EP3771747B1 - Verfahren und anlage zur kontinuierlichen vakuumbasierten behandlung von bahnware - Google Patents

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EP3771747B1
EP3771747B1 EP20188306.3A EP20188306A EP3771747B1 EP 3771747 B1 EP3771747 B1 EP 3771747B1 EP 20188306 A EP20188306 A EP 20188306A EP 3771747 B1 EP3771747 B1 EP 3771747B1
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plasma
web material
vacuum chamber
ignited
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Montgomery Jaritz
Dr. Rainer Dahlmann
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    • H01J37/32761—Continuous moving
    • H01J37/3277—Continuous moving of continuous material

Definitions

  • the invention relates to a method and a system for the continuous treatment of electrically non-conductive web material in a vacuum chamber according to the preambles of claims 1 and 7.
  • the vacuum chamber in which the treatment is carried out is divided into several spaces by the web material, namely at least one Room in which a plasma is ignited and at least one other room in which no plasma is ignited.
  • PECVD plasma-enhanced chemical vapor deposition
  • surfaces can be modified and/or thin functional layers can be deposited on surfaces.
  • a process gas e.g. hexamethyldisiloxane
  • electromagnetic radiation With technical low-pressure plasmas, the process temperature rises only slightly above the ambient temperature due to the vacuum, largely independent of the mixing ratio of the process gases. This means that thermally sensitive materials can also be treated.
  • Examples of surface treatment are changes in surface tension and the application of gas barrier, scratch protection, adhesion promoter and wear protection layers.
  • Plasma polymer barrier coatings are particularly important for the packaging industry.
  • the additional barrier can Shelf life of the products can be significantly extended because the permeation of oxygen, water vapor and carbon dioxide (CO 2 ) can be reduced.
  • the barrier layer is, for example, a SiO x barrier layer that is only a few nanometers thick.
  • a continuously operating plasma vacuum treatment system with a vacuum chamber for continuously treating the surface of a sheet material made of plastic under vacuum.
  • An auxiliary vacuum chamber designed as an antechamber is arranged on the downstream and upstream sides of the vacuum chamber. The pressure decreases towards the vacuum chamber, with seals placed between each chamber.
  • the seals are formed as two contacting motor driven sealing rollers which provide a seal against the material passing through, the end surfaces of the sealing rollers and the housing of the chambers.
  • the vacuum chamber has a drum-shaped cathode, a plurality of anodes arranged around it, and a guide roller for guiding the sheet material.
  • the cathode, the Anodes and the guide roller are cantilevered through one of the side end walls of the chamber.
  • the US 2003/0134051 A1 discloses a continuously operating surface treatment installation for electrically conductive web goods running through a vacuum chamber, in which parasitic coatings are to be avoided.
  • the web material for example a metal strip, is connected as a cathode for igniting the plasma.
  • the plasma in the vacuum chamber is ignited at microwave frequencies, for example.
  • the US 2004/0149574 A1 discloses an arrangement and a method for the continuous plasma-enhanced chemical vapor deposition of a coating, for example an electrical SiO x insulating layer, on a web of plastic passing through a vacuum chamber.
  • the energy for igniting the plasma is capacitively coupled into the vacuum chamber by two rollers connected as cathodes and two rollers connected as anodes. All roles and thus the electrodes are covered by the continuous sheet material, so that a parasitic Build-up of deposited material on the electrodes is avoided.
  • parasitic coatings could be contained to some extent by the processes and systems that have become known, in practice continuously operating processes and systems for surface treatment using low-pressure plasma have not become established, primarily because the throughput achieved by the processes and systems was too low.
  • the EP 1 252 822 A2 discloses a method for treating electrically non-conductive web material in a vacuum chamber by means of a plasma treatment.
  • the web material divides the vacuum chamber into a plurality of spaces, namely at least one space in which a plasma ignites and at least one further space in which no plasma ignites.
  • the energy for igniting the plasma is generated by a microwave generator, which generates the electromagnetic radiation suitable for igniting the plasma in a deposition region.
  • the energy for igniting the plasma is radiated from the room in which the microwave generator is located, in which no plasma ignites, through the web material into the separation region.
  • the process gas inlet is located in the separation region.
  • the web material is guided from a take-off roller via various deflection rollers through the separation region to a take-up roller on which the treated web material is wound up. All of the aforementioned roles are housed in the vacuum chamber.
  • the EP 1 889 947 A1 discloses a comparable method and an arrangement for the treatment of electrically non-conductive sheet material by means of a plasma treatment in which the microwave radiation of the microwave generators is radiated through the web material into a vacuum chamber and the plasma deposition takes place on the opposite surface.
  • the microwave generators are housed in a support roller over which the web material is guided in the vacuum chamber with the deposition surface facing outwards.
  • the support roller, the take-off roller for the untreated web material and the take-up roller for the treated web material are located in the vacuum chamber.
  • the invention is based on the object of creating a method for the efficient continuous treatment of web material of the type mentioned at the outset, in which parasitic deposition of coating material is kept low and the throughput of the treated web material is higher.
  • an installation for carrying out the method is to be specified.
  • the vacuum chamber in which the Treatment is carried out, divided according to the invention by the web material in several spaces that each space in which a plasma is ignited is limited by a maximum of two lateral inner walls of the vacuum chamber.
  • the division is carried out by guiding the web material inside the vacuum chamber. The guidance can take place, for example, by means of deflection rollers. At most, coating material can accumulate on the lateral inner walls between which the deflection rollers extend.
  • a parasitic deposition of coating material is avoided as best as possible if the vacuum chamber is divided into several spaces by the web material in such a way that each space in which a plasma is ignited is not delimited by an inner wall of the vacuum chamber. The space is limited exclusively by the continuous web material.
  • the plasma zone can be formed in such a way that the width of the plasma zone is less than the width of the web material.
  • the energy for igniting the plasma is generated by at least one signal generator which generates electromagnetic radiation with a frequency which is suitable for igniting the plasma.
  • the energy for igniting the plasma is radiated from a space in which no plasma ignites, by means of the signal generator, through the web material into a space with plasma ignition.
