaques transparentes et des moyens pour laisser libre en déplacement la partie centrale des deux clichés par rapport aux plaques transparentes. La machine peut également permettre de réaliser des panneaux simple face. Dans ce cas, la structure support est un support mécanique plan sur lequel repose la face inférieure du panneau. Selon un premier mode de mise en oeuvre, la machine d'exposition est caractérisée en ce que les moyens de maintien du ou des clichés contre la face interne de la ou desdites plaques transparentes comprennent des moyens d'aspiration ménagés dans la ou lesdites plaques et disposés en regard de la périphérie du ou desdits clichés, et en ce que les moyens pour laisser libre en déplacement comprennent des moyens pour créer une pression entre la face interne de chaque plaque transparente et la partie centrale dudit cliché correspondant. On comprend que dans ce premier mode de mise en oeuvre, le vide qui est créé pour maintenir la périphérie de chaque cliché contre la face interne de la vitre ou plaque transparente assure également le maintien de la partie centrale du cliché contre la face interne de la plaque transparente du fait des fuites qui existent nécessairement. Selon un deuxième mode de mise en oeuvre, la machine d'exposition est caractérisée en ce que les moyens pour maintenir la périphérie de chaque cliché contre la face interne de la plaque transparente correspondante sont des moyens mécaniques et en ce que les moyens pour maintenir la zone centrale de chaque cliché sont des moyens d'aspiration ménagés dans chaque plaque transparente. On comprend que, dans ce cas, ce sont des moyens mécaniques, par exemple des moyens adhésifs, qui maintiennent la périphérie de chaque cliché contre la face interne de la plaque transparente, il est donc nécessaire de prévoir de plus un mode de création de vide entre la partie centrale du cliché et la plaque transparente. Pour permettre le "décollement" de la partie centrale du cliché par rapport à la vitre, il suffira d'interrompre l'aspiration dans la zone entre chaque cliché et la plaque transparente ou vitre correspondante. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront mieux à la lecture de la description qui suit de plusieurs modes de réalisation de l'invention donnés à titre d'exemples non limitatifs. La description se réfère aux figures annexées, sur lesquelles : 5 - la figure 1A est une vue de dessus de la partie de la machine d'exposition pour panneaux double face constituée par les supports de cliché ; - la figure 1B est une vue en coupe selon la ligne B-B de la figure 1 ; - la figure 2 est une vue de détail montrant la position du cliché par rapport aux panneaux de circuit imprimé lorsqu'on réalise le vide entre les supports de cliché ; - la figure 3 est une autre vue de détail montrant la séparation du cliché par rapport à la vitre ou plaque transparente du support de 15 cliché ; et - la figure 4 est une figure partielle montrant un mode de fixation mécanique du cliché sur la vitre du porte-cliché ; et - la figure 5 est une vue analogue à celle de la figure 1B mais dans le cas d'une machine d'exposition pour panneaux simple face. 20 En se référant tout d'abord aux figures 1A et 1B, on va décrire l'ensemble du système porte-clichés étant entendu que pour la définition des autres parties de la machine d'exposition, on pourra avantageusement se référer aux demandes de brevet européen de la demanderesse publiées sous les numéros 0 618 505 et 0 807 855. 25 En outre, la description qui suit concerne une machine d'exposition pour panneau double face. On expliquera ultérieurement les modifications qu'il y a lieu d'apporter dans le cas d'une machine pour panneau simple face. Ces figures montrent les deux supports de clichés 30 respectivement supérieur 12 et inférieur 14. Comme cela est bien connu, les deux clichés sont mobiles l'un par rapport à l'autre. Le plus souvent, le cliché inférieur 14 est fixe, le support de cliché supérieur 12 étant mobile verticalement. Chaque support de cliché 12, 14 comprend un cadre rigide sensiblement rectangulaire 16 sur lequel est fixée une vitre ou plus 35 généralement une plaque transparente 18 dont la périphérie 19 est rendue solidaire du cadre 16. Dans la suite de la description, on appellera "vitre" la plaque transparente, ce qui correspond à son mode de réalisation le plus fréquent. Entre les cadres 16 des supports de cliché supérieur 12 et inférieur 14 est disposé un joint d'étanchéité périphérique 20 qui fait tout le tour du cadre. Lorsque les deux supports de cliché sont rapprochés l'un de l'autre, ces deux composants ainsi que le joint 20 définissent un espace étanche V. Ainsi qu'on l'a déjà expliqué, le panneau de circuit imprimé 22 est disposé entre les supports de cliché 12 et 14. A l'aide de dispositifs en soi connus (voir par exemple EP 807 855) et non représentés, on réalise un