EP1348320A1 - Method for producing electroconductive structures - Google Patents

Abstract

The invention relates to a method for producing electroconductive structures. An electrically isolating substrate (101) is produced or prepared in such a way that it comprises a surface having cavities at the sites where the electroconductive structures are to be formed. At least some of said cavities have a cross-section which is perpendicular to a surface of the substrate (101) and in which the aspect ratio (the ratio between the depth (t) and the width (b) of the structures) is between 1:5 and 5:1, for example at least 2:3. The surface of the substrate is provided with an electroconductive layer which is thin in comparison to the characteristic dimensions of the cavities. The surface of the substrate is then galvanised until said cavities are full.

Description

VERFAHREN ZUM HERSTELLEN VON ELEKTRISCH LEITENDEN STRUKTUREN METHOD FOR PRODUCING ELECTRICALLY CONDUCTING STRUCTURES

Die Erfindung befasst sich mit dem Auffüllen von Vertiefungen in Kunststoffen mit Metall für technische Verwendungszwecke. Verfahren zum Auffüllen von Vertiefungen in Kunststoffen haben Verwendungen im Gebiet der Herstellung von elektrischen Verbindungselementen, bspw. Leiterplatten, auch flexible Leiterplatten, High-Density-Interconnects, Ball-Grid-Array- (BGA-) Substraten, Chip Scale Packages (CSP), Multi-Chip-Module- (MCM-) Substraten etc.. Sie können aber auch verwendet werden für Halbleiterbausteine, andere Elemente wie Mikro-Planarspulen, Mikrorelais etc.The invention is concerned with the filling of depressions in plastics with metal for technical purposes. Processes for filling recesses in plastics have uses in the field of the production of electrical connecting elements, for example printed circuit boards, also flexible printed circuit boards, high-density interconnects, ball grid array (BGA) substrates, chip scale packages (CSP), Multi-chip module (MCM) substrates etc. They can also be used for semiconductor devices, other elements such as micro planar coils, micro relays etc.

Im Speziellen bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren gemäss dem ersten Anspruch. Ebenfalls zum Gegenstand dieser Patentanmeldung gehören ein Verbindungselement und ein Halbzeug gemäss den weiteren unabhängigen Ansprüchen.In particular, the invention relates to a method according to the first claim. The subject matter of this patent application also includes a connecting element and a semifinished product according to the further independent claims.

Die ständig fortschreitende Miniaturisierung im Bereich der Mikroelektronik wirkt sich auch auf die Herstellung von elektrischen Verbindungselementen, insbesondere von Leiterplatten, Interconnects etc. aus. Es besteht in vielen Anwendungsbereichen die Notwendigkeit, die konventionelle Herstellung von Leiterplatten durch neue Methoden schrittweise zu ersetzen. Die konventionelle Herstellung von Leiterstrukturen beruht auf photochemischen Verfahren und dem mechanischen Bohren von Durchgangslöchern. Neuere Ansätze beinhalten das Bohren von kleinsten Löchern mittels Lasern oder durch Plasmaätzen bzw. durch mechanisches Eindrücken von Perforationswerkzeugen in Leiterplattenmaterial (Mikroperforation, vgl. dazu die internationale Offenlegungsschrift WO 00/13062).The constantly advancing miniaturization in the field of microelectronics also affects the manufacture of electrical connecting elements, in particular printed circuit boards, interconnects, etc. In many areas of application, there is a need to gradually replace the conventional manufacture of printed circuit boards with new methods. The conventional manufacture of conductor structures is based on photochemical processes and mechanical ones Drilling through holes. More recent approaches include drilling the smallest holes by means of lasers or by plasma etching or by mechanically pressing perforation tools into printed circuit board material (microperforation, cf. international publication WO 00/13062).

Während das Bohren von Mikrolöchern zunehmend mit neuen, den aktuellen Anforderungen angemessenen Methoden durchgeführt wird, wird die Strukturierung von Leiterzügen nach wie vor mit der an sich bewährten Methode der Photostrukturierung durchgeführt. Diese involviert aber eine Vielzahl von Fertigungsschritten, darunter das Belichten, Entwickeln und Strippen von Photoresist. Sie ist damit relativ aufwändig und beinhaltet durch die Vielzahl chemischer Verfahrensschritte auch umweltschutzliche Nachteile.While the drilling of microholes is increasingly being carried out using new methods that are appropriate to current requirements, the structuring of conductor tracks is still carried out using the method of photostructuring, which has proven itself. However, this involves a large number of manufacturing steps, including the exposure, development and stripping of photoresist. It is therefore relatively complex and, due to the large number of chemical process steps, also has environmental disadvantages.

Im Unterschied zu konventionellen Verfahren ist in der US-Patentschrift 6 005 198 ein Verfahren zur Herstellung von Leiterplatten beschrieben, welches unter anderem das simultane Eindrücken von U-förmigen Rinnen und von tassenförmigen Vertiefungen durch ein Prägewerkzeug in ein isolierendes und vorzugsweise duroplastisches Substrat vorsieht. Zur Bildung von Sacklöchern zur elektrischen Verbindung zweier Leiterlagen aus den tassenförmigen Vertiefungen muss anschliessend noch Material chemisch oder mechanisch entfernt werden. Daraufhin werden die Rinnen und die Vertiefungen metallisiert. Dies geschieht bspw., indem eine leitfähige Paste mit einer Gummiwalze in die Vertiefungen gepresst wird. Alternativ dazu kann auch das ganze Substrat beschichtet und anschliessend isolierendes Material (Ätzresist) mit einer Gummiwalze in die Vertiefungen eingebracht werden. In einem darauf folgenden Ätzprozess wird aufgrund des Ätzresists die in den Vertiefungen vorhandene Metallschicht geschützt. Durch dieses Verfahren werden einige Verarbeitungsschritte eingespart. Das Verfahren bedingt aber nach wie vor mehrere nasschemische Prozesse. Aufgrund der für die Funktionsfähigkeit des Verfahrens notwendigen relativ breiten U-Form der Vertiefungen sind ausserdem der Miniaturisierung Grenzen gesetzt. Ausserdem bestehen die Leiterbahnen konstruktionsbedingt entweder aus relativ wenig leitfähiger, aushärtbarer Paste („conductive ink") oder sie sind vergleichsweise dünn. Aus diesem Grund sind auch der erreichbaren Zuverlässigkeit und der durch die Leiterbahnen übertragbaren Leistung Grenzen gesetzt. Das Verfahren hat sich in der Praxis als wenig tauglich erwiesen, da das Eindrücken der Leiterpasten bzw. des Ätzresists immer mit Verschmierungen dieser Materialien auf der restlichen Oberfläche einhergeht. Die Oberfläche muss aber absolut frei von Beschichtungen und sauber sein, was dazu führt, dass diese nach dem Beschichtungsprozess und dem Aushärten mechanisch abgeschliffen werden muss.In contrast to conventional processes, US Pat. No. 6,005,198 describes a process for producing printed circuit boards which, among other things, provides for the simultaneous pressing of U-shaped grooves and cup-shaped depressions into an insulating and preferably thermosetting substrate by means of an embossing tool. In order to form blind holes for the electrical connection of two conductor layers from the cup-shaped depressions, material then has to be removed chemically or mechanically. The channels and the depressions are then metallized. This is done, for example, by pressing a conductive paste into the recesses using a rubber roller. As an alternative, the entire substrate can also be coated and then insulating material (etch resist) can be introduced into the depressions using a rubber roller. In a subsequent etching process, the metal layer present in the depressions is protected on the basis of the etching resist. This process saves some processing steps. However, the process still requires several wet chemical processes. Due to the relatively wide U-shape required for the functionality of the method In addition, there are limits to miniaturization. In addition, due to the design, the conductor tracks either consist of relatively little conductive, hardenable paste ("conductive ink") or they are comparatively thin. For this reason, the reliability that can be achieved and the power that can be transmitted by the conductor tracks are limited. The method has become practical proven to be unsuitable, since the pressing in of the conductor pastes or the etching resist is always accompanied by smearing of these materials on the rest of the surface, but the surface must be absolutely free of coatings and clean, which means that these are mechanical after the coating process and curing has to be ground down.

In der US-Patentschrift 6 035 527 wird ein neuartiges Verfahren zur Leiterplattenherstellung offenbart. In einem ersten Schritt werden in einem Substrat Vertiefungen für Leiterbahnen geformt. Anschliessend erfolgt eine homogene Abscheidung von leitendem Material bspw. durch ein Chemical- Vapour-Deposition- Verfahren. Anschliessend wird wieder Leitermaterial entfernt, wobei in den Vertiefungen etwas Leitermaterial zurückbleibt, welches Leiterbahnen bildet.US Pat. No. 6,035,527 discloses a novel method for manufacturing printed circuit boards. In a first step, depressions for conductor tracks are formed in a substrate. This is followed by a homogeneous deposition of conductive material, for example by a chemical vapor deposition process. Subsequently, conductor material is removed again, with some conductor material remaining in the depressions, which forms conductor tracks.

In der US-Patentschrift 4 651 417 wird ein Leiterplatten-Herstellungsverfahren beschrieben, in welchem einem Substrat Vertiefungen für die Leiterbahnen mechanisch beigebracht werden. Anschliessend wird das Substrat homogen mit Material beschichtet, wofür ein Vakuum-Abscheidungsprozess, nämlich ein „magnetically enhanced sputtering" -Verfahren verwendet wird. Schliesslich wird das Leitermaterial wieder von der Substratoberfläche abgeschliffen, wobei in den Vertiefungen Leitermaterial zurückbleibt und die Leiterbahnen bildet. Wenn die erreichten Schichtdicken nicht genügen, kann zusätzlich noch Material galvanisch abgeschieden werden. In der US-Patentschrift 4 912 844 wird ein Verfahren zur Leiterplattenherstellung beschrieben, gemäss welchem Kanäle für Leiterbahnen in ein Substrat hineingedrückt und anschliessend mit Lötzinn aufgefüllt werden.US Pat. No. 4,651,417 describes a printed circuit board production method in which recesses for the conductor tracks are mechanically introduced into a substrate. The substrate is then coated homogeneously with material, for which a vacuum deposition process, namely a "magnetically enhanced sputtering" process, is used. Finally, the conductor material is ground off again from the substrate surface, with conductor material remaining in the depressions and forming the conductor tracks achieved layer thicknesses are not sufficient, material can also be galvanically deposited. US Pat. No. 4,912,844 describes a method for producing printed circuit boards according to which channels for printed conductors are pressed into a substrate and then filled up with solder.

Die britische Offenlegungsschrift 2 212 331 und die japanische Patentanmeldung 11 146698 zeigen je ein Verfahren zum Herstellen von Leiterplatten aus Kunststoff, wo ein Muster von Vertiefungen in deformierbaren Kunststoff hineingepresst und anschliessend eine Leiterpaste in die Vertiefungen gedrückt wird.British Laid-Open Specification 2 212 331 and Japanese Patent Application 11 146698 each show a process for producing printed circuit boards made of plastic, where a pattern of depressions is pressed into deformable plastic and a conductor paste is then pressed into the depressions.

