DE69315608T2 - Photoleitergekoppeltes Flüssigkeitskristall-Lichtventil - Google Patents

Photoleitergekoppeltes Flüssigkeitskristall-Lichtventil

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil.
  • Fig. 5 zeigt den Aufbau eines üblicherweise verwendeten Flüssigkristall- Lichtventils. Gemäß Fig. 5 sind eine photoleitende Schicht 11, eine Flüssigkristallschicht 2, transparente Elektroden 3 zu beiden Seiten der photoleitenden Schicht 11 und der Flüssigkristallschicht 2, um sie einzubetten, eine Spannungsanlegeeinrichtung 4 zum Anlegen einer Spannung an die transparenten Elektroden 3, und eine optische Reflexionsschicht 5 und ein Ausrichtungsfilm 6 vorhanden, wobei die beiden letzteren zwischen der photoleitenden Schicht 11 und der Flüssigkristallschicht 2 vorhanden sind. Ferner sind Substrate 7 außerhalb der transparenten Elektroden angeordnet.
  • Als nächstes wird das Grundprinzip des Betriebs dieser Vorrichtung beschrieben. Der Einfachheit halber ist angenommen, dass der Widerstand der optischen Reflexionsschicht viel kleiner als derjenige der photoleitenden Schicht und der Flüssigkristallschicht ist. Zunächst wird über die transparenten Elektroden eine Spannung V&sub0; von einer externen Spannungsversorgung an die photoleitende Schicht und die Flüssigkristallschicht angelegt. Die an die Flüssigkristallschicht und die photoleitende Schicht angelegten Spannungen sind derartige Werte, dass V&sub0; proportional zu den Widerständen der zwei Schichten zugeordnet wird, wobei die Spannung, wie sie ohne einfallendes Licht an die Flüssigkristallschicht angelegt wird, einen Wert liefert, der wesentlich kleiner als die Schwellenspannung (Vs1) ist, bei der die Flüssigkristallschicht den elektrooptischen Effekt erzeugt. Dies bedeutet, dass die Flüssigkristallschicht in ihrem früheren Zustand keinen elektrooptischen Effekt entwickelt. Eine schematische Veranschaulichung der Ladungsübertragung, wie sie in dieser Vorrichtung zu diesem Punkt auftritt, ist in Fig. 2 mittels eines Energiebanddiagramms angegeben.
  • Wenn im oben beschriebenen Zustand Licht auf die photoleitende Schicht gestrahlt wird (wobei angenommen wird, dass der Bereich, der Licht empfangen hat, Pc1 ist, während der Bereich, für den dies nicht gilt, Pcd ist), verringert sich der Widerstand (Rp) der photoleitenden Schicht in Pc1 in großem Ausmaß, was zu einem Wert führt, der viel kleiner als der Widerstand der Flüssigkristallschicht ist, so dass der größte Teil von V&sub0; größer als Vs1, in Pc1 an die Flüssigkristallschicht angelegt wird. Im Ergebnis entsteht in Pc1 ein elektrooptischer Effekt in der Flüssigkristallschicht. Im Gegensatz hierzu bleibt die Flüssigkristallschicht in Pcd unverändert, wobei die Anfangsspannung an sie angelegt ist, was bewirkt, dass kein elektrooptischer Effekt auftritt. Demgemäß ist zu diesem Punkt ein optisches Muster (optische Information) in die Flüssigkristallschicht eingeschrieben. Eine schematische Veranschaulichung der Ladungsübertragung, wie sie in dieser Vorrichtung zu diesem Punkt auftritt, ist in Fig. 3 angegeben.
  • Es ist bereits bekannt, dass amorphes Silizium (als a-Si abgekürzt), das Wasserstoff oder Halogen enthält, als photoleitende Schicht verwendet wird (z. B. japanische Patentoffenlegungsveröffentlichungen Nr. JP-A-58 34 435, JP-A-58 34 436, JP-A-58 199 327, JP-A-59 81 627, JP-A-59 170 820 usw.). Ein Typ eines photoleiter-gekoppelten Flüssigkristall-Lichtventils gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1 ist durch EP-A-0 422 645 offenbart. Andererseits ist auch die Verwendung einer organischen, photoleitenden Schicht, einer photoleitenden Schicht aus Selen und dergleichen bekannt.
  • Jedoch müssen gemäß Fig. 3 optisch angeregte Ladungsträger, die die a-Si- Schicht auf der Seite der optischen Reflexionsschicht im Lichteinfallsbereich erreicht haben, im selben Bereich verbleiben, und zwar zumindest bis die Flüssigkristalle eine Reaktion abgeschlossen hat, die der Spannungsänderung entspricht. Wenn die optisch angeregten Ladungsträger seitwärts gedriftet sind, was den Bereich Pcd erweitert, überschreitet die an die Flüssigkristalle im Bereich Pcd angelegte Spannung den Wert Vc1, was nicht nur die Auflösung beeinträchtigt, sondern auch ein anderes Bild als das geschriebene Bild zeichnet, wodurch das sich ergebende Bild gestört ist.
