EA030114B1 - Модульное лазерное устройство - Google Patents

Модульное лазерное устройство Download PDF

Info

Publication number
EA030114B1
EA030114B1 EA201690770A EA201690770A EA030114B1 EA 030114 B1 EA030114 B1 EA 030114B1 EA 201690770 A EA201690770 A EA 201690770A EA 201690770 A EA201690770 A EA 201690770A EA 030114 B1 EA030114 B1 EA 030114B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
laser
beams
line
lines
modules
Prior art date
Application number
EA201690770A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201690770A1 (ru
Inventor
Брис Дюбо
Эмманюэль Мимун
Жан-Филипп Швайтцер
Original Assignee
Сэн-Гобэн Гласс Франс
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сэн-Гобэн Гласс Франс filed Critical Сэн-Гобэн Гласс Франс
Publication of EA201690770A1 publication Critical patent/EA201690770A1/ru
Publication of EA030114B1 publication Critical patent/EA030114B1/ru

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
    • B23K26/042—Automatically aligning the laser beam
    • B23K26/043—Automatically aligning the laser beam along the beam path, i.e. alignment of laser beam axis relative to laser beam apparatus
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
    • B23K26/0608—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams in the same heat affected zone [HAZ]
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
    • B23K26/0643—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
    • B23K26/073—Shaping the laser spot
    • B23K26/0738—Shaping the laser spot into a linear shape
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/34—Methods of heating
    • C21D1/38—Heating by cathodic discharges
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/50—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for welded joints
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00—Reflectors for light sources
    • F21V7/0083—Array of reflectors for a cluster of light sources, e.g. arrangement of multiple light sources in one plane
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B19/00—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics
    • G02B19/0033—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use
    • G02B19/0047—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source
    • G02B19/0052—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode
    • G02B19/0057—Condensers, e.g. light collectors or similar non-imaging optics characterised by the use for use with a light source the light source comprising a laser diode in the form of a laser diode array, e.g. laser diode bar
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/0977—Reflective elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10—Beam splitting or combining systems
    • G02B27/1006—Beam splitting or combining systems for splitting or combining different wavelengths
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/10—Beam splitting or combining systems
    • G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
    • G02B27/143—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using macroscopically faceted or segmented reflective surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4012—Beam combining, e.g. by the use of fibres, gratings, polarisers, prisms
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031—Edge-emitting structures
    • H01S5/4043—Edge-emitting structures with vertically stacked active layers
    • H01S5/405—Two-dimensional arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S2301/00—Functional characteristics
    • H01S2301/20—Lasers with a special output beam profile or cross-section, e.g. non-Gaussian
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00—Semiconductor lasers
    • H01S5/40—Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025—Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031—Edge-emitting structures
    • H01S5/4043—Edge-emitting structures with vertically stacked active layers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

Изобретение относится к лазерному устройству, содержащему множество лазерных модулей, каждый из которых генерирует лазерную линию в рабочей плоскости, причем указанные лазерные модули размещены рядом так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одну лазерную линию, причем каждый из лазерных модулей содержит по меньшей мере одно средство генерирования лазерной линии, причем указанное лазерное устройство отличается тем, что указанное или каждое средство генерирования лазерной линии содержит два линейных массива (1a, 1b) линеек (2) лазерных диодов, каждый из которых излучает сфокусированный лазерный луч (3a, 3b), причем два линейных массива (1a, 1b) размещены параллельно друг другу так, что линейки (2) расположены в шахматном порядке, причем два набора параллельных лазерных лучей (3a, 3b), генерируемых двумя линейными массивами (1a, 1b) линеек соответственно, объединяются в одну лазерную линию (8) посредством набора зеркал (4, 5), причем линейные массивы (1a, 1b) линеек лазерных диодов и зеркала (4, 5) размещены так, что два набора лазерных лучей (3a, 3b) следуют оптическим путям одинаковой длины до объединения в одну лазерную линию (8).

Description

Изобретение относится к лазерному устройству, содержащему множество лазерных модулей, каждый из которых генерирует лазерную линию в рабочей плоскости, причем указанные лазерные модули размещены рядом так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одну лазерную линию, причем каждый из лазерных модулей содержит по меньшей мере одно средство генерирования лазерной линии, причем указанное лазерное устройство отличается тем, что указанное или каждое средство генерирования лазерной линии содержит два линейных массива (1а, 1Ь) линеек (2) лазерных диодов, каждый из которых излучает сфокусированный лазерный луч (3а, 3Ь), причем два линейных массива (1а, 1Ь) размещены параллельно друг другу так, что линейки (2) расположены в шахматном порядке, причем два набора параллельных лазерных лучей (3а, 3Ь), генерируемых двумя линейными массивами (1а, 1Ь) линеек соответственно, объединяются в одну лазерную линию (8) посредством набора зеркал (4, 5), причем линейные массивы (1а, 1Ь) линеек лазерных диодов и зеркала (4, 5) размещены так, что два набора лазерных лучей (3а, 3Ь) следуют оптическим путям одинаковой длины до объединения в одну лазерную линию (8).
030114
Настоящее изобретение относится к устройству для лазерного отжига подложек большой ширины, причем указанное устройство образовано из множества размещаемых рядом лазерных модулей, без особого ограничения.
Известно выполнение локального быстрого лазерного отжига (нагрева лазерной вспышкой) покрытий, наносимых на плоские подложки. Для этого подложка с отжигаемым покрытием проходит под лазерной линией, или же лазерная линия проходит над подложкой, несущей покрытие.
Лазерный отжиг позволяет тонким покрытиям нагреваться до высоких температур, около нескольких сотен градусов, при сохранении нижележащей подложки. Конечно, скорости прохождения предпочтительно должны быть максимально большими, предпочтительно, по меньшей мере, несколько метров в минуту.
Настоящее изобретение, в частности, относится к лазерам, использующим лазерные диоды. Последние в настоящее время являются наилучшими источниками лазерного излучения с точки зрения стоимости и мощности.
Для того чтобы получать мощности на единицу длины, требуемые для осуществления процесса с высокой скоростью прохождения, желательно концентрировать излучение очень большого количества лазерных диодов в одну лазерную линию. На подложке, несущей отжигаемое покрытие, плотность мощности этой лазерной линии должна в общем быть максимально равномерной так, чтобы подвергать все точки подложки одинаковой энергии отжига.
Однако большое количество лазерных диодов, требуемое для получения достаточной мощности на единицу длины, около 50 Вт/мм, создает проблему с пространственным объемом.
Было установлено, что, если имеющиеся в продаже линейки лазерных диодов, были бы размещены рядом параллельно главной оси лазерной линии (горизонтальная укладка), длина линейного массива линеек была бы примерно в два раза больше длины генерируемой окончательной лазерной линии.
Этот пространственный объем, который можно считать допустимым для небольших линий, около нескольких десятков сантиметров в длину, не допустим для линий несколько метров в длину. Однако было бы желательно иметь возможность обрабатывать на высокой скорости подложки большой ширины, такие как плоские стеклянные листы размера '"щтЪо" (6 мх3,21 м), изготавливаемые с помощью флоатпроцессов.
Более того, вышеупомянутая проблема с пространственным объемом не допускает модульную конструкцию оптической системы лазерного устройства. Конкретно, будет легко понять, что, для того чтобы иметь возможность объединять множество коротких элементарных лазерных линий в одну более длинную лазерную линию, каждый отдельный лазерный модуль должен иметь поперечные размеры, меньшие или равные длине элементарной линии, которую он генерирует. Если эти поперечные размеры будут больше, размещение модулей рядом приведет к прерывистой окончательной линии.
Другой способ увеличения мощности диодных лазеров состоит в размещении линеек диодов друг над другом (вертикальная укладка) и в объединении лучей, генерируемых этими укладками линеек, посредством фокусирующей линзы. Однако качество лазерной линии, получаемой таким образом, является неудовлетворительным для намеченных применений настоящего изобретения, так как в этих применениях важно сохранять в рабочей плоскости (подложке) глубину резкости ±1 мм для лазерной линии, т.е. линию, ширина которой не изменяется более чем на 10% от ±1 мм.
Настоящее изобретение обеспечивает лазерные модули, использующие в качестве источника света линейки лазерных диодов, делая возможным генерирование лазерных линий, имеющих длину, большую или равную размеру модуля в направлении, параллельном лазерной линии, генерируемой указанным модулем. Более того, предложенные лазерные модули не имеют недостатков вертикально уложенных диодных лазеров известного уровня техники и образуют лазерные линии, имеющие удовлетворительное качество и достаточно большую глубину резкости для вмещения дефектов плоскостности, перемещающих воздействий, вибраций в системе обычной стеклянной подложки и т.д., которые обычно составляют порядка одного миллиметра.
Для того чтобы образовать лазерное устройство настоящего изобретения, множество лазерных модулей выравниваются рядом друг с другом так, что элементарные лазерные линии, которые они генерируют, объединяются в одну лазерную линию, имеющую равномерную плотность мощности на большой длине.
Пространственный объем лазерного устройства в направлении, параллельном главной оси лазерной линии, по существу, не больше длины линии.