All diese Ansätze verdeutlichen, dass das mechanische Beibringen von Leiterbahnstrukturen als Alternative zu den in der Anwendung dominanten photochemischen Verfahren die Fachwelt schon seit längerer Zeit beschäftigt und anregt. Trotzdem hat sich bis jetzt keines dieser Verfahren durchgesetzt. Gründe sind unter anderem die Folgenden:All of these approaches make it clear that the mechanical teaching of conductor track structures as an alternative to the dominant photochemical processes in use has long been an issue for experts. Nonetheless, none of these procedures has been established so far. The reasons include the following:

- Praktisch sämtliche der vorstehend beschriebenen Verfahren bedingen, dass in einem Verfahrenschritt Leitermaterial oder Leitermaterialreste mechanisch von zwischen den Leiterbahnen liegenden Flächen entfernt werden. Dies ist aber nicht geeignet für sehr feine Leiterbahnstrukturen. Als Alternativen werden mindestens einer der vorgenannten Schriften das selektive Entfernen von Material von den Flächen mittels Laser-Ablation genannt. Als hochgradig sequentieller Prozess ist das aber nicht ökonomisch.- Virtually all of the methods described above require that conductor material or conductor material residues are mechanically removed from surfaces lying between the conductor tracks in one method step. However, this is not suitable for very fine conductor track structures. As alternatives, at least one of the abovementioned documents is the selective removal of material from the surfaces by means of laser ablation. As a highly sequential process, this is not economical.

- Vakuum-Abscheidungen (Sputtern, CVD, Aufdampfen) sind sehr langsame und kostenintensive Prozesse. Auch das mechanische Einbringen von elastischer Leiterpaste (mit Rakel etc.) hat sich als für die Massenproduktion nur bedingt tauglich herausgestellt. Mit den vorgeschlagenen Ansätzen ist es kaum möglich, gleichzeitig sehr feine Leiterbahnstrukturen und Leiterbahnen mit einer verhältnismässig grossen Leitfähigkeit herzustellen. Die Leiterbahnen gemäss den Ansätzen sind alle entweder sehr dünn oder in der spezifischen Leitfähigkeit beschränkt (Leiterpaste...)- Vacuum deposition (sputtering, CVD, vapor deposition) are very slow and costly processes. The mechanical introduction of elastic conductor paste (with a squeegee, etc.) has also proven to be of limited suitability for mass production. With the proposed approaches, it is hardly possible to simultaneously produce very fine conductor track structures and conductor tracks with a relatively high conductivity. The conductor tracks according to the approaches are all either very thin or limited in their specific conductivity (conductor paste ...)

Der Erfindung stellt sich die Aufgabe, ein Verfahren zum Herstellen von elektrisch leitenden Strukturen unter Benutzung von Vertiefungen in einem Substrat zur Verfügung zu stellen. Dabei sollte das Verfahren ermöglichen, dass die Strukturen wie Leiterbahnen und Durchgangslöcher möglichst kleine laterale Abmessungen haben können. Im Vergleich zum Stand der Technik darf aber die Zuverlässigkeit und die Leistungsfähigkeit der Strukturen nicht kleiner werden. Bei Leiterbahnen ergibt sich daher die Forderung, dass sie im Vergleich zu bestehenden Systemen in Bezug zur Oberfläche weniger flache Querschnittsanteile, d.h. eine hinreichend grosse Tiefe im Substrat aufweisen sollten. Das Herstellungsverfahren sollte ökonomisch und mit auf vorhandener Technologie beruhenden Gerätschaften realisierbar sein.The object of the invention is to provide a method for producing electrically conductive structures using depressions in a substrate. The method should enable the structures such as conductor tracks and through holes to have the smallest possible lateral dimensions. Compared to the state of the art, however, the reliability and performance of the structures must not decrease. In the case of conductor tracks, there is therefore the requirement that, compared to existing systems, they have less flat cross-sectional portions in relation to the surface, i.e. should have a sufficient depth in the substrate. The manufacturing process should be economical and feasible with equipment based on existing technology.

Ein Verfahren mit diesen Eigenschaften wird von der Erfindung zur Verfügung gestellt, wie sie in den Patentansprüchen definiert ist.A method with these properties is provided by the invention as defined in the claims.

Das Verfahren zeichnet sich im Wesentlichen dadurch aus, dass Vertiefungen für Leiterstrukturen beigebracht und galvanisch aufgefüllt werden. In einem anschliessenden Schritt wird ggf. Leitermaterial von den zwischen den Leiterbahnen liegenden Stellen entfernt. Galvanische Verfahren sind schnell und effizient. Die galvanisch aufgebrachten Leiterstrukturen können bspw. aus Kupfer sein; das Material der erhaltenen Strukturen weist eine hohe spezifische Leitfähigkeit auf. Trotzdem wurde das galvanische Auffüllen von Leiterbahnstrukturen bisher nie in Betracht gezogen. Ein wesentlicher Grund dafür ist in der Figur lb dargestellt. Die Figur zeigt die sog. „Lunker"-Bildung auf. Die Linien 41" zeigen den Verlauf der Oberfläche bei verschiedenen Mengen aufgetragenen Materials. Da sich das Leitermaterial 103" beim Galvanisieren auf das beschichtete Substrat 101" an Ecken bevorzugt und in Vertiefungen kaum anlagert, bildet sich eine Art Hohlraum („Lunker") 111', wenn das Verhältnis zwischen Breite und Tiefe der aufzufüllenden Vertiefung klein wird. Daher wurden Vertiefungen, bei denen das Aspektverhältnis mehr als 1:3, 1:2 oder gar 2:3 oder 1:1 oder mehr beträgt, bisher nicht für das galvanische Auffüllen in Betracht gezogen. Wenn die Strukturen zur Verhinderung der Lunker-Bildung aber sehr flach gewählt werden, werden der Miniaturisierung in unerwünschter Weise Grenzen gesetzt; auch ist es dann schwierig, in den Bereichen zwischen den Leiterstrukturen Leitermaterial abzutragen, ohne dass das Leitermaterial auch von den Leiterstrukturen selbst vollständig entfernt wird. Das Auffüllen von sehr flachen Strukturen gemäss dem Stand der Technik ist anhand der Figur la dargestellt. In der Figur ist eine typische Substratform 101' dargestellt, welche eine dünne Beschichtung aufweist, und auf welche eine Leiterschicht 103' aufgalvanisiert wurde. Die dargestellten Linien 41' zeigen den Verlauf der Oberfläche des Leitermaterials bei verschiedenen Mengen aufgetragenen Materials. Auch bei relativ grossen Schichtdicken sind Vertiefungen im Substrat auf der Oberfläche noch sichtbar.The process is essentially characterized in that recesses for conductor structures are made and galvanically filled. In a subsequent step, conductor material may be removed from the locations between the conductor tracks. Galvanic processes are quick and efficient. The galvanically applied conductor structures can be made of copper, for example; the material of the structures obtained has a high specific conductivity. Nevertheless, the galvanic filling of conductor track structures has never been considered. An essential reason for this is shown in FIG. 1b. The figure shows the so-called "blow hole" formation. The lines 41 "show the course of the surface with different amounts of applied material. Since the conductor material 103 "preferred at corners during electroplating onto the coated substrate 101" and hardly accumulates in depressions, a kind of cavity ("blow hole") 111 'forms when the ratio between the width and depth of the depression to be filled becomes small Wells in which the aspect ratio is more than 1: 3, 1: 2 or even 2: 3 or 1: 1 or more have so far not been considered for the galvanic filling, but if the structures for preventing the formation of voids are very good If you choose flat, there are undesirable limits to miniaturization, and it is then difficult to remove conductor material in the areas between the conductor structures without the conductor material being completely removed from the conductor structures themselves The technique is illustrated with reference to Figure la, which shows a typical substrate shape 101 ', which is a e has a thin coating, and onto which a conductor layer 103 'has been electroplated. The lines 41 'shown show the course of the surface of the conductor material with different amounts of material applied. Even with relatively large layer thicknesses, depressions in the substrate are still visible on the surface.

Ein Ansatz für die Verhinderung der „Lunker"-Bildung ist das „puls-plating" oder das sog. „reverse-puls-plating"-Verfahren. Gemäss diesem letzteren Verfahren wird der Strom mehrmals umgepolt, was dazu führt, dass Material abwechselnd auf das Substrat aufgeschieden und wieder abgetragen wird. Damit kann im optimalen Fall eine „Lunker"-Bildung vermieden werden, wenn das Aspektverhältnis nicht allzu gross ist. Der apparative Aufwand und die einzusetzende Energie sind aber grosse Nachteile.One approach to preventing the formation of “voids” is the “pulse-plating” or the so-called “reverse-pulse-plating” method. According to this latter method, the current is reversed several times, which leads to material alternatingly the substrate is separated and removed again. In the optimal case, a “blow hole” formation can be avoided if the aspect ratio is not too great is big. The expenditure on equipment and the energy to be used are, however, major disadvantages.

Die US-Patentschrift 6 211 071 befasst sich ohne konkrete Angaben mit dem üblichen galvanischen Auffüllen von Strukturen mit einer charakteristischen Grosse von 2 μm oder weniger zur Herstellung von integrierten Schaltungen. Es werden keine Aussagen darüber gemacht, ob „puls-plating" oder „reverse-pulse-plating" etc. verwendet wird. Zur Verhinderung der „Lunker"-Bildung wird dort vorgeschlagen, dass die Kanten der Vertiefungen abgeschrägt werden, womit ein grösseres Aspektverhältnis erreicht werden kann. Nachteilig ist aber unter anderem, dass durch die Abschrägungen doch wieder viel Fläche (Leiterbreite) beansprucht wird. Das Herstellen der Abschrägungen ist fertigungstechnisch nicht einfach, und wäre nur mit grossem Aufwand auf Leiterplatten zu übertragen. Ausserdem liegen die Dimensionen im Bereich von 0,1 μm. Dadurch dominiert in diesen „Nanostrukturen" bei elektrochemischen und chemischen Prozessen die Diffusion und nicht, wie bei MikroStrukturen, mit denen sich die Erfindung hauptsächlich befasst, die Konvektion (Strömung). Weiter muss der Wafer gemäss der Lehre dieses Dokuments nach dem Auffüllen chemisch-mechanisch planarisiert werden.US Pat. No. 6,211,071 deals with the usual galvanic filling of structures with a characteristic size of 2 μm or less for the production of integrated circuits without specific information. No statements are made as to whether “pulse plating” or “reverse pulse plating” etc. is used. To prevent the formation of “voids”, it is proposed there that the edges of the depressions are chamfered, with which a larger aspect ratio can be achieved. However, one disadvantage is that the chamfers again require a large area (conductor width) The bevelling is not easy from a manufacturing point of view, and would be difficult to transfer to printed circuit boards. In addition, the dimensions are in the range of 0.1 μm. As a result, diffusion dominates in these "nanostructures" in electrochemical and chemical processes and not, as in microstructures , which the invention is primarily concerned with, convection (flow). Furthermore, according to the teaching of this document, the wafer must be planarized chemically and mechanically after filling.

Dem erfindungsgemässen Verfahren liegt die Erkenntnis zu Grunde, dass es möglich ist, Vertiefungen auch mit steilen („senkrechten" bzw. im wesentlichen parallelen) Wänden, mit Aspektverhältnissen von 1:5 bis 5:1 oder mehr und mit Abmessungen von weniger als ca. 10 μm bis mehreren 100 μm galvanisch aufzufüllen. Die Erkenntnis, dass das galvanische Auffüllen von im Wesentlichen kanalförmigen, d.h. langgezogenen Vertiefungen mit solchen Aspektverhältnissen möglich ist, ist überraschend. Auch das Verhältnis zwischen Strukturtiefe und insgesamt beim Galvanisieren abgeschiedenem Material kann überraschend günstig sein. Eine wichtige Erkenntnis ist die Verwendung von Kupfer- oder anderen Elektrolyte, wie sie in der dekorativen Galvanik verwendet werden. Es hat sich dabei überraschenderweise herausgestellt, dass solche Elektrolyten in hervorragender Weise für das Auffüllen von lunkerfreien Vertiefungen zur Bildung von Leiterstrukturen geeignet sind.The method according to the invention is based on the knowledge that it is possible to also form depressions with steep (“vertical” or essentially parallel) walls, with aspect ratios of 1: 5 to 5: 1 or more and with dimensions of less than approx. The finding that the galvanic filling of essentially channel-shaped, ie elongated depressions with such aspect ratios is possible is surprising. The relationship between structure depth and the total material deposited during electroplating can also be surprisingly favorable. An important finding is the use of copper or other electrolytes, such as those used in decorative electroplating. It has surprisingly been found that such electrolytes are outstandingly suitable for filling void-free depressions to form conductor structures.

