FR2785687A1 - Dispositif d'irradiation lumineuse - Google Patents
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Abstract
L'invention propose un dispositif d'irradiation de lumière pour un traitement de photo-alignement qui comprend un système optique et un premier polariseur (33) qui polarise la lumière provenant du système optique. La lumière provenant du polariseur (33) est irradiée sous incidence oblique en formant un angle par rapport à la direction normale d'un plateau (11) sur lequel un substrat (35) est placé.Application à la fabrication d'un dispositif d'affichage à cristal liquide multi-domaine.
Description
DISPOSITIF D'IRRADIATION LUMINEUSE
La présente invention concerne un dispositif d'irradiation lumineuse et plus particulièrement un dispositif d'irradiation lumineuse à grande échelle qui est utilisé pour un procédé de photo-alignement d'un dispositif d'affichage à cristal liquide multidomaine. De façon générale, un dispositif d'affichage à cristal liquide multidomaine comprend des substrats supérieur et inférieur qui sont placés l'un face à l'autre, avec un jeu spécifique assuré par un espaceur, et une couche de cristal liquide est formée
entre les substrats supérieur et inférieur. Les substrats supérieur et inférieur présen-
tent respectivement une électrode avec des motifs spécifiques d'un côté, et une couche d'alignement, qui détermine l'alignement du cristal liquide et qui est formée
sur les électrodes.
Un procédé de frottement ou de photo-alignement ou analogue est utilisé comme procédé d'alignement pour traiter la couche d'alignement. Le procédé de frottement comprend une étape de revêtement d'un matériau d'alignement, par exemple de polyamide, sur un substrat, et ensuite le firottement mécanique du substrat avec un tissu de frottement. On obtient grâce à ce procédé une direction d'alignement des molécules de cristal liquide sur le substrat. Cette méthode permet la
2o fabrication d'un afficheur à cristal liquide à grande échelle avec un traitement rapide.
Dans le procédé de frottement décrit ci-dessus, l'alignement des molécules de cristal liquide n'est pas uniforme, du fait que la forme des micro-rainures formées
dans la couche d'alignement varie en fonction de la force de frottement. Ceci provo-
que une dispersion de la lumière et une distorsion de phase aléatoire. En outre, les particules de poussière et les charges électrostatiques produites par le frottement
provoquent une décroissance du rendement, et la répétition du traitement de photo-
lithographie permettant des domaines multiples grâce à la division des pixels agit sur
la fiabilité et la stabilité de la couche d'alignement.
Par ailleurs, un procédé de photo-alignement détermine la pré- inclinaison du cristal liquide par irradiation de lumière ultraviolette sur un substrat présentant une couche de photo-alignement. Par rapport au procédé de frottement, on ne produit ni charge électrostatique ni particules de poussière, ce qui permet de maintenir le rendement de fabrication et il est notamment possible grâce à ce procédé de réaliser
un afficheur à cristal liquide à large angle de vision grâce à une division des pixels.
Le dispositif d'irradiation lumineuse utilisé dans le procédé de photoaligne-
ment décrit ci-dessus est décrit dans JP-A-10 90684 (publié le 10 Avril 1998) et dans
JP-A-10-161126 (publié le 19 Juin 1998).
La figure I est la structure du dispositif d'irradiation de lumière classique de JP-A-10-90684, et concerne un dispositif d'irradiation de lumière polarisée pour irradier une lumière polarisée sur la couche d'alignement d'un afficheur à cristal liquide dans un traitement de photo-alignement pour former une couche d'alignement. La lumière ultraviolette est émise par une source lumineuse I et concentrée par un miroir condenseur 2 réfléchi sur un premier miroir réfléchissant 3, qui traverse ensuite une lentille de condensation 5. La lumière provenant de la lentille de condensation à travers un obturateur 4 est réfléchie sur un second miroir de réflexion
o 6, rendu parallèle par une lentille de collimation 7, et traverse ensuite un polariseur 8.