Настоящее изобретение основано на идее наложения двух линейных массивов линеек диодов, предпочтительно практически параллельно друг другу, и далее объединения двух параллельных наборов лазерных лучей в одну лазерную линию посредством набора зеркал, описанных более подробно ниже. Оригинальная система зеркал, используемая для объединения лучей, излучаемых двумя наложенными линейными массивами линеек, позволяет избегать известных недостатков, возникающих в результате вертикальной укладки лазерных диодов известного уровня техники, т.е. потери качества получаемой лазерной линии.
- 1 030114
Объектом настоящего изобретения является лазерное устройство, содержащее множество лазерных модулей, каждый из которых генерирует лазерную линию в рабочей плоскости, причем указанные лазерные модули размещены рядом и выровнены вдоль их длины так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одну лазерную линию, причем каждый из лазерных модулей содержит по меньшей мере одно средство генерирования лазерной линии, причем указанное лазерное устройство отличается тем, что указанное или каждое средство генерирования лазерной линии содержит два линейных массива линеек лазерных диодов, причем линейки выровнены вдоль их длины, каждая из которых излучает сфокусированный лазерный луч, причем два линейных массива размещены параллельно друг другу так, что линейки расположены в шахматном порядке, причем два набора параллельных лазерных лучей, генерируемых двумя линейными массивами линеек соответственно, объединяются в одну лазерную линию посредством набора зеркал, причем линейные массивы линеек лазерных диодов и зеркала размещены так, что все лазерные лучи, т.е. два набора лазерных лучей, следуют оптическим путям одинаковой длины до объединения в одну лазерную линию.
Два линейных массива линеек диодов, наложенные в каждом средстве генерирования лазерной линии, могут быть полностью идентичны друг другу, т.е. содержат одинаковое количество линеек, или же один из двух линейных массивов может содержать на одну линейку больше, чем другой. Линейки двух линейных массивов являются предпочтительно идентичными (одинаковая мощность, длина волны, размер и т.д.). В каждом линейном массиве линейки предпочтительно размещены рядом с минимальным пространством между ними.
В связи с этим каждый линейный массив линеек диодов имеет периодичность с периодом, который больше или равен размеру линейки.
Как уже указано выше, два линейных массива размещены параллельно друг другу так, что линейки расположены в шахматном порядке, другими словами, два линейных массива смещены на половину периода так, что каждая линейка линейного массива находится на абсолютно равном расстоянии от ближайших линеек другого линейного массива.
Каждый линейный массив линеек излучает столько лучей, сколько линейный массив содержит линеек. Два набора лучей, излучаемых двумя линейными массивами соответственно, параллельны друг другу и воспроизводят боковое смещение линеек в шахматном порядке.
Ниже буде понятно при чтении подробного описания используемого набора зеркал, что это смещение на половину периода является необходимым условием для объединения двух наборов лучей в одну лазерную линию.
В настоящем изобретении двум наборам лазерных лучей, излучаемых двумя линейными массивами линеек, необходимо следовать оптическим путям одинаковой длины до объединения в одну монохроматическую лазерную линию. Если бы это было не так, два набора лучей не были бы одинакового размера и/или не имели бы одинаковую расходимость, и качество лазерной линии, возникающей в результате их объединения, было бы неудовлетворительным.
В подробном описании ниже средства генерирования лазерной линии набор лазерных лучей, отражаемых сегментным зеркалом, будет называться "первым набором лазерных лучей", и набор, лучи которого проходят через промежутки между сегментами сегментного зеркала, будет называться "вторым набором лазерных лучей" или "другим набором лазерных лучей". Этот второй/другой набор лучей не отражается зеркалом (первый вариант выполнения, показанный на фиг. 1), или же отражается зеркалом, которое может быть непрерывным (второй вариант выполнения, показанный на фиг. 2), а также сегментным.
В связи с этим в первом варианте выполнения изобретения только один из двух наборов лазерных лучей, называемый "первым набором лазерных лучей" ниже, перенаправляется и направляется набором зеркал в плоскость второго набора лазерных лучей. Это изменение направления увеличивает длину оптического пути этого первого набора лазерных лучей. Для того чтобы компенсировать увеличенную длину оптического пути первого набора лазерных лучей, возникающую в результате перенаправления зеркалами, линейный массив линеек лазерных диодов, который излучает первый набор лазерных лучей, смещен в направлении распространения второго лазерного луча на расстояние, равное увеличению длины оптического пути из-за перенаправления набором зеркал.
Перенаправление первого набора лучей предпочтительно достигается с помощью двух последовательных отражений:
первого отражения, которое изменяет плоскость распространения первого набора лучей так, что она разрезает плоскость распространения второго набора лучей; и
второго отражения на одном уровне с пересечением двух плоскостей распространения, приводящего к перекрытию двух плоскостей распространения и образованию одной "плоскости" или линии лазерного излучения.
Геометрия этого двойного отражения, приводящего два набора лучей к объединению, показана на фиг. 1.
В одном конкретном варианте выполнения настоящего изобретения эти два последовательных отражения составляют прямые углы, т.е. первый набор лазерных лучей испытывает два ортогональных
- 2 030114
отражения. Длина оптического пути первого набора лазерных лучей далее увеличивается на исходное расстояние между двумя плоскостями распространения. Для того чтобы компенсировать это увеличение длины, линейный массив линеек лазерных диодов, излучающий первый набор лазерных лучей, выдвинут, т.е. смещен в направлении распространения второго набора лучей, на расстояние, равное исходному расстоянию между двумя плоскостями распространения двух наборов лучей.
