ES2094433T3 - Dispositivo para evitar descargas en instalaciones de atomizacion en vacio. - Google Patents
Dispositivo para evitar descargas en instalaciones de atomizacion en vacio.Info
- Publication number
- ES2094433T3 ES2094433T3 ES93113713T ES93113713T ES2094433T3 ES 2094433 T3 ES2094433 T3 ES 2094433T3 ES 93113713 T ES93113713 T ES 93113713T ES 93113713 T ES93113713 T ES 93113713T ES 2094433 T3 ES2094433 T3 ES 2094433T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- facilities
- discharge
- prevent discharges
- vacuum atomization
- discharges
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0203—Protection arrangements
- H01J2237/0206—Extinguishing, preventing or controlling unwanted discharges
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Catching Or Destruction (AREA)
- Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)
Abstract
LA INVENCION SE REFIERE A UN DISPOSITIVO PARA IMPEDIR DESCARGAS EN INSTALACIONES DE PULVERIZACION AL VACIO. ESTE DISPOSITIVO CONTIENE UN GENERADOR DE IMPULSOS (12), EL CUAL LLEVA EL CATODO (5) DE LA INSTALACION DE PULVERIZACION A INTERVALOS PREFIJADOS A POTENCIAL POSITIVO, POR LO CUAL TIENE LUGAR UNA DESCARGA DE CAPAS SOBRE UN BLANCO (7). ESTA DESCARGA IMPIDE LA FORMACION DE TENSIONES ELEVADAS QUE PUEDEN CONDUCIR A UNA DESCARGA.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4233720A DE4233720C2 (de) | 1992-10-07 | 1992-10-07 | Einrichtung für die Verhinderung von Überschlägen in Vakuum-Zerstäubungsanlagen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
ES2094433T3 true ES2094433T3 (es) | 1997-01-16 |
Family
ID=6469856
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
ES93113713T Expired - Lifetime ES2094433T3 (es) | 1992-10-07 | 1993-08-27 | Dispositivo para evitar descargas en instalaciones de atomizacion en vacio. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6440281B1 (es) |
EP (1) | EP0591675B1 (es) |
JP (1) | JP3516305B2 (es) |
DE (2) | DE4233720C2 (es) |
ES (1) | ES2094433T3 (es) |
Families Citing this family (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69322404T2 (de) * | 1992-09-30 | 1999-04-29 | Advanced Energy Ind Inc Fort C | Topographisch genaues duennfilm-beschichtungssystem |
US6217717B1 (en) | 1992-12-30 | 2001-04-17 | Advanced Energy Industries, Inc. | Periodically clearing thin film plasma processing system |
US5427669A (en) * | 1992-12-30 | 1995-06-27 | Advanced Energy Industries, Inc. | Thin film DC plasma processing system |
US5718813A (en) * | 1992-12-30 | 1998-02-17 | Advanced Energy Industries, Inc. | Enhanced reactive DC sputtering system |
US5651865A (en) * | 1994-06-17 | 1997-07-29 | Eni | Preferential sputtering of insulators from conductive targets |
WO1996031899A1 (en) * | 1995-04-07 | 1996-10-10 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adjustable energy quantum thin film plasma processing system |
US5576939A (en) * | 1995-05-05 | 1996-11-19 | Drummond; Geoffrey N. | Enhanced thin film DC plasma power supply |
DE19610012B4 (de) * | 1996-03-14 | 2005-02-10 | Unaxis Deutschland Holding Gmbh | Verfahren zur Stabilisierung eines Arbeitspunkts beim reaktiven Zerstäuben in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre |
CA2205817C (en) * | 1996-05-24 | 2004-04-06 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Treatment method in glow-discharge plasma and apparatus thereof |
US5897753A (en) * | 1997-05-28 | 1999-04-27 | Advanced Energy Industries, Inc. | Continuous deposition of insulating material using multiple anodes alternated between positive and negative voltages |
DE19740793C2 (de) * | 1997-09-17 | 2003-03-20 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Beschichtung von Oberflächen mittels einer Anlage mit Sputterelektroden und Verwendung des Verfahrens |
