DE60115592T2 - Integrierter CMOS/MEMS Tintenstrahldruckkopf mit während der CMOS-Bearbeitung ausgebildeten Heizelementen und Verfahren zum Ausbilden derselben - Google Patents

Integrierter CMOS/MEMS Tintenstrahldruckkopf mit während der CMOS-Bearbeitung ausgebildeten Heizelementen und Verfahren zum Ausbilden derselben Download PDF

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Description

  • Die Erfindung betrifft allgemein das Gebiet digital gesteuerter Druckvorrichtungen und insbesondere mit flüssiger Tinte arbeitende Druckköpfe, bei denen eine Vielzahl von Düsen auf einem gemeinsamen Substrat zusammengefasst wird und bei denen für die Auswahl eines Flüssigkeitstropfens zum Drucken thermomechanische Mittel eingesetzt werden.
  • Tintenstrahldrucker haben sich im Markt für digital gesteuerte elektronische Druckvorrichtungen u.a. deswegen durchgesetzt, weil sie berührungsfrei und geräuscharm arbeiten und sich durch die Einfachheit ihres Systemaufbaus auszeichnen. Aus diesen Gründen haben sie breite Akzeptanz bei privaten Benutzern, im Büro und in anderen Bereichen gefunden.
  • Tintenstrahldrucker lassen sich einteilen in Drucker, die mit kontinuierlichem Strahl arbeiten (CIJ = Continuous Ink Jet) und Drucker, die einen Tropfen auf Anforderung ausstoßen (DOD = Drop-on-Demand). US-A-3 946 398, Kyser u.a., 1970, offenbart einen DOD-Tintenstrahldrucker, bei dem an einen piezoelektrischen Kristall eine hohe Spannung angelegt wird, sodass sich der Kristall biegt, dadurch ein Tintenreservoir mit Druck beaufschlagt und Tropfen auf Anforderung ausstößt. Piezoelektrische DOD-Drucker werden mit Bildauflösungen von mehr als 720 Punkten pro Zoll(dpi = dots per inch) wirtschaftlich erfolgreich für den privaten Gebrauch und im Büro eingesetzt. Piezoelektrische Drucker erfordern jedoch im Allgemeinen komplexe Hochspannungsansteuerungen und sperrige piezoelektrische Kristallanordnungen, was hinsichtlich der Anzahl der Düsen pro Längeneinheit des Druckkopfs sowie der Länge des Druckkopfs ein Nachteil ist. Typische piezoelektrische Druckköpfe weisen bestenfalls ein paar Hundert Düsen auf.
  • GB-A-2 007 162, Endo u.a. 1979, offenbart einen nach dem Drop-on-demand-Verfahren (Tropfen auf Anforderung) arbeitenden elektrothermischen Tintenstrahldrucker, bei dem eine Heizeinrichtung, die mit Tinte auf wässriger Basis in einer Düse in thermischer Berührung steht, mit einem elektrischen Impuls beaufschlagt wird. Durch rasche Verdampfung einer kleinen Tintenmenge wird eine Blase erzeugt, die bewirkt, dass aus kleinen Öffnungen entlang einer Kante eines Heizsubstrats ein Tintentropfen ausgestoßen wird. Diese Technik ist als Thermotintenstrahl- oder Dampfblasenstrahldruck bekannt. Beim Thermotintenstrahldruck muss die Heizeinrichtung in der Regel einen Energieimpuls erzeugen, der ausreicht, die Tinte auf eine Temperatur von annähernd 400°C aufzuheizen, um eine rasche Blasenbildung zu erzielen. Die für diese Vorrichtung erforderlichen hohen Temperaturen bedingen die Verwendung von Spezialtinten, komplizieren die Treiberelektronik und beschleunigen die Zustandsverschlechterung von Heizelementen durch Kavitation und Kogation. Kogation ist die Ansammlung von bei der Tintenverbrennung entstehenden Nebenprodukten, welche die Heizeinrichtung verkrusten. Solche Verkrustungen beeinträchtigen den thermischen Wirkungsgrad der Heizeinrichtung und verkürzen dadurch die Betriebslebensdauer des Druckkopfs. Außerdem steht der hohe Stromverbrauch für den Betrieb der einzelnen Heizeinrichtungen der Herstellung kostengünstiger Hochleistungsdruckköpfe im Seitenbreitenformat entgegen.
  • Der Tintenstrahldruck mit kontinuierlichem Strahl als solcher geht mindestens auf das Jahr 1929 zurück, wie das in diesem Jahr Hansell erteilte US-Patent 1 941 001 zeigt.
  • US-A-3 373 437, Sweet u.a., März 1968, offenbart eine Anordnung von kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldüsen, bei der die zu druckenden Tropfen wahlweise elektrisch aufgeladen und auf das Aufzeichnungsmedium umgelenkt werden. Diese als kontinuierlicher Tintenstrahldruck mit binärer Umlenkung bekannte Technik wird von mehreren Herstellern verwendet, darunter Elmjet und Scitex.
  • USA-3 416 153, Hertz u. a., Dezember 1968, offenbart ein Verfahren zur Variierung der optischen Dichte gedruckter Punkte für den Tintenstrahldruck mit kontinuierlichem Strahl. Durch elektrostatische Auflösung eines Stroms aufgeladener Tropfen wird die Anzahl der durch eine kleine Öffnung gelangenden Tröpfchen moduliert. Diese Technik wird bei Tintenstrahldruckern des Herstellers Iris eingesetzt.
  • Das Carl H. Hertz am 24. August 1982 erteilte US-Patent Nr. 4 346 387 mit dem Titel METHOD AND APPARATUS FOR CONTROLLING THE ELECTRIC CHARGE ON DROPLETS AND INK JET RECORDER INCORPORATING THE SAME offenbart ein CIJ-System zum Steuern der elektrostatischen Ladung von Tröpfchen. Die Tröpfchen werden durch Aufbrechen eines mit Druck beaufschlagten Flüssigkeitsstroms an einer Tropfenbildungsstelle in einem elektrostatischen Ladetunnel mit einem elektrischen Feld gebildet. Die Tropfenbildung erfolgt an einer Stelle im elektrischen Feld, die der jeweils gewünschten vorgegebenen Ladung entspricht. Zusätzlich zu Ladetunneln werden für die eigentliche Umlenkung der Tropfen Umlenkbleche eingesetzt. Bei dem Hertz-System müssen die erzeugten Tröpfchen elektrisch geladen und dann in eine Rinne oder auf das Druckmedium umgelenkt werden. Die Lade- und Umlenkeinrichtungen benötigen viel Platz und schränken die Anzahl von Düsen pro Druckkopf drastisch ein.
  • Bis in jüngster Zeit arbeiteten alle herkömmlichen kontinuierlichen Tintenstrahltechniken in der einen oder anderen Form mit elektrostatischen Ladetunneln, die in unmittelbarer Nähe der Stelle, an der die Tropfen im Strom gebildet werden, angeordnet wurden. In den Tunneln können Tropfen wahlweise individuell aufgeladen werden. Die ausgewählten Tropfen werden aufgeladen und stromabwärts von Umlenkblechen, zwischen denen ein hoher Potentialunterschied besteht, umgelenkt. In der Regel wird eine (manchmal auch als "Fangeinrichtung" bezeichnete) Rinne verwendet, um die aufgeladenen Tropfen abzufangen und den Drucker in einen nichtdruckenden Modus zu versetzen, während die nicht aufgeladenen Tropfen nach Umlenkung des Tintenstroms zwischen dem nichtdruckenden Modus und dem druckenden Modus im druckenden Modus ungehindert auf das Aufzeichnungsmedium gelangen können.
