DE69838703T2

DE69838703T2 - Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckplatte

Info

Publication number: DE69838703T2
Application number: DE69838703T
Authority: DE
Inventors: Koichi Yoshida-cho Haibara-gun Kawamura; Kazuo Yoshida-cho Haibara-gun Maemoto; Sumiaki Yoshida-cho Haibara-gun Yamasaki; Tadahiro Yoshida-cho Haibara-gun Sorori; Hiroshi Yoshida-cho Haibara-gun Tashiro; Kiyotaka Yoshida-cho Haibara-gun Fukino
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1997-09-12
Filing date: 1998-09-14
Publication date: 2008-09-25
Anticipated expiration: 2018-09-15
Also published as: US6114083A; US6340554B1; EP0903224A3; EP0903224B1; EP0903224A2; DE69838703D1

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der als eine Flachdruckoriginalplatte vom positiven Typ verwendet werden kann. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der direkt durch Bestrahlung mit verschiedenen Arten von Lasern, basierend auf digitalen Signalen, hergestellt werden kann, mit Wasser entwickelt werden kann, oder zur Herstellung einer bearbeitungsfreien Druckplatte geeignet, mit der durch Montieren auf eine Druckmaschine, wie sie ist, ohne Entwicklung gedruckt werden kann.
Hintergrund der Erfindung
Herkömmlicherweise schließt die Herstellung einer Druckplatte aus einer PS-Platte (vorsensibilisierte Druckplatte) ein nasses Entwicklungsverfahren zum bildweisen Entfernen einer lichtempfindlichen Schicht, die auf der Oberfläche eines Trägers nach Belichtung erzeugt wurde, und ein Nachbehandlungsverfahren zum Waschen einer entwickelten Druckplatte mit Waschwasser und Behandeln der Druckplatte mit einer Abspüllösung, die ein Tensid enthält, und mit einer Desensibilierungslösung, die arabischen Gummi und ein Stärkederivat enthält, ein.
In letzter Zeit ist in der Plattenherstellungs- und Druckindustrie die Rationalisierung der Plattenherstellungsarbeit gefördert worden, und ein Original für eine Druckplatte, die zum Drucken wie sie ist nach Belichtung ohne Notwendigkeit eines komplizierten Nassentwicklungsverfahrens, wie vorstehend beschrieben, verwendet werden kann, und ferner keine Alkali-Entwicklungsmittelabfalllösung beim Entwickeln erzeugt, ist erwünscht gewesen.
Ein Original für eine Druckplatte, die kein Entwicklungsverfahren nach dem bildweisen Belichten erfordert, z. B. eine Flachdruck-Druckplatte, die durch Laminieren auf einen Träger einer lichtempfindlichen hydrophilen Schicht erzeugt wurde, deren Härtung und Unlöslichmachen in dem belichteten Bereich zusammen mit einer lichtempfindlichen hydrophoben Schicht beschleunigt werden, wird in US-PS 5,258,263 offenbart. Da jedoch die Druckplatte eine zweischichtige Struktur besitzt, wird die Adhäsion zwischen der oberen Schicht und der unteren Schicht ein Problem, und eine große Anzahl von Drucken kann nicht gedruckt werden.
Zudem wird als ein Flachdruck-Druckoriginal, das kein Nassentwicklungsverfahren nach der Bilderzeugung erfordert, ein Druckmaterial, das mit einer Siliconschicht und einer Laser-thermoempfindlichen Schicht unter der Siliconschicht bereitgestellt ist, in US-PSen 5,353,705 und 5,379,698 offenbart. Obwohl diese Druckmaterialien kein Nassentwicklungsverfahren erfordern, besitzen sie den Nachteil, dass eine Behandlung durch Abreiben oder mit einer spezifischen Walze zur Vervollständigung der Entfernung der Siliconschicht mit Laserabrasion erforderlich ist, was das Verfahren verkompliziert.
Zudem wird in JP-A-5-77574 , 4-125189 , JP-B-62-195646 und US-PS 5,187,047 offenbart, dass unter Verwendung eines Films, der durch Sulfonierung eines Polyolefins und Änderung der hydrophilen Eigenschaft von dessen Oberfläche durch thermisches Beschreibung geändert wird, ein Druckmaterial ohne Bedarf eines Entwicklungsverfahrens erzeugt wird. In dem System werden Bilder durch Entsulfonierung der Sulfongruppen auf der Oberfläche des Druckmaterials erzeugt und das Entwicklungsverfahren wird nicht notwendig, aber das System besitzt den Nachteil, dass ein schädliches Gas während dem thermischen Beschreiben erzeugt wird.
Darüber hinaus offenbaren US-PSen 5,102,771 und 5,225,316 ein Druckmaterial, das durch Kombination eines Polymers mit einer säureaufnahmefähigen Gruppe in der Seitenkette und eines durch Licht säureerzeugenden Mittels hergestellt wurde, und schlagen ein System vor, das kein Entwicklungsverfahren benötigt. Jedoch besitzt das Druckmaterial den Nachteil, dass, da die durch das Druckmaterial erzeugte Säure eine Carbonsäure ist, das Ausmaß der hydrophilen Eigenschaft herabgesetzt wird und es wahrscheinlich ist, dass das Druckmaterial verschmutzt wird, wodurch das Druckmaterial eine schlechtere Haltbarkeit des Druckmaterials und Schärfe der gedruckten Bilder besitzt.
Zudem offenbart JP-A-4-121748 ein Druckmaterial, das durch Kombination eines Polymers mit einer Sulfonsäureestergruppe in einer Seitenkette hergestellt wurde, ein säureerzeugendes Mittel und ein Farbstoff, aber in diesem System wird das Druckmaterial unter Verwendung einer Alkali-Entwicklungslösung entwickelt, und es gibt keine Vorschläge für irgendein System, das Wasserbearbeitung verwendet oder kein Entwicklungsverfahren bedarf.
Als strahlungsempfindliches bilderzeugendes Material, das zur Herstellung eines Druckmaterials zum bearbeitungsfreien Flachdrucken vom positiven Typ geeignet ist, ist das bilderzeugende Material bekannt, das JP-A-7-186562 beschrieben wird, und zudem in JP-A-9-26878 und 9-26877 durch die Erfinder beschrieben wird. In der Patentveröffentlichung und den Patentbeschreibungen werden Verbindungen beschrieben, die jeweils aus einem spezifischen Carbonsäureester oder einer Sulfonsäureesterstruktur zusammengesetzt sind und eine funktionale Gruppe besitzen, die ihre hydrophoben Eigenschaften in eine hydrophile Eigenschaft durch Erhitzen oder die Wirkung einer Säure ändern kann und einer funktionalen Gruppe, die mit einer hydrolytisch polymerisierbaren Gruppe mit einer Trimethoxysilylgruppe reagieren kann, zusammengesetzt. Unter Verwendung dieser Verbindungen können Druckmaterialien, die Drucken ohne Durchführen eines Entwicklungsverfahrens nach dem Belichten durchführen können und ausreichende Drucke erhalten werden können, aber eine weitere Verbesserung der Druckhaltbarkeit wird noch gefordert.
EP 0 932 081 A , das Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPÜ darstellt, betrifft eine Struktur zur Mustererzeugung, die zum optischen Erzeugen eines Musters angepasst ist, dadurch gekennzeichnet, dass sie umfasst: eine Fotokatalysator-enthaltende Schicht, die auf einem Substrat bereitgestellt ist, wobei die Fotokatalysator-enthaltende Schicht ein Material enthält, dessen Benetzbarkeit durch fotokatalytische Wirkung bei der musterweisen Belichtung variabel ist.
EP 0 938 972 A , das Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPÜ darstellen kann, offenbart eine lichtempfindliche lithografische Formplatte, die direkt unter Verwendung von digitalen Signalen aus einem Computer oder dergleichen unter Verwendung eines IR-Lasers oder dergleichen hergestellt werden kann (d. h. eine lichtempfindliche lithografische Formplatte, die direkt hergestellt werden kann) durch Verwendung eines bilderzeugenden Materials, das direkt mit Wärme geschrieben werden kann, die durch Bestrahlung eines Laserlichts erzeugt wird und zur Verwendung in einer lithografischen Formplatte geeignet ist. Das bilderzeugende Material, das erfindungsgemäß verwendet wird, umfasst ein IR-Licht-absorbierendes Mittel mit einer hydrophoben Gruppe, die aufgrund von Wärme in eine hydrophile umgewandelt wird.
Das bilderzeugende Material kann ferner einen makromolekularen Binder, der in Wasser unlöslich und in einer wässrigen Lösung aus einem Alkali löslich ist, oder einem makromolekularen Binder, der durch Wärme oder durch eine Säure zersetzt wird, und in Wasser oder einem Alkali löslich wird, enthalten. In einem belichteten Abschnitt der lichtempfindlichen Schicht wird das IR-absorbierende Mittel aufgrund von Wärme durch Bestrahlung mit IR-Licht zersetzt, und eine Säure wird erzeugt.
Zusammenfassung der Erfindung
Demgemäß ist eine erfindungsgemäße Aufgabe, einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer bereitzustellen, der mit Wasser entwickelt werden kann oder keine spezifische Behandlung, wie etwa Nassentwicklungsbearbeitung, Abreiben und dergleichen nach dem Bildbeschreiben erfordert. Im Einzelnen ist es eine erfindungsgemäße Aufgabe, einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Plattenvorläufer bereitzustellen, mit dem eine Druckplatte direkt aus digitalen Daten durch Aufzeichnen unter Verwendung eines Feststofflasers oder eines Halbleiterlasers oder dergleichen, die mit IR-Strahlen bestrahlen, hergestellt werden kann.
Ein anderes erfindungsgemäßes Ziel ist es, einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Plattenvorläufer vom positiven Typ mit herausragender Druckhaltbarkeit bereitzustellen.
Ein weiteres erfindungsgemäßes Ziel ist es, einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer vom positiven Typ bereitzustellen, der wenig Hintergrundverschmutzung hervorruft und herausragende Empfindlichkeit besitzt.
Es ist nun entdeckt worden, dass die vorstehend beschriebenen Ziele durch die vorliegende Erfindung, die nachstehend beschrieben wird, erreicht werden können.
Im Einzelnen können die vorstehenden Ziele durch die strahlungsempfindlichen Flachdruck-Plattenvorläufer, die in den angefügten Ansprüchen spezifiziert werden, erhalten werden.
Das heißt, die vorliegende Erfindung betrifft einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der eine lichtempfindliche Schicht umfasst, die ein Produkt enthält, das durch hydrolytische Polymerisation einer hydrolytischen polymerisierbaren Verbindung der folgenden. Formel (1) erhältlich ist: (R₁₁)_n-X-(OR₁₂)_4-n (1)worin R₁₁ und R₁₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; X Si, Ti oder Zr darstellt; und n eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt, und/oder eine oder mehrere Verbindungen, die aus Trimethoxyaluminat, Triethoxyaluminat, Tripropoxyaluminat, Chlortrimethoxytitanat, Chlortriethoxytitanat, Chlortrimethoxyzirkonat, Chlortriethoxyzirkonat, Trimethoxysilan, Triethoxysilan und Tripropoxysilan in Gegenwart einer Verbindung mit mindestens einer funktionalen Gruppe (a-1), die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, eine Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist, einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Plattenvorläufer, der eine lichtempfindliche Schicht umfasst, die ein Produkt enthält, das durch hydrolytische Polymerisation einer hydrolytischen polymerisierbaren Verbindung der folgenden Formel (1-S) erhältlich ist: (R^1s2)_l(OR^1s3)_3-1-Si-L-(SO₃R^1s1)_m (1-S) worin R^1s1 eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine cyclische Imidgruppe darstellt; R^1s2 und R^1s3, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; L eine zweiwertige organische Verbindungsgruppe darstellt; l eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt; und m 1 darstellt, und eine Flachdruck-Druckplatte, die durch thermisches Aufzeichnen oder Laserbestrahlen dieser strahlungsempfindlichen Flachdruck-Plattenvorläufer erhältlich ist.
Gemäß dem strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer einer erfindungsgemäßen Ausführungsform ruft die hydrolytische polymerisierbare Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1) eine hydrolytische Polymerisation hervor, und erzeugt so eine Matrix (ein hydrolytisches Polymerisationsprodukt) eines anorganischen Oxids in dem beschichteten Film, und die Verbindung mit mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe (nachstehend manchmal auch als "Verbindung B" bezeichnet) ist in der vorstehend beschriebenen Matrix eingeschlossen und tritt in einen Zustand des Diffundiertseins ein, wodurch die Filmfestigkeit als ein Ganzes verbessert wird.
Dem erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird die Verbindung B bildweise aufgrund einer Säure aus einer vorbestimmten säureerzeugenden Einrichtung oder aufgrund von Wärme aus einer vorbestimmten Erhitzungseinrichtung hydrophil. Folglich kann die Druckplatte nach Bilderzeugung drucken oder ein Entwicklungsverfahren durchführen, und es können ausreichende Drucke genauso wie herausragende Druckhaltbarkeit erhalten werden.
Der erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Flachdruck-Plattenvorläufer kann thermisch empfindliches Aufzeichnen ohne die Notwendigkeit einer weiteren Bearbeitung durchführen und kann zudem als eine IR-laserempfindliche Flachdruck-Originalplatte vom thermisch-empfindlichen positiven Typ verwendet werden, indem mit einem Licht-Wärmeumwandlungsmaterial (IR-Absorptionsmittel) kombiniert wird. Zudem kann sie durch Kombination mit einem säureerzeugenden Mittel, das gegenüber Licht zwischen dem UV-Bereich und dem sichtbaren Lichtbereich empfindlich ist, als eine gegenüber UV- bis sichtbaren Licht-empfindliche, thermisch-empfindliche Flachdruck-Originalplatte vom positiven Typ verwendet werden.
Eine erfindungsgemäße bevorzugte Ausführungsform betrifft einen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer, der einen Träger mit einer darauf erzeugten lichtempfindlichen Schicht umfasst, die ein Reaktionsprodukt einer Verbindung mit mindestens einer funktionalen Gruppe enthält, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist, und mit mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃ ausgewählt ist, worin R_a23 und R_a24 jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen und wenn beide aus R_a23 und R_a24 in einer Verbindung mit diesen funktionalen Gruppen existieren, können sie gleich oder verschieden sein, und eine hydrolytisch polymerisierbare Verbindung der folgenden Formel (1) in einem gleichen Molekül sein; (R₁₁)_n-X-(OR₁₂)_4-n (1)worin R₁₁ und R₁₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; X Si, Al, Ti oder Zr darstellt; und n eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt.
Gemäß dem strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer der ersten bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform ruft die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1) eine hydrolytische Polymerisation hervor, und erzeugt so eine Matrix aus einem anorganischen Oxid in dem mit einer lichtempfindlichen Schicht beschichteten Film und erzeugt zudem ein organisch-anorganisches Komposit (Reaktionsprodukt) durch Reaktion mit einer funktionalen Gruppe (funktionale Gruppe (a-2)) einer Verbindung, die in dem gleichen Molekül mindestens eine funktionale Gruppe (manchmal als funktionale Gruppe (a-1) bezeichnet), die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist und mindestens einer funktionalen Gruppe (manchmal nachstehend als funktionale Gruppe (a-2) bezeichnet), die aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃ ausgewählt ist, worin R₃ und R₄ jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen und wenn sowohl R_a23 und R_a24 in einer Verbindung mit diesen funktionalen Gruppen existieren, können sie gleich oder verschieden sein (nachstehend wird die Verbindung manchmal als "Verbindung A" bezeichnet), und es gibt mehrere funktionale Gruppen, die miteinander reagieren, um die Dichte der vernetzten Struktur in dem Molekül zu erhöhen, wodurch die Filmfestigkeit als ein Ganzes verbessert wird und eine lichtempfindliche Schicht mit herausragender Druckhaltbarkeit erhalten wird.
In der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte der ersten bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform wird nach dem bildweisen Bestrahlen der Verbindung A mit Bestrahlung, wie etwa Licht oder Wärme und dergleichen, die Verbindung A bildweise aufgrund von Wärme aus der vorbestimmten Erhitzungseinrichtung oder aufgrund einer vorbestimmten säureerzeugenden Einrichtung, die auf die Bestrahlung mit vorbestimmtem Licht hervorgeht. Folglich kann die Druckplatte nach Bilderzeugung Drucken ohne ein Entwicklungsverfahren durchführen und ausreichende Drucke genauso wie die vorstehend beschriebene herausragende Druckhaltbarkeit können erhalten werden. Darüber hinaus ist eine zweite bevorzugte Ausführungsform des strahlungsempfindlichen erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers auch dadurch gekennzeichnet, dass die lichtempfindliche Schicht, die eine aus der vorstehend beschriebenen Verbindung A und Verbindung B enthält und zudem das hydrolytische Polymerisationsprodukt enthält, mit einer Mehrzahl von wasserunlöslichen Teilchen kombiniert wird. Unter Verwendung der Mehrzahl von wasserunlöslichen Teilchen in der lichtempfindlichen Schicht beschichtet die vorstehend beschriebene Verbindung die wasserunlöslichen Teilchen und wirkt als ein Binder, wodurch die wasserunlöslichen Teilchen teilweise aneinander über die Verbindung gebunden werden und so eine lichtempfindliche Schicht mit mehreren Hohlräumen in ihrer Innenseite erzeugen.
Hierdurch wird die vorstehend beschriebene Funktion, die der erfindungsgemäße Effekt ist, verbessert. Das heißt, wenn eine Schicht, worin die wasserunlöslichen Teilchen so dicht dispergiert sind, dass die wasserunlöslichen Feststoffteilchen in Kontakt miteinander kommen und die eine ungleichförmige Oberfläche besitzt, auf einem Träger erzeugt wird, wenn die Oberflächen der Teilchen hydrophil sind, wird Wasser in den Hohlraumabschnitten zwischen den Teilchen zurückgehalten und so eine hydrophile Oberfläche erzeugt, während, wenn die Oberflächen der Teilchen hydrophob sind, Wasser nicht in einige Hohlraumabschnitte zwischen den Teilchen eindringt und die Teilchenoberflächen Wasser abstoßende, d. h. oleophile Oberflächen bilden. Wenn die Schicht der wasserunlöslichen Feststofffeinteilchen eine Funktion zum bildweisen Ändern von einer hydrophoben Schicht in eine hydrophile Schicht besitzt, indem die Schicht eine Druckoberfläche herstellt, kann eine Druckplatte hergestellt werden. Demgemäß wird, da die wasserunlöslichen Teilchen eine Struktur bilden, worin sie teilweise aneinander gebunden sind, die Oberfläche der vorstehend beschriebenen Verbindung erheblich vergrößert und die Unterscheidbarkeit zwischen dem mit Bild versehenen Abschnitt und dem nicht mit Bild versehenen Abschnitt vergrößert.
