FR2575151A1 - Procede et dispositif de fabrication de preformes pour fibres optiques, et preformes obtenues par ce procede - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000000750 progressive effect Effects 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 25
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 15
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 9
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 claims description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 230000032696 parturition Effects 0.000 claims 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 41
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 40
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 6
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 6
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 3
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 3
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008246 gaseous mixture Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- WYUYEJNGHIOFOC-VVTVMFAVSA-N 2-[(z)-1-(4-methylphenyl)-3-pyrrolidin-1-ylprop-1-enyl]pyridine;hydrochloride Chemical compound Cl.C1=CC(C)=CC=C1C(\C=1N=CC=CC=1)=C\CN1CCCC1 WYUYEJNGHIOFOC-VVTVMFAVSA-N 0.000 description 1
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015845 BBr3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015844 BCl3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 229910006113 GeCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 238000005234 chemical deposition Methods 0.000 description 1
- 239000013626 chemical specie Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/50—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
- C23C16/511—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges using microwave discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01861—Means for changing or stabilising the diameter or form of tubes or rods
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C16/045—Coating cavities or hollow spaces, e.g. interior of tubes; Infiltration of porous substrates
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
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Abstract
PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE PREFORMES POUR FIBRES OPTIQUES, ET PREFORMES OBTENUES PAR CE PROCEDE. SELON L'INVENTION, POUR FABRIQUER UNE PREFORME, ON EST AMENE A FORMER UN REVETEMENT VITREUX SUR LA FACE INTERNE D'UN TUBE EN VERRE 2. POUR CE FAIRE, ON FAIT PASSER CONTINUMENT, D'UNE EXTREMITE A L'AUTRE DU TUBE, UN MELANGE DE COMPOSES GAZEUX, IONISABLES ET APTES A DONNER NAISSANCE AU REVETEMENT PAR REACTION ENTRE EUX, TOUT EN FORMANT DANS LE TUBE, A L'AIDE D'UN COUPLEUR HYPERFREQUENCE 16, UNE COLONNE DE PLASMA 14 DESTINEE A ACTIVER LA REACTION, ET EN REALISANT UN DEPLACEMENT RELATIF D'AU MOINS UNE EXTREMITE DE LA COLONNE DE PLASMA PAR RAPPORT AU TUBE. LE COUPLEUR HYPERFREQUENCE EST APTE A INJECTER UNE ONDE PROGRESSIVE DE SURFACE DANS LA COLONNE DE PLASMA. APPLICATION AU DOMAINE DES TELECOMMUNICATIONS.
Description
PROCEDE ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE PREFORMES
POUR FIBRES OPTIQUES, ET PREFORMES OBTENUES PAR
CE PROCEDE
La présente invention concerne un procédé et un dispositif de fabrication de préformes pour fibres optiques ainsi que les préformes obtenues par ce procédé. Elle s'appLique notamment au domaine des Télé- communications.
POUR FIBRES OPTIQUES, ET PREFORMES OBTENUES PAR
CE PROCEDE
La présente invention concerne un procédé et un dispositif de fabrication de préformes pour fibres optiques ainsi que les préformes obtenues par ce procédé. Elle s'appLique notamment au domaine des Télé- communications.
L'invention fait partie des techniques de fabrication des préformes pour fibres optiques, utilisant La formation de couches de verre à L'intérieur d'un tube de verre, par dépÎt chimique en phase vapeur, ce dépÎt chimique étant obtenu grùce à une activation par un plasma micro-onde engendré à L'intérieur du tube.
Une telle technique est déjà connue par le brevet américain n" 4145456 et par le brevet britannique n0 2068359 qui enseignent tous deux l'utilisation d'une cavité résonnante engend-rant des ondes stationnaires pour l'entretien du plasma.
L'utilisation d'ondes stationnaires présente l'inconvénient de conduire à des modifications des conditions de dépÎt au cours du temps, dans les différentes parties du tube, ce qui entrai ne une détérioration du couplage de La cavité et donc une baisse importante des rendements de réaction et de dépÎt.
La présente invention a pour objet un procédé et un dispositif de fabrication de préformes pour fibres optiqués qui remédient aux inconvénients précédents en assurant un couplage maximal de L'énergie hyperfréquence quelles que soient les conditions de travail (débit des gaz dans le tube, diamÚtre dutube) et qui autorisent des vitesses de dépÎt élevées, compatibles avec la fabrication de préformes à gradient d'indice, tout en donnant des rendements de dépÎt élevés.
Pour ce faire, la présente invention propose d'engen drer et d'entretenir le plasma au moyen d'une onde progressive de surface.
De façon prĂ©cise, la prĂ©sente invention a pour objet un procĂ©dĂ© de fabrication d'une prĂ©forme pour fibres optiques, comprenant une Ă©tape de formation d'un revĂȘtement vitreux sur la face interne d'un tube en verre, Ă©tape dans laquelle on fait passer con tinĂ»ment, d'une-extrĂ©mitĂ© Ă L'autre du tube, un mĂ©lange de composĂ©s gazeux ionisables et aptes Ă donner naissance au revĂȘtement par rĂ©action entre eux, La pression du mĂ©lange dans le tube Ă©tant maintenue infĂ©rieure Ă 104Pa environ, tout en formant dans Le tube, Ă L'aide d'un coupleur hyperfrĂ©quence, une colonne de pLasma destinĂ©e Ă activer La reaction, et en rĂ©aLisant un dĂ©pLacement reLatif d'au moins une extrĂ©mitĂ© de La coLonne de plasma par rapport au tube, procĂ©dĂ© caractĂ©risĂ© en ce que Le coup Leur hyperfrĂ©quence est apte Ă injecter une onde progressive de surface dans la colonne de plasma.
L'onde hyperfréquence de surface ainsi injectée dans La coLonne de pLasma se propage Le long de la surface de cette colonne. L'énergie électromagnétique est ainsi transmise au plasma par l'intermé- diaire de cette onde de surface, ce qui permet d'en tretenir le plasma. Celui-ci absorbe l'énergie de L'onde de surface au cours de la propagation de celleci, si bien que cette onde s'atténue et que la Longueur de la colonne de pLasma dépend de la puissance électromagnétique injectée. Cette longueur est une fonction croissante de la puissance incidente et dépend aussi des conditions expérimentales (pression, débit et nature des gaz, dimensions du tube). a puissance étant nulle à l'extrémité de la colonne de pLasma, L'onde est totalement absorbée par ce plasma.Aucune réflexion, et donc aucune onde stationnaire, n'est possible. Aussi, L'impédance de la colonne de plasma varie peu et n'affecte pas le rendement de couplage entre L'onde hyperfréquence incidente et
L'onde de surface. Ce rendement n'est donc pas modifiĂ© par Les caractĂ©ristiques physiques et chimiques du plasma. Le couplage peut ainsi ĂȘtre conservĂ© Ă sa valeur maxima le quelles que soient les conditions de travail Ă l'ĂntĂ©rieur du tube dans lequel s'effectue
Le dépÎt.