positionnement très précis entre le panneau 22 et les supports de cliché supérieur 12 et inférieur 14, c'est-à-dire entre le panneau 22 et les clichés supérieur 24 et inférieur 26. Les clichés 24 et 26 sont maintenus plaqués contre les faces internes 18a des vitres 18 par des systèmes qui peuvent être différents. Dans le mode de réalisation particulier, la périphérie de chaque cliché est maintenue contre la partie correspondante des vitres 18 par des rainures périphériques 30 qui suivent tout le pourtour des clichés 24 et 26 et qui sont reliées à une source d'aspiration 32 par l'intermédiaire d'orifices 34, 36 débouchant dans les rainures 30. Ainsi, la périphérie des clichés est maintenue contre la face interne des vitres. Dans ce mode de fixation de la périphérie des clichés sur les vitres, l'aspiration, compte tenu des fuites qui existent nécessairement, réalise également un vide entre les parties centrales 24a et 26a des clichés. Ainsi, les clichés sont maintenus, sur toute leur surface, plaqués contre les faces internes des vitres supérieure et inférieure 18.  in particular single-sided or double-sided printed circuit boards. Numerous documents are known which describe the principle of such exposure machines for producing double-sided printed circuit boards or the like. Among these, the French patent application 2,842,617 in the name of the applicant describes such an exposure machine. This machine consists essentially of two cliché supports between which is disposed the printed circuit board. Each plate support comprises a rigid frame and a window or more generally a transparent plate on the inner side of which, most often, is fixed the image for example by suction means corresponding to the periphery of the flexible film constituting the cliche . By sending a light beam on each of the plates, we actually obtain on each face of the printed circuit board the image of the plate used to define the conductive tracks. The trend of the market is to a very significant reduction in the width of the conductive tracks of the printed circuit in order to miniaturize these circuits. This situation leads to an increase in the density of the tracks per unit area of the printed circuit. This poses problems of performing image transfer from the plate to the faces of the printed circuit because of the increase in the precision of definition of these conductive tracks. To allow these performances to be maintained, it is necessary to bring the window or glasses carrying the plate or clichés of the faces of the printed circuit to apply the photographs on the faces of the panel as is well known. For this, it is necessary to increase the level of vacuum created between the two panes. The above-mentioned patent application relates to an arrangement for reinforcing the panes during its deformations under the effect of the suction so as to avoid the risks of rupture of said panes. Such an arrangement is very effective to obtain a very high accuracy in the transfer of images between the plate and the faces of the printed circuit board. However, the faces of the printed circuit board do not present, in most cases, a rigorous flatness. They may have local defects flatness consisting of small asperities or small hollow height or depth certainly very small but could locally alter the quality of image transfer. This is particularly the case for the production of external layers or for the implementation of the manufacturing process designated in English by "solder mask". Furthermore, British Patent Application GB 2 281 980 is known which also relates to an exposure machine for double-sided panels of the type described above. In this exposure machine, it is expected that both shots are initially placed on both sides of the printed circuit board. Flexible films have their periphery which is fixed on the panes of the plate support frames. At the same time that a high vacuum is created between the two panes, a pressurized gas is introduced between the panes and the flexible films. This action of flexible films aims to reduce the draw time or empty to ensure that there is more air between the faces of the panel and the plates. In such a system, there is a problem of maintaining the rigorous positioning of the two shots relative to the printed circuit board. It is understood that it is fundamental that the positioning of the photographs is extremely accurate with respect to the panel so that the images that will be projected on both sides of the panel are effectively in relation to each other according to the definition of the images. conductive tracks to be made on both sides of the panel. An object of the present invention is to provide an exposure machine which allows the cliché (s) to be closely pressed against one or the faces of the printed circuit board despite a rigorous non-flatness while maintaining a rigorous positioning