  • Die japanische Patentoffenlegungsveröffentlichung Nr. JP-A-3 18 829 offenbart ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil, das einen inselförmigen Metallspiegel als optische Reflexionsschicht verwendet, um jede Beeinträchtigung der Bildauflösung zu verhindern.
  • Jedoch dient dieser inselförmige Metallspiegel nicht nur als optische Reflexionsschicht, sondern er wirkt auch so, dass er die Leitfähigkeit der photoleitenden Schicht in der in der Ebene liegenden Richtung verringert, was jede Beeinträchtigung der Auflösung verhindert. Demgemäß ist ein Pixel abhängig von der Größe des inselförmigen Metallspiegels definiert. Darüber hinaus benötigt das Herstellen des inselförmigen Metallspiegels die Schritte des Herstellens eines metallischen Dünnfilms und des anschließenden Ätzens, was den Prozess erweitert. Diese zusätzlichen Prozesse sind ein Grund für eine Kostenerhöhung.
  • Außerdem erfolgte im Stand der Technik keine Beschreibung zu einem Flüssigkristall-Lichtventil, bei dem an der a-Si- oder einer anderen photoleitenden Schicht auf der Seite der optischen Reflexionsschicht oder an der Grenzfläche zu dieser eine Spezialbehandlung erfolgen würde, um das Eintreffen von Ladungsträgern durch Seitwärtsdrift zu verhindern.
  • Gemäß der Erfindung ist ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil mit mindestens einer photoleitenden Schicht aus einer amorphen Siliziumschicht, einer optischen Reflexionsschicht und einer Flüssigkristall schicht zwischen einem Paar Elektroden geschaffen, wobei die photoleitende Schicht und die optische Reflexionsschicht in dieser Reihenfolge auf einer der Elektroden vorhanden sind, wobei in der photoleitenden Schicht ein Dotierstoff mit gleichmäßiger Menge in der Ebenenrichtung der photoleitenden Schicht enthalten ist, mit zunehmend höherer Konzentration in Richtung der Schichtdicke ausgehend von der Seite der Elektrode zur Seite der optischen Reflexionsschicht.
  • Fig. 1 ist eine schematische Ansicht der photoleitenden Schicht gemäß der Erfindung;
  • Fig. 2 ist eine schematische Ansicht, die den Grundbetrieb eines photoleiter-gekoppelten Flüssigkristall-Lichtventils zeigt;
  • Fig. 3 ist eine schematische Ansicht, die den Grundbetrieb eines photoleiter-gekoppelten Flüssigkristall-Lichtventils zeigt;
  • Fig. 4 ist eine Ansicht, die die Dotierstoffmenge in der photoleitenden Schicht im erfindungsgemäßen photoleiter-gekoppelten Flüssigkristall-Lichtventil zeigt; und
  • Fig. 5 ist eine schematische Ansicht eines bekannten photoleiter-gekoppelten Flüssigkristall-Lichtventils.
  • Detallierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsbeispiele
  • Als Elektrodenpaar können bei dieser Erfindung z. B. ITO-Filme verwendet werden. Um die optische Reflexionsschicht zu erzeugen, werden, normalerweise, zwei Typen von Materialien mit wesentlich voneinander verschiedenen Brechungsindizes, z. B. in der Kombination MgF&sub2; und ZnS oder Si und SiO&sub2;, mit 10 bis 15 Schichten bei einer Filmdicke 0,1 bis 0,05 µm für jedes Schicht aufeinanderlaminiert.
  • Die Flüssigkristallschicht ist beispielsweise eine solche aus nematischen Flüssigkristallen auf Phenolcyclohexan-Basis oder eine solche aus ferroelektrischen Flüssigkristallen auf Esterbasis, jedoch ist sie nicht hierauf beschränkt. Als chiraler Dotierstoff kann cholesterisches Nonanoat mit 7 bis 8 Gewichts-% zugemischt sein.
  • Die photoleitende Schicht wird durch Dotieren von a-Si mit Fremdstoffen erhalten. Die Dotierstoffe sind beispielsweise Elemente, die zur Gruppe 3A im Periodensystem gehören, wie B und Al, Elemente, die zur Gruppe 5A im Periodensystem gehören, wie P, N und As, oder das Element Kohlenstoff oder das Element Sauerstoff oder dergleichen.
