FR2675824B1 - Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede. - Google Patents

Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede.

Info

Publication number
FR2675824B1
FR2675824B1 FR9105171A FR9105171A FR2675824B1 FR 2675824 B1 FR2675824 B1 FR 2675824B1 FR 9105171 A FR9105171 A FR 9105171A FR 9105171 A FR9105171 A FR 9105171A FR 2675824 B1 FR2675824 B1 FR 2675824B1
Authority
FR
France
Prior art keywords
semi
treating
semiconductor
carrying
integrated circuits
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
FR9105171A
Other languages
English (en)
Other versions
FR2675824A1 (fr
Inventor
Alice Izrael
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to FR9105171A priority Critical patent/FR2675824B1/fr
Priority to EP92401146A priority patent/EP0512880B1/fr
Priority to DE69211771T priority patent/DE69211771T2/de
Priority to US07/873,121 priority patent/US5296126A/en
Priority to JP4131743A priority patent/JPH05152271A/ja
Publication of FR2675824A1 publication Critical patent/FR2675824A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of FR2675824B1 publication Critical patent/FR2675824B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • C25D11/32—Anodisation of semiconducting materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Weting (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
FR9105171A 1991-04-26 1991-04-26 Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede. Expired - Fee Related FR2675824B1 (fr)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9105171A FR2675824B1 (fr) 1991-04-26 1991-04-26 Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede.
EP92401146A EP0512880B1 (fr) 1991-04-26 1992-04-22 Procédé de traitement de la surface gravée d'un corps semi-conducteur ou semi-isolant, circuits intégrés obtenus selon un tel procédé et appareil d'oxydation anodique pour mettre en oeuvre un tel procédé
DE69211771T DE69211771T2 (de) 1991-04-26 1992-04-22 Verfahren zur Behandlung der gravierten Oberfläche eines Halbleiters oder Halbisolierers, durch ein solches Verfahren hergestellte integrierte Schaltkreise, sowie Apparat zur anodischen Oxidation zur Durchführung eines solchen Verfahrens
US07/873,121 US5296126A (en) 1991-04-26 1992-04-24 Method for processing the etched surface of a semiconductive or semi-insulating substrate
JP4131743A JPH05152271A (ja) 1991-04-26 1992-04-24 半導体または半絶縁性ボデイのエツチング表面の処理方法、このような方法によつて得られる集積回路、及びこのような方法を実施するためのアノード酸化装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9105171A FR2675824B1 (fr) 1991-04-26 1991-04-26 Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
FR2675824A1 FR2675824A1 (fr) 1992-10-30
FR2675824B1 true FR2675824B1 (fr) 1994-02-04

Family

ID=9412293

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FR9105171A Expired - Fee Related FR2675824B1 (fr) 1991-04-26 1991-04-26 Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5296126A (fr)
EP (1) EP0512880B1 (fr)
JP (1) JPH05152271A (fr)
DE (1) DE69211771T2 (fr)
FR (1) FR2675824B1 (fr)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06131802A (ja) * 1992-10-14 1994-05-13 Pioneer Electron Corp 録音装置
US5441618A (en) * 1992-11-10 1995-08-15 Casio Computer Co., Ltd. Anodizing apparatus and an anodizing method
US20040265171A1 (en) * 2003-06-27 2004-12-30 Pugia Michael J. Method for uniform application of fluid into a reactive reagent area
IT202100022757A1 (it) * 2021-09-02 2023-03-02 Metaly S R L Metodo di decorazione superfici trattate con rivestimento pvd e superfici decorate ottenute