L'onde de surface. Ce rendement n'est donc pas modifiĂ© par Les caractĂ©ristiques physiques et chimiques du plasma. Le couplage peut ainsi ĂȘtre conservĂ© Ă sa valeur maxima le quelles que soient les conditions de travail Ă l'ĂntĂ©rieur du tube dans lequel s'effectue
Le dépÎt.
Contrairement à la technique proposée dans
Les brevets amĂ©ricain et britannique prĂ©citĂ©s, le systĂšme propagatif utilisĂ© dans L'invention est toujours adaptĂ© et ne nĂ©cessite, contrairement au brevet britannique, aucun tube Ă©lectriqUement conducteur concentrique et extĂ©rieur au tube de verre dans lequel se forme Le revĂȘtement vitreux.
Les brevets amĂ©ricain et britannique prĂ©citĂ©s, le systĂšme propagatif utilisĂ© dans L'invention est toujours adaptĂ© et ne nĂ©cessite, contrairement au brevet britannique, aucun tube Ă©lectriqUement conducteur concentrique et extĂ©rieur au tube de verre dans lequel se forme Le revĂȘtement vitreux.
La fréquence d'excitation du coupleur est par exemple comprise entre 200 MHz et 10000 MHz environ. A titre indicatif et non limitatif, on peut utiliser La fréquence industrielle de 2450 MHz.
Selon un mode de mise en oeuvre particulier du procédé objet de L'invention, le coupleur hyperfréquence est maintenu fixe par rapport au tube, à l'ex- trémité de celui-ci d'oû sort le mélange, et l'on fait varier continument et progressivement la puissance électromagnétique fournie au coupleur hyperfréquence de façon que L'extrémité de la coLonne de plasma balaye le tube.
De préférence, la puissance fournie au coupleur hyperfréquence est modulée entre deux- valeurs comprises entre 0 et 3 kW environ.
De préférence également, la fréquence de modulation est comprise entre 0 et 10 kHz environ.
Selon un autre mode de mise en oeuvre particulier du procédé objet de L'invention, le coupleur hyperfréquence est animé d'un mouvement relatif par rapport au tube et la puissance électromagnétique fournie au coupleur hyperfréquence est maintenue sensiblement constante.
Le méLange gazeux utitisé peut comprendre de L'oxygÚne, un tétrahalogénure de siLicium et, pendant au moins une partie de l'etape-de formation du revetement, au moins un corps choisi dans Le groupe comprenant le fluor, les composés du fluor et les hatogenu- res aptes à produire un dopant pour la silice.
De préférence, le mélange comporte un excÚs d'oxygÚne par rapport au tétrahalogÚnure et audit corps, cet excÚs étant maintenu constant, dans un rapport compris entre 2 et 10 environ.
Le mélange peut comprendre en outre un gaz rare tel que L'argon, qui est facilement ionisable.
L'intĂ©rieur du tube peut -ĂȘtre avantageusement balayĂ© par un courant d'un gaz rare, prĂ©aLablement Ă L'Ă©tape de formation du revĂȘtement.
De préférence, le tube est maintenu à une température au moins égale à 10000C environ.
De façon avantageuse, la pression moyenne dans le tube peut ĂȘtre maintenue constante pendant
L'Ă©tape de formation du revĂȘtement On peut aussi maintenir constante la perte de charge dans le tube pendant L'Ă©tape de formation du revĂȘtement, par exemple par asservissement sur le dĂ©bit gazeux total.
L'Ă©tape de formation du revĂȘtement On peut aussi maintenir constante la perte de charge dans le tube pendant L'Ă©tape de formation du revĂȘtement, par exemple par asservissement sur le dĂ©bit gazeux total.
La prĂ©sente invention concerne Ă©gaLement un dispositif pour la mise en oeuvre du procĂ©dĂ© Ă©galement objet de L'invention, ce dispositif Ă©tant destinĂ© Ă former un revĂȘtement vitreux sur la face interne d'un tube en verre, ce dispositif comprenant : - des moyens pour faire passer continument, d'une ex
trémité à L'autre du tube, un mélange de composés
gazeux ionisables et aptes Ă donner naissance au re vĂȘtement par rĂ©action entre eux, la pression du mĂ©lange dans le tube Ă©tant maintenue infĂ©rieure Ă 104Pa environ, - un coup Leur hyperfrĂ©quence prĂ©vu pour former dans le
tube une colonne de plasma destinée à activer la
réaction, et - des moyens pour réaliser un dépLacement relatif d'au
moins une extrémité de la colonne de plasma par rap
port au tube, caractérisé en ce que le coupleur hyperfréquence est apte à injecter une onde progressive de surface dans
La colonne de plasma.
trémité à L'autre du tube, un mélange de composés
gazeux ionisables et aptes Ă donner naissance au re vĂȘtement par rĂ©action entre eux, la pression du mĂ©lange dans le tube Ă©tant maintenue infĂ©rieure Ă 104Pa environ, - un coup Leur hyperfrĂ©quence prĂ©vu pour former dans le
tube une colonne de plasma destinée à activer la
réaction, et - des moyens pour réaliser un dépLacement relatif d'au
moins une extrémité de la colonne de plasma par rap
port au tube, caractérisé en ce que le coupleur hyperfréquence est apte à injecter une onde progressive de surface dans
La colonne de plasma.
Selon un mode de réalisation particulier du dispositif objet de l'invention, le coupleur hyperfréquence est fixe et destiné à recevoir L'extrémité du tube d'ou sort te méLange et les moyens pour effectuer le déplacement relatif comprennent un. générateur de micro-ondes à puissance variable, prévu pour fournir une puissance electromagnétique au coupLeur hyperfréquence et pour faire varier continûment et progressivement cette puissance, de façon que L'extrémité de La colonne de plasma balaye le tube.
Selon un autre mode de réalisation particulier, les moyens pour effectuer le deplacement relatif comprennent - un générateur de micro-ondes pour alimenter le cou
pleur hyperfréquence, et - des moyens de déplacement relatif du coup Leur hyper
fréquence par rapport au tube, suivant l'ax-e de ce
dernier.
pleur hyperfréquence, et - des moyens de déplacement relatif du coup Leur hyper
fréquence par rapport au tube, suivant l'ax-e de ce
dernier.