In der dekorativen Galvanik soll durch galvanisches Beschichten mit meist möglichst geringen Herstellungskosten eine glänzende und häufig auch glatte Oberfläche erwirkt werden. Besonders dekorativ wirken bspw. Nickel, Chrom oder Silber. Häufig wird aber vor dem Aufbringen eines dieser Metalle Kupfer auf einer Oberfläche abgeschieden. Saure Kupferelektrolyte sind kostengünstig und haben hohe Abscheidungsgeschwindigkeiten. Durch geeignete organische Zusätze kann ausserdem der Effekt bewirkt werden, dass Kratzer etc. ausnivelliert werden. Die Erfindung macht sich diesen Effekt zu Nutze.In decorative electroplating, a shiny and often also smooth surface is to be achieved by electroplating with the lowest possible manufacturing costs. Nickel, chrome or silver, for example, have a particularly decorative effect. Often, however, copper is deposited on a surface before one of these metals is applied. Acidic copper electrolytes are inexpensive and have high deposition rates. Suitable organic additives can also have the effect of leveling out scratches etc. The invention takes advantage of this effect.

Das erfindungsgemässe Verfahren zeichnet sich im Wesentlichen dadurch aus, dass Vertiefungen in einem elektrisch isolierenden Substrat nach dem Beschichten mit einer ersten Leitfähigen Schicht („Seed Layer") vollständig galvanisch aufgefüllt bzw. lunkerfrei werden. Die Vertiefungen haben ein Aspektverhältnis von 1:5 bis 5:1, vorzugsweise zwischen 2;3 und 2,5:1 eine Breite von zwischen 5 μm und mehreren 100 μm, vorzugsweise zwischen 10 μm und 500 μm und bspw. zwischen 15 μm und 300 μm.The method according to the invention is essentially characterized in that depressions in an electrically insulating substrate are completely galvanically filled or free of voids after being coated with a first conductive layer (“seed layer”. The depressions have an aspect ratio of 1: 5 to 5 : 1, preferably between 2; 3 and 2.5: 1 a width of between 5 μm and several 100 μm, preferably between 10 μm and 500 μm and for example between 15 μm and 300 μm.

Gemäss einer ersten, bevorzugten Ausführungsform erfolgt das Aufbringen der ersten leitfähigen Schicht flächig auf die ganze mit der Leiterstruktur zu versehende Substratoberfläche. Das Auffüllen erfolgt dann, indem das ganze Substrat galvanisch mit Leitermaterial überwachsen wird, bis die Vertiefungen mit Leitermaterial aufgefüllt sind. Es lagert sich also auch an den zwischen den Leiterstrukturen liegenden Flächen Leitermaterial an. Nach dem Auffüllen erfolgt daher ein erneut nasschemisch bewirktes Abtragen von Leitermaterial, bis diese Flächen wieder frei von einer Leiterbeschichtung sind.According to a first, preferred embodiment, the first conductive layer is applied to the entire substrate surface to be provided with the conductor structure. The filling is then carried out by electroplating the entire substrate with conductor material until the depressions are filled with conductor material. It also attaches to the between the conductor structures lying surfaces of conductor material. After filling, there is again a wet chemical removal of conductor material until these surfaces are again free of a conductor coating.

Gemäss einer Ausführungsform wird von einem Substrat ausgegangen, welches mit Hilfe einer geeigneten Form so gegossen oder gespritzt worden ist, dass die Vertiefungen beim Giessen oder Spritzen entstanden sind.According to one embodiment, a substrate is used which has been cast or sprayed with the aid of a suitable mold in such a way that the depressions are formed when casting or spraying.

Das Substrat kann auch als Duroplast ausgebildet und an einer Form ausgehärtet worden sein, welche den Vertiefungen entsprechende Erhebungen besitzt.The substrate can also be designed as a thermoset and hardened on a mold which has elevations corresponding to the depressions.

Eine weitere Ausführungsform sieht vor, dass das Substrat ausgehend von einem Vorprodukt mit einer flachen Oberfläche erzeugt worden ist. Die Vertiefungen sind mit Laser-Ablation, durch (mechanisches) Fräsen oder Bohren mit einem MikroWerkzeug, durch platisches Verformen („Prägen") etc. beigebracht.Another embodiment provides that the substrate has been produced from a preliminary product with a flat surface. The recesses are made with laser ablation, by (mechanical) milling or drilling with a micro tool, by platical shaping ("embossing") etc.

Der jeweilige Vertiefungs-Formungs-Schritt kann von einem nasschemischen Nachreinigungsschritt oder von einem Plasma-Reinigungsschritt gefolgt worden sein.The respective deepening step may have been followed by a wet chemical post-cleaning step or by a plasma cleaning step.

Eine weitere Möglichkeit besteht darin, dass die Vertiefungen photochemisch, konventionell oder mit einem LIGA (Rönten-Lithografie, Galvanik und Abformung) -Verfahren (o.a.) etc. beigebracht sind. Die Vertiefungen können auch mittels Plasma-Ablation, mit Hilfe einer geeigneten Maske oder Schutzschicht erzeugt worden sein. Die Leiterstrukturen, die durch Auffüllen von Vertiefungen erzeugt worden sind, können verschiedene Funktionen erfüllen. Sie können als konventionelle Leiterbahnen oder Kontaktierungen zwischen verschiedenen Leiterschichten in elektrischen Verbindungselementen (Leiterplatten, HDIs etc.) dienen. Sie können auch Kontaktflächen bilden, als Impedanzen fungieren oder der Erzeugung von bestimmten elektrischen und/oder magnetischen Feldern dienen etc.Another possibility is that the wells are made photochemically, conventionally or with a LIGA (X-ray lithography, electroplating and impression) process (above) etc. The depressions can also have been created by means of plasma ablation, with the aid of a suitable mask or protective layer. The conductor structures which have been produced by filling in depressions can fulfill various functions. They can serve as conventional conductor tracks or contacts between different conductor layers in electrical connection elements (printed circuit boards, HDIs etc.). They can also form contact areas, act as impedances or serve to generate certain electrical and / or magnetic fields, etc.

Damit die zwischen den Leiterstrukturen befindlichen Oberflächenabschnitte frei von Leitermaterial sind, wird anschliessend an das Auffüllen der Vertiefungen Leitermaterial wieder entfernt. Das geschieht vorzugsweise erneut nasschemisch in an sich bekannter Art. Es ist eine wesentliche Errungenschaft der Erfindung, dass es möglich ist, dass die abzutragenden Leitermaterialschichten - im Kontext dieser Beschreibung ist die Rede von der , Restschicht-Dicke' - dünn sind im Vergleich zu den Abmessungen der Strukturen. Dies macht das galvanische Auffüllen und auch den Abtragschritt kostengünstig und im Vergleich zum Stand der Technik umweltfreundlicher.To ensure that the surface sections between the conductor structures are free of conductor material, conductor material is removed again after the recesses have been filled. This is preferably done again wet-chemically in a manner known per se. It is an essential achievement of the invention that it is possible that the conductor material layers to be removed - in the context of this description the "residual layer thickness" is thin - compared to that Dimensions of the structures. This makes the galvanic filling and also the removal step inexpensive and more environmentally friendly in comparison to the prior art.

Es hat sich gezeigt, dass gemäss einer Ausführungsform der Erfindung eine Restschichtdicke von zwischen 2 und 30 μm oder sogar zwischen 2 und 10 μm erreicht werden kann, wenn die Tiefe und Breite der aufgefüllten Strukturen sich im Bereich 20 bis 50 μm bewegt, wobei nach dem Galvanik-Schritt die Oberfläche im Wesentlichen eben bzw. sogar spiegelglatt ist - ein sehr erstaunliches Resultat.It has been shown that, according to one embodiment of the invention, a residual layer thickness of between 2 and 30 μm or even between 2 and 10 μm can be achieved if the depth and width of the filled structures are in the range from 20 to 50 μm, according to Electroplating step the surface is essentially flat or even mirror-smooth - a very astonishing result.

Das Aspektverhältnis (das Verhältnis von Tiefe zu Breite) liegt wie erwähnt zwischen 1:5 und 5:1, vorzugsweise zwischen 1:2 und 3:1, besonders bevorzugt zwischen 2:3 und 2,5:1 für einige Anwendungen bei mindestens 1:1 oder bei mindestens 3:2. Das erfindungsgemässe Verfahren ist verblüffend einfach und sehr rasch und damit ökonomisch. Zusätzlich wirkt sich auf die Attraktivität des Verfahrens die Tatsache positiv aus, dass saure Kupferelektrolytlösungen für (dekorativ-)galvanische Anwendungen auf dem Markt kostengünstig als Massenprodukt erhältlich sind.As mentioned, the aspect ratio (the ratio of depth to width) is between 1: 5 and 5: 1, preferably between 1: 2 and 3: 1, particularly preferably between 2: 3 and 2.5: 1 for some applications at least 1 : 1 or at least 3: 2. The method according to the invention is amazingly simple and very quick and therefore economical. In addition, the fact that acidic copper electrolyte solutions for (decorative) galvanic applications are inexpensive and mass-marketable has a positive effect on the attractiveness of the process.

Es sei hier noch kurz festgehalten, dass gemäss einer bevorzugten und wichtigen Ausführungsform für das galvanische Auffüllen der Vertiefungen ein Kupferelektrolyt aus der dekorativen Galvanik mit entsprechenden Zusätzen verwendet wird. Selbstverständlich ist das Verfahren aber auch anwendbar mit anderen Elektrolyten aus der Beschichtungstechnik, welche Zusätze enthalten, die glättend bzw. einebnend wirken.It should be briefly stated here that, according to a preferred and important embodiment, a copper electrolyte from decorative electroplating with corresponding additives is used for the galvanic filling of the depressions. Of course, the method can also be used with other electrolytes from coating technology, which contain additives that have a smoothing or leveling effect.

Die Erfindung erlaubt eine einfache Optimierung von Leiterbahn-Querschnitten in elektrischen Verbindungselementen. Die Leiterbahnen können bspw. einen im Wesentlichen rechteckigen Querschnitt aufweisen, welcher dabei aber ein im Vergleich zum Stand der Technik wesentlich günstigeres Aspektverhältnis besitzt.The invention allows simple optimization of conductor cross sections in electrical connection elements. The conductor tracks can, for example, have an essentially rectangular cross section, which, however, has an aspect ratio that is significantly more favorable than in the prior art.

Im Gegensatz zu Leiterplatten gemäss dem Stand der Technik erlaubt die Erfindung auch ohne Weiteres Leiterbahnen unterschiedlicher Dicke zu erzeugen. Es können bspw. Leistungsleiterbahnen und Signalleiterbahnen auf derselben Leiterplatte und in einem Verarbeitungsschritt hergestellt werden.In contrast to printed circuit boards according to the prior art, the invention also makes it possible to easily produce conductor tracks of different thicknesses. For example, power conductor tracks and signal conductor tracks can be produced on the same printed circuit board and in one processing step.

