DE9017728U1

DE9017728U1 - Zerstäubungskatode für die Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen

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Publication number: DE9017728U1
Application number: DE9017728U
Authority: DE
Original assignee: Leybold AG
Current assignee: Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Priority date: 1990-12-31
Filing date: 1990-12-31
Publication date: 1991-11-14
Anticipated expiration: 2001-01-01

Description

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Leybold Aktiengesellschaft
Wilhelm-Rohn-Str. 25

D-6450 Hanau 1

Zerstäubungskatode für die Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen

Die Neuerung betrifft eine Zerstäubungskatode für die Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen mit einem Katodengrundkörper und einem darauf angeordneten Hohltarget mit mindestens einer ebenen, beispielsweise kreisringförmigen Zerstäubungsfläche, die von mindestens zwei in sich geschlossenen konzentrischen Vorsprüngen umschlossen ist, sowie einer Magnetanordnung mit beiderseits des Targets liegenden Polflächen entgegengesetzter Polung zur Erzeugung von im wesentlichen parallel zur Zerstäubungsfläche verlaufenden Magnetfeldlinien.

Es sind Zerstäubungskatoden für die Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen bekannt (DE-OS 35 27 626, US-PS 4 486 287), die im wesentlichen

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aus einem Katodengrundkorper, einem darauf angeordneten Hohltarget sowie einer das Target umfassenden Magnetanordnung bestehen und aufgrund ihrer Ausführungsform auch als ZPT-Hohlmagnetron (ZPT = Zwischen-Pol-Target) bezeichnet werden. Die in solchen Hohlmagnetrons üblicherweise verwendeten Hohltargets weisen in sich geschlossene konzentrische Vorsprünge auf, wobei die sich an die Zerstäubungsfläche anschließenden Wandflächen der Vorsprünge des Targets bislang lotrecht zur Zerstäubungsfläche in Zerstäubungsrichtung angeordnet sind.

Durch diese Ausführungsform stellen sich zwei gegenläufige Erscheinungen ein, die sich bislang nicht miteinander vereinbaren ließen: Einerseits möchte man einen Verlauf der Magnetfeldlinien parallel zur Zerstäubungsfläche erreichen, um eine möglichst hohe Zerstäubungsrate zu erzielen. Andererseits treten die Magnetfeldlinien in im wesentlichen senkrechter Richtung aus der einen, sich an die Zerstäubungsfläche anschließenden Wandfläche des einen Vorsprungs des Targets aus und nach dem Überqueren der Zerstäubungsfläche in die andere, gegenüberliegende Wandfläche des anderen Vorsprungs in im wesentlichen senkrechter Richtung wieder ein. Da diese Wandflächen von den Magnetfeldlinien im wesentlichen in senkrechter Richtung^ durchdrungen werden, stehen diese für die Zerstäubung nicht mehr zur Verfügung; im Gegenteil, der während des Zerstäubungsprozesses von der Zerstäubungsfläche abgelöste Werkstoff schlägt sich auf diesen Wandflächen nieder und baut mit Nachteil eine an diesen Flächen unerwünschte Schicht auf. Nachdem sich durch den Zerstäubungsprozeß mit metallischem Targetwerkstoff eine ausreichende Schichtdicke eingestellt hat, kommt es zum Abplatzen der sich

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einstellenden Schicht in den genannten Targetbereichen, was zur Unbrauchbarkeit des zu beschichtenden Substrats und zwangsläufig zum Ausfall der gesamten Zerstäubungsanlage führt.

Im Reaktivbetrieb der Zerstäubungskatode findet eine unerwünschte Belegung der Targetränder mit dielektrischem Werkstoff statt, was zum Arcing und somit ebenso zur Abschaltung des Zerstäubungsprozesses führt.

Der Neuerung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Belegung der Wandflächen der Targetvorsprünge mit Targetwerkstoff zu vermeiden und die Vorteile des Hohlmagnetrons zu erhalten, d.h. einen guten seitlichen elektrostatischen Einschluß des Plasmas und eine gute Ausnutzung des Targetwerkstoffs zu erreichen.

Diese Aufgabe wird neuerungsgemäß dadurch gelöst, daß die sich an die Zerstäubungsflächen anschließenden Wandflächen der Vorsprünge des Targets in einem Winkel &agr; zur Lotrechten der Zerstäubungsfläche angeordnet sind, wobei dieser Böschungswinkel vorzugsweise in einem Bereich zwischen 30 und 70 Grad liegt.

Das neuerungsgemäße Hohltarget für eine Zerstäubungskatode zur Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen weist alle Vorteile der bislang angewandten Hohltargets auf und vermeidet sowohl im metallischen wie im reaktiven Betrieb das unerwünschte Beschichten der Wandflächen der Targetvorsprünge mit Targetwerkstoff.

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Weitere Ausführungsmöglichkeiten und Merkmale sind in den Unteransprüchen näher beschrieben und gekennzeichnet.

Die Neuerung läßt die verschiedensten Ausführungsmöglichkeiten zu; eine davon ist in den anhängenden Zeichnungen näher dargestellt, und zwar zeigen:

Fig. 1 einen halben Axialschnitt durch ein Ausführungsbeispiel der wesentlichen Teile einer Rundkatode mit dem neuerungsgemäßen Hohltarget für die Katodenzerstäubung,

Fig. 2 ein kreisringförmiges Hohltarget konventioneller Bauart im Schnitt und in vergrößerter Darstellung, und

Fig. 3 ein neuerungsgemäßes Hohltarget gemäß Figur 1 im Schnitt und in vergrößerter Darstellung.

In Figur 1 ist ein Katodengrundkorper 1 dargestellt, der aus einem ferromagnetisehen Werkstoff besteht und gleichzeitig das Magnetjoch für das nachfolgend näher beschriebene Magnetsystem bildet. Der Katodengrundkorper 1 besteht aus einem im wesentlichen scheibenförmigen Körper mit einem ringförmigen Kühlkanal 2. Auf einer oberen Ebene 3 des Grundkörpers 1 sind ringförmige Auflageflächen 3a, 3b vorgesehen, die zur Zentrierung einer Hülse 4 und eines Rings 5 dienen, wobei beide Teile aus weichmagnetischem Werkstoff hergestellt sind. An beide Teile 4, 5 schließen sich die Permanentmagnete 6a, 6b einer Magnetanordnung 6 an. Es handelt sich um einen inneren Ringmagneten 6a und einen äußeren Ringmagneten

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6b, die beide in bezug auf auf die Mittenachse A-A des Systems in radialer Richtung magnetisiert sind, und zwar derart, daß die Polungsrichtung (siehe Pfeile) beider Magnete 6a, 6b nach innen zur Achse A-A hin zeigen. Die Magnete 6a, 6b weisen auf ihrer äußeren bzw. inneren zylindrischen Mantelflächen jeweils Polflächen auf, wobei die Polflächen 6c, 6d gegenüberliegend angeordnet sind.

Zwischen den beiden Auflageflächen 3a, 3b liegt auf der oberen Ebene 3 des Katodengrundkörpers 1 ein ringförmiger Isolierkörper 7, der zur Abstützung eines Hohltargets 8 dient. Dieses Target 8 stellt den Ausgangswerkstoff für die zu erzeugende Schicht, die auf einem nicht näher dargestellten Substrat niedergeschlagen werden soll. Das Target 8 besteht im wesentlichen aus einem ringförmigen Grundkörper, der in seiner Schnittdarstellung eine ebene Zerstaubungsflache 8a aufweist, die beiderseits von zwei in sich geschlossenen konzentrischen Vorsprüngen 8b, 8c begrenzt ist, welche sich in Zerstäubungsrichtung erstrecken und aus dem gleichen Werkstoff bestehen wie der übrige Teil des Targets 8. Die Vorsprünge 8b, 8c besitzen aufeinander zugerichtete Wandflächen 8d, 8e, die in einem Böschungswinkel schräg zur Ebene der Zerstaubungsflache-8a verlaufen.

Um die bei der Zerstäubung in das Target 8 eintretende Wärmemenge abführen zu können, sind in der der oberen Ebene 3 gegenüberliegende Seite des Targets 8 konzentrisch verlaufende Kühlkanäle 9a, 9b angeordnet, die durch Ringscheiben 10a, 10b verschlossen sind.

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Die Polflächen 6c, 6d beiderseits der Vorsprünge 8b, 8c sind soweit über die Ebene der Zerstäubungsfläche 8a in Zerstäubungsrichtung vorgezogen, daß die Magnetfeldlinien 11, 11' ... in im wesentlichen senkrechter Richtung aus der einen Polfläche 6b austreten und nach dem Überqueren der Zerstäubungsfläche 8a in die andere gegenüberliegende Polfläche 6c des anderen Magneten 6a in im wesentlichen senkrechter Richtung wieder eintreten.

Das Magnetsystem 6 ist von einer Abschirmung 12 umgeben, die aus einem scheibenförmigen, zentralen Teil 12a und einem ringförmigen peripheren Teil 12b besteht. Der zentrale Teil 12a liegt über einen Distanzring 13 auf der Hülse 4 auf und ist über eine Schraube 14 elektrisch leitend mit dem Katodengrundkörper 1 verbunden. Der periphere Teil 12b ist über einen weiteren Distanzring 15 mit dem Katodengrundkörper 1 elektrisch leitend verbunden. Die beiden einander gegenüberliegenden Ränder 12c, 12d der Abschirmung 12 übergreifen auch die in Zerstäubungsrichtung zeigenden Stirnseiten der Vorsprünge 8b, 8c.