  • Im Vergleich zu der Spannung, die für herkömmliche CMOS-Schaltungen allgemein als schädlich angesehen wird, in der Regel 25 Volt oder weniger, arbeiten die Ladetunnel und Tropfenumlenkbleche kontinuierlich arbeitender Tintenstrahldrucker bei hohen Spannungen, z.B. 100 Volt oder mehr. Außerdem müssen die Tinten in kontinuierlich arbeitenden elektrostatischen Tintenstrahldruckern leitend sein und Strom führen. Wie der Fachmann weiß, ist es in der Halbleiterfertigung unter dem Gesichtspunkt der Zuverlässigkeit nicht wünschenswert, stromführende Flüssigkeiten mit Halbleiterflächen in Berührung gelangen zu lassen. Aus diesem Grunde wurde die Herstellung von CMOS-Schaltungen bisher nicht generell in die Herstellung von kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckköpfen integriert.
  • Kürzlich wurde ein neues, mit einem kontinuierlichen Tintenstrahl arbeitendes Tintenstrahldruckersystem entwickelt, das die oben beschriebenen elektrostatischen Ladetunnel überflüssig macht. Es stellt außerdem eine bessere Verbindung zwischen den Funktionen (1) Tropfenbildung und (2) Tropfenumlenkung her. Das System wird in dem von James Chwalek u.a. eingereichten, gemeinsam abgetretenen US-Patent 6 079 821 mit dem Titel CONTINUOUS INK JET PRINTER WITH ASYMMETRIC HEATING DROP DEFLECTION offenbart, dessen Inhalt hiermit durch Verweis zu einem Bestandteil der vorliegenden Anmeldung erklärt wird. Dieses Patent offenbart ein Gerät zum Steuern der Tinte in einem mit kontinuierlichem Strahl arbeitenden Tintenstrahldrucker. Das Gerät umfasst einen Tintenzuführungskanal, eine Quelle mit Druck beaufschlagter Tinte, die mit dem Tintenzuführungskanal in Verbindung steht, und eine Düse mit einem in den Tintenzuführungskanal mündenden Loch, aus dem ein kontinuierlicher Tintenstrom austritt. Durch periodische Beaufschlagung des Stroms mit schwachen Wärmeimpulsen mittels einer Heizeinrichtung wird der Tintenstrom synchron mit den angelegten Wärmeimpulsen und mit Abstand zur Düse in eine Vielzahl von Tröpfchen aufgelöst. Um die Tröpfchen umzulenken, werden die von der Heizeinrichtung (im Düsenloch) abgegebenen Wärmeimpulse verstärkt. Die Heizeinrichtung weist einen wahlweise zu betätigenden Abschnitt auf, der nur einem Teil des Düsenlochs zugeordnet ist. Durch wahlweise Betätigung eines bestimmten Abschnitts der Heizeinrichtung wird der Strom asymmetrisch mit Wärme beaufschlagt. Durch abwechselnde Betätigung der einzelnen Abschnitte kann die Richtung, in der diese asymmetrische Wärme zugeführt wird, verändert werden. Von dieser Möglichkeit wird Gebrauch gemacht, um u. a. Tintentropfen zwischen einer "druckenden" Richtung (auf das Aufzeichnungsmedium) und einer "nichtdruckenden" Richtung (zurück in eine "Fangeinrichtung") umzulenken. Das Patent von Chwalek u. a. schafft somit ein Flüssigkeitsdrucksystem, das hinsichtlich der Überwindung der bei den bekannten Druckvorrichtungen zu verzeichnenden Probleme bezüglich der Anzahl der Düsen pro Druckkopf, der Länge des Druckkopfs, des Stromverbrauchs und der Eigenschaften brauchbarer Tinten erhebliche Verbesserungen bietet.
  • Asymmetrisch aufgebrachte Wärme bewirkt eine Umlenkung des Tintenstroms, deren Größe von mehreren Faktoren, wie zum Beispiel den geometrischen und thermischen Eigenschaften der Düsen, der aufgebrachten Wärmemenge, der Druckbeaufschlagung und den physikalischen, chemischen und thermischen Eigenschaften der Tinte, abhängt. Während Tinten auf Lösungsmittelbasis (insbesondere Alkoholbasis) sich recht gut umlenken lassen (siehe diesbezüglich US-A-6 247 801 B1, Trauernicht u. a.) und in asymmetrisch beheizten Tintenstrahldruckern mit kontinuierlichem Strahl Bilder hoher Qualität liefern, ist dies bei Tinten auf wässriger Basis schwieriger. Tinten auf wässriger Basis lassen sich nicht im gleichen Maße umlenken und sind daher störanfälliger. Zur Verstärkung der Tintentropfenumlenkung in asymmetrisch beheizten Drucksystemen mit kontinuierlichem Tintenstrahl wird in dem von Delametter u.a. eingereichten, gemeinsam abgetretenen Patent EP 1 110 732 A2 ein mit kontinuierlichem Strahl arbeitender Tintestrahldrucker offenbart, bei dem zur Verbesserung der Tintentropfenumlenkung, insbesondere für Tinten auf wässriger Basis, durch ein geometrisches Hindernis im Tintenzuführungskanal bessere Querströmungseigenschaften erzielt werden.
  • Ferner offenbart EP 106 0890 A2 eine Vorrichtung zum Steuern von Tinte. Ein Tintenstrahldrucker umfasst einen Druckkopf, in dem die Tinte über einem Düsenloch einen Meniskus bildet und sich entlang einer oberen Fläche des Druckkopfs ausbreitet. Der Druckkopf weist ein Substrat mit einer oberen Fläche, einen Tintenzuführungskanal unter dem Substrat und ein sich durch das Substrat erstreckendes Düsenloch auf. Eine Öffnung unter dem Substrat stellt eine Bahn her, über die Tinte in den Tintenzuführungskanal fließt. Eine Quelle mit Druck beaufschlagter Tinte steht mit dem Tintenzuführungskanal in Verbindung, derart, dass die Tinte tendenziell an der oberen Fläche des Heizelements einen Meniskus bildet. Ein Widerstandsheizelement umschließt mindestens einen Teil des Düsenlochs. Das Heizelement weist eine obere Fläche auf, die koplanar zum umschließenden Teil der oberen Fläche des Substrats verläuft, sodass der Druckkopf in Bereichen entlang einer Linie, an der die Tinte des Meniskus den Festkörper berührt, plan ausgebildet ist.
  • Die vorliegende Erfindung baut insofern auf der Arbeit von Chwalek u.a. und Delametter u.a. auf, als sie mit kontinuierlichem Strahl arbeitende Tintenstrahldruckköpfe schafft, die sich kostengünstig und vorzugsweise im Seitenbreitenformat herstellen lassen.
  • Obwohl die Erfindung auch mit Tintenstrahldruckköpfen in einem anderen Format verwirklicht werden kann, bleibt festzuhalten, dass der Bedarf für verbesserte Tintenstrahldrucksysteme, die beispielsweise Vorteile hinsichtlich Kosten, Größe, Geschwindigkeit, Qualität, Zuverlässigkeit, kleiner Düsenmündung, kleiner Tropfengröße, geringem Stromverbrauch, einfachem Aufbau, Haltbarkeit und Herstellbarkeit bieten, nach wie vor groß ist. Insbesondere die Möglichkeit, hoch auflösende Tintenstrahldruckköpfe im Seitenbreitenformat herstellen zu können, ist seit langem gefragt. Mit Druckköpfen "im Seitenbreitenformat" sind hier Druckköpfe mit einer Mindestlänge von etwa 4 Zoll gemeint. Mit hoher Auflösung ist hier für jede Tintenfarbe eine Düsendichte von mindestens etwa 300 Düsen pro Zoll bis maximal etwa 2400 Düsen pro Zoll gemeint.
  • Um die Vorteile von Druckköpfen im Seitenbreitenformat hinsichtlich höherer Druckgeschwindigkeit voll zu nutzen, müssen diese eine große Anzahl von Düsen enthalten. Ein herkömmlicher scannender Druckkopf weist möglicherweise nur ein paar Hundert Düsen pro Tintenfarbe auf. Ein für den Ausdruck von Fotos geeigneter vier Zoll breiter Druckkopf im Seitenbreitenformat sollte ein paar Tausend Düsen aufweisen. Während ein scannender Druckkopf langsamer ist, weil er mechanisch über die Seite bewegt werden muss, muss sich ein Druckkopf im Seitenbreitenformat nicht bewegen, weil das Papier an ihm vorbeigeführt wird. Das Bild kann theoretisch in einem einzigen Durchlauf gedruckt werden, was die Druckgeschwindigkeit wesentlich erhöht.
  • Bei der Realisierung von Hochleistungstintenstrahldruckköpfen im Seitenbreitenformat stellen sich vor allem zwei Probleme. Zum einen müssen die Düsen sehr eng zueinander, mit einem Mittenabstand in der Größenordnung von 10 bis 80 μm, angeordnet werden. Zum anderen müssen die Treiber, welche die Heizeinrichtungen und die Steuerelektronik für jede Düse mit Strom versorgen, jeweils in die Düse integriert werden, weil die Herstellung tausender von Kontaktierungen oder anderen Verbindungen mit externen Schaltkreisen zur Zeit eine unlösbare Aufgabe darstellt.
  • Eine Möglichkeit, diese Probleme zu lösen, besteht darin, die Druckköpfe in VLSI-Technik auf Siliciumscheiben aufzubauen und die CMOS-Schaltkreise auf demselben Siliciumsubstrat mit den Düsen zu integrieren.
  • Für die Herstellung der Druckköpfe kann zwar ein eigener Prozess entwickelt werden, wie in dem Silverbrook-Patent US-A-S 880 759 vorgeschlagen, kostengünstiger und fertigungstechnisch einfacher ist jedoch eine Lösung, bei der zuerst in einer herkömmlichen VLSI-Anlage die Schaltkreise mit einem annähernd normalen CMOS-Prozess hergestellt werden. Die Scheiben können dann in einer getrennten MEMS(mikroelektromechanischen)-Anlage für die Herstellung der Tintenkanäle weiter verarbeitet werden.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Tintenstrahldruckkopf zu schaffen. Der Erfindung liegt ferner die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Betreiben eines kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckkopfs zu schaffen. Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Schaffung eines Verfahrens zum Ausbilden eines kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckkopfs. Gelöst werden diese Aufgaben durch die in den folgenden Ansprüchen definierte Erfindung.
  • Die Erfindung wird im Folgenden anhand eines in der Zeichnung dargestellten bevorzugten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine schematische Teilaufsicht eines erfindungsgemäß hergestellten Druckkopfs.
  • 1A eine vereinfachte Aufsicht einer Düse mit einem "Kerb"-Heizelement für einen erfindungsgemäßen CIJ-Druckkopf.
  • 1B eine vereinfachte Aufsicht einer Düse mit einem geteilten Heizelement für einen erfindungsgemäß hergestellten CIJ-Druckkopf.
  • 2 eine Querschnittsansicht einer Düse mit einem Kerb-Heizelement und die Arbeitsweise einer Ablaufrinne zum Auffangen nicht umgelenkter Tropfen.
  • 3 eine vereinfachte schematische Schnittansicht entlang der Linie A-B in 1A, die den Düsenbereich am Ende des Fertigungsablaufs in einer nicht erfindungsgemäßen VLSI-CMOS-Anlage zeigt.
  • 4 eine schematische Schnittansicht entlang der Linie A-B einer erfindungsgemäß hergestellten CMOS-kompatiblen Düse.
  • 5 eine schematische perspektivische Ansicht der in 4 dargestellten Düse mit einem mittigen Kanal, der sich durch das Siliciumsubstrat erstreckt.
  • 6 eine Ansicht, die der in 5 dargestellten Ansicht ähnelt, jedoch in der Siliciumscheibe ausgebildete Rippenkonstruktionen zeigt, welche die einzelnen Düsen trennen und die Festigkeit der Konstruktion erhöhen und die Bildung von Wellen im Tintenkanal verringern.
  • 7 eine Ansicht, die der in 4 dargestellten Ansicht ähnelt, jedoch die in 6 dargestellten in der Siliciumscheibe ausgebildeten Rippenkonstruktionen zeigt.
  • 8 eine vereinfachte Darstellung der Aufsicht eines Tintenstrahldruckkopfs mit einer kleinen Anordnung von Düsen, die das Konzept der Bereitstellung von Siliciumrippen in den Tintenkanälen zwischen benachbarten Düsen und einer Querströmungsblockierkonstruktion im Siliciumsubstrat gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung veranschaulicht. Die Rippenkonstruktion und die Blockierkonstruktion sind in dieser Ansicht an sich nicht sichtbar, aber zum besseren Verständnis ebenfalls dargestellt.
  • 9 eine schematische perspektivische Ansicht der in 8 dargestellten Ausführungsform, die einen Tintenstrahldruckkopf mit Siliciumrippenkonstruktionen und einer Querströmungsblockierkonstruktion aus Silicium zeigt.
  • 10 eine schematische Schnittansicht entlang der Linie A-A im Düsenbereich gemäß 1A nach weiterer Ausbildung der Querströmungsblockiervorrichtung aus Silicium gemäß der in 9 dargestellten Ausführungsform.
  • 11 eine schematische Querschnittsansicht entlang der Linie B-B im Düsenbereich gemäß 1A nach Ausbildung des Siliciumblocks zur Erzeugung der Querströmung unter Verwendung eines "Footing"-Effekts zum Entfernen von Silicium am oberen Ende der Blockierkonstruktion.
  • 12 eine schematische Querschnittsansicht entlang der Linie B-B im Düsenbereich nach Ausbildung des Siliciumblocks zur Erzeugung der Querströmung bei Einsatz eines oberseitigen Fertigungverfahrens.
  • 13 eine schematische Ansicht eines beispielhaften kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckkopfs und einer Düsenanordnung während ein Druckmedium (z.B. Papier) unter dem Tintenstrahldruckkopf durchrollt oder transportiert wird.
  • 14 eine perspektivische Ansicht des erfindungsgemäß ausgebildeten CMOS/MEMS Druckkopfs auf einem Stützsubstrat, in das Tinte gefördert wird.
  • 15 eine schematische Ansicht einer Reihe von Düsenlöchern und deren jeweiliger Anordnung in einer Ausnehmung in einer Isolierschicht bzw. Isolierschichten, die das Siliciumsubstrat überlagert bzw. überlagern.
  • Die folgende Beschreibung konzentriert sich auf Elemente, die Bestandteil des erfindungsgemäßen Geräts sind oder mit diesem unmittelbar zusammenwirken.
  • Im Einzelnen hier nicht dargestellte oder beschriebene Elemente können die verschiedensten, dem Fachmann bekannten Formen annehmen.
  • In 13 wird ein mit einem kontinuierlichem Strahl arbeitendes Tintenstrahldruckersystem als Ganzes mit der Bezugsziffer 10 bezeichnet. In den Druckkopf 10a, von dem eine Anordnung von Düsen 20 ausgeht, sind Heizelement-Steuerschaltungen eingebaut (nicht dargestellt).
  • Die Heizelement-Steuerschaltungen lesen Daten aus einem Bildspeicher aus und senden getaktete elektrische Impulse an die Heizelemente der Düsen der Düsenanordnung 20. Mit diesen Impulsen wird die entsprechende Düse während einer entsprechenden Zeitdauer beaufschlagt, sodass aus einem kontinuierlichen Tintenstrahlstrom gebildete Tropfen auf einem Empfangsmedium 13 an der von den Daten aus dem Bildspeicher bestimmten richtigen Stelle Punkte bilden. Unter Druck stehende Tinte strömt aus einem Tintenreservoir (nicht darge stellt) zu einem im Element 14 ausgebildeten Tintenzuführungskanal und durch die Düsenanordnung 20 weiter zum Aufzeichnungsmedium 13 oder zu der Rinne 19. Die Tintenrinne 19 ist so konfiguriert, dass nicht umgelenkte Tintentröpfchen 11 eingefangen werden, während umgelenkte Tröpfchen 12 auf ein Aufzeichnungsmedium gelangen können. Die allgemeine Beschreibung des mit kontinuierlichem Strahl arbeitenden Tintenstrahldruckersystems gemäß 13 kann auch als allgemeine Beschreibung des erfindungsgemäßen Druckersystems dienen.
  • 1 zeigt eine Aufsicht eines erfindungsgemäßen Tintenstrahldruckkopfs. Der Druckkopf umfasst eine Anordnung von Düsen 1a1d in einer geradlinigen oder gestaffelten Konfiguration. Jede Düse wird von einem logischen UND-Glied (2a2d) adressiert, das jeweils eine logische Schaltung und einen Treibertransistor (nicht dargestellt) für das Heizelement enthält. Die logische Schaltung bewirkt, dass sich ein entsprechender Treibertransistor einschaltet, wenn ein entsprechendes Signal auf einer entsprechenden Dateneingangsleitung (3a3d) zum UND-Glied (2a-2d) und den mit dem logischen Glied verbundenen entsprechenden Freigabetaktleitungen (5a5d) sich beide im logischen Zustand EINS befinden. Ferner bestimmen Signale auf den Freigabetaktleitungen (5a5d) die jeweilige Zeitdauer, während der elektrischer Strom durch die Heizelemente in den entsprechenden Düsen 1a1d fließt. Daten zum Ansteuern des Treibertransistors für das Heizelement können aus den in ein Daten-Schieberegister 6 eingegebenen verarbeiteten Bilddaten bereitgestellt werden. Das Verriegelungsregister 7a7d empfängt in Abhängigkeit von einem Verriegelungs-Taktgeber die Daten aus einer entsprechenden Schieberegisterstufe und stellt auf den Leitungen 3a3d ein für das jeweilige verriegelte Signal repräsentatives Signal (logisch EINS oder NULL) bereit, das bestimmt, ob ein Punkt auf einem Empfangsmaterial gedruckt werden soll oder nicht. In der dritten Düse definieren die Linien A-A und B-B die Richtung, in der die Querschnittsansichten verlaufen.
  • 1A und 1B zeigen detailliertere Aufsichten der beiden in CIJ Druckköpfen verwendeten Heizelementausführungen ("mit Kerbe" und "geteilt"). Sie erzeugen eine asymmetrische Aufheizung und infolgedessen Umlenkung des Tintenstrahls. Bei einem geteilten Heizelement bedeutet asymmetrische Aufheizung lediglich, dass dem einen oder dem anderen Abschnitt des Heizelements unabhängig elektrischer Strom zugeführt wird. Bei einem Heizelement mit Kerbe heizt der zugeführte Strom die Tinte ausführungsbedingt asymmetrisch auf. 1A zeigt eine Aufsicht einer Düse eines Tintenstrahldruckkopfs mit einem Heizelement mit Kerbe. Das Heizelement ist angrenzend an die Austrittsöffnung der Düse ausgebildet. Mit Ausnahme einer sehr kleinen Kerbe, die gerade ausreicht, den Fluss des elektrischen Stroms zu unterbrechen, umschließt das Material des Heizelements im Wesentlichen das gesamte Düsenloch. Diese Düsenlöcher und die zugehörigen Heizelemente sind kreisförmig dargestellt, können aber auch nicht kreisförmig ausgebildet sein, wie in der am 17. Dezember 1999 eingereichten, gemeinsam abgetretenen US-Anmeldung Lfd. Nr. 09/466,346, deren Inhalt hiermit durch Verweis zu einem Bestandteil der vorliegenden Anmeldung erklärt wird, von Jeanmaire u.a. offenbart. Wie ebenfalls aus 1 ersichtlich, ist eine Seite eines jeden Heizelements mit einer gemeinsamen Sammelleitung verbunden, die ihrerseits mit der Stromversorgung, in der Regel +5 V, verbunden ist. Die andere Seite eines jeden Heizelements ist mit einem logischen UND-Glied verbunden, in dem sich ein MOS-Treibertransistor befindet, der das Heizelement mit Strom bis zu einer Stromstärke von 30 mA versorgen kann. Das UND-Glied weist zwei logische Eingänge auf. Ein Eingang kommt von der Verriegelung 7a–d, in der Daten von der entsprechenden Schieberegisterstufe erfasst sind, die angeben, ob das betreffende Heizelement während der aktuellen Zeilenzeit aktiviert werden soll oder nicht. Der andere Eingang stellt den Freigabe-Taktgeber dar, der die Zeitdauer und Impulsfolge bestimmt, mit denen das betreffende Heizelement beaufschlagt wird. In der Regel werden im Druckkopf mindestens zwei Freigabe-Taktgeber vorgesehen, damit benachbarte Heizelemente mit geringen Zeitunterschieden eingeschaltet werden können, um thermische und andere Kreuzkopplungseffekte zu vermeiden.
  • 1B zeigt die Düse mit einer geteilten Heizung, bei der im Wesentlichen zwei halbkreisförmige Heizelemente das Düsenloch an dessen Austrittsöffnung umschließen. Getrennte elektrische Leiter verlaufen zu den oberen und unteren Segmenten eines jeden Halbkreises, wobei mit oberen und unteren Elementen hier Elemente in derselben Ebene gemeint sind.
  • Verbindungslöcher (Durchkontaktierungen) verbinden die Leiter elektrisch mit den ihnen jeweils zugeordneten Metallschichten. Diese Metallschichten sind ihrerseits mit einer auf einem Siliciumsubstrat ausgebildeten Treiberschaltung verbunden, wie im Folgenden beschrieben.
  • 2 zeigt eine vereinfachte Querschnittsansicht einer Düse im Betrieb. Die Düse bewirkt, dass Tröpfchen umgelenkt oder nicht umgelenkt werden. Wie oben erwähnt, ist unter den Düsenlöchern ein Tintenkanal für die Zuführung der Tinte ausgebildet. Die Tintenzuführung erfolgt bei einem Lochdurchmesser von etwa 8,8 μm in der Regel mit einem Druck von 15 bis 25 psi unter Verwendung einer typischen Tinte mit einer Viskosität von max. 4 Zentipoise. Die Tinte im Zuführungskanal kommt aus einem druckbeaufschlagten Reservoir (nicht dargestellt) und steht daher unter Druck. Dieser Druck wird so eingestellt, dass sich für die aus den Düsen austretenden Flüssigkeitsströme die gewünschte Geschwindigkeit ergibt. Der Druck kann mit einem Tintendruckregler (nicht dargestellt) konstant gehalten werden. Wenn dem Heizelement kein Strom zugeführt wird, bildet sich ein geradliniger Strahl, der direkt in die Rinne fließt. An der Oberfläche des Druckkopfs bildet sich um jede Düse ein symmetrischer Meniskus, dessen Durchmesser ein paar μm größer ist als der Lochdurchmesser. Wenn das Heizelement mit einem elektrischen Impuls beaufschlagt wird, verkürzt sich der Meniskus auf der beheizten Seite, sodass der Strahl in die vom Heizelement wegführende Richtung abgelenkt wird. Die sich bildenden Tröpfchen umgehen dann die Rinne und landen auf dem Empfangsmaterial. Wenn der durch das Heizelement fließende elektrische Strom auf null zurückgestellt wird, wird der Meniskus wieder symmetrisch, sodass der Strahl wieder geradlinig verläuft. Die Vorrichtung könnte ebenso gut auch umgekehrt arbeiten. In dem Fall würden die abgelenkten Tröpfchen in die Rinne gelenkt werden und der Druck auf dem Empfangsmaterial mit den nicht abgelenkten Tröpfchen erfolgen. Es müssen auch nicht unbedingt alle Düsen in einer Linie angeordnet werden. Es ist jedoch einfacher, eine Rinne zu bauen, die eine im Wesentlichen gerade Kante aufweist, als eine Rinne, deren Kante entsprechend der gestaffelten Düsenanordnung gestuft ist.
  • Im typischen Betrieb beträgt der Heizwiderstand für ein Heizelement, das einem Lochdurchmesser von 8,8 μm angepasst ist, etwa 400 Ohm, die Stromamplitude 10 bis 20 mA, die Impulsdauer etwa 2 Mikrosekunden und der sich dabei ergebende Umlenkungswinkel für reines Wasser nur wenige Grade. Diesbezüglich wird auf US-A-6 213 595 B1 mit dem Titel "Continuous Ink Jet Printhead Having Power-Adjustable Segmented Heaters" und auf US-A-6 217 163 B1 mit dem Titel "Continuous Ink Jet Printhead Having Multi-Segment Heaters", verwiesen. Bei Beaufschlagung mit periodischen elektrischen Impulsen löst sich der Strahl synchron zu den angelegten Impulsen in Tröpfchen auf. Diese Tröpfchen bilden sich in einem Abstand von etwa 100 bis 200 μm von der Oberfläche des Druckkopfs und haben bei einem Düsenlochdurchmesser von 8,8 μm und einer Impulsbreite von etwa 2 ms und Impulsfrequenz von 200 kHz typischerweise ein Volumen von 3 bis 4 pL. Das erzeugte Tropfenvolumen ist abhängig von der Impulsfrequenz, dem Lochdurchmesser und der Geschwindigkeit des Strahls. Bei einem gegebenen Lochdurchmesser und einer gegebenen Viskosität der Flüssigkeit wird die Geschwindigkeit des Strahls, wie bereits erwähnt, von dem angelegten Druck bestimmt. Der Lochdurchmesser kann 1 μm bis 100 μm betragen und beträgt vorzugsweise 6 μm bis 16 μm. Folglich wird die Impulsfrequenz des Heizelements so gewählt, dass sich das gewünschte Tropfenvolumen ergibt.
  • Die Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie A-B in 3 zeigt eine unvollständige Stufe in der Herstellung eines Druckkopfs, in dem später Tintenkanäle auf demselben Siliciumsubstrat ausgebildet werden, auf dem die CMOS-Schaltungen bereits ausgebildet worden sind.
  • Wie bereits erwähnt, werden die CMOS-Schaltungen als eine oder mehrere integrierte Schaltungen zuerst auf den Siliciumscheiben hergestellt. Der CMOS-Prozess kann dabei als normaler 0,5 μm Mischsignalprozess mit 2 Polysiliciumebenen und drei Metallebenen auf einer Scheibe mit einem Durchmesser von 6 Zoll ausgeführt werden. Die typische Scheibendicke beträgt 675 μm. In 3 wird dieser Prozess von den drei durch elektrisch leitfähige Verbindungslöcher miteinander verbundenen Metallschichten dargestellt. Die Polysiliciumebene 2 und eine N+ Diffusion und Kontaktierung der Metallschicht 1 zeigen die aktive Schaltung im Siliciumsubstrat. Gate-Elektroden für die CMOS-Transistoren werden aus einer der Polysiliciumschichten ausgebildet.
  • Weil die Metallschichten elektrisch isoliert werden müssen, werden zwischen ihnen dielektrische Schichten aufgebracht. Dadurch ergibt sich an der Oberseite der Siliciumscheibe eine Gesamtschichtdicke von etwa 4,5 μm.
  • Der in 3 dargestellte Aufbau würde grundsätzlich die erforderlichen Transistoren und Verknüpfungsglieder für die in 1 dargestellten Steuerungskomponenten bereitstellen. Zusätzlich stellt der CMOS-Prozess erfindungsgemäß auch eine Polysiliciumschicht als Heizelement für die asymmetrische Beheizung der Tinte an einer Düsenöffnung bereit. Außerdem wird gleichzeitig mit dem Ätzen der Oxid/Nitrid-Schicht über den Kontaktflecken eine Ausnehmung über dem Düsenloch geätzt, wobei die Düsenlöcher anschließend fotolithografisch definiert und geätzt werden, da diese Schritte mit einer VLSI CMOS-Bearbeitung kompatibel sind.
  • Die herkömmlichen CMOS-Fertigungsschritte ergeben ein Siliciumsubstrat mit einer Dicke von ca. 675 μm und einem Durchmesser von etwa 6 Zoll. Siliciumscheiben mit größerem oder kleinerem Durchmesser können ebenfalls verwendet werden. In dem Siliciumsubstrat wird in bekannten herkömmlichen Schritten durch gezieltes Aufbringen verschiedener Werkstoffe eine Vielzahl von Transistoren ausgebildet. Auf dem Siliciumsubstrat sind mehrere Schichten gelagert, die später eine Oxid/Nitrid-Isolierschicht bilden, in der entsprechend dem gewünschten Muster eine oder mehrere Polysilicium- und Metallschichten ausgebildet werden. Zwischen den verschiedenen Schichten und zu den Kontaktflecken werden nach Bedarf elektrisch leitfähige Verbindungslöcher vorgesehen. Die verschiedenen Kontaktflecken dienen zur Herstellung von Verbindungen für Daten, einen Verriegelungstaktgeber, Freigabetaktgeber und elektrischen Strom, der bzw. die von einer neben dem Druckkopf angeordneten oder entfernt von diesem angebrachten und mit dem Druckkopf verbundenen Schaltkarte bereitgestellt werden. In der Düsenanordnung werden natürlich mehrere Kontaktflecken ausgebildet, auch wenn in der Zeichnung nur einer dargestellt ist. Wie in 3 angegeben, ist die Oxid/Nitrid-Isolierschicht etwa 4,5 μm dick. Der in 3 dargestellte Aufbau würde grundsätzlich die erforderlichen Verbindungen, Transistoren und Verknüpfungsglieder für die in 1 dargestellten Steuerungskomponenten sowie die Düsenkonstruktion über der Siliciumscheibe bereitstellen.
  • Je nach Lochdurchmesser und tolerierbarer Größe des zusätzlichen Widerstandes und der Energiedissipation kann die in 4 dargestellte Ausnehmung über dem Düsenloch die verschiedensten Größen und Formen aufweisen. Der zusätzliche Widerstand ist durch die Länge des Polysiliciums bedingt, das sich von dem Metall und Kontaktbereich des Verbindungslochs bis zu dem Heizelement am Rand des Düsenlochs erstrecken muss. Wenn die Ausnehmung kreiszylindrisch ausgebildet ist, kann die Ausnehmung im Durchmesser 10 μm bis 100 μm größer sein als der Durchmesser des Düsenlochs. Natürlich kann die Ausnehmung jedoch nicht so groß sein, dass sie auf eine benachbarte Düse stößt oder die Unversehrtheit der Metallschichten und Verbindungslöcher beeinträchtigt. Der typische Ausnehmungsdurchmesser für den typischen Düsenlochdurchmesser von 8,8 μm beträgt 22 μm.
  • Bei einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist die Ausnehmung nicht kreisförmig ausgebildet. In der in 15 dargestellten schematischen Aufsicht des Druckkopfs ist die Ausnehmung annähernd elliptisch ausgebildet und so ausgerichtet, dass eine Gerade durch die Mitte der Ellipse entlang der längeren Symmetrierichtung der Ellipse (längerer Durchmesser) annähernd rechtwinklig zu einer Geraden durch die Düsenreihe verläuft. Wenn sich in dieser Ausnehmung Flüssigkeit ansammelt, steht für diese Flüssigkeit mehr Raum zur Verfügung, sodass die Auswirkungen einer solchen Flüssigkeitsansammlung auf die Leistung der Düse minimal sind und die Düsen trotzdem mit hoher Dichte entlang der Düsenreihe angeordnet werden können. Elliptisch ist natürlich nur eine von mehreren möglichen länglichen und trotzdem symmetrischen Formen für diese Ausnehmung. Die Angabe der Ellipse ist daher nicht als Begrenzung hinsichtlich der Ausnehmung aufzufassen.
  • Unabhängig von der Form der Ausnehmung beträgt deren typische Tiefe etwa 3,5 μm, was eine typische Lochmembrandicke von 1,0 μm ergibt. Die Ausnehmungstiefe kann von 1 μm bis 3,5 μm, die Lochmembrandicke von 3,5 μm bis 1 μm reichen. Entlang der Siliciumanordnung werden natürlich zahlreiche Düsenlöcher gleichzeitig geätzt. Das eingebettete Heizelement erstreckt sich wirksam um das jeweilige Düsenloch und ist in der Nähe des Düsenlochs angeordnet, was die Anforderung an die zum Aufheizen der Tintentropfen im Loch erforderliche Temperatur verringert.
  • Jetzt werden die Siliciumscheiben aus der CMOS-Anlage entnommen. Zuerst wird ihre Dicke von anfangs 675 μm auf etwa 300 μm verringert. Dann wird an der Rückseite der Scheiben eine Maske zum Öffnen von Tintenkanälen angelegt und das Silicium in einer SDS-Ätzvorrichtung bis zur Vorderseite des Siliciums geätzt. Zum Ausrichten der Tintenkanalöffnungen in der Rückseite der Scheibe zu der Düsenanordnung in der Vorderseite der Scheibe kann ein Ausrichtsystem, wie zum Beispiel das Ausrichtsystem Karl Suss 1X, verwendet werden.
  • 5 zeigt den im Siliciumsubstrat ausgebildeten Tintenkanal als rechteckigen Hohlraum, der mittig unter der Düsenanordnung durchläuft. Ein länglicher Hohlraum in der Mitte des Chip kann jedoch die konstruktive Festigkeit der Druckkopfanordnung schwächen, sodass bei Torsionsbeanspruchung der Anordnung, beispielsweise während der Bestückung, die Membran reißen könnte. Außerdem können durch niederfrequente Druckwellen verursachte Druck schwankungen in den Tintenkanälen entlang der Druckköpfe dazu führen, dass der Tintenstrahl zittert. Eine verbesserte Ausführung wird im Folgenden beschrieben. Diese Verbesserung besteht darin, dass man beim Ätzen des Tintenkanals zwischen den einzelnen Düsen der Düsenanordnung eine Siliciumbrücke oder -rippe stehen lässt. Diese Brücken erstrecken sich durchgehend von der Rückseite zur Vorderseite der Siliciumscheibe. Infolgedessen besteht der in der Rückseite der Scheibe ausgebildete Tintenkanal nicht aus einer länglichen rechteckförmigen Ausnehmung parallel zur Richtung der Düsenreihe, sondern aus einer Reihe kleinerer rechteckiger Hohlräume, die jeweils nur eine Düse mit Tinte versorgen, siehe 6 und 7. Durch die Verwendung dieser Rippen wird die Festigkeit der Siliciumkonstruktion verbessert, wohingegen der längliche Hohlraum in der Mitte des Chips die konstruktive Festigkeit des Druckkopfs schwächen kann. Außerdem verringern die Rippen oder Brücken tendenziell durch niederfrequente Druckwellen verursachte Druckschwankungen in den Tintenkanälen, die, wie oben erwähnt, dazu führen können, dass der Strahl zittert. In diesem Beispiel wird jeder Tintenkanal als Rechteck mit einer Abmessung von 20 μm entlang der Richtung der Düsenreihe und einer Abmessung von 120 μm in der quer und vorzugsweise rechtwinklig zur Düsenreihe verlaufenden Richtung hergestellt.
  • Wie oben erwähnt, ist es bei einem CIJ-Drucksystem wünschenswert, die Strahlumlenkung dadurch weiter zu verstärken, dass mehr Tinte mit quergerichteten Bewegungsenergiekomponenten in das Düsenloch eintritt als mit axial gerichteten Bewegungsenergiekomponenten. Erreicht werden kann dies durch Ausbildung einer Sperre in der Mitte eines jeden Düsenelements unmittelbar unter dem Düsenloch.
  • Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird im Folgenden anhand von 812 ein Verfahren zur Herstellung einer Düsenanordnung mit einer gerippten Konstruktion der oben beschriebenen Art beschrieben, die jedoch außerdem eine Querströmungskonstruktion aufweist.
  • In 10 zeigt die Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie A-A die Seitenströmungssperre und Siliciumrippen. 11 zeigt eine Querschnittsansicht entlang der Schnittlinie B-B. Ein erstes Verfahren zum Ausbilden der Siliciumsperre basiert auf einem als "Footing" bezeichneten Phänomen des STS-Ätzers. Wenn die Siliciumätzung die Schnittstelle zwischen Silicium und Siliciumdioxid erreicht, erfolgt dabei eine hochschnelle seitliche Ätzung, weil das Oxid aufgeladen wird und die auftreffenden reaktionsfähigen Siliciumätzionen seitlich abgelenkt werden. Diese schnelle seitliche Ätzung erstreckt sich über etwa 5 μm. Anschließend werden die Scheiben in eine herkömmliche Plasmaätzkammer verbracht, in der das Silicium in der Mitte des Düsenlochs anisotropisch in einem Bereich von etwa 3 μm bis etwa 6 μm, typisch etwa 5 μm, ausgeätzt wird. Die Querschnittsansichten in 10 und 11 zeigen die sich auf diese Weise ergebende Konstruktion. In dem schraffierten Bereich in 11 wurde das Silicium entfernt, um eine Zugangsöffnung zwischen einem in dem Siliciumsubstrat ausgebildeten primären Tintenkanal und dem Düsenloch zu schaffen.
  • Bei einem zweiten Verfahren wird von dem "Footing"-Effekt nicht Gebrauch gemacht. Stattdessen wird das Silicium im Düsenloch isotropisch von der Vorderseite der Scheibe in einem Bereich von etwa 3 μm bis etwa 6 μm, typisch etwa 5 μm, ausgeätzt. Anschließend wird durch die isotropische Ätzung Silicium sowohl seitlich als auch senkrecht entfernt, sodass schließlich das im Querschnitt in 12 gezeigte Silicium nicht mehr vorhanden ist und eine fluidische Berührung zwischen dem Tintenkanal und dem Düsenloch möglich wird. Bei dieser Lösung ist die Sperre kürzer, weil die Ätzung von oben nach unten erfolgt und der schraffierte Siliciumbereich dabei entfernt wird.
  • Wie schematisch in 11 und 12 dargestellt, wird der dominierende Einfluss auf die in das Düsenloch einströmende Tinte von seitlichen Bewegungsenergiekomponenten ausgeübt, was für eine verstärkte Tropfenumlenkung wünschenswert ist. Bei den oben beschriebenen Ätzprozessen kann zum Ausrichten der Tintenkanalöffnungen in der Rückseite der Scheibe zu der Düsenanordnung in der Vorderseite der Scheibe ein Ausrichtsystem, wie zum Beispiel das Ausrichtsystem von Karl Suss, verwendet werden.
  • 9 zeigt eine perspektivische Ansicht der Düsenanordnung mit einer silicicumbasierten Sperre. Die Oxid/Nitrid-Schicht wurde teilweise entfernt, um die Sperre unter dem Düsenloch sichtbar zu machen. Das Düsenloch ist über eine Zugangsöffnung von der Oberseite der Sperre beabstandet. Wie aus 11, 12 ersichtlich, veranlasst die im Siliciumsubstrat ausgebildete Sperre die im Tintenhohlraum unter Druck stehende Tinte, um die Sperre herum zu fließen und seitliche Bewegungsenergiekomponenten zu entwickeln. Diese seitlichen Bewe gungsenergiekomponenten können durch asymmetrische Beheizung ungleich gestaltet werden, was dann zu der in 11 und 12 dargestellten Umlenkung des Tintenstroms führt.
  • Obwohl sich die vorangehende Beschreibung auf die Ausbildung nur einer Düse bezieht, eignet sich der Prozess natürlich für eine ganze Reihe von in einer Reihe entlang der Scheibe ausgebildeten Düsen. Die Anordnung kann in einer geraden Linie oder, weniger bevorzugt, in abgestufter Ausbildung erfolgen.
  • Die Polysilicium-Heizelemente tragen zur asymmetrischen Reduzierung der Viskosität der Tinte bei. So wird zum Beispiel in der Darstellung gemäß 11 und 12 die durch die Zugangsöffnung strömende Tinte auf der linken Seite der Sperre beheizt, während die durch die Zugangsöffnung strömende Tinte auf der rechten Seite der Sperre nicht beheizt wird. Durch dieses asymmetrische Vorheizen des Tintenstroms wird die Viskosität der Tinte mit den seitlichen Bewegungsenergiekomponenten in einer für die Umlenkung wünschenswerten Weise tendenziell reduziert und weil tendenziell mehr Tinte in den Bereich der reduzierten Viskosität fließt, wird die Tendenz zur Umlenkung der Tinte in die gewünschte Richtung, d.h. weg von den Heizelementen am Düsenloch, verstärkt.
  • Wie in 11 und 12 schematisch gezeigt, wird die in das Düsenloch einströmende Tinte in einer für eine verstärkte Tropfenumlenkung wünschenswerten Weise dominierend von den seitlichen Bewegungsenergiekomponenten beeinflusst. Die Zugangsöffnungen zwingen die Tinte, unter Druck zwischen dem Kanal und der Düsenöffnung oder dem Düsenloch zu fließen. Dadurch entwickelt die Tinte seitliche Strömungskomponenten, weil der direkte axiale Zugang zu dem sekundären Tintenkanal von der Siliziumsperre wirksam blockiert wird.
  • Somit kann erfindungsgemäß Polysilicium oder ein anderes als Heizelement geeignetes Material, das während der CMOS-Bearbeitung der integrierten Schaltungen verarbeitet und definiert werden kann, als Heizelement zum asymmetrischen Aufheizen des Tintenstroms in einem kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldrucker eingesetzt werden. Dies ermöglicht eine minimale Nachbearbeitung, weil während des MEMS-Prozesses keine Heizelemente oder Düsenöffnungen auf dem Druckkopf ausgebildet werden müssen, da diese bereits während der vorangehenden CMOS-Bearbeitung ausgebildet worden sind. Die Verwendung von Poly silicium-Heizelementen im Gegensatz zu TiN-Heizelementen, die während der MEMS-Bearbeitung hinzugefügt werden können, hat den Vorteil, dass die Heizelemente mit einer höheren Temperatur betrieben werden könnten, sodass ein höheres Potential für die Umlenkung des Tintenstroms zur Verfügung steht, was für die Auslegung eines kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckers ein wichtiger Gesichtspunkt ist.
  • In 14 ist der fertige CMOS/MEMS-Druckkopf 120 in einer beliebigen der hier beschriebenen Ausführungsformen auf einer Halterung 110 mit zwei in der Nähe von Endabschnitten der Halterung angeschlossenen Tintenzuführungsleitungen 130L, 130R zur Zuführung von Tinte zu den Enden eines in Längsrichtung verlaufenden, in der Halterung ausgebildeten Kanals montiert. Der Kanal ist der Rückseite des Druckkopfs 120 zugewandt und steht daher mit der im Siliciumsubstrat des Druckkopfs 120 ausgebildeten Tintenkanalanordnung in Verbindung.
  • Die Halterung, beispielsweise ein keramisches Substrat, ist an ihren Enden mit Befestigungsbohrungen für die Befestigung an einem Druckersystem versehen.