of the clichés by compared to the printed circuit board. To achieve this object according to the invention, the exposure machine 30 for printed circuit boards comprises: - a first plate support comprising a frame and a transparent plate secured to the frame by its periphery and intended to receive on its inner face a cliché, a support structure, said support plate being relatively movable relative to the support structure; - Means for sealing between the frame of said plate support and said support structure when said frame is close to the support structure; and - means for creating a vacuum in the volume limited by said plate support and said support structure, whereby said transparent plate and the plate are deformed to be applied against a face of said panel; said machine being characterized in that it further comprises: - means for maintaining at least the periphery of the plate 10 against the corresponding transparent plate, whereby the plate is held pressed against the inner face of said plate; and - means for free moving the central portion of the plate relative to said transparent plate, after depression has been created between said plate support and said support structure; whereby the central part of the plate deviates from the transparent plate to be closely adhered to a face of said panel, while maintaining the positioning of the plate relative to said plate support in a plane parallel to the panel faces. In the present text, by the expression "central part of the plate", it is necessary to understand the entirety of the plate except for its edge or periphery which is fixed on the internal face of the glass by various means which will be described in detail later. The fact that, after having created the depression between the plate support and the support structure, the central part of the plate is left free in displacement with respect to the glass of the plate support, while keeping its periphery fixed on the internal face. from the glass, the central part of the plate is allowed to come close against the face of the panel, thus matching the localized flatness defects thereof. Indeed, the plate is made of a very flexible material and has a small thickness. On the other hand, when the central part of the plate remains pressed against the glass of the plate support, the assembly constituted by the glass and the plate is too rigid to be able to comply with the flatness defects. According to a preferred mode of implementation, the exposure machine 35 makes it possible to produce double-sided printed circuit boards. In this case, the machine is characterized in that: said support structure is constituted by a second plate support provided with a second plate and in that it comprises means for maintaining at least the periphery of the two plates against the plates transparent and means to leave free moving the central portion of the two plates relative to the transparent plates. The machine can also make it possible to produce single-sided panels. In this case, the support structure is a plane mechanical support on which rests the underside of the panel. According to a first embodiment, the exposure machine is characterized in that the means for holding the plate (s) against the inner face of the transparent plate (s) comprise suction means formed in the plate (s) and disposed opposite the periphery of said one or more plates, and in that the means for leaving free in motion comprise means for creating a pressure between the inner face of each transparent plate and the central portion of said corresponding plate. It is understood that in this first embodiment, the vacuum which is created to maintain the periphery of each plate against the inner face of the glass or transparent plate also ensures the maintenance of the central portion of the plate against the inner face of the transparent plate because of the leaks that necessarily exist. According to a second embodiment, the exposure machine is characterized in that the means for maintaining the periphery of each plate against the inner face of the corresponding transparent plate are mechanical means and that the means for maintaining the central zone of each plate are suction means formed in each transparent plate. It is understood that, in this case, it is mechanical means, for example adhesive means, which maintain the periphery of each plate against the inner face of the transparent plate, it is therefore necessary to provide a vacuum creation mode. between the central part of the plate and the transparent plate. To allow the "delamination" of the central part of the plate relative to the glass, it will suffice to interrupt the suction in the area between each plate and the corresponding transparent plate or pane. Other characteristics and advantages of the invention will appear better on reading the following description of several