  • the coupling of the energy for igniting the plasma by means of the signal generator causes a higher energy density to be generated on the surface of the web material than in the previously known methods.
  • the higher energy density allows a higher throughput in the continuous treatment of the web material, in particular because the web material can be moved through the vacuum chamber at a higher speed.
  • the microwave band is primarily used for igniting the plasma, but the HF band can also be used.
  • the signal generator is therefore preferably designed as a microwave or HF generator.
  • Non-conductive refers to a dielectric sheet material which, in particular, has an electrical conductivity of less than 10 -8 S ⁇ cm -1 and a specific resistance of more than 10 8 ⁇ ⁇ cm.
  • Treatment is understood to mean both a coating and a non-deposition, surface-modifying treatment of the web material. In this sense, higher treatment intensities lead to a higher throughput or a higher separation rate.
  • the plasma generated in the vacuum chamber is a low-pressure plasma in which the pressure is significantly lower than the earth's atmospheric pressure.
  • Technical low-pressure plasmas are operated in a pressure range less than Pascal, i.e. at pressures that are a factor of 10,000 lower than atmospheric air pressure.
  • each signal generator is designed as a module.
  • the module combines the components for generating and irradiating the electromagnetic radiation.
  • Each module is exclusively arranged in the at least one further space in which no plasma ignites. This arrangement effectively avoids a parasitic coating of the signal generator.
  • a process gas is introduced into each space in which a plasma ignites.
  • the energy for plasma ignition is coupled into the process gas from the outside through the web material by means of the signal generator, so that the plasma ignites in the immediate vicinity of the surface of the web material.
  • the maximum energy and thus the maximum treatment intensity that can be achieved is present on the surface of the web material to be treated.
  • the energy of the electromagnetic radiation decreases quadratically with the distance to the components for irradiating the electromagnetic radiation of the signal generator.
  • Each irradiation component can be arranged close to the rear side of the sheet material opposite the surface to be treated.
  • a gaseous process gas containing monomers is preferably introduced as the process gas into each space in which the plasma ignites.
  • FIG 1 shows a plant (1) for the continuous coating of web goods (2).
  • the sheet material (2) consists of electrically non-conductive packaging plastics such as PE, PET or PP.
  • the web material (2) is equipped with an SIO x barrier layer that is only a few nanometers thick in two separate webs (2.1, 2.2) in a roll-to-roll process as it passes through the plant (1).
  • the uncoated webs (2.1, 2.2) are pulled off the infeed rolls (3.1, 3.2) and, after coating, are wound up onto the outfeed rolls (4.1, 4.2).
  • the plasma-assisted chemical vapor deposition of the barrier layer takes place in a vacuum chamber (5).
  • the vacuum chamber (5) On the inlet side, the vacuum chamber (5) has a sluice (6) for smuggling the two webs (2.1, 2.2) into the vacuum chamber (5) and on the outlet side another sluice (7) for ejecting the two webs (2.1, 2.2) from the vacuum chamber (5) on.
  • the vacuum chamber (5) is connected via the inlet and outlet locks (6, 7) to a first antechamber (10, 11) designed as an intermediate stage. connected gas-tight.
  • the first antechamber (10) is preceded by two further antechambers (10.1, 10.2).
  • the first antechamber (11) on the outlet side is also preceded by further antechambers (11.1, 11.2), specifically two for each web (2.1, 2.2).
  • Each antechamber (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2) and the vacuum chamber (5) are connected via a connection (12) to a vacuum pump (not shown), via which the low pressure in the vacuum chamber (5) required for plasma-enhanced chemical vapor deposition is generated and maintained.
  • Locks (13) with lock rollers (8) are arranged between the individual antechambers (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2), over which the webs (2.1, 2.2) of the web material (2) are guided.
  • the webs (2.1, 2.2) can pass through the gap (24) between the lock rollers (8) without touching one another.
  • the gap (24) is dimensioned in such a way that different low pressure levels can be maintained in the different antechambers (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2). In this way, starting from the outer antechambers (10.2, 11.2) in the direction of the vacuum chamber (5), the pressure can be lowered sequentially, which is advantageous for the required power of the vacuum pump to generate the required low pressure in the vacuum chamber (5).
  • a sealing gas barrier (9) in the inlet and outlet lock (6,7) reduces the diffusion of layer-forming radicals between the vacuum chamber (5) and the antechambers (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2).
  • guides for the webs (2.1, 2.2) designed as deflection rollers (14) are rotatably mounted within the antechambers (10, 10.1, 10.2).
  • the deflection rollers (14) extend between the side walls lying in the plane of the image and delimiting the antechambers and cause the two webs (2.1, 2.2) to pass through the antechambers (10, 10.1, 10.2) largely without fluttering and without touching each other. can be moved through.
  • deflection rollers designed as deflection rollers (15, 15.1) are provided in the vacuum chamber (5) and extend between the side walls which are in the plane of the image and delimit the vacuum chamber (5).
  • the deflection rollers (15, 15.1) guide the two belts (2.1, 2.2) behind the lock (6) on the inlet side at a distance from one another through the vacuum chamber.
  • the belts (2.1, 2.2) guided in this way divide the vacuum chamber (5) into three spaces, namely a space (16) in which the plasma ignites and two further spaces (18) in which no plasma ignites.
  • the spaces (16, 18) are delimited by the webs (2.1, 2.2), which extend over the entire width of the deflection rollers (15), and the side walls of the vacuum chamber (5).
  • a signal generator (19) is located in each of the two other rooms (18) in which no plasma ignites.
  • Each signal generator (19) has a component for generating and a component for irradiating electromagnetic radiation (17).
  • the electromagnetic radiation (17) is generated in the microwave band.
  • the two signal generators (19) are designed as a module that includes both components of the signal generator (19).
  • each only Component for irradiation of the microwave radiation (17) can be arranged, while the component for generating the microwave radiation outside of the vacuum chamber (5) is arranged.
  • the microwave radiation (17) can be conducted from the generator, for example via a waveguide, into the two other spaces (18) without plasma ignition.
  • the waveguide has slots at one end, through which the electromagnetic radiation is radiated.
  • the radiation from the generation component is coupled in at the other end of the waveguide, for example via a PTFE window, so that there is no pressure equalization via the waveguide.