DE19826297A1 (de) * | 1998-06-12 | 1999-12-16 | Aurion Anlagentechnik Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Vermeidung von Überschlägen bei Sputterprozessen durch eine aktive Arcunterdrückung |
US6818103B1 (en) | 1999-10-15 | 2004-11-16 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for substrate biasing in multiple electrode sputtering systems |
DE10015244C2 (de) | 2000-03-28 | 2002-09-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Schaltungsanordnung zur pulsförmigen Energieeinspeisung in Magnetronentladungen |
SE525231C2 (sv) * | 2001-06-14 | 2005-01-11 | Chemfilt R & D Ab | Förfarande och anordning för att alstra plasma |
US9997338B2 (en) * | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
US7305311B2 (en) * | 2005-04-22 | 2007-12-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc detection and handling in radio frequency power applications |
US20080000768A1 (en) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Stimson Bradley O | Electrically Coupled Target Panels |
US8217299B2 (en) * | 2007-02-22 | 2012-07-10 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc recovery without over-voltage for plasma chamber power supplies using a shunt switch |
KR101046520B1 (ko) | 2007-09-07 | 2011-07-04 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 내부 챔버 상의 부산물 막 증착을 제어하기 위한 pecvd 시스템에서의 소스 가스 흐름 경로 제어 |
WO2009040406A2 (de) | 2007-09-25 | 2009-04-02 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und anordnung zum redundanten anoden-sputtern mit einer dual-anoden-anordnung |
JP5500794B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2014-05-21 | 株式会社アルバック | 電源装置 |
JP5429772B2 (ja) * | 2008-06-30 | 2014-02-26 | 株式会社アルバック | 電源装置 |
EP2157205B1 (en) * | 2008-07-29 | 2011-11-30 | Sulzer Metaplas GmbH | A high-power pulsed magnetron sputtering process as well as a high-power electrical energy source |
US8044594B2 (en) * | 2008-07-31 | 2011-10-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | Power supply ignition system and method |
US8395078B2 (en) | 2008-12-05 | 2013-03-12 | Advanced Energy Industries, Inc | Arc recovery with over-voltage protection for plasma-chamber power supplies |
EP2219205B1 (en) * | 2009-02-17 | 2014-06-04 | Solvix GmbH | A power supply device for plasma processing |
DE102010031568B4 (de) | 2010-07-20 | 2014-12-11 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Arclöschanordnung und Verfahren zum Löschen von Arcs |
US8552665B2 (en) | 2010-08-20 | 2013-10-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Proactive arc management of a plasma load |
US20160268127A1 (en) * | 2015-03-13 | 2016-09-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Oxide and Manufacturing Method Thereof |
SG10201608814YA (en) | 2015-10-29 | 2017-05-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | Semiconductor device and method for manufacturing the semiconductor device |
US10566177B2 (en) * | 2016-08-15 | 2020-02-18 | Applied Materials, Inc. | Pulse shape controller for sputter sources |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4464223A (en) * | 1983-10-03 | 1984-08-07 | Tegal Corp. | Plasma reactor apparatus and method |
US4693805A (en) * | 1986-02-14 | 1987-09-15 | Boe Limited | Method and apparatus for sputtering a dielectric target or for reactive sputtering |
DE3700633C2 (de) * | 1987-01-12 | 1997-02-20 | Reinar Dr Gruen | Verfahren und Vorrichtung zum schonenden Beschichten elektrisch leitender Gegenstände mittels Plasma |
US5126033A (en) * | 1990-12-31 | 1992-06-30 | Leybold Aktiengesellschaft | Process and apparatus for reactively coating a substrate |
DE4127317C2 (de) * | 1991-08-17 | 1999-09-02 | Leybold Ag | Einrichtung zum Behandeln von Substraten |
DE4202425C2 (de) * | 1992-01-29 | 1997-07-17 | Leybold Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten eines Substrats, insbesondere mit elektrisch nichtleitenden Schichten |