Zur Verwirklichung dieser technischen Konzeption sind das folgende notwendig: (i) eine Teilchendispersionstechnik mit einer Dispersionsfähigkeit auf hohem Niveau, so dass die Teilchen in engen Kontakt miteinander bei einer hohen Dichte gebracht werden, so dass die Wasserzurückhaltungseigenschaft und die Wasserabstoßungseigenschaft verwirklicht werden und so dass eine Schichterzeugung möglich wird, wenn die Teilchen eine Oberflächenungleichförmigkeit besitzen und (ii) eine Technik, mit der konkret eine Funktion zur Änderung dieser dispergierten Substanz von derjenigen mit einer hydrophoben Eigenschaften zu derjenigen einer hydrophilen Eigenschaft, in Reaktion auf bildgebende Signale, imstande ist.
Erfindungsgemäß wird durch Halten der Verbindungen mit der Funktion des Verwirklichens von jeweils (i) und (ii) an den Oberflächen der wasserunlöslichen Feststoffteilchen die Verwirklichung der technischen Konzeption versucht. In der Praxis wird durch Halten der Verbindung mit der funktionalen Gruppe (a-1), die durch Umsetzung mit den funktionalen Gruppen der Oberfläche des benachbarten Teilchens für (i) und der Verbindung mit der funktionalen Gruppe (a-2), die durch die Wirkung einer Säure, Strahlung oder Wärme hydrophil wird, für (ii) an den Oberflächen der wasserunlöslichen Feststoffteilchen und durch Erzeugen der Schicht aus dem Strukturmaterial, das durch das Feststoffteilchen dispergierte Produkt erzeugt wird, den säure-, strahlungs- oder wärmeempfindliche Flachdruck-Originalplattenvorläufer verwirklicht, der das erfindungsgemäße Ziel ist.
Insbesondere haben die Erfinder herausgefunden, dass die Verbindung mit der funktionalen Gruppe (a-2), die durch Reaktion mit einer funktionalen Gruppe der Oberfläche des benachbarten Teils, das vorstehend beschrieben wurde, vernetzt werden kann, sich von der Verbindung mit der funktionalen Gruppe (a-1) unterscheiden kann, die durch die Wirkung einer Säure, Bestrahlung oder Wärme hydrophil wird (d. h. ein Beispiel für eine, die die vorstehend beschriebene Verbindung B enthält), aber die Verbindung mit sowohl den funktionalen Gruppen (a-1) als auch (a-2) ist wie vorstehend beschrieben nützlich (d. h. ein Beispiel für eine, die die vorstehend beschriebene Verbindung A enthält).
Zudem ist der Ausdruck "Bestrahlung", der in der erfindungsgemäßen Patentschrift verwendet wird, der gleiche wie "Bestrahlung", der als der JIS-Standardausdruck oder als technischer Ausdruck verwendet wird und schließt elektromagnetische Wellen, wie etwa UV-Strahlen, sichtbares Licht, IR-Strahlen, Röntgenstrahlen, γ-Strahlen und dergleichen, und Teilchenstrahlen ein. Jedoch kann in bestimmten Fällen "Licht" verwendet werden, um "Bestrahlung" darzustellen. Zudem schließt in einem breiten Sinn "Strahlungsempfindlichkeit" wärmeempfindliches Aufzeichnen im Lichtmodus ein, d. h. Empfindlichkeit gegenüber "Wärme" aus einer Strahlungs-Wärmeenergieumwandlung.
Demgemäß bedeutet erfindungsgemäß "eine lichtempfindliche Schicht" eine "strahlungsempfindliche Aufzeichnungsschicht", die Aufzeichnen in Reaktion auf Strahlung, die zum erfindungsgemäßen Aufzeichnen notwendig ist, durchführen kann.
Detaillierte Beschreibung der Erfindung
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend detailliert beschrieben.
[Verbindung A]
Die Verbindung A, die in der ersten erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform verwendet wird, wird nachstehend erläutert.
A ist eine Verbindung mit mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist und mit mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃ ausgewählt ist, worin R_a23 und R_a24 jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe sind und wenn sowohl R_a23 als auch R_a24 in der Verbindung mit diesen funktionalen Gruppen existieren, sie gleich oder verschieden sein können.
Zunächst werden praktische Beispiele für mindestens eine funktionale Gruppe, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist (manchmal nachstehend als "funktionale Gruppe (a-1)" bezeichnet) detailliert beschrieben.
Die Sulfonsäureestergruppe kann durch die folgende Formel (2), die Disulfongruppe durch die folgende Formel (3), und die Sulfonimidgruppe durch die folgende Formel (4) jeweils gezeigt werden. -L-SO₂-O-R²¹ (2) -L-SO₂-SO₂-R³² (3)
worin L eine organische Gruppe darstellt, die aus mehrwertigen Nicht-Metallatomen hergestellt ist, die zum Binden der funktionalen Gruppe der Formel (2), (3) oder (4) an ein Polymergerüst notwendig sind; R²¹ eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe oder eine cyclische Imidgruppe darstellt; R³² und R⁴³ jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe darstellen; R⁴⁴ eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, oder -SO₂-R⁴⁵ (worin R⁴⁵ eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe darstellt) darstellt.
Wenn R²¹ bis R⁴⁵ jeweils eine Arylgruppe oder eine substituierte Arylgruppe darstellen, schließt die Arylgruppe eine carbocyclische Arylgruppe und eine heterocyclische Arylgruppe ein. Als die carbocyclische Arylgruppe wird eine Arylgruppe mit 6 bis 19 Kohlenstoffatomen, wie etwa Phenyl, Naphthyl, Anthracenyl, Pyrenyl und dergleichen verwendet. Zudem wird als die heterocyclische Arylgruppe eine Arylgruppe mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen und von 1 bis 5 Heteroatomen, wie etwa Pyridyl, Furyl, Chinolyl, die mit einem Benzolring, Benzofuryl, Thioxanthon, Carbazol und dergleichen kondensiert ist, verwendet. Wenn R²¹ bis R⁴⁵ jeweils eine Alkylgruppe oder eine substituierte Alkylgruppe darstellen, wird als die Alkylgruppe eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 25 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methyl, Ethyl, Isopropyl, t-Butyl, Cyclohexyl und dergleichen verwendet.
Wenn R²¹ bis R⁴⁵ jeweils eine substituierte Arylgruppe, eine substituierte Heteroarylgruppe oder eine substituierte Alkylgruppe darstellen, schließt der Substituent eine Alkoxygruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methoxy, Ethoxy und dergleichen; ein Halogenatom, wie etwa Fluor, Chlor, Brom und dergleichen; eine Halogensubstituierte Alkylgruppe, wie etwa Trifluormethyl, Trichlormethyl und dergleichen; eine Alkoxycarbonylgruppe oder Aryloxycarbonylgruppe, die jeweils 2 bis 15 Kohlenstoffatome besitzen, wie etwa Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, t-Butyloxycarbonyl, p-Chlorphenyloxycarbonyl und dergleichen; eine Hydroxygruppe; eine Acyloxygruppe, wie etwa Acetyloxy, Benzoyloxy, p-Diphenylaminobenzoyloxy und dergleichen; eine Carbonatgruppe, wie etwa t-Butyloxycarbonyloxy und dergleichen, eine Ethergruppe, wie etwa t-Butyloxycarbonylmethyloxy, 2-Pyranyloxy und dergleichen; eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe, wie etwa Amino, Dimethylamino, Diphenylamino, Morpholino, Acetylamino und dergleichen; eine Thioethergruppe, wie etwa Methylthio, Phenylthio und dergleichen; eine Alkenylgruppe, wie etwa Vinyl, Styryl und dergleichen; eine Nitrogruppe; eine Cyanogruppe; eine Arylgruppe, wie etwa Formyl, Acetyl, Benzoyl und dergleichen; eine Arylgruppe, wie etwa Phenyl, Naphthyl und dergleichen; und eine Heteroarylgruppe, wie etwa Pyridyl und dergleichen, ein. Zudem können, wenn R²¹ bis R⁴⁵ jeweils eine substituierte Arylgruppe oder eine substituierte Heteroarylgruppe darstellen, als der Substituent, eine Alkylgruppe, wie etwa Methyl, Ethyl und dergleichen zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen verwendet werden.
Wenn R²¹ eine cyclische Imidgruppe darstellt, können als das cyclische Imid ein cyclisches Imid mit 4 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie etwa Succinsäureimid, Phthalsäureimid, Cyclohexandicarbonsäureimid, Norbornendicarbonsäureimid und dergleichen verwendet werden.
Insbesondere bevorzugte Gruppen aus den vorstehend beschriebenen Gruppen, wie R²¹, sind eine Arylgruppe, die durch eine elektronenziehende Gruppe, wie etwa Halogen, Cyano, Nitro und dergleichen, substituiert ist; eine Alkylgruppe, die durch eine elektronenziehende Gruppe, wie etwa Halogen, Cyano, Nitro und dergleichen, substituiert ist, eine sekundäre oder tertiäre verzweigte Alkylgruppe, eine cyclische Alkylgruppe und ein cyclisches Imid.
Insbesondere bevorzugte Gruppen, wie R³² bis R⁴⁵ aus den vorstehend beschriebenen Gruppen sind eine Arylgruppe, die mit einer elektronenziehenden Gruppe, wie etwa Halogen, Cyano, Nitro und dergleichen, substituiert ist; eine Alkylgruppe, die mit einer elektronenziehenden Gruppe, wie etwa Halogen, Cyano, Nitro und dergleichen, substituiert ist; und eine sekundäre oder tertiäre verzweigte Alkylgruppe.
Die mehrwertige Verbindungsgruppe, die aus Nicht-Metallatomen hergestellt ist, die durch L dargestellt wird, ist eine Verbindungsgruppe, die aus 1 bis 60 Kohlenstoffatomen, von 0 bis 10 Stickstoffatomen, von 0 bis 50 Sauerstoffatomen, von 1 bis 100 Wasserstoffatomen und von 0 bis 20 Schwefelatomen hergestellt ist. Als die praktischere Verbindungsgruppe gibt es die Verbindungsgruppen, die durch die Kombination der folgenden Struktureinheiten zusammengesetzt sind.
mehrwertiges Naphthalin mehrwertiges Anthracen
Wenn die mehrwertige Verbindungsgruppe einen Substituenten besitzt, können als der Substituent, eine Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methyl, Ethyl und dergleichen; eine Arylgruppe mit 6 bis 16 Kohlenstoffatomen, wie etwa Phenyl, Naphthyl und dergleichen; eine Hydroxygruppe; eine Acyloxygruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie etwa Carboxy, Sulfonamid, N-Sulfonylamid, Acetoxy und dergleichen; eine Alkoxygruppe mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methoxy, Ethoxy und dergleichen; ein Halogenatom, wie etwa Chlor, Brom und dergleichen; eine Alkoxycarbonylgruppe mit 2 bis 7 Kohlenstoffatomen, wie etwa Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, Cyclohexyloxycarbonyl und dergleichen; eine Cyanogruppe; und eine Carbonsäureestergruppe, wie etwa t-Butylcarbonat und dergleichen, verwendet werden.
Die Alkoxyalkylestergruppe kann durch die folgende Formel (5) gezeigt werden:
worin R₅₁ ein Wasserstoffatom darstellt; R₅₂ ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen darstellt; und R₅₃ eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen darstellt. Zudem können zwei Gruppen aus R₅₁, R₅₂ und R₅₃ unter Bildung eines Rings kombiniert werden. Insbesondere ist es bevorzugt, dass R₅₂ und R₅₃ unter Bildung eines 5-gliedrigen oder 6-gliedrigen Rings kombiniert werden.
In der ersten bevorzugten erfindungsgemäßen Ausführungsform können Gruppen der vorstehend gezeigten Formeln (2) bis (5) als funktionale Gruppe verwendet werden, jedoch ist eine insbesondere bevorzugte Gruppe die Sulfonsäureestergruppe der Formel (2).
Spezifische Beispiele für ein Monomer mit funktionaler/funktionalen Gruppe(n) gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5), die in geeigneter Weise zur Synthese der Verbindung A in der ersten erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform verwendet wird, werden nachstehend gezeigt.
Die funktionale Gruppe (a-1) besitzt die Funktion der Änderung der Verbindung a von einer hydrophoben Eigenschaft in eine hydrophile Eigenschaft durch die Wirkung von Wärme oder einer Säure. Insbesondere ist es bevorzugt, dass die funktionale Gruppe (a-1) eine Gruppe ist, die den Wassertropfenkontaktwinkel in der Luft der Verbindung A um 15° oder mehr herabsetzt. Das heißt, es ist bevorzugt, dass die Verbindung A eine Verbindung ist, deren Kontaktwinkel eines Wassertropfens in der Luft durch die Wirkung von Wärme oder einer Säure um 15° oder mehr herabgesetzt wird und die anfängliche hydrophobe Eigenschaft der Verbindung wird eine hydrophile Eigenschaft. Darüber hinaus ist es bevorzugt, dass die Verbindung A eine Verbindung zum Herabsetzen des Wassertropfenkontaktwinkels davon in Luft um 40° oder mehr ist. Zudem ist die Verbindung A vorzugsweise eine Verbindung, deren anfänglicher Wassertropfenkontaktwinkel in der Luft von 60° oder mehr durch die Wirkung von Wärme oder einer Säure um 20° oder weniger herabgesetzt wird.
Als Nächstes werden spezifische Beispiele für mindestens eine funktionale Gruppe (nachstehend manchmal als "funktionale Gruppe (a-2)" bezeichnet), die aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃ ausgewählt ist (worin R_a23 und R_a24 Jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen und wenn sowohl R_a23 als auch R_a24 in der Verbindung mit diesen funktionalen Gruppen existieren, diese gleich oder verschieden sein können) detailliert erläutert.
Wenn die funktionale Gruppe Y -NH-CO-R_a23 und/oder -Si(OR_a24)₃ ist, sind R_a23 und R_a24 jeweils vorzugsweise eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, und sie können durch ein Halogenatom, wie etwa Chlor und dergleichen, substituiert sein; eine Alkoxygruppe, wie etwa Methoxy und dergleichen; oder eine Alkoxycarbonylgruppe, wie etwa Methoxycarbonyl und dergleichen.
Spezifische Beispiele für -NH-CO-R_a23 schließt -NH-CO-CH₃, -NH-CO-C₂H₅ und dergleichen ein. Zudem schließen spezifische Beispiele für -Si(OR_a24)₃ -Si(OCH₃)₃, -Si(OC₂H₅)₃ und dergleichen ein.
Als die Verbindung A, die in der ersten erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform verwendet wird, wird vorzugsweise eine Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die durch radikalische Polymerisation von mindestens einem Monomer mit der funktionalen Gruppe/den funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5) und ein Monomer mit der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppe vorzugsweise verwendet. Als eine solche Verbindung A kann ein Polymer unter Verwendung nur einer Art der Monomeren mit der funktionalen Gruppe/den funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5) und nur eine Art der Monomeren mit der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppe B verwendet werden, aber ein Copolymer unter Verwendung von zwei oder mehreren Arten der Monomere als eine oder beide der Monomeren, die vorstehend beschrieben wurden, oder ein Copolymer aus einer oder mehreren dieser Monomere und einer oder mehreren von anderen Monomeren kann auch verwendet werden.
Als die vorstehenden anderen Monomere ist ein Monomer mit einer Vernetzungsreaktivität, wie etwa Glycidylmethacrylat, N-Methylolmethacrylamid, 2-Isocyanatethylacrylat und dergleichen, bevorzugt.
Zudem können die vorstehenden anderen Monomere, die für das Copolymer verwendet werden, bekannte Monomere, wie etwa Acrylsäureester, Methacrylsäureester, Acrylamide, Methacrylamide, Vinylester, Styrole, Acrylsäure, Methacrylsäure, Acrylnitril, Maleinsäureanhydrid, Maleinsäureimid und dergleichen, einschließen.
Spezifische Beispiele für die Acrylsäureester schließen Methylacrylat, Ethylacrylat, (n- oder i-)Propylacrylat, (n-, i-, sec-, oder t-)Butylacrylat, Amylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Dodecylacrylat, Chlorethylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat, 2-Hydroxypropylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, Cyclohexylacrylat, Allylacrylat, Trimethylolpropanmonoacrylat, Pentaerythritmonoacrylat, Benzylacrylat, Methoxybenzylacrylat, Chlorbenzylacrylat, Hydroxybenzylacrylat, Hydroxyphenethylacrylat, Dihydroxyphenethylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacrylat, Phenylacrylat, Hydroxyphenylacrylat, Chlorphenylacrylat, Sulfamoylphenylacrylat, 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylacrylat und dergleichen, ein.
Spezifische Beispiele für die Methacrylsäureester schließen Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat, (n- oder i-)Propylmethacrylat, (n-, i-, sec- oder t-)Butylmethacrylat, Amylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Dodecylmethacrylat, Chlorethylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat, 5-Hydroxypentylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat, Allylmethacrylat, Trimethylolpropanmonomethacrylat, Pentaerythritmonomethacrylat, Glycidylmethacrylat, Benzylmethacrylat, Methoxybenzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Hydroxybenzylmethacrylat, Hydroxyphenethylmethacrylat, Dihydroxyphenethylmethacrylat, Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Phenylmethacrylat, Hydroxyphenylmethacrylat, Chlorphenylmethacrylat, Sulfamoylphenylmethacrylat, 2-(Hydroxyphenylcarbonyloxy)ethylmethacrylat und dergleichen, ein.
Spezifische Beispiele für die Acrylamide schließen Acrylamid, N-Methylacrylamid, N-Ethylacrylamid, N-Propylacrylamid, N-Butylacrylamid, N-Benzylacrylamid, N-Hydroxyethylacrylamid, N-Phenylacrylamid, N-Tolylacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)acrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)acrylamid, N-(Phenylsulfonyl)acrylamid, N-(Tolylsulfonyl)acrylamid, N,N-Dimethylacrylamid, N-Methyl-N-phenylacrylamid, N-Hydroxyethyl-N-methylacrylamid und dergleichen, ein.
Spezifische Beispiele für die Methacrylamide schließen Methacrylamid, N-Methylmethacrylamid, N-Ethylmethacrylamid, N-Propylmethacrylamid, N-Butylmethacrylamid, N-Benzylmethacrylamid, N-Hydroxyethylmethacrylamid, N-Phenylmethacrylamid, N-Tolylmethacrylamid, N-(Hydroxyphenyl)methacrylamid, N-(Sulfamoylphenyl)methacrylamid, N-(Phenylsulfonyl)methacrylamid, N-(Tolylsulfonyl)methacrylamid, N,N-Dimethylmethacrylamid, N-Methyl-N-phenylmethacrylamid, N-Hydroxyethyl-N-methylmethacrylamid und dergleichen, ein.
Spezifische Beispiele für die Vinylester schließen Vinylacetat, Vinylbutyrat, Vinylbenzoat und dergleichen, ein.
Spezifische Beispiele für die Styrole schließen Styrol, Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol, Propylstyrol, Cyclohexylstyrol, Chlormethylstyrol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxymethylstyrol, Methoxystyrol, Dimethoxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Bromstyrol, Iodstyrol, Fluorstyrol, Carboxystyrol und dergleichen, ein.
In diesen anderen Monomeren, die vorstehend beschrieben wurden, werden Acrylsäureester mit nicht mehr als 20 Kohlenstoffatomen, Methacrylsäureester, Acrylamide, Methacrylamide, Vinylester, Styrole, Acrylsäure, Methacrylsäure und Acrylnitril insbesondere bevorzugt verwendet.
Das Mischverhältnis des Monomers/der Monomeren mit der funktionalen Gruppe/den funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5) zu dem Monomer/den Monomeren mit der funktionalen Gruppe (a-2), die zur Synthese des Copolymers verwendet wird, beträgt vorzugsweise 10/90 bis 99/1, und weiter bevorzugt 30/70 bis 97/3, bezogen auf das Gewichtsverhältnis.
Zudem beträgt im Fall des Copolymers aus dem Monomer/den Monomeren, die vorstehend beschrieben wurden, und einem anderen Monomer/anderen Monomeren, das Verhältnis zur Synthese des Copolymers aus einem anderen Monomer/anderen Monomeren zu der Gesamtsumme des Monomers/den Monomeren mit einer funktionalen Gruppe gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5) und des Monomers/den Monomeren mit der funktionalen Gruppe (a-2) verwendet wird, vorzugsweise 5 bis 99 Gew.-% und weiter bevorzugt 10 bis 95 Gew.-%.
Spezifische Beispiele für die Verbindung A, die in der ersten erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform verwendet wird, werden nachstehend gezeigt. Zudem ist in jeder chemischen Formel der numerische Wert der rechten unteren Seite der Klammer das Copolymerisationsverhältnis.
[Hydrolytisch polymerisierbare Verbindung]
Die erfindungsgemäße hydrolytisch polymerisierbare Verbindung ist die Verbindung der folgenden Formel (1) oder wie nachstehend aufgeführt: (R₁₁)_n-X-(OR₁₂)_4-n (1)worin R₁₁ und R₁₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; X Si, Ti oder Zr darstellt; und n eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt. Wenn R₁₁ oder R₁₂ eine Alkylgruppe darstellt, ist die Kohlenstoffatomanzahl der Alkylgruppe vorzugsweise 1 bis 4. Zudem können die Alkylgruppe oder die Arylgruppe einen Substituenten besitzen. Zudem ist die Verbindung eine Verbindung mit niedrigem Molekulargewicht, und das Molekulargewicht der Verbindung ist vorzugsweise nicht mehr als 1000.
Zudem kann die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung eine Verbindung sein, die Aluminium darin enthält, die aus Trimethoxyaluminat, Triethoxyaluminat, Tripropoxyaluminat ausgewählt ist.
Beispiele für die Verbindung der Formel (1) genauso wie andere Beispiele für die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung, die Titan darin enthält, schließen Tetramethoxytitanat, Tetraethoxytitanat, Tetrapropoxytitanat, Chlortrimethoxytitanat, Chlortriethoxytitanat, Ethyltrimethoxytitanat, Methyltriethoxytitanat, Ethyltriethoxytitanat, Diethyldiethoxytitanat, Phenyltrimethoxytitanat und Phenyltriethoxytitanat ein. Beispiele für die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung, die Zirkon enthält, schließen die Zirkonate, die den vorstehend beschriebenen Titanaten entsprechen, ein.
Beispiele für die Verbindung der Formel (1) genauso wie andere Beispiele für die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung, die Silizium darin enthält, schließen Trimethoxysilan, Triethoxysilan, Tripropoxysilan, Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Tetrapropoxysilan, Methyltrimethoxysilan, Ethyltrimethoxysilan, Propyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Ethyltriethoxysilan, Propyltriethoxysilan, Dimethyldimethoxysilan, Diethyldiethoxysilan, γ-Chlorpropyltriethoxysilan, γ-Mercaptopropyltrimethoxysilan, γ-Mercaptopropyltriethoxysilan, γ-Aminopropyltriethoxysilan, Phenyltrimethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, Phenyltripropoxysilan, Diphenyldimethoxysilan und Diphenyldiethoxysilan ein. Von diesen Verbindungen schließen insbesondere bevorzugte Verbindungen Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Methyltrimethoxysilan, Ethyltrimethoxysilan, Methyltriethoxysilan, Ethyltriethoxysilan, Dimethyldiethoxysilan, Phenyltrimethoxysilan, Phenyltriethoxysilan, Diphenyldimethoxysilan, Diphenyldiethoxysilan und dergleichen ein.
Die hydrolytisch polymerisierbaren Verbindungen, die vorstehend beschrieben wurden, können allein oder als Mischung aus zwei oder mehreren Arten verwendet werden. Zudem kann nach der teilweisen Hydrolyse das Produkt einer Dehydrokondensation unterzogen werden. Zudem kann zur Steuerung der Eigenschaften des Produkts, wenn notwendig, ein Trialkylmonoalkoxysilan hinzugegeben werden. Die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung ist eine Verbindung zum Zusammensetzen einer anorganischen Phase in dem erfindungsgemäßen bilderzeugenden Material und zum Erhöhen der Lagerungsstabilität des bilderzeugenden Materials in einem Lösungszustand vor seiner Beschichtung auf das Substrat der Flachdruck-Originalplatte, es ist zum Schützen der aktiven Metallhydroxidgruppe, wie etwa z. B. einer Silanolgruppe (Si-OH) des anorganischen Polymers, das durch die teilweise hydrolytische Polymerisation der hydrolytisch polymerisierenden Verbindung erzeugt wurde, effektiv. Der Schutz der Silanolgruppe kann durch Verestern der Silanolgruppe mit einem höheren Alkohol, wie etwa t-Butanol, t-Propylalkohol und dergleichen, erreicht werden. Im Einzelnen kann durch Zugabe des vorstehend beschriebenen höheren Alkohols zu der anorganischen Phase der Schutz praktisch umgesetzt werden. In diesem Fall kann durch Dehydratisieren der anorganischen Phase mittels Abdestillieren von Wasser, das aus der anorganischen Phase durch Erhitzen eliminiert wurde, die Lagerungsstabilität verbessert werden. Wenn eine Säure oder eine Base, die ein Katalysator für die hydrolytische Polymerisation werden, in der anorganischen Phase existiert, ist es im Allgemeinen effektiv, deren Konzentration herabzusetzen. Dies kann durch Neutralisieren der anorganischen Phase mit einer Säure oder einer Base leicht praktiziert werden.
Zudem können erfindungsgemäß anstelle oder zusammen mit der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung, die durch die vorstehend beschriebene Formel (1) dargestellt wird, und eine Verbindung, die sich in eine mit hydrophiler Eigenschaft umwandelt, wie etwa Sulfonsäureester, eine hydrolytische polymerisierbare Verbindung der folgenden Formel (1-S) verwendet werden. Die Verbindung der Formel (1-S) ist die Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1), worin X Si ist, das durch eine Umpolungsgruppe eingeführt wurde. (R^1s2)l(OR^1s3)_3-l-Si-L-(SO₃ ^1sl)_m(1-S), worin R^1sl eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine cyclische Imidgruppe ist; R^1s2 und R^1s3, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen; L eine zweiwertige organische Verbindungsgruppe darstellt; l eine ganze Zahl von 0 bis 2 darstellt; und m 1 darstellt.
Das heißt, worin R^1sl und L die gleichen Bedeutungen wie R²¹ und L der Formel (2) in der Erläuterung der vorstehend beschriebenen funktionalen Gruppe besitzen, und die vorstehend veranschaulichten Gruppen können angewendet werden.
R^1s2 und R^1s3, die gleich oder verschieden sein können, schließen die gleichen Gruppen, die als R^1sl veranschaulicht wurden, ein, und sind vorzugsweise eine Alkylgruppe mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen.
Zudem stellt l eine ganze Zahl von 0 bis 2 dar und m stellt eine ganze Zahl von 1 dar.
Das Molekulargewicht der Verbindung der Formel (1-S) beträgt nicht mehr als 2000 und vorzugsweise nicht mehr als 1000.
Bevorzugte Beispiele (S-1) bis (S-24) der durch die vorstehend beschriebene (1-S) gezeigte Verbindung werden nachstehend gezeigt, aber die Erfindung ist nicht auf diese praktischen Beispiele begrenzt.
Wenn die Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1-S) in der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Flachdruck-Druckplatte verwendet wird, ruft die Verbindung eine hydrolytische Kondensation während der Herstellung einer Beschichtungslösung oder während dem Beschichten hervor und wird ein Harz mit einer SO₂R^1s1-Gruppe am Ende. Wenn das Harz eine Energie aus Strahlung und dergleichen absorbiert, wird die SO₃R^1s1-Gruppe zersetzt. Zudem wird der Abschnitt, worin die SO₃R^1s1-Gruppe zersetzt wird, bildweise durch die Wärme aus der Erhitzungseinrichtung oder durch eine Säure aus einer durch Licht säureerzeugenden Einrichtung hydrophil. Demgemäß werden unter Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Flachdruck-Druckplatte nach Bilderzeugen Drucken ohne Durchführung eines Entwicklungsverfahrens möglich, und es werden erwünschte Drucke erhalten. Die erfindungsgemäße lichtempfindliche Flachdruck-Druckplatte besitzt einen herausragenden Druckpressenlauf. Es wird angenommen, dass, da die hydrolytisch polymerisierbare Zusammensetzung eine Gruppe besitzt, die der funktionalen Gruppe (a-1) mit der Funktion der Änderung einer hydrophoben Eigenschaft in eine hydrophile Eigenschaft durch Erhitzen der Verbindung oder durch Wirkung einer Säure in dem Molekül unter Verwendung der Verbindung besitzt, der erfindungsgemäße Effekt weiter verbessert wird. Wenn die Verbindung, die durch die Formel (1-S) gezeigt wird, zudem zusammen mit der Verbindung der Formel (1), worin X Si ist, verwendet wird, wird ein besserer Effekt erhalten.
In der ersten erfindungsgemäßen bevorzugten Ausführungsform wird die vorstehend beschriebene hydrolytisch polymerisierbare Verbindung (die Verbindung der Formel (1) oder die Summe der Verbindung der Formel (1) und der Verbindung der Formel (1-S), die zusammen verwendet werden) in dem Bereich von vorzugsweise 3 bis 95 Gew.-%, und weiter bevorzugt 10 bis 80 Gew.-% der gesamten Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte verwendet.
Andererseits wird in dem erfindungsgemäßen Hauptaspekt die vorstehend beschriebene hydrolytisch polymerisierbare Verbindung in dem Bereich von vorzugsweise 5 bis 95 Gew.-%, und weiter bevorzugt 20 bis 80 Gew.-% der gesamten Feststoffkomponente der lichtempfindlichen Schicht der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte verwendet.
[Verbindung B]
Als Nächstes wird die Verbindung B, die für den erfindungsgemäßen Hauptaspekt verwendet wird, erläutert.
Die Verbindung B ist eine Verbindung mit "mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe" ausgewählt ist, d. h. die funktionale Gruppe (a-1) (die funktionale Gruppe wird auch einfach als "funktionale Gruppe (a-1)" in dem zweiten erfindungsgemäßen Aspekt genannt) in der Verbindung A, die in dem ersten erfindungsgemäßen Aspekt, wie vorstehend beschrieben, verwendet wird. Die funktionale Gruppe (a-1) in der Verbindung B ist die gleiche wie die Gruppe, die in der vorstehend beschriebenen Verbindung A beschrieben wird. Zudem besitzt die funktionale Gruppe (a-1) die Funktion, die Verbindung B von hydrophob in hydrophil durch Erhitzen oder die Wirkung einer Säure umzuwandeln, wie es der Fall mit der Verbindung A ist und der Wassertropfenkontaktwinkel in der Luft wird genauso wie im Fall der Verbindung A, die vorstehend beschrieben wurde, berücksichtigt.
Als dieser Typ von Verbindung B wird eine Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die durch radikalische Polymerisation mindestens eines Polymers mit funktionaler Gruppe/funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der vorstehend beschriebenen Formeln (2) bis (5) vorzugsweise verwendet. Als eine solche Verbindung mit hohem Molekulargewicht kann ein Homopolymer, das nur eine Art des Monomers mit der funktionalen Gruppe/den funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis 85) verwendet werden, aber ein Copolymer unter Verwendung von zwei oder mehreren Arten von Monomer oder Copolymer des vorstehend beschriebenen Monomers und eines anderen Monomers kann verwendet werden. Die anderen Monomere sind die gleichen wie diejenigen, die hinsichtlich der Verbindung A, die in dem vorstehend beschriebenen ersten erfindungsgemäßen Aspekt verwendet wurde, beschrieben wurden. Das Verhältnis des Monomers mit der funktionalen Gruppe/den funktionalen Gruppen gemäß einer beliebigen der Formeln (2) bis (5), die zur Synthese des Copolymers verwendet wurden, zu dem gesamten Monomer beträgt vorzugsweise 5 bis 99 Gew.-% und weiter bevorzugt 10 bis 95 Gew.-%.
Spezifische Beispiele für die Verbindung B, die für den erfindungsgemäßen Hauptaspekt verwendet wurde, werden nachstehend gezeigt.
[Feststoffteilchen]
Als Nächstes wird mindestens eine Art von Feststoffteilchen, die aus anorganischen Teilchen, organischen Teilchen und Metallteilchen ausgewählt sind, die die zweite erfindungsgemäße bevorzugte Ausführungsform umfassen, erläutert.
Die Feststoffteilchen sind vorzugsweise ein granuläres Material mit guter Affinität mit und guter Adhäsion zu der vorstehend beschriebenen Verbindung, die die lichtempfindliche Schicht erzeugt. Die Feststoffteilchen können oberflächenbehandelt werden, um deren Dispergierfähigkeit zu verbessern. Diese Feststoffteilchen können allein oder in einer Mischung aus zwei oder mehreren Arten verwendet werden und ferner können eine geeignete Kombination von anorganischen Teilchen, Metallteilchen und organischen Teilchen verwendet werden.
Als die anorganischen Teilchen können z. B. Metalloxide, wie etwa Zinkoxid, Titandioxid, Eisenoxid, Zirkondioxid und dergleichen; siliziumhaltige Oxide, die weißer Kohlenstoff genannt werden und keine Absorption in dem sichtbaren Bereich besitzen, wie etwa Kieselsäureanhydrid, hydriertes Calciumsilikat, hydriertes Aluminiumsilikat und der gleichen; und Tonmineralteilchen, wie etwa Ton, Talk, Kaolin, Zeolith und dergleichen, verwendet werden. Als die Metallteilchen können Teilchen aus z. B. Aluminium, Kupfer, Nickel, Silber und Eisen verwendet werden. Die anorganischen Teilchen und die Metallteilchen besitzen eine mittlere Teilchengröße von nicht mehr als 10 μm, vorzugsweise von 0,01 bis 10 μm, und weiter bevorzugt von 0,1 bis 5 μm. Wenn die mittlere Teilchengröße der anorganischen Teilchen oder Metallteilchen kleiner als 0,01 μm ist, ist die Wasserzurückhaltungseigenschaft des laserbestrahlten Abschnitts unzureichend, und es ist wahrscheinlich, dass Hintergrundflecken erzeugt werden. Wenn die mittlere Teilchengröße andererseits 10 μm übersteigt, wird die Auflösung des Drucks verringert, die Adhäsion des Trägers wird schlecht und es ist wahrscheinlich, dass die Teilchen nahe der Oberfläche der lichtempfindlichen Schicht freigesetzt werden.
Die anorganischen Teilchen oder die Metallteilchen werden in die Aufzeichnungsschicht in einer Menge von 2 bis 90 Vol.-%, vorzugsweise von 5 bis 80 Vol.-%, und weiter bevorzugt 10 bis 50 Vol.-% der gesamten Zusammensetzung eingebaut. Wenn der Gehalt der Teilchen weniger als 2 Vol.-% beträgt, ist die Wasserzurückhaltungseigenschaft in dem laserbestrahlten Abschnitt der Aufzeichnungsschichtoberfläche unzureichend und es ist wahrscheinlich, dass Hintergrundflecken erzeugt werden. Wenn der Gehalt 90 Vol.-% übersteigt, wird die Festigkeit der Aufzeichnungsschicht verringert, wobei der Druckpressenlauf schädlich beeinflusst wird und zudem die Adhäsion zwischen dem Träger und der Aufzeichnungsschicht herabgesetzt wird.
Als die Teilchen können organische Teilchen zusätzlich zu den anorganischen Teilchen oder den Metallteilchen verwendet werden. Es gibt keine besonderen Beschränkungen bezüglich der organischen Teilchen, wenn die Teilchen die Wasserzurückhaltungseigenschaft erhöhen, und Harzteilchen können als die organischen Teilchen verwendet werden. Es ist jedoch notwendig, auf die folgenden Punkte zu achten, wenn Harzteilchen verwendet werden. Das heißt, wenn ein Lösungsmittel zum Dispergieren von Harzteilchen verwendet wird, ist es notwendig, Harzteilchen auszuwählen, die in dem Lösungsmittel nicht aufgelöst werden oder ein Lösungsmittel auszuwählen, das die Harzteilchen nicht auflöst. Zudem ist es, wenn die Harzteilchen durch ein thermoplastisches Polymer und Wärme dispergiert werden, notwendig, die Harzteilchen auszuwählen, die nicht geschmolzen, nicht deformiert und nicht durch Wärme zum Dispergieren der Harzteilchen zersetzt werden.
Als Harzteilchen mit diesen Eigenschaften können vernetzte Harzteilchen vorzugsweise verwendet werden. Die mittlere Teilchengröße der organischen Teilchen beträgt von 0,01 bis 10 μm, vorzugsweise 0,05 bis 10 μm, und weiter bevorzugt 0,1 bis 5 μm. Wenn die mittlere Teilchengröße der organischen Teilchen kleiner als 0,01 μm ist, ist die Wasserzurückhaltungseigenschaft des laserbestrahlten Abschnitts unzureichend, und es ist wahrscheinlich, dass Hintergrundflecken erzeugt werden und wenn die mittlere Teilchengröße 10 μm übersteigt, wird die Auflösung des Drucks verringert, die Adhäsion mit dem Träger wird schlecht, und es ist wahrscheinlich, dass die Teilchen nahe der Oberfläche freigesetzt werden.
Die organischen Teilchen werden in die Aufzeichnungsschicht in einer Menge von 2 bis 90 Vol.-%, vorzugsweise 5 bis 80 Gew.-%, und weiter bevorzugt 10 bis 50 Gew.-% der gesamten Zusammensetzung, eingebaut. Wenn der Gehalt der Teilchen weniger 2 Vol.-% beträgt, wird die Wasserzurückhaltungseigenschaft am laserbestrahlten Abschnitt der Aufzeichnungsschicht unzureichend, und es ist wahrscheinlich, dass Hintergrundflecken erzeugt werden. Während, wenn der Gehalt 90 Vol.-% übersteigt, die Festigkeit der Aufzeichnungsschicht verringert wird, wobei der Druckpressenverlauf schädlich beeinflusst wird, und zudem die Adhäsion zwischen dem Träger und der Aufzeichnungsschicht herabgesetzt wird.