Le polariseur comprend une pluralité de plaques de verre 8a qui sont placées parallèles les unes aux autres à un intervalle fixe et placées à l'angle de Brewster par rapport à la lumière incidente. Le polariseur réfléchit la plupart de la lumière polarisée verticalement et transmet la lumière polarisée horizontalement. La lumière polarisée horizontalement provenant du polariseur 8 est irradiée sur le substrat 35
grâce à un masque 13.
Dans le dispositif d'irradiation de lumière qui présente cette structure, le taux de polarisation (s/p, dans lequel s est la lumière polarisée verticalement et p la lumière polarisée horizontalement) est réglé de sorte à être inférieur à 0,1. Afin d'appliquer un photo-alignement sur une couche d'alignement d'un afficheur à cristal liquide, on irradie des lumières polarisées présentant la même direction de polarisation. Ce dispositif est excellent du point de vue de la transmittance, de la dépendance en longueur d'onde, de la durabilité, et de la durée de vie. Toutefois, afin de produire un afficheur à cristal liquide à grande échelle, la plaque de verre 8a du polariseur doit être d'une grande taille et la plaque de taux de polarisation de ce
dispositif n'est pas appropriée pour effectivement procéder à un traitement de photo-
alignement. La figure 2 est une vue schématique de la structure d'un dispositif d'irradiation de la lumière classique décrit dans JP-A-10161126; le dispositif d'exposition O30 comprend une source lumineuse 1, un miroir de condensation 2, une lentille de collimation 7, un homogénéiseur 19, une lentille de condensation 5, un ou plusieurs miroirs de réflexion 3, 6, qui dirigent la lumière depuis la source lumineuse 1 vers un substrat 35. Au moins un des miroirs de réflexion comprend un réseau de diffraction
réflectif, qui réfléchit principalement une première lumière polarisée.
Du fait que le premier miroir de réflexion 3 est généralement d'une taille infé- rieur au second miroir de réflexion 6, lorsque le premier miroir de réflexion 3 est constitué d'un réseau de diffraction, on peut utiliser un réseau de diffraction d'une faible taille. Du fait que le réseau de diffraction est localisé avant l'homogénéiseur 19, on évite que la lumière qui traverse l'homnogénéiseur ne soit affectée par le réseau
de diffraction.
Dans la configuration qui est décrite ci-dessus, le dispositif d'irradiation de la
lumière peut irradier la lumière polarisée à grande échelle en une seule étape, en irra-
diant la lumière réfléchie provenant d'un réseau de diffraction, qui réfléchit princi-
palement une première lumière polarisée. Les caractéristiques de polarisation du réseau de diffraction de ce dispositif d'irradiation de lumière dépendent toutefois
énormément de la longueur d'onde.
Cet art antérieur n'est pas approprié à un traitement réel de photoalignement, du fait qu'il est focalisé sur l'ajout de dispositifs de polarisation à des dispositifs de
polarisation de lumière classiques afin d'obtenir de la lumière polarisée.
Un objet de la présente invention est de fournir un dispositif d'irradiation de lumière qui permette d'irradier à grande échelle, et détermine une direction d'alignement de la couche d'alignement et un angle de pré-inclinaison en irradiant la lumière obliquement. D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront dans la
description qui suit ou pourront être déduites de la mise en ceuvre de l'invention. Les
objectifs et autres intérêts de l'invention sont réalisés et obtenus grâce à la structure
qui est particulièrement soulignée dans la description et dans ses revendications ainsi
o que dans les dessins joints.
Pour réaliser les objets de la présente invention et proposer un dispositif d'irradiation de la lumière qui comprend un système optique et un premier polariseur qui polarise la lumière provenant du système optique, la lumière provenant du premier polariseur étant irradiée obliquement en formant un angle par rapport à la
direction normale d'un plateau sur lequel le substrat est placé.
