DE725305C - Process for the production of reflex copies - Google Patents

Description

Es ist ein Verfahren zur Herstellung von Reflexkopien bekanntgeworden, bei welchem die durch das lichtempfindliche Material gehende Strahlung rasterartig verteilt wird. Durch die Erfinderin wurde dieses Verfahren noch weiter ausgearbeitet, namentlich in Verbindung mit der Diazotypie. Verschiedene Verfahren, um bei der Reflektographie die rasterartig verteilte Strahlung durch die empfindliche Schicht hindurchgehen zu lassen, sind ebenfalls bekanntgeworden.A method for producing reflex copies has become known in which the radiation passing through the photosensitive material is distributed in a grid-like manner. The inventor developed this method even further, namely in connection with the diazotype. Various methods of reflectography to allow the raster-like distributed radiation to pass through the sensitive Letting layers pass through have also become known.

Für die Praxis ist insbesondere von Bedeutung das Verfahren, bei welchem die Strahlung bereits rasterartig verteilt ist in dem Augenblick, in dem sie die empfindliche Schicht trifft und diese rasterartige Verteilung durch ein von der empfindlichen Schicht unabhängiges Mittel, einen beliebigen Raster, erhalten wird. Verschiedene Systeme sind hierfür empfohlen worden, z. B. sog. Dekkungsraster, Linsenraster, Linsendeckungsraster, Kombinationen eines Rasters mit einer ausbleibenden Zwischenschicht.In practice, the method in which the radiation is used is particularly important is already distributed like a grid at the moment in which it hits the sensitive layer and this grid-like distribution by any means independent of the sensitive layer, any grid, is obtained. Various systems have been recommended for this, e.g. B. so-called cover grid, Lens grids, lens cover grids, combinations of a grid with one missing intermediate layer.

Weil man in der Praxis meist nur über eine diffuse Strahlung verfügt, wie z. B. aus einer Bogenlampe mit Reflektor, haben für die Praxis insbesondere sog. Deckungsraster Bedeutung erlangt, deren Rasterelemente sich in bzw. auf einer Oberfläche eines Trägers befinden, die dann bei der Herstellung der Reflexkopie mit der empfindlichen Schicht in unmittelbarer BerührungBecause in practice you usually only have diffuse radiation, such as B. off an arc lamp with reflector, so-called cover grids have become important in practice, their grid elements are located in or on a surface of a carrier, which is then used during manufacture the reflex copy with the sensitive layer in direct contact

ist. Hierdurch wird trotz der Diffusität der Strahlung doch eine für die Praxis genügend scharfe Abtrennung zwischen den Gebieten λ'οη großem Strahlungsvermögen und denjenigen von kleinerem oder keinem Strahlungsvermögen in der unmittelbaren Nähe der empfindlichen Schicht erhalten.is. As a result, despite the diffusivity of the radiation, one is sufficient for practice sharp separation between the areas λ'οη of great radiant power and those of little or no radiation in the immediate vicinity of the sensitive layer.

Zur Veranschaulichung werden z. B. dreiTo illustrate, z. B. three

jetzt in der Praxis für die Rasterreflektographie verwendete Raster beschrieben.now described grids used in practice for raster reflectography.

In einer kornlosen Schicht, z.B. einer Diazoschicht auf einem Film, wird der Raster in einer beliebigen photochemischen Weise gewonnen Dieser Rasterfilm liegt bei der Herstellung der Reflexkopie mit der gerasterten Seite in inniger Berührung mit dem lichtempfindlichen Material, praktisch immer ein Film, der sich wiederum in Berührung mit dem Original befindet.In a grain-free layer, e.g. a diazo layer on a film, the grid is in obtained by any photochemical method. This screen film is in the process of production the reflex copy with the screened side in close contact with the light-sensitive side Material, practically always a film, which in turn comes into contact with the original.