Der Elektrolyt ist eine wässrige Lösung und besitzt zumindest drei Gruppen von Komponenten:The electrolyte is an aqueous solution and has at least three groups of components:

A. Ein Übergangsmetall- oder Edelmetallsalz, bspw. ein Kupfersulfat, Kupfer- Fluoroborat, Kupferazetat, Kupfernitrat, Kupferzyanid, etc. B. Säure, bspw. Schwefelsäure, eine Sulfonsäure, Fluoroborsäure, Sulfaminsäure, Salzsäure etc.A. A transition metal or noble metal salt, for example a copper sulfate, copper fluoroborate, copper acetate, copper nitrate, copper cyanide, etc. B. acid, for example. Sulfuric acid, a sulfonic acid, fluoroboric acid, sulfamic acid, hydrochloric acid etc.

C. Organische Zusätze wie bspw. schwefelhaltige aliphatische Propansulfonsäure- Derivate, Thioharnstoff und -derivate, Dithioalkylsäurederivate, Orthophosphorsäure, Thiophosphorsäureester, aromatische Thioverbindungen, Gelatine, Molasse, Phenazoniumderivate, Polyalkylenglykoläther, Formaldehyd, Dithiocarbonate, Mercaptoverbindungen, Dithiocarbamylverbindungen, B enzothiazolyl Verbindungen, Ethylenaminverbindungen, Methylendisulf id- verbindungen, Bernsteinsäureverbindungen, Sulfobernsteinsäureverbindungen.C. Organic additives such as, for example, sulfur-containing aliphatic propanesulfonic acid derivatives, thiourea and derivatives, dithioalkyl acid derivatives, orthophosphoric acid, thiophosphoric acid esters, aromatic thio compounds, gelatin, molasses, phenazonium derivatives, polyalkylene glycol ether, formaldehyde, ditocarboxyl compounds, dithiocarbonyl compound, dithiocarbonyl compound, dithocarboxyl compounds, id compounds, succinic acid compounds, sulfosuccinic acid compounds.

Der Elektrolyt kann ferner aufweisen: Puffermittel, ein Alkali- oder Erdalkalisalz (bspw. NaCl), und/oder weitere organische oder anorganische Zusätze.The electrolyte can further comprise: buffering agent, an alkali or alkaline earth salt (for example NaCl), and / or other organic or inorganic additives.

Im Folgenden werden noch Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand von Zeichnungen genauer beschrieben. In den Zeichnungen zeigen:Exemplary embodiments of the invention are described in more detail below with reference to drawings. The drawings show:

die Figuren 2a, 2b und 3 eine sehr schematische Darstellung des erfindungsgemässen Vorgehens, anhand eines Querschnitts senkrecht zurFigures 2a, 2b and 3 is a very schematic representation of the procedure according to the invention, using a cross section perpendicular to

Substratoberfläche,Substrate surface,

Figur 4 schematisch eine Draufsicht auf einen entlang einer horizontalen Ebene geschnittenen Behälter zur Ausführung des galvanischen Prozessschrittes als Batch-Prozess,FIG. 4 shows a schematic plan view of a container cut along a horizontal plane for carrying out the galvanic process step as a batch process,

- Figuren 4a und 4b Details zu Figur 4, Figur 4c einen vertikalen Schnitt durch die Anordnung der Figur 4,4a and 4b details of FIG. 4, FIG. 4c shows a vertical section through the arrangement of FIG. 4,

Figur 5 sehr schematisch ein Beispiel für eine Anordnung zur Durchführung des galvanischen Beschichtens/Auffüllens als kontinuierlicher Prozess,FIG. 5 shows very schematically an example of an arrangement for performing the galvanic coating / filling as a continuous process,

Figur 6 ein Schema für den Elektrolytkreislauf gemäss einer speziellen Variante,FIG. 6 shows a diagram for the electrolyte circuit according to a special variant,

die Figuren 7 bis 10 schematisch eine Auswahl von Methoden zum Beibringen von Vertiefungen in elektrisch isolierenden Platten,FIGS. 7 to 10 schematically show a selection of methods for making depressions in electrically insulating plates,

Figuren 11a, 11b und 11c Schnitte durch einen Bereich einer Leiterplatte während verschiedenen Stadien im Herstellungsprozess,11a, 11b and 11c sections through an area of a printed circuit board during various stages in the manufacturing process,

- Figuren 12a, 12b und 12c Schnitte durch einen Bereich einer Ausführungsform des erfindungsgemässen elektrischen Verbindungselements während verschiedenen Stadien der Herstellung,FIGS. 12a, 12b and 12c sections through a region of an embodiment of the electrical connecting element according to the invention during various stages of manufacture,

Figuren 13a, 13b und 13c Schnitte durch einen Bereich einer weiteren Ausführungsform der erfindungsgemässen elektrischen Verbindungselements während verschiedenen Stadien der Herstellung.FIGS. 13a, 13b and 13c sections through a region of a further embodiment of the electrical connecting element according to the invention during various stages of manufacture.

In den Figuren 2a und 2b ist ein Substrat 101 mit Vertiefungen dargestellt, die gemäss dem Ausführungsbeispiel der Erfindung aufgefüllt werden. In einem ersten Schritt wird auf das Substrat 101 eine Beschichtung mit einer dünnen Leiterschicht aufgebracht. „Dünn" bedeutet in diesem Zusammenhang eine im Vergleich mit den charakteristischen Abmessungen der Vertiefungen kleine Dicke, bspw. ca. 50-500 nm, 100-300 nm, 150-250 nm etc., also bspw. zwischen einem tausendstel und einigen hundertstel der Breite einer typischen Vertiefung. Das Aufbringen kann beispielsweise in einer Vakuumkammer mittels Sputtern geschehen. Auch andere Methoden wie Chemical Vapour Deposition (CVD), thermisches Aufdampfen, anodisches Aufdampfen, einfaches, nasschemisches Abscheiden oder weitere chemische oder physikalische Methoden sind denkbar. Als Beschichtungsmaterial wird vorzugsweise Kupfer verwendet, aber auch andere Leitermaterialien wie Silber, Chrom, Titan, etc. sind möglich. Bei bestimmten Polymermaterialien kann direkt Kupfer aufgebracht werden, ohne dass Probleme mit der Haftfestigkeit auftreten. In anderen Fällen müssen zuerst sogenannte Haftschichten aus Chrom, Titan oder Wolfram abgeschieden werden. In einem zweiten Schritt wird üblicherweise Kupfer aufgebracht. In einem solchen Fall setzt . sich die dünne Leiterschicht also aus zwei oder eventuell auch mehr metallischen Schichten zusammen.FIGS. 2a and 2b show a substrate 101 with depressions which are filled in according to the exemplary embodiment of the invention. In a first step, a coating with a thin conductor layer is applied to the substrate 101. In this context, “thin” means a small thickness in comparison with the characteristic dimensions of the depressions, for example approx. 50-500 nm, 100-300 nm, 150-250 nm etc., that is to say for example between one thousandth and a few hundredths The width of a typical depression can be applied, for example, in a vacuum chamber by means of sputtering. Other methods such as chemical vapor deposition (CVD), thermal vapor deposition, anodic vapor deposition, simple wet chemical deposition or other chemical or physical methods are also conceivable. The coating material is preferred Copper is used, but other conductor materials such as silver, chromium, titanium, etc. are possible .. With certain polymer materials, copper can be applied directly without problems with the adhesive strength. In other cases, so-called adhesive layers made of chromium, titanium or tungsten must first be deposited In a second step, Ku horse upset. In such a case sets. the thin conductor layer is composed of two or possibly more metallic layers.

Anschliessend werden die Vertiefungen galvanisch aufgefüllt. Die Linien 41 stellen dabei die Oberfläche der Leiterschicht 103 während verschiedenen Stadien des Galvanisierens dar. Wie aus der Figur deutlich hervorgeht, wird sehr rasch eine flache Oberfläche erreicht. Die gestrichelte Linie in den Figuren stellen die Oberflächenebene des Substrats dar. Die Grossen b und t stehen für Breite respektive Tiefe der Vertiefung. Neben den in den Figuren dargestellten, näherungsweise rechteckigen bzw. U-förmigen Querschnitten sind auch beliebige andere, mit einem Prägestempel beibringbare Querschnitte für die Vertiefungen denkbar.The wells are then filled galvanically. The lines 41 represent the surface of the conductor layer 103 during various stages of the electroplating. As can be clearly seen from the figure, a flat surface is reached very quickly. The dashed line in the figures represents the surface plane of the substrate. The sizes b and t represent the width and depth of the depression, respectively. In addition to the approximately rectangular or U-shaped cross sections shown in the figures, any other cross sections for the depressions that can be provided with an embossing stamp are also conceivable.

Auch in den Figuren eingezeichnet ist die Restschichtdicke r, d.h. die Dicke des aufgetragenen Materials an den Stellen der Oberfläche, an denen das End- oder Zwischenprodukt frei von Leitermaterial sein soll. Es hat sich gezeigt, dass sich je nach Elektrolyt und Galvanikverfahren die Restschichtdicke im Idealfall auf zwischen 10 _μm und 30 μm, zwischen 10 _μm und 20 μm oder sogar zwischen 10 _μm und 15 μm halten lässt. Dies gilt in einem breiten Bereich von Abmessungen der Vertiefungen von zwischen 20 _μm und 50 μm, praktisch unabhängig von der Grosse der Vertiefungen. Häufig lässt sich die Bedingung r<t, meist auch r<2t problemlos erfüllen.Also shown in the figures is the residual layer thickness r, ie the thickness of the material applied at the points on the surface where the final or Intermediate product should be free of conductor material. It has been shown that depending on the electrolyte and the electroplating process, the remaining layer thickness, ideally between 10 _μ m and 30 microns, between 10 _μ m and 20 microns or even between 10 _μ m and 15 can be kept microns. This applies in a broad range of dimensions of the recesses of between 20 _μ m and 50 microns, practically independent of the size of the recesses. The condition r <t, usually also r <2t, can often be met without any problems.

Beim Auffüllen wird für den Galvanik, d.h. Elektroplattierungsprozess bspw. kein „Reverse Pulse Plating" verwendet, d.h. die Polung wird beim Galvanisierungsprozess nicht oder bspw. höchstens zweimal umgekehrt. Als Materialien kommen Kupfer, aber prinzipiell auch andere Leitermaterialen in Frage, bspw. Silber. Auf den Elektroplattierschritt wird nachfolgend noch näher eingegangen. Nach dem Bearbeitungsschritt weist die Substratschicht eine die Vertiefungen füllende und darüber hinaus auch das ganze Substrat flächig bedeckende Plattierung auf.When filling is used for electroplating, i.e. Electroplating process, for example, no "reverse pulse plating" is used, ie the polarity is not reversed or, for example, reversed at most twice during the electroplating process. The materials used are copper, but in principle also other conductor materials, for example silver. The electroplating step is discussed in more detail below After the processing step, the substrate layer has a plating that fills the depressions and also covers the entire substrate.

In einem weiteren Schritt gemäss Figur 3 wird die Plattierung so lange abgetragen, bis das Leitermaterial 103' nur noch and den Stellen vorhanden ist, an denen es vorgesehen ist, also bspw. in Vertiefungen für Leiterbahnen, Durchgangslöchern und an Kontaktierungsstellen. Das Abtragen kann nasschemisch durch Ätzen erfolgen. Dies kann an sich bekannter Art, bspw. im Chemikalienbad oder durch Besprühen mit einer Ätzlösung geschehen. Alternativ zum Ätzen sind aber auch andere Abtragmethoden verwendbar, bspw. mechanische Abtragmethoden wie Feinschleifen-„lappen" oder weitere chemische oder physikalische Abtragmethoden.In a further step in accordance with FIG. 3, the plating is removed until the conductor material 103 'is only present at the points at which it is provided, for example in depressions for conductor tracks, through holes and at contact points. The removal can take place wet-chemically by etching. This can be done in a manner known per se, for example in a chemical bath or by spraying with an etching solution. As an alternative to etching, however, other removal methods can also be used, for example mechanical removal methods such as fine grinding “flaps” or other chemical or physical removal methods.