embodiments of the invention given as non-limiting examples. The description refers to the accompanying figures, in which: FIG. 1A is a plan view of the part of the exposure machine for double-sided panels constituted by the plate supports; - Figure 1B is a sectional view along the line B-B of Figure 1; FIG. 2 is a detailed view showing the position of the plate with respect to the printed circuit boards when vacuum is produced between the plate supports; Figure 3 is another detail view showing the separation of the plate with respect to the glass or transparent plate of the plate support; and - Figure 4 is a partial figure showing a method of mechanical fixing of the plate on the glass plate holder; and FIG. 5 is a view similar to that of FIG. 1B but in the case of an exposure machine for single-sided panels. Referring first to FIGS. 1A and 1B, the entire plate carrier system will be described with the proviso that for the definition of the other parts of the exposure machine, patent applications may be advantageously referred to. European Patent of the applicant published under the numbers 0 618 505 and 0 807 855. 25 In addition, the following description relates to an exposure machine for double-sided panel. The modifications that should be made in the case of a single-sided panel machine will be explained later. These figures show the two support plates respectively upper 12 and lower 14. As is well known, the two pictures are movable relative to each other. Most often, the lower plate 14 is fixed, the upper plate support 12 being movable vertically. Each plate support 12, 14 comprises a substantially rectangular rigid frame 16 on which is fixed a window or more generally a transparent plate 18 whose periphery 19 is secured to the frame 16. In the following description, will be called "window "the transparent plate, which corresponds to its most common embodiment. Between the frames 16 of the upper and lower 12 and 12 radiators is a peripheral seal 20 which is all around the frame. When the two plate supports are brought closer to each other, these two components as well as the seal 20 define a sealed space V. As has already been explained, the printed circuit board 22 is arranged between plate supports 12 and 14. Using devices known per se (see, for example, EP 807 855) and not shown, a very precise positioning is made between the panel 22 and the upper and lower radii supports 12, That is, between the panel 22 and the top 24 and bottom 26 radii. The plates 24 and 26 are held pressed against the inner faces 18a of the panes 18 by systems which may be different. In the particular embodiment, the periphery of each plate is held against the corresponding portion of the windows 18 by peripheral grooves 30 which follow all the periphery of the plates 24 and 26 and which are connected to a suction source 32 by the intermediate openings 34, 36 opening into the grooves 30. Thus, the periphery of the pictures is held against the inner face of the panes. In this method of fixing the periphery of the pictures on the panes, the suction, taking into account the leaks that necessarily exist, also creates a gap between the central portions 24a and 26a of the plates. Thus, the plates are maintained, over their entire surface, pressed against the inner faces of the upper and lower panes 18.

Dans d'autres systèmes représentés de façon simplifiée sur la figure 4, le maintien de la périphérie des clichés contre les faces internes des vitres supérieure et inférieure peut être réalisé mécaniquement. Ces moyens mécaniques peuvent être constitués par un matériau adhésif 50 qui fixe la périphérie 24b (ou 26b) du cliché 24 (ou 26) sur la face interne de la vitre 18. Dans ce cas, de préférence, les vitres supérieure et inférieure sont munies de buses d'aspiration 52 pour maintenir la partie centrale 24a (26a) des clichés contre les faces internes des vitres supérieure et inférieure 18. En variante, on peut prévoir que l'adhésif 50 assure une tension suffisante du cliché pour maintenir la partie centrale de celui-ci contre la vitre.  In other systems shown schematically in Figure 4, the maintenance of the periphery of the plates against the inner faces of the upper and lower panes can be achieved mechanically. These mechanical means may be constituted by an adhesive material 50 which fixes the periphery 24b (or 26b) of the plate 24 (or 26) on the inner face of the pane 18. In this case, preferably, the upper and lower panes are provided suction nozzles 52 to maintain the central portion 24a (26a) of the plates against the inner faces of the upper and lower windows 18. Alternatively, it can be provided that the adhesive 50 ensures sufficient tension of the plate to maintain the central portion of it against the window.