Enfin, le dispositif objet de l'invention peut comprendre en outre des moyens de rĂ©gulation de pression dans Le tube, prĂ©vus pour maintenir constantes la pression moyenne et/ou la perte de charge dans ce tube pendant L'Ă©tape de formation du revĂȘtement.
Selon L'invention, le transfert de l'Ă©ner- gie micro-onde Ă la colonne de plasma est donc obtenu par tout systĂšme hyperfrĂ©quence qui permet d'exciter une onde de surface. A cet effet, des coup Leurs connus tels que ceux qui sont dĂ©crits dans le brevet français n02290126 peuvent ĂȘtre avantageusement utilisĂ©s.
La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description qui suit, d'exemples de réalisation donnés à titre purement indicatif et nullement limitatif, en référence aux dessins annexés sur lesquels :
- la figure 1 est une vue schématique d'un mode de réalisation particulier du dispositif objet de
L'invention, dans lequel le coupleur hyperfréquence reste fixe par rapport au tube dans lequel se forme le dépÎt vitreux,
- la figure 2 montre L'évoLution de différents paramÚtres relatifs à la formation de ce dépÎt, en fonction du temps de dépÎt,
- la figure 3 est une vue schématique d'un mode de mise en oeuvre particulier du procédé objet de l'invention,
- la figure 4 est une vue schématique d'un autre mode de réalisation particulier du dispositif objet de L'invention, dans lequel Le coupleur hyperfréquence est mobile par rapport au tube dans lequel se forme le dépÎt vitreux, et
- la figure 5 représente L'évoLution de paramÚtres relatifs à La formation du dépÎt vitreux, en fonction du temps de dépÎt, dans des conditions qui seront précisées uLtérieurement.
- la figure 1 est une vue schématique d'un mode de réalisation particulier du dispositif objet de
L'invention, dans lequel le coupleur hyperfréquence reste fixe par rapport au tube dans lequel se forme le dépÎt vitreux,
- la figure 2 montre L'évoLution de différents paramÚtres relatifs à la formation de ce dépÎt, en fonction du temps de dépÎt,
- la figure 3 est une vue schématique d'un mode de mise en oeuvre particulier du procédé objet de l'invention,
- la figure 4 est une vue schématique d'un autre mode de réalisation particulier du dispositif objet de L'invention, dans lequel Le coupleur hyperfréquence est mobile par rapport au tube dans lequel se forme le dépÎt vitreux, et
- la figure 5 représente L'évoLution de paramÚtres relatifs à La formation du dépÎt vitreux, en fonction du temps de dépÎt, dans des conditions qui seront précisées uLtérieurement.
Sur la figure 1, on a reprĂ©sentĂ© schĂ©matiquement un mode de rĂ©alisation particulier du dispositif objet de L'invention, permettant de former un revĂȘtement vitreux sur la face interne d'un tube 2 en verre, ce tube Ă©tant maintenu en position fixe horizontale ou verticale, grĂące Ă des moyens non reprĂ©sentĂ©s. Ce mode de rĂ©alisation particulier comprend essentiellement un systĂšme d'alimentation 4, prĂ©vu pour injecter par une extrĂ©mitĂ© 6 du tube 2, un melange gazeux 28 composĂ© d'oxygĂšne et de vapeurs de tĂ©trachlorure de silicium auxquels sont ajoutĂ©s des dopants sous forme d'halogĂ©nures tels que Gel4, BBr3, BCl3 ou POCI3, ou encore du fluor ou bien des dĂ©rivĂ©s de celui-ci.Le dispositif comprend Ă©galement des moyens 8 de pompage, prĂ©vus pour pomper le mĂ©lange gazeux b
L'autre extrémité 10 du tube 2, ainsi que des moyens 12 de production d'une cotonne de plasma 14 dans Le tube. Ces moyens 12 de production comprennent un coupleur hyperfréquence 16 et un générateur de micro-ondes à puissance variable 18, prévu pour alimenter le coupleur 16 par l'intermédiaire d'un guide d'onde 20.
L'autre extrémité 10 du tube 2, ainsi que des moyens 12 de production d'une cotonne de plasma 14 dans Le tube. Ces moyens 12 de production comprennent un coupleur hyperfréquence 16 et un générateur de micro-ondes à puissance variable 18, prévu pour alimenter le coupleur 16 par l'intermédiaire d'un guide d'onde 20.
Le coup leur 16 est maintenu en position fixe et entoure L'extrémité 10 du tube, qui est située du cÎté des moyens de pompage 8.
Le coup Leur 16 est par- exemple du genre de ceux qui sont connus sous le nom de SURFAGUIDE. Bien entendu, tout autre dispositif permettant d'injecter une onde progressive de surface dans la colonne de plasma 14 peut ĂȘtre utilisĂ©.
Le surfaguide comprend un double court-cir- cuit qui est mécaniquement adapté au guide d'onde 20.
Un premier court-circuit 22 est destinĂ© Ă limiter le plasma Ă une zone du tube 2 dans laqueLle on souhaite rĂ©aliser le revĂȘtement ou dĂ©pĂŽt vitreux et un second court-circuit 24 est destinĂ© Ă ajuster Le coupLage entre le coup leur 16 et la coLonne de plasma 14 avec un rendement trĂšs proche de L'unitĂ©.
La formation d'un revĂȘtement vitreux 26 sur
La paroi interne du tube 2 est réalisée de La façon suivante : le mélange gazeux 28 est introduit par
L'extrĂ©mitĂ© 6 du tube 2, en quantitĂ© connue et contr- LiĂ©e, grĂące aux moyens 4 d'alimentation tandis que les effluents 30 rĂ©sultant de la rĂ©action entre les composants du mĂ©lange gazeux, rĂ©action qui est activĂ©e par la colonne de plasma 14, sont Ă©vacuĂ©s par L'autre ex trĂ©mitĂ© 10 du tube 2, Ă L'aide des moyens 8 de pompage comprenant une pompe Ă vide, cette derniĂšre et les moyens 4 d'alimentation Ă©tant rĂ©glĂ©s de façon Ă obtenir une pression comprise entre environ 1 et 104Pa Ă
L'intérieur du tube 2.La colonne de plasma 14, produite par le coup Leur 16, active chimiquement le me- lange gazeux et un dépÎt vitreux croit à L'extrémité de Ladite colonne.
