DE4436425A1 - Verfahren zur Reinigung von polierten Metallflächen - Google Patents
Verfahren zur Reinigung von polierten MetallflächenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Reinigungsmittel zum Reinigen
beispielsweise von polierten, insbesondere hochpolierten
Metallflächen gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1. Weiterhin
beschreibt die Erfindung ein Verfahren zum Reinigen unter
Verwendung dieses Reinigungsmittels.
Bisher waren für die Reinigung von polierten Metallteilen mehrere
Arbeitsschritte notwendig, die Teile wurden erst gereinigt,
anschließend sich von dem Reinigungsmittel bildende Flecken von
den hochpolierten Teilen entfernt, und schließlich wurden bei
Bedarf auch noch die gereinigten Flächen aufgehellt, insbesondere
bei Kupfer-, Bronze- oder Messingteilen.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Reinigungsmittel zu schaffen,
das die Reinigung von hochpolierten Metallteilen in einem
einzigen Arbeitsschritt ermöglicht.
Außerdem wird erfindungsgemäß ein Reinigungsverfahren unter
Einsatz des Reinigungsmittels vorgeschlagen.
Die Aufgabe wird gelöst durch den Anspruch 1. Das
Reinigungsverfahren ist in Anspruch 8 beschrieben.
Das erfindungsgemäße Reinigungsmittel besteht aus einem Gemisch
aus Lösungsmittel und einer aktiven Aminkomponente. Als
Lösungsmittel können dabei eingesetzt werden
ein Alkohol der allgemeinen Formel
ein Alkohol der allgemeinen Formel
R-CH₂-OH
wobei R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer
Kettenlänge von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
ein Kohlenwasserstoff mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen,
ein Glykolether der allgemeinen Formel
ein Kohlenwasserstoff mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen,
ein Glykolether der allgemeinen Formel
wobei R₁ ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer
Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen ist, und R₂ und R₃ ein
Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit
einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
ein Glykolether der allgemeinen Formel
ein Glykolether der allgemeinen Formel
wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder
ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10
Kohlenstoffatomen sind,
ein Dipropolyenglykolether der allgemeinen Formel
ein Dipropolyenglykolether der allgemeinen Formel
wobei R₁ und R₂ ein Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 6
Kohlenstoffatomen sind,
oder ein Gemisch von zwei oder mehreren Bestandteilen dieser Gruppe.
oder ein Gemisch von zwei oder mehreren Bestandteilen dieser Gruppe.
Für die aktive Aminkomponente können eingesetzt werden eine
Amidverbindung der allgemeinen Formel
wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein
iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 20
Kohlenstoffatomen sind,
einer Aminverbindung der allgemeinen Formel
einer Aminverbindung der allgemeinen Formel
R-NH₂
wobei R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer
Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
ein Diaminverbindung der Formel
ein Diaminverbindung der Formel
R-NH-(CH₂)n-NH₂
wobei n = 1 bis 10 und
R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
ein Alkanol - Amin der allgemeinen Formel
(HO-(CH₂)n-CH₂)o-N(H)m
R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
ein Alkanol - Amin der allgemeinen Formel
(HO-(CH₂)n-CH₂)o-N(H)m
wobei
m = 0 bis 2,
n = 1 bis 10, und
o = 0 bis 3,
ein Aminoalkohol der allgemeinen Formel
m = 0 bis 2,
n = 1 bis 10, und
o = 0 bis 3,
ein Aminoalkohol der allgemeinen Formel
wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein
iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10
Kohlenstoffatomen sind,
ein Polyamin,
eine offenkettige und/oder zyklische organische Verbindung mit mehreren Aminogruppen,
ein Polyaminoamid der allgemeinen Formel
ein Polyamin,
eine offenkettige und/oder zyklische organische Verbindung mit mehreren Aminogruppen,
ein Polyaminoamid der allgemeinen Formel
mit R₁ = R₂ = (CH₂)n, wobei n = 1-10, und
R₃ =(C₂)m, wobei m = 1-10
oder ein Gemisch aus diesen Komponenten.
R₃ =(C₂)m, wobei m = 1-10
oder ein Gemisch aus diesen Komponenten.
Insbesondere bevorzugte Lösungsmittel sind dabei
Propylenglykolether der Formel (1)
mit folgenden Werten für R₁ und R₂:
in Abmischung mit einem Dipropylenglykolether der allgemeinen
Formel (2)
wobei R₁ und R₂ jeweils CH₃ Gruppen sind.
Als eine Mischung hat sich dabei bewährt eine Zusammensetzung von
Formel (1)(c) und Formel (2) in 80 Gew% der Formel (1)(c) und 15
Gew% der Formel (2).
Ebenfalls gute Eigenschaften weist ein Lösungsmittel der Formel
(1)(b) mit 28 Gew% und der Formel (2) mit 67 Gew% auf.
In beiden Fällen betrug die Aminkomponente 5 Gew%, als besonders
geeignet haben sich erwiesen die Komponenten:
NH-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂
wobei R = C₁₂H₂₅ oder C₁₆H₃₃, oder aber die Komponente
wobei R = C₁₁H₂₃.