Dans ce cas, le cliché est plaqué contre la vitre, de préférence avec un rouleau manuel permettant de chasser la présence éventuelle d'air entre la vitre et le cliché avant de le fixer sur sa périphérie à l'aide d'un adhésif. Evidemment, il devient alors indispensable de prévoir un orifice de mise à l'air libre dans la vitre permettant de libérer la partie centrale du cliché de la vitre. L'orifice est bien sûr associé à un organe d'obturation pilotable. Cette partie de la machine d'exposition comporte également dans un des cadres, par exemple le cadre supérieur 16, des ouvertures telles que 40 qui sont reliées à une pompe d'aspiration 42. Lorsque les pompes d'aspiration sont activées, on peut ainsi créer dans le volume V limité par les vitres supérieure et inférieure 18 et le joint d'étanchéité périphérique 20 une dépression suffisamment importante pour provoquer une déformation des vitres supérieure et inférieure 18 et concomitamment des clichés supérieur 24 et inférieur 26 qui se trouvent ainsi intimement plaqués contre les faces supérieure 22a et inférieure 22b du panneau de circuit imprimé 22. Lorsque les moyens de maintien de la périphérie des clichés 24 et 26 sont constitués par les rainures d'aspiration 30, il est également prévu, dans les vitres supérieure et inférieure, des orifices 44 et 46 reliés à une vanne V1. Ces orifices 44 et 46 permettent, lorsque la vanne V1 est ouverte, de mettre à la pression atmosphérique l'interface entre les faces internes des vitres 18 et les clichés 24 et 26. En revanche, lorsque la vanne V1 est fermée ainsi qu'on l'a expliqué, les orifices 44 et 46 sont obturés et la totalité des clichés est plaquée contre les faces internes des vitres des porte-clichés. On va décrire maintenant le mode de fonctionnement de la machine d'exposition dans le mode de réalisation préféré qui vient d'être décrit par référence aux figures 1A, 1B, 2 et 3. Dans un premier temps, la vanne V1 est fermée, les rainures d'aspiration 30 sont reliées à la pompe d'aspiration 32 de telle manière que l'ensemble des clichés 24 et 26 soit maintenu contre les faces internes des vitres des supports de cliché. Puis, le ou les orifices 40 sont reliés à la pompe à vide 42. Il se créé donc dans le volume V un vide poussé qui, comme on l'a déjà expliqué, provoque la déformation des vitres 18 et donc des clichés 24 et 26 qui sont plaqués contre les faces supérieure 22a et inférieure 22b du panneau 22. C'est ce que l'on a représenté sur la figure 2. Sur cette figure, on a représenté plus en détail les faces 22a et 22b du panneau 22 qui peuvent comporter des aspérités telles que 48, 49.  In this case, the plate is pressed against the window, preferably with a manual roller to chase the possible presence of air between the glass and the plate before fixing on its periphery with an adhesive. Obviously, it then becomes essential to provide a vent hole in the glass to release the central portion of the glass pane. The orifice is of course associated with a controllable shutter member. This part of the exposure machine also comprises in one of the frames, for example the upper frame 16, openings such as 40 which are connected to a suction pump 42. When the suction pumps are activated, it is possible to create in the volume V limited by the top and bottom windows 18 and the peripheral seal 20 a sufficiently large depression to cause deformation of the upper and lower panes 18 and concomitantly upper and lower clichés 24 and 26 which are thus intimately plated against the upper faces 22a and lower 22b of the printed circuit board 22. When the means for holding the periphery of the plates 24 and 26 are constituted by the suction grooves 30, it is also provided in the upper and lower panes, orifices 44 and 46 connected to a valve V1. These orifices 44 and 46 allow, when the valve V1 is open, to put at atmospheric pressure the interface between the inner faces of the panes 18 and the plates 24 and 26. On the other hand, when the valve V1 is closed as well as explained, the orifices 44 and 46 are closed and all the plates are pressed against the inner faces of the glass plates holders. The mode of operation of the exposure machine will now be described in the preferred embodiment which has just been described with reference to FIGS. 1A, 1B, 2 and 3. In a first step, the valve V1 is closed, the suction grooves 30 are connected to the suction pump 32 in such a way that all the plates 24 and 26 are held against the internal faces of the panes of the plate supports. Then, or the orifices 40 are connected to the vacuum pump 42. It is therefore created in the volume V a high vacuum which, as has already been explained, causes the deformation of the panes 18 and thus the plates 24 and 26 which are pressed against the upper faces 22a and lower 22b of the panel 22. This is what is shown in Figure 2. In this figure, there is shown in greater detail the faces 22a and 22b of the panel 22 which can have asperities such as 48, 49.