Разумеется, двойное ортогональное отражение является лишь одним конкретным вариантом выполнения, и является вполне предполагаемым размещение зеркал так, чтобы получать два не ортогональных отражения. Специалист в области техники будет в состоянии с помощью простого тригонометрического вычисления вычислить, насколько первый линейный массив линеек диодов должен быть смещен для компенсации соответствующего увеличения длины оптического пути.
В предпочтительном варианте выполнения изобретения первое отражение первого набора лазерных лучей в направлении плоскости второго набора лазерных лучей достигается посредством одного зеркала, называемого непрерывным зеркалом ниже. Хотя это одно непрерывное зеркало может быть заменено несколькими зеркалами, размещенными в заданной плоскости, это сделало бы этот участок устройства без необходимости сложным, и в связи с этим нежелательно использование сегментного зеркала для выполнения первого отражения первого набора лучей.
Ситуация сильно отличается в случае второго отражения. Последнее происходит на одном уровне с линией пересечения двух плоскостей распространения, и невозможно использовать одно непрерывное зеркало, так как это препятствовало бы распространению второго набора лазерных лучей. В связи с этим сегментное зеркало, состоящее, по меньшей мере, из стольких же зеркальных сегментов, сколько первый набор лазерных лучей содержит лазерных лучей, используется для второго отражения, причем каждый луч первого набора лазерных лучей отражается одним зеркальным сегментом. Использование сегментного зеркала имеет преимущество бокового смещения на половину периода двух линейных массивов линеек диодов. Конкретно, за счет этого смещения лучи первого набора лучей чередуются с лучами второго набора лучей, и зеркальный сегмент соответствующего размера может отражать лучи первого набора без перехвата лучей второго набора.
После этого второго отражения первый набор лазерных лучей распространяется в плоскости распространения второго набора лазерных лучей, причем два набора образуют одну монохроматическую лазерную линию.
В связи с этим набор зеркал, используемый в настоящем изобретении, предпочтительно содержит непрерывное первое зеркало, отражающее первый набор лазерных лучей в направлении плоскости
второго набора лазерных лучей; и
сегментное второе зеркало, состоящее, по меньшей мере, из стольких же зеркальных сегментов, сколько первый набор лазерных лучей содержит лазерных лучей, причем каждый луч первого набора лазерных лучей отражается одним зеркальным сегментом.
Во втором варианте выполнения модульного лазерного устройства настоящего изобретения, показанном на фиг. 2, каждый из первого и второго наборов лучей отражается зеркалом.
Два набора лучей отражаются под одинаковым углом так, что после этого отражения две плоскости распространения двух наборов лазерных лучей совпадают и образуют одну лазерную линию. Первый набор лазерных лучей отражается сегментным зеркалом, что позволяет и лучам первого набора отражаться, и лучам другого набора проходить через промежутки между зеркальными сегментами. Другой набор лучей предпочтительно отражается непрерывным зеркалом.
Лазерные лучи, генерируемые каждой из линеек лазерных диодов, представляют собой лучи, которые сфокусированы благодаря фокусирующей линзе на выходе из линейки.
В одном особенно предпочтительном варианте выполнения лазерного устройство настоящего изобретения сегменты сегментного зеркала размещены так, чтобы отражать лазерные лучи первого набора в их фокальной точке. Это позиционирование зеркальных сегментов в фокальной точке первых лучей является предпочтительным, так как это делает возможным максимальное ограничение области этих зеркальных сегментов и, таким образом, предотвращение их от блокировки прохода лучей второго набора лучей.
Каждое средство генерирования лазерного излучения, такое как описанное выше, образует монохроматическую лазерную линию, имеющую заданное линейное состояние поляризации. Конкретно, все лазерные диоды двух линейных массивов линеек диодов производят лазерное излучение с одинаковой длиной волны и с одинаковым состоянием поляризации. Двойное отражение не изменяет линейное состояние поляризации лазерного излучения.
Известно увеличение мощности лазерного диодного устройства путем объединения множества лучей или лазерных линий различных длин волн или различных состояний поляризации, благодаря оптической системе, называемой в настоящем изобретении как "средство объединения лазерных линий". Такая оптическая система описана, например, в заявке на патент США № 2011/0176219.
Это позволяет, благодаря набору поляризационных ответвителей и дихроичных зеркал, объединяться лазерным лучам, генерируемым отдельно отдельными линейками лазерных диодов. Обычно множество линеек или наборов линеек диодов создают множество лучей различных длин волн соответствен- 3 030114
но, более того, лучи заданных длин волн возможно имеют две различные поляризации, которые ортогональны друг другу.
В связи с этим в предпочтительном варианте выполнения лазерное устройство настоящего изобретения содержит по меньшей мере два средства генерирования лазерной линии, причем каждое средство генерирует монохроматическую лазерную линию, которая отличается от одной или более других монохроматических лазерных линий своей длиной волны и/или своим состоянием поляризации.
Оно, например, содержит четыре пары средств генерирования лазерной линии, причем каждая пара генерирует две монохроматические лазерные линии, имеющие одинаковую длину волны, и которые отличаются друг от друга их состоянием поляризации. Таким образом, сгенерированные различные лазерные линии, в количестве восьми в вышеупомянутом примере, далее объединяются известным образом с помощью средства объединения лазерных линий в одну полихроматическую лазерную линию и/или лазерную линию двойной поляризации. Выражение "двойная поляризация" здесь описывает линию или смесь лазерных лучей, поляризуемых в двух плоскостях, которые перпендикулярны друг другу.