  • a distributor with an inlet (20) for a process gas is arranged in the space (16) with plasma ignition.
  • the process gas is a gas containing gaseous monomers, for example hexamethyldisiloxane.
  • the energy for ignition is radiated into the process gas by means of the electromagnetic radiation (17) of the signal generators (19).
  • the irradiation takes place through the webs (2.1, 2.2) into the space (16) where a plasma zone (23) is formed.
  • the separating material for forming the barrier layer is deposited almost exclusively on the surface of the web material (2). Unwanted coatings of plant parts are largely prevented.
  • the deposition rate is achieved directly on the surface of the webs to be coated (2.1, 2.2).
  • the deflection rollers (15) in the vacuum chamber (5) are arranged in such a way that they are also not coated because they are covered by the webs (2.1, 2.2). Only the two outer guide rollers (15.1) are not covered by the webs (2.1, 2.2) in relation to the space (16) with plasma ignition.
  • these outer guide rollers (15.1) are arranged at a maximum distance from the signal generators (19) within the vacuum chamber (5) and are largely covered by the adjacent guide rollers (15), so that parasitic deposition of coating material on the lateral surfaces of the outer guide rollers (15.1) is effectively prevented.
  • the plasma zone (23) can be smaller than the width of the web material (2).
  • the formation of the plasma zone (23) can be influenced by changing the arrangement and geometry of the component for irradiating the electromagnetic radiation of the signal generator (19).
  • the coated webs (2.1, 2.2) run exclusively over the deflection rollers (14) arranged in the locks (7, 13).
  • the coated webs (2.1, 2.2) lie exclusively with the side opposite the coated surface on the deflection rollers (14).
  • the system concept figure 2 differs essentially from the system concept figure 1 in that only one web (2.1) of the web material (2) is fed in and out via a lock (21) which is arranged on the underside of the vacuum chamber (5).
  • a lock (21) which is arranged on the underside of the vacuum chamber (5).
  • Only one web (2.1) of the web material (2) runs into the vacuum chamber (5), is deflected at the upper reversal point via a deflection roller (22) and runs over the lock roller (8) on the right in the figure Sluice (21) out of the vacuum chamber (5).
  • the structure of the vacuum chamber (5) agrees with that figure 1 largely agree, so that after the comments on the system figure 1 is referenced.
  • the cascade of inlet-side antechambers (10, 10.1, 10.2) also corresponds in structure and mode of operation to the antechambers (10, 10.1, 10.2) of the system figure 1 match.
  • the outlet-side roller (4.1) onto which the coated web material (2) is wound is located next to the inlet-side roller (3.1) from which the uncoated web material (2) is drawn off.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anlage zur kontinuierlichen Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware in einer Vakuumkammer nach den Oberbegriffen der Ansprüche 1 und 7. Die Vakuumkammer, in der die Behandlung durchgeführt wird, wird durch die Bahnware in mehrere Räume aufgetrennt, nämlich mindestens einen Raum, in dem ein Plasma gezündet wird und mindestens einen weiteren Raum, in dem kein Plasma zündet.
    • Hintergrund
  • Mit Hilfe der plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung (engl. plasma enhanced chemical vapour deposition; PECVD) können Oberflächen modifiziert und/oder dünne Funktionsschichten auf Oberflächen abgeschieden werden. Hierbei handelt es sich um ein vakuumbasiertes Behandlungsverfahren, bei dem ein Prozessgas (z.B. Hexamethyldisiloxan) im Vakuum mittels elektromagnetischer Strahlung zum Plasma angeregt wird. Bei technischen Niederdruckplasmen steigt die Prozesstemperatur durch das Vakuum nur wenig über Umgebungstemperatur, weitgehend unabhängig vom Mischungsverhältnis der Prozessgase. Dadurch können auch thermisch sensible Materialien behandelt werden.
  • Beispiele für die Oberflächenbehandlung sind Veränderungen der Oberflächenspannung und das Aufbringen von Gasbarriere-, Kratzschutz- und Haftvermittler- sowie Verschleißschutzschichten. Für die Verpackungsindustrie sind vor allem plasmapolymere Barrierebeschichtungen von Bedeutung. Durch die zusätzliche Barriere kann die Haltbarkeit der Produkte deutlich verlängert werden, da die Permeation von Sauerstoff, Wasserdampf und Kohlendioxid (CO2) reduziert werden kann. Die Barriereschicht ist beispielsweise eine nur wenige Nanometer dünne SiOx-Barriereschicht.
  • Zumeist kann Material eingespart werden, da die geforderte Haltbarkeitsdauer mit gegenüber Verbundverpackungsmaterialien dünneren Verpackungsmaterialien gewährleistet werden kann. Ebenso vorteilhaft ist die Minimierung der Migration von Aromen aus und in das Verpackungsgut. Im Gegensatz zu Verbundverpackungen mit mehreren Lagen unterschiedlicher Kunststoffe, die jeweils eine spezifische Funktion erfüllen, sind Monomaterialverpackungen mit plasmapolymerer Barriereschicht recyclingfähig.
    • Stand der Technik
  • Aus der DE 31 299 97 C2 ist bereits eine kontinuierlich arbeitende Plasma-Vakuumbehandlungsanlage mit einer Vakuumkammer zum kontinuierlichen Behandeln der Oberfläche einer Bahnware aus Kunststoff unter Vakuum bekannt. An den stromab und stromauf gelegenen Seiten der Vakuumkammer ist jeweils eine als Vorkammer ausgebildete Hilfsvakuumkammer angeordnet. Der Druck nimmt in Richtung auf die Vakuumkammer ab, wobei zwischen jeder Kammer Dichtungen angeordnet sind. Die Dichtungen sind als zwei einander berührende motorbetriebene Dichtwalzen ausgebildet sind, die eine Abdichtung gegenüber dem durchlaufenden Material, den Endoberflächen der Dichtwalzen und dem Gehäuse der Kammern bewirken. Die Vakuumkammer weist eine trommelförmige Kathode, mehrere um diese herum angeordnete Anoden und eine Führungswalze zum Führen der Bahnware auf. Die Kathode, die Anoden und die Führungswalze sind durch eine der Seitendwände der Kammer freitragend gehalten.