Ein anderer, jetzt oft in der Praxis ange- \vendeter Raster besteht aus einem Spiegel auf Glas, aus welchem in einer beliebigen Weise örtlich und rasterartig die Spiegelschicht entfernt worden ist. Auch hier wird bei der Herstellung einer Reflexkopie die Rasterspiegelschicht in innige Berührung mit der empfindlichen Schicht gelegt. Die Spiegelschicht ist, obwohl für das Licht nicht oder praktisch nicht durchlässig, doch äußerst dünn, etwa ι μ, und außerdem ist sie meistens gelackt, um sie vor Beschädigung und Korrosion zu schützen. Die Rasterseite eines derartigen Spiegelrasters kann deshalb als praktisch vollkommen glatt betrachtet werden. Wenn man Linsendeckungsraster verwendet, dann befinden sich die Linsen naturgemäß immer in einigem Abstand von der empfindlichen Schicht, und der Zwischenraum zwischen den Linsen und der empfindlichen Schicht ist mit einem beliebigen transparenten Material angefüllt, dessen nach der empfindlichen Schicht zugekehrte Seite auch immer flach ist. Auch bei Deckungsrastern ist ein Abstand zwischen den Rasterteilen und der empfindlichen Schicht bei Verwendung von genügend parallel gerichteter Strahlung möglich.Another grid, which is now often used in practice, consists of a mirror on glass from which the mirror layer has been removed in an arbitrary manner locally and in a grid-like manner. Here, too, the raster mirror layer is placed in close contact with the sensitive layer during the production of a reflex copy. The mirror layer, although not or practically not permeable to light, is extremely thin, about ι μ, and it is usually lacquered in order to protect it from damage and corrosion. The grid side of such a mirror grid can therefore be regarded as practically completely smooth. If you use lens cover grids, the lenses are naturally always at some distance from the sensitive layer, and the space between the lenses and the sensitive layer is filled with any transparent material, the side of which facing the sensitive layer is always flat. Even in the case of covering grids, a distance between the grid parts and the sensitive layer is possible with the use of sufficiently parallel directed radiation.

Bei allen diesen Ausführungsmöglichkeiten ist aber immer die Oberfläche, welche mit dem empfindlichen Material in inniger Berührung gehalten werden muß, flach. Bei Verwendung eines Deckungsrasters und eines damit nicht verbundenen empfindlichen Materials treten nun in der Praxis einige Schwierigkeiten auf, die, obwohl sie verschiedene Ursachen haben können, doch im Wesen immer darauf herauslaufen, daß, es sei denn, daß außergewöhnlich hohe Drucke angewendet werden, was aber Schwierigkeiten ergibt, die rasterartige Verteilung örtlich nicht scharf auf das empfindliche Material übertragen wird. Es kann z. B. der Umstand genannt werden, daß das empfindliche Material, z. B. der Film, während der Bestrahlung warm wird, infolgedessen austrocknet und dadurch einschrumpft. Es findet dann während der Bestrahlung, meist in den Teilen außerhalb der Mittelzone der Kopie, eine Verschiebung des empfindlichen Materials hinsichtlich des Rasters statt, und diese braucht unter Umständen nur sehr gering zu sein—in Anbetracht der meist kleinen Abmessungen der Rasterelemente einige Hundertstelmillimeter —, um bereits eine nachteilige Wirkung hervorzubringen. Falls dies erfolgt, dann ist, außer in der Mittelzone, die rasterartige Verteilung unscharf in der empfindlichen Schicht erfolgt und die Kopie dadurch geschwächt.With all of these design options, however, it is always the surface that comes with the sensitive material must be kept in close contact, flat. Using a coverage grid and a sensitive material that is not connected to it, some difficulties now arise in practice which, although they can have various causes, nevertheless essentially always result in the fact that, unless that exceptionally high pressures are used, but this creates difficulties, the grid-like distribution locally does not transfer sharply onto the sensitive material will. It can e.g. B. the fact that the sensitive material, e.g. B. the film, which becomes warm during the irradiation, consequently dries out and thereby shrinks. It then takes place during the irradiation, mostly in the parts outside the central zone of the copy, a shift of the sensitive material with respect to the Rasters instead, and this may only need to be very small — considering the mostly small dimensions of the grid elements a few hundredths of a millimeter - to already produce an adverse effect. If so, then except in the central zone, the grid-like distribution is out of focus in the sensitive layer and thereby weakened the copy.