Die Vorsprünge 16b, 16c eines konventionellen Hohltargets 16 (Figur 2) sind so ausgebildet, daß die Wandflächen 16d, 16e lotrecht zur Serstäubungsflache 16a verlaufen. Dadurch entstehen auf den Flächen 16d, 16e Schichten 16f, 16g aus zerstäubtem Targetwerkstoff, der sich hier niederschlägt und dessen Oberfläche eine unregelmäßige zerklüftete Form einnimmt. Zwischen den beiden Wandflächen 16d, 16e bildet sich in der Zerstäubungsfläche 16a ein wannenförmiger Sputtergraben 17 (strichliert dargestellt), der eine untere Begrenzungslinie 17a aufweist, die etwa parallel zur Ebene der

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ursprünglichen Zerstäubungsfläche 16a verläuft, und der weiterhin zwei seitliche Begrenzungslinien 17b, 17c aufweist, die in einem Winkel &agr;, dem Böschungswinkel, zu den Wandflächen 16d, 16e verlaufen.Ein neuerungsgemäßes Target 8 (Figur 3) unterscheidet sich, im Vergleich zu dem in Figur 2 beschriebenen Target 16 dadurch, daß die Wandflächen 8d, 8e der Vorsprünge 8b, 8c nicht lotrecht zur Zerstäubungsfläche 8a angeordnet sind, sondern in Verlängerung der seitlichen Begrenzungslinien 18b, 18c des sich einstellenden Sputtergrabens 18 in einem Winkel &agr; verlaufen. Der Böschungswinkel &agr; liegt vorzugsweise zwischen 30 und 70 Grad zur Lotrechten der Zerstäubungsfläche 8a . Die untere Begrenzungslinie 18a des Sputtergrabens 18 verläuft etwa parallel zur ursprünglichen Zerstäubungsfläche 8a.

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1	3b	Katodengrundkörper
2		Kühlkanal
3		obere Ebene
3a,		Auflagefläche
4		Hülse
5		Ring
6		Magnetanordnung
6a		innerer Ringmagnet
6b		äußerer Ringmagnet
6c		innere Polfläche
6d		äußere Polfläche
7	8c	Isolierkörper
8	8e	Hohltarget
8a	9b	Zerstäubungs flache
8b,	10b	Vorsprung
8d,	11' , ...	Wandfläche
9a,		Kühlkanal
10a,		Ringscheibe
11,		Magnetfeldlinien
12	12d	Abschirmung
12a		zentraler Teil
12b		peripherer Teil^
12c,		Rand
13		Distanzring
14		Schraube
15	16c	Distanzring
16	Hohltarget
16a	Zers täubungs flache
16b,	Vorsprung

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16d,	16e	Wandfläche
16f,	16g	Schicht
17		Splittergraben
17a		Begrenzungslinie unten
17b,	17c	Begrenzungslinie seitlich
18		Sputtergraben
18a		Begrenzungslinie unten
18b,	18c	Begrenzungslinie seitlich
A-A		Mittenachse
&agr;		Winkel, Böschungswinkel
L		Lotrechte

Claims

9 15 6 Schutzansprüche

1. Zerstäubungskatode für die Beschichtung von Substraten in Katodenzerstäubungsanlagen mit einem Katodengrundkörper (1) und einem darauf angeordneten Hohltarget (16) mit mindestens einer ebenen, beispielsweise kreisringförmigen Zerstäubungsfläche (16a), die von mindestens zwei in sich geschlossenen konzentrischen Vorsprüngen (16b, 16c) umschlossen ist, sowie einer Magnetanordnung (6) mit beiderseits des Targets (16) liegenden Polflächen (6c, 6d) entgegengesetzter Polung zur Erzeugung von im wesentlichen parallel zur Zerstäubungsfläche (16a) verlaufenden Magnetfeldlinien (11, 11'/ -··), dadurch gekennzeichnet, daß die sich an die Zerstäubungsfläche (8a) anschließenden Wandflächen (8d, 8e) der Vorsprünge (8b, 8c) des Targets (8) in einem Winkel (&agr;) zur Lotrechten (L) der Zerstäubungsfläche (8a) angeordnet sind, wobei der Winkel
(&agr;) vorzugsweise in einem Bereich zwischen 30 und 70 Grad liegt.

2. Zerstäubungskatode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Erstreckungssrichtungen der Wandflächen (8d, 8e) der Vorsprünge (8b, 8c) etwa in Verlängerung der Böschungen (18b, 18c) des Sputtergrabens (18) verlaufen, und zwar in Zerstäubungsrichtung.

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3. Zerstäubungskatode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorsprünge (8b, 8c) aus dem gleichen Werkstoff wie die Zerstäubungsfläche (8a) bestehen.

4. Zerstäubungskatode nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorsprünge (8b, 8c) aus einem vom Werkstoff der Zerstäubungsfläche (8a) abweichenden Werkstoff gebildet sind.