DE60315986D1 - Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung - Google Patents

Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7470916B2 (en) * 2005-10-19 2008-12-30 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and radiation collector
US7462841B2 (en) * 2005-10-19 2008-12-09 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method, and use of a radiation collector
EP2201435B1 (de) 2007-10-09 2013-02-13 Carl Zeiss SMT GmbH Vorrichtung zur steuerung der temperatur eines optischen elements
US7960701B2 (en) * 2007-12-20 2011-06-14 Cymer, Inc. EUV light source components and methods for producing, using and refurbishing same
US20100033704A1 (en) * 2008-08-11 2010-02-11 Masayuki Shiraishi Deformable mirror, mirror apparatus, and exposure apparatus
DE102009033818A1 (de) * 2008-09-19 2010-03-25 Carl Zeiss Smt Ag Temperiervorrichtung für eine optische Baugruppe
US7641349B1 (en) 2008-09-22 2010-01-05 Cymer, Inc. Systems and methods for collector mirror temperature control using direct contact heat transfer
DE102008049556B4 (de) * 2008-09-30 2011-07-07 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102009035788B4 (de) * 2009-07-31 2011-06-30 Carl Zeiss Laser Optics GmbH, 73447 Optische Anordnung in einem optischen System, insbesondere einer Beleuchtungseinrichtung
JP5732257B2 (ja) * 2010-01-15 2015-06-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびコンピュータ読取可能媒体
JP5785419B2 (ja) 2010-04-07 2015-09-30 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 光学要素を冷却する方法、リソグラフィ装置、およびデバイスを製造する方法
CN103814331B (zh) 2011-09-21 2016-06-29 卡尔蔡司Smt有限责任公司 在微光刻投射曝光设备中热致动反射镜的布置
WO2013123973A1 (en) * 2012-02-21 2013-08-29 Carl Zeiss Sms Ltd. Method and apparatus for compensating at least one defect of an optical system
DE102013204427A1 (de) * 2013-03-14 2014-09-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur thermischen Aktuierung eines Spiegels, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102013205214B4 (de) * 2013-03-25 2016-02-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikromechanische oder Mikroelektromechanische Vorrichtung für eine Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zum Betrieb einer derartigen Vorrichtung
DE102017208364A1 (de) * 2017-05-18 2018-11-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system sowie verfahren
WO2023208475A1 (en) * 2022-04-26 2023-11-02 Asml Netherlands B.V. Thermally actuated cooling system

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3836236A (en) * 1972-11-24 1974-09-17 Gte Sylvania Inc Mirror mount for high power lasers
CA2077572C (en) * 1991-09-07 1998-08-18 Masahito Niibe Method of and apparatus for stabilizing shapes of objects, such as optical elements, as well as exposure apparatus using same and method of manufacturing semiconductr devices
JPH06308294A (ja) * 1993-04-28 1994-11-04 Kyocera Corp X線反射用ミラー
EP1197803B1 (de) * 2000-10-10 2012-02-01 ASML Netherlands B.V. Lithographischer Apparat
DE10050125A1 (de) * 2000-10-11 2002-04-25 Zeiss Carl Vorrichtung zum Temperaturausgleich für thermisch belastete Körper mit niederer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere für Träger reflektierender Schichten oder Substrate in der Optik
US6846086B2 (en) * 2002-03-11 2005-01-25 Intel Corporation Mirror assembly with thermal contour control

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EP1522892A1 (de) 2005-04-13
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US7397531B2 (en) 2008-07-08
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