Das Galvanisieren oder Elektroplattieren mit Kupfer gemäss dem hier beschriebenen Ausführungsbeispiel der Erfindung kann in einer Vorrichtung gemäss den Figuren 4 und 4c durchgeführt werden. An dieser Stelle wird ein Batch-Prozess beschrieben, wo eine Probe in eine Elektrolytzelle eingebracht, bearbeitet und anschliessend aus der Zelle entfernt wird. Die Figur 4 schematisiert die Draufsicht auf eine Vorrichtung zum Galvanisieren in einer Vertikalanordnung. Die Figur 4c zeigt einen Schnitt entlang der Linie C-C der Figur 4. Die Vorrichtung weist einen Behälter 51 auf, in welchem peripher zwei Anodenstangen 53 und zentral eine Kathodenstange 55 angebracht sind. Die Kathodenstange dient zur Halterung und Kontaktierung einer in der Figur 4a in Frontansicht und in verkleinertem Massstab dargestellten Stahlplatte 56 mit einer Öffnung 56a. Die Öffnung 56a ist mit einer Spannvorrichtung 56b versehen, welche der Halterung des beschichteten Substrats dient. Weiter sind ein Diaphragma 57 und eine Blende 59 vorgesehen. Das Diaphragma 57 dient dazu, dass kein Anodenschlamm 60 in den die Kathode umgebenden Elektrolyten gerät. Die Blende dient der lateral begrenzten Abschirmung von Strömungen oder von elektrischen Feldern (siehe Figur 4b). Weiter sind als perforierte dielektrische Röhren ausgebildete Mittel 61 vorgesehen, durch welche die für jeden sauren Kupferelektrolyten notwendige Lufteinblasung erfolgt. Zusätzlich sind noch nicht gezeichnete Pump- und Filtermittel vorhanden, durch welche der Elektrolyt abgeführt, gefiltert und wieder dem Behälter zugeführt wird. Die durch diese Mittel bewirkte Elektrolytumwälzung beträgt bspw. 3 bis 5 Mal das Elektrolytvolumen pro Stunde.Electroplating or electroplating with copper according to the exemplary embodiment of the invention described here can be carried out in a device according to FIGS and 4c. At this point, a batch process is described where a sample is placed in an electrolytic cell, processed and then removed from the cell. FIG. 4 schematizes the top view of a device for electroplating in a vertical arrangement. FIG. 4c shows a section along the line CC of FIG. 4. The device has a container 51 in which two anode rods 53 are attached peripherally and a cathode rod 55 is attached centrally. The cathode rod serves to hold and contact a steel plate 56 with an opening 56a shown in FIG. 4a in front view and on a reduced scale. The opening 56a is provided with a clamping device 56b, which serves to hold the coated substrate. A diaphragm 57 and an aperture 59 are also provided. The diaphragm 57 serves to ensure that no anode sludge 60 gets into the electrolyte surrounding the cathode. The diaphragm is used for laterally limited shielding of currents or electrical fields (see Figure 4b). Furthermore, means 61 designed as perforated dielectric tubes are provided, through which the air injection necessary for each acidic copper electrolyte takes place. In addition, pumping and filtering means are not yet shown, through which the electrolyte is removed, filtered and returned to the container. The electrolyte circulation caused by these agents is, for example, 3 to 5 times the electrolyte volume per hour.

Wesentlich dafür, dass im galvanischen Verfahrensschritt auch Vertiefungen „Lunker"-frei aufgefüllt werden, welche ein wie vorstehend erläutert relativ grosses Aspektverhältnis haben, ist die Zusammensetzung des Elektrolyten.What is essential for the fact that in the galvanic process step also “voids” are filled without cavities, which have a relatively large aspect ratio as explained above, is the composition of the electrolyte.

Es hat sich gezeigt, dass Verfahren der konventionellen Galvanotechnik für dekorative Zwecke - mit entsprechenden Anpassungen - zu diesem Zweck verwendet werden können. Solche Verfahren wurden bisher nicht für dieIt has been shown that methods of conventional electroplating for decorative purposes - with corresponding adaptations - can be used for this purpose. Such procedures have not been used for

Verwendung in der Leiterplattentechnik (bzw. zur Anwendung für elektrische Verbindungselemente generell) in Betracht gezogen. Sie sind bisher ausschliesslich dazu verwendet worden, Oberflächen Glanz zu verleihen (dekorativ). Für das Aufwachsen von Material auf Oberflächen mit Vertiefungen, generell von strukturierten Oberflächen oder ganz allgemein für die funktioneile Galvanotechnik wurden sie bisher nicht in Betracht gezogen.Use in printed circuit board technology (or for use in electrical Fasteners in general). So far, they have only been used to give surfaces a shine (decorative). So far, they have not been considered for the growth of material on surfaces with depressions, generally of structured surfaces or in general for functional electroplating.

Der Elektrolyt besitzt gemäss einer ersten Ausführungsform folgende Komponenten: Schwefelsäure (H₂SO₄): 10-200 g/L Kupfersulfat (CuSO₄ x 5 H₂O) : 50-500 g/L Natriumchlorid (NaCl): 10-250 mg/L, sowie die organischen Zusätze:According to a first embodiment, the electrolyte has the following components: sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ): 10-200 g / L copper sulfate (CuSO ₄ x 5 H ₂ O): 50-500 g / L sodium chloride (NaCl): 10-250 mg / L, as well as the organic additives:

HSO C-WL Grundglanz der Firma HSO in Solingen, Deutschland: 0,5-5 mL/L HSO C-WL Glanzträger: 0,5-5 mL/L HSO C-WL Glanzzusatz 0,05-2 mL/LHSO C-WL basic gloss from HSO in Solingen, Germany: 0.5-5 mL / L HSO C-WL gloss support: 0.5-5 mL / L HSO C-WL gloss additive 0.05-2 mL / L

Besonders vorteilhaft sind die Ergebnisse mit folgenden Parametern:The results with the following parameters are particularly advantageous:

Schwefelsäure 45-70 g/L, Kupfersulfat 200-230 g/L, Natriumchlorid 100-190 mg/L, HSO C-WL Grundglanz 2,2-4,2 mL/L, HSO C-WL Glanzträger 1,6-2,8 mL/L, HSO C-WL Glanzzusatz 0,15-0,9 mL/L.Sulfuric acid 45-70 g / L, copper sulfate 200-230 g / L, sodium chloride 100-190 mg / L, HSO C-WL basic gloss 2.2-4.2 mL / L, HSO C-WL gloss carrier 1.6-2 , 8 mL / L, HSO C-WL gloss additive 0.15-0.9 mL / L.

Optimale Resultate ergeben sich mit 45-60g/L Schwefelsäure, 210-230 g/L Kupfersulfat, 140-170 mg/L Natriumchlorid, 2,6-3,8 mL/L HSO C-WL Grundglanz, 1 ,7-2,5 mL/L HSO C-WL Glanzträger und 0,2-0,6 mL/L HSO C-WL Glanzzusatz. Gemäss einer zweiten Ausführungsform werden für die anorganischen Komponenten dieselben Zusammensetzungen verwendet wie für die erste Ausführungsform: Schwefelsäure (H₂SO₄): 10-200 g/L, vorzugsweise 45-70 g/L und bspw. 45-60 g/L Kupfersulfat (CuSO₄ x 5 H₂O): 50-500 g/L, vorzugsweise 200-230 g/L und bspw. 210-230 g/LOptimal results are obtained with 45-60g / L sulfuric acid, 210-230 g / L copper sulfate, 140-170 mg / L sodium chloride, 2.6-3.8 mL / L HSO C-WL basic gloss, 1, 7-2, 5 mL / L HSO C-WL gloss carrier and 0.2-0.6 mL / L HSO C-WL gloss additive. According to a second embodiment, the same compositions are used for the inorganic components as for the first embodiment: sulfuric acid (H ₂ SO ₄ ): 10-200 g / L, preferably 45-70 g / L and, for example, 45-60 g / L copper sulfate (CuSO ₄ x 5 H ₂ O): 50-500 g / L, preferably 200-230 g / L and for example 210-230 g / L

Natriumchlorid (NaCl): 10-250 mg/L, vorzugsweise 100-190 mg/L und bspw. 140-Sodium chloride (NaCl): 10-250 mg / L, preferably 100-190 mg / L and e.g. 140-

170 mg/L. Die organischen Komponenten werden aber im (konventionell dekorativ galvanotechnischen) HSO C-OF-Verfahren der Fa. Schmidt in Solingen (DE) bereitgestellt.170 mg / L. However, the organic components are provided in the (conventionally decorative electroplating) HSO C-OF process from Schmidt in Solingen (DE).

Eine dritte Ausführungsform:A third embodiment:

- Kupfersulfat (CuSO₄ x 5 H₂O): 50-500 g/L, vorzugsweise 200-230 g/L und bspw. 210-230 g/L.- Copper sulfate (CuSO ₄ x 5 H ₂ O): 50-500 g / L, preferably 200-230 g / L and e.g. 210-230 g / L.

- Schwefelsäure (H₂SO₄): 10-200 g/L, vorzugsweise 45-70 g/L und bspw. 50- 60 g/LSulfuric acid (H ₂ SO ₄ ): 10-200 g / L, preferably 45-70 g / L and for example 50- 60 g / L

- 50-100 mg/L, vorzugsweise 75-90 mg/L Chloridionen- 50-100 mg / L, preferably 75-90 mg / L chloride ions

Organische Komponenten: Novostar-ER der Firma Enthone OMI in Deutschland - Ansatzlösung 1-6 mL/L, vorzugsweise 1,5-5 mL/L und bspw. 2-4,5 mL/L; Einebner 0,05-1,0 mL/L vorzugsweise 0,1-0,7 mL/L und bspw. 0,2-0,5 mL/L, Glanzträger 0,05-1,0 mL/L vorzugsweise 0,2-1,0 mL/L und bspw. 0,3-0,8 mL/L.Organic components: Novostar-ER from Enthone OMI in Germany - preparation solution 1-6 mL / L, preferably 1.5-5 mL / L and for example 2-4.5 mL / L; Level 0.05-1.0 mL / L preferably 0.1-0.7 mL / L and e.g. 0.2-0.5 mL / L, gloss support 0.05-1.0 mL / L preferably 0, 2-1.0 mL / L and e.g. 0.3-0.8 mL / L.

Ein viertes Ausführungsbeispiel:A fourth embodiment:

Verwendet wird das Verfahren „Copper Gleam BL" der weltweit tätigen Firma Shipley. (Hauptquartier in Marlborough, MA 01752 , U.S.A.):The "Copper Gleam BL" process from Shipley, a global company, is used (headquarters in Marlborough, MA 01752, U.S.A.):

Kupfersulfat: 50-500 g/L, vorzugsweise 170-210 g/L, bspw. 190-205 g/L, Schwefelsäufre: 10-200 g/L, vorzugsweise 30-80 g/L, bspw. 30-50 g/L,Copper sulfate: 50-500 g / L, preferably 170-210 g / L, e.g. 190-205 g / L, Sulfur drinkers: 10-200 g / L, preferably 30-80 g / L, e.g. 30-50 g / L,

Chloridionen: 50-150 mg/L, vorzugsweise 70-120 mg/L, bspw. 80-100 mg/L.Chloride ions: 50-150 mg / L, preferably 70-120 mg / L, e.g. 80-100 mg / L.