  • Bei dieser Vorrichtung muss mit Partikelentstehung und - verschleppung in der Vakuumkammer gerechnet werden. Beim Durchlaufen der Bahnware durch die Dichtwalzen kann es zum Eindrücken von Partikeln in die behandelte Bahnwarenoberfläche kommen. Weiterhin ist mit einer parasitären Beschichtung der Anoden zu rechnen. Dies wird unweigerlich zu einer hohen Frequenz notwendiger Reinigungen und damit zu hohen Stillstandzeiten der Vorrichtung führen.
  • Die US 2003/0134051 A1 offenbart eine kontinuierlich arbeitende Oberflächenbehandlungsanlage für durch eine Vakuumkammer laufende, elektrisch leitfähige Bahnware, bei der parasitäre Beschichtungen vermieden werden sollen. Die Bahnware, beispielsweise ein Metallband, ist als Kathode zur Zündung des Plasmas geschaltet. Das Plasma in der Vakuumkammer wird beispielsweise mit Mikrowellenfrequenzen gezündet.
  • Die US 2004/0149574 A1 offenbart ein Anordnung und ein Verfahren zur kontinuierlichen plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung einer Beschichtung, beispielsweise einer elektrischen SiOx Isolationsschicht, auf einer durch eine Vakuumkammer durchlaufenden Bahnware aus Kunststoff. Die Energie zur Zündung des Plasmas wird kapazitiv in die Vakuumkammer eingekoppelt, und zwar durch zwei als Kathode geschaltete Rollen sowie zwei als Anode geschaltete Rollen. Sämtliche Rollen und damit die Elektroden sind durch die durchlaufende Bahnware abgedeckt, sodass ein parasitärer Aufbau von abgeschiedenem Material auf den Elektroden vermieden wird.
  • Obwohl parasitäre Beschichtungen durch die bekannt gewordenen Verfahren und Anlagen teilweise eingedämmt werden konnten, haben sich in der Praxis kontinuierlich arbeitende Verfahren und Anlagen zur Oberflächenbehandlung mittels Niederdruckplasma nicht durchgesetzt, weil vor allem der erzielte Durchsatz der Verfahren und Anlagen zu gering war.
  • Die EP 1 252 822 A2 offenbart ein Verfahren zur Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware in einer Vakuumkammer im Wege einer Plasmabehandlung. Die Vakuumkammer wird durch die Bahnware in mehrere Räume aufgeteilt, nämlich mindestens einen Raum in dem ein Plasma zündet und mindestens einen weiteren Raum, in dem kein Plasma zündet. Die Energie zur Zündung des Plasmas wird von einem Mikrowellengenerator erzeugt, der die elektromagnetische Strahlung erzeugt, die zur Zündung des Plasmas in einer Abscheideregion geeignet ist. Die Energie zur Zündung des Plasmas wird von dem Raum, in dem sich der Mikrowellengenerator befindet, in dem kein Plasma zündet, durch die Bahnware hindurch in die Abscheideregion eingestrahlt. In der Abscheideregion befindet sich der Prozessgaseinlass. Die Bahnware wird von einer Abzugsrolle über verschiedene Umlenkrollen durch die Abscheideregion hindurch bis zu einer Aufwickelrolle geführt, auf der die behandelte Bahnware aufgewickelt wird. Sämtliche vorgenannten Rollen sind in der Vakuumkammer untergebracht.
  • Die EP 1 889 947 A1 offenbart ein vergleichbares Verfahren und eine Anordnung zur Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware im Wege einer Plasmabehandlung, bei der die Mikrowellenstrahlung der Mikrowellengeneratoren durch die Bahnware hindurch in eine Vakuumkammer eingestrahlt wird und die Plasmaabscheidung auf der gegenüberliegenden Oberfläche erfolgt. Die Mikrowellengeneratoren sind in einer Stützrolle untergebracht, über die die Bahnware mit der Abscheidungsoberfläche nach außen weisend, in der Vakuumkammer geführt wird. Die Stützrolle, die Abzugsrolle für die unbehandelte Bahnware und die Aufwickelrolle für die behandelte Bahnware befinden sich in der Vakuumkammer.
    • Aufgabe
  • Ausgehend von der EP 1 252 822 A2 als nächstliegendem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur effizienten kontinuierlichen Behandlung von Bahnware der eingangs erwähnten Art zu schaffen, bei dem eine parasitäre Abscheidung von Beschichtungsmaterial geringgehalten wird und der Durchsatz der behandelten Bahnware höher ist. Außerdem soll eine Anlage zur Durchführung des Verfahrens angegeben werden.
    • Lösung
  • Diese Aufgabe wird durch eine Verfahren und eine Anlage mit den Merkmalen der unabhängigen Ansprüche 1 und 7 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den Merkmalen der Unteransprüche.
  • Um die parasitäre Abscheidung von Beschichtungsmaterial gering zu halten, wird die Vakuumkammer, in der die Behandlung durchgeführt wird, erfindungsgemäß durch die Bahnware derart in mehrere Räume aufgeteilt, dass jeder Raum, in dem ein Plasma gezündet wird durch maximal zwei seitliche Innenwände der Vakuumkammer begrenzt wird. Die Aufteilung erfolgt durch eine Führung der Bahnware innerhalb der Vakuumkammer. Die Führung kann beispielsweise mittels Umlenkwalzen erfolgen. Allenfalls an den seitlichen Innenwänden, zwischen denen sich die Umlenkwalzen erstrecken, kann es zu Anlagerungen von Beschichtungsmaterial kommen.
  • Bestmöglich wird eine parasitäre Abscheidung von Beschichtungsmaterial vermieden, wenn die Vakuumkammer durch die Bahnware derart in mehrere Räume aufgeteilt wird, dass jeder Raum, in dem ein Plasma gezündet wird, nicht durch eine Innenwand der Vakuumkammer begrenzt wird. Der Raum wird ausschließlich durch die durchlaufende Bahnware begrenzt.
  • Um die Seitenwände der Vakuumkammer vor einer parasitären Beschichtung zu schützen, kann in einer Ausgestaltung der Erfindung die Plasmazone derart ausgebildet werden, dass die Breite der Plasmazone geringer als die Breite der Bahnware ist.