Le système optique comprend une source de lumière, une lentille et un ou plusieurs miroirs de réflexion. On peut aussi monter un deuxième ou un troisième
polariseurs entre les lentilles et le miroir de réflexion.
Selon un mode de la présente invention, le premier polariseur comprend un
substrat polariseur avec un substrat de verre en quartz ou stratifié.
Selon un autre mode de réalisation, le premier polariseur comprend un substrat de polariseur avec un substrat à revêtement multiple et peut être incliné par rapport
audit substrat en formant l'angle de Brewster.
Selon encore un autre aspect de l'invention, le substrat de polariseur est un
substrat à revêtement multiple avec une couche inorganique.
Le dispositif peut comprendre en outre un second polariseur entre ladite lentille
et ledit miroir.
Le second polariseur peut comprendre un substrat de polariseur avec un
substrat de verre en quartz ou stratifié.
Le second polariseur peut comprendre un substrat de polariseur avec un revê-
tement multiple, et de préférence, est incliné par rapport audit substrat en formant un angle de Brewster. Selon un autre mode de réalisation, le substrat de polariseur est un substrat à
revêtement multiple avec une couche inorganique.
Selon encore un autre mode de réalisation, la lumière provenant du premier polariscur présente une longueur d'onde dans la plage d'environ 200 nml à 800 11111, et
0 de préférence, dans la plage d'environ 250 nm à 400 nm.
Selon un mode de réalisation, le premier polariseur présente un degré de pola-
risation d'environ 0 à 1, de préférence un degré de polarisation d'environ 0,2 à 0,95.
Selon encore un autre mode de réalisation, ledit angle est d'environ 0 à 45 .
Selon un aspect de l'invention, ledit plateau est monté rotatif.
1 5 Selon un autre aspect de l'invention, ledit système optique est monté rotatif.
Le dispositif peut comprendre en outre un masque multi-domraine sur ledit substrat.
De préférence, un jeu est maintenu entre ledit masque et ledit substrat.
Pour atteindre les objets de la présente invention, il est en outre proposé un dispositif d'irradiation de lumière qui comprend une source de lumière, un premier miroir réfléchissant la lumière provenant de la source de lumière, un homogénéiseur présentant une pluralité de lentilles, un second miroir de réflexion réfléchissant la lumière provenant de l'homogénéiseur, une lentille de collimation qui rend la lumière provenant du second miroir de réflexion parallèle, un premier polariseur polarisant la lumière provenant de la lentille de collimation et la lumière provenant du premier polariseur étant irradiée à un angle spécifique par rapport à la direction
normale d'un plateau sur lequel le substrat est placé.
Le dispositif d'irradiation de la lumière mentionné ci-dessus peut comprendre en outre un second polariseur entre le premier miroir de réflexion et l'homogénéiseur ou un troisième polariscur entre l'homogénéiseur et le second miroir de réflexion. Il est préférable que le premier polariseur présente une transmittance à la lumière élevée pour la lumière dans une plaque de longueur d'onde de 200 à 800 nm et de façon préférable entre environ 250 et 400 nm. Le premier polariseur a un degré de
polarisation d'environ O à 1, et de préférence entre 0,2 et 0,95. L'angle 0 est de préfé-
rence dans une plage d'environ 0 à 45 .
On comprendra que la description générale qui précède et la description
détaillée qui suit ne sont données qu'à titre d'exemple d'explication et sont suppo-
sées fournir une explication complémentaire de l'invention telle que revendiquée.