Модульное лазерное устройство настоящего изобретения предпочтительно содержит по меньшей мере 5 модулей, в частности по меньшей мере 10 модулей.
Для того чтобы образовать лазерное устройство настоящего изобретения, множество лазерных модулей выравниваются рядом друг с другом так, что элементарные лазерные линии, которые они генерируют, объединяются в одну лазерную линию, имеющую равномерную плотность мощности на большой длине.
Конкретнее, лазерные модули размещены рядом так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одну лазерную линию, имеющую общую длину предпочтительно более 1,2 м, в частности более 2 м и в идеальном случае более 3 м.
С целью лазерной обработки подложек "]ишЬо", имеющих ширину 3,21 м, центральный участок лазерной линии, где плотность мощности является по существу постоянной, предпочтительно имеет длину между 3,20 и 3,22 м.
Лазерные модули собираются и устанавливаются на лазерном устройстве так, что генерируемые лазерные линии разрезают подложку или рабочую плоскость предпочтительно под небольшим углом, обычно меньше 20° и предпочтительно меньше 10° относительно нормали к подложке. Устройство может быть выполнено так, что лазерные модули остаются неподвижными, причем обрабатываемая подложка проходит под или над линейным массивом модулей, как правило, в направлении, перпендикулярном главной оси лазерной линии. В качестве варианта, устройство может быть выполнено так, что подложка остается неподвижной, а линейный массив лазерных модулей проходит выше или ниже подложки при проецировании лазерной линии на нее предпочтительно под прямым углом.
Модульное лазерное устройство настоящего изобретения далее будет описано более подробно со ссылкой на прилагаемые фигуры, на которых:
фиг. 1 представляет собой вид в перспективе первого варианта выполнения средства генерирования лазерной линии; и
фиг. 2 представляет собой вид в перспективе второго варианта выполнения средства генерирования лазерной линии.
Фиг. 1 показывает два линейных массива 1а, 1Ь линеек лазерных диодов. Линейные массивы 1а, 1Ь размещены друг над другом с боковым смещением так, что линейки 2 расположены в шахматном порядке относительно друг друга. Каждая из линеек 2 генерирует сфокусированный лазерный луч 3а, 3Ь. Для простоты каждый из линейных массивов 1а, 1Ь здесь содержит только две линейки. Когда линейные массивы содержат более двух линеек, последние равномерно разнесены, таким образом, каждый линейный массив линеек излучает набор равномерно разнесенных лазерных лучей. Первый набор лучей 3 а, генерируемых линейками 2 нижнего линейного массива 1а, испытывает два последовательных ортогональных отражения: первое отражение вверх, обеспечиваемое непрерывным зеркалом 4, затем второе отражение, обеспечиваемое рядом зеркальных сегментов 5, также называемых сегментным зеркалом. Лучи 3Ь верхнего линейного массива 1Ь линеек лазерных диодов не отражаются.
Сегменты сегментного зеркала 5 разрезают плоскость распространения второго набора лучей 3Ь и размещены в промежутках между лучами второго набора лучей 3Ь, конкретнее, вблизи фокальных точек 6 последних, где промежутки между лучами являются максимальными. Расположение в шахматном порядке линеек 2 двух линейных массивов 1а, 1Ь означает, что в этом положении зеркала 5 перехватывают и отражают лучи первого набора лучей 3 а, излучаемых нижним линейным массивом 1а линеек диодов.
Эти лучи сфокусированы так, чтобы отражаться зеркальными сегментами 5 в их фокальной точке.
В связи с этим фокус двух наборов лучей 3 а, 3Ь устанавливается так, что все фокальные точки выровнены по заданной прямой линии, которая, по существу, наложена на прямую линию, образованную вторым ортогональным отражением первого набора лазерных лучей 3 а.
После второго ортогонального отражения первого набора лазерных лучей 3а два набора лучей распространяются в одной и той же плоскости, таким образом, образуя одну лазерную линию 8.
В настоящем изобретении двум наборам лазерных лучей 3 а, 3Ь необходимо следовать оптическим путям, имеющим одинаковую длину, до объединения в одной плоскости распространения.
- 4 030114
Вот почему нижний линейный массив 1а линеек смещен вперед относительно верхнего линейного массива, т.е. в направлении распространения лучей 3Ь этого верхнего линейного массива 1Ь. Это смещение компенсирует увеличение длины оптического пути, проходимого первым набором лучей из-за его двойного отражения. В данном случае это увеличение длины равно расстоянию между исходными плоскостями распространения, другими словами, равно расстоянию между двумя отражениями, испытываемыми первым набором лучей.
Во втором варианте выполнения, показанном на фиг. 2, каждый из двух наборов лучей 3а, 3Ь, генерируемых двумя линейными массивами 1а, 1Ь линеек, отражается один раз.
Каждый из первого линейного массива 1а и второго линейного массива 1Ь, расположенного выше первой, содержит две линейки 2. Первый набор лучей 3 а, генерируемых первым линейным массивом 1а, отражается под прямыми углами сегментным зеркалом 5, размещенным в фокальной точке лучей, причем каждый зеркальный сегмент 5 отражает один луч 3 а.
Второй набор лучей 3Ь, излучаемых вторым линейным массивом 1Ь линеек, сначала распространяется параллельно первому набору лучей 3а, затем, когда его плоскость распространения разрезает вторую плоскость распространения первого набора лучей 1а, второй набор лучей испытывает идентичное отражение, что и первый набор лучей, что вызывает наложение плоскостей распространения двух наборов лучей.
Фокусы первого и второго набора лучей являются идентичными, и второй линейный массив 1Ь линеек размещен так, что фокальные точки всех лучей 3 а, 3Ь находятся на одном уровне с сегментным зеркалом 5. Зеркало 4, отражающее второй набор лучей 3Ь, представляет собой непрерывное зеркало.