Eine andere Weise, in der eine Stellungsoder Lageveränderung zwischen der empfind- liehen Schicht und dem Raster während der Bestrahlung auftritt, kann z. B. bei solchen empfindlichen Schichten, wie Diazoschichten, welche während und infolge der Bestrahlung ein Gas, bei Diazoverbindungen Stickstoff, entwickeln, vorkommen. Dieses Gas kann bei guter Anpressung zwischen der Oberfläche der empfindlichen Schicht und der darauf liegenden glatten Fläche schwierig entweichen und hebt dann manchmal die innige Beruhrung auf. Wenn man annimmt, daß dies bei einem einseitigen Deckungsraster und beim Arbeiten mit diffuser Strahlung geschieht, dann wird örtlich die Schärfe der Trennung zwischen den Strahlungsbündeln und den Schatten, wie sie auf die empfindliche Schicht fallen, vermindert. Auch hierdurch wird örtliche Kraftverminderung der Kopie verursacht, meist in der Form von Flecken. Dies kann auch durch Luft erfolgen, welche von Anfang an zwischen Raster und empfindlichem Material eingeschlossen wurde.Another way in which a change of position or position between the sensory borrowed layer and the grid occurs during the irradiation, z. B. with such sensitive layers, such as diazo layers, which occur during and as a result of irradiation a gas, in the case of diazo compounds, develop nitrogen. This gas can be used at good contact pressure between the surface of the sensitive layer and the one on it difficult to escape from lying, smooth surface and then sometimes lifts the intimate contact on. If one assumes that this happens with a one-sided coverage grid and when working with diffuse radiation, then the sharpness of the separation between the radiation beams and the Shadows that fall on the sensitive layer are reduced. This also becomes local Power reduction of the copy causes, mostly in the form of spots. This can also be done by air, which from In the beginning it was trapped between the grid and the sensitive material.

Eine weitere in der Praxis vorkommende und lästige Verminderung der Berührung wird durch Stoffteilchen zwischen dem Raster und der empfindlichen Schicht verursacht. Abgesehen davon, daß ein Stoffteilchen an sich schon, wenn es in einem der Strahlenbündel liegt, eine Störung verursacht, welche aber meist wenig lästig ist, hat die Anwesenheit eines Stoff te lichens zur Folge, daß um die Stelle herum, wo es sich befindet, eine Zone verminderter Berührung entstehen kann, so daß das Stoffteilchen sich auf der Kopie als eine Art Aureole von verminderter Bildstärke abbildet.Another annoying decrease in touch that occurs in practice is caused by particles of matter between the grid and the sensitive layer. Apart from that from the fact that a material particle in itself, when it is in one of the bundles of rays, causes a disturbance, which however is usually not a nuisance, the presence of a substance has the consequence that around the Place around where it is located, a zone of reduced contact can arise, so that the material particle appears on the copy as a kind of aureole of reduced image strength maps.

Gemäß der Erfindung ist die Oberfläche des Rasterorgans, die beim Herstellen einer Rasterreflexkopie nach dem empfindlichen Material zugekehrt wird (im nachfolgenden der Kürze wegen die Rasterseite genannt), nicht flach, sondern in Form eines Reliefs aus-According to the invention, the surface of the grid element, which is used in the manufacture of a Raster reflex copy is turned towards the sensitive material (in the following called the grid side for brevity), not flat, but in the form of a relief

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gebildet Die Rasterseite hat also tiefliegende Teile; Tiefen, und hochliegendeTeile: Höhen. Diese sollen mit den undurchlässigen bzw. den durchlässigen Teilen des Rasters übereinstimmen. formed So the grid side has deep-set parts; Low and high parts: highs. These should match the impermeable or permeable parts of the grid.

Die Erfindung wird nachstehend an Hand der Zeichnung näher erläutert, in der einige Ausführungsbeispiele schema tisch veranschaulicht sind.The invention is explained in more detail below with reference to the drawing, in which some Embodiments are illustrated schematically table.

ίο Fig. ι stellt einen schematischen Querschnitt einer solchen Rasterseite mit Relief dar; der Raster R ist in Berührung mit einem empfindlichen Blatt B; D sind deckende Tiefen; H durchlässige Höhen. Derartige Rasteroberflächen sind an sich bekannt, jedoch ist ihre Anwendung für die Rasterreflektographie niemals vorgeschlagen worden, und diese Anwendung hat das überraschende Ergebnis einer besseren und unerschütterlichen Berührung zwischen gesondertem Raster und dem gesonderten empfindlichen Material während der Beleuchtung, weniger Beschwerden von eingeschlossener Luft und Stoffteilchen und sich bei der Beleuchtung entwickelnden Gasen,ίο Fig. ι shows a schematic cross section of such a grid page with relief; the grid R is in contact with a sensitive sheet B; D are opaque depths; H permeable heights. Such grid surfaces are known per se, but their use for grid reflectography has never been suggested, and this application has the surprising result of better and unshakable contact between the separate grid and the separate sensitive material during illumination, less discomfort from trapped air and particles and gases evolving during lighting,

as kurz, Verminderung der obenerwähnten Bedenken. As in short, mitigating the above concerns.

Wenn das empfindliche Material während der Bestrahlung ein Gas entwickeln kann, ist es wichtig, daß dieses Gas entweichen, kann, und dazu ist es erforderlich, daß die Tiefen der Rasterseite durchlaufende Kanäle, gegebenenfalls sich kreuzende Kanäle o. dgl., bilden, welche dies ermöglichen. Bei sich kreuzenden Tiefenkanälen bilden die Höhen gleichsam kleine Inselchen und die Tiefen ein angeschlossenes System. ; .If the sensitive material can develop a gas during the irradiation, is it is important that this gas can escape, and for this it is necessary that the depths channels running through the grid side, possibly intersecting channels or the like, that make this possible. In the case of intersecting depth channels, the heights form as it were small islets and the depths a connected system. ; .

Eine besonders gute Wirkung wird erzielt, ■ wenn das Material der Rasterseite hart ist, wenigstens härter als die Substanz des empfindlichen Materials. Eine meist unerschütterliche Berührung erreicht man bei einem harten Rastermaterial, z. B. Glas, und einem weichen empfindlichen Material, z. B. Cellulosederivat, mit Weichmachungsmitteln.A particularly good effect is achieved, ■ if the material of the grid side is hard, at least harder than the substance of the sensitive one Materials. A mostly unshakable contact is achieved with a hard grid material, e.g. B. glass, and a soft one sensitive material, e.g. B. cellulose derivative, with plasticizers.

Fig. 2 zeigt, wie sich dann die Höhen der Rasterseite gleichsam ein wenig in die Oberfläche des empfindlichen Materials einpressen können.Fig. 2 shows how the heights of the grid side then as it were a little in the surface of the sensitive material.

Weiter hat die Erfindung die nachstehend angegebenen Vorteile:The invention also has the following advantages:

i. In der Regel ist der Deckungsfaktor bei der Rasterreflektographie größer als 0,5, und es nehmen daher diese Tiefen, weil die deckenden Teile mit den Tiefen übereinstimmen, viel und die Höhen weniger der Gesamtoberfläche ein. Dies erhöht die Unerschütterlichkeit der Berührung, auch bei geringerer Druckkraft, da der Flächendruck, den die Höhen auf das lichtempfindliche Material ausüben, größer wird, wenn deren gesamte Oberfläche verhältnismäßig kleiner ist.i. As a rule, the coverage factor for grid reflectography is greater than 0.5, and therefore these depths, because the opaque parts coincide with the depths, take a lot and the heights less of the total surface. This increases the imperturbability of the Contact, even with less pressure, because the surface pressure that the heights apply to the Photosensitive material exercise becomes larger when their total surface area is proportionate is smaller.

2. Es besteht aus demselben Grund wie bei 1 mehr Gelegenheit zur Abführung der entweichenden Gase als im entgegengesetzten Fall.2. For the same reason as with 1, there is more opportunity to discharge the escaping Gases than in the opposite case.

3. Es gibt — wieder aus demselben Grunde — mehr Platz für gegebenenfalls vorhandene Stoffteilchen, welche naturgemäß unter den deckenden Teilen in den Tiefen nicht oder jedenfalls weniger hindern.3. There is - again for the same reason - more space for any existing ones Particles of matter, which naturally do not or under the covering parts in the depths in any case, hinder less.

4. Es besteht weniger Gefahr für Beschädigung und Verschleiß der deckenden Teile.4. There is less risk of damage and wear to the covering parts.

5. Gerade diejenigen Teile, welche die Bestrahlung durchlassen, sind leicht an sich gut flach zu erhalten und haben die innigste Berührung, was das Durchdringen der Strahlung in das empfindliche Material fördert.5. It is precisely those parts that allow the radiation to pass through that are good in themselves Get flat and have the most intimate touch, whatever the penetration of the radiation promotes into the sensitive material.

Außer den vorgenannten Tatsachen sind noch weitere Vorteile vorhanden.In addition to the aforementioned facts, there are other advantages.

Sind die deckenden Teile reflektierend, z. B. spiegelnd, wenigstens nach der Seit hin, von der aus die Strahlung einfällt, dann können diese, wenn sie sich in den Tiefen befinden und insbesondere wenn diese Tiefen eine dazu besonders geeignete Form haben, auch noch erhebliche Strahlungsökonomie verursachen; sie werden ja noch einen Teil der Strahlen, welche sonst durch Reflexion verlorengehen, nach den durchlässigen Höhen (vgl. Fig. 3) ableiten. Eine allgemeine Regel für die günstige Form eines derartigen Reliefs kann naturgemäß nicht gegeben werden, da diese von der Richtung der verwendeten Strahlung abhängt. Wenn die verwendete Strahlung überwiegend Strahlen mit einem kleinen Einfallwinkel enthält, dann sind z. B. zweckmäßig die Spitzen der Querschnittdreiecke in Fig. 3 etwas zur erhöhen, während bei Verwendung einer Strahlung mit vielen Strahlen mit großen Einfallwinkeln diese Spitzen zweckmäßig etwas zu erniedrigen sind. Wenn die deckenden Teile in den Tiefen nach dem empfindlichen Material reflektieren, dann verkürzt dies die erforderliche Beleuchtung.Are the opaque parts reflective, e.g. B. reflecting, at least to the side, from the incident radiation from, then these can, if they are in the depths and especially if these depths have a particularly suitable shape, too cause considerable radiation economy; they will still be part of the rays, which are otherwise lost through reflection, according to the permeable heights (see. Fig. 3) derive. A general rule for the favorable shape of such a relief can be naturally not be given, as this depends on the direction of the radiation used depends. When the radiation used is predominantly rays with a small angle of incidence contains, then z. B. expediently the tips of the cross-sectional triangles in FIG. 3 something to increase while in use a radiation with many rays with large angles of incidence these peaks expedient are something to humiliate. When the opaque parts in the depths after the sensitive Reflect material, then this shortens the required lighting.

Naturgemäß können gemäß der Erfindung auch LinsendeckungsrasterVerwendung finden.Lens cover grids can of course also be used according to the invention.

Das Relief der Rasterseite kann natürlich in verschiedener, an sich bekannter Weise erhalten werden, z. B. durch Ätzen oder Schleifen einer Glasoberfläche, durch Gauffrieren eines plastischen Ataterials usw. Zur Erläuterung eines solchen Rasters diene ζ. Β das Nachfolgende:The relief of the grid side can of course be obtained in various known ways be e.g. B. by etching or grinding a glass surface, by Gauffreezing of a plastic material, etc. Let ζ serve to explain such a grid. Β that The following:

Eine Glasplatte, deren eine Oberfläche ein durch Ätzung erhaltenes Relief trägt gemäß Fig. 4, worin H die Höhen und D die Tiefen sind (H = 0,035 X °>°35 mm, und der Abstand zwischen H und H' ist 0,08 mm, während die Tiefe des Reliefs etwa 0,015 ^mm i^st).> wird an dieser einen Seite verspiegelt und 12p darauf poliert. Der Spiegel verschwindet dann auf den Höhen und verbleibt in denA glass plate, one surface of which bears a relief obtained by etching, as shown in FIG. 4, where H is the heights and D is the depths (H = 0.035 X °> 35 mm, and the distance between H and H ' is 0.08 mm while the depth of the relief about 0.015 ^mm i ^st).> is mirrored on this one side and polished 12p thereon. The mirror then disappears on the heights and remains in the