La paroi interne du tube 2 est réalisée de La façon suivante : le mélange gazeux 28 est introduit par
L'extrĂ©mitĂ© 6 du tube 2, en quantitĂ© connue et contr- LiĂ©e, grĂące aux moyens 4 d'alimentation tandis que les effluents 30 rĂ©sultant de la rĂ©action entre les composants du mĂ©lange gazeux, rĂ©action qui est activĂ©e par la colonne de plasma 14, sont Ă©vacuĂ©s par L'autre ex trĂ©mitĂ© 10 du tube 2, Ă L'aide des moyens 8 de pompage comprenant une pompe Ă vide, cette derniĂšre et les moyens 4 d'alimentation Ă©tant rĂ©glĂ©s de façon Ă obtenir une pression comprise entre environ 1 et 104Pa Ă
L'intérieur du tube 2.La colonne de plasma 14, produite par le coup Leur 16, active chimiquement le me- lange gazeux et un dépÎt vitreux croit à L'extrémité de Ladite colonne.
Le revĂȘtement vitreux 26 Ă rĂ©aliser, comprend un certain nombre de couches vitreuse Ă©lementai- res. La formation d'une telle couche vitreuse Ă©lĂ«men- taire est obtenue en faisant varier la Longueur de la colonne de plasma 14 entre une premiĂšre position 32 situĂ©e du cĂŽtĂ© de L'extrĂ©mitĂ© 10 du tube 2 et une seconde position 34 situĂ©e du cĂŽtĂ© de L'extrĂ©mitĂ© 6 dudit tube. Cette variation de longueur de la colonne de plasma 14 est rĂ©alisĂ©e par une modulation de la puissance du gĂ©nĂ©rateur 18 et donc de la puissance injectĂ©e dans la colonne de plasma 14 par L'intermĂ©- diaire du coupleur 16. Pour obtenir plusieurs couches Ă©lĂ©mentaires successives, la puissance du gĂ©nĂ©rateur 18 est modulĂ©e Ă une frĂ©quence comprise entre 0 et quelque dizaines de kHz. Cette frĂ©quence est dĂ©terminĂ©e notamment par le nombre total de couches que l'on dĂ©sire obtenir, une couche vitreuse Ă©LĂ©mentaire correspondant Ă une demi-pĂ©riode de La puissance.
La composition du dĂ©pĂŽt peut ĂȘtre modifiĂ©e
Lors de la réalisation de chaque couche éLémentaire, par variation de La composition du mélange gazeux 28.
Lors de la réalisation de chaque couche éLémentaire, par variation de La composition du mélange gazeux 28.
Lorsque le nombre total de couches est atteint, la phase de dépÎt est terminée et une préforme se présentant sous la forme d'un barreau cylindrique est obtenue par. rétreint du tube 2, ce rétreint étant effectué à L'aide de moyens thermiques classiques tels qu'un chalumeau oxhydrique ou simultanément au fibrage.
L'ajustement du rapport entre le diamÚtre -du coeur et le diamÚtre de la gaine des fibres optiques à produire est effectué ensuite par la technique "barreau-tube" ou par le dépÎt, à L'aide d'une torche à plasma, de grains de silice minérale sur la périphérie du barreau.
L'homogénéité spatiale du dépÎt sur une circonférence de la paroi interne du tube 2 résulte de la parfaite symétrie radiale de la colonne de plasma 14.
Ainsi la rotation du tube 2 n'est elle pas nécessaire pour obtenir cette homogénéité.
Par ailleurs, L'homogénéité du dépÎt sur la longueur d'une couche éLémentaire déposée est assurée pa.r le fait que L'extrémité de la colonne de plasma 14 est absolument identique du point de vue de la composition en espÚces chimiques activées et du point de vue énergétique, quelle que soit La puissance incidente et donc quelle que soit La position de l'extrémité de la colonne de plasma 14 au cours du balayage du tube.
Il faut noter que la formation du dépÎt ne dépend pas du sens de déplacement de L'extrémité de la colonne de plasma 14, deux couches étant donc formées pendant un aller et retour de L'extrémité de cette colonne de plasma, c'est-à -dire pendant un cycle de la modulation, ce qui supprime les temps morts lors de la phase de dépÎt.
Lorsque la chaleur dĂ©gagĂ©e par le plasma n'est pas suffisante, un moyen de chauffage facultatif 36 peut ĂȘtre prĂ©vu pour porter le tube 2 Ă une tempĂ©rature comprise entre 9000C et 12500C de façon Ă rĂ©aliser une dĂ©sorption efficace des effluents de la rĂ©action qui peuvent ĂȘtre incorporĂ©s dans la couche vitreuse Ă©lĂ©mentaire lors de sa formation, sans activer thermiquement la rĂ©action chimique. A cet effet, on utilise par exemple un four Ă©lectrique tubulaire dont L'Ă©LĂ©ment chauffant cylindrique a un diamĂštre Ă©gal Ă plusieurs fois le diamĂštre du tube 2, de façon Ă ne pas perturber la propagation de L'onde de surface engendrĂ©e par le coup Leur 16.
En outre, un gaz 38 facilement ionisable tel que L'argon peut ĂȘtre avantageusement fourni par tes moyens 4 d'alimentation en gaz. En effet, une dĂ©charge Ă©lectrique effectuĂ©e dans ce gaz prĂ©alablement Ă
L'opération de dépÎt permet de nettoyer efficacement la paroi interne du tube 2. En outre, l'incorporation dudit gaz mélange gazeux pendant la phase de dépÎt, permet d'augmenter La longueur de la colonne de plasma et donc la longueur de la zone balayée par L'extrémité de cette colonne de plasma dans le tube.
L'opération de dépÎt permet de nettoyer efficacement la paroi interne du tube 2. En outre, l'incorporation dudit gaz mélange gazeux pendant la phase de dépÎt, permet d'augmenter La longueur de la colonne de plasma et donc la longueur de la zone balayée par L'extrémité de cette colonne de plasma dans le tube.
Dans le cas d'une vitesse de dĂ©pĂŽt Ă©levĂ©e et d'une forte Ă©paisseur dĂ©posĂ©e, L'augmentation rĂ©sultante des pertes de charge peut ĂȘtre compensĂ©e par une diminution progressive du dĂ©bit gazeux total au cours du dĂ©pĂŽt, sans affecter le couplage de la puissance micro-ondes, compte tenu de l'emploi d'un coupleur apte Ă engendrer une onde progressive de surface.
A cet effet, un premier capteur de pression 40 et un second capteur de pression 42 respectivement disposés en amont et en aval du tube 2 sont prévus pour capter la pression respectivement à L'entrée et à la sortie dudit tube. Les signaux de sortie des capteurs de pression 40 et 42 sont reçus et comparés par des moyens de régulation 44 destinés à commander le débit gazeux total dans le tube 2 par L'intermédiaire des moyens 4 d'alimentation en gaz.
On peut aussi maintenir constante la pression moyenne dans le tube à L'aide d'autres moyens de régulation 46 prévus pour asservir le débit des moyens 8 de pompage à - la pression mesurée par le premier capteur 40 et/ou par le second capteur 42.
La diminution du dĂ©bit total, bien qu'elLe permette de se placer dans des conditions optimales de dĂ©pĂŽt Ă chaque instant, provoque une diminution de la vitesse instantanĂ©e de dĂ©pĂŽt au cours de la phase de dĂ©pĂŽt. La vitesse de fabrication, qui tient compte du temps rĂ©el d'occupatĂon-machine, c'est-Ă„-dire du temps de prĂ©paration (montage du tube et Ă©ventuellement dĂ©charge en atmosphĂšre d'argon pur), et de La durĂ©e du dĂ©pĂŽt, passe par un maximum en fonction du temps de dĂ©pĂŽt, tandis que la masse totale dĂ©posĂ©e augmente en fonction de ce temps.
La figure 2 représente l'évolution de différents paramÚtres du dépÎt en fonction du temps de dépÎt t, pour un diamÚtre interne Do du tube 2, un débit initial total QO, une Longueur de dépÎt, un temps de préparation et un type de fibres optiques (rapport diamÚtre du coeurSdiametre de- La gaine) donnés.
Les paramétres considérés sont Les suivants - A : débit total du mélange gazeux - B : diamÚtre interne du tube - C : vitesse moyenne de dépÎt à L'instant considéré - D : capacité kilométrique de La préforme finale - E : vitesse de fabrication de fibres optiques (en
kilomĂštres de fibres par heure).
kilomĂštres de fibres par heure).
Lorsque la frĂ©quence du coupleur hyperfrĂ©quence 16 est de 2450 MHz, pour ne pas perturber le couplage entre le coup Leur 16 et La colonne de plasma 14, il est prĂ©fĂ©rable que le diamĂštre externe du tube 2 dont une partie traverse le coup Leur 16, ne dĂ©passe pas 30 Ă 40 mm environ. Dans le cas ou un tube de diamĂštre externe supĂ©rieur Ă ces valeurs est nĂ©cessaire, on peut utiLiser, conformĂ©ment Ă la figure 3, un tel tube adaptĂ© de telle maniere que la partie 48 de ce dernier, destinĂ©e Ă traverser le coupleur hyperfrĂ©quence 16, ait un diamĂštre externe infĂ©rieur Ă 30 mm.L'extrĂ©mitĂ© de la colonne de pLasma 14 se propageant entre les deux positions extrĂȘmes 32 et 34 dans le reste du tube, la formation du revĂȘtement vitreux a effectivement lieu dans Ăčn tube dont le diamĂš- tre externe est supĂ©rieur Ă 30 ou 40 mm.
On notera toutefois que L'on peut utiliser des tubes de diamÚtre externe supérieur à 40 mm sans avoir à rétrécir Le diamÚtre externe de ces tubes au niveau du coupleur, en utilisant des-coupleurs à des fréquences inférieures à 2450 MHz.
Sur la figure 4, on a représenté schématiquement un autre mode de réalisation particulier du dispositif objet de L'invention, qui diffÚre essentiellement du dispositif représenté sur La figure 1 par le fait que Le coupleur hyperfréquence 16 n'est plus fixé à une extrémité du tube 2 mais peut etre animé d'un mouvement relatif par rapport audit tube, parallÚlement à t'axe 50 de ce dernier.
De préférence, conformément à la figure 4, le coupleur hyperfréquence 16 est mobile en translation par rapport au tube 2 à L'aide de moyens 21, ce tube2 étant maintenu en position fixe. Le principe de la réaction chimique conduisant au dépÎt vitreux est identique à ce lui qui a été indiqué en référence à la figure 1. En revanche, la fabrication des couches vitreuses élémentaires entre les deux positions 32 et 34 n'est plus obtenue par une variation de la longueur de la colonne de plasma 14, mais par un déplacement du coup Leur 16 et donc de la colonne de plasma 14. La puissance électromagnétique fournie par le générateur 18 est maintenue constante au cours de la formation de chaque couche vitreuse éLémentaire, ce qui permet d'obtenir une zone de dépÎt constante.En outre, cette puissance est choisie de façon que la longueur de la colonne de plasma 14 soit petite devant la longueur du tube 2, de maniÚre à minimiser la longueur inutile du dépÎt au-delà de la position référencée 32 (à droite sur la figure 4).
Le coup Leur 16 est comme précédemment apte à engendrer une onde progressive de surface. A cet effet, on peut utiliser un dispositif connu sous le nom de SURFATRON, comportant essentiellement une cavité rentrante 52 et une antenne 54 reliée au générateur 18 par L'intermédiaire d'un cùble coaxial 56.
Le fait d'engendrer et de déplacer un plasma de taille réduite permet une utilisation aisée de
L'énergie thermique dégagée par- ce plasma. En effet,
L'Ă©chauffement de la paroi interne du tube 2 par le plasma est alors le mĂȘme sur toute la Longueur du dĂ©placement. Les paramĂštres influant sur Le plasma (pression, dĂ©bit et composition chimique du mĂ©lange gazeux) sont alors ajustĂ©s de façon Ă obtenir une tempĂ©rature de La paroi interne du tube 2 qui soit comprise entre 800 et 12000C environ. La dĂ©sorption de certains effluents gazeux des couches vitreuses Ă©LĂ©- mentaires formĂ©es peut donc ĂȘtre rĂ©alisĂ©e sans moyen de chauffage supplĂ©mentaire. Par ailleurs, Ă un aller et retour du coup Leur 16 le long du tube 2 correspond la formation de deux couches vitreuses Ă©lĂ©mentaires.
L'énergie thermique dégagée par- ce plasma. En effet,
L'Ă©chauffement de la paroi interne du tube 2 par le plasma est alors le mĂȘme sur toute la Longueur du dĂ©placement. Les paramĂštres influant sur Le plasma (pression, dĂ©bit et composition chimique du mĂ©lange gazeux) sont alors ajustĂ©s de façon Ă obtenir une tempĂ©rature de La paroi interne du tube 2 qui soit comprise entre 800 et 12000C environ. La dĂ©sorption de certains effluents gazeux des couches vitreuses Ă©LĂ©- mentaires formĂ©es peut donc ĂȘtre rĂ©alisĂ©e sans moyen de chauffage supplĂ©mentaire. Par ailleurs, Ă un aller et retour du coup Leur 16 le long du tube 2 correspond la formation de deux couches vitreuses Ă©lĂ©mentaires.
Au lieu de maintenir Le tube 2 fixe et de rendre le coupleur 16 déplaçable en translation par rapport à ce tube, il est possible de maintenir Le coup Leur 16 fixe et de déplacer Le tube 2 en translation par rapport à ce coup Leur. Le choix entre les deux possibilités (tube fixe et coupleur mobile ou, au contraire, coupleur fixe et tube mobile) dépend essentiellement du type de coupleur choisi et de la structure mécanique de l'ensemble du dispositif.
A titre purement indicatif et nullement li- mitatif, quatre exemples de fabrication de préformes pour fibres optiques multimodes à gradient d'indice sont donnés ci-aprÚs, ces exemples correspondant au ure 1.
L'exemple 1 correspond Ă une vitesse de dĂ©pĂŽt relativement Ă©levĂ©e et Ă une capacitĂ© kilomĂ©tri- que classique (de L'ordre de 10 km). L'Ă©paisseur n'Ă©tant pas trĂšs importante, le dĂ©bit est maintenu constant sans augmentation gĂȘnante de la perte de charge. Dans les exemples 2, 3 et 4, la combinaison d'une vitesse de dĂ©pĂŽt trĂšs Ă©levĂ©e et d'une forte ca pacitĂ© kilomĂ©trique nĂ©cessite une variation du dĂ©bit au cours du dĂ©pĂŽt.Dans les exemples 2 et 3, on envisage la fabrication de fibres Ă ouverture numĂ©rique classique (de L'ordre de 0,2), de diamĂštre de coeur 50 pm et de diamĂštre de gaine 125 jim, avec diffĂ©rentes capacitĂ©s kilomĂ©triques de prĂ©forme et dans l'exemple 4, on envisage la production de fibres ayant une ouverture numĂ©rique Ă©levĂ©e (0,23), un diamĂštre de coeur de 85 pm et un diamĂštre de gaine de-125 p-m.
EXEMPLE 1
Dans cet exemple, les diamÚtres intérieur et extérieur du tube 2 sont respectivement de 19 mm et 25 mm. Dans une premiÚre phase, Le mélange gazeux est composé d'argon pur avec un débit de 100 centimÚtres cube standard par minute (sccm) et un plasma d'argon est formé pendant environ 15 minutes, ce qui permet une .désorption trÚs efficace des parois internes du tube 2. Ensuite, la composition du mélange gazeux réactif est La suivante : 1600 sccm d'oxygÚne, 400 sccm de SiCl4 et entre O et 60 sccm de GeCL4. La pression est maintenue à 400 Pa environ et la puissance incidente est modulée de 250 à 2500 W, ce qui permet d'obtenir une longueur de dépÎt utile de 50 cm.La forme du signal de modulation est telle que la vitesse de déplacement de L'extrémité de La colonne de plasma soit constante
La durée d'un cycle, correspondant au dépÎt de deux couches, est de 5 secondes. On forme 1200 couches d'environ 0,5 pm d'épaisseur, ce qui correspond à un dépÎt total de 53 grammes de silice en 50 minutes.
Dans cet exemple, les diamÚtres intérieur et extérieur du tube 2 sont respectivement de 19 mm et 25 mm. Dans une premiÚre phase, Le mélange gazeux est composé d'argon pur avec un débit de 100 centimÚtres cube standard par minute (sccm) et un plasma d'argon est formé pendant environ 15 minutes, ce qui permet une .désorption trÚs efficace des parois internes du tube 2. Ensuite, la composition du mélange gazeux réactif est La suivante : 1600 sccm d'oxygÚne, 400 sccm de SiCl4 et entre O et 60 sccm de GeCL4. La pression est maintenue à 400 Pa environ et la puissance incidente est modulée de 250 à 2500 W, ce qui permet d'obtenir une longueur de dépÎt utile de 50 cm.La forme du signal de modulation est telle que la vitesse de déplacement de L'extrémité de La colonne de plasma soit constante
La durée d'un cycle, correspondant au dépÎt de deux couches, est de 5 secondes. On forme 1200 couches d'environ 0,5 pm d'épaisseur, ce qui correspond à un dépÎt total de 53 grammes de silice en 50 minutes.
La perte de charge est ainsi inférieure à 5X sur la longueur du dépÎt durant tout ce dépÎt. On utilise un four électrique tubulaire dont La température est de 11000C. Lorsque la phase de dépÎt est terminée, le tube est transféré sur un tour de verrier pour effectuer une opération de rétreint. La préforme obtenue a un diamÚtre de 18 mm et une longueur de 50 cm, c'està -dire une capacité kilométrique de 10 km de fibres ayant un diamÚtre extérieur de 125 microns et un dia métre de coeur de 50 microns.
En ce qui concerne Les exemples 2, 3 et 4, l'objectif fixé est la combinaison d'une vitesse de dépÎt trÚs élevée et d'une forte capacité kiLométri- que.
Sur La figure 5, on a reprĂ©sentĂ© l'Ă©volution de paramĂštres du dĂ©pĂŽt en fonction du temps de dĂ©pĂŽt t exprimĂ© en minutes. Les paramĂštres sont Les suivants - la vitesse de fabrication Vf exprimĂ©e en kĂlometres
de fibres par heure - le débit total du flux gazeux Q exprimé en litres
standard par minute (slm) - le diamÚtre interne du tube R exprimé en millimÚtres - la vitesse moyenne de dépÎt Vd à L'intrant considéré
exprimée en grammes par minute - La capacité kilométrique C p de la préforme finale
exprimée en kilomÚtres.
de fibres par heure - le débit total du flux gazeux Q exprimé en litres
standard par minute (slm) - le diamÚtre interne du tube R exprimé en millimÚtres - la vitesse moyenne de dépÎt Vd à L'intrant considéré
exprimée en grammes par minute - La capacité kilométrique C p de la préforme finale
exprimée en kilomÚtres.
Les conditions utilisées sont les suivantes :
- au départ le tube a un diamÚtre interne de 25 mm et un diamÚtre extérieur de 30 mm
- débit initial total : Q0=6 slm
- excĂšs d'oxygĂšne : 3
- débit de GeCL4 pour une ouverture numérique de 0,20 : 0 à 15X du débit de SiCL4
- débit de GeCl4 pour une ouverture numérique de 0,23 : 0 à 18X du débit de SiCl4
- pression interne : constante et Ă©gale Ă 103Pa
- perte de charge : 1X sur une longueur de 1 mĂštre
- longueur de dépÎt : 50 cm
- Longueur utile : 40 cm
- puissance -microonde : modulez de 500 Ă 3000 W
- fréquence de modulation : 0,05 Hz
- temps de mise en place du tube : 15 mn
- durée de La décharge préalable en argon pur : 15 mn
EXEMPLE 2
La vitesse de fabrication maximale est recherchée au niveau de la phase de dépÎt pour des fibres ayant un diamÚtre de coeur de 50 microns un diamÚtre de gaine de 125 microns et une ouverture numérique de 0,20. Selon la figure 5, la durée de l'opéra- tion de dépÎt est de 60 mn d'ou résulte une capacité kilométrique utile de 32 kilomÚtres et une vitesse de fabrication de 27 kiLomÚtres par heure. On a déposé 360 couches éLémentaires d'une épaisseur moyenne de 6 microns, avec une vitesse moyenne de dépÎt de 3 grammes par minute.
- au départ le tube a un diamÚtre interne de 25 mm et un diamÚtre extérieur de 30 mm
- débit initial total : Q0=6 slm
- excĂšs d'oxygĂšne : 3
- débit de GeCL4 pour une ouverture numérique de 0,20 : 0 à 15X du débit de SiCL4
- débit de GeCl4 pour une ouverture numérique de 0,23 : 0 à 18X du débit de SiCl4
- pression interne : constante et Ă©gale Ă 103Pa
- perte de charge : 1X sur une longueur de 1 mĂštre
- longueur de dépÎt : 50 cm
- Longueur utile : 40 cm
- puissance -microonde : modulez de 500 Ă 3000 W
- fréquence de modulation : 0,05 Hz
- temps de mise en place du tube : 15 mn
- durée de La décharge préalable en argon pur : 15 mn
EXEMPLE 2
La vitesse de fabrication maximale est recherchée au niveau de la phase de dépÎt pour des fibres ayant un diamÚtre de coeur de 50 microns un diamÚtre de gaine de 125 microns et une ouverture numérique de 0,20. Selon la figure 5, la durée de l'opéra- tion de dépÎt est de 60 mn d'ou résulte une capacité kilométrique utile de 32 kilomÚtres et une vitesse de fabrication de 27 kiLomÚtres par heure. On a déposé 360 couches éLémentaires d'une épaisseur moyenne de 6 microns, avec une vitesse moyenne de dépÎt de 3 grammes par minute.
La phase de dépÎt est suivie d'un rétreint et l'ajustement du rapport du diamÚtre de coeur au diamÚtre de gaine est obtenu par un dépÎt de silice minérale en grains au moyen d'une torche à plasma. Le diamÚtre final de la préforme avant fibrage est de 35,3 millimÚtres pour une longueur de 40 cm.
EXEMPLE 3
Lorsque des préformes de capacité kilométrique plus importante sont désirées, notamment dans
L'intention d'augmenter la vitesse de fabrication de la phase 11fibrage111 un temps de dépÎt plus long est nécessaire. La vitesse de fabrication de la phase "dépÎt" est donc plus faible.
Lorsque des préformes de capacité kilométrique plus importante sont désirées, notamment dans
L'intention d'augmenter la vitesse de fabrication de la phase 11fibrage111 un temps de dépÎt plus long est nécessaire. La vitesse de fabrication de la phase "dépÎt" est donc plus faible.
On réalise ainsi une préforme équivalant à 50 kilomÚtres de fibre ayant un diamÚtre de coeur de 50 microns, un diamÚtre de gaine de 125 microns et une ouverture numérique de 0,20 en 130 minutes, ce qui correspond à une vitesse de fabrication de 23 kilomÚtres par heure pour une vitesse moyenne de dépÎt de 2 grammes par minute, une épaisseur totale déposée de 4 mm comprenant 750 couches et un diamÚtre final aprÚs rétreint et recharge externe de silice, de 44,2 mm pour une longueur de 40 cm.
EXEMPLE 4
Des fibres ayant une ouverture numĂ©rique importante (0,23), un diamĂštre de coeur de 85 microns et un diamĂštre de gaine de 125 microns peuvent ĂȘtre Ă©ga Lement obtenues mais leur vitesse de fabrication est cependant infĂ©rieure Ă celle qui es-t considĂ©rĂ©e dans les exemples 2 et 3. La durĂ©e du dĂ©pĂŽt est de 90 minutes ce qui correspond Ă une vitesse moyenne de dĂ©pĂŽt de 2,5 grammes par minutes, 450 couches Ă©LĂ©mentaires, une Ă©paisseur totale dĂ©posĂ©e de 2,25 mm, une Longueur utile de 40 cm et une capacitĂ© kilomĂ©trique de 13 ki lomĂ©tres de fibre ayant un diamĂštre de coeur de 85 microns et un diamĂštre de gaine de 125 microns. La vitesse de fabrication rĂ©sultante est de 8,5 kilomĂštres par heure. Le diamĂštre de la prĂ©forme finale aprĂšs rĂ©treint est de 22,5 millimĂštres. L'opĂ©ration de recharge extĂ©rieure n'est pas utile dans ce cas puisque, dans l'exemple 4, le rapport des diamĂštres de coeur et de gaine est exact, c'est-Ă -dire que le rapport du diamĂštre de coeur au diamĂštre de gaine obtenu dans la prĂ©forme correspond au rapport 85/125 voulu pour La fibre finale.et qu'il n'y a donc pas besoin de rĂ©ajustement.
Des fibres ayant une ouverture numĂ©rique importante (0,23), un diamĂštre de coeur de 85 microns et un diamĂštre de gaine de 125 microns peuvent ĂȘtre Ă©ga Lement obtenues mais leur vitesse de fabrication est cependant infĂ©rieure Ă celle qui es-t considĂ©rĂ©e dans les exemples 2 et 3. La durĂ©e du dĂ©pĂŽt est de 90 minutes ce qui correspond Ă une vitesse moyenne de dĂ©pĂŽt de 2,5 grammes par minutes, 450 couches Ă©LĂ©mentaires, une Ă©paisseur totale dĂ©posĂ©e de 2,25 mm, une Longueur utile de 40 cm et une capacitĂ© kilomĂ©trique de 13 ki lomĂ©tres de fibre ayant un diamĂštre de coeur de 85 microns et un diamĂštre de gaine de 125 microns. La vitesse de fabrication rĂ©sultante est de 8,5 kilomĂštres par heure. Le diamĂštre de la prĂ©forme finale aprĂšs rĂ©treint est de 22,5 millimĂštres. L'opĂ©ration de recharge extĂ©rieure n'est pas utile dans ce cas puisque, dans l'exemple 4, le rapport des diamĂštres de coeur et de gaine est exact, c'est-Ă -dire que le rapport du diamĂštre de coeur au diamĂštre de gaine obtenu dans la prĂ©forme correspond au rapport 85/125 voulu pour La fibre finale.et qu'il n'y a donc pas besoin de rĂ©ajustement.
Claims (13)
1. ProcĂ©dĂ© de fabrication d'une prĂ©forme pour fibres optiques, comprenant une Ă©tape de formation d'un revĂȘtement vitreux sur la face interne d'un tube en verre (2), Ă©tape dans laquelle on fait passer continĂ»ment, d'une extrĂ©mitĂ© Ă L'autre du tube, un mĂ©
Lange de composés gazeux ionisables et aptes à donner naissance au revetement par réaction entre eux, la pression du mélange dans le tube étant maintenue inférieure à 104Pa environ, tout en formant dans Le tube, à L'aide d'un coupleur hyperfréquence (16), une colonne de plasma (14) destinée à activer la réaction, et en réaLisant un déplacement relatif d'au moins une extrémité de la colonne de plasma par rapport au t-ube, procédé caractérisé en ce que Le coupLeur hyperfrequence est apte à injecter une onde progressive de surface dans La coLonne de plasma.
2. ProcĂ©dĂ© selon la revendication 1, carac tĂ©risĂ© en ce que le coup leur hyperfrĂ©quence (16) est maintenu fixe par rapport au tube (2), Ă L'extrĂ©mitĂ© de celui-ci d'oĂč sort le mĂ©Lange, et en ce que l'on fait varier continĂ»ment et progressivement La puissance Ă©LectromagnĂ©tique fournie au coupleur hyperfrĂ©quence de façon que L'extrĂ©mitĂ© de La colonne de plasma baLaye le tube.
3. Procédé selon la revendication 2, carac terisé en ce que la puissance fournie au coup Leur hyperfréquence (16) est modulée entre deux vaLeurs comprises entre 0 et 3 kW environ.
4. Procédé seLon L'une quelconque des revendications 2 et 3, caractérisé en ce que la fréquence de modulation est comprise entre 0 et 10 kHz envir-on.
5 Procédé selon la revendication 1, caractérisé en ce que le coup Leur hyperfréquence (16) est animé d'un mouvement relatif par rapport au tube (2) et en ce que la puissance électromagnét-ique fournie au coup Leur hyperfréquence est maintenue sensiblement constante -
6.ProcĂ©dĂ© seLon l'une quelconque des revendications 1 Ă 5, caractĂ©risĂ© en ce que le mĂ©lange comprend de l'oxygĂšne, un tĂ©trahalogenure de silicium et, pendant au moins une partie de L'Ă©tape de formation du revĂȘtement, au moins un corps choisi dans te groupe comprenant le fluor, les composĂ©s du fluor et Les ha logĂ©nures aptes Ă produire un -dopant pour La silice.
7. Procédé selon la revendication 6, caractérisé en ce que te mélange comporte un excÚs d'oxygÚ- ne par rapport au tétrahalogénure et audit corps, cet excÚs étant maintenu constant, dans un rapport compris entre 2 et 10 environ.
8. Procédé selon L'une quelconque des-revendications 6 et 7, caractérisé en ce que Le mélange comprend en outre un gaz rare.
9. ProcĂ©dĂ© selon L'une quelconque des revendications 1 Ă 8, caractĂ©risĂ© en ce que l'intĂ©rieur-du tube (2) est balayĂ© par un courant d'un gaz rare, prĂ©alablement Ă L'Ă©tape de formation du revĂȘtement.
10. Procédé selon L'une quelconque des revendications 1 à 9, caractérisé en ce que -le tube (2) est maintenu à une température au moins égale à 10000C environ.
11. ProcĂ©dĂ© seLon L'une quelconque des revendications 1 Ă 10, caractĂ©risĂ© en ce que la pression moyenne dans le tube (2) est maintenue constante pendant L'Ă©tape de formation du revĂȘtement.
12. Dispositif- pour la mise en oeuvre du procĂ©dĂ© selon ta revendication 1, ce dispositif Ă©tant destinĂ© Ă former un revĂȘtement vitreux sur La face interne d'un tube en verre (2), ce dispositif compre nuant - des moyens (4, 8) pour faire passer continĂ»ment,
d'une extrémité à L'autre du tube, un mélange de
composés gazeux ionisables et aptes à donner nais
sance au revĂȘtement par rĂ©action entre eux, la pres
sion du mélange. dans Le tube étant maintenue infé
rieure à 104Pa environ, - un coupLeur hyperfréquence (16) prévu pour former
dans le tube une colonne de plasma (14) destinĂ©e Ă
activer la réaction, et - des moyens (18, 21) pour réaliser un déplacement re
latif d'au moins une extrémité de la colonne de
plasma par rapport au tube, caractérisé eà ce que le coup Leur hyperfréquence (16) est apte à injecter une onde progressive de surface dans la colonne de plasma.
13. Dispositif selon la revendication 12, caractĂ©risĂ© en ce que Le coupleur hyperfrĂ©quence (16) est fixe et destinĂ© Ă recevoir L'extrĂ©mitĂ© du tube d'oĂč sort le mĂ©lange et en ce que les moyens pour effectuer le dĂ©placement retatif comprennent un gĂ©nĂ©rateur de micro-ondes Ă puissance variable (18), prĂ©vu pour fournir une puissance Ă©LectromagnĂ©tique au coupLeur hyperfrĂ©quence et pour faire varier continĂ»ment et progressivement cette puissance, de façon que l'ex- trĂ©mitĂ© de la colonne de plasma balaye Le tube.
14. Dispositif selon la revendication 12, caractérisé en ce que les moyens pour effectuer le déplacement relatif comprennent : - un générateur de micro-ondes (18) pour alimenter le
coup Leur hyperfréquence (16), et - des moyens (21) de déplacement reLatif du coupleur
hyperfréquence par rapport au tube (2), suivant
l'axe (50) de ce dernier.
15. Dispositif selon L'une quelconque des revendications 12 Ă 14, caractĂ©risĂ© en ce qu'il com prend en outre des moyens (44, 46) de rĂ©gulation de pression dans le tube, prĂ©vus pour maintenir constantes la pression moyenne et/ou la perte de charge dans ce tube pendant L'Ă©tape de formation du revĂȘtement.
16. Préforme pour fibres optiques, caractérisée en ce qu'elle est obtenue par le procédé selon L'une quelconque des revendications 1 à 11.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8419697A FR2575151B1 (fr) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | Procede et dispositif de fabrication de preformes pour fibres optiques, et preformes obtenues par ce procede |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| FR2575151A1 true FR2575151A1 (fr) | 1986-06-27 |
| FR2575151B1 FR2575151B1 (fr) | 1991-08-30 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| FR8419697A Expired - Lifetime FR2575151B1 (fr) | 1984-12-21 | 1984-12-21 | Procede et dispositif de fabrication de preformes pour fibres optiques, et preformes obtenues par ce procede |
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|---|---|
| FR (1) | FR2575151B1 (fr) |
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