Lorsque l'on créé le vide dans le volume V, les vitres 18 et donc les clichés 24 et 26 viennent au contact des aspérités 48, 49 des faces supérieure et inférieure du panneau de circuit imprimé 22. Après cette opération de mise sous vide du volume V, on met à la pression atmosphérique l'interstice existant entre les faces internes des vitres et les clichés par l'intermédiaire des orifices 44 et 46 en agissant sur la vanne V1. Dans cette situation, la périphérie 24b, 26b des clichés 24 et 26 est maintenue contre les vitres par les rainures d'aspiration 30 tandis que la mise à la pression atmosphérique permet la libération des zones centrales 24a, 25a des clichés 24 et 26 par rapport aux faces internes des vitres. Les clichés 24 et 26 étant réalisés le plus souvent à l'aide d'un film relativement flexible par exemple du type commercialisé sous la marque Mylar, le cliché lui-même 24 va pouvoir épouser exactement la forme des faces 22a et 22b du panneau 22 y compris en ce qui concerne les éventuelles micro-aspérités ou micro-creux. C'est ce qu'on a représenté sur la figure 3. Plus généralement, il suffit de créer dans l'interstice entre les clichés et les vitres une pression supérieure à celle qui règne dans le volume V. On comprend qu'on obtient ainsi un contact intime y compris dans les zones d'aspérité entre les clichés 24 et 26 et les faces 22a et 22b du panneau tout en maintenant la périphérie des clichés fixes par rapport aux vitres. On maintient ainsi le positionnement initialement défini des clichés 24 et 26 par rapport au panneau 22. En effet, la plus grande partie du déplacement des clichés est réalisée sous l'effet de la déformation des vitres 18, ce qui ne peut produire aucun mouvement relatif entre les vitres et les clichés puisque les clichés sont maintenus contre les vitres. Ce n'est que dans la dernière phase, dans laquelle les clichés sont libérés dans leur partie centrale du contact avec les vitres 18, que ces clichés viennent se conformer à la surface précise des deux faces du panneau 22, ces déplacements très localisés des zones de cliché étant d'une amplitude extrêmement réduite correspondant aux inégalités de surface des faces du panneau. Compte tenu de la très faible amplitude de ces déplacements, le positionnement des clichés par rapport aux vitres n'est pas modifié. Dans la description précédente, on a envisagé le cas de panneaux double face. Cependant, il va de soi que l'invention peut s'appliquer au cas de panneaux simple face. C'est ce qui est illustré de façon simplifiée par la figure 5. La machine comporte un support de cliché supérieur 12 et un cliché supérieur 24 qui sont identiques à ceux qui ont été représentés sur les figures 1A, 1B, 2 et 3. En revanche, le support de cliché inférieur 14 est remplacé sur une structure support 60. Cette structure 60 définit une surface horizontale d'appui 62 sur laquelle repose la face inférieure 22b du panneau 22. Le support de cliché 12 est mobile relativement par rapport à la structure support 60. De préférence, la structure 60 est fixe. En outre, un joint d'étanchéité périphérique 20 est interposé entre le cadre 16 du support de cliché 12 et la structure support 60 lorsque le support de cliché est rapproché de la structure support. Le fonctionnement de la machine d'exposition est très similaire à celui de la machine montrée sur les figures 1A et 1B. La différence réside bien sûr uniquement dans le fait qu'il y a un seul support de cliché et un seul cliché. Dans un premier temps, on crée un vide dans le volume V' entre le support de cliché 12 et la structure support 60 puis on libère la partie centrale du cliché 24 par rapport à la vitre 18 du support de cliché. Le cliché 24 est ainsi appliqué intimement sur la face supérieure du panneau 22 en épousant les défauts de planéité.  When creating the vacuum in the volume V, the panes 18 and thus the plates 24 and 26 come into contact with the asperities 48, 49 of the upper and lower faces of the printed circuit board 22. After this vacuum operation of the volume V, it puts at atmospheric pressure the gap between the inner faces of the panes and the plates through the orifices 44 and 46 by acting on the valve V1. In this situation, the periphery 24b, 26b of the plates 24 and 26 is held against the windows by the suction grooves 30 while the setting to atmospheric pressure allows the release of the central zones 24a, 25a of the plates 24 and 26 relative to each other. to the internal faces of the windows. The plates 24 and 26 being made most often using a relatively flexible film, for example of the type marketed under the trademark Mylar, the plate itself 24 will be able to marry exactly the shape of the faces 22a and 22b of the panel 22 including with regard to any micro-asperities or micro-hollow. This is shown in Figure 3. More generally, it is sufficient to create in the interstice between the plates and the windows a pressure greater than that which prevails in the volume V. It is understood that one thus obtains an intimate contact including in the areas of roughness between the plates 24 and 26 and the faces 22a and 22b of the panel while maintaining the periphery of the fixed images relative to the panes. This maintains the positioning initially defined of the plates 24 and 26 with respect to the panel 22. Indeed, most of the displacement of the plates is made under the effect of the deformation of the panes 18, which can not produce any relative movement between the windows and clichés since the pictures are held against the windows. It is only in the last phase, in which the photos are released in their central part of the contact with the windows 18, that these pictures come to conform to the precise surface of the two faces of the panel 22, these very localized displacements of the zones. with an extremely small amplitude corresponding to the surface unevenness of the faces of the panel. Given the very small amplitude of these movements, the positioning of the plates relative to the windows is not changed. In the previous description, the case of double-sided panels was considered. However, it goes without saying that the invention can be applied to the case of single-sided panels. This is illustrated in a simplified manner in FIG. 5. The machine comprises an upper plate support 12 and an upper plate 24 which are identical to those shown in FIGS. 1A, 1B, 2 and 3. on the other hand, the lower plate support 14 is replaced on a support structure 60. This structure 60 defines a horizontal bearing surface 62 on which the lower face 22b of the panel 22 rests. The plate support 12 is relatively movable relative to the support structure 60. Preferably, the structure 60 is fixed. In addition, a peripheral seal 20 is interposed between the frame 16 of the support plate 12 and the support structure 60 when the support plate is closer to the support structure. The operation of the exposure machine is very similar to that of the machine shown in Figures 1A and 1B. The difference lies, of course, only in the fact that there is only one snapshot support and one snapshot. At first, a vacuum is created in the volume V 'between the plate support 12 and the support structure 60, and the central portion of the plate 24 is released relative to the window 18 of the plate support. The plate 24 is thus applied intimately on the upper face of the panel 22 by matching the flatness defects.