Tiefen. Darauf wird zwecks Verstärkung gelackt, erhitzt usw. Zur Herstellung einer Reflexkopie legt man das Original mit der zu reproduzierenden Seite nach oben in einen S Druckrahmen, darauf einen lichtempfindlichen Diazotypfilm mit einer Dicke von 0,07 mm, dessen Oberfläche sensibilisiert ist, und auf diesen den oben beschriebenen Raster mit der Rasterseite nach unten, also in Berührung mit der empfindlichen Diazoschicht. Das Ganze wird mittels Druck oder Vakuum innig zusammengepreßt. Der Diazotypfilm besteht aus Acetylcellulose; er ist oberflächlich an einer Seite verseift und auf dieser verseiften Oberfläche mit einer Diazoverbindung mit paraständiger, tertiärer Aminogruppe, z. B. mit Paradiazoäthylbenzylanilin, behandelt. Die Belichtung geschieht mit einer senkrechten Bogenlampe mit umgebendem Reflektor.Lows. It is then lacquered, heated, etc. for the purpose of reinforcement The original is placed in a reflex copy with the side to be reproduced facing up S print frame with a light-sensitive diazo type film 0.07 mm thick, whose surface is sensitized, and on this the grid described above with the Grid side down, i.e. in contact with the sensitive diazo layer. The whole is tightly pressed together by means of pressure or vacuum. The diazo type film is made of acetyl cellulose; he's superficial saponified on one side and with a diazo compound on this saponified surface para, tertiary amino group, e.g. B. with Paradiazoäthylbenzylanilin treated. The exposure is done with a vertical arc lamp with a surrounding reflector.

Claims (6)

Patentansprüche:Patent claims: i. Verfahren zur Herstellung von Rasterreflexkopien mittels eines gesonderten Deckungsrasters und einer gesonderten empfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß Deckungsraster Verwendung finden, bei denen die Seite des Rasters, welche bei Herstellung einer Reflexkopie der empfindlichen Schicht zugekehrt wird (Rasterseite), die Form eines Reliefs hat und deren Rasterfigur mit der Relieffigur übereinstimmt und wobei die durchlässigen Teile des Rasters mit den Höhen des Reliefs übereinstimmen.i. Process for the production of halftone reflex copies by means of a separate Coverage grid and a separate sensitive layer, characterized that cover grids are used in which the side of the grid which is used when making a reflex copy facing the sensitive layer (grid side), has the shape of a relief and whose grid figure corresponds to the relief figure and wherein the permeable Parts of the grid coincide with the heights of the relief. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß Raster Verwendung finden, bei denen die Tiefen der Rasterseite derartig anschließen, daß dadurch Gase entweichen können.2. The method according to claim 1, characterized in that grid use find where the depths of the grid side connect in such a way that gases can escape. 3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß Raster Verwendung finden, bei denen das Material erheblich härter ist als das Material der empfindlichen Schicht.3. Process according to Claims 1 and 2, characterized in that the grid Find use where the material is considerably harder than the material of the sensitive layer. 4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß Raster Verwendung finden, die nach einer oder beiden Seiten reflektierend sind, vorzugsweise Spiegelraster.4. Process according to claims 1 to 3, characterized in that the grid Find use that are reflective on one or both sides, preferably Mirror grid. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß Raster Verwendung finden, bei denen die in den Tiefen des Reliefs liegenden reflektierenden Teile eine solche Form haben, daß sie die Reflexion der einfallenden Lichtstrahlen nach den Höhen des Reliefs fördern.5. The method according to claim 4, characterized in that grid use in which the reflective parts lying in the depths of the relief a have such a shape that they reflect the incident light rays according to the Promote heights of relief. 6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß als lichtempfindliches Material Diazotypmaterial verwendet wird.6. Process according to claims 1 to 5, characterized in that as photosensitive material diazo type material is used. Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings