FI125696B - Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla - Google Patents
Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla Download PDFInfo
- Publication number
- FI125696B FI125696B FI20135916A FI20135916A FI125696B FI 125696 B FI125696 B FI 125696B FI 20135916 A FI20135916 A FI 20135916A FI 20135916 A FI20135916 A FI 20135916A FI 125696 B FI125696 B FI 125696B
- Authority
- FI
- Finland
- Prior art keywords
- seismic mass
- conductor
- structure according
- gyroscope structure
- microelectromechanical gyroscope
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5705—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis
- G01C19/5712—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using masses driven in reciprocating rotary motion about an axis the devices involving a micromechanical structure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
- G01C19/5733—Structural details or topology
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B81—MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
- B81B—MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
- B81B7/00—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems
- B81B7/02—Microstructural systems; Auxiliary parts of microstructural devices or systems containing distinct electrical or optical devices of particular relevance for their function, e.g. microelectro-mechanical systems [MEMS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5607—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating tuning forks
- G01C19/5621—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating tuning forks the devices involving a micromechanical structure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5642—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating bars or beams
- G01C19/5656—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using vibrating bars or beams the devices involving a micromechanical structure
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5719—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces using planar vibrating masses driven in a translation vibration along an axis
- G01C19/5733—Structural details or topology
- G01C19/5755—Structural details or topology the devices having a single sensing mass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C19/00—Gyroscopes; Turn-sensitive devices using vibrating masses; Turn-sensitive devices without moving masses; Measuring angular rate using gyroscopic effects
- G01C19/56—Turn-sensitive devices using vibrating masses, e.g. vibratory angular rate sensors based on Coriolis forces
- G01C19/5776—Signal processing not specific to any of the devices covered by groups G01C19/5607 - G01C19/5719
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01P—MEASURING LINEAR OR ANGULAR SPEED, ACCELERATION, DECELERATION, OR SHOCK; INDICATING PRESENCE, ABSENCE, OR DIRECTION, OF MOVEMENT
- G01P15/00—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration
- G01P15/02—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses
- G01P15/08—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values
- G01P15/125—Measuring acceleration; Measuring deceleration; Measuring shock, i.e. sudden change of acceleration by making use of inertia forces using solid seismic masses with conversion into electric or magnetic values by capacitive pick-up
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Gyroscopes (AREA)
Claims (19)
1. Mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, joka käsittää: seismisen massan (200); runkoelementin (202); jousirakenteen (204), joka ripustaa seismisen massan runkoelementtiin mahdollistaakseen primäärivärähtelyn, jolloin ainakin osa seismisestä massasta on viritetty värähtelemään ensimmäisessä suunnassa, ja sekundäärivärähtelyn, jolloin ainakin osa seismisestä massasta liikkuu toisessa suunnassa, joka on kohtisuorassa ensimmäiseen suuntaan nähden, ja seisminen massa käsittää pintatason, joka jatkuu tasaisesti toisessa suunnassa ja kolmannessa suunnassa, jolloin kolmas suunta on kohtisuorassa ensimmäiseen ja toiseen suuntaan nähden; ensimmäisen johtimen, joka on järjestetty liikkumaan seismisen massan mukana, jolloin ensimmäinen johdin sisältää ensimmäisen pinnan (300), joka jatkuu seismisen massan päällä ensimmäisessä suunnassa ja kolmannessa suunnassa; toisen johtimen, joka on kiinnitetty runkoelementtiin ja joka sisältää toisen pinnan (302), joka jatkuu ensimmäisessä suunnassa ja kolmannessa suunnassapa ensimmäisen pinnan vieressä; tunnettu jännite-elementistä, joka on järjestetty luomaan ensimmäisen pinnan (300) ja toisen pinnan (302) välille potentiaaliero aiheuttaen täten sähköstaattisen voiman toisessa suunnassa, joka sähköstaattinen voima on seismisen massan (200) primäärivärähtelyn moduloima.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäinen pinta (404) jatkuu tasaisesti ensimmäiselle korkeudelle ensimmäisessä suunnassa; toinen pinta (406) jatkuu tasaisesti toiselle korkeudelle ensimmäisessä suunnassa; ensimmäinen korkeus ja toinen korkeus poikkeavat toisistaan.
3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että jännite-elementti käsittää tasavirtaesijännitelähteen, joka on liitetty toiseen johtimeen (402).
4. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että jousirakenne (200) on konfiguroitu mahdollistamaan seismisen massan primäärivärähtelyn maksimiamplitudi ensimmäisessä suunnassa; ensimmäisen korkeuden ja toisen korkeuden välinen ero on yhtä suuri tai suurempi kuin maksimiamplitudi.
5. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-4 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että toinen pinta (406) on korkeampi kuin ensimmäinen pinta (404).
6. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-4 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäinen pinta (404) on korkeampi kuin toinen pinta (406).
7. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-6 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että primäärivärähtely on seismisen massan kiertovärähtelyä akselin ympäri, joka on yhdensuuntainen pintatason kanssa.
8. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-6 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että primäärivärähtely on seismisen massan lineaarista värähtelyä runko-osasta poispäin ja sitä kohti.
9. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-6 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että primäärivärähtely on seismisen massan nurjahdusvärähtelyä (buckling oscillation) kahden yhdensuuntaisen akselin välillä.
10. Jonkin patenttivaatimuksen 1-9 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että pintataso jatkuu suoraviivaisesti toisessa suunnassa ja kolmannessa suunnassa; seisminen massa (800) käsittää kaksi ensimmäistä sivutasoa, jotka jatkuvat tasaisesti ensimmäisessä suunnassa ja kolmannessa suunnassa; seisminen massa (800) käsittää kaksi toista sivutasoa, jotka jatkuvat tasaisesti ensimmäisessä suunnassa ja toisessa suunnassa; primäärivärähtely on seismisen massan kiertovärähtelyä kiertoakselin (820) ympäri, joka on yhdensuuntainen toisten sivutasojen kanssa ja jakaa seismisen massan (800) kahteen osaan; toinen johdin on ensimmäisen sivutason vieressä ja etäisyys toisesta johtimesta kiertoakseliin (820) on suurempi kuin etäisyys ensimmäiseen sivutasoon seismisen massan samassa osassa.
11. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että toinen johdin(402) käsittää vähintään yhden pitkänomaisen palkin, jolloin toisen johtimen pitkänomaisen palkin pinta on linjassa seismisessä massassa olevan ensimmäisen johtimen (400) ensimmäisen pinnan kanssa.
12. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäinen johdin (400) käsittää vähintään yhden pitkänomaisen palkin ja toinen johdin käsittää vähintään yhden pitkänomaisen palkin, jolloin ensimmäisen johtimen pitkänomaisen palkin pinta on linjassa toisen johtimen (402) pitkänomaisen palkin pinnan kanssa.
13. Patenttivaatimuksen 12 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että toinen johdin (402) käsittää kaksi pitkänomaista palkkia, jotka ovat linjassa keskenään ja jotka on kiinnitetty sellaiselle etäisyydelle toisistaan, että niiden väliin voidaan sijoittaa ensimmäisen johtimen (400) pitkänomainen palkki.
14. Patenttivaatimuksen 12 tai 13 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäinen johdin (400) ja toinen johdin (400) käsittävät useita pitkänomaisia palkkeja; ensimmäisen johtimen (400) pitkänomaiset palkit ovat linjassa keskenään ensimmäisen kamparakenteen muodostamiseksi ja toisen johtimen (402) pitkänomaiset palkit ovat linjassa keskenään toisen kamparakenteen muodostamiseksi; ensimmäinen kamparakenne ja toinen kamparakenne on yhdistetty yhdensuuntaisten tasoelektrodien jaksoittaisen kuvion muodostamiseksi.
15. Patenttivaatimuksen 14 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäisen kamparakenteen ja toisen kamparakenteen pitkänomaiset palkit jatkuvat yhdensuuntaisesti kolmannen suunnan kanssa.
16. Patenttivaatimuksen 14 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että ensimmäisen kamparakenteen ja toisen kamparakenteen pitkänomaiset palkit jatkuvat yhdensuuntaisesti toisen suunnan kanssa.
17. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne käsittää ensimmäisen seismisen massan (800) ja toisen seismisen massan (802); jousirakenteen (804), joka ripustaa seismiset massat runkoelementtiin ja mahdollistaa ensimmäisen seismisen massan ja toisen seismisen massan kiertovärähtelyn yhteisen ensiöakselin (820) ympäri, joka yhdensuuntainen toisen suunnan kanssa; jousirakenne (804) mahdollistaa myös ensimmäisen seismisen massan (800) kiertovärähtelyn ensimmäisen havaintoakselin (822) ympäri, joka on yhdensuuntainen ensimmäisen suunnan kanssa; jousirakenne (804) mahdollistaa toisen seismisen massan (802) kiertovärähtelyn toisen tunnistusakselin (824) ympäri, joka on yhdensuuntainen ensimmäisen suunnan kanssa; ensimmäinen tunnistusakseli ja toinen tunnistusakseli ovat nollasta eroavan etäisyyden verran erillään toistaan.
18. Patenttivaatimuksen 17 mukainen mikrosähkömekaaninen gyroskooppirakenne, tunnettu siitä, että sekä ensimmäinen seisminen massa (800) että toinen seisminen massa (802) on varustettu vähintään yhdellä kompensointielementillä, joka muodostuu ensimmäisestä johtimesta, toisesta johtimesta ja jännite-elementistä.
19. Gyroskooppi, joka käsittää jonkin patenttivaatimuksen 1-18 mukaisen mikrosähkömekaanisen gyroskooppirakenteen.
Priority Applications (8)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20135916A FI125696B (fi) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla |
TW103131129A TWI638142B (zh) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | 具有改良的正交補償的陀螺儀結構及陀螺儀 |
KR1020167009487A KR101828771B1 (ko) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | 개선된 직교 보상을 갖는 자이로스코프 구조체 및 자이로스코프 |
EP14776734.7A EP3044541B1 (en) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | Gyroscope structure and gyroscope with improved quadrature compensation |
US14/481,969 US9631928B2 (en) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | Gyroscope structure and gyroscope with improved quadrature compensation |
CN201480050415.8A CN105556242B (zh) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | 具有改进的正交补偿的陀螺仪结构和陀螺仪 |
PCT/IB2014/064375 WO2015036923A1 (en) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | Gyroscope structure and gyroscope with improved quadrature compensation |
JP2016542417A JP6260706B2 (ja) | 2013-09-11 | 2014-09-10 | 改良された直交位相補正を有するジャイロスコープ構造体およびジャイロスコープ |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FI20135916A FI125696B (fi) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla |
FI20135916 | 2013-09-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
FI20135916A FI20135916A (fi) | 2015-03-12 |
FI125696B true FI125696B (fi) | 2016-01-15 |
Family
ID=51626106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
FI20135916A FI125696B (fi) | 2013-09-11 | 2013-09-11 | Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9631928B2 (fi) |
EP (1) | EP3044541B1 (fi) |
JP (1) | JP6260706B2 (fi) |
KR (1) | KR101828771B1 (fi) |
CN (1) | CN105556242B (fi) |
FI (1) | FI125696B (fi) |
TW (1) | TWI638142B (fi) |
WO (1) | WO2015036923A1 (fi) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI127287B (fi) * | 2013-11-01 | 2018-03-15 | Murata Manufacturing Co | Parannetulla kvadratuurikompensaatiolla varustettu mikroelektromekaaninen sensorilaite |
US9612254B2 (en) * | 2014-06-27 | 2017-04-04 | Nxp Usa, Inc. | Microelectromechanical systems devices with improved lateral sensitivity |
DE102014215038A1 (de) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanischer Sensor und Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Sensors |
FI127042B (fi) | 2015-09-09 | 2017-10-13 | Murata Manufacturing Co | Mikroelektromekaanisen laitteen elektrodi |
CN106500732A (zh) * | 2016-12-22 | 2017-03-15 | 四川纳杰微电子技术有限公司 | 一种微机械陀螺仪正交误差补偿结构 |
US10466067B2 (en) * | 2017-01-19 | 2019-11-05 | The Boeing Company | System and method for gyro rate computation for a Coriolis Vibrating Gyroscope |
FR3065800B1 (fr) * | 2017-04-27 | 2019-08-02 | Safran | Resonateur configure pour etre integre a un capteur angulaire inertiel |
CN107082405B (zh) * | 2017-05-26 | 2023-08-18 | 深迪半导体(绍兴)有限公司 | 一种mems器件结构 |
DE102017213815A1 (de) * | 2017-08-08 | 2019-02-14 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor mit einem Substrat, Herstellungsverfahren für einen Drehratensensor |
JP7225817B2 (ja) * | 2019-01-17 | 2023-02-21 | セイコーエプソン株式会社 | 角速度センサー、慣性計測装置、電子機器および移動体 |
EP3792637B1 (en) * | 2019-09-11 | 2023-05-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Low-noise multi-axis mems accelerometer |
US11377346B2 (en) | 2019-09-11 | 2022-07-05 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Low-noise multi axis MEMS accelerometer |
US11994390B2 (en) | 2022-02-09 | 2024-05-28 | Honeywell International Inc. | Vibratory sensor with electronic balancing |
CN114397696B (zh) * | 2022-03-23 | 2022-06-21 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 基于低功耗mems传感器的地震采集***和传感器 |
Family Cites Families (36)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5600065A (en) * | 1995-10-25 | 1997-02-04 | Motorola, Inc. | Angular velocity sensor |
JP3039364B2 (ja) * | 1996-03-11 | 2000-05-08 | 株式会社村田製作所 | 角速度センサ |
US6250156B1 (en) * | 1996-05-31 | 2001-06-26 | The Regents Of The University Of California | Dual-mass micromachined vibratory rate gyroscope |
US5992233A (en) * | 1996-05-31 | 1999-11-30 | The Regents Of The University Of California | Micromachined Z-axis vibratory rate gyroscope |
JP3525862B2 (ja) * | 2000-05-22 | 2004-05-10 | トヨタ自動車株式会社 | センサ素子及びセンサ装置 |
JP2001336936A (ja) * | 2000-05-29 | 2001-12-07 | Alps Electric Co Ltd | ジャイロスコープおよび入力装置 |
JP3649090B2 (ja) * | 2000-06-16 | 2005-05-18 | 株式会社村田製作所 | 振動ジャイロ用振動子及びそれを用いた振動ジャイロ及びそれを用いた電子装置 |
US6742389B2 (en) * | 2001-01-24 | 2004-06-01 | The Regents Of The University Of Michigan | Filter-based method and system for measuring angular speed of an object |
DE60120921T2 (de) * | 2001-04-27 | 2007-02-01 | Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza | Aus Halbleitermaterial hergestellter integrierter Kreisel |
US6845669B2 (en) * | 2001-05-02 | 2005-01-25 | The Regents Of The University Of California | Non-resonant four degrees-of-freedom micromachined gyroscope |
US20030033850A1 (en) * | 2001-08-09 | 2003-02-20 | Challoner A. Dorian | Cloverleaf microgyroscope with electrostatic alignment and tuning |
US6611168B1 (en) * | 2001-12-19 | 2003-08-26 | Analog Devices, Inc. | Differential parametric amplifier with physically-coupled electrically-isolated micromachined structures |
FR2846740B1 (fr) * | 2002-11-05 | 2005-02-04 | Thales Sa | Capteur gyrometrique micro-usine, a detection dans le plan de la plaque usinee |
DE10320725A1 (de) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanischer Bewegungssensor |
US7036372B2 (en) * | 2003-09-25 | 2006-05-02 | Kionix, Inc. | Z-axis angular rate sensor |
US7043985B2 (en) * | 2004-01-13 | 2006-05-16 | Georgia Tech Research Corporation | High-resolution in-plane tuning fork gyroscope and methods of fabrication |
WO2005103621A1 (en) * | 2004-04-14 | 2005-11-03 | Analog Devices, Inc. | Coupling apparatus for inertial sensors |
KR100652952B1 (ko) * | 2004-07-19 | 2006-12-06 | 삼성전자주식회사 | 커플링 스프링을 구비한 멤스 자이로스코프 |
EP1624286B1 (en) * | 2004-08-03 | 2017-10-04 | STMicroelectronics Srl | Micro-electro-mechanical sensor with force feedback loop |
FI116544B (fi) * | 2004-12-31 | 2005-12-15 | Vti Technologies Oy | Värähtelevä mikromekaaninen kulmanopeusanturi |
US7213458B2 (en) * | 2005-03-22 | 2007-05-08 | Honeywell International Inc. | Quadrature reduction in MEMS gyro devices using quad steering voltages |