Les dessins joints. qui sont inclus pour permettre une meilleure compréhension de l'invention et constituent une partie de cette demande, illustrent des modes de
réalisation de l'invention et, en combinaison avec la description, servent à expliquer
les principes de l'invention. Ces dessins montrent: - Figure 1, uni dispositif d'irradiation de lumière classique; - Figure 2, tiu autre dispositif d'irradiation de lumière classique - Figures 3A & 3B, une vue sur le plan y-z d'un dispositif d'irradiation de lumière selon la présente invention; - Figure 4, unie vue dans le plan z-x d'un dispositif d'irradiation de lumière I 0n selon la présente invention; - Figure 5, une vue dans le plan z-x qui montre comment contrôler l'angle de pré-inclinaison d'une couche d'alignement selon la présente invention; Figures 6A, 6B, 6C, des vues dans le plan x-y des premier, second et troisième modes de réalisation de la présente invention qui montrent X5 > comment contrôler la direction d'alignement d'une couche d'alignement de la présente invention; et - Figure 7, une vue dans le plan x-z qui montre une surface d'exposition
d'une couche d'alignement de la présente invention.
On décrit dans la suite un dispositif d'irradiation de la lumière selon la présente o invention en référence aux dessins. Les figures 3A, 3B et 4 sont des vues dans le plan y-z et dans le plan x-z d'un dispositif d'irradiation de la lumière selon la présente invention. Le dispositif d'irradiation de la lumière selon la présente invention comprend une source de lumière 1, un miroir condenseur 2, un premier miroir de réflexion 3, une lentille 37, un polariseur de petite taille 31, un hlomogénéiseur 19, un second miroir de réflexion 6, une lentille de collimation 7, un masque 13, un plateau
1 1 sur lequel un substrat 35 est placé, et un polariseur 33.
Le miroir de condensation 2 est placé de telle sorte à permettre que la lumière émise par la source lumineuse 1 soit transmise vers le premier miroir de réflexion par l'homogénéiseur (par exemple une lentille composite ou une lentille grand-angulaire o0 19 qui est composée d'une pluralité de lentilles) effectue la réfraction des rayons lumineux provenant des lentilles de sorte que les rayons lumineux se recouvrent. Le second miroir réfléchissant 6 réfléchit la lumière provenant de l'homogénéiseur. La lentille de collimation 7 rend les rayons réfléchis provenant du second miroir de réflexion 6 parallèles et les dirige vers la couche d'alignement 25 qui est formée sur le substrat 35. Un miroir ou lentille peut être utilisé comme lentille de collimation 7
et l'homogénéiseur peut être du type convexe ou concave.
Le dispositif d'irradiation de la lumière selon la présente invention peutit aussi comprendre un polariseur à l'endroit du premier polariseur 33, et, si nécessaire, sur l'avant ou l'arrière de l'homogénéiseur 19, comme les second polariseur 31 et troisième polariseur 51 (qui sont des polariseurs de petite taille) représentés sur les
figures 3A et 3B.
Les premier, second et troisième polariseur 33, 31 et 51 comprennent chacun un substrat de polariseur, qui est un substrat de quartz stratifié, un substrat de verre stratifié, ou unm substrat à revêtement multiple, qui présente de préférence de bonnes caractéristiques de résistance à la chaleur, de durabilité et une dépendance à la longueur d'onde faible. Un substrat de quartz ou de verre stratifié qui est incliné de l'angle de Brewster (= tangente In, dans lequel n est l'indice de réfraction du quartz o ou du verre) par rapport au substrat est utilisé. En conséquence, l'angle de Brewster se trouve dans une plage d'environ 57 à 60 . Un substrat de verre ou de quartz stratifié peut irradier la lumière uniformément, dans le cadre d'unlle irradiation à
grande échelle. Un substrat à revêtement multiple est revêtu d'une couche inorgani-
que, habituellement SiO2.
[15 Il est préférable que le polariseur 33 présente une transmistance à la lumière
élevée dans la longueur d'onde de 200 nm à 800 nm, de préférence de 250 à 400 nm.