Beispiele für die organischen Teilchen schließen Polystyrolteilchen (Teilchengröße von 4 bis 10 μm) und Silikonharzteilchen (Teilchengröße von 2 bis 4 μm) und dergleichen ein. Die vernetzten Harzteilchen schließen z. B. ein Mikrogel (Teilchengröße von 0,01 bis 1 μm), das aus zwei oder mehreren Arten von ethylenisch ungesättigten Monomeren hergestellt ist, vernetzte Harzteilchen (Teilchengröße von 4 bis 10 μm), die aus Styrol und Divinylbenzol hergestellt sind, und vernetzte Harzteilchen (Teilchengröße von 4 bis 10 μm), die aus Methylmethacrylat und Diethylenglykoldimethacrylat zusammengesetzt sind, ein, d. h. das Mikrogel aus einem Acrylharz, vernetztem Polystyrol und vernetztem Methylmethacrylat. Diese Teilchen werden durch ein allgemeines Verfahren, wie etwa einem Emulsionspolymerisationsverfahren, einem seifenfreien Emulsionspolymerisationsverfahren, einem Keimemulsionspolymerisationsverfahren, einem Dispersionspolymerisationsverfahren, einem Suspensionspolymerisationsverfahren und dergleichen, hergestellt.
Zudem können organische Teilchen aus einer Lösung hergestellt werden. Zum Beispiel wird ein niederes Metallalkoxid zu einem Lösungsmittel, wie etwa Ethanol, gegeben und es werden bei gleichzeitigem Vorhandensein von Wasser und einer Säure oder einem Alkali anorganische Teilchen, die ein solches Metall enthalten, erhalten. Durch Zugabe der erhaltenen anorganischen Teilchenlösung zu einer Lösung eines lösungsmittellöslichen thermoplastischen Polymers kann eine anorganische Teilchendispersion hergestellt werden. Alternativ kann nach der ersten Zugabe des niederen Metallalkoxids zu der thermoplastischen Polymerlösung Wasser und eine Säure oder ein Alkali hinzugegeben werden, und die anorganischen Teilchen, die das Metall enthalten, können erhalten werden.
In dem Fall der Herstellung der anorganischen Teilchen durch Zugabe des niederen Metalloxids zu einer Lösung des Vorläufers für ein thermoplastisches Polymer werden, wenn das thermoplastische Polymer durch Erhitzen des Polymervorläufers erzeugt wird, ein Komposit des Polymers und ein anorganisches Material erhalten. Als das niedere Metalloxid können Tetraethoxysilan, Tetraethoxytitan und dergleichen verwendet werden.
Zudem ist bestätigt worden, dass erfindungsgemäß als die wasserunlöslichen Teilchen durch Verwendung von Teilchen mit einer sogenannten Licht-Wärme-Umwandlungswirkung zum Umwandlung von Strahlungswärme in Wärme oder den Eigenschaften einer Initiierung einer selbstexothermen Reaktion unter Verwendung von Wärme als ein Auslöser, ausreichende und andauernde Wärmeenergie zum Beschleunigen der Unterscheidung der Bildabschnitte und Nichtbildabschnitte zugeführt wird, wodurch der vorstehend beschriebene Effekt verbessert wird.
Gemäß der Ausführungsform wird, da die vorstehend beschriebene Zusammensetzung die Oberfläche der wasserunlöslichen Teilchen als ein Binder bedeckt, Wärme leicht aus den Teilchen zugeführt, und die Wärme wird nicht nur aus der einfachen Licht-Wärme-Umwandlung zugeführt, sondern die Wärme wird auch kontinuierlich durch die selbstexotherme Reaktion der Teilchen unter Verwendung der Wärme aus der Licht-Wärme-Umwandlung als ein Auslöser zugeführt, wodurch die Änderung von einer hydrophoben Eigenschaft in eine hydrophile Eigenschaft effektiv durchgeführt wird.
In diesem Fall kann die aus der Licht-Wärme-Umwandlung erhaltene Wärme eine Wärmemenge besitzen, die zum Erhalt der Zunahme der Temperatur zum Initiieren der chemischen und/oder physikalischen Änderung ausreichend ist und, da die Fortsetzung der Änderung durch die Fortsetzung der selbstexothermen Reaktion erhalten wird, wird keine große Menge an Wärmeenergie, die sofort zugeführt wird, benötigt, und so wird zusätzlich zu der Verbesserung der Unterscheidbarkeit der mit Bild versehenen Abschnitte und nicht mit Bild versehenen Abschnitte eine hohe Empfindlichkeit leicht erhalten, und zudem wird eine Verringerung der Auflösung aufgrund von Wärmeleitung, die wahrscheinlich auftritt, wenn nur von der Licht-Wärme-Umwandlung allein Gebrauch gemacht wird, unterdrückt.
Natürlich übersteigt die Wärmeenergie, die durch den Licht-Wärme-Umwandlungsmechanismus umgewandelt wird, nicht den Wert der anfänglichen Lichtenergie. Demgemäß ist das Problem, das in vielen Fällen, da die Wärmeenergie selbst klein ist oder die Zuführung der Wärme auf Fälle begrenzt ist, in denen die Belichtung durch Bestrahlung durchgeführt wird, die Wärmeenergie unzureichend, und es wird so eine chemische Reaktion hervorgerufen und die physikalische Änderung, die zur Bildaufzeichnung benötigt wird, kann unter Verwendung der spezifischen Teilchen gelöst werden.
Als Nächstes wird die selbstexotherme Reaktion erläutert. Erfindungsgemäß bedeutet die selbstexotherme Reaktion, die unter Verwendung der Wärmeenergie, die durch Licht-Wärme-Umwandlungswirkung als die Reaktion initiierende Energie erzeugt wurde, auftritt. Die Reaktionswärme, die in Übereinstimmung mit der chemischen Reaktion frei gesetzt wurde, behält ihre eigene chemische Reaktion bei, wodurch eine Art einer Energieamplifizierung stattfindet, die die physikalische oder chemische Änderung hervorruft, die die Bildabschnitte und die Nichtbildabschnitte unterscheidet. Wenn z. B. metallisches Eisen als die Substanz für die selbstexotherme Reaktion verwendet wird, beträgt die Wärmeenergie ungefähr 400 kJ pro mol. Zudem sind, soweit wie die selbstexotherme Reaktion als Folge der Licht-Wärme-Umwandlung auftritt, die Teilchen, die die Initiierungsenergie durch die Licht-Wärme-Umwandlung erzeugen, nicht notwendigerweise die gleichen wie in dem Reaktionssubstanzsystem, das die selbstexotherme Reaktion unter Verwendung von Wärme durchführt.
Ob die selbstexotherme Reaktion auftritt oder nicht, kann leicht durch eine thermische Differenzialwaage (TG/DTA) bestätigt werden. Wenn eine selbstexotherme Reaktionssubstanz in eine thermische Differenzialwaage eingeschoben wird und die Temperatur mit einer konstanten Rate erhöht wird, erscheint ein exothermer Peak bei einer besonderen Temperatur, und das Auftreten einer exothermen Reaktion wird beobachtet. Wenn die Oxidationsreaktion eines Metalls oder eines niederen Metalloxids als die selbstexotherme Reaktion verwendet wird, erscheint ein exothermer Peak, und eine Zunahme des Gewichts wird auf ähnliche Weise aus der thermischen Waage beobachtet.
Als solche Teilchen können eine Substanz oder ein Substanzsystem, das Strahlung absorbiert, das diese Wärme zum Initiieren der selbstexothermen Reaktion verwendet, verwandt werden.
Als die selbstexotherme Reaktion, die Bildabschnitte und Nichtbildabschnitte unterscheidet, gibt es chemische Reaktionen, wie etwa eine Veresterungsreaktion, eine Härtungsreaktion, eine Polymerisationsreaktion, eine Depolymerisationsreaktion und dergleichen, und Reaktionen, worin physikalische Änderungen, wie etwa Abrasion, Filmaufweichen und dergleichen, hervorgerufen werden. Zudem gibt es, wenn die Bilder erzeugt werden, Fälle von positiven Bildern und Fälle von negativen Bildern gemäß der Substanz oder dem Substanzsystem, die verwendet werden.
Von den wasserunlöslichen Teilchen, die Strahlung absorbieren, um diese in Wärme umzuwandeln und diese Wärme zum Initiieren der selbstexothermen Reaktion, wie vorstehend beschrieben, verwenden, sind die insbesondere bevorzugten Substanzen mit Metallteilchen oder Metallverbindungsteilchen und sie setzen ein selbstexothermes Reaktionssystem durch Kombination mit Sauerstoff in Luft zusammen. Im Einzelnen sind die bevorzugten Substanzen Metalle und Verbindungen, wie etwa Metalloxide, Metallnitride, Metallsulfide, Metallcarbide und dergleichen.
Die Metalle schließen Mg, Al, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Ga, Ge, Y, Zr, Nb, Mo, Tc, Ru, Pd, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, Pb und dergleichen, ein. Von diesen Metallen sind Metalle, die leicht eine exotherme Reaktion, wie etwa eine Oxidationsreaktion und dergleichen hervorrufen, bevorzugt, und im Einzelnen sind Al, Si, Ti, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, Y, Zr, Mo, Ag, In, Sn und W bevorzugt. Ferner sind als Metalle, deren Strahlungsabsorptionseffizienz hoch ist und deren selbstexotherme Reaktionswärmeenergie groß ist, Fe, Co, Ni, Cr, Ti und Zr bevorzugt.
Die Teilchen können nicht nur aus einer einfachen Metallsubstanz zusammengesetzt sein, sondern auch aus zwei oder mehreren Arten von Metallen zusammengesetzt sein. Darüber hinaus können die Teilchen aus einem Metall und einer Metallverbindung, wie etwa einem Metalloxid, einem Metallnitrid, einem Metallsulfid, einem Metallcarbid und dergleichen zusammengesetzt sein. Die einfache Metallsubstanz ergibt mehr Wärmeenergie aus einer selbstexothermen Reaktion, wie etwa Oxidation und dergleichen, aber ihre Handhabung in Luft ist kompliziert und, wenn eine solche einfache Metallsubstanz in Kontakt mit Luft gebracht wird, besteht die Gefahr einer spontanen Entflammung. So ist ein Metall, das mit einer Metallverbindung, wie etwa Metalloxid, Metallnitrid, Metallsulfid, Metallcarbid und dergleichen, mit einer Dicke von einigen nm von der Oberfläche bedeckt ist, bevorzugt.
Die Metallverbindung, die die Metallteilchen bedeckt, kann Teilchen oder einen Dünnfilm, wie etwa ein dampfabgeschiedener Film sein, aber wenn die Metallteilchen zusammen mit einem organischen Material verwendet werden, sind Teilchen bevorzugt. In diesem Fall ist die Größe der Teilchen nicht größer als 10 μm, vorzugsweise 0,005 bis 5 μm, und weiter bevorzugt 0,01 bis 3 μm. Wenn die Teilchengröße kleiner als 0,01 μm ist, ist die Dispersion der Teilchen schwierig, und wenn die Teilchengröße größer als 10 μm ist, wird die Auflösung des Drucks verringert.
Von dem vorstehend beschriebenen Metallfeinpulver ist erfindungsgemäß ein Eisenpulver bevorzugt. Ein beliebiges Eisenpulver ist bevorzugt, aber von diesen Pulvern ist das Pulver einer Eisenlegierung mit α-Fe als der Hauptbestandteil bevorzugt. Diese Pulver können zusätzlich zu den vorgeschriebenen Atomen andere Atome, wie etwa Al, Si, S, Sc, Ca, Ti, V, Cr, Cu, Y, Mo, Rh, Pd, Ag, Sn, Sb, Te, Ba, Ta, W, Re, Au, Hg, Pb, Bi, La, Ce, Pr, Nd, P, Co, Mn, Zn, Ni, Sr, B und dergleichen, enthalten. Insbesondere ist es bevorzugt, dass das Feinpulver mindestens eines aus Al, Si, Ca, Y, Ba, La, Nd, Co, Ni und B zusätzlich zu dem α-Fe enthält, und es ist weiter bevorzugt, dass es mindestens eines Co, Y und Al enthält. Die Menge des Co relativ zum Fe beträgt vorzugsweise 0 bis 40 Atom-%, einschließlich, weiter bevorzugt 15 bis 35 Atom-% einschließlich und insbesondere bevorzugt 20 bis 35 Atom-% einschließlich. Die Menge an Y beträgt vorzugsweise 1,5 bis 12 Atom-% einschließlich, weiter bevorzugt 3 bis 10 Atom-% einschließlich, und insbesondere bevorzugt 4 bis 9 Atom-% einschließlich. Die Menge an Al beträgt vorzugsweise 1,5 bis 12 Atom-% einschließlich, weiter bevorzugt 3 bis 10 Atom-% einschließlich, und insbesondere bevorzugt 4 bis 9 Atom-% einschließlich. Das Eisenlegierungspulver kann ferner eine kleine Menge an Hydroxid und Oxid enthalten. Im Einzelnen werden diese in der japanischen Patentveröffentlichung Nrn. 44-14090 , 45-18372 , 47-22062 , 47-22513 , 46-28466 , 46-38755 , 47-4286 , 47-12422 , 47-17284 , 47-18509 , 47-18573 , 39-10307 und 46-39639 und US-PSen Nrn. 3,026,215 , 3,031,341 , 3,100,194 , 3,242,005 und 3,389,014 beschrieben.
Die spezifische Oberfläche des verwendeten Eisenlegierungspulvers beträgt erfindungsgemäß gemäß dem BET-Verfahren 20 bis 80 m²/g, und vorzugsweise von 40 bis 60 m²/g. Wenn die spezifische Oberfläche 20 m²/g oder weniger beträgt, werden die Oberflächeneigenschaften verschlechtert, und wenn die spezifische Oberfläche 80 m²/g oder mehr beträgt, wird die Dispergierfähigkeit in unerwünschter Weise verringert. Die Kristallitengröße des erfindungsgemäßen Eisenlegierungspulvers beträgt von 350 bis 80 Å, vorzugsweise von 250 bis 100 Å und weiter bevorzugt von 200 bis 140 Å. Die Länge der langen Achse des Pulvers beträgt von 0,02 bis 0,25 μm einschließlich, vorzugsweise von 0,05 bis 0,15 μm einschließlich, und weiter bevorzugt von 0,06 bis 0,1 μm einschließlich. Das nadelförmige Verhältnis des Pulvers beträgt vorzugsweise von 3 bis 15 einschließlich, und weiter bevorzugt von 5 bis 12 einschließlich.
Wenn ein Metalloxid als die Teilchen verwendet wird, gibt es Fälle, in denen das Metalloxid selbst die Licht-Wärme-Umwandlung durchführt und eine Reaktionsinitiationsenergie einem Reaktionssubstanzsystem verleiht, wobei die selbstexotherme Reaktion hervorgerufen wird und Fälle, in denen das Metalloxid selbst ein niederes Oxid eines mehrwertigen Metalls ist und das Oxid selbst die Licht-Wärmeumwandelnde Substanz ist, wie es der Fall mit dem vorstehend beschriebenen Metallpulver ist, und zudem ist diese eine Luftoxidationsreaktionssubstanz vom selbstexothermen Typ.
Die erstere ist ein Licht-absorptives Schwermetalloxid und Beispiele schließen Oxide von Fe, Co, Ni und dergleichen ein
Beispiele für die letztere schließen Eisenoxid, Trieisentetroxid, Titanmonoxid, Zinnoxid, Chromoxid und dergleichen ein. Insbesondere sind die letzteren, d. h. die niederen Metalloxide, bevorzugt, und von diesen Oxiden sind Eisenoxid, Trieisentetroxid und Titanmonoxid bevorzugt.
Wenn die Substanz oder das Substanzsystem, das die Teilchen zusammensetzt, ein Metallnitrid ist, ist das bevorzugte Metallnitrid eine Azidverbindung aus einem Metall. Insbesondere sind die Azidverbindungen von Kupfer, Silber und Zinn bevorzugt. Diese Azidverbindungen erzeugen Wärme durch Hervorrufen einer Photozersetzung und rufen danach eine thermische Zersetzungsreaktion hervor.
Wenn die Substanz oder das Substanzsystem, das die vorstehend beschriebenen Teilchen zusammensetzt, ein Metallsulfid ist, ist das bevorzugte Metallsulfid ein Schwermetallsulfid, wie etwa das Sulfid eines Strahlungs-absorptiven Übergangsmetalls. Die bevorzugten Sulfide sind Silbersulfid, Eisensulfid und Kobaltsulfid und bei Verwendung dieser Sulfide wird ein Substanzsystem, das die einfache Substanz Schwefel enthält und eine selbstexotherme Reaktionssubstanz, wie etwa ein Alkalicarbonat, verwendet.
Es ist auch bevorzugt, dass, als die Teilchen, oberflächenmodifizierte Teilchen, worin eine Gruppe, deren Eigenschaften sich von hydrophob in hydrophil aufgrund der Bestrahlung oder Wärme ändern, an die Oberfläche der Feststoffteilchen gebunden ist, verwendet werden. Solche oberflächenmodifizierten Teilchen sind Teilchen mit auf ihrer Oberfläche der vorstehend beschriebenen Funktion eines Binders und sind zum Verbessern der Hydrophilisierung der mit Strahlung bestrahlten Abschnitte der lichtempfindlichen Schicht, die die vorstehend beschriebenen Feststoffteilchen enthalten, mit anderen Worten der Verbesserung der Empfindlichkeit effektiv.
Als die vorstehend beschriebene Gruppe, deren Eigenschaften sich von hydrophob zu hydrophil durch Bestrahlung oder Wärme ändern, gibt es eine Gruppe der folgenden Formel (2) -L·SO₃R²¹ (2)worin R²¹ die gleiche Bedeutung wie vorstehend für "funktionale Gruppe (a-1)" erläutert, besitzt.
Die oberflächenmodifizierten Teilchen, worin die Gruppe der Formel (2), deren Eigenschaften sich von hydrophob in hydrophil durch Bestrahlung oder Wärme ändern, an die Oberfläche der Teilchen gebunden ist, sind ein Reaktionsprodukt der Feststoffteilchen und ein Silankupplungsmittel der folgenden Formel (1-S); (R^1s2)_l(OR^1s3)_3-l-Si-L-(SO₃R^1sl)_m (1-S)
Das Silankupplungsmittel der Formel (1-S) ist das gleiche wie die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung, wie vorstehend für "Verbindung A" erläutert, und dergleichen.
Die Feststoffteilchen, die die Base werden, wenn die oberflächenmodifizierten Feststoffteilchen hergestellt werden, können beliebige Teilchen sein, die die Eigenschaft der Reaktion mit dem Silankupplungsmittel der Formel (1-S) besitzen. Bevorzugte Beispiele schließen Siliziumdioxid, Aluminiumoxid, Titandioxid, Ruß und dergleichen ein. Die mittlere Größe der Feststoffteilchen ist nicht größer als 10 μm, vorzugsweise von 0,01 bis 10 μm, und weiter bevorzugt von 0,1 bis 5 μm. Wenn die mittlere Teilchengröße der Feststoffteilchen weniger als 0,01 μm beträgt, ist die Wasserzurückhaltungseigenschaft des laserbestrahlten Abschnittes unzureichend, und es ist wahrscheinlich, dass Hintergrundflecken erzeugt werden. Wenn die mittlere Teilchengröße größer als 10 μm ist, wird die Auflösung des Drucks verschlechtert, Adhäsion an den Träger wird stärker, und es ist wahrscheinlich, dass die Teilchen nahe der Oberfläche freigesetzt werden.
Das Feststoffteilchenmodifizierverfahren wird unter Verwendung von Siliziumdioxidfeinteilchen als ein Beispiel erläutert.
Die oberflächenmodifizierten Siliziumdioxidfeinteilchen, deren Oberflächen mit dem vorstehend beschriebenen Silankupplungsmittel modifiziert wurden, können durch ein herkömmlicherweise bekanntes Oberflächenmodifizierverfahren hergestellt werden. Im Einzelnen können die Teilchen gemäß den Verfahren, die in Noboru Suzuki, Nobuko Yuzawa, Atsushi Endo und Hiroshi Utsuki, "Shikizai (Coloring Materials)", Band 57, 429 (1984); Hiroshi Yoshioka und Masayuki Ikeno, "Hyomen (Surfaces)" Band 21, 33 (1983); Hiroshi Utsuki, "Hyomen (Surfaces)", Band 16, 525(1978); K. Tanaka, et al., Bull. Chem. Soc. Jpn., Band 53, 1242(1980); M.L. Hair und W. Hertl, J. Phys. Chem., Band 77, 1965(1973); Va. Davydov., et al., Chromatographia, Band 14, 13(1981); K. Unger, et al., Colloid Polym. Sci., Band 252, 317(1974); R. Burwell und O. Leal, J. Chem. Soc. Chem. Commun., 342(1974); W. Stoeber, Kolloid Z., Band 149, 39(1956); FR-PS 1 368 765 ; DE-A-1 163 784 und dergleichen, und die Literatur und die Patentdruckschriften, die darin zitiert sind, ein.
Die bevorzugte Größe der Siliziumdioxid-Gelteilchen liegt in dem Bereich von ungefähr 1 bis 2000 nm, und spezifische Beispiele schließen Cylisia 350 (Teilchengröße 1800 nm Siliziumdioxid), hergestellt von Fuji Silicia Kagaku K.K.; Snowtex OL (Teilchengröße 45 nm Siliziumdioxid 20% wässrige kolloidale Lösung), hergestellt von Nissan Chemical Industries, Ltd.; AEROSIL 130 (Teilchengröße 16 nm Siliziumdioxid), hergestellt von Nipppon Aerosil K.K.; Mizukasil P-527U (Teilchengröße 60 nm Siliziumdioxid), hergestellt von Mizusawa Kagaku Kogyo K.K. und dergleichen, ein.