US7240552B2 (en) * | 2005-06-06 | 2007-07-10 | Bei Technologies, Inc. | Torsional rate sensor with momentum balance and mode decoupling |
US7461552B2 (en) * | 2006-10-23 | 2008-12-09 | Custom Sensors & Technologies, Inc. | Dual axis rate sensor |
WO2008072008A1 (en) | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Atlantic Inertial Systems Limited | Improvements in or relating to a gyroscope |
US8141424B2 (en) * | 2008-09-12 | 2012-03-27 | Invensense, Inc. | Low inertia frame for detecting coriolis acceleration |
US8047075B2 (en) * | 2007-06-21 | 2011-11-01 | Invensense, Inc. | Vertically integrated 3-axis MEMS accelerometer with electronics |
US7950281B2 (en) * | 2007-02-28 | 2011-05-31 | Infineon Technologies Ag | Sensor and method for sensing linear acceleration and angular velocity |
GB0720412D0 (en) | 2007-10-18 | 2007-11-28 | Melexis Nv | Combined mems accelerometer and gyroscope |
FI122397B (fi) * | 2008-04-16 | 2011-12-30 | Vti Technologies Oy | Värähtelevä mikromekaaninen kulmanopeusanturi |
DE102008043796B4 (de) * | 2008-11-17 | 2023-12-21 | Robert Bosch Gmbh | Drehratensensor |
ITTO20091042A1 (it) * | 2009-12-24 | 2011-06-25 | St Microelectronics Srl | Giroscopio integrato microelettromeccanico con migliorata struttura di azionamento |
EP2378246A1 (en) * | 2010-04-16 | 2011-10-19 | SensoNor Technologies AS | MEMS Structure for an Angular Rate Sensor |
TWI411766B (zh) * | 2010-04-27 | 2013-10-11 | Univ Nat Chiao Tung | Uniaxial Control Input Gyroscope System with Flaw Compensation. |
JP2013108929A (ja) * | 2011-11-24 | 2013-06-06 | Mitsubishi Precision Co Ltd | 高精度化された振動型ジャイロ |
DE102011056971A1 (de) * | 2011-12-23 | 2013-06-27 | Maxim Integrated Products, Inc. | Mikromechanischer Coriolis-Drehratensensor |
US20140144232A1 (en) * | 2012-11-28 | 2014-05-29 | Yizhen Lin | Spring for microelectromechanical systems (mems) device |
-
2013
- 2013-09-11 FI FI20135916A patent/FI125696B/fi active IP Right Grant
-
2014
- 2014-09-10 EP EP14776734.7A patent/EP3044541B1/en active Active
- 2014-09-10 US US14/481,969 patent/US9631928B2/en active Active
- 2014-09-10 KR KR1020167009487A patent/KR101828771B1/ko active IP Right Grant
- 2014-09-10 CN CN201480050415.8A patent/CN105556242B/zh active Active
- 2014-09-10 WO PCT/IB2014/064375 patent/WO2015036923A1/en active Application Filing
- 2014-09-10 JP JP2016542417A patent/JP6260706B2/ja active Active
- 2014-09-10 TW TW103131129A patent/TWI638142B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3044541A1 (en) | 2016-07-20 |
TWI638142B (zh) | 2018-10-11 |
FI20135916A (fi) | 2015-03-12 |
US9631928B2 (en) | 2017-04-25 |
US20150082885A1 (en) | 2015-03-26 |
EP3044541B1 (en) | 2018-02-28 |
CN105556242A (zh) | 2016-05-04 |
TW201518686A (zh) | 2015-05-16 |
CN105556242B (zh) | 2018-09-04 |
WO2015036923A1 (en) | 2015-03-19 |
KR101828771B1 (ko) | 2018-02-13 |
JP2016530541A (ja) | 2016-09-29 |
JP6260706B2 (ja) | 2018-01-17 |
KR20160052732A (ko) | 2016-05-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
FI125696B (fi) | Gyroskooppirakenne ja gyroskooppi parannetulla kvadratuurikompensaatiolla | |
US9452921B2 (en) | Gyroscope structure and gyroscope | |
US10365103B2 (en) | Gyroscope structure and gyroscope | |
US8689632B2 (en) | Fully decoupled lateral axis gyroscope with thickness-insensitive Z-axis spring and symmetric teeter totter sensing element | |
US9897447B2 (en) | Quadrature compensation | |
JP2016507731A (ja) | マイクロメカニカルz軸ジャイロスコープ | |
JP2013108929A (ja) | 高精度化された振動型ジャイロ | |
FI126557B (fi) | Parannettu gyroskooppirakenne ja gyroskooppi |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG | Patent granted |
Ref document number: 125696 Country of ref document: FI Kind code of ref document: B |