  • Das Laminierverfahren ist z. B. Plasma-CVD (nachfolgend als PCVD abgekurzt). Die Dotierstoffmenge ist in der in der Ebene liegenden Richtung gleichmäßig und in der Schichtdickenrichtung ungleichmäßig, wobei die Dotierung auf kontinuierliche Weise so realisiert ist, dass sich die höhere Konzentration zur Seite der optischen Reflexionsschicht hin ergibt. Die Dotiermenge wird dadurch eingestellt, dass die Menge an Ausgangsgas von zuzumischenden Fremdstoffen zum einzuleitenden Ausgangsgas, wie SiH&sub4; oder Si&sub2;H&sub6;, geändert wird.
  • Das Zunahmeverhältnis der Dotiermenge kann dergestalt sein, wie es in den Fig. 4(a) bis (e) dargestellt ist.
  • Beispiel 1
  • Es wird ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil gemäß der Erfindung, wie es in Fig. 1 dargestellt ist, dargestellt. In Fig. 1 bezeichnet die Bezugszahl 1 eine photoleitende Schicht gemäß der Erfindung.
  • Als erstes wurde eine transparente Elektrode 3 aus ITO auf einem Glassubstrat (CONIG 7059) unter einer Vakuum-Abscheidungsvorrichtung abgeschieden. Dann wurde, nachdem das Substrat in ein PCVD-System eingesetzt war, ein Plasma unter den in der Tabelle 1 aufgelisteten Bedingungen angeregt, wobei eine a-Si-Schicht als photoleitende Schicht 1 mit einer Schichtdicke von 4 µm hergestellt wurde. Tabelle 1
  • Die Tatsache, dass gemäß der Tabelle die Dotierungsmenge von B&sub2;H&sub6; von 0,8 auf 8 sscm erhöht wird, bedeutet, dass sie von der Seite des Trägerelements für die a-Si-Photoleitungsschicht zur optischen Reflexionsschicht hin kontinuierlich erhöht wird.
  • Danach wurde eine Si-SiO&sub2;-Schicht mit 10 bis 15 Schichten durch elektronenstrahl-gestützte Abscheidung in der Vakuum-Abscheidungsvorrichtung aufgestapelt, um eine optische Reflexionsschicht 5 mit einer Schichtdicke von 1,3 bis 2,3 µm aufzulaminieren. Ferner wurde durch Schleuderbeschichten ein Polyimidfilm hergestellt, und auf der optischen Reflexionsschicht wurde ein Film 6 für rechtwinklige Ausrichtung, der durch einen Reibeprozess für Molekülausrichtung behandelt wurde, mit einer Filmdicke von 0,1 µm hergestellt.
  • Außerdem wurden auf das Substrat 7 eine transparente Elektrode 3 (ITO) und ferner auf diese der Ausrichtungsfilm 6 aufgestapelt.
  • Die obigen zwei Glassubstrate 7, auf denen verschiedene Schichten aufgestapelt waren, wurden mit einem Abstand von 7 µm so zusammengebaut, dass die Ausrichtungsfilme einander gegenüberstanden. Abschließend wurde eine Flüssigkristallschicht 2, mit cholesterischen Nonanoat, das als chiraler Dotierstoff mit 7 bis 8 Gewichts-% in nematische Flüssigkristalle auf Phenylcyclohexan-Basis eingemischt war, dicht in den Raum mit dieser Spaltweite eingeschlossen, so dass eine Schichtdicke von 7 µm und eine Schraubenganghöhe von ungefähr 20 % in bezug auf die Schichtdicke vorlagen, wodurch ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil hergestellt war.
  • Das Einschreiben eines Bilds in dieses Lichtventil erfolgte durch Einstrahlen eines Laserstrahls (680 nm) als Schreiblicht 8 auf die Photoleiterschicht von deren Seite her, wie in Fig. 1 dargestellt, wobei gleichzeitig ein elektrisches Feld von 1 kHz und 6 V zwischen die zwei ITO-Elektroden gelegt wurde.
  • Als nächstes erfolgte das Lesen des eingeschriebenen Bilds durch Einstrahlen von weißem Leselicht 9 unter Verwendung einer Halogenlampe von der Seite des Flüssigkristalls her auf die photoleitende Schicht, und im Ergebnis konnte ein deutliches Bild wiedergegeben werden, das frei von jeder Beeinträchtigung der Auflösung und jeder Seitwärtsverschiebung war.
  • Anschließend konnte durch Anlegen eines elektrischen Wechselfelds von 10 V an die transparenten Elektroden 3 ein Löschvorgang für das geschriebene Bild erzielt werden.
  • Anschließend wurde mit diesem Flüssigkristall-Lichtventil eine Reihe von Schreib-, Lese- und Bildlöschprozessen wiederholt ausgeführt, und im Ergebnis war kein Effekt erkennbar, dass das eingeschriebene Bild verblieben wäre. Darüber hinaus wurde klargestellt, dass die während des Schreibvorgangs eingefangenen Ladungsträger während des Bildlöschvorgangs vollständig neutralisiert wurden.