Es ist bevorzugt, dass die oberflächenmodifizierten Teilchen mit einem Vernetzungsmittel vernetzt sind. Als das Vernetzungsmittel, das in diesem Fall verwendet wird, ist die hydrolytisch polymerisierbare Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1) geeignet.
Die Siliziumdioxidfeinteilchen, die durch das Silankupplungsmittel der Formel (1-S) oberflächenmodifiziert sind, und die Vernetzungsmittel der Formel (1) können jeweils allein oder als eine Mischung aus zwei oder mehreren Arten verwendet werden. Zudem kann die Verbindung der Formel (1) einer Dehydrokondensation nach teilweise Hydrolyse unterzogen werden.
Nun werden die Schemata von einigen Verläufen zum Erzeugen der wasserunlöslichen Struktur, die aus wasserunlöslichen Teilchen und dem Material mit der vorstehend beschriebenen spezifischen funktionalen Gruppe umfasst ist, d. h. die lichtempfindliche Schicht mit Hohlräumen darin, nachstehend unter Verwendung der folgenden schematischen Systeme veranschaulicht.
In den schematischen Systemen sind die Schemata 1 und 2 Beispiele zum Erzeugen einer Schicht aus einer porösen Struktur durch gleichzeitiges Interpolieren der spezifischen Verbindung (Zusammensetzung) und Feststoffteilchen, wobei Schema 1 gilt, wenn Siliziumdioxidteilchen als die Feststoffteilchen verwendet werden, und Schema 2 gilt, wenn zuvor oberflächenmodifizierte Siliziumteilchen als die Feststoffteilchen verwendet werden. Zudem bedeutet in den schematischen Systemen R einfach einen Substituenten, wie etwa eine Modifizierungsgruppe für jede Verbindung oder Feststoff und jedes R kann in einigen Fällen unterschiedlich sein.
Schemata 3 und 4 sind Beispiele, das nach dem vorherigen Hervorrufen, dass ein Silankupplungsmittel (z. B. die Verbindung der Formel (1-S) mit Siliziumdioxidteilchen reagiert, eine hydrolytisch polymerisierbare Verbindung, die sich von dem Silankupplungsmittel unterscheiden kann, zugegeben wird, um die Reaktion zum Erzeugen einer porösen Struktur durchzuführen, und in Schema 3 wird ein polymerisierbares Monomer an den Oberflächen der Teilchen modifiziert.
In Schema 5 werden organische Polymerteilchen durch Emulgations- oder Dispersionscopolymerisation zunächst erzeugt.
Im Einzelnen wird in Schema 3 eine polymerisierbare Gruppe auf die Oberflächen der Teilchen unter Verwendung eines Silankupplungsmittels eingeführt, danach werden eine Verbindung mit einer empfindlichen Gruppe und Teilchen mit einer reaktivitätsempfindlichen Gruppe hergestellt, und dann wird eine poröse Schicht unter Verwendung der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung erzeugt.
In Schema 4 werden empfindliche Teilchen direkt unter Verwendung eines Silankupplungsmittels erzeugt und danach wird eine poröse Schicht unter Verwendung der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung erzeugt.
Erfindungsgemäß können beliebige der vorstehend beschriebenen Ausführungsformen angewendet werden.
[Säureerzeugende Mittel]
In der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte ist es zum Umsetzen der vorstehend beschriebenen Verbindung A oder Verbindung B durch bildweises Erzeugen einer Säure erwünscht, ein säureerzeugendes Mittel als die säureerzeugende Einrichtung zuzugeben. Jedoch erzeugt die vorstehend beschriebene Verbindung A oder Verbindung B selbst manchmal eine Säure durch Wärme und zeigt eine Funktion als ein säureerzeugendes Mittel, und da in solchen Fällen Bilder ohne Verwendung eines anderen säureerzeugenden Mittels erzeugt werden können, ist ein säureerzeugendes Mittel nicht notwendig.
Das erfindungsgemäß verwendete säureerzeugende Mittel kann aus bekannten Verbindungen, die eine Säure durch Wirkung von Licht oder Wärme als das säureerzeugende Mittel erzeugen, ausgewählt werden.
Beispiele für diese Verbindungen schließen ein: Oniumsalze, wie etwa Diazoniumsalze, die in S.I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng., Bd. 18, 387 (1974), T.S. Bal et al., Polymer, Bd. 21, 423 (1980) und dergleichen beschrieben werden; Ammoniumsalze, die in US-PSen 4,069,055 und 4,069,056 , JP-A-3-140140 und dergleichen beschrieben werden; Phosphoniumsalze, die in D.C. Kecker et al., Macromolecules, Bd. 17, 2468(1984), C.S. Wen et al., Teh. Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, Seite 478, Tokyo, Okt. (1988), US-PSen 4,069,055 und 4,069,056 und dergleichen beschrieben werden; Iodoniumsalze, die in J.V. Crivello et al., Macromolecules, Bd. 10 (6), 1307 (1977), Chem. & Eng. Neves, Nr. 28, 31 (1988), EP-PS 0 104 143 , JP-A2-150848 und 2-296514 und dergleichen beschrieben sind; Sulfoniumsalze, die in J.V. Crivello, et al., Polymer J., Bd. 17, 73(1985); J.V. Crivello et al., J. Org. Chem., Bd. 43, 3055 (1978), W.R. Watt et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg., Bd. 22, 1789 (1984), J.V. Crivello et al., Polymer Bull., Bd. 14, 279(1985), J.V. Crivello et al., Macromolecules, Bd. 14 (5), 1141 (1981), J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg., Bd. 17, 2877 (1919), EP-PS 0 370 693 , US-PS 3,902,114 , EP-PSen 0 233 567 , 0 297 443 und 0 297 442 , US-PSen 4,933,377 , 4,760,013 , 4,734,444 und 2,833,827 , DE-PSen 2 904 626 , 3 604 580 und 3,604,581 und dergleichen beschrieben sind; Selenoniumsalze, die in J.V. Crivello et al., Macromolecules, Bd. 10 (6), 1307 (1977), J.V. Crivello et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg., Bd. 17, 1047 (1979) beschrieben sind; und Arsoniumsalze, die in C.S. Wen et al., Teh. Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, Seite 478, Oktober (1988) beschrieben sind; organische Halogenverbindungen, die in US-Patent 3,905,815 , JP-B-46-4605 , JP-A-48-36281 , 55-32070 , 60-239736 , 61-169835 , 61-169837 , 62-58241 , 62-212401 , 63-70243 und 63-298339 und dergleichen beschrieben sind; organometallische/organische Halogenverbindungen, die in K. Meier et al., J. Rad. Curing, Bd. 13(4), 26(1986), T. P. Gill, et al., Inorg. Chem., Bd. 19, 3007(1980), D. Astruc., Acc. Chem. Res., Bd. 19 (12), 377 (1896), JP-A-2-161445 und dergleichen beschrieben sind; Photosäuregenerierende Mittel mit einer Schutzgruppe vom o-Nitrobenzyl-Typ, die in S. Hayase et al., J. Polymer Sci., Bd. 25, 753(1987), E. Reichmanis et al., J. Polymer Sci., Polymer Chem. Hrsg., Bd. 23, 1 (1985), Q.Q. Zhu et al., J. Photochem., 36, 85, 39, 317 (1987), B. Amit et al., Tetrahedron Lett., (24), 2205 (1973), D.H.R. Barton et al., J. Chem. Soc., 3571(1965), P.M. Collins et al., J. Chem. Soc., Perkin I, 1695 (1975), M. Rudinstein et al., Tetrahedron Lett., (17), 1445 (1975), J.W. Walker et al., J. Am. Chem. Soc., Bd. 110, 7170 (1988), S.C. Busman et al., J. Imaging Technol., Bd. 11 (4), 191 (1985), H.M. Houlihan et al., Macromolecules, Bd. 21, 2001 (1988), P.M. Collins et al., J. Chem. Soc., Chem. Commun., 532 (1972), S. Hayase et al., Macromolecules, Bd. 18, 1799 (1985), E. Reichmanis et al., J. Electrochem. Soc., Solid State Sci. Technol., 130 (6), F.M. Houlihan et al., Macromolecules, Bd. 21, 2001 (1988), EP-PSen 0 290 750 , 0 046 083 , 0 156 535 , 0 271 851 und 0 388 343 , US-PSen 3,901,710 und 4,181,531 , JP-A-60-198538 und 53-133022 und dergleichen beschrieben sind; Verbindungen, wie etwa Iminosulfonate und dergleichen, die eine Sulfonsäure generieren, die Photozersetzung verursacht, die in M. Tunooka et al., Polymer Preprints Japan, Bd. 35 (8), G. Berner et al., J. Rad. Curing, Bd. 13 (4), W.J. Mijs et al., Coating Technol., Bd. 55 (697), 45 (1983), Akzo, H. Adachi et al., Polymer Preprints, Japan, Bd. 37 (3), EP-PSen 0 199 672 , 0 084 515 , 0 199 672 , 0 044 115 und 0 101 122 , US-PSen 4,618,564 , 4,371,605 und 4,431,774 , JP-A-64-18143 und 2-245756 , JP-A-3-140109 und dergleichen beschrieben sind; Disulfonverbindungen, die in JP-A-61-166544 beschrieben sind; o-Naphthochinondiazido-4-sulfonsäurehalogenid, die in JP-A-50-36209 ( US-PS 3,969,118 ) beschrieben sind; und o-Naphthochinondiazidverbindungen, die in JP-A-55-62444 ( GB-PS 2 038 801 ) und JP-B-1-11935 beschrieben sind.
Andere säureerzeugende Mittel, die erfindungsgemäß verwendet werden, schließen Cyclohexylcitrat, Sulfonsäurealkylester, wie etwa p-Acetaminobenzolsulfonsäurecyclohexylester, p-Brombenzolsulfonsäurecyclohexylester und dergleichen, und die Alkylsulfonsäureester, die durch die folgende Formel gezeigt werden, die in JP-A-9-26878 beschrieben werden, die durch die Erfinder eingereicht wurde, ein.
Von den vorstehend beschriebenen Verbindungen, die durch Licht, Wärme oder die Bestrahlung mit Strahlung zersetzt werden, um so eine Säure zu erzeugen, werden insbesondere effektive Verbindungen nachstehend beschrieben.
(1) Oxazolderivate der folgenden Formel (PAG 1) oder S-Triazinderivate der folgenden Formel (PAG 2), die jeweils durch eine Trihalomethylgruppe substituiert sind.
In den vorstehenden Formeln stellt R^PAG11 eine substituierte oder unsubstituierte Aryl- oder Alkenylgruppe dar; R^PAG22 stellt eine substituierte oder unsubstituierte Aryl-, Alkenyl- oder Alkylgruppe, oder -CY₃ dar; und Y stellt ein Chloratom oder ein Bromatom dar.
Im Einzelnen können die folgenden Verbindungen verwenden, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
(2) Iodoniumsalze der folgenden Formel (PAG3) oder Sulfoniumsalze oder Diazoniumsalze der folgenden Formel (PAG4).
In diesen Formeln stellen Ar^PAG31 und Ar^PAG32 jeweils unabhängig eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe dar. Beispiele für den bevorzugten Substituenten schließen eine Alkylgruppe, eine Halogenalkylgruppe, eine Cycloalkylgruppe, eine Arylgruppe, eine Alkoxygruppe, eine Nitrogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Alkoxycarbonylgruppe, eine Hydroxygruppe, eine Mercaptogruppe und ein Halogenatom ein.
R^PAG43, R^PAG44 und R^PAG45 stellen jeweils unabhängig eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe dar. Vorzugsweise stellen R^PAG43, R^PAG44 und R^PAG45 jeweils eine Arylgruppe mit 6 bis 14 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen oder deren substituierte Derivate dar. Beispiele für den bevorzugten Substituenten schließen eine Alkoxygruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Alkylgruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Nitrogruppe, eine Carboxylgruppe, eine Hydroxygruppe und ein Halogenatom für die Arylgruppe dar und schließen eine Alkoxygruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, eine Carboxylgruppe und eine Alkoxycarbonylgruppe für die Alkylgruppe ein.
Z^– stellt ein Gegenanion dar und Beispiele hierfür schließen BF₄ ^–, AsF₆ ^–, PF₆ ^–, SbF₆ ^–, SiF₆ ^2–, ClO₄ ^–, ein Perfluoralkansulfonatanion, wie etwa CF₃SO₃ ^–, und dergleichen, ein Pentafluorbenzolsulfonatanion, ein gebundenes polynukleares aromatisches Sulfonatanion, wie etwa Naphthalin-1-sulfonatanion, ein Anthrachinonsulfonatanion, ein Farbstoff mit einer Sulfonsäuregruppe und dergleichen, ein, aber ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt. Ferner können zwei aus R^PAG43, R^PAG44 und R^PAG45, genauso wie Ar^PAG31 und Ar^PAG32 über eine Einfachbindung oder einen Substituenten kombinieren.
Spezifische Beispiele für diese Verbindungen werden nachstehend veranschaulicht, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
Die Oniumverbindungen der Formeln (PAG3) und (PAG4) sind bekannte Verbindungen und können z. B. durch die Verfahren synthetisiert werden, die in J.W. Knapczyk et al., J. Am. Chem. Soc., Bd. 91, 145(1969), A.L. Maycok et al., J. Org. Chem., Bd. 35, 2532 (1970), B. Goethas et al., Bull. Soc. Chem. Belg., Bd. 73, 546 (1964), H.M. Leicester, J. Am. Chem. Soc., Bd. 51, 3587(1929), J.V. Crivello et al., J. Polym. Chem. Hrsg., Bd. 18, 2677 (1980), US-PSen 2,807,648 und 4,247,473 , JP-A-53-101331 und dergleichen beschrieben werden.
(3) Disulfonderivate der folgenden Formel (PAG5) oder Imonosulfonatderivate der folgenden Formel (PAG6).
In diesen Formeln stellen Ar^PAG53 und Ar^PAG54 jeweils unabhängig eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe dar; R^PAG66 stellt eine substituierte oder unsubstituierte Alkyl- oder Arylgruppe dar; und A stellt eine substituierte oder unsubstituierte Alkylen-, Alkenylen- oder Arylengruppe dar.
Praktische Beispiele für diese Verbindungen werden nachstehend gezeigt, aber die vorliegende Erfindung ist nicht auf diese Verbindungen begrenzt.
Der Gehalt des so erzeugenden Mittels liegt gewöhnlich im Bereich von 0,1 bis 30 Gew.-%, und vorzugsweise beträgt er von 1 bis 15 Gew.-% der gesamten Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte. Wenn der Gehalt weniger als 1 Gew.-% beträgt, wird die Empfindlichkeit herabgesetzt, während, wenn der Gehalt größer als 15 Gew.-% ist, es die Möglichkeit gibt, dass die Bildfestigkeit herabgesetzt wird.
[IR-Absorptionsmittel]
Wenn der erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Flachdruck-Druckplattenvorläufer als eine Flachdruck-Originalplatte verwendet wird, die Bilder durch die Bestrahlung mit IR-Bestrahlung erzeugt, wird ein IR-Absorptionsmittel in die lichtempfindliche Schicht des strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufers gegeben.
Das IR-Absorptionsmittel, das vorzugsweise erfindungsgemäß verwendet wird, ist ein Farbstoff oder ein Pigment, die jeweils effektiv IR-Strahlen mit Wellenlängen von 760 bis 1200 nm absorbieren und ist weiter bevorzugt ein Farbstoff oder ein Pigment mit einem Absorptionsmaximum in dem Wellenlängenbereich von 760 bis 1200 nm.
Die Farbstoffe, die zur erfindungsgemäßen Verwendung geeignet sind, sind kommerziell verfügbare Farbstoffe und bekannte Farbstoffe, die z. B. in "Senryo Binran (Handbook of Dyes)", herausgegeben von der Association of Organic Synthesis Chemistry, veröffentlicht 1970, beschrieben werden. Spezifische Beispiele für die Farbstoffe schließen Azofarbstoffe, Azofarbstoffe in der Form von Metallkomplexsalzen, Pyrazolonazofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe, Cyaninfarbstoffe und Farbstoffe in der Form von Metallthiolatkomplexen ein.
Bevorzugte Beispiele für die Farbstoffe schließen Cyaninfarbstoffe, die z. B. in JP-A-58-125246 , 59-84356 , 59-202829 und 60-78787 beschrieben werden; Methinfarbstoffe, die z. B. in JP-A-58-173696 , 58-181690 und 58-194595 beschrieben werden; Naphthochinonfarbstoffe, die z. B. in JP-A-58-112793 , 58-224793 , 59-48187 , 59-73996 , 60-52940 und 60-63744 beschrieben werden; Squaryliumfarbstoffe, die in JP-A-58-112792 beschrieben werden und Cyaninfarbstoffe, die in GB-PS 434 875 beschrieben werden, ein.
Zudem werden die nah-IR-absorbierenden Sensibilisierungsmittel, die in US-PS 5,156,938 beschrieben werden, in geeigneter Weise verwendet, und ferner werden substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, die in US-PS 3,881,924 beschrieben werden, Trimethinthiapyryliumsalze, die in JP-A-57-142645 ( US-PS 4,327,169 ) beschrieben werden, Pyryliumverbindungen, die in JP-A-58-181051 , 58-220143 , 59-41363 , 59-84248 , 59-84249 , 59-146063 und 59-146061 beschrieben werden; Cyaninfarbstoffe, die in JP-A-59-216146 beschrieben werden; Pentamethinthiopyryliumsalze, die in US-PS 4,283,475 beschrieben werden; und Pyryliumverbindungen, die in JP-PSen 5-13514 und 5-19702 beschrieben werden, vorzugsweise verwendet.
Zudem sind andere Beispiele für die bevorzugten Farbstoffe die nah-IR-absorbierenden Farbstoffe, die in US-PS 4,756,993 als die Formeln (I) und (II) beschrieben werden.
Von diesen Farbstoffen sind Cyaninfarbstoffe, Squaryliumfarbstoffe, Pyryliumfarbstoffe und Nickelthiolatkomplexe insbesondere bevorzugt.
Pigmente, die erfindungsgemäß in geeigneter Weise verwendet werden, sind kommerziell verfügbare Pigmente und diejenigen, die z. B. in "Color Index Handbook (C.I.)". "Latest Pigment Handbook (Saishin Ganryo Binran)" herausgegeben von Japan Association of Pigment Technology (Nippon Ganryo Gijyutsu Kyokai) veröffentlicht 1977, "Latest Pigment Application Technologies (Saishin Ganryo Ooyo Gijyutsu)", CMC, 1986 und "Printing Ink Technologies (Insatsu Ink Gijyutsu)", CNC. 1984 beschrieben werden.
Beispiele für die Pigmente schließen schwarze Pigmente, gelbe Pigmente, orangefarbene Pigmente, braune Pigmente, rote Pigmente, purpurfarbene Pigmente, blaue Pigmente, grüne Pigmente, fluoreszierende Pigmente, Metallpuderpigmente und Polymere, die chemische kombinierte Farbstoffe enthalten, ein. Spezifische Beispiele für Pigmente sind unlösliche Azopigmente, Azobeizenfarbstoffpigmente, kondensierte Azopigmente, chelatisierte Azopigmente, Phthalocyanin-basierte Pigmente, Anthrachinon-basierte Pigmente, Perylen- und Perinon-basierte Pigmente, Thioindigo-basierte Pigmente, Chinacridon-basierte Pigmente, Dioxazin-basierte Pigmente, Isoindolinon-basierte Pigmente, Chinophthalon-basierte Pigmente, gefärbte Beizenpigmente, Azinpigmente, Nitrosopigmente, Nitropigmente, natürliche Pigmente, fluoreszierende Pigmente, anorganische Pigmente, Ruß und dergleichen. Von diesen Pigmenten ist Ruß bevorzugt.
Diese Pigmente können ohne Oberflächenbehandlung verwendet werden oder können nach Oberflächenbehandlung verwendet werden. Mögliche Oberflächenbehandlungen schließen eine Behandlung, worin ein Harz oder ein Wachs auf die Oberfläche der Pigmente beschichtet wird, eine Behandlung, worin ein Tensid auf die Oberfläche der Pigmente aufgebracht wird, und eine Behandlung, worin eine reaktive Substanz (z. B. ein Silankupplungsmittel, eine Epoxidverbindung oder ein Polyisocyanat) auf die Oberfläche der Pigmente gebunden wird, ein. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren werden in "Properties and Applications of Metal Soaps" (Saiwai Shobo K.K.), "Printing Ink Technologies", CMC, 1984 und "Latest Pigment Application Technologies", CMC, 1986 beschrieben.
Der Durchmesser der Pigmente beträgt vorzugsweise 0,01 bis 10 μm, weiter bevorzugt 0,05 bis 1 μm, und insbesondere bevorzugt 0,1 bis 1 μm.
Wenn der Durchmesser weniger als 0,01 μm beträgt, ist die Dispersionsstabilität des Pigments in der Beschichtungsflüssigkeit der lichtempfindlichen Zusammensetzung unzureichend, während, wenn der Durchmesser größer als 10 μm ist, die Gleichförmigkeit der Bildaufzeichnungsschicht nach ihrer Beschichtung sich verschlechtert.
Eine bekannte Dispersionstechnik unter Verwendung einer Dispergiermaschine, die bei der Herstellung von Tinten und Tonern verwendet wird, kann auch zum Zweck des Dispergierens des Pigments verwendet werden. Beispiele für die Dispersionsmaschine schließen eine Ultraschallwellendispergiermaschine, eine Sandmühle, eine Zerkleinerungsvorrichtung, eine Perlenmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, einen Propeller, eine Dispergiervorrichtung, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, einen Dynatron, eine Dreiwalzenmühle, eine unter Druck gesetzte Knetvorrichtung und dergleichen ein. Details dieser Dispergiertechnik werden in Latest Pigment Application Technologies", CMC, 1986 beschrieben.
Die Zugabemengen des Farbstoffs und des Pigments in die lichtempfindliche Schicht sind jeweils in dem Bereich von 0,01 bis 50 Gew.-%, und vorzugsweise 0,1 bis 10 Gew.-%, basierend auf den gesamten Feststoffkomponenten der Zusammensetzung, die die lichtempfindliche Schicht zusammensetzt. Insbesondere bevorzugt ist die Zugabemenge des Farbstoffs in dem Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-%, während die Zugabemenge des Pigments in dem Bereich von 1,0 bis 10 Gew.-% ist. Wenn die Zugabemenge weniger als 0,01 Gew.-% beträgt, wird die Empfindlichkeit der lichtempfindlichen Schicht herabgesetzt, während, wenn die Zugabemenge mehr als 50 Gew.-% beträgt, es wahrscheinlich ist, dass die nicht mit Bild versehenen Abschnitte beim Drucken verschmutzt werden.
[Andere Komponenten]
Erfindungsgemäß werden die vorstehend beschriebenen Komponenten gemäß den Erfordernissen verwendet und ferner, soweit notwendig, können verschiedene Verbindungen zusätzlich zu den vorstehend beschriebenen Komponenten zugegeben werden.
Zum Beispiel werden, wenn das säureerzeugende Mittel eine Empfindlichkeit im sichtbaren Bereich besitzt, Sensibilisierungsfarbstoffe für verschiedene säureerzeugende Mittel verwendet, um die säureerzeugenden Mittel unter dem Licht des sichtbaren Bereichs aktiv zu machen.
Beispiele für diese Sensibilisierungsfarbstoffe, die für den Zwecke effektiv verwendet werden, schließen Pyranfarbstoffe, die in US-PS 5,238,782 beschrieben werden, Cyaninfarbstoffe und Squarylium-basierte Farbstoffe, die US-PS 4,997,745 verwendet werden, Merocyanin-basierte Farbstoffe, die in US-PS 5,262,276 verwendet werden, Pyryliumfarbstoffe, die in JP-PS 8-20732 verwendet werden, genauso wie Michler's Keton, Thioxanthon, einen Ketocoumarinfarbstoff und 9-Phenylacridin ein. Andere Farbstoffe, die verwendet werden können, sind mehrkernige aromatische Verbindungen, wie etwa Bisbenzilidenketon und 9,10-Diphenylanthracen, wie in US-PS 4,987,230 beschrieben werden.
Als weitere Beispiele für die anderen Komponenten können Farbstoffe mit großem Prozentsatz an Absorption im sichtbaren Bereich als ein Bild färbendes Mittel verwendet werden.
Spezifische Beispiele hierfür schließen Oil Yellow Nr. 101, Oil Yellow Nr. 103, Oil Pink Nr. 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue Nr. 603, Oil Black BY, Oil Black BS und Oil black T-505 (alle hergestellt von Orient Chemical Industries, Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (C.I. 42555), Methyl Violet (C.I. 42535), Ethyl Violet, Rhodamine B (C.I. 145170B), Malachite Green (C.I. 42000), Methylene Blue (C.I. 52015) und dergleichen, zusammen mit den Farbstoffen, die in JP-PS 62-293247 und JP-A-7-335145 beschrieben werden, ein.
Zudem beträgt ihre Zugabemenge 0,01 bis 10 Gew.-% der gesamten Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte.
Ferner können in die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufers die nicht-ionischen Tenside, die in JP-PSen 62-251740 und 3-208514 beschrieben werden, oder die amphoteren Tenside, die in JP-PSen 59-121044 und 4-13149 beschrieben werden, zum Verbreitern der Stabilität bei den Druckbedingungen verwendet werden.
Spezifische Beispiele für das nicht-ionische Tensid schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Monoglyceridstearat und Polyoxyethylennonylphenylether ein.
Spezifische Beispiele für das amphotere Tensid schließen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycin-Hydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain (z. B. Amogen K, Handelsname, hergestellt von Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ein.
Die bevorzugten Zugabemengen des nicht-ionischen Tensids und des amphoteren Tensids liegen jeweils in dem Bereich von 0,05 bis 15 Gew.-%, und vorzugsweise von 0,1 bis 5 Gew.-%, basierend auf dem Gewicht der gesamten Feststoffkomponenten des bilderzeugenden Materials.
Darüber hinaus kann, soweit notwendig, ein Weichmacher in die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufers gegeben werden, um der beschichteten Schicht Flexibilität zu verleihen. Beispiele für den Weichmacher schließen Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat, Oligomere und Polymere von Acrylsäure oder Methacrylsäure, und dergleichen ein.
Die lichtempfindliche Schicht des strahlungsempfindlichen erfindungsgemäßen Flachdruck-Druckplattenvorläufers kann hergestellt werden, indem die vorstehend beschriebenen Komponenten in einem Lösungsmittel normal aufgelöst und die Lösung auf einen geeigneten Träger beschichtet wird.
Beispiele für das Lösungsmittel schließen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton, Toluol, und Wasser ein, aber sind nicht auf diese begrenzt.
Diese Lösungsmittel können allein oder als eine Kombination aus zwei oder mehreren Arten davon verwendet werden. Die Konzentration der gesamten Komponenten (alle Feststoffkomponenten einschließlich Additive) in der Beschichtungsflüssigkeit liegt in dem Bereich von vorzugsweise 1 bis 50 Gew.-% Die erwünschte beschichtete Menge (Feststoffe) nach dem Beschichten und Trocknen auf dem Träger liegt im Allgemeinen in dem Bereich von 0,5 bis 5,0 g/m².
Die Beschichtungsflüssigkeit kann durch verschiedene Verfahren aufgetragen werden. Beispiele für das Beschichtungsverfahren schließen Stabbeschichten, Roationsspinnbeschichten, Sprühen, Vorhangbeschichten, Eintauchen, Luftmesserbeschichten, Klingenbeschichten und Walzenbeschichten ein.
Zur Verbesserung der Beschichtungseigenschaft können in die lichtempfindliche Schicht des erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufers ein Tensid zugegeben werden, wie etwa z. B. ein fluoriertes Tensid, wie in JP-PS 62-170950 beschrieben. Die bevorzugte Zugabemenge des Tensids liegt in dem Bereich von 0,01 bis 1%, und weiter bevorzugt von 0,05 bis 0,5 Gew.-%, basierend auf die gesamten Feststoffkomponenten der lichtempfindlichen Schicht der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte.
Der Träger (Substrat), der für die Flachdruck-Druckplatte verwendet wird, worauf das bilderzeugende Material erfindungsgemäß beschichtet wird, ist eine Größenabmessungsstabile Platte und Materialien, die herkömmlicherweise als der Träger für Druckplatten verwendet werden, können in geeigneter Weise erfindungsgemäß verwendet werden. Typische Beispiele für den Träger schließen Papier, mit Kunststoffen (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol und dergleichen) laminiertes Papier, eine Metallplatte, wie etwa Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink, Eisen, Kupfer und dergleichen, einen Kunststofffilm, wie etwa Diacetylcellulose, Triacetylcellulose Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Cellulosebutyratacetat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat, Polyvinylacetal und dergleichen, und ein Papier oder einen Kunststofffilm, die mit dem vorstehend beschriebenen Metall laminiert sind oder das darauf abgeschieden ist, ein. Von diesen Materialien ist eine Aluminiumplatte insbesondere bevorzugt. Beispiele für die Aluminiumplatte schließen eine reine Aluminiumplatte und eine Aluminiumlegierungsplatte ein. Beispiele für die Aluminiumlegierungsplatte sind Legierungen von Aluminium mit Metall(en), wie etwa Silizium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Wismut, Nickel und dergleichen. Diese Legierungen können kleine Mengen an Eisen und Titan zusammen mit anderen vernachlässigbaren Mengen an Verunreinigungen enthalten.
Rückwärtige Beschichtung:
Auf der rückwärtigen Oberfläche des Trägers wird eine rückwärtige Beschichtung erzeugt. Als eine solche rückwärtige Beschichtung ist eine beschichtete Schicht aus einer organischen Verbindung mit hohem Molekulargewicht, die in JP-A-5-45885 beschrieben ist, oder eine beschichtete Schicht, die ein Metalloxid umfasst, das durch Hydrolysieren und Polykondensieren einer organischen oder anorganischen Metallverbindung erhalten wurde, die in JP-A-6-35174 beschrieben wird, bevorzugt.
Von diesen Beschichtungsschichten ist eine Schicht aus einer Alkoxyverbindung von Silizium, wie etwa Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃)H₇)₄, Si(OC₄H₅)₄, und dergleichen insbesondere bevorzugt, da diese Verbindungen kostengünstig und leicht verfügbar sind und die Beschichtung des Metalloxids, die daraus erhalten wurde, eine herausragende hydrophile Eigenschaft besitzt.
Der erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Flachdruck-Druckplattenvorläufer kann, wie vorstehend beschrieben, hergestellt werden. Zu dem strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplattenvorläufer wird eine wärmeempfindliche Aufzeichnung direkt und bildweise durch z. B. einen thermischen Aufzeichnungskopf oder dergleichen aufgetragen. Alternativ wird die Druckplatte bildweise durch einen Feststofflaser oder einen Halbleiterlaser, der IR-Strahlen mit Wellenlängen von 760 bis 1200 nm emittiert, belichtet. Erfindungsgemäß wird die Druckplatte nach der thermischen Aufzeichnung oder der Laserbestrahlung mit Wasser bearbeitet und, soweit notwendig, mit Gummi beschichtet, und auf eine Druckmaschine zum Durchführen von Drucken montiert, oder alternativ kann die Druckplatte nach thermischer Aufzeichnung oder der Laserbestrahlung auf eine Druckplatte zum Durchführen von Drucken sofort montiert werden. Aber in beiden Fällen ist es bevorzugt, eine thermische Behandlung nach thermischem Aufzeichnen oder der Laserbestrahlung anzuwenden. Als Bedingungen für die thermische Behandlung ist es bevorzugt, die thermische Behandlung von 10 s bis 5 min in einem Temperaturbereich von 80°C bis 150°C durchzuführen. Durch die thermische Behandlung kann die während der thermischen Behandlung oder Laserbestrahlung zum Aufzeichnen notwendige Wärme- oder Laserenergie verringert werden.
Die Flachdruck-Druckplatte, die durch solche Behandlungen erhalten wurde, wird auf eine Offset-Druckmaschine nach ihrer Bearbeitung mit Wasser oder wie sie ist montiert und zum Drucken vieler Drucke verwendet.
Zudem haben die Erfinder als Folge der Untersuchung der Eigenschaften der lichtempfindlichen Schicht herausgefunden, dass durch Erzeugen der lichtempfindlichen Schicht auf einem Träger als eine hydrophile Schicht, eine Schicht, die eine hohe hydrophile Eigenschaft besitzt und nicht während dem Bearbeiten abgelöst wird, erhalten werden kann. Zum Beispiel stellt eine solche Flachdruck-Druckplatte auf einem Träger eine Schicht bereit, die eine Polymerverbindung mit einer Sulfonsäuregruppe in einer Seitenkette einschließt, so dass Abschnitte von den Ketten vernetzt werden. Eine lichtempfindliche oder eine wärmeempfindliche Schicht kann auch auf dieser Schicht bereitgestellt werden. Als diese Polymerverbindung mit einer Sulfonsäuregruppe in einer Seitenkette, so dass die Abschnitte von den Ketten vernetzt werden, ist eine Polymerverbindung, die durch Vernetzen mit einem Vernetzungsmittel oder dergleichen von Seitenketten der Polymerverbindungen, die eine Sulfonsäuregruppe/Sulfonsäuregruppen besitzen oder die eine Gruppe/Gruppen besitzen, die mit Sulfonsäurevorläufergruppen oder Vernetzungsmitteln reagieren können, günstig. In diesen Fällen, in denen ein Polymer mit einer Gruppe/Gruppen, die mit Sulfonsäurevorläufergruppen oder Vernetzungsmitteln reagieren kann, verwendet wird, ist es notwendig, Sulfonsäuregruppen mit Wärmedispersion zu erzeugen.
Das heißt, es ist günstig, (1) eine Schicht, die das Reaktionsprodukt einer hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung der vorstehend beschriebenen Formel (1) und einer Verbindung mit im gleichen Molekül mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist, und mindestens einer funktionalen Gruppe, die aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃ [worin R_a23 und R_a24 jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe darstellen, und worin R_a23 und R_a24 gleich oder verschieden in Fällen sein können, worin sowohl R_a23 als auch R_a24 in der Verbindung vorhanden sind] ausgewählt ist, (2) eine Schicht, die ein hydrolytisches Polymerisationsprodukt der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung der vorstehenden Formel (1) und eine Verbindung mit mindestens einer funktionalen Gruppe (funktionalen Gruppe (a-1)), die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist, und/oder (3) eine Schicht auf einem Träger, der aus jeder der vorstehend beschriebenen Schichten zusammengesetzt ist und ferner die wasserunlöslichen Teilchen enthält, Unterziehen dieser Schicht einer thermischen Behandlung und Verwenden dieser Schicht als die hydrophile Schicht mit erzeugten Sulfonsäuren.
Zudem kann die hydrophile Eigenschaft, die durch die hydrophile Gruppe der vorstehend beschriebenen spezifischen Verbindung hervorgerufen wird, verwirklicht werden, und da die Verbindung unter Verwendung des Vernetzungsmittels, wie etwa Tetraalkoxysilan und dergleichen, vernetzt ist, um den Film aus einer Verbindung mit hohem Molekulargewicht zu härten, kann die Schicht, die beim Bearbeiten nicht abgelöst wird und die Flachdruck-Originalplatte, die unter schwierigen Druckbedingungen nicht verschmutzt wird, erhalten werden. Zudem wird durch Einbauen der wasserunlöslichen Teilchen, die vorstehend in der Schicht beschrieben wurden, die die Verbindung mit hohem Molekulargewicht enthält, die eine Sulfonsäuregruppe in einer Seitenkette besitzt, so dass die Abschnitte von den Ketten vernetzt werden, eine Ungleichförmigkeit auf der Oberfläche der hydrophilen Schicht erzeugt und die Wasserzurückhaltungseigenschaft wird verbessert, wodurch die hydrophile Eigenschaft erhöht wird, was geeignet ist.
Zudem ist es bei einer herkömmlichen Flachdruck-Originalplatte, die keine Schicht mit einer hydrophilen Eigenschaft erzeugt, notwendig, den Träger selbst hydrophil zu machen und sogar in einem Träger, der Aluminium verwendet und eine hydrophile Eigenschaft besitzt, kann die hydrophile Eigenschaft zur tatsächlichen Verwendung nicht ausreichend ohne Anwendung einer Oberflächenbehandlung erhalten werden. Andererseits können, da die Flachdruck-Originalplatte mit der erzeugten hydrophilen Schicht eine starke Schicht mit einer hohen hydrophilen Eigenschaft auf dem Träger besitzt, verschiedene Arten von Trägern leicht ohne Bedarf einer Vorbehandlung, wie etwa einer Oberflächenbehandlung, verwendet werden.
In der strahlungsempfindlichen Flachdruck-Druckplatte mit einer solchen hydrophilen Schicht wird eine strahlungsempfindliche Aufzeichnungsschicht, wie etwa eine lichtempfindliche Schicht oder eine wärmeempfindliche Schicht, auf der hydrophilen Schicht gebildet. Als die strahlungsempfindliche Aufzeichnungsschicht kann eine Schicht, die eine empfindliche Zusammensetzung vom positiven Typ oder eine empfindliche Zusammensetzung vom negativ arbeitenden Typ enthält, in geeigneter Weise gemäß den Zwecken ausgewählt werden.
Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
Die folgenden Beispiele sollen die vorliegende Erfindung praktischer veranschaulichen, aber diese in keiner Weise begrenzen.
Beispiele 1 und 2, Vergleichsbeispiele 1 und 2
[Herstellung des Trägers]
Nach dem Waschen einer Aluminiumplatte (Qualität 1050) mit einer Dicke von 0,30 mm mit Trichlorethylen und Entfetten der Platte, wurde die Oberfläche der Aluminiumplatte unter Verwendung von Nylonbürsten und einer wässrigen Suspension aus Bimsstein mit Maschenzahl 400 gekörnt und gut mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde in eine wässrige Lösung aus 25%igem Natriumhydroxid bei 45°C 9 Sekunden eingetaucht, um Ätzen durchzuführen und danach mit Wasser gewaschen, die Platte wurde ferner in einer wässrigen Lösung aus 2%iger HNO₃ 20 Sekunden eingetaucht, gefolgt vom Waschen mit Wasser. In diesem Fall betrug die abgetragene Menge auf der gekörnten Oberfläche ungefähr 3 g/m². Dann wurde die Platte einer anodischen Oxidation unter Verwendung einer wässrigen Lösung aus 7%iger H₂SO₄ als ein Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm² zur Erzeugung eines DC-anodisch oxidierten Films mit 2,4 g/m² unterzogen und dann mit Wasser gewaschen und getrocknet.
[Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit für bilderzeugendes Material]
Nach dem Platzieren von 4 g Tetraethoxysilan und 10 g Methylethylketon in einem Reaktionsbehälter wurden 1,4 g wässrige Lösung aus 0,05 N Salzsäure hinzugegeben, gefolgt von heftigem Rühren zum Hervorrufen einer partiellen hydrolytischen Polymerisation, wodurch eine gleichförmige Lösung aus einer anorganischen Komponente erhalten wurde.
Dann wurden durch Auflösen der folgenden Komponenten in der Lösung Beschichtungsflüssigkeiten A-1 und A-2 für Beispiele 1 und 2 jeweils erhalten. In diesem Fall wurde die Beschichtungsflüssigkeit A-1 unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Verbindung (1-1) hergestellt und die Beschichtungsflüssigkeit A-2 wurde unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Verbindung (1-2) hergestellt.

Verbindung (1-1) oder (1-2) 3 g

IR-Absorptionsmittel IR 125 (hergestellt 0,15 g

von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

Methylethylketon 9 g

γ-Butyrolacton 6 g
Darüber hinaus wurden in den Vergleichsbeispielen, durch Befolgen des gleichen Verfahrens wie bei der Herstellung der Beschichtungsflüssigkeit A-1 und A-2 für Beispiele 1 und 2, bis darauf, dass Tetraethoxysilan und Salzsäure nicht zugegeben wurden, Beschichtungsflüssigkeiten B-1 und B-2 für Vergleichsbeispiele 1 und 2 erhalten.
[Herstellung der Flachdruck-Originalplatte]
Dann wurde jede der Beschichtungsflüssigkeiten A-1, A-2, B-1 und B-2 für bilderzeugende Materialien, die so erhalten wurden, auf den vorstehend beschriebenen Träger beschichtet und bei 80°C 3 Minuten getrocknet, und so Flachdruck-Originalplatten [A-1], [A-2], [B-1] und [B-2] erhalten. Jede beschichtete Menge der beschichteten Schicht nach dem Trocknen betrug 1,0 g/m². Zudem wird der Wert des Wassertropfen-Kontaktwinkels in der Luft von jeder Flachdruck-Originalplatte vor und nach der Belichtung in nachstehender Tabelle 1 gezeigt. Der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft wurde unter Verwendung eines CONTACT ANGLE METER CA-Z, hergestellt von Kyouwa Kaimen Kagaku K.K. gemessen.
[Drucktest]
Jede der erhaltenen Flachdruck-Originalplatten [A-1], [A-2], [B-1] und [B-2] wurde durch einen YAG-Laser bildweise belichtet, der IR-Strahlen mit einer Wellenlänge von 1064 nm emittierte.
Jede der Flachdruck-Originalplatten [A-1], [A-2], [B-1] und [B-2] wurde nach Belichtung wie sie war zum Drucken unter Verwendung von Hidel SOR-M verwendet. In diesem Fall wurde die Erzeugung von Flecken an Nicht-Bildabschnitten der Drucke beobachtet. Zudem wurde Drucken von vielen Drucken durchgeführt und die Anzahl von Drucken, die ohne Erzeugung von Flecken an Nicht-Bildabschnitten bedruckt werden konnte, wurde bestätigt, was als eine Druckpressenlaufanzahl definiert wurde. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 1 gezeigt.
Beispiele 3 bis 8, Vergleichsbeispiele 3 und 4

Jede der Verbindungen (1-3) bis (1-8) 3 g

Tetraethoxysilan 1 g

Methylethylketon 9 g
Zu jeder der Lösungen, die aus den vorstehend beschriebenen Zusammensetzungen hergestellt war, wurden 0,3 g Wasser/85% Phosphorsäure (gemischte Lösung von 1/1, bezogen auf das Gewicht) zugegeben und die Reaktionen wurden 1 Stunde bei Raumtemperatur durchgeführt. Dann wurde zu den Lösungen die folgende Zusammensetzung gegeben:

IR-Absorptionsmittel IR 125 (hergestellt von Wako 0,15 g

Pure Chemical Industries, Ltd.)

Methylethylketon 9 g

γ-Butyrolacton 6 g
Danach wurde das Ergebnis unter Rühren vermischt und so gleichförmige Beschichtungsflüssigkeiten A-3 bis A-8 für Beispiele 3 bis 8 bereitgestellt.
In diesem Fall wurde die Beschichtungsflüssigkeit A-3 unter Verwendung der vorstehend beschriebenen Verbindung (1-3) hergestellt, und auf ähnliche Weise wurden die Beschichtungsflüssigkeiten A-4 bis A-8 jeweils unter Verwendung der Verbindung (1-4) bis (1-8 hergestellt.
Darüber hinaus wurden als die Vergleichsbeispiele durch Befolgen der gleichen Verfahren zum Herstellen der Beschichtungsflüssigkeiten A-3 bis A-4 für Beispiele 3 und 4 mit der Ausnahme, dass kein Tetraethoxysilan zugegeben wurde, die Beschichtungsflüssigkeiten B-3 und B-4 für Vergleichsbeispiele 3 und 4 erhalten.
Durch Beschichten auf die gleiche Art von Träger, der in Beispiel 1 erhalten wurde, wurde jede der Beschichtungsflüssigkeiten, die auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 erhalten wurden, Flachdruck-Originalplatten [A-3] bis [A-8], [B-3] und [B-4] erhalten. Das Beschichtungsgewicht von jeder der beschichteten Schichten nach dem Trocknen betrug 1,4 g/m². Zudem wird der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft von jeder der Flachdruck-Originalplatten vor und nach der Belichtung in nachstehender Tabelle 2 gezeigt. Das Messgerät für den Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft war das gleiche wie dasjenige in Beispiel 1.
Für jede der erhaltenen Fachdruck-Originalplatten [A-3] bis [A-8], [B-3] und [B-4] wurde der Drucktest mit dem gleichen verfahren wie in Beispiel 1 durchgeführt. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 2 gezeigt.
Beispiele 9 und 10

Verbindung (1-9) oder (1-10) 3 g

Tetramethoxysilan 1 g

Methylethylketon 9 g
Zu der aus der vorstehenden Zusammensetzung hergestellten Lösung wurden 0,3 g Wasser/85%ige Phosphorsäure (gemischte Lösung aus 1/1, bezogen auf das Gewicht) gegeben und die Reaktion wurde für 1 Stunde bei Raumtemperatur durchgeführt.
Zu dieser Lösung wurde die folgende Zusammensetzung gegeben, gefolgt vom Vermischen unter Rühren und so jeweils Beschichtungsflüssigkeiten A-9 und A-10 für Beispiele 9 und 10 bereitgestellt.

Säureerzeugendes Mittel: 4-[4-{(N,N-Di(chlor 0,15 g

ethyl)}-2-chlorphenyl]-2,6-bistrichlormethyl-S-

triazin (PAG2-5)

Methylethylketon 9 g

γ-Butyrolacton 6 g
In diesem Fall wurde die Beschichtungsflüssigkeit A-9 unter Verwendung der Verbindung (1-9) hergestellt und die Beschichtungsflüssigkeit A-10 unter Verwendung der Verbindung (1-10). Zudem wurde das säureerzeugende Mittel PAG2-5 durch das folgende Verfahren synthetisiert.
[Synthese von PAG2-5]
55,52 g (0,2 mol) N,N-Bis(2-chlorethyl)-3-chlor-4-cyanoanilin, 173,28 g (1,2 mol) Trichloracetonitril, 21,63 g (0,2 mol) Anisol und 100 ml Dibrommethan wurden in einen Dreihalskolben gefüllt und 13,34 g (0,05 mol) Aluminiumtribromid wurden zu der Mischung unter Rühren gegeben. Dann wurde unter Beibehaltung der Innentemperatur bei 43 bis 46°C ein Salzsäuregas eingeführt. Nach Fortsetzen der Einführung des Salzsäuregases für 4 Stunden und unter Beibehaltung der gleichen Temperatur, wurden 173,28 g (1,2 mol) Trichloracetonitril und 13,34 g (0,05 mol) Aluminiumtribromid zugegeben, und die Einführung des Salzsäuregases wurde 8 Stunden fortgesetzt. Danach wurde die Einführung des Salzsäuregases gestoppt. Nach Rühren der Reaktionsmischung für 9 Stunden bei einer Innenseitentemperatur von 43 bis 46°C wurde das Rühren gestoppt. und die Reaktionsmischung wurde 24 Stunden stehen gelassen. Danach wurde das Lösungsmittel unter reduziertem Druck abdestilliert und das Reaktionsprodukt wurde unter Verwendung von 2 Liter Ethylacetat extrahiert. Nach dem Waschen des Extrakts dreimal mit einem 1 Liter Wasser wurde das Produkt unter reduziertem Druck konzentriert. Dann wurde nach Zugabe von 1000 ml Ethanol und 500 ml einer gesättigten wässrigen Lösung aus Natriumhydrogencarbonat zu der konzentrierten Flüssigkeit die Mischung 4 Stunden gerührt. Die erzeugten Kristalle wurden durch Filtration gesammelt und nach dem Waschen unter Verwendung von 250 ml Wasser und 500 ml Ethanol wurden die Kristalle getrocknet. Die Menge des erhaltenen Produkts betrug 71 g (Ausbeute 63%).
Durch Beschichten jeder der Beschichtungsflüssigkeiten A-9 und A-10 auf die gleiche Art von Träger, der in Beispiel 1 erhalten wurde, wurden unter Verwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 die Flachdruck-Originalplatten [A-9] und [A-10] erhalten. Das Beschichtungsgewicht von jeder der beschichteten Schichten nach dem Trocknen betrug 1,0 g/m². Zudem betrug der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft von jeder Flachdruck-Originalplatte vor und nach der Belichtung 1,0 g/m². Das Messgerät für den Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft war das gleiche wie dasjenige in Beispiel 1.
Jede der Flachdruck-Originalplatten [A-9] und [A-10] wurde bildweise mit UV-Strahlen unter Verwendung eines Belichtungsgeräts für PS-Platten mit einer Metallhalogenidlampe als die Lichtquelle belichtet. Nach Belichtung wurde jeder der Flachdruck-Originalplatten [A-9] und [A-10] 3 Minuten bei 100°C wärmebehandelt, und danach wurde die Bewertung der Anzahl von Drucken durch das gleiche Verfahren wie in Beispiel 1 durchgeführt. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 3 gezeigt.
Beispiele 11 bis 14
In Beispielen 11 bis 14 wurde das Polymer für jede veranschaulichte Verbindung, wie nachstehend gezeigt, ausgewählt und 40 g einer wässrigen Lösung aus 50% Phosphorsäure wurde zu einer Lösung aus 0,4 g von jedem Polymer, 0,4% Tetraethoxysilan (Vernetzungsmittel), 40 mg IRG 22 (IR-Absorptionsmittel, hergestellt von Nippon Kayaku Co., Ltd.) und 1,6 g Methylethylketon gegeben und die Mischung wurde 10 Minuten gerührt. Danach wurden zu der Lösung 4 g einer 10%igen Methylethylketondispersion aus Siliziumdioxidgelteilchen (Silicia #445, Handelsname, hergestellt von Nippon Silisia Kagaku K.K., Teilchengröße, gemessen durch das Kohlenzählverfahren: 3,5 μm) gegeben, durch eine Farbmischvorrichtung unter Verwendung von Glasperlen zur Erzeugung einer Beschichtungsflüssigkeit dispergiert, und die Flüssigkeit wurde auf PET-Substrat beschichtet, deren Oberfläche einer Koronaentladungsbehandlung unter Verwendung eines Drahtstabs #20 unterzogen wurde.
Nach der bildweisen Belichtung von jeder der wärmeempfindlichen Flachdruck-Originalplatten unter Verwendung einer Pearl-Einstellvorrichtung (IR-Laser mit einer Oszillationswellenlänge von 908 nm, Leistung 1,2 W, hergestellt von Presstek Co.) bei einer Abtastgeschwindigkeit von 2 m/s wurden die Platten 12 Stunden bei Raumtemperatur stehen gelassen und dann auf eine Druckmaschine ohne Anwendung irgendwelcher Nachbehandlung montiert und Drucken wurde durchgeführt. Als die Druckmaschine wurde Ryoubi 3200 verwendet, als die Wischlösung wurde eine 1/100-verdünnte Flüssigkeit aus RU-3 verwendet, und als die Tinte wurde eine Tinte F Gloss "sumi" verwendet. Von jeder der vier Arten der verwendeten Verbindungen wurden klare Drucke ohne Flecken erhalten, wenn 1000 Blätter gedruckt wurden.

[Beispiel] [veranschaulichte Verbindung] [Flecken]

11 1-4 keine

12 1-11 keine

13 1-13 keine

14 1-9 keine
Beispiele 15 bis 18
Zu einer Lösung, die aus 0,4 g Polymer 1-11, als die veranschaulichte Verbindung, 0,4 g Tetraethoxysilan (Vernetzungsmittel), 40 mg IRG 22 (IR-Absorptionsmittel, hergestellt von Nippon Kayaku Co. Ltd.) und 1,6 g Methylethylketon hergestellt war, wurden 40 mg wässrige Lösung aus 50% Phosphorsäure gegeben und die Mischung wurde 10 Minuten gerührt. Danach wurde zu der Dispersion 4 g aus einer 10%igen Methylethylketonlösung aus Teilchen (A bis D) gegeben, unter Verwendung einer Farbschüttelvorrichtung unter Verwendung von Glasperlen zur Erzeugung einer Beschichtungsflüssigkeit dispergiert, und die Flüssigkeit wurde auf ein PET-Substrat beschichtet und einer Korona-Entladungsbehandlung unter Verwendung eines Drahtstabs #20 unterzogen.

Jede der wärmeempfindlichen Flachdruck-Originalplatten wurde wie in Beispielen 11 bis 14 belichtet und Drucken wurde ohne Bearbeitung (Entwicklung) durchgeführt. Die Druckergebnisse von 1000 Blättern werden nachstehend gezeigt.

Beispiel	Teilchen (mittlere Teilchengröße μm)	Flecken (1000. Druck)
15	A: TiO₂ Rutil (1,0)	keine
16	B: Al₂O₃ (2,3)	keine
17	C: SiO₂ (1,8)	keine
18	D: vernetztes Acrylharz Microgel (0,5)	keine

Beispiele 19 und 20
[Herstellung des Trägers]
Nach dem Waschen einer Aluminiumplatte (Qualität 1050) mit einer Dicke von 0,30 mm mit Trichlorethylen und Entfetten wurde deren Oberfläche unter Verwendung von Nylonbürsten und einer wässrigen Suspension aus Bimsstein mit Maschenzahl 400 gekörnt und die Platte wurde gut mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde in eine wässrige Lösung aus 25% Natriumhydroxid mit einer Temperatur von 45°C 9 Sekunden zum Durchführen von Ätzen eingetaucht, und nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte in eine wässrige Lösung aus 2% HNO₃ für 20 Sekunden eingetaucht und mit Wasser gewaschen. In diesem Fall betrug die abgetragene Menge der gekörnten Oberfläche ungefähr 3 g/m². Dann wurde die Platte einer anodischen Oxidation unter Verwendung von 7% H₂SO₄ als der Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm² zur Erzeugung eines DC-anodischoxidierten Films von 2,4 g/m² unterzogen und dann mit Wasser gewaschen.
[Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit für Bilderzeugungsmaterial]

Nach dem Füllen von 4 g Tetraethoxysilan und 10 g Methylethylketon in einen Reaktionsbehälter wurden 1,4 g einer 0,05 N Salzsäure hinzugegeben und die Mischung wurde heftig gerührt und so eine partielle hydrolytische Polymerisation hervorgerufen, wodurch eine gleichförmige Lösung aus anorganischen Komponenten erhalten wurde. In der Lösung wurde jede der folgenden Zusammensetzungen aufgelöst, und so Beschichtungsflüssigkeiten 19 und 20 erhalten.