  • Die Energie zur Zündung des Plasmas wird durch mindestens einen Signalgenerator erzeugt, der elektromagnetische Strahlung mit einer Frequenz erzeugt, die zur Zündung des Plasmas geeignet ist. Die Energie zur Zündung des Plasmas wird von einem Raum, in dem kein Plasma zündet, mittels des Signalgenerators durch die Bahnware hindurch in einen Raum mit Plasmazündung eingestrahlt.
  • Die Einkopplung der Energie zur Zündung des Plasmas mittels des Signalgenerators bewirkt, dass an der Oberfläche der Bahnware eine höhere Energiedichte als bei den bisher bekannten Verfahren erzeugt wird. Die höhere Energiedichte erlaubt einen höheren Durchsatz bei der kontinuierlichen Behandlung der Bahnware, insbesondere weil die Bahnware mit höherer Geschwindigkeit durch die Vakuumkammer hindurchbewegt werden kann.
  • Für die Zündung des Plasmas kommt in erster Linie das Mikrowellenband, jedoch auch das HF-Band in Betracht. Der Signalgenerator ist daher vorzugsweise als Mikrowellen- oder HF-Generator ausgestaltet.
  • Das Verfahren erlaubt eine kontinuierliche Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware. Nicht leitfähig bezeichnet eine dielektrische Bahnware, die insbesondere eine elektrische Leitfähigkeit von weniger als 10-8 S · cm-1 sowie einem spezifischen Widerstand von über 108 Ω · cm aufweist.
  • Unter Behandlung werden sowohl eine Beschichtung wie auch eine abscheidefreie, oberflächenmodifizierende Behandlung der Bahnware verstanden. Höhere Behandlungsintensitäten führen in diesem Sinne zu einem höheren Durchsatz bzw. einer höheren Abscheiderate.
  • Das in der Vakuumkammer erzeugte Plasma ist ein Niederdruckplasma, in dem der Druck erheblich niedriger als der Erdatmosphärendruck ist. Technische Niederdruckplasmen werden in einem Druckbereich weniger Pascal betrieben, also bei Drücken, die um einen Faktor 10.000 geringer sind als der atmosphärische Luftdruck.
  • In vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist jeder Signalgenerator als Modul ausgeführt. In dem Modul sind die Komponenten zur Generierung und Einstrahlung der elektromagnetischen Strahlung zusammengefasst. Jedes Modul wird ausschließlich in dem mindestens einen weiteren Raum angeordnet, in dem kein Plasma zündet. Durch diese Anordnung, wird wirksam eine parasitäre Beschichtung des Signalgenerators vermieden.
  • In jeden Raum, in dem ein Plasma zündet, wird ein Prozessgas eingeleitet. Die Energie zur Plasmazündung wird mittels des Signalgenerators von außen durch die Bahnware hindurch in das Prozessgas eingekoppelt, so dass das Plasma in direkter Nachbarschaft der Oberfläche der Bahnware zündet. Die maximale Energie und somit die maximal erzielbare Behandlungsintensität liegt auf der zu behandelnden Oberfläche der Bahnware vor. Die Energie der elektromagnetischen Strahlung nimmt quadratisch mit dem Abstand zu den Komponenten zur Einstrahlung der elektromagnetischen Strahlung des Signalgenerators ab. Jede Einstrahlungskomponente kann nah an der der zu behandelnden Oberfläche gegenüberliegenden, rückwärtigen Seite der Bahnware angeordnet sein.
  • Sofern auf der Bahnware eine Beschichtung im Wege der plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung aufgebracht werden soll, wird als Prozessgas vorzugsweise ein gasförmiges, Monomere enthaltendes Prozessgas in jeden Raum eingeleitet, in dem das Plasma zündet.
  • Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Figuren näher erläutert. Es zeigen
    • Figur 1
    eine Anlage mit gleichzeitiger Einschleusung der Bahnware in zwei getrennten Bahnen und Ausschleusung der behandelten Bahnen ohne Oberflächenberührung und
    Figur 2
    eine Anlage mit Einschleusung der Bahnware in nur einer Bahn und Ausschleusung der behandelten Bahn mit Oberflächenberührung.
  • Figur 1 zeigt eine Anlage (1) zur kontinuierlichen Beschichtung von Bahnware (2). Die Bahnware (2) besteht aus elektrisch nicht leitfähigen Verpackungskunststoffen, wie PE, PET oder PP. Die Bahnware (2) wird in zwei voneinander getrennten Bahnen (2.1, 2.2) in einem Rolle-zu-Rolle Prozess beim Durchlauf durch die Anlage (1) mit einer nur wenige Nanometer starken SIOx-Barriereschicht ausgerüstet. Die unbeschichteten Bahnen (2.1, 2.2) werden von den einlaufseitigen Rollen (3.1, 3.2) abgezogen und nach dem Beschichten auf die auslaufseitigen Rollen (4.1, 4.2) aufgewickelt.
  • Die plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung der Barriereschicht erfolgt in einer Vakuumkammer (5). Einlaufseitig weist die Vakuumkammer (5) eine Schleuse (6) zum Einschleusen der beiden Bahnen (2.1, 2.2) in die Vakuumkammer (5) und auslaufseitig eine weitere Schleuse (7) zum Ausschleusen der der beiden Bahnen (2.1, 2.2) aus der Vakuumkammer (5) auf. Die Vakuumkammer (5) ist über die einlauf- und auslaufseitige Schleuse (6, 7) jeweils mit einer als Zwischenstufe ausgebildeten ersten Vorkammer (10, 11) gasdicht verbunden. Der ersten Vorkammer (10) sind zwei weitere Vorkammern (10.1, 10.2) vorgeordnet. Der ersten Vorkammer (11) an der Auslaufseite sind ebenfalls weitere Vorkammern (11.1, 11.2) vorgeordnet, und zwar jeweils zwei für jede Bahn (2.1, 2.2).
  • Jede Vorkammer (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2) und die Vakuumkammer (5) sind über einen Anschluss (12) mit einer nicht dargestellten Vakuumpumpe verbunden, über die der zur plasmagestützten chemischen Gasphasenabscheidung erforderliche Niederdruck in der Vakuumkammer (5) erzeugt und aufrechterhalten wird.
  • Zwischen den einzelnen Vorkammern (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2) sind jeweils Schleusen mit (13) mit Schleusenwalzen (8) angeordnet, über die die Bahnen (2.1, 2.2) der Bahnware (2) geführt werden. Den Spalt (24) zwischen den Schleusenwalzen (8) können die Bahnen (2.1, 2.2) passieren, ohne sich gegenseitig zu berühren. Der Spalt (24) ist so dimensioniert, dass sich in den unterschiedlichen Vorkammern (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2) unterschiedlich hohe Niederdruckniveaus aufrechterhalten lassen. Hierdurch lässt sich ausgehend von den äußeren Vorkammern (10.2, 11.2) in Richtung der Vakuumkammer (5) der Druck sequenziell absenken mit Vorteil für die benötigte Leistung der Vakuumpumpe zur Erzeugung des benötigten Niederdrucks in der Vakuumkammer (5).
  • Eine Sperrgasbarriere (9) in der ein- und auslaufseitigen Schleuse (6,7) reduziert die Diffusion von schichtbildenden Radikalen zwischen der Vakuumkammer (5) und den Vorkammern (10, 10.1, 10.2, 11, 11.1, 11.2).
  • In den einlaufseitigen Vorkammern (10, 10.1, 10.2) sind als Umlenkwalzen (14) ausgebildete Führungen der Bahnen (2.1, 2.2) innerhalb der Vorkammern (10, 10.1, 10.2) drehbar gelagert. Die Umlenkwalzen (14) erstrecken sich zwischen den in der Bildebene liegenden, die Vorkammern begrenzenden Seitenwänden und bewirken, dass die beiden Bahnen (2.1, 2.2) weitgehend ohne zu flattern und ohne sich gegenseitig zu berühren durch die Vorkammern (10, 10.1, 10.2) hindurchbewegt werden können.
  • In der Vakuumkammer (5) sind als Umlenkwalzen (15, 15.1) ausgeführte Führungen vorgesehen, die sich zwischen den in den Bildebene liegenden, die Vakuumkammer (5) begrenzenden Seitenwänden erstrecken. Durch die Umlenkwalzen (15, 15.1) werden die beiden Bänder (2.1, 2.2) hinter der einlaufseitigen Schleuse (6) im Abstand zueinander durch die Vakuumkammer geführt. Die derart geführten Bänder (2.1, 2.2) teilen die Vakuumkammer (5) in drei Räume auf, nämlich einen Raum (16), in dem Plasma zündet und zwei weitere Räume (18), in denen kein Plasma zündet. Die Räume (16, 18) werden durch die Bahnen (2.1, 2.2), die sich über die gesamte Breite der Umlenkwalzen (15) erstrecken, sowie die Seitenwände der Vakuumkammer (5) begrenzt. In den beiden weiteren Räumen (18), in denen kein Plasma zündet, befindet sich jeweils ein Signalgenerator (19). Jeder Signalgenerator (19) weist eine Komponente zur Generierung und eine Komponente zur Einstrahlung elektromagnetischer Strahlung (17) auf. Die elektromagnetische Strahlung (17) wird im Mikrowellenband erzeugt. Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind die beiden Signalgeneratoren (19) als Modul ausgeführt, welches beide Komponenten des Signalgenerators (19) umfasst. Alternativ kann in den beiden weiteren Räumen (18) jeweils lediglich die Komponente zur Einstrahlung der Mikrowellenstrahlung (17) angeordnet sein, während die Komponente zur Generierung der Mikrowellenstrahlung außerhalb der Vakuumkammer (5) angeordnet ist. Die Mikrowellenstrahlung (17) kann von dem Generator beispielsweise über einen Hohlleiter in die beiden weiteren Räume (18) ohne Plasmazündung geleitet werden. Der Hohlleiter weist an einem Ende Schlitze auf, über die die elektromagnetische Strahlung eingestrahlt wird. Die Strahlung aus der Komponente zur Generierung wird an dem anderen Ende des Hohlleiters beispielsweise über ein PTFE-Fenster eingekoppelt, so dass über den Hohlleiter kein Druckausgleich stattfindet.
  • In dem Raum (16) mit Plasmazündung ist ein Verteiler mit einem Einlass (20) für ein Prozessgas angeordnet. Das Prozessgas ist ein gasförmige Monomere enthaltendes Gas, zum Beispiel Hexamethyldisiloxan. In das Prozessgas wird mittels der elektromagnetischen Strahlung (17) der Signalgeneratoren (19) die Energie zur Zündung eingestrahlt. Die Einstrahlung erfolgt durch die Bahnen (2.1, 2.2) hindurch in den Raum (16), wo sich eine Plasmazone (23) ausbildet. Das Abscheidematerial zur Ausbildung der Barriereschicht wird nahezu ausschließlich auf der Oberfläche der Bahnware (2) abgeschieden. Unerwünschte Beschichtungen von Anlagenteilen werden weitgehend verhindert. Lediglich die Gasverteilung mit dem Einlass (20) für das Prozessgas (20) wird mit beschichtet, wobei die Abscheiderate aufgrund der Anordnung des Gasverteilers außerhalb der Plasmazone (23) deutlich geringer ist, als auf den Bahnen (2.1, 2.2) selbst. Darüber hinaus ist der Gasverteiler gut zugänglich und kann schnell getauscht bzw. gereinigt werden. Die höchste Energie, der höchste Ionisierungsgrad und damit die maximal erzielbare Abscheiderate wird direkt auf den Oberfläche der zu beschichtenden Bahnen (2.1, 2.2) erzielt. Die Umlenkwalzen (15) in der Vakuumkammer (5) sind derart angeordnet, dass diese ebenfalls nicht beschichtet werden, weil sie durch die Bahnen (2.1, 2.2) abgedeckt werden. Lediglich die beiden äußeren Führungswalzen (15.1) werden durch die Bahnen (2.1, 2.2) gegenüber dem Raum (16) mit Plasmazündung nicht abgedeckt. Diese äußeren Führungswalzen (15.1) sind jedoch in einem maximalen Abstand zu den Signalgeneratoren (19) innerhalb der Vakuumkammer (5) und weitgehend abgedeckt durch die benachbart angeordneten Führungswalzen (15) angeordnet, so das eine parasitäre Abscheidung von Beschichtungsmaterial auf den Mantelflächen der äußeren Führungswalzen (15.1) wirksam verhindert wird.
  • Um die Seitenwände der Vakuumkammer vor einer parasitären Beschichtung zu schützen, kann in einer Ausgestaltung der Erfindung die Plasmazone (23) geringer als die Breite der Bahnware (2) sein. Auf die Ausbildung der Plasmazone (23) kann durch Verändern der Anordnung und Geometrie der Komponente zur Einstrahlung der elektromagnetischen Strahlung des Signalgenerators (19) Einfluss genommen werden.
  • Die beschichteten Bahnen (2.1, 2.2) laufen nach der Beschichtung ausschließlich über die in den Schleusen (7, 13) angeordneten Umlenkwalzen (14). Die beschichteten Bahnen (2.1, 2.2) liegen ausschließlich mit der der beschichteten Oberfläche gegenüberliegenden Seite auf den Umlenkwalzen (14) auf. Ein Vorteil der berührungslosen Führung besteht darin, dass eine Defekteinbringung durch Eindrücken von Partikeln beim Ausschleusen weitgehend ausgeschlossen ist. Dieser Vorteil wird jedoch bei diesem Anlagenkonzept durch den Nachteil erkauft, dass aufgrund der ein- und auslaufseitigen Schleusen (6, 7) eine höhere Pumpleistung zur Erzeugung und Aufrechterhaltung des Niederdrucks in der Vakuumkammer (5) benötigt wird als bei einem Anlagenkonzept, wie es nachfolgend anhand der Figur 2 erläutert wird.
  • Das Anlagenkonzept nach Figur 2 unterscheidet sich im Wesentlichen von dem Anlagenkonzept nach Figur 1 dadurch, dass die Ein- und Ausschleusung nur einer Bahn (2.1) der Bahnware (2) über eine Schleuse (21) erfolgt, die an der Unterseite der Vakuumkammer (5) angeordnet. Über die in Figur 2 links dargestellte Schleusenwalze (8) läuft die nur eine Bahn (2.1) der Bahnware (2) in die Vakuumkammer (5) ein, wird am oberen Umkehrpunkt über eine Umlenkwalze (22) umgelenkt und läuft über die im Bild rechte Schleusenwalze (8) der Schleuse (21) aus der Vakuumkammer (5) heraus. Im Übrigen stimmt der Aufbau der Vakuumkammer (5) mit derjenigen nach Figur 1 weitgehend überein, so dass auf die Ausführungen zu der Anlage nach Figur 1 verwiesen wird. Auch die Kaskade der einlaufseitigen Vorkammern (10, 10.1, 10.2) stimmt in Aufbau und Wirkungsweise mit den Vorkammern (10, 10.1, 10.2) der Anlage nach Figur 1 überein. Abweichend zu dem Ausführungsbeispiel nach Figur 1 befindet sich die auslaufseitige Rolle (4.1), auf die die beschichtete Bahnware (2) aufgewickelt wird, neben der einlaufseitigen Rolle (3.1), von der die unbeschichtete Bahnware (2) abgezogen wird.
  • Aufgrund der Führung der beschichteten Bahnware (2) über die Umlenkwalze (22), die rechte Umlenkwalze (15.1) in der Vakuumkammer (5) sowie die Umlenkwalzen (14) in den Vorkammern (10, 10.1, 10.2) gelangt die beschichtete Oberfläche der durchlaufenden Bahnware (2) mit den Mantelflächen der vorgenannten Umlenkwalzen in Kontakt. Der Nachteil des Anlagenkonzepts gegenüber dem nach Figur 1 besteht daher darin, dass eine Defekteinbringung durch Eindrücken von Partikeln auftreten kann. Gegenüber dem Anlagenkonzept nach Figur 1 wird jedoch lediglich eine geringere Pumpleistung zur Erzeugung und Aufrechterhaltung des Niederdrucks in der Vakuumkammer (5) benötigt. Bezugszeichenliste
    Nr. Bezeichnung
    1. Anlage
    2. Bahnware
    2.1 Bahn
    2.2 Bahn
    3.1 Einlaufseitige Rolle
    3.2 Einlaufseitige Rolle
    4.1 Auslaufseitige Rolle
    4.2 Auslaufseitige Rolle
    5. Vakuumkammer
    6. Schleuse zum Einschleusen
    7. Schleuse zum Ausschleusen
    8 . Schleusenwalzen
    9. Sperrgasbarriere
    10. Erste Vorkammer
    10.1 Vorkammer
    10.2 Vorkammer
    11. Erste Vorkammer
    11.1 Vorkammer
    11.2 Vorkammer
    12. Anschluss
    13. Schleusen
    14. Führung/Umlenkwalze
    15. Führung /Umlenkwalze
    15.1 Äußere Führung /Umlenkwalze
    16. Raum mit Plasmazündung
    17. Elektromagnetische Strahlung
    18. Raum ohne Plasmazündung
    19. Signalgenerator
    20. Einlass Prozessgas
    21. Schleuse zum Ein- und Ausschleusen
    22. Umlenkwalze
    23. Plasmazone
    24. Spalt

Claims (16)

  1. Verfahren zur kontinuierlichen Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware (2) in einer Vakuumkammer (5), wobei die Vakuumkammer (5), in der die Behandlung durchgeführt wird, durch die Bahnware (2) in mehrere Räume(16,18) aufgeteilt wird, nämlich mindestens einen Raum (16), in dem ein Plasma zündet und mindestens einen weiteren Raum (18), in dem kein Plasma zündet, wobei
    - die Energie zur Zündung des Plasmas durch mindestens einen Signalgenerator (19) erzeugt wird, der elektromagnetische Strahlung (17) mit einer Frequenz erzeugt, die zur Zündung des Plasmas geeignet ist,
    - und die Energie zur Zündung des Plasmas von dem mindestens einen Raum (18), in dem kein Plasma zündet, durch die Bahnware (2) hindurch in einen Raum (16) mit Plasmazündung eingestrahlt wird,
    dadurch gekennzeichnet, dass
    - die Bahnware (2) durch die Vakuumkammer (5) kontinuierlich hindurchbewegt wird und
    - die Vakuumkammer (5) durch die Bahnware (2) derart in mehrere Räume (16,18) aufgeteilt wird, dass jeder Raum (16), in dem ein Plasma gezündet wird, durch maximal zwei seitliche Innenwände der Vakuumkammer (5) begrenzt wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Signalgenerator (19) als Modul ausgeführt ist in dem die Komponenten zur Generierung und Einstrahlung der elektromagnetischen Strahlung (17) zusammengefasst sind und jedes Modul ausschließlich in dem mindestens einen weiteren Raum (18) angeordnet wird, in dem kein Plasma zündet.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Signalgenerator (19) elektromagnetische Wellen im Mikrowellenband und/oder HF-Band erzeugt.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass ein Prozessgas in jeden Raum (16) eingeleitet wird, in dem ein Plasma zündet.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass ein gasförmige Monomere enthaltendes Prozessgas eingeleitet wird.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Bahnware (2) eine oder mehrere durch die Vakuumkammer hindurchbewegte Bahn(en) (2.1, 2.2) umfasst.