  • Beispiel 2
  • Es wurde ein photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil unter denselben Bedingungen wie beim Beispiel 1 mit der Ausnahme hergestellt, dass die Schichtdicke der photoleitenden Schicht 4 µm betrug, die CH&sub4;-Strömungsrate während der Herstellung linear von 0 auf 8,0 sscm erhöht wurde und dies auch hinsichtlich einer Erhöhung von 0,4 auf 25 sscm für die Strömungsrate von B&sub2;H&sub6; erfolgte, das mit einer Konzentration von 0,3 % in H&sub2; gelöst war, wodurch sowohl C als auch B dotiert wurden.
  • Mit diesem Lichtventil wurden das Schreiben, Lesen und Löschen eines Bild auf dieselbe Weise wie beim Beispiel 1 ausgeführt, und im Ergebnis konnte, wie beim Beispiel 1, ein deutliches Bild wiedergegeben werden, das frei von jeder Beeinträchtigung der Auflösung und jeder Seitwärtsverschiebung war.
  • Nachdem eine Reihe von Schreib-, Lese- und Bildlöschprozessen wiederholt war, zeigte sich kein Restbildeffekt.
  • Wie oben beschrieben, wird durch Dotieren der a-Si-Photoleitungsschicht mit mindestens einem Element aus Elementen, die zur Gruppe 3A des Periodensystems gehören, wie B und Al, Elementen, die zur Gruppe SA des Periodensystems gehören, wie P, N und As, und dem Element C oder O, wobei außerdem die Dotierung kontinuierlich auf solche Weise realisiert wird, dass die Dotierstoffmenge des Elements in der in der Ebene liegenden Richtung der a-Si- Photoleitungsschicht gleichmäßig ist, während sie in der Schichtdickenrichtung in solcher Weise ungleichmäßig ist, dass sich zur Seite der optischen Reflexionsschicht hin eine höhere Konzentration ergibt, die Dichte eingefangener Ladungsträger in der amorphen Siliziumschicht auf der Seite der optischen Reflexionsschicht erhöht, wodurch die optisch angeregten Ladungsträger, die die Seite der optischen Reflexionsschicht erreicht haben, eingefangen werden. Im Ergebnis wird es möglich, eine Seitwärtsdrift der Ladungsträger und eine Störung des Bilds zu vermeiden. Auch wird es durch kontinuierliches und allmähliches Erhöhen der Dotierstoffmenge zur optischen Reflexionsschicht hin möglich, die photoleitende Schicht auf kontinuierliche Weise herzustellen, wobei es überflüssig ist, eine spezielle Schicht wie einen Metallspiegel anzubringen, abweichend vom Fall, in dem die photoleitende Schicht so hergestellt wird, dass sie in einen dotierten Bereich und einen undotierten Bereich unterteilt ist. Dies trägt zu einer Verkürzung der zur Vorrichtungsherstellung erforderlichen Zeit bei. Darüber hinaus kann jede Diskontinuität im Energieband der photoleitenden Schicht beseitig werden, was ein gleichmäßiges Laufen der Ladungsträger innerhalb der photoleitenden Schicht ermöglicht. So wurde es möglich, ein Flüssigkristall-Lichtventil mit hervorragendem Ansprechverhalten und hervorragendem Kontrast eines zu erzeugenden Bilds herzustellen.
  • Es ist zu beachten, dass, da die eingefangenen optischen Ladungsträger durch ein elektrisches Feld neutralisiert werden, wie es während des Bildlöschvorgangs in der Richtung umgekehrt zu der beim Schreibvorgang angelegt wird, kein Problem dahingehend auftritt, dass das eingeschriebene Bild verbleibt.

Claims (2)

1. Photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil mit mindestens einer photoleitenden Schicht (1) aus einer amorphen Siliziumschicht, einer optischen Reflexionsschicht (5) und einer Flüssigkristallschicht (2) zwischen einem Paar Elektroden (3, 3), wobei die photoleitende Schicht und die optische Reflexionsschicht in dieser Reihenfolge auf einer der Elektroden vorhanden sind, dadurch gekennzeichnet, dass in der photoleitenden Schicht ein Dotierstoff mit gleichmäßiger Menge in der in der Ebene liegenden Richtung der photoleitenden Schicht und mit kontinuierlich höherer Konzentration in der Schichtdickenrichtung von der Seite der Elektrode zur Seite der optischen Reflexionsschicht hin enthalten ist.
2. Photoleiter-gekoppeltes Flüssigkristall-Lichtventil nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Dotierstoff ein zur Gruppe 3A oder zur Gruppe 5A des Periodensystems gehörendes Element, elementarer Kohlenstoff oder elementarer Sauerstoff ist.
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