Claims (20)

  1. Tintenstrahldruckkopf mit: einem Siliciumsubstrat, das einen darin ausgebildeten und sich entlang dem Substrat erstreckenden Tintenkanal oder mehrere solcher Tintenkanäle aufweist; einer Isolierschicht bzw. Isolierschichten, die das Siliciumsubstrat überlagert bzw. überlagern und eine Reihe von Tintenstrahl-Düsenlöchern aufweist bzw. aufweisen, dadurch gekennzeichnet, dass das Siliciumsubstrat eine darin ausgebildete integrierte Schaltung zum Steuern des Betriebs des Druckkopfs aufweist; wobei jedes Düsenloch in einer entsprechenden Ausnehmung der Isolierschicht bzw. Isolierschichten ausgebildet ist, die Ausnehmung durch Ätzen oder einen anderen Materialabbauprozess entstanden ist und jedes Loch mit einem Tintenkanal in Verbindung steht; und wobei jedes Düsenloch in seiner Nachbarschaft ein Heizelement umfasst, das vor dem Materialabbauprozess ausgebildet worden ist, damit die Ausnehmung entsteht, so dass jedes Heizelement von Material der Isolierschicht bzw. Isolierschichten bedeckt ist, und wobei die Ausnehmung nicht kreisförmig ausgebildet ist.
  2. Tintenstrahldruckkopf nach Anspruch 1, worin die Isolierschicht bzw. Isolierschichten eine Reihe vertikal getrennter Ebenen von elektrisch leitfähigen Anschlüssen und elektrisch leitfähigen Verbindungslöchern aufweist bzw. aufweisen, die mindestens einige der Ebenen verbinden.
  3. Druckkopf nach Anspruch 1 oder 2, worin die Heizelemente aus Polysilicium bestehen.
  4. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 3, worin die Isolierschicht bzw. Isolierschichten aus einem Oxid besteht bzw. bestehen.
  5. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 4, worin die integrierte Schaltung CMOS Bauteile aufweist.
  6. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 5, worin der Druckkopf ein kontinuierlich arbeitender Tintenstrahldruckkopf ist und worin eine Ablaufrinne vorgesehen und in einer Position angebracht ist, derart, dass sich darin Tropfen sammeln, die zum Drucken nicht ausgewählt sind.
  7. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 6, worin die Ausnehmung eine dünne Membrane bildet, durch die das Düsenloch sich erstreckt, und worin die Membrane über dem Tintenkanal liegt und zwischen 1 und 3,5 μm dick ist.
  8. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 7, worin die nicht kreisförmige Ausnehmung elliptisch ist.
  9. Tintenstrahldruckkopf nach Anspruch 8, worin die Ausnehmungen in einer Reihe angeordnet sind und ein größter Durchmesser der elliptischen Ausnehmung rechtwinklig zur Reihe verläuft.
  10. Tintenstrahldruckkopf nach einem der Ansprüche 1 bis 9, worin das Loch einen Durchmesser im Bereich von 6 bis 16 μm hat und die Ausnehmung einen Durchmesser aufweist, der 10 bis 100 μm größer ist als der Lochdurchmesser.
  11. Verfahren zum Betreiben eines kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckkopfs mit den Schritten: Bereitstellen eines Tintenstrahldruckkopfs, bei dem jede Düsenöffnung in einer entsprechenden, nicht kreisförmigen Ausnehmung in einer ein Siliciumsubstrat abdeckenden Isolierschicht bzw. in Isolierschichten ausgebildet ist, und bei dem ein Heizelement einer jeden Düsenöffnung zugeordnet und in der Ausnehmung angeordnet ist, wobei das einer jeden Düsenöffnung zugeordnete Heizelement vor einem Materialabbauprozess ausgebildet worden ist, damit die Ausnehmung entsteht, so dass jedes Heizelement von Material der Isolierschicht bzw. Isolierschichten bedeckt ist; Bereitstellen von flüssiger Tinte unter Druck in einem Tintenkanal, der im Siliciumsubstrat ausgebildet ist, das eine Reihe darin ausgebildeter integrierter Schaltungen zum Steuern des Betriebs des Druckkopfs umfasst; und asymmetrisches Aufheizen der Tinte an einer Düsenöffnung, um eine Umlenkung von Tintentropfen zu bewirken, wobei jede Düsenöffnung mit einem Tintenkanal in Verbindung steht und die Düsenöffnungen als eine sich in einer vorbestimmten Richtung erstreckende Anordnung angeordnet sind.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, worin eine Ablaufrinne Tintentropfen sammelt, die zum Drucken nicht ausgewählt sind.
  13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, worin Signale aus den integrierten Schaltungen zu den Heizelementen übertragen werden zum Steuern des Betriebs der Heizelemente.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, worin die Isolierschicht bzw. Isolierschichten eine Reihe vertikal getrennter Ebenen mit elektrisch leitfähigen Anschlüssen und elektrisch leitfähigen Verbindungslöchern aufweist bzw. aufweisen, die mindestens einige der Ebenen verbinden, und worin Signale von den im Substrat ausgebildeten CMOS Bauteilen durch die elektrisch leitfähigen Verbindungslöcher übertragen werden.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, worin die Heizelemente aus Polysilicium bestehen und Polysilicium in der Isolierschicht bzw. den Isolierschichten auch als Gate-Elektroden für im Siliciumsubstrat ausgebildete CMOS Bauteile verwendet werden.
  16. Verfahren zum Ausbilden eines kontinuierlich arbeitenden Tintenstrahldruckkopfs mit den Schritten: Bereitstellen eines Siliciumsubstrats mit einer integrierten Schaltung zum Steuern des Betriebs des Druckkopfs, wobei das Siliciumsubstrat eine darauf ausgebildete Isolierschicht bzw. darauf ausgebildete Isolierschichten aufweist, die darin ausgebildete elektrische Stromleiter und Heizelemente umfasst bzw. umfassen, welche elektrisch mit im Siliciumsubstrat ausgebildeten Schaltungen verbunden sind; und Ausbilden in der Isolierschicht bzw. den Isolierschichten einer Reihe oder Anordnung von Tintenstrahllöchern in einer geraden Linie oder in abgestufter Ausbildung jeweils in einer entsprechenden nicht kreisförmigen Ausnehmung in der Isolierschicht bzw. den Isolierschichten, wobei jedes Loch an einem Ort in der Nähe eines Heizelements ausgebildet wird, wobei das Heizelement vor einem Materialabbauprozess ausgebildet worden ist, damit die Ausnehmung entsteht, so dass jedes Heizelement von Material der Isolierschicht bzw. Isolierschichten bedeckt ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 16, worin die Ausnehmungen und Löcher durch Abbau von Material von der Isolierschicht bzw. den Isolierschichten ausgebildet werden.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 17, worin die Ausnehmung eine dünne Membrane bildet, durch die das Düsenloch sich erstreckt, und worin die Membrane über dem Tintenkanal liegt und zwischen 1 und 3,5 μm dick ist.
  19. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 18, worin die Ausnehmung elliptisch ausgebildet ist.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 19, worin die Düsenöffnung einen Durchmesser im Bereich von 6 bis 16 μm hat und die entsprechende Ausnehmung einen Durchmesser aufweist, der 10 bis 100 μm größer ist als der Lochdurchmesser.
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