In einem Verfahren zur Anwendung dieses Reinigungsmittels wird in
einer geschlossenen Anlage das Medium, ein Gemisch aus
Lösungsmittel und der aktiven Aminkomponente eingebracht. Die
polierten, sich in der geschlossenen Anlage befindlichen
Metallteile werden dem flüssigen Reinigungsmittel ausgesetzt,
dabei bewirkt die aggressive Aminkomponente vor allem bei Kupfer,
Bronze und Messing ein Aufhellen der Oberfläche, was zur
Weiterverarbeitung der Metallteile erwünscht ist, vor allem, wenn
die Teile verklebt oder überlackiert werden.
Zur weiteren Behandlung ist das Reinigungsmedium derart
abgestimmt, daß der Verdampfungspunkt der Aminkomponente deutlich
höher liegt als der des Lösungsmittels. Es wird in der gleichen,
abgeschlossenen Kammer dann eine Dampfphase eingeleitet, in der
die zu reinigenden Metallteile einem Lösungsmitteldampf
ausgesetzt werden, während die Aminkomponente, die aufgrund ihrer
hohen Aggressivität in der Dampfphase unerwünscht ist, weiterhin
im flüssigen Zustand beleibt. Damit findet ein "Abwaschen" der
Metallteile von der Reinigungsflüssigkeit statt, indem das
Lösungsmittel in seinem dampfförmigen Zustand die Metallteile
abspült und die Reinigungsmittelreste abträgt, während eine
unerwünschte Fleckenbildung durch die Aktivität der
Aminkomponente vermieden wird, die nicht in die Dampfphase
übergegangen ist.
Die somit gereinigten Teile können anschließend getrocknet
werden.
In vorteilhafter Weise findet aufgrund der hohen Siedepunkte die
Verdampfung bei Unterdruck oder im Vakuum statt, und in einfacher
weise kann die Trocknung durchgeführt werden, indem unter
Aufrechterhaltung des Vakuums die weiter Einleitung von Dampf
vermieden wird und die Gegenstände somit im Vakuum getrocknet
werden.
Damit kann die Reinigung durchgeführt werden, ohne daß die zu
reinigenden Metallteile mehrere Stationen durchlaufen müssen.
Zusätzlich kann natürlich die Trocknung durch Zufuhr von Warmluft
verbessert werden.
Einem Gemisch eines Propylenglykol-n-butylether gemäß Formel
(1)(b) mit 28 Gew% und einem Dipropylenglykol-dimethyl-ether der
Formel (2) als Lösungsmittel wird ein Alkylpropylendiamin der
Formel
R-NH-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂
mit R = C₁₂H₂₅ und einem Anteil von 5 Gew% hinzugegeben.
In diesem Gemisch wurden Messing- und Aluminiumgußteile
gleichzeitig gereinigt, was nach bisherigen Reinigungsverfahren
nicht möglich ist.
Dem Reinigungsmittel waren die Teile für 6 Minuten bei einer
Temperatur zwischen 21°C und 25°C ausgesetzt.
Anschließend wurden die Teile bei gleicher Temperatur für 3
Minuten gespült und dann zusätzlich einer Dampfspülung bei 85°C
für 3 bis 4 Minuten ausgesetzt.
Nach einer 3 1/2 Minuten dauernden Vakuumtrocknung erwiesen sich
die Teile als sauber, fleckenfrei und zeigten den gewünschten
Aufhellungseffekt.
Claims (11)
1. Mittel zum Reinigen beispielsweise von polierten, insbesondere
hochpolierten Metallflächen, dadurch gekennzeichnet, daß es aus
einem Gemisch aus Lösungsmittel und einer aktiven Aminkomponente
besteht, Lösungsmittel aus einer Gruppe ausgewählt ist, die
besteht aus
einem Alkohol der allgemeinen Formel R-CH₂-OHwobei R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einem Kohlenwasserstoff mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen,
einem Glykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen ist, und R₂ und R₃ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
einem Glykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
ein Dipropolyenglykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 6 Kohlenstoffatomen sind,
oder aus einem Gemisch von zwei oder mehreren Bestandteilen der Gruppe.
einem Alkohol der allgemeinen Formel R-CH₂-OHwobei R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einem Kohlenwasserstoff mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen,
einem Glykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen ist, und R₂ und R₃ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
einem Glykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
ein Dipropolyenglykolether der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 6 Kohlenstoffatomen sind,
oder aus einem Gemisch von zwei oder mehreren Bestandteilen der Gruppe.
2. Mittel zur Reinigung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die aktive Aminkomponente ausgewählt wird aus einer Gruppe,
die besteht aus
einer Amidverbindung der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen sind,
einer Aminverbindung der allgemeinen FormelR-NH₂wobei R ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso- Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einer Diaminverbindung der FormelR-NH-(CH₂)n-NH₂wobei n = 1 bis 10 und
R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einem Alkanol-Amin der allgemeinen Formel(HO-(CH₂)n-CH₂)o-N(H)mwobei
m = 0 bis 2,
n = 1 bis 10, und
o = 0 bis 3,
einem Aminoalkohol der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
einem Polyamin,
einer offenkettige und/oder zyklische organische Verbindung mit mehreren Aminogruppen,
einem Polyaminoamid der allgemeinen Formel mit R₁ = R₂ = (CH₂)n, wobei n = 1-10, und
R₃ = (CH₂)m, wobei m = 1-10.
einer Amidverbindung der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 20 Kohlenstoffatomen sind,
einer Aminverbindung der allgemeinen FormelR-NH₂wobei R ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso- Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einer Diaminverbindung der FormelR-NH-(CH₂)n-NH₂wobei n = 1 bis 10 und
R ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 6 bis 20 Kohlenstoffatomen ist,
einem Alkanol-Amin der allgemeinen Formel(HO-(CH₂)n-CH₂)o-N(H)mwobei
m = 0 bis 2,
n = 1 bis 10, und
o = 0 bis 3,
einem Aminoalkohol der allgemeinen Formel wobei R₁ und R₂ ein Wasserstoffatom oder ein n-Alkylrest oder ein iso-Alkylrest mit einer Kettenlänge von 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sind,
einem Polyamin,
einer offenkettige und/oder zyklische organische Verbindung mit mehreren Aminogruppen,
einem Polyaminoamid der allgemeinen Formel mit R₁ = R₂ = (CH₂)n, wobei n = 1-10, und
R₃ = (CH₂)m, wobei m = 1-10.
3. Mittel zum Reinigen gemäß Anspruch 1 oder Anspruch 2, dadurch
gekennzeichnet, daß der Lösungsmittelanteil zwischen 75 und 98
Gewichtsprozent liegt und der Anteil der Aminkomponenten zwischen
2 und 25 Gewichtsprozenten liegt.
4. Mittel zum Reinigen nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel zumindest anteilig
ein Propylenglykolether der Formel
mit folgenden Werten für R₁ und R₂:
verwendet wird.
5. Reinigungsmittel nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Lösungsmittel anteilig
ein Dipropylenglykolether der allgemeinen Formel verwendet wird, wobei R₁ und R₂ jeweils CH₃ Gruppen sind.
ein Dipropylenglykolether der allgemeinen Formel verwendet wird, wobei R₁ und R₂ jeweils CH₃ Gruppen sind.
6. Reinigungsmittel nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Aminkomponente
R-NH-CH₂-CH₂-CH₂-NH₂verwendet wird, wobei R = C₁₂H₂₅ oder C₁₆H₃₃.
7. Reinigungsmittel nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als Aminkomponente
verwendet wird, wobei R = C₁₁H₂₃.
8. Verfahren zur Reinigung von Metallteilen, insbesondere
polierten und/oder hochpolierten Metallteilen unter Verwendung
des Reinigungsmittels nach einem oder mehreren vorhergehenden
Ansprüchen, dadurch gekennzeichnet, daß man
die zu reinigenden Metallteile zusammen mit dem Reinigungsmittel in einen geschlossenen Behälter einbringt, die zu reinigenden Metallteile dem Reinigungsmittel in der Flüssigphase aussetzt,
anschließend eine Verdampfung des Reinigungsmittels derart einleitet, daß die Lösungsmittelkomponente in die Dampfphase übergeht und die Aminkomponente in der Flüssigphase verbleibt,
die zu reinigenden Metallteile dem Dampf aussetzt,
und anschließend eine Trocknungsphase durchführt.
die zu reinigenden Metallteile zusammen mit dem Reinigungsmittel in einen geschlossenen Behälter einbringt, die zu reinigenden Metallteile dem Reinigungsmittel in der Flüssigphase aussetzt,
anschließend eine Verdampfung des Reinigungsmittels derart einleitet, daß die Lösungsmittelkomponente in die Dampfphase übergeht und die Aminkomponente in der Flüssigphase verbleibt,
die zu reinigenden Metallteile dem Dampf aussetzt,
und anschließend eine Trocknungsphase durchführt.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die
Dampfphase durch Absenken des Drucks in dem Behälter,
gegebenenfalls mit zusätzlicher Erwärmung, durchgeführt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß zur
Einleitung der Trocknungsphase der Unterdruck aufrechterhalten
bleibt und die Dampfzufuhr unterbrochen wird.
11. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß
der Trocknungsprozeß durch die Zufuhr von Warmluft unterstützt
wird.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19944436425 DE4436425A1 (de) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | Verfahren zur Reinigung von polierten Metallflächen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19944436425 DE4436425A1 (de) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | Verfahren zur Reinigung von polierten Metallflächen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4436425A1 true DE4436425A1 (de) | 1996-04-18 |
Family
ID=6530566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19944436425 Withdrawn DE4436425A1 (de) | 1994-10-12 | 1994-10-12 | Verfahren zur Reinigung von polierten Metallflächen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4436425A1 (de) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |