DE4424236A1 - Process for structuring a component surface, esp. a plate, made of a polymer - Google Patents

Process for structuring a component surface, esp. a plate, made of a polymer

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Abstract

The ionising beam is pref. applied through a mask and is focussed. The beam is pref. composed of ultraviolet light with wavelengths less than 280 nm. The depth of the structure is pref. controlled by varying the intensity and time the beam is applied. The beam can pref. be used to form micro lens structures.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Strukturierung der Oberfläche eines aus einem Polymer bestehenden Körpers, vorzugsweise einer Platte.The invention relates to a method for structuring the Surface of a body made of a polymer, preferably a plate.

Auf zahlreichen technischen Gebieten, beispielsweise zur Bildspeicherung, Bildverarbeitung, Sensorik und bei der optischen Wellenleitung, werden optisch wirksame Strukturen benötigt, deren Abmessungen in der Größenordnung von Lichtwellenlängen liegen. Bei vielen Anwendungen dieser Strukturen ist ferner eine genaue Einhaltung vorgegebener Maße erforderlich.In numerous technical fields, for example for Image storage, image processing, sensors and at optical waveguide, become optically effective structures needed, whose dimensions are of the order of Light wavelengths are. In many applications this Structures is also a precise adherence to specified Dimensions required.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zur Herstellung derartiger optisch wirksamer Strukturen vorzuschlagen. The object of the present invention is to provide a method for Production of such optically effective structures to propose.  

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Einwirkung einer ionisierenden Strahlung auf zu vertiefende Teile der Oberfläche gelöst. Dabei kann vorgesehen sein, daß die Strahlung über eine die jeweilige Struktur darstellende Maske auf die Oberfläche einwirkt oder daß die Strahlung in Form eines auf die Oberfläche fokussierten Strahls einwirkt, der entsprechend der zu erzielenden Struktur abgelenkt und/oder intensitätsmoduliert wird.This object is achieved by the action an ionizing radiation on parts of the Surface loosened. It can be provided that the Radiation over a structure representing the particular structure Mask acts on the surface or that the radiation in Shape of a beam focused on the surface, distracted according to the structure to be achieved and / or intensity modulated.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden in den von der ionisierenden Strahlung betroffenen Oberflächenschichten chemische Bindungen in gezielter Form zerbrochen, woraus sich ein Entweichen der Bruchstücke und ein Zusammensinken (Kompaktierung) der restlichen Molekülteile ergibt. Dabei können die kompaktierten Bereiche als Wellenleiter verwendet werden. Für das erfindungsgemäße Verfahren sind verschiedene Polymere geeignet. Erfolgreiche Versuche wurden mit Polymethyl-Methacrylat durchgeführt.In the method according to the invention in the ionizing radiation affected surface layers Chemical bonds broken in a targeted form, from which the fragments escape and collapse (Compaction) of the remaining parts of the molecule. Here the compacted areas can be used as waveguides will. There are different ones for the method according to the invention Suitable polymers. Successful attempts have been made with Polymethyl methacrylate performed.

Während an sich zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens verschiedenartige ionisierende Strahlungen geeignet sind, hat sich die Verwendung von ultravioletter Strahlung als besonders günstig herausgestellt. Dieses ist besonders vorteilhaft, da im Gegensatz zu anderer Strahlung - wie beispielsweise mittelschnelle Ionen - die Erzeugung eines Vakuums nicht erforderlich ist.While per se to carry out the invention Different types of ionizing radiation are suitable, the use of ultraviolet Radiation turned out to be particularly favorable. This is particularly advantageous because in contrast to other radiation - such as medium-fast ions - the generation a vacuum is not required.

Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform ist vorgesehen, daß die Wellenlänge der ultravioletten Strahlung kleiner als 280 nm ist. Vorzugsweise liegt die Wellenlänge im Bereich von 250 nm bis 280 nm.According to an advantageous embodiment, that the wavelength of ultraviolet radiation is less than Is 280 nm. The wavelength is preferably in the range from 250 nm to 280 nm.

Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß die für die meisten Anwendungsfälle angestrebten Abmessungen der Strukturen durch eine leicht realisierbare Bestrahlungsdosis erreicht werden. Another advantage of the method according to the invention is that for most use cases desired dimensions of the structures by an easy achievable radiation dose can be achieved.  

Vorzugsweise ist bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vorgesehen, daß die Tiefe der herzustellenden Struktur durch die Dosis (Intensität, Einwirkungszeit) der Strahlung gesteuert wird.Is preferred in the method according to the invention provided that the depth of the structure to be manufactured by the dose (intensity, exposure time) of the radiation is controlled.

Eine Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß auf die Oberfläche einer vorzugsweise kreisscheibenförmig ausgebildeten Platte zu Zwecken der Speicherung von Signalen mit dem Strahl Spuren geschrieben werden und daß der Strahl mit den aufzuzeichnenden Signalen moduliert wird. Hierdurch kann eine optische Signalspeicherplatte hergestellt werden, die ähnlich wie die weit verbreiteten "Compact-Discs" optisch abgetastet werden kann.An embodiment of the method according to the invention is that preferably on the surface circular disc-shaped plate for the purpose of Storage of signals written with the beam traces and that the beam with the signals to be recorded is modulated. This can be an optical Signal storage disc are made that are similar to that widespread "compact discs" can be optically scanned can.

Bei einer anderen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist vorgesehen, daß auf der Oberfläche in regelmäßigen Abständen ein Beugungsgitter darstellende streifenförmige Vertiefungen hergestellt werden. Durch dieses Verfahren entsteht ein Phasengitter, das für verschiedene Anwendungen, beispielsweise zur Spektralanalyse, geeignet ist und einen wesentlich höheren Beugungswirkungsgrad hat als ein Amplitudengitter, das aus abwechselnd lichtundurchlässigen und lichtdurchlässigen Streifen besteht.In another embodiment of the invention The method provides that in at regular intervals representing a diffraction grating strip-shaped depressions are produced. By this process creates a phase grating that for various applications, for example Spectral analysis, is suitable and a much higher Diffraction efficiency has that out as an amplitude grating alternating opaque and translucent Strip exists.

Eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens sieht vor, daß die Vertiefungen Phasenhologramme darstellen. Die somit hergestellten Phasenhologramme können in an sich bekannter Weise zur Speicherung von Bildern verwendet werden.Another embodiment of the invention The method provides that the wells phase holograms represent. The phase holograms thus produced can in a manner known per se for storing images be used.

Eine besonders vorteilhafte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß mit der Strahlung Strukturen erzeugt werden, die eine Mikrolinse darstellen. Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellte Mikrolinsen können vorzugsweise als Fresnelsche Zonenplatten ausgebildet sein und besonders vorteilhaft bei der optischen Nachrichtenübertragung verwendet werden.A particularly advantageous embodiment of the The inventive method is that with Radiation structures are generated using a microlens represent. Manufactured with the method according to the invention  Microlenses can preferably be used as Fresnel zone plates be trained and particularly advantageous in optical Message transmission can be used.

Durch die in weiteren Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte mit dem im Hauptanspruch angegebenen Verfahren hergestellte Erzeugnisse möglich.By the measures listed in further subclaims are advantageous with that specified in the main claim Processed products possible.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung an Hand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigtEmbodiments of the invention are in the drawing shown on the basis of several figures and in the following Description explained in more detail. It shows

Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens, Fig. 1 is a schematic representation of an embodiment of the inventive method,

Fig. 2 eine ebenfalls schematische Darstellung einer Polymerplatte mit einer nach dem erfindungsgemäßen Verfahren strukturierten Oberfläche, Fig. 2 shows an also schematic representation of a polymer plaque with a textured surface according to the inventive method,

Fig. 3 eine vergrößerte Darstellung einer mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Vertiefung, Figure 3 is an enlarged view of a recess. Produced with the inventive method

Fig. 4 einen Ausschnitt aus einem mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Phasengitter, Fig. 4 shows a detail of a manufactured with the inventive method the phase grating,

Fig. 5 ein Diagramm zur Abhängigkeit der Tiefe der Struktur von der Bestrahlungszeit, Fig. 5 is a graph showing the dependence of the depth of the structure of the irradiation time,

Fig. 6 einen unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellten optischen Verzweiger und Fig. 6 is an optical branching and produced using the method according to the invention

Fig. 7 die Anwendung einer erfindungsgemäß hergestellten Struktur zur optischen Kopplung eines auf einem Substrat befindlichen Lichtleiters mit einer Lichtleitfaser. Fig. 7 shows the application of a structure according to the invention for optically coupling an optical fiber having an optical fiber located on a substrate.

Gleiche Teile sind in den Figuren mit gleichen Bezugszeichen versehen.Identical parts are given the same reference symbols in the figures Mistake.

Bei dem in Fig. 1 dargestellten Verfahren liegt auf einem aus einem Polymer bestehenden Substrat 1 eine Maske 2, die beispielsweise von einer auf einer Quarzglasscheibe 3 aufgebrachten Chromschicht 4 gebildet wird. An denjenigen Stellen, an denen in der Oberfläche des Substrats 1 Vertiefungen erzeugt werden sollen, weist die Chromschicht 4 Aussparungen 5 auf. An diesen Stellen wird die Oberfläche des Substrats einer UV-Strahlung 6 ausgesetzt. Dadurch werden die Moleküle des Substrats aufgebrochen, wobei kleinere Bruchstücke in Form von Gasen entweichen und die restlichen Moleküle zusammenfallen.In the method shown in FIG. 1, a mask 2 , which is formed, for example, by a chrome layer 4 applied to a quartz glass pane 3 , lies on a substrate 1 made of a polymer. The chromium layer 4 has cutouts 5 at those locations where depressions are to be produced in the surface of the substrate 1 . At these points, the surface of the substrate is exposed to UV radiation 6 . As a result, the molecules of the substrate are broken up, smaller fragments escaping in the form of gases and the remaining molecules collapse.

Dieser Prozeß ist von der jeweils angewandten Bestrahlungsdosis abhängig und kann beispielsweise bei konstanter Intensität über die Bestrahlungsdauer gesteuert werden. Das Ergebnis des im Zusammenhang mit Fig. 1 erläuterten Verfahrens ist in Fig. 2 schematisch dargestellt. Es lassen sich Vertiefungen 7 mit einer Tiefe zwischen 0 µm und 1,5 µm und mit lateralen Abmessungen bis herab zu 1 µm bis 2 µm bei einer Genauigkeit von ±30 nm herstellen.This process depends on the radiation dose used in each case and can be controlled, for example, at constant intensity over the duration of the radiation. The result of the method explained in connection with FIG. 1 is shown schematically in FIG. 2. It is possible to produce depressions 7 with a depth between 0 μm and 1.5 μm and with lateral dimensions down to 1 μm to 2 μm with an accuracy of ± 30 nm.

An den Rändern der Vertiefungen 7 ergeben sich jedoch Grenzeffekte, die in der vereinfachten Darstellung nach Fig. 2 nicht sichtbar sind. Fig. 3 zeigt eine Vertiefung 11, deren Breite nicht wesentlich größer als die Tiefe d ist. In den Grenzbereichen zwischen den bestrahlten und den unbestrahlten Teilen des Substrats ergibt sich ein allmählicher Übergang, so daß die Ränder der Vertiefungen eine abgerundete Form aufweisen. Bei einer Breite der Vertiefung, welche die Tiefe d nicht wesentlich überschreitet (wie in Fig. 3 dargestellt), ergibt sich dann eine insgesamt gerundete Vertiefung. Dieses kann jedoch in geschickter Weise für verschiedene Anwendungen ausgenutzt werden, beispielsweise bei der Signalaufzeichnung, wenn ein unterschiedliches Reflexionsvermögen zwischen vertieften und nicht vertieften Teilen der Oberfläche gewünscht wird.At the edges of the depressions 7 , however, there are border effects which are not visible in the simplified illustration according to FIG. 2. Fig. 3 shows a recess 11 , the width of which is not significantly greater than the depth d. A gradual transition occurs in the boundary regions between the irradiated and the unirradiated parts of the substrate, so that the edges of the depressions have a rounded shape. If the width of the depression does not significantly exceed the depth d (as shown in FIG. 3), the result is an overall rounded depression. However, this can be used in a clever way for various applications, for example in signal recording, if a different reflectivity between recessed and non-recessed parts of the surface is desired.

Fig. 4 zeigt einen Ausschnitt aus einem mit dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten Phasengitter, wobei die vertieften Streifen 12 durch eine teilweise Schraffur gegenüber den dazwischenliegenden unbehandelten Teilen 13 der Oberfläche hervorgehoben sind. In an sich bekannter Weise ist der Dickenunterschied zwischen der Platte an den vertieften Stellen 12 und an den nicht vertieften Stellen 13 maßgebend für die zu erzielende Beugung in Abhängigkeit von der Wellenlänge. Dieser Effekt wird dadurch unterstützt, daß unter den Vertiefungen 12 kompaktierte Bereiche mit einem höheren Brechungsindex liegen. FIG. 4 shows a section of a phase grating produced by the method according to the invention, the recessed strips 12 being highlighted by a partial hatching in relation to the untreated parts 13 of the surface lying between them. In a manner known per se, the difference in thickness between the plate at the recessed points 12 and at the non-recessed points 13 is decisive for the diffraction to be achieved as a function of the wavelength. This effect is supported by the fact that compacted areas with a higher refractive index lie under the depressions 12 .

Fig. 5 zeigt die Zeitabhängigkeit der Tiefe d (Fig. 3) von der Bestrahlungszeit t bei einer vorgegebenen Strahlungsintensität. Aus Fig. 5 geht hervor, daß nach einem im wesentlichen linearen Bereich bei einer Bestrahlungszeit zwischen 0 und etwa 280 Minuten eine Sättigung auftritt, bei der die Tiefe einem Grenzwert von 1,4 µm zustrebt. FIG. 5 shows the time dependence of the depth d ( FIG. 3) on the irradiation time t for a given radiation intensity. From Fig. 5 shows that a saturation occurs after a substantially linear region at an irradiation time between 0 and about 280 minutes, at which the depth tends to a limit of 1.4 microns.

Fig. 6 zeigt eine unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens herstellbare optische Anordnung, die als Verzweiger und Umschalter für optische Signale dient. Die zu verzweigenden optischen Signale werden in einem Lichtwellenleiter 21 auf einem Substrat 22 zugeführt, was durch einen Pfeil angedeutet ist. Ausgangsseitig sind parallel drei Träger 23, 24, 25 vorgesehen, auf denen jeweils zwei Lichtwellenleiter 26 bis 31 angeordnet sind. Zwischen der Lichtaustrittsfläche des Lichtwellenleiters 21 und den Lichteintrittsflächen der Lichtwellenleiter 26 bis 31 sind zwei weitere Träger 32, 33 mit einer fresnelschen Zonenplatte 34 und mit zwei fresnelschen Zonenplatten 35, 36 angeordnet. Das aus der Lichtaustrittsfläche des Lichtwellenleiters 21 austretende Licht wird durch die fresnelsche Zonenplatte 34 zu einem telezentrischen Strahlengang 37 gebündelt. Die Zonenplatten 35, 36 sind kleiner als die Zonenplatte 34 und dicht beieinander angeordnet, so daß sich das Lichtbündel 37 auf beide Zonenplatten 35, 36 verteilt. Diese fokussieren das Licht auf die Eintrittsflächen der Lichtwellenleiter 28, 29, von wo aus es in Pfeilrichtung weitergeleitet werden kann. Damit ist ein für verschiedene Zwecke brauchbarer Verzweiger angegeben. FIG. 6 shows an optical arrangement which can be produced using the method according to the invention and which serves as a splitter and switch for optical signals. The optical signals to be branched are fed in an optical waveguide 21 on a substrate 22 , which is indicated by an arrow. On the output side, three supports 23 , 24 , 25 are provided in parallel, on each of which two optical fibers 26 to 31 are arranged. Two further supports 32 , 33 with a Fresnel zone plate 34 and with two Fresnel zone plates 35 , 36 are arranged between the light exit surface of the optical waveguide 21 and the light entry surfaces of the optical waveguides 26 to 31 . The light emerging from the light exit surface of the optical waveguide 21 is bundled by the Fresnel zone plate 34 to form a telecentric beam path 37 . The zone plates 35 , 36 are smaller than the zone plate 34 and arranged close together, so that the light beam 37 is distributed over both zone plates 35 , 36 . These focus the light onto the entry surfaces of the optical waveguides 28 , 29 , from where it can be passed on in the direction of the arrow. This specifies a branch that can be used for various purposes.

Durch eine geeignete Bewegung der Träger 23 bis 25 oder des Trägers 33 kann der Verzweiger ferner als Umschalter verwendet werden. So kann beispielsweise das aus den Trägern 23 bis 25 bestehende Paket um jeweils einen Abstand zwischen den Trägern in Richtung der Z-Achse verschoben werden. Es ist auch eine Kippbewegung des Trägers 33 um die X-Achse oder eine lineare Bewegung in Richtung der Z-Achse möglich, um das Licht auf die Lichtwellenleiter eines anderen Trägers zu leiten.By a suitable movement of the carrier 23 to 25 or the carrier 33 , the branch can also be used as a changeover switch. For example, the package consisting of the carriers 23 to 25 can be shifted by a distance between the carriers in the direction of the Z axis. A tilting movement of the carrier 33 about the X axis or a linear movement in the direction of the Z axis is also possible in order to direct the light onto the optical waveguide of another carrier.

Durch Anordnung einer größeren Anzahl von Lichtwellenleitern auf einem Träger, als Zonenplatten auf den Träger 33 vorhanden sind, können weitere Umschaltmöglichkeiten geschaffen werden, beispielsweise durch Schiebung der Träger 23 bis 25 oder des Trägers 33 in Richtung der X-Achse oder Kippen des Trägers 33 um die Z-Achse.By arranging a larger number of optical fibers on a support than there are zone plates on the support 33 , further switching options can be created, for example by pushing the supports 23 to 25 or the support 33 in the direction of the X-axis or tilting the support 33 around the Z axis.

Eine weitere Abwandlung der in Fig. 6 dargestellten Anordnung kann beispielsweise darin bestehen, daß nur eine Zonenplatte auf dem Träger 33 vorgesehen ist, deren Größe der Zonenplatte 34 entspricht, wobei durch die im Zusammenhang mit Fig. 6 dargestellten Bewegungsmöglichkeiten ein Umschalter ohne Verzweigerfunktion erfolgt. Eine Umkehrung der Flußrichtung des Lichts ist ebenfalls möglich, so daß eine Anordnung zum Zusammenfassen gebildet wird.A further modification of the arrangement shown in FIG. 6 can consist, for example, in that only one zone plate is provided on the carrier 33 , the size of which corresponds to the zone plate 34 , a changeover switch without a branching function being provided by the movement options shown in connection with FIG. 6. A reversal of the direction of flow of the light is also possible, so that an arrangement for combining is formed.

Fig. 7 zeigt eine ebenfalls unter Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens herstellbare Koppeleinrichtung zwischen einem Lichtwellenleiter 41 auf einen Träger 42 (Chip) und einer Lichtleitfaser 43. Dazu wird auf dem Träger 42 mit dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Zonenplatte aufgebracht, die als Sammellinse das aus dem Lichtwellenleiter 41 austretende Licht in die Lichtleitfaser 43 konzentriert. FIG. 7 shows a coupling device which can also be produced using the method according to the invention between an optical waveguide 41 on a carrier 42 (chip) and an optical fiber 43 . For this purpose, a zone plate is applied to the carrier 42 using the method according to the invention, which, as a converging lens, concentrates the light emerging from the optical waveguide 41 into the optical fiber 43 .

Claims (19)

1. Verfahren zur Strukturierung der Oberfläche eines aus einem Polymer bestehenden Körpers, vorzugsweise einer Platte, gekennzeichnet durch die Einwirkung einer ionisierenden Strahlung auf zu vertiefende Teile der Oberfläche.1. Method for structuring the surface of a body consisting of a polymer, preferably a plate, characterized by the action of ionizing radiation on parts of the surface to be deepened. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlung über eine die jeweilige Struktur darstellende Maske auf die Oberfläche einwirkt.2. The method according to claim 1, characterized in that the radiation via a structure representing the particular structure Acts mask on the surface. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlung in Form eines auf die Oberfläche fokussierten Strahls einwirkt, der entsprechend der zu erzielenden Struktur abgelenkt und/oder intensitätsmoduliert wird.3. The method according to claim 1, characterized in that the radiation in the form of a focused on the surface Beam acts, which corresponds to the to be achieved Structure is deflected and / or intensity modulated. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die ionisierende Strahlung eine ultraviolette Strahlung ist.4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the ionizing radiation is ultraviolet radiation. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge der ultravioletten Strahlung kleiner als 280 nm ist.5. The method according to claim 4, characterized in that the wavelength of ultraviolet radiation is less than Is 280 nm. 6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge im Bereich von 250 nm bis 280 nm liegt. 6. The method according to claim 4, characterized in that the wavelength is in the range from 250 nm to 280 nm.   7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Tiefe der herzustellenden Struktur durch die Dosis (Intensität, Einwirkungszeit) der Strahlung gesteuert wird.7. The method according to any one of the preceding claims, characterized in that the depth of the to be manufactured Structure through the dose (intensity, exposure time) of the Radiation is controlled. 8. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Oberfläche einer vorzugsweise kreisscheibenförmig ausgebildeten Platte zu Zwecken der Speicherung von Signalen mit dem Strahl Spuren geschrieben werden und daß der Strahl mit den aufzuzeichnenden Signalen moduliert wird.8. The method according to claim 3, characterized in that on the surface of a preferably circular disk trained plate for the purpose of storing signals traces are written with the beam and that the beam is modulated with the signals to be recorded. 9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß auf der Oberfläche in regelmäßigen Abständen ein Beugungsgitter darstellende streifenförmige Vertiefungen hergestellt werden.9. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized that on the surface in regular Strip-shaped distances representing a diffraction grating Recesses are made. 10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen Phasenhologramme darstellen.10. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that the wells phase holograms represent. 11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß mit der Strahlung Strukturen erzeugt werden, die eine Mikrolinse darstellen.11. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that structures are created with the radiation that are a microlens. 12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung eines Informationsträgers mit einer entsprechend der gespeicherten Information strukturierten Oberfläche auf einem Informationsträger aus einem Polymer die Strukturen von Vertiefungen gebildet werden, unter denen das Polymer gegenüber den nicht vertieften Teilen der Oberfläche kompaktiert ist.12. The method according to any one of claims 1 to 8, characterized characterized in that to produce a Information carrier with a corresponding to the stored Information structured surface on a Information carrier made of a polymer the structures of Wells are formed under which the polymer towards the non-recessed parts of the surface is compacted. 13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung eines Beugungsgitters streifenförmige Vertiefungen, unter denen das Polymer gegenüber den nicht vertieften Teilen der Oberfläche kompaktiert ist, auf einen plattenförmigen Träger aus Polymer aufgebracht werden.13. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that for the production of a diffraction grating strip-shaped depressions under which the polymer  towards the non-recessed parts of the surface is compacted on a plate-shaped carrier Polymer are applied. 14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung einer fresnelschen Zonenplatte auf einer Scheibe aus Polymer mehrere verschieden große im wesentlichen geschlossene, vorzugsweise konzentrische kreisförmige Vertiefungen, unter denen das Polymer gegenüber den nicht vertieften Teilen der Oberfläche kompaktiert ist, aufgebracht werden.14. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized that to produce a Fresnel Zone plate on a polymer disc several different sizes, essentially closed, preferably concentric circular depressions, under which the Polymer against the non-recessed parts of the surface is compacted, applied. 15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung einer optischen Anordnung zur Verzweigung oder Zusammenfassung von in Lichtwellenleitern geführten Lichtwellen Stirnflächen der Lichtwellenleiter, die als Lichteintritts- oder Lichtaustrittsflächen dienen, jeweils fresnelsche Zonenplatten gegenübergestellt werden, die das aus den Lichtaustrittsflächen divergierend austretende Licht bündeln und das in die Lichteintrittsflächen eintretende Licht fokussieren, daß auf einer Seite der optischen Anordnung die Stirnfläche eines Lichtwellenleiters und auf der anderen Seite der optischen Anordnung in im wesentlichen einer Ebene Stirnflächen mehrerer Lichtwellenleiter angeordnet werden.15. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that for the manufacture of an optical Arrangement for branching or summarizing in Optical fibers guided light waves end faces of the Optical waveguides that act as light entry or Light exit surfaces serve, each Fresnel Zone plates are compared, which from the Bundle the light exit surfaces of diverging light and the light entering the light entry surfaces focus that on one side of the optical arrangement Face of an optical fiber and on the other Side of the optical arrangement in essentially one plane End faces of several optical fibers can be arranged. 16. Verfahren nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß den mehreren Stirnflächen mehrere Zonenplatten gegenübergestellt werden, die auf Grund ihrer Größe und ihres Abstandes untereinander von dem durch die der einen Stirnfläche gegenüberstehenden Zonenplatte bestimmten Lichtbündel erfaßt werden.16. The method according to claim 15, characterized in that the several end faces several zone plates are compared because of their size and their size Distance from each other by the one Determine the end face opposite zone plate Beams of light can be detected. 17. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens eine den mehreren Stirnflächen gegenüberstehende Zonenplatte beweglich gelagert wird.17. The method according to any one of claims 15 or 16, characterized characterized in that the at least one of the several End faces opposite zone plate movable  is stored. 18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die mindestens eine bewegliche Zonenplatte mit Hilfe einer piezoelektrischen Einrichtung kippbar angeordnet wird.18. The method according to claim 17, characterized in that the at least one movable zone plate using a Piezoelectric device is arranged tiltable. 19. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß zur optischen Kopplung einer Lichtleitfaser mit einem auf einem Träger angeordneten Lichtwellenleiter auf dem Träger ferner eine fresnelsche Zonenplatte als Sammellinse zwischen gegenüberstehenden Stirnflächen des Lichtwellenleiters und der Lichtleitfaser angeordnet wird.19. The method according to any one of claims 1 to 7, characterized characterized in that for optical coupling Optical fiber with one arranged on a carrier Optical waveguide on the carrier also a Fresnel Zone plate as a converging lens between opposing ones End faces of the optical waveguide and the optical fiber is arranged.
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