  7. Anlage (1) zur kontinuierlichen Behandlung von elektrisch nicht leitfähiger Bahnware (2) umfassend
    - eine Vakuumkammer (5), in der die Behandlung durchgeführt wird,
    - die elektrisch nicht leitfähige Bahnware (2),
    - in der Vakuumkammer (5) angeordnete Führungen (15) für die Bahnware (2), die derart angeordnet sind, dass die durch die Vakuumkammer (5) laufende Bahnware (2) die Vakuumkammer (5) in mehrere Räume (16,18) aufteilt, nämlich mindestens einen Raum (16), in dem ein Plasma zündet und mindestens einen weiteren Raum (18), in dem kein Plasma zündet,
    - die Anlage (1) mindestens einen Signalgenerator (19) mit einer Komponente zur Generierung und einer Komponente zur Einstrahlung elektromagnetischer Strahlung (17) aufweist, wobei die elektromagnetische Strahlung (17) mit einer Frequenz erzeugt wird, die zur Zündung des Plasmas geeignet ist,
    - zumindest jede Komponente zur Einstrahlung in dem mindestens einen weiteren Raum (18), in dem kein Plasma zündet, derart angeordnet ist, dass die Energie zur Zündung des Plasmas durch die Bahnware (2) hindurch in den mindestens einen Raum (16), in dem ein Plasma zündet, eingestrahlt wird
    dadurch gekennzeichnet, dass
    - die in der Vakuumkammer (5) angeordneten Führungen (15) für die Bahnware (2) weiter derart angeordnet sind, dass jeder Raum (16), in dem ein Plasma gezündet wird durch maximal zwei seitliche Innenwände der Vakuumkammer begrenzt wird.
  8. Anlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Signalgenerator (19) als Modul ausgeführt ist in dem die Komponenten zur Generierung und Einstrahlung der elektromagnetischen Strahlung (17) zusammengefasst sind und jedes Modul ausschließlich in dem mindestens einen weiteren Raum (18) angeordnet wird, in dem kein Plasma zündet.
  9. Anlage nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet, dass jeder Signalgenerator (19) zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung (17) im Mikrowellenband und/oder HF-Band eingerichtet ist.
  10. Anlage nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass in jedem Raum (16), in dem ein Plasma zündet, ein Einlass (20) für ein Prozessgas angeordnet ist.
  11. Anlage nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass
    - die Anlage (1) eine Schleuse (6) zum Einschleusen der Bahnware (2) in die Vakuumkammer (5) und eine weitere Schleuse (7) zum Ausschleusen der Bahnware (2) aus der Vakuumkammer (5) aufweist,
    - die Vakuumkammer (5) über die Schleusen (6, 7) jeweils mit einer ersten Vorkammer (10, 11) gasdicht verbunden sind, wobei jede erste Vorkammer (10, 11) und die Vakuumkammer (5) über einen Anschluss (12) mit mindestens einer Vakuumpumpe verbindbar ist.
  12. Anlage nach einem der Ansprüche 7 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass
    - die Anlage (1) nur eine Schleuse (21) zum Ein - und Ausschleusen der Bahnware (2) in die Vakuumkammer (5) aufweist,
    - die Vakuumkammer über die eine Schleuse (21) mit einer ersten Vorkammer (10) gasdicht verbunden ist, wobei die erste Vorkammer (10) und die Vakuumkammer (5) über einen Anschluss (12) mit mindestens einer Vakuumpumpe verbindbar sind.
  13. Anlage nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass jede Schleuse (6,7,21) zwischen der Vakuumkammer (5) und der ersten Vorkammer (10,11) eine Sperrgasbarriere (9) aufweist.
  14. Anlage nach einem der Ansprüche 11 - 13, dadurch gekennzeichnet, dass
    - jeder ersten Vorkammer (10, 11) mindesten eine weitere Vorkammer (10.1, 10.2,11.1, 11.2) vorgelagert ist,
    - zwischen sämtlichen Vorkammern (10, 10.1, 10.2, 11,11.1, 11.2) Schleusen (13) angeordnet sind, die die Vorkammern gasdicht miteinander verbinden und
    - jede weiter Vorkammer (10.1, 10.2,11.1, 11.2) über einen Anschluss (12) mit der mindestens einen Vakuumpumpe verbindbar ist.
  15. Anlage nach einem der Ansprüche 11 - 14, dadurch gekennzeichnet, dass sämtliche Schleusen (6, 7, 13, 21) Schleusenwalzen (8) aufweisen, die zur Führung der Bahnware (2) zwischen den Kammern eingerichtet sind.
  16. Anlage nach einem der Ansprüche 7 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass Teile der Anlage (1) mit einer positiven oder negativen Vorspannung derart beaufschlagt werden, dass geladene schichtbildende Radikale aus dem Plasma abgestoßen werden.
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