Verbindung (1-11) oder (1-17)	3 g
IR-Absorptionsmittel IR 125 (hergestellt von Wako	0,15 g
Pure Chemical Industries, Ltd.)
Methylethylketon	9 g
γ-Butyrolacton	6 g
10% Methylethylketon-Dispersion aus Siliziumdioxid-	4 g
gelteilchen (Silicia #445)

[Herstellung einer Flachdruck-Originalplatte]
Dann wurde jede der erhaltenen Beschichtungsflüssigkeit auf den vorstehend beschriebenen Träger beschichtet und 3 min bei 80°C getrocknet und so jede der Flachdruck-Originalplatten für Beispiele 19 und 20 erhalten. Das Beschichtungsgewicht der beschichteten Schicht nach dem Trocknen betrug 1,0 g/m². Zudem wird der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft von jeder Flachdruck-Originalplatte vor und nach Belichtung in nachstehender Tabelle 4 gezeigt. Der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft wurde unter Verwendung eines CONTACT ANGLE METER CA-Z, hergestellt von Kyowa Kaimen Kagaku K.K. gemessen.
[Drucktest]
Jede der 4 erhaltenen Flachdruck-Originalplatten wurde bildweise mit einem YAG-Laser, der IR-Strahlen mit einer Wellenlänge von 1064 nm emittierte, belichtet. Die Flachdruck-Originalplatte nach der Belichtung wurde in einen Drucker, hergestellt von Harris CO., Ltd., ohne Nachbehandlung gestellt, wobei eine Tinte Gross "sumi" (hergestellt von DIC Co., Ltd.) und ein Benetzungswasser aus 10%igem wässrigem Isopropanol verwendet wurde. In diesem Fall wurde beobachtet, ob Flecken an den Nicht-Bildabschnitten der Drucke erzeugt wurden oder nicht. In jedem Fall wurden in der anfänglichen Stufe gute Drucke ohne Flecken an den Nicht-Bildabschnitten erhalten. Zudem wurden viele Drucke gedruckt und die Anzahl der Drucke, die ohne Erzeugung von Flecken an den nicht-gedruckten Abschnitten gedruckt werden konnte, wurde bestätigt, die als der Drucklauf definiert wurde. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 4 gezeigt.
Beispiele 21 und 22

Verbindung (1-9) oder (1-10) 3 g

Tetramethoxysilan 1 g

Methylethylketon 9 g

Zu der Lösung, die aus der vorstehenden Zusammensetzung hergestellt wurde, wurden 0,3 g Wasser/85%ige Phosphorsäure (gemischte Flüssigkeit aus 1/1, bezogen auf das Gewicht) gegeben und die Reaktion wurde 1 Stunde bei Raumtemperatur durchgeführt. Dann wurde zu der Lösung die folgende Zusammensetzung gegeben, gefolgt von Vermischen unter Rühren zum Erhalt der gleichförmigen Beschichtungsflüssigkeiten für Beispiele 21 und 22.

säureerzeugendes Mittel: 4-[4-{(N,N-	0,15 g
Di(chlorethyl)amino)-2-chlorphenyl}-2,6-bis-
trichlormethyl-S-triazin]
Methylethylketon	9 g
γ-Butyrolacton	6 g
10% Methylethylketon-Dispersion aus	4 g
Siliziumdioxidgelteilchen (Silicia #445)

Durch Beschichten jeder erhaltenen Beschichtungsflüssigkeit auf die gleiche Art von Träger, der in Beispiel 9 unter Verwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 9 erhalten wurde, wurde jede Flachdruck-Originalplatte erhalten. Das beschichtete Gewicht der beschichteten Schicht nach dem Trocknen betrug 1,0 g/m². Zudem wird der Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft von jeder Flachdruck-Originalplatte in nachstehender Tabelle 5 gezeigt. Das Messgerät für den Wassertropfen-Kontaktwinkel in der Luft war das gleiche wie dasjenige, das in Beispiel 9 verwendet wurde.
Jede der zwei Arten der erhaltenen Flachdruck-Originalplatten wurde bildweise mit UV-Strahlen unter Verwendung eines Belichtungsgeräts für PS-Platten unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe als die Lichtquelle belichtet. Nach der Wärmebehandlung der belichteten Flachdruck-Originalplatte bei 100°C für 3 Minuten wurden Drucken von vielen Drucken und die Bewertung auf die gleiche Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Die Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 5 gezeigt. Die gleichen Effekte wie in Beispielen 11 bis 20 wurden erhalten.
Beispiele 23 und 24, Vergleichsbeispiel 5
[Herstellung des Trägers]
Nach dem Waschen einer Aluminiumplatte (Qualität 1050) mit einer Dicke von 0,30 mm mit Trichlorethylen und Entfetten wurde deren Oberfläche unter Verwendung von Nylonbürsten und einer wässrigen Suspension aus Bimsstein mit Maschenzahl 400 gekörnt und die Platte wurde gut mit Wasser gewaschen. Die Platte wurde in eine wässrige Lösung aus 25% Natriumhydroxid mit einer Temperatur von 45°C 9 Sekunden zum Durchführen von Ätzen eingetaucht, und nach dem Waschen mit Wasser wurde die Platte in eine wässrige Lösung aus 2% HNO₃ für 20 Sekunden eingetaucht und mit Wasser gewaschen. In diesem Fall betrug die abgetragene Menge der gekörnten Oberfläche ungefähr 3 g/m².
Dann wurde die Platte einer anodischen Oxidation unter Verwendung von 7% H₂SO₄ als der Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm² zur Erzeugung eines DC-anodischoxidierten Films von 2,4 g/m² unterzogen und dann mit Wasser gewaschen. [Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit für Bilderzeugungsmaterial]

Verbindung (1-1) oder (1-2) 4 g

Tetramethoxysilan 4 g

Methanol 18 g
Zu der Lösung, die aus der vorstehenden Zusammensetzung hergestellt war, wurde 0,2 g 1 N Salzsäure gegeben und die Mischung wurde 3 Stunden bei 60°C gerührt und so eine hydrolytische Polymerisation hervorgerufen, wodurch eine gleichförmige Lösung aus anorganischen Komponenten erhalten wurde. Dann wurden in der Lösung 0,15 g IR-Absorptionsmittel (IR 125, hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) aufgelöst und so eine Beschichtungsflüssigkeit A-1 für eine lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht für Beispiel 23 und eine Beschichtungsflüssigkeit A-2 für eine lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht für Beispiel 24 erhalten. Zudem wurde in der vorstehend beschriebenen Beschichtungsflüssigkeit A-1 für die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht die Verbindung (1-1) verwendet, und in der vorstehend beschriebenen Beschichtungsflüssigkeit A-2 wurde die Verbindung (1-2) verwendet.
Zudem wurde als Vergleichsbeispiel 5 durch Befolgen des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 23 und Beispiel 24 bis darauf, dass das Copolymer aus Tetrahydropyran-2-ylmethacrylat und Methacryloxypropyltrimethoxysilan anstelle der Verbindungen (1-1) und (1-2) verwendet wurde, eine Beschichtungsflüssigkeit B-1 für eine lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht für Vergleichsbeispiel 5 hergestellt.
[Herstellung der lichtempfindlichen Flachdruck-Originalplatte]
Dann wurde jede der Beschichtungsflüssigkeiten A-1, A-2 und B-1 auf den vorstehend beschriebenen Träger beschichtet und 1 Minute bei 80°C getrocknet und so lichtempfindliche Flachdruck-Originalplatten [A-1], [A-2] und [B-1] erhalten.
[Stabilitätstest]
Zur Bestimmung der Stabilität der lichtempfindlichen Flachdruck-Originalplatte wurde die Tintenaufnahmefähigkeit beim Drucken der Probe direkt nach der Herstellung jeder lichtempfindlichen Flachdruck-Originalplatte und der Probe nach dem Lagern für 3 Tage bei einer Feuchtigkeit von 75 und bei 45°C bestimmt.

Für die Messung der Tintenaufnahmefähigkeit beim Drucken wurde die Probe bildweise durch einen YAG-Laser belichtet, der IR-Strahlen mit einer Wellenlänge von 1064 nm emittierte, und nach dem Stehenlassen für 1 Tag wurde die Probe zum Drucken durch eine Druckmaschine (Hidel SOR-M, hergestellt von Heidelberg Co.) verwendet, beim Beginn des Druckens wurde die Anzahl der Drucke bis Tinte anhaftete, bestätigt. Die Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 6 und Tabelle 7 gezeigt. Tabelle 6 [Direkt nach Herstellung des bilderzeugenden Materials]

Beispiel oder Vergleichsbeispiel	Art der Flachdruck-Originalplatte	Anzahl von Drucken bis zur Anhaftung von Tinte
Beispiel 23	[A-1]	10
Beispiel 24	[A-2]	10
Vergleichsbeispiel 5	[B-1	10

Tabelle 7 [Nach Aufbewahrung für 3 Tage bei einer Feuchtigkeit von 75 und bei einer Temperatur von 45°C]

Beispiel oder Vergleichsbeispiel	Art der Flachdruck-Originalplatte	Anzahl von Drucken bis zur Anhaftung von Tinte
Beispiel 23	[A-1]	10
Beispiel 24	[A-2]	10
Vergleichsbeispiel 5	[B-1]	keine Anhaftung

Beispiel 25 und Vergleichsbeispiel 6

Verbindung (1-3)	4 g
Tetraethoxysilan	4 g
Methanol	18 g

Zu der Lösung der vorstehenden Zusammensetzung wurden 0,2 g 1 N Salzsäure gegeben und die Mischung wurde 3 Stunden bei 60°C zum Hervorrufen einer hydrolytischen Polymerisation gerührt und so eine gleichförmige Lösung aus anorganischen Komponenten erhalten. Dann wurden zu der Lösung 0,15 g 4-[4-{(N,N-Di(ethoxycarbonylmethyl)amino)phenyl}-2,9-bistrichlomethyl-S-triazin] als ein durch Licht eine Säure erzeugendes Mittel gegeben, gefolgt vom Vermischen unter Rühren zur Herstellung einer gleichförmigen Beschichtungsflüssigkeit A-3 für die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht für Beispiel 25. Darüber hinaus wurde als Vergleichsbeispiel 6 durch Befolgen des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 25 bis darauf, dass ein Copolymer aus Tetrahydropyran-2-ylmethacrylat und Methacryloxypropyltrimethoxysilan verwendet wurde, eine Beschichtungsflüssigkeit B-2 für die lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht für Vergleichsbeispiel 6 hergestellt.
[Druckpressenlauf und Verschmutzungseigenschaftstest]
Durch Beschichten der Beschichtungsflüssigkeit für jede lichtempfindliche Aufzeichnungsschicht auf die gleiche Art von Träger wie in Beispiel 1 unter Verwendung des gleichen Verfahrens wie in Beispiel 1 wurden lichtempfindliche Flachdruck-Originalplatten [A-3] und [B-2] erhalten. Die Beschichtungsmenge von jeder beschichteten Schicht nach dem Trocknen betrug 1,0 g/m².
Jede der lichtempfindlichen Flachdruck-Originalplatten [A-3] und [B-2] wurde bildweise durch UV-Strahlen unter Verwendung des Belichtungsgeräts für PS-Platten mit einer Metallhalogenidlampe als die Lichtquelle belichtet.
Nach der Belichtung wurde jede Probe 3 Minuten bei 100°C zur Herstellung jeder lichtempfindlichen Flachdruck-Druckplatte wärmebehandelt. Jede Probenplatte wurde zum Drucken wie sie war durch eine Druckmaschine (Hidel SOR-M, hergestellt von Heidelberg Co.) verwendet. In diesem Fall wurden viele Drucke gedruckt und nach dem Drucken von 10 000 Drucken wurden das Verschmieren der Bildabschnitte der Drucke und die Flecken als die Nicht-Bildabschnitte bestimmt. Die erhaltenen Ergebnisse werden in nachstehender Tabelle 8 gezeigt. Tabelle 8

Beispiel oder Vergleichsbeispiel Art der Flachdruck-Orignalplatte Verwischen des Bildabschnitts Flecken an Nicht-Bildabschnitt

Beispiel 25 [A-3] nein nein

Vergleichsbeispiel 6 [B-1] nein ja
Wie vorstehend beschrieben, können strahlungsempfindliche Flachdruck-Druckplatten, die mit Wasser bearbeitet werden können oder keine spezifischen Behandlungen, wie etwa Entwicklungsbehandlung, Abreiben und dergleichen nach der Bildbeschreibung erfordern, bereitgestellt werden.
Insbesondere können erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Flachdruck-Druckplatten, die direkt aus digitalen Daten durch Aufzeichnen unter Verwendung eines Feststofflasers oder eines Halbleiterlasers, die IR-Strahlen emittieren, hergestellt werden können, bereitgestellt werden.
Zudem kann erfindungsgemäß eine strahlungsempfindliche Flachdruck-Druckplatte vom positiven Typ mit herausragender Druckhaltbarkeit bereitgestellt werden.

Claims

Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer, der eine fotoempfindliche Schicht umfaßt, die ein Produkt enthält, das erhältlich ist durch hydrolytische Polymerisation einer hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung, die durch die folgende Formel (1) repräsentiert wird: (R₁₁)_n-X-(OR₁₂)_4-n (1)worin R₁₁ und R₁₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe repräsentieren; X Si, Ti oder Zr repräsentiert; und n eine ganze Zahl von 0 bis 2 repräsentiert, und/oder einer oder mehrerer Verbindungen, die aus Trimethoxyaluminat, Triethoxyaluminat, Tripropoxyaluminat, Chlortrimethoxytitanat, Chlortriethoxytitanat, Chlortrimethoxyzirconat, Chlortriethoxyzirconat, Trimethoxysilan, Triethoxysilan und Tripropoxysilan ausgewählt ist/sind, in der Gegenwart einer Verbindung, die zumindest eine funktionelle Gruppe (a-1) aufweist, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe ausgewählt ist.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1, worin die Verbindung, die die funktionelle Gruppe (a-1) aufweist, ferner zumindest eine funktionelle Gruppe (a-2) aufweist, die ausgewählt ist aus -OH, -NH₂, -COOH, -NH-CO-R_a23 und -Si(OR_a24)₃, worin R_a23 und R_a24 jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe repräsentieren, und worin R_a23 und R_a24 in den Fällen, in denen sowohl R_a23 als auch R_a24 in der Verbindung vorhanden sind, gleich oder verschieden sein können.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 1 oder 2, worin die fotoempfindliche Schicht ferner eine Vielzahl von wasserunlöslichen Partikeln enthält.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 3, worin die Oberflächen einer Vielzahl der wasserunlöslichen Partikel mit einer Zusammensetzung bedeckt sind, die das hydrolytische Polymerisationsprodukt aufweist, wodurch Teile der wasserunlöslichen Partikel aneinander anhaften und eine fotoempfindliche Schicht mit Hohlräumen gebildet wird.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 3, worin die wasserunlöslichen Partikel aus anorganischen Partikeln, organischen Partikeln und Metallpartikeln ausgewählt sind.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 3, worin die wasserunlöslichen Partikel eine Licht/Wärme-Umwandlungswirkung zum Umwandeln der Strahlungsenergie in Wärme und die Eigenschaft aufweisen, eine auto-exotherme Reaktion unter Verwendung der Wärme als Auslöser zu initiieren.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 6, worin die Partikel, die eine Licht/Wärme-Umwandlungswirkung zum Umwandeln der Strahlungsenergie in Wärme und die Eigenschaft aufweisen, eine auto-exotherme Reaktion unter Verwendung der wärme als Auslöser zu initiieren, Partikel sind, die zumindest eine Art von Metall, oder zumindest eine Art von Metall und zumindest eine Art von Metallverbindung, die aus Metalloxiden, Metallnitriden, Metallsulfiden und Metallcarbiden ausgewählt ist, umfassen.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer, der eine fotoempfindliche Schicht umfaßt, die ein Produkt enthält, das durch hydrolytische Polymerisation einer hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung erhältlich ist, die durch folgende Formel (1-S) repräsentiert wird: (R^1s2)_l(OR^1s3)_3-1-Si-L-(SO₃R^1s1)_m (1-S)worin R^1s1 eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine cyclische Imidgruppe repräsentiert; R^1s2 und R^1s3, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe repräsentieren; L eine zweiwertige organische Verknüpfungsgruppe repräsentiert; l eine ganze Zahl von 0 bis 2 repräsentiert; und m 1 repräsentiert.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 8, worin die fotoempfindliche Schicht ein Produkt enthält, das erhältlich ist durch hydrolytische Polymerisation von (i) der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung, die durch die folgende Formel (1) repräsentiert wird: (R₁₁)_n-X-(OR₁₂)_4-n (1)worin R₁₁ und R₁₂, die gleich oder verschieden sein können, jeweils eine Alkylgruppe oder eine Arylgruppe repräsentieren; X Si, Ti oder Zr repräsentiert; und n eine ganze Zahl von 0 bis 2 repräsentiert, und/oder einer oder mehrerer Verbindungen, die aus Trimethoxyaluminat, Triethoxyaluminat, Tripropoxyaluminat, Chlortrimethoxytitanat, Chlortriethoxytitanat, Chlortrimethoxyzirconat, Chlortriethoxyzirconat, Trimethoxysilan, Triethoxysilan und Tripropoxysilan ausgewählt ist/sind; und (ii) der hydrolytisch polymerisierbaren Verbindung, die durch die Formel (1-S) repräsentiert wird.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 6, worin die wasserunlöslichen Partikel, die eine Licht/Wärme-Umwandlungswirkung zum Umwandeln der Strahlungsenergie in Wärme und die Eigenschaft aufweisen, eine auto-exotherme Reaktion unter Verwendung der Wärme aus Auslöser zu initiieren, zumindest eine Art von Metall oder zumindest eine Art von Metallverbindung, ausgewählt aus Metalloxiden, Metallnitriden, Metallsulfiden und Metallcarbiden, umfassen.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 3, worin die wasserunlöslichen Partikel oberflächenmodifizierte Partikel sind, worin (eine) Gruppe(n), die sich aufgrund von Strahlung oder Wärme von einer hydrophoben Eigenschaft zu einer hydrophilen Eigenschaft ändert/ändern, an eine feste Partikeloberfläche hiervon bindet/binden.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 11, worin die Gruppe, die sich aufgrund von Strahlung oder Wärme von einer hydrophoben Eigenschaft zu einer hydrophilen Eigenschaft ändert, eine Gruppe ist, die durch die folgende Formel (2) repräsentiert wird: L-SO₃R²¹ (2)worin R²¹ eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe oder eine cyclische Imidgruppe repräsentiert; und L repräsentiert eine zweiwertige organische Verknüpfungsgruppe, die an die feste Partikeloberfläche bindet.
Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer gemäß Anspruch 11, worin die oberflächenmodifizierten Partikel mit einem Vernetzungsmittel vernetzt sind.
Flachdruckplatte, erhältlich durch thermisches Aufzeichnen oder Laserbestrahlung des strahlungsempfindlichen Flachdruckplattenvorläufers gemäß irgendeinem der Ansprüche 1 bis 13.