Bien entendu, dans ce mode de réalisation, il est possible aussi de maintenir la périphérie du cliché 24 par aspiration (figure 5) ou par un adhésif (figure 4).  Of course, in this embodiment, it is also possible to maintain the periphery of the plate 24 by suction (Figure 5) or by an adhesive (Figure 4).

Claims (9)

REVENDICATIONS 1. Machine d'exposition pour panneaux de circuit imprimé comprenant : - un premier support de cliché (12) comportant un cadre (16) et une plaque transparente (18) solidaire du cadre par sa périphérie et destinée à recevoir sur sa face interne un cliché (24, 26), une structure support (14, 60), ledit support de cliché étant relativement mobile par rapport à la structure support ; - des moyens (20) pour réaliser une étanchéité entre le cadre dudit support de cliché et ladite structure support lorsque ledit cadre est rapproché de la structure support ; et - des moyens (40, 42) pour créer une dépression dans le volume (V, V') limité par ledit support de cliché et ladite structure support, par quoi ladite plaque transparente (18) et le cliché (24, 26) sont déformés pour être appliqués contre une face dudit panneau (22) ; ladite machine se caractérisant en ce qu'elle comprend en outre : - des moyens (30) pour maintenir au moins la périphérie du cliché (24, 26) contre la plaque transparente (18) correspondante, par quoi le cliché est maintenu plaqué contre la face interne de ladite plaque ; et - des moyens (44) pour laisser libre en déplacement la partie centrale (24a, 26a) du cliché par rapport à ladite plaque transparente, après que la dépression ait été créée entre ledit support de cliché et ladite structure support ; par quoi la partie centrale du cliché s'écarte de la plaque transparente pour se plaquer intimement sur une face (22a, 22b) dudit panneau, tout en maintenant le positionnement du cliché par rapport audit support de cliché dans un plan parallèle aux faces du panneau.  1. Exposure machine for printed circuit boards comprising: - a first plate support (12) comprising a frame (16) and a transparent plate (18) secured to the frame by its periphery and intended to receive on its inner face a cliché (24, 26), a support structure (14, 60), said cliché support being relatively movable relative to the support structure; - means (20) for sealing between the frame of said plate support and said support structure when said frame is close to the support structure; and - means (40, 42) for creating a vacuum in the volume (V, V ') bounded by said cliché support and said support structure, whereby said transparent plate (18) and the cliche (24, 26) are deformed to be applied against a face of said panel (22); said machine being characterized in that it further comprises: - means (30) for holding at least the periphery of the plate (24, 26) against the corresponding transparent plate (18), whereby the plate is held pressed against the internal face of said plate; and - means (44) for free moving the central portion (24a, 26a) of the plate relative to said transparent plate, after the depression has been created between said plate support and said support structure; whereby the central portion of the plate deviates from the transparent plate to closely engage one face (22a, 22b) of said panel, while maintaining the position of the plate relative to said plate support in a plane parallel to the panel faces . 2. Machine d'exposition selon la revendication 1, pour la réalisation de panneaux double face, caractérisée en ce que ladite structure support est constituée par un deuxième support de cliché (14) muni d'un deuxième cliché (26) et en ce qu'elle comprend des moyens (30) pour maintenir au moins la périphérie des deux clichés (24, 26) contre les plaques transparentes (18) et des moyens (44, 46) pour laisser libre en déplacement la partie centrale (24a, 26a) des deux clichés par rapport aux plaques transparentes. 11  2. Exposure machine according to claim 1, for producing double-sided panels, characterized in that said support structure is constituted by a second plate support (14) provided with a second plate (26) and that it comprises means (30) for maintaining at least the periphery of the two plates (24, 26) against the transparent plates (18) and means (44, 46) for free movement of the central portion (24a, 26a) two shots compared to the transparent plates. 11 3. Machine d'exposition selon la revendication 1, caractérisée en ce que ladite structure support est un support mécanique plan (60).  3. Exposure machine according to claim 1, characterized in that said support structure is a plane mechanical support (60). 4. Machine d'exposition selon l'une quelconque des revendications 2 et 3, caractérisée en ce que les moyens de maintien du ou des clichés (24, 26) contre la face interne de la ou desdites plaques transparentes (18) comprennent des moyens d'aspiration (30, 32) ménagés dans la ou lesdites plaques et disposés en regard de la périphérie du ou desdits clichés, et en ce que les moyens pour laisser libre en déplacement comprennent des moyens (44, 46) pour créer une pression entre la face interne de chaque plaque transparente et la partie centrale (24a, 26a) dudit cliché correspondant.  4. Exposure machine according to any one of claims 2 and 3, characterized in that the means for holding one or more plates (24, 26) against the inner face of said transparent plate or plates (18) comprise means suction device (30, 32) formed in the at least one plate and arranged opposite the periphery of the at least one plate, and in that the means for leaving free in displacement comprise means (44, 46) for creating a pressure between the inner face of each transparent plate and the central portion (24a, 26a) of said corresponding plate. 5. Machine d'exposition selon la revendication 4, caractérisée en ce que les moyens d'aspiration ménagés (30, 32) en regard de la périphérie du ou des clichés (24, 26) sont maintenus actifs lorsque la partie centrale (24a, 26a) du ou desdits clichés est rendue libre en déplacement par rapport à la ou lesdites plaques (18).  5. Exposure machine according to claim 4, characterized in that the suction means (30, 32) facing the periphery of the clichés (24, 26) are kept active when the central part (24a, 26a) of said one or more plates is made free in displacement relative to the one or more plates (18). 6. Machine d'exposition selon l'une quelconque des revendications 2 à 5, caractérisée en ce que lesdits moyens pour laisser libre en déplacement la partie centrale des clichés comprennent des moyens pour relier à la pression atmosphérique le volume entre la face interne (44, 46, V1) d'une plaque transparente et la partie centrale du cliché correspondant.  6. Exposure machine according to any one of claims 2 to 5, characterized in that said means for leaving free moving the central portion of the plates comprises means for connecting the atmospheric pressure volume between the inner face (44). , 46, V1) of a transparent plate and the central part of the corresponding plate. 7. Machine d'exposition selon l'une quelconque des revendications 2 et 3, caractérisée en ce que lesdits moyens pour maintenir la périphérie du ou desdits clichés sont des moyens adhésifs (50).  7. Exposure machine according to any one of claims 2 and 3, characterized in that said means for maintaining the periphery of said one or more plates are adhesive means (50). 8. Machine d'exposition selon l'une quelconque des revendications 1 à 3, caractérisée en ce que les moyens pour maintenir la périphérie (24b, 26b) de chaque cliché contre la face interne de la plaque transparente (18) correspondante sont des moyens mécaniques (50) et en ce que les moyens pour maintenir la partie centrale de chaque cliché sont des moyens d'aspiration (52) ménagés dans chaque plaque transparente.  8. Exposure machine according to any one of claims 1 to 3, characterized in that the means for maintaining the periphery (24b, 26b) of each plate against the inner face of the corresponding transparent plate (18) are means mechanical means (50) and in that the means for holding the central portion of each plate are suction means (52) formed in each transparent plate. 9. Machine selon la revendication 8, caractérisée en ce que lesdits moyens pour rendre libre en déplacement la partie centrale de chaque cliché comprennent des moyens pour supprimer l'aspiration (52).  9. Machine according to claim 8, characterized in that said means for free moving the central portion of each plate comprises means for suppressing the suction (52).
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