Claims (11)

  1. ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ
    1. Лазерное устройство, содержащее множество лазерных модулей, каждый из которых генерирует лазерную линию в рабочей плоскости, причем указанные лазерные модули размещены рядом и выровнены вдоль их длины так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одну лазерную линию, причем каждый из лазерных модулей содержит два линейных массива (1а, 1Ь) из линеек (2) лазерных диодов, причем линейки в массиве расположены на одной прямой, каждая из них излучает сфокусированный лазерный луч (3а, 3Ь), причем два линейных массива (1а, 1Ь) размещены параллельно друг другу так, что линейки (2) расположены в шахматном порядке, причем два набора параллельных лазерных лучей (3а, 3Ь), генерируемых двумя линейными массивами (1а, 1Ь) линеек соответственно, объединяются в одну лазерную линию (8) посредством набора зеркал (4, 5), причем линейные массивы (1а, 1Ь) линеек лазерных диодов и зеркала (4, 5) размещены так, что два набора лазерных лучей (3а, 3Ь) следуют оптическим путям одинаковой длины до объединения в одну лазерную линию (8).
  2. 2. Лазерное устройство по п.1, отличающееся тем, что один набор лазерных лучей (3а), называемый первым набором лазерных лучей, перенаправляется и направляется с помощью набора зеркал (4, 5) в плоскость второго набора лазерных лучей (3Ь), причем линейный массив (1а) линеек лазерных диодов, излучающий первый набор лазерных лучей (3а), смещен в направлении распространения второго набора лазерных лучей (3Ь) на расстояние, равное увеличению длины оптического пути из-за его перенаправления набором зеркал (4, 5).
  3. 3. Лазерное устройство по п.2, отличающееся тем, что первый набор лазерных лучей (3а) испытывает два ортогональных отражения, и линейный массив линеек лазерных диодов смещен на расстояние, равное исходному расстоянию между двумя плоскостями распространения двух наборов лучей.
  4. 4. Лазерное устройство по любому из пп.2 и 3, отличающееся тем, что набор зеркал (4, 5) содержит непрерывное зеркало (4), отражающее первый набор лазерных лучей (3а) в направлении плоскости
    второго набора лазерных лучей (3Ь); и
    сегментное зеркало (5), состоящее, по меньшей мере, из стольких же зеркальных сегментов, сколько первый набор лазерных лучей (3а) содержит лазерных лучей, причем каждый луч первого набора лазерных лучей (3а) отражается одним зеркальным сегментом (5).
  5. 5. Лазерное устройство по п.1, отличающееся тем, что два набора лазерных лучей (3 а, 3Ь) отражаются под одинаковым углом так, что после отражения две плоскости распространения двух наборов лазерных лучей совпадают, причем первый из двух наборов лазерных лучей отражается сегментным зеркалом (5), а другой - предпочтительно непрерывным зеркалом (4).
  6. 6. Лазерное устройство по любому из пп.4 и 5, отличающееся тем, что сегменты сегментного зеркала (5) размещены так, чтобы отражать лазерные лучи (3а) в фокальной точке последних.
  7. 7. Лазерное устройство по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит по меньшей мере два средства генерирования лазерной линии, причем каждое средство генерирует монохроматическую лазерную линию, которая отличается от одной или более других монохроматических лазерных линий своей длиной волны и/или своим состоянием поляризации.
  8. 8. Лазерное устройство по п.7, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит средство объединения лазерных линий, позволяющее множеству лазерных линий объединяться в одну полихроматическую лазерную линию и/или лазерную линию двойной поляризации.
    - 5 030114
  9. 9. Лазерное устройство по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что два линейных массива (1а, 1Ь) линеек лазерных диодов содержат одинаковое количество линеек или же один из линейных массивов содержит на одну линейку больше, чем другой.
  10. 10. Лазерное устройство по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит по меньшей мере 5 модулей и предпочтительно по меньшей мере 10 модулей.
  11. 11. Лазерное устройство по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что лазерные модули размещены рядом так, что лазерные линии, генерируемые модулями, объединяются в одно лазерное излучение, имеющее общую длину более 1,2 м, предпочтительно более 2 м и, в частности, более 3 м.
EA201690770A 2013-10-18 2014-10-13 Модульное лазерное устройство EA030114B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR1360143A FR3012226B1 (fr) 2013-10-18 2013-10-18 Appareil laser modulaire
PCT/FR2014/052600 WO2015055932A1 (fr) 2013-10-18 2014-10-13 Appareil laser modulaire

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201690770A1 EA201690770A1 (ru) 2016-08-31
EA030114B1 true EA030114B1 (ru) 2018-06-29

Family

ID=50101948

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201690770A EA030114B1 (ru) 2013-10-18 2014-10-13 Модульное лазерное устройство

Country Status (9)

Country Link
US (1) US9742155B2 (ru)
EP (1) EP3058412A1 (ru)
JP (1) JP6542764B2 (ru)
KR (1) KR102257001B1 (ru)
CN (1) CN105659451B (ru)
EA (1) EA030114B1 (ru)
FR (1) FR3012226B1 (ru)
TW (1) TWI643690B (ru)
WO (1) WO2015055932A1 (ru)

Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101758517B1 (ko) * 2015-12-23 2017-07-14 주식회사 포스코 강판 열처리 장치 및 방법
US11224937B2 (en) * 2015-12-25 2022-01-18 Hon Hai Precision Industry Co., Ltd. Line beam light source, line beam irradiation device, and laser lift off method
CN109477970B (zh) 2016-07-27 2022-06-28 通快激光有限责任公司 激光线照射
CN106253048B (zh) * 2016-08-30 2022-03-22 西安炬光科技股份有限公司 一种实现均匀光斑的高功率半导体激光***
CN106229808B (zh) * 2016-09-20 2023-08-29 中国电子科技集团公司第十三研究所 脉冲激光器
CN106707503B (zh) * 2016-12-08 2017-12-12 中国人民解放军国防科学技术大学 大功率半导体堆栈笑脸校正及线宽压窄装置及方法
CN107370230A (zh) * 2017-08-29 2017-11-21 北方民族大学 一种定向激光充电***及激光充电方法
FR3072895B1 (fr) * 2017-10-31 2019-10-18 Saint-Gobain Glass France Procede d'alignement d'une pluralite de lignes lasers
FR3073839B1 (fr) * 2017-11-23 2019-11-15 Saint-Gobain Glass France Systeme d’alignement d’un dispositif de traitement thermique et son fonctionnement
WO2019149352A1 (en) * 2018-01-31 2019-08-08 Trumpf Laser Gmbh Laser diode based line illumination source and laser line illumination
JP7021833B2 (ja) * 2018-05-17 2022-02-17 三菱電機株式会社 レーザ装置
US10822270B2 (en) 2018-08-01 2020-11-03 Guardian Glass, LLC Coated article including ultra-fast laser treated silver-inclusive layer in low-emissivity thin film coating, and/or method of making the same
CN109916279B (zh) * 2019-03-04 2020-09-22 Oppo广东移动通信有限公司 终端盖板的平整度检测方法、装置、测试机台及存储介质
FR3095605A1 (fr) * 2019-04-30 2020-11-06 Saint-Gobain Glass France Systeme d’alignement d’un dispositif de traitement thermique et son fonctionnement
FR3105044B1 (fr) * 2019-12-20 2022-08-12 Saint Gobain Dispositif de traitement d’un substrat
EP4387795A1 (en) 2021-08-20 2024-06-26 General Electric Company Irradiation devices with optical modulators for additively manufacturing three-dimensional objects
US12030251B2 (en) 2021-08-20 2024-07-09 General Electric Company Irradiation devices with optical modulators for additively manufacturing three-dimensional objects
CN113664391B (zh) * 2021-09-03 2024-06-07 上海百琪迈科技(集团)有限公司 一种高效薄质材料组合式激光快速切割设备

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5155623A (en) * 1988-09-23 1992-10-13 At&T Bell Laboratories Arrangement for imaging multiple arrays of light beams
WO2001006297A2 (en) * 1999-07-15 2001-01-25 Silicon Light Machines Method and apparatus for combining light output from multiple laser diode bars
DE102008063006A1 (de) * 2008-12-23 2010-06-24 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einem Arbeitsbereich
US7768708B1 (en) * 2006-02-03 2010-08-03 Raytheon Company Light source having spatially interleaved light beams
CN101854031A (zh) * 2010-05-04 2010-10-06 长春德信光电技术有限公司 平行平板棱镜组实现半导体激光束耦合的激光装置
WO2012032116A1 (de) * 2010-09-09 2012-03-15 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Laservorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1318162C (en) * 1988-09-23 1993-05-25 David Andrew Barclay Miller Arrangement for imaging multiple arrays of light beams
JP3017277B2 (ja) * 1989-12-07 2000-03-06 株式会社リコー 光アニール装置
JPH05226790A (ja) * 1992-02-18 1993-09-03 Hitachi Ltd レーザアニール装置
US20030174405A1 (en) * 2001-08-10 2003-09-18 Hamamatsu Photonics K.K. Laser light source and an optical system for shaping light from a laser-bar-stack
JP2003103389A (ja) * 2001-09-27 2003-04-08 Toyoda Mach Works Ltd 半導体レーザ集光装置
TWI289896B (en) * 2001-11-09 2007-11-11 Semiconductor Energy Lab Laser irradiation apparatus, laser irradiation method, and method of manufacturing a semiconductor device
US7010194B2 (en) * 2002-10-07 2006-03-07 Coherent, Inc. Method and apparatus for coupling radiation from a stack of diode-laser bars into a single-core optical fiber
US6993059B2 (en) * 2003-06-11 2006-01-31 Coherent, Inc. Apparatus for reducing spacing of beams delivered by stacked diode-laser bars
DE102007034261B4 (de) 2007-07-20 2010-02-18 Lasos Lasertechnik Gmbh Vorrichtung zum Vereinigen einzelner Lichtstrahlen verschiedener Wellenlängen zu einem koaxialen Lichtbündel
US8215776B2 (en) * 2009-01-07 2012-07-10 Eastman Kodak Company Line illumination apparatus using laser arrays
US8432945B2 (en) * 2010-09-30 2013-04-30 Victor Faybishenko Laser diode combiner modules
JP2012216733A (ja) * 2011-04-01 2012-11-08 Japan Steel Works Ltd:The レーザ処理プロセスの温度測定装置および温度測定方法
US8842369B2 (en) * 2012-11-19 2014-09-23 Corning Incorporated Method and apparatus for combining light sources

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5155623A (en) * 1988-09-23 1992-10-13 At&T Bell Laboratories Arrangement for imaging multiple arrays of light beams
WO2001006297A2 (en) * 1999-07-15 2001-01-25 Silicon Light Machines Method and apparatus for combining light output from multiple laser diode bars
US7768708B1 (en) * 2006-02-03 2010-08-03 Raytheon Company Light source having spatially interleaved light beams
DE102008063006A1 (de) * 2008-12-23 2010-06-24 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung in einem Arbeitsbereich
CN101854031A (zh) * 2010-05-04 2010-10-06 长春德信光电技术有限公司 平行平板棱镜组实现半导体激光束耦合的激光装置
WO2012032116A1 (de) * 2010-09-09 2012-03-15 Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg Laservorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung in einer arbeitsebene

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016541108A (ja) 2016-12-28
FR3012226A1 (fr) 2015-04-24
EP3058412A1 (fr) 2016-08-24
FR3012226B1 (fr) 2015-10-30
EA201690770A1 (ru) 2016-08-31
TW201527022A (zh) 2015-07-16
KR102257001B1 (ko) 2021-05-27
TWI643690B (zh) 2018-12-11
US9742155B2 (en) 2017-08-22
JP6542764B2 (ja) 2019-07-10
KR20160074480A (ko) 2016-06-28
US20160241001A1 (en) 2016-08-18
CN105659451B (zh) 2019-06-04
CN105659451A (zh) 2016-06-08
WO2015055932A1 (fr) 2015-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA030114B1 (ru) Модульное лазерное устройство
JP6154965B2 (ja) レーザユニット及びレーザ装置
US20140009829A1 (en) Method for partitioning and incoherently summing a coherent beam
KR102229320B1 (ko) 모듈형 레이저 장치
US9904069B2 (en) Apparatus and method for speckle reduction in laser processing equipment
KR101425492B1 (ko) 레이저 가공 장치 및 방법
JP6383166B2 (ja) 光照射装置および描画装置
IL205858A (en) A device for creating a beam of light
US10437072B2 (en) Line beam forming device
CN105487237B (zh) 一种多束激光雷达的分光元件、装置及方法
JP2016131997A (ja) レーザ切断光学ユニット及びレーザ切断装置
US20170299875A1 (en) Single-emitter line beam system
CN105680295B (zh) 一种激光合束装置
JP2012135808A (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
KR101647991B1 (ko) 수직 다중 빔 레이저 가공 장치
JP6345963B2 (ja) 光照射装置および描画装置
TW201343295A (zh) 雷射網點加工之光學系統
US20140263222A1 (en) Laser machining device for machining netted dots
JP2009248181A (ja) レーザー加工装置、レーザービームのピッチ可変法、及びレーザー加工方法
KR101262869B1 (ko) 반사 거울을 이용한 레이저 빔의 다중 초점 생성 장치
CN107561016B (zh) 一种激光探测气体浓度的***
CN116157225A (zh) 用于产生激光束的***、设备和方法
KR20180013450A (ko) 레이저 가공 장치
KR20180070327A (ko) 멀티빔을 이용한 레이저 가공 장치 및 이에 사용되는 광학계
JP2014193477A (ja) レーザ加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG TJ TM

MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): RU