-
1992
- 1992-10-07 DE DE4233720A patent/DE4233720C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-08-27 DE DE59303309T patent/DE59303309D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-27 ES ES93113713T patent/ES2094433T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1993-08-27 EP EP93113713A patent/EP0591675B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-10-07 JP JP25196193A patent/JP3516305B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1995
- 1995-02-03 US US08/384,202 patent/US6440281B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4233720C2 (de) | 2001-05-17 |
DE59303309D1 (de) | 1996-08-29 |
JPH06220629A (ja) | 1994-08-09 |
JP3516305B2 (ja) | 2004-04-05 |
EP0591675B1 (de) | 1996-07-24 |
US6440281B1 (en) | 2002-08-27 |
DE4233720A1 (de) | 1994-04-14 |
EP0591675A1 (de) | 1994-04-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
ES2094433T3 (es) | Dispositivo para evitar descargas en instalaciones de atomizacion en vacio. | |
ES2123920T3 (es) | Dispositivo de pulverizacion de un liquido, en particular de un liquido de alta viscosidad, con ayuda de al menos un gas auxiliar. | |
ES2163738T3 (es) | Composiciones de revestimiento de fosfato de zinc que contienen tungsteno y que emplean aceleradores. | |
ES2016985B3 (es) | Instalacion para la proyeccion de un producto de revestimiento tal como por ejemplo una pintura y, en particular, instalacion para la proyeccion electrostatica de pintura a base de agua. | |
ES2195970T3 (es) | L-ribavirina y usos de la misma. | |
ES2127475T3 (es) | Accionador para aerosol. | |
ES2123623T3 (es) | Sistema de refuerzo para un revestimiento de mastique intumescente para proteccion contra el fuego. | |
DE69408502D1 (de) | Plasmaspritzpistole und deren Anode | |
MX9306562A (es) | Recubrimiento compuesto de color-mas-transparenciaque emplea una composicion de polimero con grupo funcional carbamato. | |
CA2189502A1 (en) | Aqueous spray composition | |
ES2136646T3 (es) | Procedimientos y aparatos para suministrar materiales de revestimiento conductores electricos desde uno o mas dispensadores. | |
GT199800177A (es) | Combinacion eficaz para el tratamiento de la impotencia . | |
ATE533175T1 (de) | Korona-entladungslampen | |
ES2097029T3 (es) | Composicion de revestimiento de caucho fluorado. | |
AR019206A1 (es) | Un metodo para mejorar el rociado de gotas de liquido desde un rociador sobre una superficie y un metodo para el rociado de gotas de liquido desde un rociador sobre una superficie que se encuentra oculta debido a un objeto que esta ubicado entre la superficie y el rociador | |
MX9207501A (es) | Recubrimiento compuesto rociado por flama. | |
ES2004324T3 (es) | Procedimiento para el mando de servicio de una instalacion electrostatica de recubrimiento. | |
AR009754A1 (es) | Un dispositivo para trabajar un material plastico y su uso; y un procedimiento para formar un revestimiento elastomerico sobre dicho dispositivo, y su uso | |
ES2184870T3 (es) | Composiciones insecticidas para pulverizar en aerosol. | |
ES2098115T3 (es) | Esteres de acil l-carnitina y composiciones farmaceuticas que los contienen para tratamiento de shock endotoxico. | |
WO2003061572A3 (en) | Anti-inflammatory formulations | |
ES2129532T3 (es) | Barnizado multicapa de substratos laminares polares mediante aplicacion unica de material. | |
ES2129062T3 (es) | Material sellante a base de fosfato de aluminio/dioxido de silicio. | |
ES2163152T3 (es) | Composiciones de pulverizacion para el cabello formuladas con copolioles de silicona. | |
ES2154156B1 (es) | Aplicadora autopropulsada de productos fitosanitarios para cultivos horticolas con control mecanico o electronico de la dosis. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
FG2A | Definitive protection |
Ref document number: 591675 Country of ref document: ES |