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL6703014A (fr) * 1967-02-25 1968-08-26
DE1644012B2 (de) * 1967-05-07 1976-08-12 Verfahren zum eindiffundieren von dotierungsstoff aus der gasphase in eine lokal mit einer siliciumnitridschicht maskierte halbleiteroberflaeche
US3898141A (en) * 1974-02-08 1975-08-05 Bell Telephone Labor Inc Electrolytic oxidation and etching of III-V compound semiconductors
US4026741A (en) * 1976-06-16 1977-05-31 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Technique for preparation of stoichiometric III-V compound semiconductor surfaces
GB1556778A (en) * 1977-03-11 1979-11-28 Post Office Preparation of semiconductor surfaces
US5178967A (en) * 1989-02-03 1993-01-12 Alcan International Limited Bilayer oxide film and process for producing same
US5174870A (en) * 1991-08-09 1992-12-29 Pct Technology, Inc. Electrocleaning method

Also Published As

Publication number Publication date
DE69211771T2 (de) 1996-11-21
EP0512880A1 (fr) 1992-11-11
FR2675824A1 (fr) 1992-10-30
EP0512880B1 (fr) 1996-06-26
DE69211771D1 (de) 1996-08-01
US5296126A (en) 1994-03-22
JPH05152271A (ja) 1993-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BE858542A (fr) Procede pour l'oxydation humide de substances organiques
NL300140I1 (nl) Galanthamine, of verbindingen die eraan analoog zijn, voor behandeling van de ziekte van Alzheimer.
DZ1716A1 (fr) Méthode et mécanisme pour l'enlevement et le traitement des déchets.
FR2508431B1 (fr) Composition de traitement, son procede de fabrication et son utilisation pour le traitement des eaux d'egout
OA06884A (fr) Installation pour la pulvérisation d'un liquide de traitement, notamment de traitement des cultures ou des sols.
ATE88986T1 (de) Verfahren zum entfernen von pflanzenbehandlungsmitteln aus rohwasser.
FR2465802B1 (fr) Procede de solidification d'un fluide tel qu'un bain de silicium et procede obtenu
FR2757155B1 (fr) Procede de traitement de melanges reactionnels issus de l'oxydation du cyclohexane
ES512033A0 (es) "aparato de tratamiento de liquidos, particularmente de sedimentacion y clarificacion".
FR2675824B1 (fr) Procede de traitement de la surface gravee d'un corps semi conducteur ou semi-isolant, circuits integres obtenus selon un tel procede et appareil d'oxydation anodique pour mettre en óoeuvre un tel procede.
FR2696426B1 (fr) Procede pour le masquage d'une piece, et installation de traitement sous vide.
FR2516071B1 (fr) Procede par boues activees pour le traitement d'eaux residuaires
FR2694575B1 (fr) Procede pour le traitement de revetements en mcralz.
FR2609067B1 (fr) Procede pour le traitement a l'ozone d'une pate cellulosique
FR2574319B1 (fr) Appareil pour le traitement de puces a semi-conducteurs et articles similaires
FR2577559B1 (fr) Procede pour l'homopolymerisation anionique d'alpha-trifluoromethylacrylate
DE3376322D1 (en) Antiulcer 2-guanidino-4-(2-substituted-amino-4-imidazolyl)-thiazoles and process therefor
FR2710267B3 (fr) Composition pour le traitement de l'impuissance masculine.
MA21046A1 (fr) Procede destine au traitement complementaire de solutions aqueuses d'acide fluosilicique .
FR2657548B1 (fr) Procede de traitement de sable pour moules et/ou pour noyaux.
FR2678198B1 (fr) Procede et installation pour le traitement de surface ou la decoupe par jet d'eau a haute pression.
FR2649091B1 (fr) Procede et dispositif pour le traitement des effluents contenant des encres a l'eau
FR2512706B1 (fr) Appareil pour mettre une piece en place dans la zone des outils d'une presse a forger ou machine analogue
FR2654440B1 (fr) Procede de conversion chimique de substrats metalliques, bain mis en óoeuvre dans ce procede et concentre pour la preparation du bain.
FR2476629B2 (fr) Procede et installation pour l'elimination de la pollution carbonee et azotee des eaux usees

Legal Events

Date Code Title Description
TP Transmission of property
ST Notification of lapse