En outre, le degré de polarisation (PD = Im ax - lm in / Im ax - Im in) est de préférence compris dans la plage de 0 < PD < I (c'est-à-dire lumière partiellement polarisée), de préférence dans la plage de 0,2 < PD < 0,95. Le degré de polarisation peut être sélectionné de façon appropriée en fonction du type de couche d'alignement. Comme représenté sur la figure 4, qui montre le dispositif d'irradiation de la lumière dans le plan x-y, la lumière irradiée provenant du système optique 100 est inclinée en formant un angle par rapport à la direction du plateau, de sorte à assurer une exposition sous incidence oblique de la lumière, et la direction de l'axe de
transmittance maximale est perpendiculaire ou parallèle au plan x-z du chemin lumi-
neux défini comme sur le dessin.
De la sorte, en constituant un dispositif d'irradiation de la lumière comme ci-
dessus, une lumière partiellement polarisée peut être irradiée obliquement sur la
3o couche d'alignement 25.
La figure 5 est une vue dans le plan x-z qui montre le contrôle de l'angle de pré-inclinaison d'unlle couche d'alignement dans un dispositif d'irradiation de la lumière selon la présente invention. L'angle de pré-inclinaison Op des molécules de cristal liquide dans la couche d'alignement 25 est contrôlé par la quantité d'énergie -5 lumineuse qui est irradiée sur la couche d'alignement, sur le matériau de couche d'alignement, par le matériau de couche d'alignement, ou par le degré de polarisation de la lumière du dispositif d'irradiation. La direction d'alignement des molécules de cristal liquide 27 est déterminée par la direction d'irradiation dans l'exposition sous
incidence oblique.
Il est préférable que l'angle d'irradiation de la lumière 0 soit dans une plage d'environ 0 à 45 , et si l'angle d'irradiation 0 est supérieur à environ 45 , l'effet d'une erreur de positionnement entre le masque 13 et la couche d'alignement 25 est maximisé, de sorte que l'erreur de positionnement du motif de la couche
d'alignement provoquée par le motif du masque soit importante.
La table ci-dessous montre l'erreur de positionnement du motif en fonction de l'angle d'irradiation de la lumière 0, dans le cas o [erreur de positionnement entre
0 le masque 13 et la couche d'alignement 25 est d'environ 20 itm.
Angle d'irradiation de la lumière0 0 30 45 0 60 0 Erreur de motif 0 l r e 11,5 mtm2 0 lm 34,6 g"m Les figures 6A, 6B et 6C sont des vues dans le plan x-y des premier, second et troisième modes de réalisation de la présente invention qui montrent le contrôle de la direction d'alignement de la couche d'alignement. Dans ces figures, les flèches en trait gras et continu montrent la direction d'alignement du substrat, le rectangle en trait continu montre une première position 45 du substrat, et le rectangle en trait interrompu montre une seconde position 47 du substrat. Comme décrit ci-dessus, dans le dispositif d'irradiation de lumière de la présente invention, la direction d'irradiation de la lumière (c'est-à-dire l'angle azimutal de la lumière) sur le substrat dans le traitement de photo-alignement est important, du fait que la direction d'alignement est déterminée par la direction d'irradiation de la lumière sous
incidence oblique. Le procédé de contrôle de l'angle azimutal de la lumière est repré-
senté sur les figures 6A, 6B et 6C.
Dans le premier mode de réalisation de la figure 6A, pour réaliser un dispositif d'affichage à cristal liquide mono-domaine ou multi-domaine, afin que la direction d'alignement soit de 0 ou 90 (45 ou 135 ) par rapport à la direction longitudinale du substrat, le système optique 100 est disposé de sorte à être à peu près à 0 ou 45 par rapport à la direction longitudinale du substrat, ce qui est obtenu simplement en
faisant tourner le cas échéant le substrat d'environ 90 .
De la sorte, afin de former une certaine direction d'alignement, il est préférable d'utiliser les structures des figures 6B et 6C, la 6C étant encore plus préférable. La figure 6B montre que la direction d'alignement souhaitée est obtenue facilement en faisant tourner le plateau 11 sur lequel le substrat est placé, d'un angle q. Mais, dans
cette structure, pour produire un dispositif d'affichage à cristal liquide multi-
domaine, le jeu entre le masque et le substrat doit être maintenu de sorte à faire tourner le masque et le substrat ensemble. La figure 6C montre qu'un multi-domaine, présentant deux ou plus de deux directions d'alignement dans la surface de cristal liquide, peut être obtenu en déplaçant le système optique 100 d'un angle q, puis en
formant des première et seconde directions d'alignement.
La figure 7 est une vue dans le plan x-z qui montre une surface d'exposition d'une couche d'alignement selon la présente invention. Lorsque l'on utilise le masque pour produire un dispositif d'affichage à cristal liquide multi-domaine, on maintient un jeu spécifique entre le masque 13 et la couche d'alignement 25 du
substrat 35, ce jeu est de préférence d'environ 30 à 100 nim.
1 0 Comme représenté sur les figures ci-dessus, si la lumière qui est incidente sous un angle 0 est irradiée sur la couche d'alignement 25 à travers le masque 13, la surface exposée est déplacée d'une quantité Ax (Ax = d tangente 0) par rapport audit angle en fonction dudit angle, et le motif de masque est formé sur le substrat dans la
position décalée.
De la sorte, dans le traitement réel de photo-alignement, il faut conserver le jeu spécifique entre le masque 13 et le substrat 35, et le masque 13 et le substrat sont de
préférence parallèles l'un à l'autre. En outre. après que le jeu soit mesuré précisé-
ment, le substrat doit être déplacé depuis sa position initiale en fonction du jeu
mesuré et de l'angle d'irradiation, et ensuite la lumière est'firradiée.
Afin de procéder comme décrit ci-dessus, il est préférable de disposer d'un appareil de mesure du jeu, et une source de lumière supplémentaire (par exemple un laser) est de préférence utilisée pour mesurer le jeu. On sélectionne trois ou quatre positions de mesure du jeu pour faire décroître les erreurs de jeu entre les positions
mesurées, on installe des dispositifs de correction du jeu sous le plateau 1 1.
Selon le dispositif d'irradiation de lumière de la présente invention, la direction de l'alignement de la couche d'alignement et l'angle de préinclinaison doivent être déterminés en irradiant en une seule fois, en plaçant le polariseur oblique à un angle par rapport à le plateau sur lequel la lumière est irradiée, et ensuite en irradiant sous
incidence oblique de la lumière partiellement polarisée.
On peut aussi réaliser un dispositif d'affichage à cristal liquide multidomllaine de grande taille en mesurant le jeu entre le masque et le substrat avec précision, et ensuite en formant un motif uniforme sur la couche d'alignement. L'homme du
métier comprendra que la description qui précède n'est qu'un mode de réalisation
préféré de l'invention décrite et que diverses variations et modifications peuvent être réalisées.
Claims (23)
1.- Un dispositif d'irradiation de lumière comprenant - un système optique; et
- un premier polariseur (33) polarisant la lumière provenant du système opti-
que, dans lequel la lumière provenant du premier polariseur est irradiée obliquement en formant un angle par rapport à la direction normale d'un
plateau (Il1) sur lequel un substrat (35) est placé.
2.- Le dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que le système opti-
que comprend une source lumineuse (1), une lentille (7) et un miroir de réflexion (3).
3.- Le dispositif selon la revendication I ou 2, caractérisé en ce que le système
optique comprend un ou plusieurs miroirs de réflexion.
4.- Le dispositif selon la revendication 1, 2 ou 3, caractérisé en ce que le premier polariseur (33) comprend un substrat polariseur avec un substrat de verre stratifié. 5.- Le dispositif selon la revendication 1, 2, 3 ou 4, caractérisé en ce que le premier polariseur comprend un substrat de polariseur avec uni substrat de quartz stratifié. 6.- Le dispositif selon la revendication 1, 2, 3 ou 4, caractérisé en ce que le premier polariseur comprend un substrat de polariseur avec un substrat à revêtement multiple.
7.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 6, caractérisé en ce que le
premier polariseur est incliné par rapport audit substrat (35) en formant l'angle de
Brewster.
8.- Le dispositif selon la revendication 6, caractérisé en ce que ledit substrat de
polariseur est un substrat à revêtement multiple avec une couche inorganique.
9.- Le dispositif selon l'une des revendications 2 à 8, caractérisé en ce qu'il
comprend en outre un second polariseur entre ladite lentille (7) et ledit miroir (3).
10.- Le dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que ledit second
polariseur (31) comprend un substrat de polariseur avec un substrat de verre stratifié.
Il.- Le dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que le second pola-
riseur comprend un substrat de polariseur avec un substrat en quartz stratifié.
12.- Le dispositif selon la revendication 9, caractérisé en ce que le second pola-
riseur comprend un substrat de polariseur avec un revêtement multiple.
0 13.- Le dispositif selon l'une des revendications 9 à 12, caractérisé en ce que
ledit second polariseur est incliné par rapport audit substrat (35) cn formant un angle
de Brewster.
14.- Le dispositif selon la revendication 12, caractérisé en ce que ledit substrat de polariseur est un substrat à revêtement multiple avec une couche inorganique.
15.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 14, caractérisé en ce que la
lumière provenant du premier polariseur présente une longueur d'onde dans la plage
d'environ 200 nm à 800 nm.
16.- Le dispositif selon les revendications 14 ou 15, caractérisé en ce que la
lumière provenant du premier polariseur (33) présente une longueur d'onde dans la
plage d'environ 250 nm à 400 nm.
17.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 16, caractérisé en ce que
ledit premier polariseur (33) présente un degré de polarisation d'environ 0 à 1.
18.- Le dispositif selon l'une des revendications 1 à 16, caractérisé en ce que
ledit premier polariseur présente un degré de polarisation d'environ 0,2 à 0,95.
19.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 18, caractérisé en ce que
ledit angle est d'environ 0 à 45 .
20.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 19, caractérisé en ce que ledit plateau est monté rotatif.
21.- Le dispositif selon l'une des revendications 1 à 19, caractérisé en ce que
ledit système optique est monté rotatif.
1l
22.- Le dispositif selon l'une des revendications I à 21, caractérisé en ce qu'il
comprend en outre un masque multi-domaine (13) sur ledit substrat (35).
23.- Le dispositif selon la revendication 22, caractérisé enC ce qu'un jeu est
maintenu entre ledit masque et ledit substrat.
24.- Un dispositif d'irradiation de lumière comprenant - une source lumineuse (1); - un premier miroir en réflexion (3) réfléchissant la lumière provenant de la source; - un homogénéiseur (19) comprenant une pluralité de lentilles - un second miroir de réflexion (6) réfléchissant la lumière provenant dudit homogénéiseur - une lentille de collimrnation (7) rendant parallèles les rayons lumineux provenant du second miroir de réflexion (6); - un premier polariseur (33) polarisant la lumière provenant de la lentille de
collimation (7), ladite lumière provenant du premier polariseur étant irra-
diée sous incidence oblique en formant un angle par rapport à la direction
normale d'un plateau (I l) sur lequel un substrat (35) est placé.
25.- Le dispositif selon la revendication 25, caractérisé par un second polari-
seur (3 1) entre ledit premier miroir de réflexion (3) et ledit holniogénéiseur (19).
26.- Le dispositif de la revendication 25, caractérisé par un troisième polariseur
(51) disposé entre ledit homrogénéiseur (19) et ledit second miroir de réflexion (6).
27.- Le dispositif de la revendication 24, 25 ou 26, caractérisé en ce que le
premier polariseur polarise partiellement la lumière provenant de la lentille de colli-
mation.
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