Organische Komponenten:Organic components:

Carrier Copper Gleam BL: 1-10 mL/L, vorzugsweise 2,5-5,0 mL/L, bspw. 2,8- 4,0 mL/L.Carrier Copper Gleam BL: 1-10 mL / L, preferably 2.5-5.0 mL / L, e.g. 2.8- 4.0 mL / L.

Leveller Copper Gleam BL: 1-10 mL/L, vorzugsweise 1,5 mL/L, bspw. 1,5- 3,0 mL/L.Leveler Copper Gleam BL: 1-10 mL / L, preferably 1.5 mL / L, e.g. 1.5-3.0 mL / L.

Folgender Verfahrensablauf kann verwendet werden:The following procedure can be used:

1. Reinigen in einer sauren Lösung. 2. Spülen in deionisiertem Wasser1. Clean in an acidic solution. 2. Rinse in deionized water

3. Dekapieren in einer sauren Lösung (bspw. in Schwefelsäure)3. Pickling in an acidic solution (e.g. in sulfuric acid)

4. Galvanischer Aufbau in einem Kupferelektrolyten,4. Galvanic structure in a copper electrolyte,

5. Spülen in deionisiertem Wasser5. Rinse in deionized water

6. Trocknen.6. Drying.

Folgender Ablauf kann verwendet werden, um einen Kupferelektrolyten anzusetzen:The following procedure can be used to prepare a copper electrolyte:

1. Eine einwandfrei gereinigte Elektrolytwanne wird auf bis zu 70% des Endvolumens mit deionisiertem Wasser gefüllt.1. A perfectly cleaned electrolyte tub is filled to up to 70% of the final volume with deionized water.

2. Anorganische Salze wie Kupfersulfat werden beigegeben und rückstandslos gelöst. Alternativ kann auch eine hochkonzentierte Lösung der Salze verwendet werden. Beim Kupfersulfat kann bspw. eine Lösung von 300g/L Kupfersulfat verwendet werden.2. Inorganic salts such as copper sulfate are added and dissolved without residue. Alternatively, a highly concentrated solution of the salts can be used become. With copper sulfate, for example, a solution of 300 g / L copper sulfate can be used.

3. Vorsichtiges Zugeben der Schwefelsäure und Salzsäure oder des Natriumchlorids unter starkem Rühren und anschliessendem Abkühlen der Lösung auf Raumtemperatur.3. Carefully add the sulfuric acid and hydrochloric acid or the sodium chloride while stirring vigorously and then cooling the solution to room temperature.

4. Nach Abkühlung auf Raumtemperatur kann auf 100% des Gesamtvolumens mit deionisiertem Wasser aufgefüllt werden. Nach ausgiebigem Durchmischen des Elektrolyten kann eine Analyse der anorganischen Komponenten (Cu, Schwefelsäure, Chlorid) durchgeführt werden. 5. Einarbeiten des Elektrolyten bei einer Stromdichte von 1-2 A/dm² während einigen Stunden.4. After cooling to room temperature, it can be made up to 100% of the total volume with deionized water. After thorough mixing of the electrolyte, an analysis of the inorganic components (Cu, sulfuric acid, chloride) can be carried out. 5. Incorporation of the electrolyte at a current density of 1-2 A / dm ² for a few hours.

6. Zugabe der erforderlichen Mengen der organischen Zusatzstoffe und erneutes Einarbeiten des Elektrolyten bei 1-2 A/dm² während einigen Stunden.6. Add the required amounts of organic additives and rework the electrolyte at 1-2 A / dm ² for a few hours.

7. Analyse der organischen Zusatzstoffe über entsprechende Methoden und ggf. Ergänzung der fehlenden Mengen.7. Analysis of the organic additives using appropriate methods and, if necessary, supplementing the missing amounts.

8. Der Elektrolyt ist nun einsatzbereit.8. The electrolyte is now ready for use.

In der Figur 5 ist noch eine Vorrichtung zur Durchführung des Ausführungsbeispiels des erfindungsgemässen galvanischen Auffüllens als kontinuierlicher Prozess dargestellt. Ganz schematisch gezeigt ist eine Horizontalanordnung. Es sind aber auch, insbesondere in grossen Anlagen, kompliziertere Anordnungen mit Umlenkrollen etc. denkbar. In dieser Ausführungsform als kontinuierlicher Prozess ist keine Halterung des beschichteten Substrats nötig. Das als Kathode fungierende Substrat 1 (mit Beschichtung) ist bspw. wie vorstehend beschrieben als biegbare Folie ausgebildet und wird durch Rollen gespannt. Es wird bspw. während des ganzen Prozesses bewegt und in horizontaler Richtung durch den Elektrolytbehälter gezogen. Die Anoden 53' sind oberhalb und unterhalb oder beidseitig des Substrates angebracht. Die Vorrichtung weist Lufteinströmmittel und je nach dem ebenfalls Diaphragmen und Blenden auf, welche hier nicht noch einmal beschrieben werden sollen. Zusätzlich sind nicht gezeichnete Düsen zur ständigen Erzeugung einer Elektrolytströmung vorgesehen. Durch diese Strömung - in der Figur durch Pfeile symbolisiert - wird verhindert, dass der Elektrolyt mit der Zeit in der Nähe der Kathode lokal verarmt.FIG. 5 also shows a device for carrying out the exemplary embodiment of the galvanic filling according to the invention as a continuous process. A horizontal arrangement is shown very schematically. However, more complicated arrangements with deflection rollers etc. are also conceivable, especially in large systems. In this embodiment as a continuous process, it is not necessary to hold the coated substrate. The substrate 1 (with coating) functioning as cathode is, for example, designed as a bendable film as described above and is stretched by rolling. For example, it is moved throughout the process and drawn through the electrolyte container in a horizontal direction. The anodes 53 'are attached above and below or on both sides of the substrate. The device has air inflow means and depending on that Diaphragms and panels, which will not be described again here. In addition, nozzles (not shown) are provided for the constant generation of an electrolyte flow. This flow - symbolized by arrows in the figure - prevents the electrolyte from becoming locally poor near the cathode over time.

Ein Schema einer Variante zur Ausführung des erfindungsgemässen Verfahrens ist in der Figur 6 aufgezeigt. In dieser Variante erfolgt der Kupferabscheidungsprozess auf dem beschichteten Substrat in einer Elektrolysezelle 51", welche von einem Behälter 63" getrennt ist, in welchem Kupfer vom festen Zustand in den Elektrolyt in Lösung gebracht wird. Es erfolgt dabei eine ständige Umwälzung von Elektrolyt, wobei verarmter Elektrolyt von der Elektrolyse^'zelle 51" in den Behälter 63" und mit Kupfer angereicherter Elektrolyt vom Behälter in die Elektrolysezelle transportiert wird.A diagram of a variant for carrying out the method according to the invention is shown in FIG. 6. In this variant, the copper deposition process takes place on the coated substrate in an electrolysis cell 51 ", which is separated from a container 63" in which copper is brought into solution from the solid state in the electrolyte. There takes place a continuous circulation of electrolyte, depleted electrolyte is transported from the electrolysis ^'cell 51' into the container 63 "and with copper rich electrolyte from the reservoir to the electrolysis cell.

Zum Erzeugen der bspw. kanalförmigen Vertiefungen für die Leiterstrukturen gibt es viele bekannte und neue Möglichkeiten. Anhand der Figuren 7 bis 10 ist eine Auswahl aus den verschiedenen Möglichkeiten schematisch dargestellt.There are many known and new possibilities for producing, for example, channel-shaped depressions for the conductor structures. A selection from the various possibilities is shown schematically on the basis of FIGS. 7 to 10.

Das Substrat 1 der Figur 7 wird durch einen Prägeschritt durch ein Prägewerkzeug 21 plastisch verformt, so dass die Vertiefungen entstehen. Es hat sich gezeigt, dass Thermoplaste und auch Duroplaste existieren, welche sich in hervorragender Weise für die Prägung von Leiterplatten-Substraten eignen. Beispiele für geeignete, piatisch verformbare Materialien sind Flüssigkristall-Polymere (Liquid Crystal Polymers, LCPs). Weitere Möglichkeiten sind Polysulfone, Epoxidharze, die über der Glasumwandlungstemperatur verformbar sind, gewisse Polyester (PEEK), Polycarbonate etc. Der Prägeschritt kann in einer Vakuumkammer oder auch in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre oder bspw. unter Schutzgas durchgeführt werden. Gemäss Figur 8 kann das Substrat auch durch Spritzgiessen in Formen 23, 25 hergestellt werden, welche Erhebungen aufweisen. In der Figur ist ein Einspritzkanal 27 schematisch dargestellt; die Luft kann durch die Trennebene 29 abziehen.The substrate 1 of FIG. 7 is plastically deformed by an embossing step using an embossing tool 21, so that the depressions are formed. It has been shown that thermoplastics and also thermosets exist, which are outstandingly suitable for embossing printed circuit board substrates. Examples of suitable, piatically deformable materials are liquid crystal polymers (LCPs). Other possibilities are polysulfones, epoxy resins that are deformable above the glass transition temperature, certain polyesters (PEEK), polycarbonates etc. The embossing step can be carried out in a vacuum chamber or in an oxygen-containing atmosphere or, for example, under a protective gas. According to FIG. 8, the substrate can also be produced by injection molding in molds 23, 25 which have elevations. In the figure, an injection channel 27 is shown schematically; the air can escape through the parting plane 29.

Durch Figur 9 wird angedeutet, dass die Vertiefungen in Substrat 1 auch durch Laser- Ablation hergestellt werden können. Eine Laserlichtquelle 31 ist in der Figur sehr schematisch angedeutet.FIG. 9 indicates that the depressions in substrate 1 can also be produced by laser ablation. A laser light source 31 is indicated very schematically in the figure.

Gemäss Figur 10 wird das Substrat in einem ersten Schritt mit einer strukturierten Resist-Schicht 33 belegt. Die Strukturierung erfolgt bspw. auf konventionelle Weise. Anschliessend werden die Vertiefungen nasschemisch oder durch Ätzen beigebracht.According to FIG. 10, the substrate is covered with a structured resist layer 33 in a first step. The structuring takes place, for example, in a conventional manner. The depressions are then made wet-chemically or by etching.

Das erfindungsgemässe Verfahren ist insbesondere zur Herstellung feiner Strukturen mit hohem Aspektverhältnissen zwischen 1:5 und 3:1 oder > 2:3 geeignet, da die Tiefe der Kanäle auch durch die Dicke des verwendeten Dielektrikums begrenzt wird. Da die Dicke bspw. im Bereich von 10 - 200 Mikrometer liegt, haben die Leiterkanäle üblicherweise Breiten zwischen 5 oder 10 und maximal einigen 100 Mikrometern. In Leiterplattenanwendungen sind somit speziell feinste Leiterzüge sehr einfach und ökonomisch herzustellen. In praktisch allen Anwendungen sind jedoch auch grössere mit Metall belegte Flächen notwendig. So sind z.B. die Anschlussflächen für die auf die Leiterplatte zu lötenden Komponenten meist relativ gross und auch die Stromversorgungsleiter (Vcc und GND) müssen oftmals flächig ausgeführt werden. Diese Flächen würden nach dem Galvanisieren eine zu geringe Kupferschichtdicke aufweisen und nach dem Abdünnen des Kupfers würde in diesen flächigen Bereichen das Kupfer weggeätzt werden. Die Figuren 11a, 11b und 11 c zeigen dies schematisch auf. Dabei zeigt die Figur 12 a ein Substrat 201 nach dem Prägeschritt. In der Figur 12b ist dasselbe Substrat dargestellt, wobei es nach dem Beschichtungs- und dem Elektroplattierschritt mit einer Kupferschicht 203 versehen ist. Nach dem Zurückätzen bleibt gemäss Figur 12c nur in der Nähe von Stufen sowie in den Vertiefungen Kupfer 203' zurück.The method according to the invention is particularly suitable for producing fine structures with high aspect ratios between 1: 5 and 3: 1 or> 2: 3, since the depth of the channels is also limited by the thickness of the dielectric used. Since the thickness is in the range of 10-200 micrometers, for example, the conductor channels usually have widths between 5 or 10 and a maximum of a few 100 micrometers. In printed circuit board applications, especially the finest conductor runs are very easy and economical to manufacture. In practically all applications, however, larger areas covered with metal are also necessary. For example, the connection areas for the components to be soldered to the circuit board are usually relatively large and the power supply conductors (Vcc and GND) often have to be flat. After the electroplating, these areas would have an insufficient copper layer thickness and after the copper had been thinned, the copper would be etched away in these flat areas. Figures 11a, 11b and 11c show this schematically. 12a shows a substrate 201 after the embossing step. The same substrate is shown in FIG. 12b, it being provided with a copper layer 203 after the coating and the electroplating step is. After etching back, according to FIG. 12c, copper 203 'remains only in the vicinity of steps and in the depressions.

Der Prägeschritt kann alternativ zu gegeneinander pressen von zwei Prägestempeln auch durch das Prägen über rotierende Rollen („Rollenprägung") bewerkstelligt werden.As an alternative to pressing two stamps against one another, the stamping step can also be accomplished by stamping via rotating rollers (“roller stamping”).

Der Nachreinigungs- oder Nachbehandlungsschritt erfolgt bspw. mit Plasma-Ätzen. Alternativ dazu wäre auch ein nasschemischer Prozess denkbar.The post-cleaning or post-treatment step takes place, for example, with plasma etching. Alternatively, a wet chemical process would also be conceivable.

Bislang wurden zum galvanischen Auffüllen mit Leitermaterial nur flache Strukturen in Betracht gezogen. Dies ist unter anderem darin begründet, dass sich beim Galvanisieren das Material naturgemäss dort anlagert, wo die elektrischen Felder gross sind, also bevorzugt an Ecken und Kanten. Das hier zu beschreibende Ausführungsbeispiel der Erfindung beruht aber darauf, dass Leiterbahnen vorgeformt und aufgefüllt werden, die einen Querschnitt besitzen, bei welchem das Aspektverhältnis als das Verhältnis von Tiefe zu Breite mindestens 1:2 und beispielsweise annähernd 1:1 oder mehr beträgt.So far, only flat structures have been considered for galvanic filling with conductor material. One of the reasons for this is that during electroplating, the material naturally accumulates where the electric fields are large, i.e. preferably at corners and edges. However, the exemplary embodiment of the invention to be described here is based on the fact that conductor tracks are preformed and filled which have a cross section in which the aspect ratio as the ratio of depth to width is at least 1: 2 and for example approximately 1: 1 or more.

Um diese grossflächigen Strukturen mit dem erfindungsgemässen Verfahren herstellen zu können, kann man verschiedene konstruktive Massnahmen treffen:In order to be able to produce these large-area structures with the method according to the invention, various design measures can be taken:

Die als Kontaktfläche auszubildende Fläche ist in feine Strukturen aufgerastert. Dies kann z.B. durch parallel verlaufende oder sich kreuzende feine Kanäle mit einem für das erfindungsgemässen Verfahren optimalen Aspektverhältnis bewerkstelligt werden. In einem solchen Falle können sehr gut Stromversorgungsebenen oder auch Schirmebenen hergestellt werden, da diese auch in konventionellen Anwendungen meist aufgerastert ausgeführt werden. Sollen jedoch Anschlussflächen zum Löten hergestellt werden, so würden die gerasterten Flächen keine gute Lötqualität erlauben und es muss das Verfahren so abgewandelt werden, dass geschlossene Lötflächen gebildet werden können.The area to be formed as a contact area is rastered into fine structures. This can be accomplished, for example, by fine channels running in parallel or intersecting with an aspect ratio that is optimal for the method according to the invention. In such a case, power supply levels or screen levels can be produced very well, since these are also used in conventional applications mostly rasterized. If, however, connection surfaces for soldering are to be produced, the rasterized surfaces would not allow good soldering quality and the method must be modified in such a way that closed soldering surfaces can be formed.

Eine Möglichkeit ist in den Figuren 12a, 12b und 12c dargestellt, wo analog zu den Figuren 11a bis 11c ein elektrisches Verbindungselement nach dem Prägeschritt, nach dem Elektroplattierschritt bzw. nach dem Zurückätzen dargestellt ist. Sie besteht darin, die flächigen Bereiche mit sehr feinen, dem Substrat 301 während des Prägeschritts beigebrachten Strukturen 301a aufzurastern. Diese Strukturen weisen Vertiefungen und dazwischen liegende Erhebungen auf. Die Tiefe dieser Strukturen, d.h. der Vertiefungen liegt bspw. unter T/2, wenn T die Tiefe der kanalförmigen Vertiefungen für Leiterbahnen darstellt. Dies führt zu einer künstlichen Verdickung des Kupfers in diesen Feinstrasterzonen und nach dem Abdünnen des Kupfers verbleibt eine geschlossene Restschicht 303a'. Die Rasterung kann in vielfältigster Weise erfolgen, z.B. parallele Leiterzüge, sich kreuzende Leiterzüge etc.One possibility is shown in FIGS. 12a, 12b and 12c, where, analogously to FIGS. 11a to 11c, an electrical connecting element is shown after the embossing step, after the electroplating step or after the etching back. It consists of rastering the flat areas with very fine structures 301a, which were added to the substrate 301 during the embossing step. These structures have depressions and elevations in between. The depth of these structures, i.e. the depressions are below T / 2, for example, if T represents the depth of the channel-shaped depressions for conductor tracks. This leads to an artificial thickening of the copper in these fine screen zones and after the copper has been thinned, a closed residual layer 303a 'remains. The screening can be done in a variety of ways, e.g. parallel tracks, crossing tracks etc.

Dies Effekt kann auch erreicht werden, indem man ein Prägewerkzeug herstellt, das neben den feinen Strukturen mit Vertiefungen und dazwischen liegenden Erhebungen auch grössere, flächige Strukturen beinhaltet. Ein entsprechendes elektrisches Verbindungselement ist in den Figuren 13a, 13b und 13c während verschiedenen Stadien der Herstellung dargestellt. Beim Aufgalvanisieren werden die feinen Strukturen schnell aufgefüllt und anschliessend werden die flächenhaften Strukturen aufgalvanisiert. Dies ergibt in der Summe eine leicht dickere Kupferschicht in diesen flächigen Bereichen und nach dem Abdünnen des Kupfers verbleibt eine geschlossene Restschicht 403a', d.h. die auch Erhebungen sind nach dem Rückätzschritt noch mit Kupfer bedeckt. Das Aufrastern der flächigen Bereiche für Lötflächen hat auch den Vorteil, dass die Kupferschicht auf dem Dielektrikum mechanisch fest verankert wird, wodurch die Haftfestigkeit der Lötflächen stark erhöht werden kann.This effect can also be achieved by producing an embossing tool which, in addition to the fine structures with depressions and elevations in between, also contains larger, flat structures. A corresponding electrical connecting element is shown in FIGS. 13a, 13b and 13c during various stages of manufacture. When electroplating, the fine structures are quickly filled in and then the flat structures are electroplated. In total, this results in a slightly thicker copper layer in these flat areas, and after the copper has been thinned, a closed residual layer 403a 'remains, ie the elevations are also covered with copper after the etching back step. Scanning the flat areas for soldering areas also has the advantage that the copper layer is mechanically firmly anchored on the dielectric, as a result of which the adhesive strength of the soldering areas can be greatly increased.

Die Ausführungsbeispiele, anhand denen die Erfindung vorstehend erläutert wurde, beschränken sich auf die Herstellung von Leiterplatten. Bei Kenntnis der Erfindung wird der Fachmann ohne Weiteres erkennen, dass die Erfindung ebensogut zur Herstellung anderer elektrischer Verbindungselemente geeignet ist.The exemplary embodiments on the basis of which the invention was explained above are limited to the production of printed circuit boards. With knowledge of the invention, the person skilled in the art will readily recognize that the invention is just as suitable for producing other electrical connecting elements.

Weiter wurde bei der vorstehenden Beschreibung der Einfachheit halber davon ausgegangen, dass das Produkt des Verfahrens ein fertiges Verbindungselement ist. Der Fachmann wird natürlich ohne Weiteres Erkennen, dass zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen Schritten auch noch weitere Bearbeitungsschritte zur Fertigstellung eines elektrischen Verbindungselementes unternommen werden können. Weiter ist das Verfahren auch für die Herstellung von Halbzeugen zur Weiterverarbeitung zu einem Verbindungselement geeignet. Ein solches Halbzeug kann bspw. mit anderen Bauteilen zu einem mehrlagigen elektrischen Verbindungselement verarbeitet werden.Furthermore, for the sake of simplicity, it was assumed in the above description that the product of the method is a finished connecting element. Of course, the person skilled in the art will readily recognize that, in addition to the steps described above, further processing steps can also be undertaken to complete an electrical connecting element. The method is also suitable for the production of semi-finished products for further processing into a connecting element. Such a semi-finished product can be processed, for example, with other components to form a multilayer electrical connecting element.

Mit dem erfindungsgemässen Verfahren herstellbare elektrische Verbindungselemente können eine Vielzahl von möglichen Ausprägungen haben und sind generell in Gebieten verwendbar, in denen elektrische Verbindungselemente zum Einsatz kommen. Nebst herkömmlichen Verwendungen, bei denen die Leiterplatte mit miteinander elektrisch gekoppelten Elementen bestückt wird, eignet sich ein erfindungsgemässes Verbindungselement natürlich in hervorragender Weise für Anwendungen, bei der die Miniaturisierung weit fortgeschritten ist. Weiter sei auch auf Verwendungen verwiesen bei denen die Strombelastbarkeit der Leiterbahnen wesentlich ist. Solche Verwendungen werden dadurch begünstigt, dass wie vorstehend beschrieben, ein erfindungsgemässes Verbindungselement Bahnen mit einem speziell günstigen Querschnitt aufweisen können.Electrical connecting elements which can be produced using the method according to the invention can have a large number of possible configurations and can generally be used in areas in which electrical connecting elements are used. In addition to conventional uses, in which the printed circuit board is equipped with elements that are electrically coupled to one another, a connecting element according to the invention is of course outstandingly suitable for applications in which miniaturization is well advanced. Furthermore, reference is also made to uses in which the current carrying capacity of the conductor tracks is essential. Such uses are favored by the fact that As described above, a connecting element according to the invention can have webs with a particularly favorable cross section.

Eine wesentliche Erkenntnis der Erfindung ist die Möglichkeit des galvanischen Auffüllens von (,,Mikro-„) Strukturen mit Breiten im Bereich zwischen ca. 10 μm und 100 μm, in einigen Fällen auch von deutlich breiteren Strukturen. Je nach Anforderungen an das Aspektverhältnis und an die Restschichtdicke lässt sich das erfindungsgemässe Verfahren auch mit Verfahrensschritten ergänzen, welche auf an sich bekannten Methoden zur Beschichtung beruhen. Die Erfindung schliesst Verfahren mit ein, welche einen Verfahrensschritt oder Teilschritt beinhalten, der a) auf konventioneller Leiterplattengalvanik b) auf pulse-plating oder reverse-pulse-plating, oder c) auf einem sonstigen konventionellen Galvanikverfahren beruht.An essential finding of the invention is the possibility of galvanically filling (“micro”) structures with widths in the range between approximately 10 μm and 100 μm, in some cases also of significantly wider structures. Depending on the requirements for the aspect ratio and the remaining layer thickness, the method according to the invention can also be supplemented with method steps which are based on methods of coating known per se. The invention includes methods which include a method step or sub-step which a) is based on conventional circuit board electroplating b) on pulse-plating or reverse-pulse-plating, or c) on another conventional electroplating method.

Unzählige weitere, auf dem Erfindungsgedanken beruhende Ausführungsformen sind denkbar. Insbesondere sind die vorstehend aufgeführten Elektrolyt-Lösungen lediglich Beispiele. Es sind viele weitere Elektrolyt-Lösungen aus dem Stand der Technik bekannt. Countless other embodiments based on the concept of the invention are conceivable. In particular, the electrolyte solutions listed above are only examples. Many other electrolyte solutions are known from the prior art.

Claims

PATENTANSPRUCHE PATENT CLAIMS

1. Verfahren zum Herstellen von elektrisch leitenden Strukturen, wobei ein elektrisch isolierendes Substrat (1) erzeugt oder vorbereitet wird, welches eine Oberfläche mit Vertiefungen an den Stellen aufweist, an denen die Strukturen entstehen sollen, wobei mindestens einige Vertiefungen senkrecht zu einer Oberfläche des1. A method for producing electrically conductive structures, wherein an electrically insulating substrate (1) is produced or prepared, which has a surface with depressions at the locations at which the structures are to be formed, at least some depressions perpendicular to a surface of the

Substrats einen Querschnitt aufweisen, in dem das Aspektverhältnis, nämlich das Verhältnis zwischen Tiefe (t) und Breite (b) der Strukturen zwischen 1:5 und 5:1 beträgt, wobei die Substratoberfläche mindestens an den Stellen, an denen esSubstrate have a cross section in which the aspect ratio, namely the ratio between depth (t) and width (b) of the structures between 1: 5 and 5: 1, wherein the substrate surface at least at the points where it

Vertiefungen aufweist, mit einer elektrisch leitenden Schicht versehen wird, welche dünn ist im Vergleich zu den charakteristischen Abmessungen derHas depressions, is provided with an electrically conductive layer which is thin compared to the characteristic dimensions of the

Vertiefungen, und wobei anschliessend die Oberfläche des Substrats so lange galvanisiert wird, bis die Vertiefungen aufgefüllt sind und eine im Wesentlichen ebene Oberfläche entstanden ist.Wells, and then the surface of the substrate is electroplated until the wells are filled and a substantially flat surface is formed.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die dünne, elektrisch leitende Schicht im Wesentlichen auf einer ganzen Oberfläche des Substrats aufgebracht wird, und wobei anschliessend an das Galvanisieren des Substrats Leitermaterial so lange abgetragen wird, bis diejenigen zwischen den2. The method according to claim 1, characterized in that the thin, electrically conductive layer is applied substantially to an entire surface of the substrate, and wherein subsequent to the electroplating of the substrate conductor material is removed until that between the

Leiterstrukturen liegenden Stellen des Substrats frei von einer Metallbeschichtung sind, die keine leitende Oberfläche aufweisen sollen. Locations of the substrate lying on the conductor structures are free of a metal coating which should not have a conductive surface.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Abtragen nasschemisch erfolgt.3. The method according to claim 2, characterized in that the removal takes place wet-chemically.

4. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vertiefungen, einen senkrecht zu einer Oberfläche des Substrats einen Querschnitt aufweisen, in dem das Aspektverhältnis, nämlich das Verhältnis zwischen Tiefe (t) und Breite (b) der Strukturen mindestens 1:1 und bspw. mindestens 3:2 sowie höchstens 5:1 beträgt.4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the depressions have a cross section perpendicular to a surface of the substrate in which the aspect ratio, namely the ratio between depth (t) and width (b) of the structures, is at least 1: 1 and for example at least 3: 2 and at most 5: 1.

5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Strukturen mit Vertiefungen mit einer Breite (b) im Bereich zwischen ca. 10 μm und 100 μm aufweisen.5. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the structures have depressions with a width (b) in the range between approximately 10 microns and 100 microns.

6. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der zum Galvanisieren verwendete Elektrolyt Wasser sowie mindestens die drei folgenden Komponenten enthält:6. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the electrolyte used for electroplating contains water and at least the following three components:

- ein Übergangsmetall- oder Edelmetallsalz, bspw. ein Kupfersulfat, Kupfer- Fluoroborat, Kupferazetat, Kupfernitrat, Kupferzyanid- A transition metal or noble metal salt, for example a copper sulfate, copper fluoroborate, copper acetate, copper nitrate, copper cyanide

Säure, bspw. Schwefelsäure, eine Sulfonsäure, Fluoroborsäure, Sulfaminsäure, SalzsäureAcid, for example sulfuric acid, a sulfonic acid, fluoroboric acid, sulfamic acid, hydrochloric acid

Organische Zusätze . schwefelhaltige aliphatische Propansulfonsäure- Derivate, Thioharnstoff und -derivate, Dithioalkylsäurederivate, Orthophosphorsäure, Thiophosphorsäureester, aromatischeOrganic additives. sulfur-containing aliphatic propanesulfonic acid derivatives, thiourea and derivatives, dithioalkyl acid derivatives, orthophosphoric acid, thiophosphoric acid esters, aromatic

Thioverbindungen, Gelatine, Molasse, Phenazoniumderivate,Thio compounds, gelatin, molasses, phenazonium derivatives,

Polyalkylenglykoläther, Formaldehyd, Dithiocarbonate, Mercapto- verbindungen, Dithiocarbamylverbindungen, Benzothiazolylverbindungen, Ethylenaminverbindungen, Methylendisulfidverbindungen, Bernsteinsäure- verbindungen, Sulfobernsteinsäureverbindungen oder andere organische Verbindungen.Polyalkylene glycol ether, formaldehyde, dithiocarbonates, mercapto compounds, dithiocarbamyl compounds, benzothiazolyl compounds, ethylene amine compounds, methylene disulfide compounds, succinic acid compounds, sulfosuccinic acid compounds or other organic compounds.

7. Verfahren nach Anspruch 6 dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt 10- 200 g/L Schwefelsäure, 50-500 g/L Kupfersulfat und 10-250 mg/L Natriumchlorid sowie organische Zusätze aufweist.7. The method according to claim 6, characterized in that the electrolyte has 10- 200 g / L sulfuric acid, 50-500 g / L copper sulfate and 10-250 mg / L sodium chloride and organic additives.

8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt 20- 100 g/L und vorzugsweise 45-70 g/L Schwefelsäure, 180-280 g/L und vorzugsweise 200-230 g/L Kupfersulfat sowie 100-190 mg/L und vorzugsweise 140-170 mg/L Natriumchlorid aufweist.8. The method according to claim 7, characterized in that the electrolyte 20-100 g / L and preferably 45-70 g / L sulfuric acid, 180-280 g / L and preferably 200-230 g / L copper sulfate and 100-190 mg / L and preferably 140-170 mg / L sodium chloride.

9. Halbzeug zur Verwendung als Bauteil eines elektrischen Verbindungselementes oder elektrisches Verbindungselement, hergestellt mit dem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass sie ein isolierendes Substrat (101) mit Vertiefungen aufweist, wobei mindestens einige der Vertiefungen einen zu einer Oberfläche der isolierenden Schicht senkrechten Querschnitt aufweisen, in welchem sie eine an der breitesten Stelle gemessene Breite (b) von zwischen 0,5 μm und 100 μm und ein Aspektverhältnis, nämlich ein Verhältnis zwischen Tiefe (t) und der Breite (b), von zwischen 1:5 und 5:1 aufweisen und im Wesentlichen vollständig mit galvanisch aufgetragenem Leitermaterial aufgefüllt sind.9. Semi-finished product for use as a component of an electrical connecting element or electrical connecting element, produced by the method according to one of claims 1 to 8, characterized in that it has an insulating substrate (101) with depressions, at least some of the depressions one to a surface of the insulating layer have a vertical cross-section in which they have a width (b) measured at the widest point of between 0.5 μm and 100 μm and an aspect ratio, namely a ratio between depth (t) and width (b) of between 1: 5 and 5: 1 and are essentially completely filled with electroplated conductor material.

10. Vorprodukt zum Bestücken mit einer Leiterbahnstruktur mit einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, aufweisend ein elektrisch isolierendes Substrat mit einer Oberfläche, welche Vertiefungen aufweist, wobei mindestens einige der Vertiefungen einen Querschnitt besitzen, in welchem sie eine an der breitesten Stelle gemessene Breite (b) von zwischen 0,5 _μm und 100 _μm und ein Aspektverhältnis, nämlich ein Verhältnis zwischen Tiefe (t) und der Breite (b) von zwischen 1:5 und 5:1 aufweisen.10. intermediate product for fitting with a conductor track structure with a method according to any one of claims 1 to 9, comprising an electrically insulating substrate with a surface which has depressions, wherein at least some of the depressions have a cross section in which they are one at the widest point measured width (b) of between 0.5 _μm and 100 _μm and an aspect ratio, namely a ratio between depth (t) and width (b) of between 1: 5 and 5: 1.

11. Verwendung eines sauren wässrigen Elektrolyten, beinhaltend ein Salz mit einem Übergangs- oder Edelmetall, bspw. Cu, Ni, Ag, Au, Pt, Pd, und mit organischen11. Use of an acidic aqueous electrolyte, comprising a salt with a transition or noble metal, for example Cu, Ni, Ag, Au, Pt, Pd, and with organic

Zusätzen, und mit der Eigenschaft, dass, wenn im Elektrolyten gelöstes Metall aus dem Elektrolyten in einem Plattierungsprozess auf eine Oberfläche mit Unebenheiten wie Kratzern etc. aufgebracht wird, die Unebenheiten ausnivelliert werden, sobald die mittlere Dicke des aufgebrachten Metalls von der Grössenordnung der Tiefe der Unebenheiten ist, zum Auffüllen von Vertiefungen in einem Herstellungsprozess von elektronischen Elementen mit Leiterstrukturen.Additions, and with the property that when metal dissolved in the electrolyte from the electrolyte is applied in a plating process to a surface with unevenness such as scratches, etc., the unevenness is leveled out as soon as the average thickness of the metal applied is of the order of magnitude of the depth of the Bumps is used to fill recesses in a manufacturing process of electronic elements with conductor structures.

12. Verwendung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Salz ein Kupfersalz ist.12. Use according to claim 11, characterized in that the salt is a copper salt.

13. Verwendung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Lösung so beschaffen ist, dass Gräben von einer Breite und einer Tiefe von je zwischen 20 μm und 50 μm galvanisch aufgefüllt sind, sobald die Schicktdicke13. Use according to claim 11 or 12, characterized in that the solution is such that trenches with a width and a depth of between 20 μm and 50 μm are galvanically filled as soon as the thickness of the layer

(r) der Restschicht als der zwischen den Vertiefungen angelagerten Schicht eine(r) the remaining layer as the layer deposited between the recesses

Dicke von 10 bis 30 μm, vorzugsweise 10 bis 20 μm erreicht hat. Has reached a thickness of 10 to 30 μm, preferably 10 to 20 μm.